JP2000076730A - 磁性層と光記録層を有する記録テープ - Google Patents
磁性層と光記録層を有する記録テープInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 新規組成の光記録層を有し、より高密度化と
高出力で高速アクセスが可能な記録テープを提供するこ
と。 【解決手段】支持体の一方の面に強磁性粉末とバインダ
ーからなる磁性層を有し、支持体の他方の面に非磁性粉
末、色素及びバインダーからなる光記録層を有すること
を特徴とする記録テープ。
高出力で高速アクセスが可能な記録テープを提供するこ
と。 【解決手段】支持体の一方の面に強磁性粉末とバインダ
ーからなる磁性層を有し、支持体の他方の面に非磁性粉
末、色素及びバインダーからなる光記録層を有すること
を特徴とする記録テープ。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁性層と光記録層
を有する記録テープに関するものであり、特に大容量の
情報が記録再生可能な記録テープに関するものである。
を有する記録テープに関するものであり、特に大容量の
情報が記録再生可能な記録テープに関するものである。
【0002】
【従来の技術】情報記録用テープは、磁気記録テープ、
光記録テープとも各々のテープ内に情報記録と位置信号
などのサーボ信号を記録面の一部で行われていた。また
レーザー光の照射により情報の記録または再生を行う光
学的情報記録媒体として各種の媒体が開発されている。
これらは記録面とサーボ信号を同一媒体で行われてい
る。トラッキング位置信号は溝やトラッキングサーボ信
号で行われており、またレーザー光のファーカシングの
ためフォーカスサーボ信号が記録される。これらは同一
ピットでも構わない。光記録はテープの高速搬送に特に
優れる。また、これらのディスク状の記録媒体よりも大
量の情報記録に適した光記録媒体として、テープ状の光
記録媒体が提案されている(特開平1−286130号
公報、同4−163736号公報、同4−163737
号公報、同6−89464号公報、同6−73958号
公報、同6−251425号公報等参照)。
光記録テープとも各々のテープ内に情報記録と位置信号
などのサーボ信号を記録面の一部で行われていた。また
レーザー光の照射により情報の記録または再生を行う光
学的情報記録媒体として各種の媒体が開発されている。
これらは記録面とサーボ信号を同一媒体で行われてい
る。トラッキング位置信号は溝やトラッキングサーボ信
号で行われており、またレーザー光のファーカシングの
ためフォーカスサーボ信号が記録される。これらは同一
ピットでも構わない。光記録はテープの高速搬送に特に
優れる。また、これらのディスク状の記録媒体よりも大
量の情報記録に適した光記録媒体として、テープ状の光
記録媒体が提案されている(特開平1−286130号
公報、同4−163736号公報、同4−163737
号公報、同6−89464号公報、同6−73958号
公報、同6−251425号公報等参照)。
【0003】このようなレーザー光の照射により情報の
記録または再生を行う光記録媒体は、通常、円板状の基
板又はテープ状の支持体上にレーザー光を吸収するため
の色素等を主成分とする光記録層が形成されており、レ
ーザー光を信号変調してこの光記録層に集光することに
より、該光記録層に信号記録パターン(いわゆるピット
またはマーク)を形成する。
記録または再生を行う光記録媒体は、通常、円板状の基
板又はテープ状の支持体上にレーザー光を吸収するため
の色素等を主成分とする光記録層が形成されており、レ
ーザー光を信号変調してこの光記録層に集光することに
より、該光記録層に信号記録パターン(いわゆるピット
またはマーク)を形成する。
【0004】また、記録されている情報の再生は、信号
記録パターン部分と信号記録パターンが形成されていな
い部分との反射率の差を検出することによって行われ
る。
記録パターン部分と信号記録パターンが形成されていな
い部分との反射率の差を検出することによって行われ
る。
【0005】このような光記録媒体は、磁気記録媒体な
どと同様に、トラックピッチを狭くすることができ、高
密度記録や信号の高速検知が可能である。これら従来の
光学的情報記録媒体は、波長780nmの赤外線レーザ
ーまたは波長630nmの赤色レーザー、波長410n
mの青色レーザーが利用されている
どと同様に、トラックピッチを狭くすることができ、高
密度記録や信号の高速検知が可能である。これら従来の
光学的情報記録媒体は、波長780nmの赤外線レーザ
ーまたは波長630nmの赤色レーザー、波長410n
mの青色レーザーが利用されている
【0006】一方、磁気記録媒体の場合、例えば、トラ
ック幅が狭くなると、磁気記録媒体が走行位置からずれ
る場合や、温度、湿度などの環境変化で支持体が伸縮し
た場合、再生ヘッドはデータ―が記録されたトラックの
最適な位置からずれて走行するため出力が低下しやす
い。そこで最近は、上記光記録媒体と同様にサーボ信号
を磁気記録媒体の磁性層に記録し、このサーボ信号によ
りヘッドの相対位置を検出しヘッドがトラックの最適な
位置を走行できるようにヘッドの位置を制御する方法が
利用されている。
ック幅が狭くなると、磁気記録媒体が走行位置からずれ
る場合や、温度、湿度などの環境変化で支持体が伸縮し
た場合、再生ヘッドはデータ―が記録されたトラックの
最適な位置からずれて走行するため出力が低下しやす
い。そこで最近は、上記光記録媒体と同様にサーボ信号
を磁気記録媒体の磁性層に記録し、このサーボ信号によ
りヘッドの相対位置を検出しヘッドがトラックの最適な
位置を走行できるようにヘッドの位置を制御する方法が
利用されている。
【0007】しかしこの方法では、磁性層側へのサーボ
信号のトラック分だけ、記録密度がすくなくなりさらに
は、磁気を使用してサーボを書き込む際に、ヘッドの目
詰まりが発生し易くなる等の問題がある。そこで、磁性
層及び光記録層を支持体の別面に設け、光記録層にサー
ボ信号を書き込むようにした記録媒体を開発するに当た
って、光記録層からの色素の脱落、光記録層から磁性層
面への写り、サーボ信号書き込み時の光記録層成分の飛
散等を防止するために保護層を設けることにより対処す
る手段が試みられているが、記録時の感度の低下、製造
工程数の増加等の欠点があり、光記録層単層で上記欠点
が克服されることが望まれている。
信号のトラック分だけ、記録密度がすくなくなりさらに
は、磁気を使用してサーボを書き込む際に、ヘッドの目
詰まりが発生し易くなる等の問題がある。そこで、磁性
層及び光記録層を支持体の別面に設け、光記録層にサー
ボ信号を書き込むようにした記録媒体を開発するに当た
って、光記録層からの色素の脱落、光記録層から磁性層
面への写り、サーボ信号書き込み時の光記録層成分の飛
散等を防止するために保護層を設けることにより対処す
る手段が試みられているが、記録時の感度の低下、製造
工程数の増加等の欠点があり、光記録層単層で上記欠点
が克服されることが望まれている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、新規組成の
光記録層を有し、より高密度化と高出力で高速アクセス
が可能な記録テープを提供することにある。
光記録層を有し、より高密度化と高出力で高速アクセス
が可能な記録テープを提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、支持体の一方
の面に強磁性粉末とバインダーからなる磁性層を有し、
支持体の他方の面に非磁性粉末、色素及びバインダーか
らなる光記録層を有することを特徴とする記録テープで
ある。また、本発明の好ましい態様は以下の通りであ
る。
の面に強磁性粉末とバインダーからなる磁性層を有し、
支持体の他方の面に非磁性粉末、色素及びバインダーか
らなる光記録層を有することを特徴とする記録テープで
ある。また、本発明の好ましい態様は以下の通りであ
る。
【0010】1 上記支持体と光記録層の間に、金属を
主成分とする反射層を設けたことを特徴とする記録テー
プ。 2 光記録層の長手方向にサーボ信号を記録することを
特徴とする磁気記録テープ 本発明は、支持体の各々の面に磁性層又は非磁性粉末、
色素及びバインダーからなる光記録層を設けことによ
り、上記目的を達成することができたものである。
主成分とする反射層を設けたことを特徴とする記録テー
プ。 2 光記録層の長手方向にサーボ信号を記録することを
特徴とする磁気記録テープ 本発明は、支持体の各々の面に磁性層又は非磁性粉末、
色素及びバインダーからなる光記録層を設けことによ
り、上記目的を達成することができたものである。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明において、磁性層厚みは、
0.05〜2μm、好ましくは0.05〜1.5μm、
更に好ましくは0.06〜1.0μmであり、光記録層
は0.01〜1μm、好ましくは0.02〜0.8μ
m、更に好ましくは0.05〜0.5μmの範囲であ
る。これら厚さの範囲とすることにより、記録媒体とヘ
ッドとの当たりが良好となり、ヘッド目詰まり等も生じ
ない。
0.05〜2μm、好ましくは0.05〜1.5μm、
更に好ましくは0.06〜1.0μmであり、光記録層
は0.01〜1μm、好ましくは0.02〜0.8μ
m、更に好ましくは0.05〜0.5μmの範囲であ
る。これら厚さの範囲とすることにより、記録媒体とヘ
ッドとの当たりが良好となり、ヘッド目詰まり等も生じ
ない。
【0012】光記録層は、色素、バインダー及び非磁性
粉末を含有する。非磁性粉末としては、例えば、CaC
O3 ;ZnO;ルチルTiO2 ;アナターゼTiO2 ;
BaSO4 が好ましいが、酸化鉄でも可能である。非磁
性粉末の平均粒子径は好ましくは10〜300nm、更
に好ましくは20〜250nmの範囲である。
粉末を含有する。非磁性粉末としては、例えば、CaC
O3 ;ZnO;ルチルTiO2 ;アナターゼTiO2 ;
BaSO4 が好ましいが、酸化鉄でも可能である。非磁
性粉末の平均粒子径は好ましくは10〜300nm、更
に好ましくは20〜250nmの範囲である。
【0013】小さすぎると光記録層面の突起が少なく走
行耐久性に不利であり、また一方大きすぎると、磁性層
面への突起の写りが発生し出力低下の原因となりやす
い。またこの光記録層表面の突起の高さを確保するため
に、粒径の異なる2種類以上のものを使用しても良い。
また、光記録層における配合量は、バインダーに対して
通常、20〜200重量%、好ましくは25〜150重
量%の範囲が挙げられる。
行耐久性に不利であり、また一方大きすぎると、磁性層
面への突起の写りが発生し出力低下の原因となりやす
い。またこの光記録層表面の突起の高さを確保するため
に、粒径の異なる2種類以上のものを使用しても良い。
また、光記録層における配合量は、バインダーに対して
通常、20〜200重量%、好ましくは25〜150重
量%の範囲が挙げられる。
【0014】このような光記録層の厚みは、通常、0.
