JP2000082298A - クロスカップルされたフィ―ドバックル―プを有するアンチヒュ―ズのプログラミング回路 - Google Patents

クロスカップルされたフィ―ドバックル―プを有するアンチヒュ―ズのプログラミング回路

Info

Publication number
JP2000082298A
JP2000082298A JP11185704A JP18570499A JP2000082298A JP 2000082298 A JP2000082298 A JP 2000082298A JP 11185704 A JP11185704 A JP 11185704A JP 18570499 A JP18570499 A JP 18570499A JP 2000082298 A JP2000082298 A JP 2000082298A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
unit
fuse
power supply
supply voltage
pmos
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11185704A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3660829B2 (ja
Inventor
Yon Hi Kim
ヨン ヒ キム
Kii Bon Ku
キー ボン ク
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SK Hynix Inc
Original Assignee
Hyundai Electronics Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hyundai Electronics Industries Co Ltd filed Critical Hyundai Electronics Industries Co Ltd
Publication of JP2000082298A publication Critical patent/JP2000082298A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3660829B2 publication Critical patent/JP3660829B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
    • G11C17/14Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards in which contents are determined by selectively establishing, breaking or modifying connecting links by permanently altering the state of coupling elements, e.g. PROM
    • G11C17/18Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation

Landscapes

  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アンチヒューズのプログラム後に発生する電
流パスを、クロスカップルされたフィードバックループ
によって、短時間に遮断することで、電力消費をを最小
化したアンチヒューズのプログラミング回路を提供する
ことである。 【解決手段】 アンチヒューズのプログラムされた状態
を確認するための出力部30に、電源電圧で駆動される
クロスカップルされた帰還部40を置くことにより、ア
ンチヒューズのプログラミング後に発生する電流パスを
短時間に低電力で強く遮断して、電力消費を著しく減ら
すことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はアンチヒューズのプ
ログラミング回路に関するもので、より詳しくはアンチ
ヒューズのプログラム後に発生する電流パスを、クロス
カップルされたフィードバックループによって、短時間
内に遮断することにより、電力消費を最小にし、より早
く安定化した出力信号得るようにしたクロスカップルさ
