JP2000082659A - 現像液塗布システムおよびその制御方法 - Google Patents
現像液塗布システムおよびその制御方法Info
- Publication number
- JP2000082659A JP2000082659A JP26725498A JP26725498A JP2000082659A JP 2000082659 A JP2000082659 A JP 2000082659A JP 26725498 A JP26725498 A JP 26725498A JP 26725498 A JP26725498 A JP 26725498A JP 2000082659 A JP2000082659 A JP 2000082659A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hollow fiber
- developer
- constant temperature
- heat exchanger
- fiber module
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Heat-Exchange Devices With Radiators And Conduit Assemblies (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 コンパクトな現像液恒温維持装置をもつ現像
液塗布システムを提供する。 【解決手段】 シリコンウエハの現像液塗布ライン２に
中空糸モジュールを用いた第一熱交換器４を設けたこと
を特徴としている。
液塗布システムを提供する。 【解決手段】 シリコンウエハの現像液塗布ライン２に
中空糸モジュールを用いた第一熱交換器４を設けたこと
を特徴としている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体製造工程
における現像液塗布システムに関する。
における現像液塗布システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程における現像液の塗布工
程は、フォトレジストを塗布してベーキングした後のシ
リコンウエハに恒温に維持した現像液を滴下して現像を
行うものである。そして、この現像液の塗布は、たとえ
ば５秒間継続した後、６０秒間休止するというサイクル
で行われている。ここにおいて、現像液の温度が変動す
ると、その粘性が変化することによりその浸透性が変化
して、現像不良の原因となるため、現像液の温度管理
は、正確さが要求されている。
程は、フォトレジストを塗布してベーキングした後のシ
リコンウエハに恒温に維持した現像液を滴下して現像を
行うものである。そして、この現像液の塗布は、たとえ
ば５秒間継続した後、６０秒間休止するというサイクル
で行われている。ここにおいて、現像液の温度が変動す
ると、その粘性が変化することによりその浸透性が変化
して、現像不良の原因となるため、現像液の温度管理
は、正確さが要求されている。
【０００３】従来、前記のような現像液を恒温に維持す
る装置として、内側に現像液を流すテフロンコイルを恒
温水槽に浸漬したものが使用されている。そして、前記
のような現像液の塗布の休止中は、現像液と恒温水との
熱交換を行って現像液の温度を恒温水と同温度にし、そ
して塗布中は、テフロンコイルの内容量の半分程度を現
像液の塗布ノズルへ供給するようになっている。すなわ
ち、塗布を休止している間、現像液をテフロンコイル内
に滞留させることにより、熱交換を行っている。このよ
うな熱交換方式の装置にあっては、テフロンコイル内で
の現像液の滞留時間を充分に長くし、またテフロンコイ
ルの内容積を充分に大きくする必要がある。したがっ
て、装置全体が大きくなるという問題点があった。
る装置として、内側に現像液を流すテフロンコイルを恒
温水槽に浸漬したものが使用されている。そして、前記
のような現像液の塗布の休止中は、現像液と恒温水との
熱交換を行って現像液の温度を恒温水と同温度にし、そ
して塗布中は、テフロンコイルの内容量の半分程度を現
像液の塗布ノズルへ供給するようになっている。すなわ
ち、塗布を休止している間、現像液をテフロンコイル内
に滞留させることにより、熱交換を行っている。このよ