01〜1μm、好ましくは0.02〜1μmの範囲であ
る。光記録層は、赤外線、赤色、緑色又は青色に感応す
る色素の少なくとも2つを有することが好ましい。光記
録層は、後述されるように色光(波長)に感応する色素
を含有することにより、その色光に対応して信号の記録
再生が可能となる。
01〜1μm、好ましくは0.02〜1μmの範囲であ
る。光記録層は、赤外線、赤色、緑色又は青色に感応す
る色素の少なくとも2つを有することが好ましい。光記
録層は、後述されるように色光(波長)に感応する色素
を含有することにより、その色光に対応して信号の記録
再生が可能となる。
【0015】従って、光記録手段が、赤外レーザーから
赤色レーザー、青色レーザーと変化してきたとき、光記
録層は多くのレーザー光に対応することが望まれるが、
上記種々の色素を混ぜて同一層内の光記録層に存在させ
ることが極めて有効であることが分かった。通常の混合
では若干の吸収位置シフトが生じるが問題はない。また
互いに異なる色光に感応する色素を含む単独層を多層化
する事も有効である。
赤色レーザー、青色レーザーと変化してきたとき、光記
録層は多くのレーザー光に対応することが望まれるが、
上記種々の色素を混ぜて同一層内の光記録層に存在させ
ることが極めて有効であることが分かった。通常の混合
では若干の吸収位置シフトが生じるが問題はない。また
互いに異なる色光に感応する色素を含む単独層を多層化
する事も有効である。
【0016】また、本発明の記録テープは、磁性層で情
報信号が記録され、かつ光記録層でサーボ信号が記録さ
れるか、あるいは光記録層で情報信号が記録され、かつ
磁性層でサーボ信号が記録されるが、好ましくは、前者
であり、光記録層にトラッキングサーボ信号とフォーカ
スサーボ信号が記録されることが好ましい。トラッキン
グサーボ信号は磁気信号の位置を決めるための信号であ
り、ファーカスサーボ信号はトラッキングを取るための
ピットまでの高さを決める信号である。
報信号が記録され、かつ光記録層でサーボ信号が記録さ
れるか、あるいは光記録層で情報信号が記録され、かつ
磁性層でサーボ信号が記録されるが、好ましくは、前者
であり、光記録層にトラッキングサーボ信号とフォーカ
スサーボ信号が記録されることが好ましい。トラッキン
グサーボ信号は磁気信号の位置を決めるための信号であ
り、ファーカスサーボ信号はトラッキングを取るための
ピットまでの高さを決める信号である。
【0017】本発明の磁性層に含まれる強磁性粉末は、
Feを主体の強磁性金属粉末又は六方晶フェライト粉末
が、抗磁力が高く記録密度の高密度化に優れ好ましい。
強磁性金属粉末においては、平均長軸長は、0.2μm
以下が好ましく、0.05μm以下が更に好ましく、そ
の飽和磁化(σs)は好ましくは90〜160emu/
g、抗磁力(Hc)は119000〜278500A/
mの範囲であり、また、その組成としては、Fe以外に
Coを5〜40重量% 、 Alを1〜20重量% Yを1〜10重量%
含有することが好ましい。
Feを主体の強磁性金属粉末又は六方晶フェライト粉末
が、抗磁力が高く記録密度の高密度化に優れ好ましい。
強磁性金属粉末においては、平均長軸長は、0.2μm
以下が好ましく、0.05μm以下が更に好ましく、そ
の飽和磁化(σs)は好ましくは90〜160emu/
g、抗磁力(Hc)は119000〜278500A/
mの範囲であり、また、その組成としては、Fe以外に
Coを5〜40重量% 、 Alを1〜20重量% Yを1〜10重量%
含有することが好ましい。
【0018】六方晶フェライト粉末としては、平均板径
が0.02〜0.1μmが好ましい。磁性層のバインダ
ーは、極性基含有ポリウレタン樹脂を含むことが好まし
い。また、磁性層は、モース硬度6以上の無機粉末を強
磁性粉末100重量部に対して1〜20重量部含有する
ことが好ましい。この無機粉末の平均粒子径は0.1μ〜
0.5μmで、90重量%が0.8μm以下に含まれる粒度分布
を持つことが好ましい。
が0.02〜0.1μmが好ましい。磁性層のバインダ
ーは、極性基含有ポリウレタン樹脂を含むことが好まし
い。また、磁性層は、モース硬度6以上の無機粉末を強
磁性粉末100重量部に対して1〜20重量部含有する
ことが好ましい。この無機粉末の平均粒子径は0.1μ〜
0.5μmで、90重量%が0.8μm以下に含まれる粒度分布
を持つことが好ましい。
【0019】磁性層の厚みを薄層にし、再生厚み損失の
低減を図るため、特に、支持体と磁性層の間にバインダ
ーとフィラーからなる厚みが0.1〜5μmの中間層を
設けると歩留りよく厚み0.5μm以下の磁性層を設け
ることができる。バインダーは磁性層に使用するものを
使用することができる。上記中間層において、フィラー
は無くても良いが、磁性層に用いるものを使用すること
ができる。フィラーとしては、好ましくは酸化チタン、
硫酸バリウム、破砕アルミナ、球状アルミナ、針状アル
ミナ、炭酸カルシウム、シリカ、α−酸化鉄(針状、紡
錘形状、球状のものを含む)などが用いられ、中でも酸
化チタンとα−酸化鉄が好ましい。フィラーの平均粒子
径は0.01〜1μmのものが使用できる。フィラー/
バインダー比は、重量で1/20〜20/1が好まし
い。
低減を図るため、特に、支持体と磁性層の間にバインダ
ーとフィラーからなる厚みが0.1〜5μmの中間層を
設けると歩留りよく厚み0.5μm以下の磁性層を設け
ることができる。バインダーは磁性層に使用するものを
使用することができる。上記中間層において、フィラー
は無くても良いが、磁性層に用いるものを使用すること
ができる。フィラーとしては、好ましくは酸化チタン、
硫酸バリウム、破砕アルミナ、球状アルミナ、針状アル
ミナ、炭酸カルシウム、シリカ、α−酸化鉄(針状、紡
錘形状、球状のものを含む)などが用いられ、中でも酸
化チタンとα−酸化鉄が好ましい。フィラーの平均粒子
径は0.01〜1μmのものが使用できる。フィラー/
バインダー比は、重量で1/20〜20/1が好まし
い。
【0020】光記録層に含まれる色素として、SbIn
Sn、ZrNxなどの無機色素やシアニン等の有機色素
が挙げられる。光記録層のバインダーとしては、セルロ
ースアセテートブチレート、ニトロセルロース等のセル
ロース系樹脂等の繊維素系樹脂、フェノキシ樹脂、ポリ
ウレタン樹脂等が光記録層の高感度化を達成するために
好ましい。これは、レーザー等の光照射によりピットの
開口が高感度となるためである。
Sn、ZrNxなどの無機色素やシアニン等の有機色素
が挙げられる。光記録層のバインダーとしては、セルロ
ースアセテートブチレート、ニトロセルロース等のセル
ロース系樹脂等の繊維素系樹脂、フェノキシ樹脂、ポリ
ウレタン樹脂等が光記録層の高感度化を達成するために
好ましい。これは、レーザー等の光照射によりピットの
開口が高感度となるためである。
【0021】支持体はエチレンテレフタレート(PE
T)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチ
レンテレフタレートとポリエチレンナフタレートとの混
合物、エチレンテレフタレート成分とエチレンナフタレ
ート成分とを含む共重合物)、ポリオレフィン類(ポリ
プロピレン)、セルロース誘導体類(セルロースジアセ
テート、セルローストリアセテ―ト)、ポリカーボネー
ト、ポリアミド(芳香族ポリアミド、例えば、アラミド
等)、ポリイミド(全芳香族ポリイミド)などを用いる
ことができる。
T)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチ
レンテレフタレートとポリエチレンナフタレートとの混
合物、エチレンテレフタレート成分とエチレンナフタレ
ート成分とを含む共重合物)、ポリオレフィン類(ポリ
プロピレン)、セルロース誘導体類(セルロースジアセ
テート、セルローストリアセテ―ト)、ポリカーボネー
ト、ポリアミド(芳香族ポリアミド、例えば、アラミド
等)、ポリイミド(全芳香族ポリイミド)などを用いる
ことができる。
【0022】また、支持体の表面粗さは、両面とも中心
面平均表面粗さ(Ra)で5nm以下であることが好ま
しい。Raは、WYKO社製TOPO3Dを用いて、M
IRAU法で約250μm×250μmの面積を測定し
て求める。測定波長約650nmにて球面補正、円筒補正
を加えている。本方式は光干渉にて測定する非接触表面
粗さ計である。
面平均表面粗さ(Ra)で5nm以下であることが好ま
しい。Raは、WYKO社製TOPO3Dを用いて、M
IRAU法で約250μm×250μmの面積を測定し
て求める。測定波長約650nmにて球面補正、円筒補正
を加えている。本方式は光干渉にて測定する非接触表面
粗さ計である。
【0023】これらの中でポリエチレンテレフタレート
(PET)、PEN、アラミドが好ましい。支持体の厚
みは特に制限はないが2〜10μm(更に好ましくは3
〜7μm、特に好ましくは5〜6.5μm)の範囲にあ
ることが好ましい。総厚の薄い記録テープとした場合に
は、PEN、アラミドが好ましい。この支持体は、予め
