JP2000080465A - 防汚蒸着材料及びこれを用いた反射防止部材 - Google Patents
防汚蒸着材料及びこれを用いた反射防止部材Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】指紋拭き取り性等の防汚性能の優れ、なおかつ
様々な成膜方法に対応できる安価で簡易的な防汚蒸着材
料を提供する。 【解決手段】金属焼結体に一般式（１）のフッ素化合
物、（２）のパーフルオロアルキルシラン、（３）のパ
ーフルオロアルキルシラザンを含浸させる。 【化１】 （Ｒｆは炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基、ｎ
は１〜５０の整数、ｍは０〜３の整数、Ｌは０〜３の整
数、ｓは１〜６の整数、但し、６≦ｍ＋Ｌ＞０、Ｒは炭
素数１〜１０のアルキル基を示す）。一般式（２）ＣＦ
3 （ＣＦ2 ）n −（ＣＨ2 ）m Ｓｉ（ＯＲ）3 （ｎは正
の整数、ｍは０以上の整数、Ｒはアルキル基を表す）。
一般式（３）ＣＦ3 （ＣＦ2 ）n −（ＣＨ2 ）m Ｓｉ
（ＮＨ）1.5（ｎは正の整数、ｍは０以上の整数）
様々な成膜方法に対応できる安価で簡易的な防汚蒸着材
料を提供する。 【解決手段】金属焼結体に一般式（１）のフッ素化合
物、（２）のパーフルオロアルキルシラン、（３）のパ
ーフルオロアルキルシラザンを含浸させる。 【化１】 （Ｒｆは炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基、ｎ
は１〜５０の整数、ｍは０〜３の整数、Ｌは０〜３の整
数、ｓは１〜６の整数、但し、６≦ｍ＋Ｌ＞０、Ｒは炭
素数１〜１０のアルキル基を示す）。一般式（２）ＣＦ
3 （ＣＦ2 ）n −（ＣＨ2 ）m Ｓｉ（ＯＲ）3 （ｎは正
の整数、ｍは０以上の整数、Ｒはアルキル基を表す）。
一般式（３）ＣＦ3 （ＣＦ2 ）n −（ＣＨ2 ）m Ｓｉ
（ＮＨ）1.5（ｎは正の整数、ｍは０以上の整数）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止膜等の光
学部材で防汚性を必要とする各種基材の表面に、防汚性
薄膜を形成するための蒸着材料に関するものである。
学部材で防汚性を必要とする各種基材の表面に、防汚性
薄膜を形成するための蒸着材料に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】レンズ等の反射防止膜付き光学部材で
は、汗、指紋等による汚れが付着しやすく、一度付着し
た汚れを除去することは困難であった。こららの問題を
解決する手段として、フルオロアルキルシラン等の薄膜
用いた防汚層あるいは撥水層が考案されている。
は、汗、指紋等による汚れが付着しやすく、一度付着し
た汚れを除去することは困難であった。こららの問題を
解決する手段として、フルオロアルキルシラン等の薄膜
用いた防汚層あるいは撥水層が考案されている。
【０００３】例えば、特開平６−１２２７７８号公報に
はプラズマＣＶＤ法を用いて形成するフルオロアルキル
シランの撥水層が、特開平８−２０９１１８号公報には
フッ素化合物とオルガノポリシロキサンの混合物からな
る防汚層が、特開平９−６１６０５号公報にはエーテル
結合を有する柔軟な分子構造持つフッ素化合物を用いた
防汚層などが開示されている。しかしながら、反射防止
膜の防汚層として使用される場合、反射防止機能を損な
わないために、１０ｎｍ以下の超薄膜を形成する必要が
ある。この場合、膜厚モニターを用いた膜厚制御より
も、それぞれのプロセスにあわせて適量の防汚材料を仕
込む膜厚制御方法が最も信頼性が高い。従来、撥水性の
蒸着材料としては、適量の防汚材料を毎回定量する手間
を省く為、あるいは蒸発時のスプラッシュを防ぐ為に、
予め含浸体に防汚材料を適量含浸する方法が考案されて
いる。
はプラズマＣＶＤ法を用いて形成するフルオロアルキル
シランの撥水層が、特開平８−２０９１１８号公報には
フッ素化合物とオルガノポリシロキサンの混合物からな