れたフィードバックループを有するアンチヒューズのプ
ログラミング回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般的なヒューズは、既定値以上の電流
が流れると、発熱により溶断され、回路を開放して機器
を保護するために使用される。
【0003】一方、半導体メモリ素子などにおいて、冗
長回路に使用されるヒューズは、故障ラインから予備ラ
インに切り換えるために使用される。この際に使用され
るヒューズをプログラムするための方式としては、過電
流を流して溶断させる電気ヒューズ方式と、レーザービ
ームでヒューズを燃やして切る方式とがある。
【0004】前述した方式のうち、レーザーで切断する
方法が、単純で確実でありながら配置も容易であるの
で、広く用いられている。この際に使用されるヒューズ
の材料としては、ポリシリコン配線又は金属配線があ
る。
【0005】ところで、前記方式のなかで、高電流を流
して送る方式においては、高電流ドライバー及びヒュー
ズブローイングパッドが必要であるので、面積の点で不
利であるだけでなく、断線時に発生する残留物が存在
し、スイッチオフ現象が発生する。
【0006】また、ポリシリコンをレーザービームにて
切断する場合は、正確にレーザービームを照射しても誤
差が発生し、断線時に残留物が生ずる。更に、レーザー
切断装備は、作業時間が長くかかり、取り扱いが難し
く、不正確であるという問題点があり、パッケージレベ
ルでの修理が不可能であるため、単価及び信頼性が低下
するという問題点がある。
【0007】このような問題点を解決するため、パッケ
ージレベルでも簡単にプログラミングし得るアンチヒュ
ーズという新たな素子を導入することとなった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】アンチヒューズは、プ
ログラム時、上部電極と下部電極との間に印加される電
圧差に応じて、上部電極と下部電極との間にある絶縁膜
が絶縁破壊電圧で易しく絶縁破壊されるようにして、2
電極が短絡されるようにしたヒューズである。
【0009】すなわち、一般的なヒューズの場合、断線
させることでプログラミングを行う方式であるが、アン
チヒューズの場合は、互いに連結させることでプログラ
ミングを行う方式である。
【0010】したがって、このようなアンチヒューズを
プログラミングし、プログラミングされた結果を確認す
るための回路が必要となる。
【0011】本発明は前記のような問題点を解決するた
めになされたもので、本発明の目的は、アンチヒューズ
のプログラム後に発生する電流パスを、クロスカップル
されたフィードバックループによって、短時間内に遮断
することにより、電力消費を最小化し、より早く安定化
した出力信号得るようにしたアンチヒューズのプログラ
ミング回路を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】前記目的を実現するため
の本発明は、ハーフ電源電圧でプリチャージさせる動作
スイッチ部と、動作スイッチ部に連結され、過電流が流
れる場合、絶縁破壊されるアンチヒューズと、アンチヒ
ューズのプログラミングされた状態を確認するための感
知信号を受信する感知信号入力部と、アンチヒューズの
絶縁破壊のために電源電圧を供給する破壊電圧供給部
と、感知信号入力部の信号に応じて、アンチヒューズの
プログラミング状態を出力する出力部と、出力部の信号
に応じて、高速低電力で強く帰還させる帰還部と、帰還
部の信号を受信して、破壊電圧供給部からアンチヒュー
ズに供給される電流パスを断続する電流遮断部と、帰還
部から出力部に流れる電流を遮断するための逆電流防止
部と、出力部の信号を受信して、アンチヒューズにハー
フ電源電圧で強く安定させるラッチ部とからなる。
【0013】前記アンチヒューズは、ハーフ電源電圧で
は絶縁状態が維持され、電源電圧では絶縁破壊されるよ
うに設定されている。
【0014】このように構成される本発明の動作を説明
すると次のようである。
【0015】一般的な状態、つまりプログラミング信号
が入力されないときには、動作スイッチを通じてハーフ
電源電圧がプログラミング回路に供給されてプリチャー
ジされ、ラッチ部によりハーフ電源電圧が、プリチャー
ジが不安定であるとき、強く維持される。
【0016】このような状態で、アンチヒューズをプロ
グラミングするためのプログラミング信号が入力される