反射層としての機能を持たせても良い。そのための支持
体上に金属を含有する層を形成することが挙げられる。
このような金属としては、Mg、Se、Y、Ti、Z
r、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、R
e、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、P
t、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、I
n、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの
金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることがで
きる。これらのうちで好ましいものは、Cr、Ni、P
t、Cu、Ag、Au、Alおよびステンレス鋼であ
る。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二
種以上の組合せて、または合金として用いてもよい。特
に好ましくはAuである。
(PET)、PEN、アラミドが好ましい。支持体の厚
みは特に制限はないが2〜10μm(更に好ましくは3
〜7μm、特に好ましくは5〜6.5μm)の範囲にあ
ることが好ましい。総厚の薄い記録テープとした場合に
は、PEN、アラミドが好ましい。この支持体は、予め
反射層としての機能を持たせても良い。そのための支持
体上に金属を含有する層を形成することが挙げられる。
このような金属としては、Mg、Se、Y、Ti、Z
r、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、R
e、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、P
t、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、I
n、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの
金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることがで
きる。これらのうちで好ましいものは、Cr、Ni、P
t、Cu、Ag、Au、Alおよびステンレス鋼であ
る。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二
種以上の組合せて、または合金として用いてもよい。特
に好ましくはAuである。
【0024】光反射層は、例えば、上記光反射性物質を
蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングする
ことにより支持体と光記録層の間、好ましくは支持体上
に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には
10〜800nmの範囲にあり、好ましくは20〜50
0nmの範囲、更に好ましくは50〜300nmの範囲
である。
蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングする
ことにより支持体と光記録層の間、好ましくは支持体上
に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には
10〜800nmの範囲にあり、好ましくは20〜50
0nmの範囲、更に好ましくは50〜300nmの範囲
である。
【0025】また、支持体のMD(長手方向)とTD
(幅方向)のF5値は、8〜15Kg/mm2 が好まし
い。支持体のMDとTDの熱収縮率は、0.1〜0.6
%が好ましい。支持体の厚みは1〜20μmが好まし
い。光記録層にサーボ信号を書き込む場合、書き込みは
レーザーアレイ(並列)、シングル(1本)、マルチ
(複数本)タイプなどいろいろなものが可能である。フ
ォーカスサーボでピットに対する高さ決めを行い、トラ
ッキングは位置を決めるもので長手方向のピットを走査
する時、ピットの最大面積をトレースして最適値を取る
方法や、ある走査角のときのピットの信号の最大面積値
を検出する方法など特に制限されない。
(幅方向)のF5値は、8〜15Kg/mm2 が好まし
い。支持体のMDとTDの熱収縮率は、0.1〜0.6
%が好ましい。支持体の厚みは1〜20μmが好まし
い。光記録層にサーボ信号を書き込む場合、書き込みは
レーザーアレイ(並列)、シングル(1本)、マルチ
(複数本)タイプなどいろいろなものが可能である。フ
ォーカスサーボでピットに対する高さ決めを行い、トラ
ッキングは位置を決めるもので長手方向のピットを走査
する時、ピットの最大面積をトレースして最適値を取る
方法や、ある走査角のときのピットの信号の最大面積値
を検出する方法など特に制限されない。
【0026】本発明の記録媒体の総厚みは、10μm未
満であることが好ましい。該厚みを薄くすることは記録
密度、特に記録体積密度を向上させるために好ましい。
本発明の記録媒体は、磁性層形成用塗布液と光記録層形
成用塗布液を支持体の異なる面上に順次に塗布すること
により、1回の工程で本発明の記録媒体を製造できるの
で、極めて効率的で生産性に優れる。尚、磁性層を塗布
法以外で形成すると、磁性層形成工程と光記録層形成工
程の少なくとも2工程が必要であり、蒸着法で磁性層を
形成する場合、通常、保護層乃至潤滑剤は必須であるか
ら、更に1乃至2工程必要で、3〜4工程要してしま
い、効率が本発明に比べて著しく劣る。
満であることが好ましい。該厚みを薄くすることは記録
密度、特に記録体積密度を向上させるために好ましい。
本発明の記録媒体は、磁性層形成用塗布液と光記録層形
成用塗布液を支持体の異なる面上に順次に塗布すること
により、1回の工程で本発明の記録媒体を製造できるの
で、極めて効率的で生産性に優れる。尚、磁性層を塗布
法以外で形成すると、磁性層形成工程と光記録層形成工
程の少なくとも2工程が必要であり、蒸着法で磁性層を
形成する場合、通常、保護層乃至潤滑剤は必須であるか
ら、更に1乃至2工程必要で、3〜4工程要してしま
い、効率が本発明に比べて著しく劣る。
【0027】以下、更に、本発明を詳細を説明する。初
めに光記録層について説明する。光記録層に含まれ得る
色素として、有機系色素を用いた場合を以下、説明する
が、無機系化合物を用いた場合もその機能は同様であ
る。色素は、信号の記録に用いる光を吸収し得る吸収ス
ペクトルを示し、例えば、シアニン色素、メロシアニン
色素、オキソノール色素、アゾメチン色素、アゾ色素、
フタロシアニン色素、ピリリウム系・チオピリリウム系
色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム色素、N
i、Crなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アン
トラキノン系色素、インドフェノール色素、シンドアニ
リン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメ
タン系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及び
ニトロソ化合物、及びこれらの色素構造を配位子として
有する金属錯体等があり、少なくとも1種を用いること
ができるが、異なる色光に対して感応な互いに異なる色
素を2つ以上光記録層に含まれることが好ましい。
めに光記録層について説明する。光記録層に含まれ得る
色素として、有機系色素を用いた場合を以下、説明する
が、無機系化合物を用いた場合もその機能は同様であ
る。色素は、信号の記録に用いる光を吸収し得る吸収ス
ペクトルを示し、例えば、シアニン色素、メロシアニン
色素、オキソノール色素、アゾメチン色素、アゾ色素、
フタロシアニン色素、ピリリウム系・チオピリリウム系
色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム色素、N
i、Crなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アン
トラキノン系色素、インドフェノール色素、シンドアニ
リン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメ
タン系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及び
ニトロソ化合物、及びこれらの色素構造を配位子として
有する金属錯体等があり、少なくとも1種を用いること
ができるが、異なる色光に対して感応な互いに異なる色
素を2つ以上光記録層に含まれることが好ましい。
【0028】なおこれらの色素は単独で用いても、ある
いは2種類以上の混合物として用いても良い。またシアニン
系色素を用いる場合には、上記金属錯塩系色素または、
アミニウム系・ジインモニウム系色素をクエンチャーと
して金属錯塩系色素などを全色素1モルに対して0.0