うな熱交換方式の装置にあっては、テフロンコイル内で
の現像液の滞留時間を充分に長くし、またテフロンコイ
ルの内容積を充分に大きくする必要がある。したがっ
て、装置全体が大きくなるという問題点があった。
【０００４】また、大口径のシリコンウエハ，たとえば
３００mmのものに現像液を塗布する場合、大量の現像液
が必要となり、それに伴って交換量が増大する。このた
め、前記のような従来のテフロンコイルを用いた装置で
は、装置全体がさらに大きくなるという問題点があっ
た。
３００mmのものに現像液を塗布する場合、大量の現像液
が必要となり、それに伴って交換量が増大する。このた
め、前記のような従来のテフロンコイルを用いた装置で
は、装置全体がさらに大きくなるという問題点があっ
た。
【０００５】
【０００６】この発明は、前記問題点に鑑み、コンパク
トな現像液恒温維持装置をもつ現像液塗布システムを提
供することを目的とするものである。
トな現像液恒温維持装置をもつ現像液塗布システムを提
供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明は、前記課題を
解決するためになされたものであって、請求項１に記載
の発明は、シリコンウエハの現像液塗布ラインに中空糸
モジュールを用いた第一熱交換器を設けたことを特徴と
している。
解決するためになされたものであって、請求項１に記載
の発明は、シリコンウエハの現像液塗布ラインに中空糸
モジュールを用いた第一熱交換器を設けたことを特徴と
している。
【０００８】請求項２に記載の発明は、前記中空糸モジ
ュールは、外部かん流型中空糸モジュールであることを
特徴としている。
ュールは、外部かん流型中空糸モジュールであることを
特徴としている。
【０００９】請求項３に記載の発明は、中空糸の内側に
現像液を通液するとともに、前記中空糸の外側に恒温液
を通液することを特徴としている。
現像液を通液するとともに、前記中空糸の外側に恒温液
を通液することを特徴としている。
【００１０】請求項４に記載の発明は、前記外部かん流
型中空糸モジュールは、気体分離膜であることを特徴と
している。
型中空糸モジュールは、気体分離膜であることを特徴と
している。
【００１１】さらに、請求項５に記載の発明は、現像液
の非供給時に恒温液を通液し、現像液の供給時に現像液
と恒温液とを熱交換することを特徴としている。
の非供給時に恒温液を通液し、現像液の供給時に現像液
と恒温液とを熱交換することを特徴としている。
【００１２】
【発明の実施の形態】つぎに、この発明の実施の形態に
ついて説明する。この発明は、シリコンウエハに現像液
を塗布する現像液塗布システムにおいて好適に実施でき
る。この発明に係る現像液塗布システムは、シリコンウ
エハの現像液塗布ラインに中空糸モジュールを用いた第
一熱交換器が設けられている。そして、この第一熱交換
器と恒温装置とが接続されており、前記第一熱交換器と
前記恒温装置との間で恒温水を循環させることにより、
現像液と恒温水との熱交換を行う。前記中空糸モジュー
ルは、金属と比較して熱伝導性がよく、また伝熱面積を
大きくすることができるという利点があり、したがって
熱交換器をコンパクトにすることができる。
ついて説明する。この発明は、シリコンウエハに現像液
を塗布する現像液塗布システムにおいて好適に実施でき
る。この発明に係る現像液塗布システムは、シリコンウ
エハの現像液塗布ラインに中空糸モジュールを用いた第
一熱交換器が設けられている。そして、この第一熱交換
器と恒温装置とが接続されており、前記第一熱交換器と
前記恒温装置との間で恒温水を循環させることにより、
現像液と恒温水との熱交換を行う。前記中空糸モジュー
ルは、金属と比較して熱伝導性がよく、また伝熱面積を
大きくすることができるという利点があり、したがって
熱交換器をコンパクトにすることができる。
【００１３】前記中空糸モジュールとしては、たとえば
外部かん流型中空糸モジュールが好適に用いられる。こ
の外部かん流型中空糸モジュールを構成する中空糸の内
部には、現像液が通液され、前記中空糸の外部には、恒
温水が通水される。これにより、現像液と恒温水との熱
交換が効率よく行われ、したがって現像液の温度を確実
にかつ短時間で所定温度に調節し、維持することができ
る。
外部かん流型中空糸モジュールが好適に用いられる。こ