と、破壊電圧供給部により電源電圧がアンチヒューズに
供給され、絶縁破壊されて、プログラミングされる。
【0017】このようにアンチヒューズがプログラミン
グされた後には、アンチヒューズのプログラミングされ
た状態を確認するため、感知信号入力部を通じて信号が
入力されると、アンチヒューズが絶縁破壊された状態が
出力部を通じて出力される。
【0018】また、アンチヒューズが絶縁破壊されるこ
とにより、破壊電圧供給部を通じて電源電圧が供給され
る電流パスが形成され、電流遮断部で出力部の信号を受
信し電流パスを遮断することで、それ以上の電流が消耗
されることを防止することとなる。
【0019】電流遮断部の動作のため、出力部の信号は
帰還部を通じて強く帰還されることにより、電流の遮断
を高速低電力で行い、逆電流防止部により、帰還部から
出力部に流れる逆電流を遮断することとなる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を添付図面を参照して説明する。また、本実施の形態
は本発明の権利範囲を限定するものではなく、単に例示
的に提示するものである。
【0021】図1は本発明による実施の形態を示すもの
で、アンチヒューズのプログラミング回路をメモリ素子
に使用する場合を示す回路図である。
【0022】同図に示すように、動作スイッチ部10
は、アンチヒューズプログラミング回路を動作させるた
め、ハーフ電源電圧(HVCC)を断続して、アンチヒ
ューズプログラミング回路をプリチャージさせる第1P
MOS(P1)からなる。
【0023】第1PMOS(P1)は、ソースがハーフ
電源電圧(HVCC)に連結され、ドレインがアンチヒ
ューズ90の一端に連結される。そして、相補プリチャ
ージ信号(prechb)がゲート端に入力されること
により、動作する。
【0024】以後、アンチヒューズ90の一端と第1P
MOS(P1)のドレインが連結された部分をノードa
と呼ぶ。
【0025】感知信号入力部20は、接地とアンチヒュ
ーズ90の他端にそれぞれソースとドレインに連結さ
れ、ゲートには、欠陥の発生したアドレス信号(ADD
R)が連結された第3NMOS(N3)からなる。
【0026】出力部30は、ノードaの信号を反転する
第1インバータ(INV1)と、第1インバータ(IN
V1)の出力を反転する第2インバータ(INV2)と
からなる。
【0027】この際に、第1インバータ(INV1)と
第2インバータ(INV2)はハーフ電源電圧で動作
し、出力が高電位であるとき、ハーフ電源電圧(HVC
C)となる。
【0028】帰還部40は、出力電圧の変化を高速に帰
還させるため、電源電圧(VCC)で動作するクロスカ
ップルされたフィードバックループで、第6PMOS
(P6)と第7PMOS(P7)とからなる。すなわ
ち、第6PMOS(P6)と第7PMOS(P7)のソ
ースは電源電圧(VCC)に連結され、第6PMOS
(P6)のゲートは第7PMOS(P7)のドレインに
連結され、第7PMOS(P7)のゲートは第6PMO
S(P6)のドレインに連結される。そして、第6PM
OS(P6)のドレインは第1NMOS(N1)を介し
て第1インバータ(INV1)の出力端に連結され、第
7PMOS(P7)のドレインは第2NMOS(N2)
を介して第2インバータ(INV2)の出力端に連結さ
れる。
【0029】以下、第6PMOS(P6)のドレインと
第1NMOS(N1)のドレインが連結された部分をノ
ードbと呼び、第7PMOS(P7)のドレインと第2
NMOS(N2)のドレインが連結された部分をノード
cと呼ぶ。
【0030】前記第1NMOS(N1)と第2NMOS
(N2)は逆電流防止部50であり、ゲートにハーフ電
源電圧(HVCC)が連結されているので、常にターン
オンされている。
【0031】第1NMOS(N1)と第2NMOS(N
2)は、ノードbとノードcに電源電圧(VCC)が印
加される場合、第1インバータ(INV1)と第2イン
バータ(INV2)に電流パスが形成され、電流が逆方
向に流れることとなる。しかし、第1NMOS(N1)
と第2NMOS(N2)はハーフ電源電圧(HVCC)
でターンオンされているため、第1NMOS(N1)と
第2NMOS(N2)に流れ得る電流はハーフ電源電圧
(HVCC)としきい値電圧(Vt)との差だけ流れる
ので、逆方向に流れる電流を防止することができる。
【0032】そして、破壊電圧供給部60は、相補プロ