01〜0.1モル含むことが好ましい。シアニン色素の
具体例として、下記式(a)の化合物が挙げられる。
いは2種類以上の混合物として用いても良い。またシアニン
系色素を用いる場合には、上記金属錯塩系色素または、
アミニウム系・ジインモニウム系色素をクエンチャーと
して金属錯塩系色素などを全色素1モルに対して0.0
01〜0.1モル含むことが好ましい。シアニン色素の
具体例として、下記式(a)の化合物が挙げられる。
【0029】
【化1】
【0030】式(a)中、R1 は、炭素原子数1〜10
のアルキル基であり、X- は対アニオンを示す。例え
ば、Cl- 、ClO4 - 、Br- 、BF4 - 、CF3 S
O3 -などがある。nは0〜4の正数である。特に、R
1 としては、例えば、メチル基、エチル基、n−ブチル
基、イソブチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられ
る。特に、R1 がn−ブチル基であるものは、溶解度が
高く塗布液を調製し易い点で、好ましい。また、式
(a)において、nが下記に示す値の場合には、それぞ
れ下記の波長のレーザーを用いる場合に有効である。以
下、レーザー光を用いた場合を説明する。
のアルキル基であり、X- は対アニオンを示す。例え
ば、Cl- 、ClO4 - 、Br- 、BF4 - 、CF3 S
O3 -などがある。nは0〜4の正数である。特に、R
1 としては、例えば、メチル基、エチル基、n−ブチル
基、イソブチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられ
る。特に、R1 がn−ブチル基であるものは、溶解度が
高く塗布液を調製し易い点で、好ましい。また、式
(a)において、nが下記に示す値の場合には、それぞ
れ下記の波長のレーザーを用いる場合に有効である。以
下、レーザー光を用いた場合を説明する。
【0031】 n=0 波長423±25nm n=1 波長557±25nm n=2 波長650±25nm n=3 波長758±25nm
【0032】光記録層は、感応するレーザー光に対応し
て、前記色素が、適宜、選択されて含有される。例え
ば、赤外線に感応する赤外感応の光記録層を形成する場
合は、式(a)中nが3である化合物である。また、赤
色感応の光記録層を形成する場合は、式(a)中nが2
である化合物である。さらに、青色感応の光記録層を形
成する場合は、式(a)中nが0である化合物である。
て、前記色素が、適宜、選択されて含有される。例え
ば、赤外線に感応する赤外感応の光記録層を形成する場
合は、式(a)中nが3である化合物である。また、赤
色感応の光記録層を形成する場合は、式(a)中nが2
である化合物である。さらに、青色感応の光記録層を形
成する場合は、式(a)中nが0である化合物である。
【0033】光記録層は、これらの色素を固体分散物と
して含有するものが好ましい。ここで、固体分散物と
は、顔料分散物といってもよいものである。一般に、色
素溶液は色素化合物が溶媒等の媒質中に孤立した分子と
して存在するが、固体分散物中では色素の細かい固体
(微結晶)が媒質中に懸濁あるいは分散されているもの
である。両者の違いは、例えば、X線を照射した時に規
則的な結晶中の分子配列に由来する回折の有無で判断す
ることができる。
して含有するものが好ましい。ここで、固体分散物と
は、顔料分散物といってもよいものである。一般に、色
素溶液は色素化合物が溶媒等の媒質中に孤立した分子と
して存在するが、固体分散物中では色素の細かい固体
(微結晶)が媒質中に懸濁あるいは分散されているもの
である。両者の違いは、例えば、X線を照射した時に規
則的な結晶中の分子配列に由来する回折の有無で判断す
ることができる。
【0034】本発明において、光記録層中に固体分散物
として分散された色素の大きさは、情報の記録に用いら
れるレーザービームと同程度以上になるとノイズが大き
くなるので、0.1μm以上の粒径の粒子を含まないこ
とが重要である。
として分散された色素の大きさは、情報の記録に用いら
れるレーザービームと同程度以上になるとノイズが大き
くなるので、0.1μm以上の粒径の粒子を含まないこ
とが重要である。
【0035】光記録層のバインダーは、実質的に情報の
記録に用いられるレーザー光を吸収しないものであり、
かつ前記色素や退色防止剤などが結晶化せずに非晶質状
態を保ち易くするために用いられる。このようなバイン
ダーの例としては、ゼラチン、デキストラン、ロジン、
ゴム等の天然高分子物質、セルロースあるいはニトロセ
ルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートブチレート等のセルロース誘
導体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、
ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビ
ニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリルアミド、
ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のア
クリル樹脂、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、塩
素化ポリオレフィン、ポリイミドまたはその部分下垂分
解物であるポリイミド酸、ポリスチレン、エポキシ樹
脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール−ホルム
アルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期重合物等の合成
高分子物質などを挙げることができる。
記録に用いられるレーザー光を吸収しないものであり、
かつ前記色素や退色防止剤などが結晶化せずに非晶質状
態を保ち易くするために用いられる。このようなバイン
ダーの例としては、ゼラチン、デキストラン、ロジン、
ゴム等の天然高分子物質、セルロースあるいはニトロセ
ルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートブチレート等のセルロース誘
導体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、
ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビ
ニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリルアミド、
ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のア
クリル樹脂、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、塩
素化ポリオレフィン、ポリイミドまたはその部分下垂分
解物であるポリイミド酸、ポリスチレン、エポキシ樹
脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール−ホルム
アルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期重合物等の合成
高分子物質などを挙げることができる。
【0036】本発明の記録テープにおいて、光記録層中
の色素/バインダーの含有割合は、重量比で、通常、
0.1〜100の範囲であり、好ましくは0.5〜20
の範囲である。一般に、光記録層における光エネルギー
の吸収量は色素の含有量が多いほど大である。バインダ
ーが多くなると膜厚が大となり、情報の記録時に光記録
層を変形させるに要するエネルギーが増大し、感度が低
下する。あるいは膜厚が厚くなるほど塗膜の平滑性が低
下しノイズが大となる。したがって、バインダーの量は
色素の固定性を損なわない限り少ない方が好ましいの
で、色素/バインダーの重量比が前記範囲にあることが
好ましい。また、赤外感応の光記録層においては、色素
/バインダーの含有割合は、好ましくは0.5〜10の
範囲である。また、赤色感応の光記録層においては、色
素/バインダーの含有割合は、好ましくは0.5〜20
の範囲である。さらに、青色感応の光記録層において
は、色素/バインダーの含有割合は、好ましくは1〜2
0の範囲である。
の色素/バインダーの含有割合は、重量比で、通常、
0.1〜100の範囲であり、好ましくは0.5〜20
の範囲である。一般に、光記録層における光エネルギー
の吸収量は色素の含有量が多いほど大である。バインダ
ーが多くなると膜厚が大となり、情報の記録時に光記録
層を変形させるに要するエネルギーが増大し、感度が低
下する。あるいは膜厚が厚くなるほど塗膜の平滑性が低
下しノイズが大となる。したがって、バインダーの量は
色素の固定性を損なわない限り少ない方が好ましいの
で、色素/バインダーの重量比が前記範囲にあることが
好ましい。また、赤外感応の光記録層においては、色素