る防汚層が、特開平９−６１６０５号公報にはエーテル
結合を有する柔軟な分子構造持つフッ素化合物を用いた
防汚層などが開示されている。しかしながら、反射防止
膜の防汚層として使用される場合、反射防止機能を損な
わないために、１０ｎｍ以下の超薄膜を形成する必要が
ある。この場合、膜厚モニターを用いた膜厚制御より
も、それぞれのプロセスにあわせて適量の防汚材料を仕
込む膜厚制御方法が最も信頼性が高い。従来、撥水性の
蒸着材料としては、適量の防汚材料を毎回定量する手間
を省く為、あるいは蒸発時のスプラッシュを防ぐ為に、
予め含浸体に防汚材料を適量含浸する方法が考案されて
いる。
【０００４】例えば、特開平５−２１５９０５号公報に
は銅製ハースにプレスしたスチールウールにフルオロア
ルキルシラザンの撥水材料を含浸させた蒸着材料が開示
されている。更に特開平９−１３７１２２号公報には体
積当たり含浸量を増やすことの可能な多孔性無機酸化物
マトリックスに、撥水材料を含浸させた蒸着材料が開示
されている。
は銅製ハースにプレスしたスチールウールにフルオロア
ルキルシラザンの撥水材料を含浸させた蒸着材料が開示
されている。更に特開平９−１３７１２２号公報には体
積当たり含浸量を増やすことの可能な多孔性無機酸化物
マトリックスに、撥水材料を含浸させた蒸着材料が開示
されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、銅製ハ
ースにプレスしたスチールウール含浸タイプは、含浸量
に限界があり、メガネレンズ等のバッチ蒸着装置に形状
等を適性化しているため、他の用途、特に巻き取り蒸着
装置のような連続蒸着には不適性であり、価格的にも高
価なものであった。また多孔性無機酸化物マトリックス
に含浸させた蒸着材料は形状、含浸量、価格等の面で様
々な成膜方法に適合性があるが、一方で熱伝導性が低い
がゆえに、蒸着のための加熱によって含浸体内部で材料
モノマー同士が中途半端に反応してしまう難点があっ
た。
ースにプレスしたスチールウール含浸タイプは、含浸量
に限界があり、メガネレンズ等のバッチ蒸着装置に形状
等を適性化しているため、他の用途、特に巻き取り蒸着
装置のような連続蒸着には不適性であり、価格的にも高
価なものであった。また多孔性無機酸化物マトリックス
に含浸させた蒸着材料は形状、含浸量、価格等の面で様
々な成膜方法に適合性があるが、一方で熱伝導性が低い
がゆえに、蒸着のための加熱によって含浸体内部で材料
モノマー同士が中途半端に反応してしまう難点があっ
た。
【０００６】水の接触角で性能が決まる撥水層では中途
半端な膜質でも問題はなかったが、指紋拭き取り性が要
求される防汚層に於いては完璧な膜質が要求されるた
め、防汚性を損なうことなく、様々な成膜方法に対応で
きる安価で簡易的な防汚蒸着材料が求められていた。本
発明は、指紋拭き取り性等の防汚性能の優れ、なおかつ
様々な成膜方法に対応できる安価で簡易的な防汚蒸着材
料、新しい撥水蒸着材料の提供を目的とする。
半端な膜質でも問題はなかったが、指紋拭き取り性が要
求される防汚層に於いては完璧な膜質が要求されるた
め、防汚性を損なうことなく、様々な成膜方法に対応で
きる安価で簡易的な防汚蒸着材料が求められていた。本
発明は、指紋拭き取り性等の防汚性能の優れ、なおかつ
様々な成膜方法に対応できる安価で簡易的な防汚蒸着材
料、新しい撥水蒸着材料の提供を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の本発明
は、金属焼結体に防汚材料あるいは撥水材料を含浸させ
てあることを特徴とする防汚蒸着材料である。
は、金属焼結体に防汚材料あるいは撥水材料を含浸させ
てあることを特徴とする防汚蒸着材料である。
【０００８】また、請求項２に記載の本発明は、前記金
属焼結体がステンレスまたは銅また鉄鋼からなる円筒状
あるいは球状のぺレットであることを特徴とする請求項
１に記載の防汚蒸着材料である。
属焼結体がステンレスまたは銅また鉄鋼からなる円筒状