グラミング信号(pgmb)により動作し、電源電圧
(VCC)をノードaに供給するためのもので、第2P
MOS(P2)からなる。
【0033】この際に、破壊電圧供給部60により供給
されるアンチヒューズ90の破壊電圧、つまり電源電圧
(VCC)を遮断して、アンチヒューズ90のプログラ
ミング後に発生する電流パスを遮断するための電流遮断
部70として第3PMOS(P3)が連結される。
【0034】前記第2PMOS(P2)は、ソースに電
源電圧(VCC)が接続され、ドレインに電流遮断部7
0の第3PMOS(P3)のソースが連結され、第3P
MOS(P3)のソースはノードaに連結される。そし
て、第2PMOS(P2)のゲートには、相補プログラ
ミング信号(pgmb)が入力され、第3PMOS(P
3)のゲートには、ノードbが連結され、強い電源電圧
(VCC)で動作する。
【0035】ラッチ部80は、ノードaに印加される電
圧の不安定により出力信号値が変化しないように、強く
安定させるためのプログラミング信号(pgm)により
動作する第4PMOS(P4)と、第1インバータ(I
NV1)の出力信号に応じて動作する第5PMOS(P
5)とからなる。前記第4PMOS(P4)のソースは
ハーフ電源電圧(HVCC)に連結され、ドレインは第
5PMOS(P5)のソースに連結される。そして、第
5PMOS(P5)のドレインはノードaに連結され
る。
【0036】したがって、一般的な状態では、プログラ
ミング信号(pgm)が低電位であるため、第4PMO
S(P4)がターンオンされ、ノードaは相補プリチャ
ージ信号(prechb)によりハーフ電源電圧(HV
CC)でプリチャージされているため、第1インバータ
(INV1)の出力が低電位となり、第5PMOS(P
5)がターンオンされる。それで、ハーフ電源電圧(H
VCC)がノードaに印加されることにより、安定した
状態が維持される。
【0037】しかし、アンチヒューズ90をプログラム
させるため、プログラミング信号(pgm)が高電位に
変化すると、第4PMOS(P4)がオフされ、かつ第
5PMOS(P5)もアンチヒューズがプログラミング
され、第1インバータ(INV1)の出力が高電位に変
化してオフされる。結果として、ハーフ電源電圧(HV
CC)により電流がノードaに印加される電流パスを遮
断すると共に、高電位、即ち、ハーフ電源電圧(HVC
C)が第1インバータ(INV1)の出力端子にラッチ
される。
【0038】前記アンチヒューズ90のプログラミング
された状態を確認するための出力端(repb)はノー
ドcとする。
【0039】図2は本発明による実施の形態での入出力
信号を示すシミュレーショングラフである。
【0040】このようなアンチヒューズプログラミング
回路の動作を図2の入出力信号を示すシミュレーション
グラフを参照して説明すると次のようである。
【0041】まず、正常状態時を述べる。
【0042】正常状態で、動作スイッチ部10の相補プ
リチャージ信号(prechb)が低電位状態で第1P
MOS(P1)をターンオンさせて、ハーフ電源電圧が
ノードaに印加されるようにして、アンチヒューズプロ
グラミング回路をプリチャージされる。
【0043】すると、出力部30の出力値は、ノードa
が高電位と設定されるため、第1インバータ(INV
1)により反転されて、ノードbが低電位となり、再び
この値は第2インバータ(INV2)により再度反転さ
れて、ノードcが高電位となる。
【0044】帰還部40では、ノードbが低電位となる
ことにより、第7PMOS(P7)がターンオンされ、
ノードcには電源電圧(VCC)が印加されて、出力端
(repb)が高電位となり、ノードcが高電位となる
ことにより、第6PMOS(P6)が強くオフされて、
ノードbは低電位を維持することとなる。このノードb
の値が電流遮断部70の第3PMOS(P3)のゲート
に入力されて、第3PMOS(P3)がターンオンされ
た状態を維持することとなる。
【0045】また、ラッチ部80は、ノードaがプリチ
ャージされて高電位となることにより、第1インバータ
(INV1)により反転され、この値が再び第5PMO
S(P5)のゲートに印加されることにより、第5PM
OS(P5)がターンオンされた状態を維持する。
【0046】このようにプリチャージされた状態で、相
補プリチャージ信号(prechb)が高電位に転移さ
れ、感知信号入力部20を通じてアドレス信号(ADD