/バインダーの含有割合は、好ましくは0.5〜10の
範囲である。また、赤色感応の光記録層においては、色
素/バインダーの含有割合は、好ましくは0.5〜20
の範囲である。さらに、青色感応の光記録層において
は、色素/バインダーの含有割合は、好ましくは1〜2
0の範囲である。
【0037】光記録層には、光記録層に含有される前記
の色素の光退色を防止する目的で一重項酸素クエンチャ
ーを添加することが好ましい。この一重項酸素クエンチ
ャーとしては、例えば米国特許第4,999,281号
公報、特開昭59−178295号公報などに記載され
たクエンチャー、特開平6−321872号公報に記載
されたアミニウム化合物等が挙げられる。
の色素の光退色を防止する目的で一重項酸素クエンチャ
ーを添加することが好ましい。この一重項酸素クエンチ
ャーとしては、例えば米国特許第4,999,281号
公報、特開昭59−178295号公報などに記載され
たクエンチャー、特開平6−321872号公報に記載
されたアミニウム化合物等が挙げられる。
【0038】本発明の記録テープにおいて、光記録層
は、異なる色光に感応する層を二層以上有し、該層の間
に、中間層を少なくとも1つ有するものが好ましい。こ
の中間層は、信号を記録または再生するために用いられ
るレーザー光により、信号の記録単位であるピットの変
形を防止する役割を有するものである。
は、異なる色光に感応する層を二層以上有し、該層の間
に、中間層を少なくとも1つ有するものが好ましい。こ
の中間層は、信号を記録または再生するために用いられ
るレーザー光により、信号の記録単位であるピットの変
形を防止する役割を有するものである。
【0039】本発明の記録テープが、青色感応の光記録
層と赤外感応の光記録層を併有する場合、青色感応の光
記録層の下層に中間層を配置し、情報を記録または再生
するために青色感応の光記録層に入射される青色レーザ
ーによって、その下層の赤外感応の光記録層が感応する
の防止するために、中間層に黄色フィルターとしての役
割を併有させると、有効である。
層と赤外感応の光記録層を併有する場合、青色感応の光
記録層の下層に中間層を配置し、情報を記録または再生
するために青色感応の光記録層に入射される青色レーザ
ーによって、その下層の赤外感応の光記録層が感応する
の防止するために、中間層に黄色フィルターとしての役
割を併有させると、有効である。
【0040】この中間層を形成する素材としては、バイ
ンダー、低融点油状物質、染料、顔料等が挙げられる。
特に、中間層が黄色フィルターの役割を有する場合に
は、黄色染料を含有することが好ましい。
ンダー、低融点油状物質、染料、顔料等が挙げられる。
特に、中間層が黄色フィルターの役割を有する場合に
は、黄色染料を含有することが好ましい。
【0041】この中間層の厚さは、通常、0.05〜
0.2μm、好ましくは0.1〜0.2μmである。ピ
ットの変形を防止するためには、厚さが0.05μm以
上の中間層が好ましく、下層に赤色感応の光記録層を配
設する場合には、赤色感応の光記録層の赤色感度を低下
させないために、中間層の厚さは0.2μm以下である
ことが好ましい。
0.2μm、好ましくは0.1〜0.2μmである。ピ
ットの変形を防止するためには、厚さが0.05μm以
上の中間層が好ましく、下層に赤色感応の光記録層を配
設する場合には、赤色感応の光記録層の赤色感度を低下
させないために、中間層の厚さは0.2μm以下である
ことが好ましい。
【0042】本発明の記録テープが、青色感応の光記録
層を有する場合には、青色感応の光記録層を最上層と
し、その下に中間層を介して緑色感応の光記録層、赤色
感応の光記録層および/または赤外感応の光記録層を積
層する構成が好ましい。特に、青色感応の光記録層と、
緑色感応の光記録層、赤色感応の光記録層、および赤外
感応の光記録層を有する記録テープの場合には、青色感
応の光記録層を最上層とし、その下に黄色フィルターの
役割を有する中間層を介して、緑色感応の光記録層、赤
色感応の光記録層、赤外感応の光記録層の順に積層する
層構成が好ましい。
層を有する場合には、青色感応の光記録層を最上層と
し、その下に中間層を介して緑色感応の光記録層、赤色
感応の光記録層および/または赤外感応の光記録層を積
層する構成が好ましい。特に、青色感応の光記録層と、
緑色感応の光記録層、赤色感応の光記録層、および赤外
感応の光記録層を有する記録テープの場合には、青色感
応の光記録層を最上層とし、その下に黄色フィルターの
役割を有する中間層を介して、緑色感応の光記録層、赤
色感応の光記録層、赤外感応の光記録層の順に積層する
層構成が好ましい。
【0043】本発明の記録テープにおいて、最上層の光
記録層の表面の中心面平均表面粗さ(Ra)は、記録再
生光の散乱を防ぐため平滑性が高い必要があることか
ら、通常、1〜500nm、好ましくは1〜30nmで
ある。
記録層の表面の中心面平均表面粗さ(Ra)は、記録再
生光の散乱を防ぐため平滑性が高い必要があることか
ら、通常、1〜500nm、好ましくは1〜30nmで
ある。
【0044】一般に、情報の記録または読取りに用いる
反射光は、入射面からの反射と支持体面からの反射光と
が重なった光である。したがって、光の波長と膜厚に依
存して互いに干渉する。そのため、レーザービームを照
射して光記録層を変形させた時に、この干渉の関係が大
きく変化すれば信号強度は大きくなって好ましい。した
がって、層の厚さを情報の記録または読取りに用いるレ
ーザービームの波長の1/4n(但し、nは光記録層の
屈折率を示す)、の整数倍、例えば、赤外線レーザーを
用いる場合は、赤外線の波長780nm前後の1/4程
度に設定しておくと、記録層の変形に伴う光の干渉の変
化が大きくなるので、記録層厚さを50〜250nmと
するのが好ましい。また、平滑性を付与しやすい点で
も、あまり厚くなく、この程度の厚さが好ましい。ま
た、赤色感応の光記録層の場合には、好ましくは40〜
200nmである。さらに青色感応の光記録層の場合に
は、好ましくは30〜150nmである。
反射光は、入射面からの反射と支持体面からの反射光と
が重なった光である。したがって、光の波長と膜厚に依
存して互いに干渉する。そのため、レーザービームを照
射して光記録層を変形させた時に、この干渉の関係が大
きく変化すれば信号強度は大きくなって好ましい。した
がって、層の厚さを情報の記録または読取りに用いるレ
ーザービームの波長の1/4n(但し、nは光記録層の
屈折率を示す)、の整数倍、例えば、赤外線レーザーを
用いる場合は、赤外線の波長780nm前後の1/4程
度に設定しておくと、記録層の変形に伴う光の干渉の変
化が大きくなるので、記録層厚さを50〜250nmと
するのが好ましい。また、平滑性を付与しやすい点で
も、あまり厚くなく、この程度の厚さが好ましい。ま
た、赤色感応の光記録層の場合には、好ましくは40〜
200nmである。さらに青色感応の光記録層の場合に
は、好ましくは30〜150nmである。
【0045】本発明の記録テープにおいて、情報の記録
時などに発生する熱は光記録層の変形(色素の熱分解を
含む)に使われる。構成要素の熱伝導率は低い方が熱が
有効に使われるので好ましい。一般に空気の方が固体よ
り熱伝導率が低いので保護層などを設けない方が熱の利
用効率は高く、記録感度が高くなる。ただし傷つきにく
さなど機械的な強度、光記録層成分の飛散防止等との兼
ね合いで、光記録層上に保護層が設けられるのが一般的
であるが、本発明は、光記録層の組成を特定することに
より、上記障害をできるだけ抑制すると共に記録感度を
最大限に確保しようとするものである。
時などに発生する熱は光記録層の変形(色素の熱分解を
含む)に使われる。構成要素の熱伝導率は低い方が熱が
有効に使われるので好ましい。一般に空気の方が固体よ
り熱伝導率が低いので保護層などを設けない方が熱の利
用効率は高く、記録感度が高くなる。ただし傷つきにく
さなど機械的な強度、光記録層成分の飛散防止等との兼
ね合いで、光記録層上に保護層が設けられるのが一般的
であるが、本発明は、光記録層の組成を特定することに
より、上記障害をできるだけ抑制すると共に記録感度を
最大限に確保しようとするものである。
【0046】本発明の記録テープにおいて、光記録層に
は、潤滑剤、分散剤、帯電防止剤、表面処理剤、酸化防
止剤、防黴剤等の一般的な光記録媒体に形成する層に添
加される各種添加剤を適宜添加することができる。例え
ば、滑り性を向上させる目的で、シリコンまたはフッ素
を含有するポリマー、界面活性剤などを含んでもよい。
は、潤滑剤、分散剤、帯電防止剤、表面処理剤、酸化防
止剤、防黴剤等の一般的な光記録媒体に形成する層に添
加される各種添加剤を適宜添加することができる。例え
ば、滑り性を向上させる目的で、シリコンまたはフッ素
を含有するポリマー、界面活性剤などを含んでもよい。
【0047】本発明の記録テープは、光記録層と支持体
との間に反射層を有していてもよい。この反射層は、前
述したように金、アルミニウム等の金属からなるもので