の外部かん流型中空糸モジュールを構成する中空糸の内
部には、現像液が通液され、前記中空糸の外部には、恒
温水が通水される。これにより、現像液と恒温水との熱
交換が効率よく行われ、したがって現像液の温度を確実
にかつ短時間で所定温度に調節し、維持することができ
る。
【００１４】そして、前記外部かん流型中空糸モジュー
ルには、気体分離膜を用いるのが好ましい。すなわち、
気体分離膜は、孔の大きさが非常に小さい，いわゆる非
多孔質性の膜であるので、多孔質性の膜のように、わず
かに現像液が中空糸の外部へ通過することはない。
ルには、気体分離膜を用いるのが好ましい。すなわち、
気体分離膜は、孔の大きさが非常に小さい，いわゆる非
多孔質性の膜であるので、多孔質性の膜のように、わず
かに現像液が中空糸の外部へ通過することはない。
【００１５】つぎに、前記構成の現像液塗布システムの
制御方法について説明する。現像液の非供給時，すなわ
ちノズルからスピナー上のシリコンウエハに現像液を塗
布していない非供給時（待機中）は、現像液が現像液塗
布ライン内を流れていない。このとき、第一熱交換器と
恒温装置との間で、恒温水が循環しており、現像液の温
度が恒温水の温度と同温度に維持されている。
制御方法について説明する。現像液の非供給時，すなわ
ちノズルからスピナー上のシリコンウエハに現像液を塗
布していない非供給時（待機中）は、現像液が現像液塗
布ライン内を流れていない。このとき、第一熱交換器と
恒温装置との間で、恒温水が循環しており、現像液の温
度が恒温水の温度と同温度に維持されている。
【００１６】そして、現像液の塗布は、所定時間継続し
た後、所定時間休止するというサイクルで行われる。こ
のサイクルにおいては、ノズルを介してシリコンウエハ
へ現像液の塗布が行われる毎に、現像液が第一熱交換器
内へ流入した後、現像液と恒温水との熱交換が効率よく
行われることにより、現像液の温度が短時間で所定温度
に調整される。この調整された現像液はノズルへ供給さ
れる。
た後、所定時間休止するというサイクルで行われる。こ
のサイクルにおいては、ノズルを介してシリコンウエハ
へ現像液の塗布が行われる毎に、現像液が第一熱交換器
内へ流入した後、現像液と恒温水との熱交換が効率よく
行われることにより、現像液の温度が短時間で所定温度
に調整される。この調整された現像液はノズルへ供給さ
れる。
【００１７】
【実施例】以下、この発明の具体的実施例を図面に基づ
いて詳細に説明する。この発明の一実施例を示す図１に
ついて説明する。図１は、この発明に係る現像液塗布シ
ステムの一実施例の構成を示す概略説明図である。
いて詳細に説明する。この発明の一実施例を示す図１に
ついて説明する。図１は、この発明に係る現像液塗布シ
ステムの一実施例の構成を示す概略説明図である。
【００１８】図１において、スピナー１の上にはシリコ
ンウエハ（図示省略）が設置されており、このシリコン
ウエハの現像液塗布ライン（以下、「現像液塗布ライ
ン」という）２の下流端には、前記シリコンウエハに対
して現像液を供給するためのノズル３が設けられてい
る。そして、外部かん流型中空糸モジュール（図示省
略）を用いた第一熱交換器４と二重管式の第二熱交換器
５とが、上流側から順次設けられている。前記第一熱交
換器４は、現像液と恒温水との熱交換を行うことによ
り、現像液を恒温に調整し、維持するためのものであ
る。また、前記第二熱交換器５は、前記ノズル３への現
像液の非供給時、前記ノズル３と前記第一熱交換器４と
の間に滞留する現像液を恒温水により加温して、現像液
の温度低下を防止するためのものである。
ンウエハ（図示省略）が設置されており、このシリコン
ウエハの現像液塗布ライン（以下、「現像液塗布ライ
ン」という）２の下流端には、前記シリコンウエハに対
して現像液を供給するためのノズル３が設けられてい
る。そして、外部かん流型中空糸モジュール（図示省
略）を用いた第一熱交換器４と二重管式の第二熱交換器
５とが、上流側から順次設けられている。前記第一熱交
換器４は、現像液と恒温水との熱交換を行うことによ
り、現像液を恒温に調整し、維持するためのものであ
る。また、前記第二熱交換器５は、前記ノズル３への現
像液の非供給時、前記ノズル３と前記第一熱交換器４と
の間に滞留する現像液を恒温水により加温して、現像液