R)が入力されて、第3NMOS(N3)がターンオン
された状態であるが、未だプログラミング信号(pg
m)が入力されないため、アンチヒューズ90が続けて
絶縁状態を維持して、ノードaの電位は変化しない。
【0047】その後、プログラミング信号(pgm)が
入力されると、ラッチ部80の第4PMOS(P4)が
オフされて、ハーフ電源電圧(HVCC)がノードaに
供給されることを遮断し、相補プログラミング信号(p
gm)が破壊電圧供給部60の第2PMOS(P2)を
ターンオンさせることで、電源電圧(VCC)が第3P
MOS(P3)を通じてアンチヒューズ90に供給さ
れ、第3NMOS(N3)を通じて電流パスが形成され
ることにより、アンチヒューズ90が絶縁破壊されてプ
ログラミングされる。
【0048】すると、ノードaの電位は低電位に変化
し、第1インバータ(INV1)により反転されて、出
力値が高電位となる。この値は第1NMOS(N1)を
通じて伝達されて、ノードbも高電位となる。第1イン
バータ(INV1)の出力値を動作信号として受ける第
5PMOS(P5)はオフされて、ノードaが電源電圧
(VCC)に維持されることにより、逆方向に流れる電
流を遮断することとなる。
【0049】また、ノードbが高電位となることによ
り、破壊電圧供給部60を通じて電源電圧(VCC)が
ノードaに供給されるため、ターンオンされている第3
PMOS(P3)をオフさせることにより、アンチヒュ
ーズ90がプログラミングされて形成された電流パスを
遮断して、それ以上の電流が流れないようにする。
【0050】第3PMOS(P3)を帰還部40の電源
電圧(VCC)で強くオフさせることで、高速に第3P
MOS(P3)をオフさせることができ、帰還部40に
より安定状態を維持させることができる。
【0051】このように、アンチヒューズ90が絶縁破
壊されてプログラミングされると、第3NMOS(N
3)のターンオンによりノードaが低電位となり、この
値は第1インバータ(INV1)を通じて反転されてか
ら第2インバータ(INV2)を通じて反転された低電
位値がノードcに印加され、出力端(repb)を通じ
て低電位値が出力される。
【0052】したがって、ノードcが低電位となること
により、第6PMOS(P6)がターンオンされ、ノー
ドbは高電位となる。すると、第7PMOS(P7)は
オフされ、第2インバータ(INV2)の出力値がその
まま維持される。このように、帰還部(40)により出
力値は早く安定化され、電源電圧(VCC)により駆動
されることにより、第2インバータ(INV2)のハー
フ電源電圧(HVCC)による出力値より強く電流遮断
部(70)を動作させて、電力の消費を防止することが
できる。
【0053】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、半導体
装置において絶縁破壊を引き起こして互いに連結させる
アンチヒューズを用いることで、パッケージ段階でのプ
ログラムができるので、信頼性が向上されるという利点
がある。
【0054】また、アンチヒューズのプログラムされた
状態を確認するための出力部に、電源電圧で駆動される
クロスカップルされた帰還回路を置いて、アンチヒュー
ズのプログラミング後に発生する電流パスを短時間に低
電力で強く遮断して、電力消費を著しく減らすことがで
きるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による実施の形態を示すもので、アン
チヒューズのプログラミング回路を示す回路図である。
【図2】 本発明による実施の形態での入出力信号を示
すシミュレーショングラフである。
【符号の説明】
10 動作スイッチ部、20 感知信号入力部、30
出力部、40 帰還部、50 逆電流防止部、60 破
壊電圧供給部、70 電流遮断部、80 ラッチ部、9
0 アンチヒューズ、INV1 第1インバータ、IN
V2 第2インバータ、N1 第1NMOS、N2 第
2NMOS、N3 第3NMOS、P1第1PMOS、
P2 第2PMOS、P3 第3PMOS、P4 第4
PMOS、P5 第5PMOS、P6 第6PMOS、
P7 第7PMOS。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ク キー ボン 大韓民国 ギュンギドー イーチョンシ コーダンドン サン 72−1 コーダン ドミトリー 102−1303