あってもよいし、あるいは特開平4−3345号公報に
記載されたような有機化合物からなるものであってもよ
い。また、屈折率の異なる材質の層を積層して反射層と
してもよいし、さらに、特開平2−2088683号公
報に記載されたような非金属色素からなる反射層であっ
てもよい。これらの中でも、製造コストの点で、あるい
は他の層との混合の懸念がない点で金属製の反射膜が好
ましい。材質としては、蒸着によって容易に設置でき、
価格も低いアルミニウムが好ましいが、金、銀など近赤
外域の反射率が高い他の金属も好ましく利用できる。
との間に反射層を有していてもよい。この反射層は、前
述したように金、アルミニウム等の金属からなるもので
あってもよいし、あるいは特開平4−3345号公報に
記載されたような有機化合物からなるものであってもよ
い。また、屈折率の異なる材質の層を積層して反射層と
してもよいし、さらに、特開平2−2088683号公
報に記載されたような非金属色素からなる反射層であっ
てもよい。これらの中でも、製造コストの点で、あるい
は他の層との混合の懸念がない点で金属製の反射膜が好
ましい。材質としては、蒸着によって容易に設置でき、
価格も低いアルミニウムが好ましいが、金、銀など近赤
外域の反射率が高い他の金属も好ましく利用できる。
【0048】本発明の記録テープにおいては、支持体を
介して光記録層の反対側に、情報の記録または読取りに
用いられる光を吸収する反射防止層を有すると、好まし
い場合がある。この反射防止層の材質および層構成とし
ては、カーボンブラックと適当なバインダーとの組み合
わせ、あるいは情報の記録または再生に用いるレーザー
の波長の光を吸収する染料や顔料とバインダーとの組み
合わせからなるものが好ましい。
介して光記録層の反対側に、情報の記録または読取りに
用いられる光を吸収する反射防止層を有すると、好まし
い場合がある。この反射防止層の材質および層構成とし
ては、カーボンブラックと適当なバインダーとの組み合
わせ、あるいは情報の記録または再生に用いるレーザー
の波長の光を吸収する染料や顔料とバインダーとの組み
合わせからなるものが好ましい。
【0049】本発明の記録テープにおいて、この反射防
止層は、支持体の表面に形成し、通常、その上に磁性層
が積層される。その理由は市販のアルミ蒸着フィルムを
そのまま用いることができ、コスト的に有利であるから
である。
止層は、支持体の表面に形成し、通常、その上に磁性層
が積層される。その理由は市販のアルミ蒸着フィルムを
そのまま用いることができ、コスト的に有利であるから
である。
【0050】本発明は、光記録層に潤滑剤を用いること
が好ましい。この潤滑剤は、一連の製造処理工程、例え
ばスリット工程や記録再生装置内でテープ状の記録媒体
を走行させると、テープの機器との接触あるいはテープ
表裏の接触により光記録層等が傷つきバインダー屑が発
生する。バインダー屑は機器とテープの間にはさまれて
更にテープ表面を傷つけたり、光記録層の表面に付着し
て信号入出力時にノイズを引き起こしたりするなど非常
に深刻な問題となる。そこで、滑り剤は、テープ走行時
に生じるテープの傷つきやバインダー屑の発生を抑える
ため、およびテープ走行性を改良するために用いられ
る。
が好ましい。この潤滑剤は、一連の製造処理工程、例え
ばスリット工程や記録再生装置内でテープ状の記録媒体
を走行させると、テープの機器との接触あるいはテープ
表裏の接触により光記録層等が傷つきバインダー屑が発
生する。バインダー屑は機器とテープの間にはさまれて
更にテープ表面を傷つけたり、光記録層の表面に付着し
て信号入出力時にノイズを引き起こしたりするなど非常
に深刻な問題となる。そこで、滑り剤は、テープ走行時
に生じるテープの傷つきやバインダー屑の発生を抑える
ため、およびテープ走行性を改良するために用いられ
る。
【0051】好ましく用いられる潤滑剤としては、例え
ば、特公昭53−242号公報に開示されているような
ポリオルガノシロキサン、米国特許第4,275,14
6号明細書に記載されているような高級脂肪酸アミド、
特公昭58−33541号公報、英国特許第927,4
46号明細書、或いは特開昭55−126238号公
報、及び同58−90633号公報に開示されているよ
うな高級脂肪酸エステル(炭素数10〜24の脂肪酸と
炭素数10〜24のアルコールのエステル)、そして、
米国特許第3,933,516号明細書に記載されてい
るような高級脂肪酸金属塩、また、特開昭58−505
34号公報に記載されているような、直鎖高級脂肪酸と
直鎖高級アルコールのエステル、国際公開公報第901
08115.8号に記載されているような分岐アルキル
基を含む高級脂肪酸−高級アルコールエステル等があげ
られる。
ば、特公昭53−242号公報に開示されているような
ポリオルガノシロキサン、米国特許第4,275,14
6号明細書に記載されているような高級脂肪酸アミド、
特公昭58−33541号公報、英国特許第927,4
46号明細書、或いは特開昭55−126238号公
報、及び同58−90633号公報に開示されているよ
うな高級脂肪酸エステル(炭素数10〜24の脂肪酸と
炭素数10〜24のアルコールのエステル)、そして、
米国特許第3,933,516号明細書に記載されてい
るような高級脂肪酸金属塩、また、特開昭58−505
34号公報に記載されているような、直鎖高級脂肪酸と
直鎖高級アルコールのエステル、国際公開公報第901
08115.8号に記載されているような分岐アルキル
基を含む高級脂肪酸−高級アルコールエステル等があげ
られる。
【0052】また、滑り剤として、キャンデリラワック
ス、カルナウバワックス、オウリキュリーワックス、ラ
イスワックス、砂糖ろう、木ろう、蜜ろう、鯨ろう、シ
ナ昆虫ろう、セラックろう、モンタンろう等の天然ワッ
クスも好ましく用いることができる。
ス、カルナウバワックス、オウリキュリーワックス、ラ
イスワックス、砂糖ろう、木ろう、蜜ろう、鯨ろう、シ
ナ昆虫ろう、セラックろう、モンタンろう等の天然ワッ
クスも好ましく用いることができる。
【0053】テープ状の記録媒体の光記録層が、潤滑剤
を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、
十分な耐傷性、滑り性を発現するためには、1〜500
mg/m2 であればよく、好ましくは3〜200mg/
m2 、特に好ましくは5〜100mg/m2 である。
を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、
十分な耐傷性、滑り性を発現するためには、1〜500
mg/m2 であればよく、好ましくは3〜200mg/
m2 、特に好ましくは5〜100mg/m2 である。
【0054】本発明の記録テープにおいて、潤滑剤を含
有する層には種々の添加剤を加えることができる。例え
ば、10〜22個の炭素原子を有する一塩基脂肪酸(飽
和、不飽和、Li,Na,K,Cu塩を含む)、2〜2
2個の炭素原子を有する1〜6価のアルコール(飽和、
不飽和を含む)、12〜22個の炭素原子を有するアル
コキシアルコール(飽和、不飽和を含む)、12〜22
個の炭素原子を有する一塩基脂肪酸のエステル(飽和、
不飽和を含む)、8〜22個の炭素原子を有する脂肪酸
アミド等があげられる。これらの化合物の具体例として
は、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、ベヘニン酸、オレイン酸、リノレン酸、ステア
リン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イ
ソオクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸ブトキ
シエチル、オレイルアルコール、ラウリルアルコールな
どがあげられる。
有する層には種々の添加剤を加えることができる。例え
ば、10〜22個の炭素原子を有する一塩基脂肪酸(飽
和、不飽和、Li,Na,K,Cu塩を含む)、2〜2
2個の炭素原子を有する1〜6価のアルコール(飽和、
不飽和を含む)、12〜22個の炭素原子を有するアル
コキシアルコール(飽和、不飽和を含む)、12〜22
個の炭素原子を有する一塩基脂肪酸のエステル(飽和、
不飽和を含む)、8〜22個の炭素原子を有する脂肪酸
アミド等があげられる。これらの化合物の具体例として
は、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、ベヘニン酸、オレイン酸、リノレン酸、ステア
リン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イ
ソオクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸ブトキ
シエチル、オレイルアルコール、ラウリルアルコールな
どがあげられる。
【0055】本発明において、潤滑剤を含有する層を形
成する場合には、前記各層を形成するために用いられる
塗布液に前記潤滑剤の分散、または溶解させて用いるこ