の温度低下を防止するためのものである。
【００１９】そして、恒温装置６と前記第二熱交換器５
とは、この恒温装置６から前記第二熱交換器５へ恒温水
を流すための恒温水供給ライン７で接続されている。こ
の恒温水供給ライン７には、循環ポンプ８が設けられて
いる。また、前記第二熱交換器５と前記第一熱交換器４
とは、前記第二熱交換器５から前記第一熱交換器４へ恒
温水を流すための恒温水中間ライン９で接続されてい
る。また、前記第一熱交換器４と前記恒温装置６とは、
前記第一熱交換器４から前記恒温装置６へ恒温水を流す
ための恒温水還流ライン１０で接続されている。
とは、この恒温装置６から前記第二熱交換器５へ恒温水
を流すための恒温水供給ライン７で接続されている。こ
の恒温水供給ライン７には、循環ポンプ８が設けられて
いる。また、前記第二熱交換器５と前記第一熱交換器４
とは、前記第二熱交換器５から前記第一熱交換器４へ恒
温水を流すための恒温水中間ライン９で接続されてい
る。また、前記第一熱交換器４と前記恒温装置６とは、
前記第一熱交換器４から前記恒温装置６へ恒温水を流す
ための恒温水還流ライン１０で接続されている。
【００２０】また、前記現像液塗布ライン２内において
現像液を流す方法として、加圧した窒素ガスが用いられ
る。
現像液を流す方法として、加圧した窒素ガスが用いられ
る。
【００２１】つぎに、前記構成の現像液塗布システムの
制御方法について説明する。現像液の非供給時，すなわ
ちノズル３からスピナー１上のシリコンウエハ（図示省
略）に現像液を塗布していない非供給時（待機中）は、
現像液が現像液塗布ライン２内を流れていない。このと
き、第一熱交換器４と第二熱交換器５と恒温装置６との
間で、恒温水は、恒温水供給ライン７，恒温水中間ライ
ン９および恒温水還流ライン１０を介して循環してお
り、現像液の温度が恒温水の温度と同温度に維持されて
いる。
制御方法について説明する。現像液の非供給時，すなわ
ちノズル３からスピナー１上のシリコンウエハ（図示省
略）に現像液を塗布していない非供給時（待機中）は、
現像液が現像液塗布ライン２内を流れていない。このと
き、第一熱交換器４と第二熱交換器５と恒温装置６との
間で、恒温水は、恒温水供給ライン７，恒温水中間ライ
ン９および恒温水還流ライン１０を介して循環してお
り、現像液の温度が恒温水の温度と同温度に維持されて
いる。
【００２２】そして、現像液の塗布は、所定時間，たと
えば５秒間継続した後、所定時間，たとえば６０秒間休
止するというサイクルで行われる。このサイクルにおい
ては、前記ノズル３を介して前記シリコンウエハへ現像
液の塗布が行われる毎に、現像液が前記第一熱交換器４
内へ流入した後、現像液と恒温水との熱交換が効率よく
行われることにより、現像液の温度が短時間で所定温度
に調整される。この調整された現像液は前記ノズル３へ
供給される。
えば５秒間継続した後、所定時間，たとえば６０秒間休
止するというサイクルで行われる。このサイクルにおい
ては、前記ノズル３を介して前記シリコンウエハへ現像
液の塗布が行われる毎に、現像液が前記第一熱交換器４
内へ流入した後、現像液と恒温水との熱交換が効率よく
行われることにより、現像液の温度が短時間で所定温度
に調整される。この調整された現像液は前記ノズル３へ
供給される。
【００２３】ここで、前記第一熱交換器４を構成する外
部かん流型中空糸モジュールにおいては、現像液と恒温
水との熱交換が中空糸を介して行われる。ここにおい
て、現像液を中空糸の内部に流し、恒温水を中空糸の外
部に流す，あるいは逆に現像液を中空糸の外部に流し、
恒温水を中空糸の内部に流すという２種類の方法がある
が、前者の方法は、熱効率がよいので好ましい。すなわ
ち、外部かん流型中空糸モジュール内での現像液の保有
液量を小さくし、待機中の現像液の温度変化をより速く
し、その結果、現像液の温度をより短時間，たとえば３
秒程度で恒温水と同温度まで調整することができるので
好ましい。以上説明したように、現像液の塗布とその休
止のサイクルにおいて、前記ノズル３へ供給する現像液
の温度を確実に所定温度に調整することができ、現像液
の温度むらがなくなる。
部かん流型中空糸モジュールにおいては、現像液と恒温
水との熱交換が中空糸を介して行われる。ここにおい
て、現像液を中空糸の内部に流し、恒温水を中空糸の外