あるいは球状のぺレットであることを特徴とする請求項
１に記載の防汚蒸着材料である。
【０００９】また、請求項３に記載の本発明は、前記防
汚材料が一般式（１）で表されるでフツ素化合物あるこ
とを特徴とする請求項１、請求項２に記載の防汚蒸着材
料である。 一般式（１）
汚材料が一般式（１）で表されるでフツ素化合物あるこ
とを特徴とする請求項１、請求項２に記載の防汚蒸着材
料である。 一般式（１）
【化２】 （Ｒｆは炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パーフル
オロアルキル基、ｎは１〜５０の整数、ｍは０〜３の整
数、Ｌは０〜３の整数、ｓは１〜６の整数、但し、６≦
ｍ＋Ｌ＞０、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基を示
す。）
オロアルキル基、ｎは１〜５０の整数、ｍは０〜３の整
数、Ｌは０〜３の整数、ｓは１〜６の整数、但し、６≦
ｍ＋Ｌ＞０、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基を示
す。）
【００１０】また、請求項４に記載の本発明は、前記撥
水材料が一般式（２）で表されるパーフルオロアルキル
シランであることを特徴とする請求項１、請求項２に記
載の防汚蒸着材料である。 一般式（２） ＣＦ3 （ＣＦ2 ）n −（ＣＨ2 ）m Ｓｉ（ＯＲ）3 （ｎは正の整数、ｍは０以上の整数、Ｒはアルキル基を
表す。）
水材料が一般式（２）で表されるパーフルオロアルキル
シランであることを特徴とする請求項１、請求項２に記
載の防汚蒸着材料である。 一般式（２） ＣＦ3 （ＣＦ2 ）n −（ＣＨ2 ）m Ｓｉ（ＯＲ）3 （ｎは正の整数、ｍは０以上の整数、Ｒはアルキル基を
表す。）
【００１１】また、請求項５に記載の本発明は、前記撥
水材料が一般式（３）で表されるパーフルオロアルキル
シラザンであることを特徴とする請求項１、請求項２に
記載の防汚蒸着材料である。 一般式（３） ＣＦ3 （ＣＦ2 ）n −（ＣＨ2 ）m Ｓｉ（ＮＨ）1.5 （ｎは正の整数、ｍは０以上の整数）
水材料が一般式（３）で表されるパーフルオロアルキル
シラザンであることを特徴とする請求項１、請求項２に
記載の防汚蒸着材料である。 一般式（３） ＣＦ3 （ＣＦ2 ）n −（ＣＨ2 ）m Ｓｉ（ＮＨ）1.5 （ｎは正の整数、ｍは０以上の整数）
【００１２】また、請求項６に記載の本発明は、前記請
求項１〜５のいずれか１項に記載された防汚蒸着材料を
用いて蒸着処理されたことを特徴とする反射防止部材で
ある。
求項１〜５のいずれか１項に記載された防汚蒸着材料を
用いて蒸着処理されたことを特徴とする反射防止部材で
ある。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に本発明の形態を説明する。
金属焼結体は熱伝導のよい材料であれば何でもよいが、
ステンレスの場合は化学的に安定性の高いＳＵＳ３１６
を、銅系材料であれば無酸素銅が望ましい。￣焼結前の
粒径は含浸量を大きくとるためには細かいほうがよい
が、蒸発レートを高く安定させるためには多少大きいほ
うがよい。具体的には１〜１００μｍである。
金属焼結体は熱伝導のよい材料であれば何でもよいが、
ステンレスの場合は化学的に安定性の高いＳＵＳ３１６
を、銅系材料であれば無酸素銅が望ましい。￣焼結前の
粒径は含浸量を大きくとるためには細かいほうがよい
が、蒸発レートを高く安定させるためには多少大きいほ
うがよい。具体的には１〜１００μｍである。
【００１４】また、焼結体の形状は板状、塊状等、特に
制約されるものではないが、ペレット状のものが様々な
成膜方法に対して適応性が高い。具体的には直径１〜１
０ｍｍ、高さ１〜１０ｍｍの円筒状のものが使い勝手が
よい。また連続蒸着などで蒸発レートの安定化が求めら
れる場合には、ハース上で並べかたが規格化できる球状
ペレットが使用できる。
制約されるものではないが、ペレット状のものが様々な