とができる。潤滑剤を分散または溶解させるための溶媒
としては、潤滑剤の分散安定性、または溶解性を悪化さ
せないものであれば良く、例えば、水、各種界面活性剤
を含有した水、アルコール類(メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ブタノールなど)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンな
ど)、エステル類(酢酸、蟻酸、シュウ酸、マレイン
酸、コハク酸などのメチル、エチル、プロピル、ブチル
エステルなど)、炭化水素系(ヘキサン、シクロヘキサ
ンなど)、ハロゲン化炭化水素系(メチレンクロライ
ド、クロロホルム、四塩化炭素など)、芳香族炭化水素
系(ベンゼン、トルエン、キシレン、ベンジルアルコー
ル、安息香酸、アニソールなど)、アミド系(ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロ
リドンなど)、エーテル系(ジエチルエーテル、ジオキ
サン、テトラハイドロフランなど)、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルなどのエーテルアルコール類、
グリセリン、ジエチレングリコール、ジメチルスルホキ
シド等がある。この中でも水、各種界面活性剤を含有し
た水、アルコール類、ケトン類、エステル類が好まし
い。
成する場合には、前記各層を形成するために用いられる
塗布液に前記潤滑剤の分散、または溶解させて用いるこ
とができる。潤滑剤を分散または溶解させるための溶媒
としては、潤滑剤の分散安定性、または溶解性を悪化さ
せないものであれば良く、例えば、水、各種界面活性剤
を含有した水、アルコール類(メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ブタノールなど)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンな
ど)、エステル類(酢酸、蟻酸、シュウ酸、マレイン
酸、コハク酸などのメチル、エチル、プロピル、ブチル
エステルなど)、炭化水素系(ヘキサン、シクロヘキサ
ンなど)、ハロゲン化炭化水素系(メチレンクロライ
ド、クロロホルム、四塩化炭素など)、芳香族炭化水素
系(ベンゼン、トルエン、キシレン、ベンジルアルコー
ル、安息香酸、アニソールなど)、アミド系(ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロ
リドンなど)、エーテル系(ジエチルエーテル、ジオキ
サン、テトラハイドロフランなど)、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルなどのエーテルアルコール類、
グリセリン、ジエチレングリコール、ジメチルスルホキ
シド等がある。この中でも水、各種界面活性剤を含有し
た水、アルコール類、ケトン類、エステル類が好まし
い。
【0056】本発明の記録テープにおいては、光記録層
は、記録又は再生に用いる光に対して、反射率15%以
上、透過率30%以下であることが好ましい。反射率が
低いと読取り信号が弱く、C/Nが低くなる。吸収透過
率が高いと記録感度が低くなる。
は、記録又は再生に用いる光に対して、反射率15%以
上、透過率30%以下であることが好ましい。反射率が
低いと読取り信号が弱く、C/Nが低くなる。吸収透過
率が高いと記録感度が低くなる。
【0057】本発明の光記録層が複層の場合は、支持体
上に各層を所定の順序、所定の膜厚で形成される。支持
体上に前記の各層を形成する方法としては、層の構成成
分を含有する塗布液を塗布して、順次、又は同時に各層
を形成する方法が挙げられる。ディスク状の支持体上に
各層を形成する方法としては、スピンコート法、スライ
ドコート法、カーテンコート法、エクストルージョンコ
ート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ス
プレイコート法等の方法が挙げられる。
上に各層を所定の順序、所定の膜厚で形成される。支持
体上に前記の各層を形成する方法としては、層の構成成
分を含有する塗布液を塗布して、順次、又は同時に各層
を形成する方法が挙げられる。ディスク状の支持体上に
各層を形成する方法としては、スピンコート法、スライ
ドコート法、カーテンコート法、エクストルージョンコ
ート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ス
プレイコート法等の方法が挙げられる。
【0058】また、特に、生産性と膜厚の精度の観点か
ら、薄層の塗布が可能で、かつ充分均一な塗膜を形成で
きる方法として、写真感光材料の製造に広く用いられて
いるスライドコーター、カーテンコーター、エクストル
ージョンコーター、ワイヤーバーコーター、グラビアコ
ーターを用いる塗布方法が好ましい。各層の塗布は、ス
ライドコーター、カーテンコーター、エクストルージョ
ンコーターを用いて、一層づつ逐次的に塗布するか、あ
るいは複数の層を同時に塗布することもできる。塗布速
度は、例えば毎分1メートル〜1000メートルの広い
範囲で選択し得るが、塗布面質の均一性と塗布速度の安
定性を維持し易い毎分10メートル〜200メートルが
好ましい。
ら、薄層の塗布が可能で、かつ充分均一な塗膜を形成で
きる方法として、写真感光材料の製造に広く用いられて
いるスライドコーター、カーテンコーター、エクストル
ージョンコーター、ワイヤーバーコーター、グラビアコ
ーターを用いる塗布方法が好ましい。各層の塗布は、ス
ライドコーター、カーテンコーター、エクストルージョ
ンコーターを用いて、一層づつ逐次的に塗布するか、あ
るいは複数の層を同時に塗布することもできる。塗布速
度は、例えば毎分1メートル〜1000メートルの広い
範囲で選択し得るが、塗布面質の均一性と塗布速度の安
定性を維持し易い毎分10メートル〜200メートルが
好ましい。
【0059】本発明において光記録層を塗布によって形
成する際に調製する塗布液は、水、有機溶媒、あるいは
これらの混合物に塗布すべき素材を溶解もしくは分散し
て調製する。例えば、溶媒としては、ケトン類(例えば
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセトン)、
アルコール類(例えばエタノール、ブタノール、シクロ
ヘキサノール、ジアセトンアルコール、2,2,3,3
−テトラフルオロ−1−プロパノール)、ハロゲン化炭
化水素類(ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン)
等が挙げられる。塗布液の粘度は0.5〜1000c
P、特に高速で薄層の塗布を行うためには0.5〜10
0cPが好ましい。また、塗布性を向上させるため、塗
布液に界面活性剤、増粘剤を、また、塗布後の乾燥風に
よる流れむらを抑制するための結晶核剤、ゲル化剤、好
ましくは高分子鎖を共有結合で架橋するための多官能性
化合物(例えばアルキレンジイソシアネート類、ジクロ
ロトリアジン類、ビスビニルスルホン類など)などを添
加することもできる。
成する際に調製する塗布液は、水、有機溶媒、あるいは
これらの混合物に塗布すべき素材を溶解もしくは分散し
て調製する。例えば、溶媒としては、ケトン類(例えば
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセトン)、
アルコール類(例えばエタノール、ブタノール、シクロ
ヘキサノール、ジアセトンアルコール、2,2,3,3
−テトラフルオロ−1−プロパノール)、ハロゲン化炭
化水素類(ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン)
等が挙げられる。塗布液の粘度は0.5〜1000c
P、特に高速で薄層の塗布を行うためには0.5〜10
0cPが好ましい。また、塗布性を向上させるため、塗
布液に界面活性剤、増粘剤を、また、塗布後の乾燥風に
よる流れむらを抑制するための結晶核剤、ゲル化剤、好
ましくは高分子鎖を共有結合で架橋するための多官能性
化合物(例えばアルキレンジイソシアネート類、ジクロ
ロトリアジン類、ビスビニルスルホン類など)などを添
加することもできる。
【0060】また、光記録層を支持体上に、安定に、形
成するために、支持体上に下塗り層を予め形設してから
各層を形成してもよい。下塗り層を設置すると支持体と
光記録層の密着性が向上し、ハガレやハジキを防止する
ことができるという効果を有するので好ましい。下塗り
層の組成としては、光記録層を形成するための塗布液と
親和性がある成分が好ましい。特に、ポリマーバインダ
ーの塗布によって形成するのが好ましい。また金属(ア
ルミニウムなど)を蒸着してもよい。
成するために、支持体上に下塗り層を予め形設してから
各層を形成してもよい。下塗り層を設置すると支持体と
光記録層の密着性が向上し、ハガレやハジキを防止する
ことができるという効果を有するので好ましい。下塗り