部に流す，あるいは逆に現像液を中空糸の外部に流し、
恒温水を中空糸の内部に流すという２種類の方法がある
が、前者の方法は、熱効率がよいので好ましい。すなわ
ち、外部かん流型中空糸モジュール内での現像液の保有
液量を小さくし、待機中の現像液の温度変化をより速く
し、その結果、現像液の温度をより短時間，たとえば３
秒程度で恒温水と同温度まで調整することができるので
好ましい。以上説明したように、現像液の塗布とその休
止のサイクルにおいて、前記ノズル３へ供給する現像液
の温度を確実に所定温度に調整することができ、現像液
の温度むらがなくなる。
【００２４】また、大口径のシリコンウエハに現像液を
塗布する場合は、前記実施例と異なり、前記ノズル３が
複数設けられており、それに伴い現像液の供給量も増加
する。この場合でも、前記外部かん流型中空糸モジュー
ルにあっては、現像液と恒温水との熱交換がよいので、
前記のような現像液の供給量の増加に対応でき、したが
って現像液の温度を所定温度に調節することができ、現
像液の温度むらがなくなる。
塗布する場合は、前記実施例と異なり、前記ノズル３が
複数設けられており、それに伴い現像液の供給量も増加
する。この場合でも、前記外部かん流型中空糸モジュー
ルにあっては、現像液と恒温水との熱交換がよいので、
前記のような現像液の供給量の増加に対応でき、したが
って現像液の温度を所定温度に調節することができ、現
像液の温度むらがなくなる。
【００２５】前記外部かん流型中空糸モジュールには、
気体分離膜を用いるのが好ましい。すなわち、気体分離
膜は、孔の大きさが非常に小さい，いわゆる非多孔質性
の膜であるので、たとえば現像液を加圧して中空糸の内
部に流す場合、多孔質性の膜のように、わずかに現像液
が中空糸の外部へ通過することはない。
気体分離膜を用いるのが好ましい。すなわち、気体分離
膜は、孔の大きさが非常に小さい，いわゆる非多孔質性
の膜であるので、たとえば現像液を加圧して中空糸の内
部に流す場合、多孔質性の膜のように、わずかに現像液
が中空糸の外部へ通過することはない。
【００２６】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、コン
パクトな現像液塗布システムを提供することができる。
また、現像液の塗布に際して、現像液の温度を所定温度
に安定に維持した状態で、現像液をシリコンウエハに塗
布することができ、したがって現像不良を防止すること
ができる。
パクトな現像液塗布システムを提供することができる。
また、現像液の塗布に際して、現像液の温度を所定温度
に安定に維持した状態で、現像液をシリコンウエハに塗
布することができ、したがって現像不良を防止すること
ができる。
【図１】この発明に係る現像液塗布システムの一実施例
の構成を示す概略説明図である。
の構成を示す概略説明図である。
２ 現像液塗布ライン ４ 第一熱交換器
Claims (5)
- 【請求項１】 シリコンウエハの現像液塗布ライン２に
中空糸モジュールを用いた第一熱交換器４を設けたこと
を特徴とする現像液塗布システム。 - 【請求項２】 前記中空糸モジュールは、外部かん流型
中空糸モジュールであることを特徴とする請求項１に記
載の現像液塗布システム。 - 【請求項３】 中空糸の内側に現像液を通液するととも
に、前記中空糸の外側に恒温液を通液することを特徴と
する請求項２に記載の現像液塗布システム。 - 【請求項４】 前記外部かん流型中空糸モジュールは、
気体分離膜であることを特徴とする請求項２または請求
項３に記載の現像液塗布システム。 - 【請求項５】 現像液の非供給時に恒温液を通液し、現
像液の供給時に現像液と恒温液とを熱交換することを特
徴とする現像液塗布システムの制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26725498A JP2000082659A (ja) | 1998-09-03 | 1998-09-03 | 現像液塗布システムおよびその制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26725498A JP2000082659A (ja) | 1998-09-03 | 1998-09-03 | 現像液塗布システムおよびその制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000082659A true JP2000082659A (ja) | 2000-03-21 |