成膜方法に対して適応性が高い。具体的には直径１〜１
０ｍｍ、高さ１〜１０ｍｍの円筒状のものが使い勝手が
よい。また連続蒸着などで蒸発レートの安定化が求めら
れる場合には、ハース上で並べかたが規格化できる球状
ペレットが使用できる。
【００１５】上記材料に撥水材料あるいは防汚材料を、
使用目的にあわせて重量比で含浸体の１〜５０％程度含
浸させる。材料原液を直接含浸させても構わないが、フ
ッ素系溶媒を用いて適度に希釈すると簡単に含浸でき
る。溶媒は蒸着前に予め乾燥させることもできる。こう
して用意された防汚蒸着材料は様々な市販の真空蒸着装
置で使用可能である。加熱方法は、抵抗加熱、誘導加
熱、電子ビーム加熱、ランプヒーター加熱、一般ヒータ
ーによる接触加熱等が適宜利用可能である。
使用目的にあわせて重量比で含浸体の１〜５０％程度含
浸させる。材料原液を直接含浸させても構わないが、フ
ッ素系溶媒を用いて適度に希釈すると簡単に含浸でき
る。溶媒は蒸着前に予め乾燥させることもできる。こう
して用意された防汚蒸着材料は様々な市販の真空蒸着装
置で使用可能である。加熱方法は、抵抗加熱、誘導加
熱、電子ビーム加熱、ランプヒーター加熱、一般ヒータ
ーによる接触加熱等が適宜利用可能である。
【００１６】
【実施例】次に本発明を、反射防止部材の撥水機能を有
する防汚層を形成する場合について説明する。 ［実施例１］透明プラスチックフィルム基材（１）のト
リアセチルセルロース（ＴＡＣ）８０μｍ上に、ハード
コート層（２）として多官能性アクリル樹脂を紫外線照
射硬化法により形成した後、反射防止層（３）の高屈折
率層（３ａ）としてＴｉＯ2（屈折率２．３０）を、低
屈折率層（３ｂ）としてＳｉＯ2 （屈折率１．４６）を
真空蒸着法により交互に積層し反射防止膜層（３）を形
成した。更に、平均粒径４０μｍのＳＵＳ３１６粒をφ
６ｍｍ×高さ４ｍｍに焼結した含浸体に一般式（１）で
表されるフッ素化合物を５重量％含浸させた防汚蒸着材
料を用いて、抵抗加熱による真空蒸着法により防汚層
（４）を成膜した。この反射防止部材の防汚層は純水の
接触角で１１２度を得、良好な撥水性、また良好な指紋
拭き取り性を示した。
する防汚層を形成する場合について説明する。 ［実施例１］透明プラスチックフィルム基材（１）のト
リアセチルセルロース（ＴＡＣ）８０μｍ上に、ハード
コート層（２）として多官能性アクリル樹脂を紫外線照
射硬化法により形成した後、反射防止層（３）の高屈折
率層（３ａ）としてＴｉＯ2（屈折率２．３０）を、低
屈折率層（３ｂ）としてＳｉＯ2 （屈折率１．４６）を
真空蒸着法により交互に積層し反射防止膜層（３）を形
成した。更に、平均粒径４０μｍのＳＵＳ３１６粒をφ
６ｍｍ×高さ４ｍｍに焼結した含浸体に一般式（１）で
表されるフッ素化合物を５重量％含浸させた防汚蒸着材
料を用いて、抵抗加熱による真空蒸着法により防汚層
（４）を成膜した。この反射防止部材の防汚層は純水の
接触角で１１２度を得、良好な撥水性、また良好な指紋
拭き取り性を示した。
【００１７】［実施例２］実施例１と同様の反射防止膜
上に、平均粒径４０μｍのＳＵＳ３１６粒を焼結後，直
径５ｍｍの球状に成形した含浸体に一般式（１）で表さ
れるフッ素化合物を５重量％含浸させた防汚蒸着材料を
用いて、抵抗加熱による真空蒸着法により防汚層を成膜
した。この反射防止部材の防汚層は、純水の接触角で１
１２度を得、良好な撥水性、また良好な指紋拭き取り性
を示した。
上に、平均粒径４０μｍのＳＵＳ３１６粒を焼結後，直
径５ｍｍの球状に成形した含浸体に一般式（１）で表さ
れるフッ素化合物を５重量％含浸させた防汚蒸着材料を
用いて、抵抗加熱による真空蒸着法により防汚層を成膜
した。この反射防止部材の防汚層は、純水の接触角で１
１２度を得、良好な撥水性、また良好な指紋拭き取り性
を示した。
【００１８】［実施例３］実施例１と同様の反射防止膜
上に、平均粒径４０μｍの無酸素銅粒をφ６ｍｍ×高さ
４ｍｍに焼結した含浸体に一般式（１）で表されるフッ