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ハーフ電源電圧でプリチャージさせる動
    作スイッチ部と、 前記動作スイッチ部に連結され、過電流が流れる場合、
    絶縁破壊されるアンチヒューズと、 前記アンチヒューズのプログラミングされた状態を確認
    するための感知信号を受信する感知信号入力部と、 前記アンチヒューズの絶縁破壊のために電源電圧を供給
    する破壊電圧供給部と、 前記感知信号入力部の信号に応じて、アンチヒューズの
    プログラミング状態を出力する出力部と、 前記出力部の信号に応じて、高速低電力で強く帰還させ
    る帰還部と、 前記帰還部の信号を受信して、前記破壊電圧供給部から
    前記アンチヒューズに供給される電流パスを断続する電
    流遮断部と、 前記帰還部から前記出力部に流れる電流を遮断するため
    の逆電流防止部と、 前記出力部の制御信号を受信して、前記アンチヒューズ
    にハーフ電源電圧で強く安定させるラッチ部と、を備え
    ることを特徴とするアンチヒューズプログラミング回
    路。
  2. 【請求項2】 前記動作スイッチ部は、ハーフ電源電圧
    端と前記アンチヒューズとの間に介在され、プリチャー
    ジ信号に応じて動作するPMOSを有することを特徴と
    する請求項1記載のアンチヒューズプログラミング回
    路。
  3. 【請求項3】 前記感知信号入力部は、前記アンチヒュ
    ーズと接地端との間に介在され、感知信号に応じて動作
    するNMOSを有することを特徴とする請求項1記載の
    アンチヒューズプログラミング回路。
  4. 【請求項4】 前記破壊電圧供給部は、電源電圧端と前
    記電流遮断部との間に介在され、プログラミング信号に
    応じて動作されるPMOSを有することを特徴とする請
    求項1記載のアンチヒューズプログラミング回路。
  5. 【請求項5】 前記出力部は、前記アンチヒューズに連
    結され、ハーフ電源電圧で供給されて、前記アンチヒュ
    ーズの出力信号を反転させて前記制御信号をラッチ部に
    出力する第1インバータと、 ハーフ電源電圧で供給されて、前記第1インバータの出
    力信号を反転させる第2インバータと、を有することを
    特徴とする請求項1記載のアンチヒューズプログラミン
    グ回路。
  6. 【請求項6】 前記電流遮断部は、前記破壊電圧供給部
    の出力端と前記アンチヒューズとの間に介在され、前記
    帰還部の信号に応じて動作するPMOSを有することを
    特徴とする請求項1記載のアンチヒューズプログラミン
    グ回路。
  7. 【請求項7】 前記帰還部は、ハーフ電圧で動作する前
    記出力部の出力電圧を強く維持させるため、電源電圧で
    動作するクロスカップルされたフィードバックループで
    あることを特徴とする請求項1記載のアンチヒューズプ
    ログラミング回路。
  8. 【請求項8】 前記逆電流防止部は、電源電圧で動作す
    る前記帰還部の出力電圧が前記出力部に流れることを防
    止するため、ハーフ電源電圧で動作するトランジスタを
    有することを特徴とする請求項1記載のアンチヒューズ
    プログラミング回路。
  9. 【請求項9】 前記ラッチ部は、プログラミング信号に
    応じて動作され、ハーフ電源電圧を前記アンチヒューズ
    に供給する第1PMOSと、 前記第1PMOSに直列連結され、前記出力部の制御信
    号に応じて前記アンチヒューズとハーフ電源電圧との経
    路を断続する第2PMOSと、を有することを特徴とす
    る請求項1記載のアンチヒューズプログラミング回路。
JP18570499A 1998-06-30 1999-06-30 クロスカップルされたフィードバックループを有するアンチヒューズのプログラミング回路 Expired - Lifetime JP3660829B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1998-26225 1998-06-30
KR10-1998-0026225A KR100359857B1 (ko) 1998-06-30 1998-06-30 크로스커플드피드백루프를갖는앤티퓨즈의프로그래밍회로