Family
ID=17442291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26725498A Pending JP2000082659A (ja) | 1998-09-03 | 1998-09-03 | 現像液塗布システムおよびその制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000082659A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10022972A1 (de) * | 2000-05-11 | 2001-11-22 | Bosch Gmbh Robert | Mikrostruktur-Wärmetauscher und Verfahren zu dessen Herstellung |
-
1998
- 1998-09-03 JP JP26725498A patent/JP2000082659A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10022972A1 (de) * | 2000-05-11 | 2001-11-22 | Bosch Gmbh Robert | Mikrostruktur-Wärmetauscher und Verfahren zu dessen Herstellung |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100552880C (zh) | 小流量液体的调温方法及其系统 | |
| KR20040039467A (ko) | 유체 온도 조절용 장치 | |
| JP4737809B2 (ja) | 半導体製造装置及び半導体製造方法 | |
| JP2003297738A (ja) | 熱処理装置および基板処理装置 | |
| JP2006222165A5 (ja) | ||
| CN110297399A (zh) | 光刻曝光设备及曝光前装载晶圆的温度控制方法 | |
| JP2000082659A (ja) | 現像液塗布システムおよびその制御方法 | |
| JPH10116867A (ja) | 半導体ウェーハの試験方法及び試験装置用温度調節器 | |
| JP2023181511A (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
| JPH04330961A (ja) | 現像処理装置 | |
| JP3366449B2 (ja) | エッチング装置 | |
| CN102103333B (zh) | 一种烘烤光刻胶的方法及使用该方法的装置 | |
| JP2000249440A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2001244179A (ja) | 温度調節装置を備えた露光装置およびデバイス製造方法 | |
| KR0179938B1 (ko) | 반도체 웨이퍼 노광장치 | |
| JP2745413B2 (ja) | 露光装置 | |
| JP4034285B2 (ja) | 温度調節システム及び温度調節方法 | |
| JP2001077447A (ja) | 光学用マウント構造およびその温度制御方法 | |
| JPH11121336A (ja) | 現像装置 | |
| JP7460983B2 (ja) | 処理液供給システムおよび処理液供給方法 | |
| JP2000182926A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPS60138550A (ja) | レジスト現像装置 | |
| JPH033222A (ja) | 露光装置 | |
| JP2010087191A (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
| JP2008175493A (ja) | 空気温度制御装置および制御方法 |