素化合物を５重量％含浸させた防汚蒸着材料を用いて、
抵抗加熱による真空蒸着法により防汚層を成膜した。こ
の反射防止部材の防汚層は純水の接触角で１１２度を
得、良好な撥水性、また良好な指紋拭き取り性を示し
た。
上に、平均粒径４０μｍの無酸素銅粒をφ６ｍｍ×高さ
４ｍｍに焼結した含浸体に一般式（１）で表されるフッ
素化合物を５重量％含浸させた防汚蒸着材料を用いて、
抵抗加熱による真空蒸着法により防汚層を成膜した。こ
の反射防止部材の防汚層は純水の接触角で１１２度を
得、良好な撥水性、また良好な指紋拭き取り性を示し
た。
【００１９】［実施例４］実施例１と同様の反射防止膜
上に、平均粒径４０μｍの無酸素銅粒を焼結後、直径５
ｍｍの球状に成形した含潰体に一般式（１）で表される
フッ素化合物を５重量％含浸させた防汚蒸着材料を用い
て、抵抗加熱による真空蒸着法により防汚層を成膜し
た。この反射防止部材の防汚層は純水の接触角で１１２
度を得、良好な撥水性、また良好な指紋拭き取り性を示
した。
上に、平均粒径４０μｍの無酸素銅粒を焼結後、直径５
ｍｍの球状に成形した含潰体に一般式（１）で表される
フッ素化合物を５重量％含浸させた防汚蒸着材料を用い
て、抵抗加熱による真空蒸着法により防汚層を成膜し
た。この反射防止部材の防汚層は純水の接触角で１１２
度を得、良好な撥水性、また良好な指紋拭き取り性を示
した。
【００２０】［実施例５］実施例１と同様の反射防止膜
上に、平均粒径４０μｍのＳＵＳ３１６粒をφ６ｍｍ×
高さ４ｍｍに焼結した含浸体に一般式（２）で表される
パーフルオロアルキルシランの一種である信越化学
（株）製ＫＢＭ７８０３を５重量％含浸させた撥水蒸着
材料を用いて、抵抗加熱による真空蒸着法により撥水層
を成膜した。この反射防止部材の撥水層は純水の接触角
で１０７度を得、良好な撥水性、また良好な指紋拭き取
り性を示した。
上に、平均粒径４０μｍのＳＵＳ３１６粒をφ６ｍｍ×
高さ４ｍｍに焼結した含浸体に一般式（２）で表される
パーフルオロアルキルシランの一種である信越化学
（株）製ＫＢＭ７８０３を５重量％含浸させた撥水蒸着
材料を用いて、抵抗加熱による真空蒸着法により撥水層
を成膜した。この反射防止部材の撥水層は純水の接触角
で１０７度を得、良好な撥水性、また良好な指紋拭き取
り性を示した。
【００２１】［実施例６］実施例１と同様の反射防止膜
上に、平均粒径４０μｍのＳＵＳ３１６粒をφ６ｍｍ×
高さ４ｍｍに焼結した含浸体に一般式（３）で表される
パーフルオロアルキルシラザンの一種である信越化学
（株）製ＫＰ８０１Ｍを５重量％含浸させた撥水蒸着材
料を用いて、抵抗加熱による真空蒸着法により撥水層を
成膜した。この反射防止部材の撥水層は純水の接触角で
１１３度を得、良好な撥水性、また良好な指紋拭き取り
性を示した。
上に、平均粒径４０μｍのＳＵＳ３１６粒をφ６ｍｍ×
高さ４ｍｍに焼結した含浸体に一般式（３）で表される
パーフルオロアルキルシラザンの一種である信越化学
（株）製ＫＰ８０１Ｍを５重量％含浸させた撥水蒸着材
料を用いて、抵抗加熱による真空蒸着法により撥水層を
成膜した。この反射防止部材の撥水層は純水の接触角で
１１３度を得、良好な撥水性、また良好な指紋拭き取り
性を示した。
【００２２】
【発明の効果】以上に説明したように本発明の方法によ
れば、指紋拭き取り性等の防汚性能の優れ、なおかつ様
々な成膜方法に対応できる安価で簡易的な防汚蒸着材料
が提供でき、更に、この防汚蒸着材料を光学部品に応用
することで良好な撥水性、及び指紋拭き取り性の優れた
光学部材を提供できる。
れば、指紋拭き取り性等の防汚性能の優れ、なおかつ様
々な成膜方法に対応できる安価で簡易的な防汚蒸着材料
が提供でき、更に、この防汚蒸着材料を光学部品に応用
することで良好な撥水性、及び指紋拭き取り性の優れた
光学部材を提供できる。
【図１】本発明の撥水機能を有する防汚層が形成された
反射防止部材の構成断面図を示す。
反射防止部材の構成断面図を示す。