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000082298A true JP2000082298A (ja) 2000-03-21
JP3660829B2 JP3660829B2 (ja) 2005-06-15

Family

ID=19542565

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18570499A Expired - Lifetime JP3660829B2 (ja) 1998-06-30 1999-06-30 クロスカップルされたフィードバックループを有するアンチヒューズのプログラミング回路

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6133778A (ja)
JP (1) JP3660829B2 (ja)
KR (1) KR100359857B1 (ja)
TW (1) TW436784B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006196079A (ja) * 2005-01-13 2006-07-27 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6188239B1 (en) * 1996-08-12 2001-02-13 Micron Technology, Inc. Semiconductor programmable test arrangement such as an antifuse to ID circuit having common access switches and/or common programming switches
US5812477A (en) 1996-10-03 1998-09-22 Micron Technology, Inc. Antifuse detection circuit
US6628561B2 (en) * 2001-08-30 2003-09-30 Micron Technology, Inc. Small anti-fuse circuit to facilitate parallel fuse blowing
US7236043B2 (en) * 2005-10-17 2007-06-26 Atmel Corporation Antifuse programming, protection, and sensing device
FR2894373B1 (fr) * 2005-12-07 2008-01-04 Atmel Corp Cellule anti-fusible autonome
GB2491831B (en) 2011-06-13 2014-08-13 Cambridge Silicon Radio Ltd Control circuitry for memory cells
US8724364B2 (en) * 2011-09-14 2014-05-13 Semiconductor Components Industries, Llc Electronic device including a nonvolatile memory structure having an antifuse component and a process of using the same
US10255982B2 (en) 2016-11-02 2019-04-09 Skyworks Solutions, Inc. Accidental fuse programming protection circuits
US10360988B2 (en) 2016-11-02 2019-07-23 Skyworks Solutions, Inc. Apparatus and methods for protection against inadvertent programming of fuse cells
CN107800413B (zh) * 2017-11-20 2020-04-21 北京华大九天软件有限公司 一种低失调高速动态比较器
CN117133343A (zh) * 2022-05-19 2023-11-28 长鑫存储技术有限公司 反熔丝电路及反熔丝单元烧写状态实时验证方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5371414A (en) * 1993-05-26 1994-12-06 Actel Corporation Simultaneous multiple antifuse programming method
US5689455A (en) * 1995-08-31 1997-11-18 Micron Technology, Inc. Circuit for programming antifuse bits
US5631862A (en) * 1996-03-05 1997-05-20 Micron Technology, Inc. Self current limiting antifuse circuit
US5734617A (en) * 1996-08-01 1998-03-31 Micron Technology Corporation Shared pull-up and selection circuitry for programmable cells such as antifuse cells

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006196079A (ja) * 2005-01-13 2006-07-27 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20010008399A (ko) 2001-02-05
TW436784B (en) 2001-05-28
US6133778A (en) 2000-10-17
KR100359857B1 (ko) 2003-01-08
JP3660829B2 (ja) 2005-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3665511B2 (ja) アンチヒューズのプログラミング回路
JP3756016B2 (ja) アンチヒューズを有する冗長回路のリペア回路
KR0147194B1 (ko) 반도체 메모리 소자
JP3660828B2 (ja) 可変電圧発生器を用いるアンチヒューズのプログラミング回路
JP3797856B2 (ja) 集積回路のヒューズオプション回路及び方法
JP3660829B2 (ja) クロスカップルされたフィードバックループを有するアンチヒューズのプログラミング回路
KR100321167B1 (ko) 앤티퓨즈로미세조정되는기준전압발생기
JPH11176945A (ja) ヒュージング装置
US5825698A (en) Redundancy decoding circuit for a semiconductor memory device
US7116127B2 (en) Circuit with fuse and semiconductor device having the same circuit
KR100359856B1 (ko) 앤티퓨즈를갖는내부전압발생기
US6888216B2 (en) Circuit having make-link type fuse and semiconductor device having the same
KR100464944B1 (ko) 반도체 메모리 소자의 리던던시 회로의 퓨즈셋
US20110241762A1 (en) Fuse circuit
KR20010004003A (ko) 리페어 퓨즈 회로
KR20020074574A (ko) 반도체 메모리 장치의 리페어 회로
KR20000002535A (ko) 반도체 소자의 리던던시 회로

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050228

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050308

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050318

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080325

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090325

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100325

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100325

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110325

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110325

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120325

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130325

Year of fee payment: 8