１…フィルム基材 ２…ハードコート層 ３…反射防止層 ３ａ，３ｃ…高屈折率層 ３ｂ，３ｄ…低屈折率層 ４…防汚層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 武田 晃 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内 Ｆターム(参考） 4K029 AA11 AA25 BA47 BA48 BA62 BB02 BC00 BD09 CA01 DB05 DB06 DB07
Claims (6)
- 【請求項１】金属焼結体に防汚材料あるいは撥水材料を
含浸させてあることを特徴とする防汚蒸着材料。 - 【請求項２】前記金属焼結体がステンレスまたは銅また
鉄鋼からなる円筒状あるいは球状のぺレットであること
を特徴とする請求項１に記載の防汚蒸着材料。 - 【請求項３】前記防汚材料が一般式（１）で表されるで
フツ素化合物あることを特徴とする請求項１、請求項２
に記載の防汚蒸着材料。 一般式（１） 【化１】 （Ｒｆは炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パーフル
オロアルキル基、ｎは１〜５０の整数、ｍは０〜３の整
数、Ｌは０〜３の整数、ｓは１〜６の整数、但し、６≦
ｍ＋Ｌ＞０、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基を示
す。） - 【請求項４】前記撥水材料が一般式（２）で表されるパ
ーフルオロアルキルシランであることを特徴とする請求
項１、請求項２に記載の防汚蒸着材料。 一般式（２） ＣＦ3 （ＣＦ2 ）n −（ＣＨ2 ）m Ｓｉ（ＯＲ）3 （ｎは正の整数、ｍは０以上の整数、Ｒはアルキル基を
表す。） - 【請求項５】前記撥水材料が一般式（３）で表されるパ
ーフルオロアルキルシラザンであることを特徴とする請
求項１、請求項２に記載の防汚蒸着材料。 一般式（３） ＣＦ3 （ＣＦ2 ）n −（ＣＨ2 ）m Ｓｉ（ＮＨ）1.5 （ｎは正の整数、ｍは０以上の整数） - 【請求項６】請求項１〜５のいずれか１項に記載された
防汚蒸着材料を用いて蒸着処理されたことを特徴とする
反射防止部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10249538A JP2000080465A (ja) | 1998-09-03 | 1998-09-03 | 防汚蒸着材料及びこれを用いた反射防止部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10249538A JP2000080465A (ja) | 1998-09-03 | 1998-09-03 | 防汚蒸着材料及びこれを用いた反射防止部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000080465A true JP2000080465A (ja) | 2000-03-21 |
Family
ID=17194486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10249538A Pending JP2000080465A (ja) | 1998-09-03 | 1998-09-03 | 防汚蒸着材料及びこれを用いた反射防止部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000080465A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1255129A2 (en) * | 2001-04-27 | 2002-11-06 | Hoya Corporation | Method for manufacturing optical member having water-repellent thin film |
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