層の組成としては、光記録層を形成するための塗布液と
親和性がある成分が好ましい。特に、ポリマーバインダ
ーの塗布によって形成するのが好ましい。また金属(ア
ルミニウムなど)を蒸着してもよい。
【0061】また、支持体上への塗布によって、光記録
層を安定に形成するために、色素とバインダーとを共有
結合で連絡してもよい。例えば、色素として反応性染料
を用い、バインダーとしてセルロース系ポリマー、ゼラ
チン等の水酸基やアミノ基を含むポリマーを用いること
が好ましい。あるいはジイソシアネート等の架橋剤の存
在下に水酸基又はアミノ基を有する色素と水酸基やアミ
ノ基を含むバインダーとを混合して塗布することが好ま
しい。
層を安定に形成するために、色素とバインダーとを共有
結合で連絡してもよい。例えば、色素として反応性染料
を用い、バインダーとしてセルロース系ポリマー、ゼラ
チン等の水酸基やアミノ基を含むポリマーを用いること
が好ましい。あるいはジイソシアネート等の架橋剤の存
在下に水酸基又はアミノ基を有する色素と水酸基やアミ
ノ基を含むバインダーとを混合して塗布することが好ま
しい。
【0062】本発明の記録テープの製造工程、例えば、
有機溶剤の塗工工程において、過剰なウエブへの帯電は
塗装ムラを誘発したり、放電により着火の危険性から望
ましくない。更にテープへの裁断を行うスリット工程で
も裁断の際に発生する裁断屑がテープに付着したり、特
にテープが薄い場合にはテープ同志の静電気による付着
などは走行時のジャミングを発生させるなど重大な問題
を引き起こす。このため、帯電防止層を適宜設けること
ができる。帯電防止層は光記録層側でも反射面でもよ
く、光記録層中でも下塗り層としてもよい。
有機溶剤の塗工工程において、過剰なウエブへの帯電は
塗装ムラを誘発したり、放電により着火の危険性から望
ましくない。更にテープへの裁断を行うスリット工程で
も裁断の際に発生する裁断屑がテープに付着したり、特
にテープが薄い場合にはテープ同志の静電気による付着
などは走行時のジャミングを発生させるなど重大な問題
を引き起こす。このため、帯電防止層を適宜設けること
ができる。帯電防止層は光記録層側でも反射面でもよ
く、光記録層中でも下塗り層としてもよい。
【0063】このため、本発明の記録テープには、テー
プに帯電防止機能を付与することが望ましい。テープ状
の記録媒体に要求される帯電防止機能としては表面抵抗
値SRと電荷漏洩速度が挙げられる。表面抵抗値として
は通常、log(SR)10以下、好ましくは8以下で
あり、電荷漏洩速度としては8KV印加時の電荷半減期
Thが通常、60秒以下、好ましくは10秒以下であ
る。
プに帯電防止機能を付与することが望ましい。テープ状
の記録媒体に要求される帯電防止機能としては表面抵抗
値SRと電荷漏洩速度が挙げられる。表面抵抗値として
は通常、log(SR)10以下、好ましくは8以下で
あり、電荷漏洩速度としては8KV印加時の電荷半減期
Thが通常、60秒以下、好ましくは10秒以下であ
る。
【0064】本発明の記録テープに適用される光は、Y
AGなどの固体レーザー(160nm)、アルゴンレー
ザー(488nm)、ヘリウム−ネオンレーザー(63
3nm)などのガスレーザー、半導体レーザー(例えば
830nm、780nm、680nm、635nm、4
10nm)等のレーザーを信号を記録または再生する光
記録層の色素の感応する波長に応じて適宜選択すること
ができる。
AGなどの固体レーザー(160nm)、アルゴンレー
ザー(488nm)、ヘリウム−ネオンレーザー(63
3nm)などのガスレーザー、半導体レーザー(例えば
830nm、780nm、680nm、635nm、4
10nm)等のレーザーを信号を記録または再生する光
記録層の色素の感応する波長に応じて適宜選択すること
ができる。
【0065】信号の記録時のレーザーパワーは2mW以
上であることが好ましく、信号の読取り時のレーザーパ
ワーは1mW以下であることが好ましい。
上であることが好ましく、信号の読取り時のレーザーパ
ワーは1mW以下であることが好ましい。
【0066】装置が小型にできる点で好ましいのは半導
体レーザーであり、好ましい例としては780nmの半
導体レーザーで、6〜15mWのパワーで書き込み、1
mW以下のパワーで読取ることである。
体レーザーであり、好ましい例としては780nmの半
導体レーザーで、6〜15mWのパワーで書き込み、1
mW以下のパワーで読取ることである。
【0067】ビーム直径は0.4〜2μm程度が好まし
い。記録テープとレーザービームとの相対線速度は1〜
20m/秒であり、好ましくは5〜15m/秒である。
い。記録テープとレーザービームとの相対線速度は1〜
20m/秒であり、好ましくは5〜15m/秒である。
【0068】次に本発明記録テープの磁性層について詳
述する。磁性層は、支持体上に、下塗り層、中間層をこ
の順番に設け、この中間層の上に設けることが好まし
い。下塗り層は、乾燥後厚みが通常、0.01〜1μm
である。
述する。磁性層は、支持体上に、下塗り層、中間層をこ
の順番に設け、この中間層の上に設けることが好まし
い。下塗り層は、乾燥後厚みが通常、0.01〜1μm
である。
【0069】本発明の磁性層に使用する強磁性粉末とし
ては,γ−Fe2 O3 ,Co含有(被着,変成,ド−
プ)のγ−Fe2 O3 ,Fe3 O4 ,Co含有(被着,
変成,ド−プ)のFe3 O4 ,γ−FeOX ,Co含有
(被着,変成,ド−プ)の γ−FeOx(X=1.3
3〜1.50),CrO2 ,及び六方晶系フェライト粉
末、強磁性金属粉末等公知の強磁性粉末が使用でき,特
に強磁性金属粉末あるいは六方晶フェライト粉末を主体
としたものである。
ては,γ−Fe2 O3 ,Co含有(被着,変成,ド−
プ)のγ−Fe2 O3 ,Fe3 O4 ,Co含有(被着,
変成,ド−プ)のFe3 O4 ,γ−FeOX ,Co含有
(被着,変成,ド−プ)の γ−FeOx(X=1.3
3〜1.50),CrO2 ,及び六方晶系フェライト粉
末、強磁性金属粉末等公知の強磁性粉末が使用でき,特
に強磁性金属粉末あるいは六方晶フェライト粉末を主体
としたものである。
【0070】本発明に使用される強磁性金属粉末として
は、特に制限されるべきものではないが、特に鉄,コバ
ルトあるいはニッケルを含む強磁性金属粉末(合金を含
む)を用いるとその効果が顕著であって、その比表面積
は通常、35m2 /g以上の強磁性金属粉末を使用する
ことが好ましい。この強磁性金属粉末の詳細な例として
は,強磁性金属粉末中の金属分が60重量%以上であ
り,そして金属分の70重量%以上が少なくとも1種類
の強磁性金属あるいは合金(例,Fe、Co、Ni、F
e−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Co−Ni−F
e)であり,該金属分の40重量%以下、より好ましく
は20重量%の範囲内で他の成分(例,Al、Si、
S、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Zn、Y、M
o、Rh、Pd、Ag、Sn、Sb、Te、Ba、T
a、W、Re、Au、Hg、Pb、Bi、La、Ce、
Pr、Nd、B、P)を含むことのある合金や,窒化鉄
や炭化鉄等を挙げることができる。また,上記強磁性金
属が少量の水,水酸化物または酸化物、アルカリ金属元
素(Na、K、等)、アルカリ土類金属元素(Mg、C
a、Sr)を含むものなどであってもよい。これらの強
磁性金属粉末の製造方法は既に公知であり,本発明で用
いる強磁性粉末の代表例である強磁性金属粉末について
もこれら公知の方法に従って製造することができる。
は、特に制限されるべきものではないが、特に鉄,コバ
ルトあるいはニッケルを含む強磁性金属粉末(合金を含
む)を用いるとその効果が顕著であって、その比表面積
は通常、35m2 /g以上の強磁性金属粉末を使用する
ことが好ましい。この強磁性金属粉末の詳細な例として
は,強磁性金属粉末中の金属分が60重量%以上であ
り,そして金属分の70重量%以上が少なくとも1種類
の強磁性金属あるいは合金(例,Fe、Co、Ni、F
e−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Co−Ni−F
e)であり,該金属分の40重量%以下、より好ましく
は20重量%の範囲内で他の成分(例,Al、Si、
S、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Zn、Y、M
o、Rh、Pd、Ag、Sn、Sb、Te、Ba、T
a、W、Re、Au、Hg、Pb、Bi、La、Ce、
Pr、Nd、B、P)を含むことのある合金や,窒化鉄
や炭化鉄等を挙げることができる。また,上記強磁性金
属が少量の水,水酸化物または酸化物、アルカリ金属元
素(Na、K、等)、アルカリ土類金属元素(Mg、C
a、Sr)を含むものなどであってもよい。これらの強
磁性金属粉末の製造方法は既に公知であり,本発明で用
いる強磁性粉末の代表例である強磁性金属粉末について
もこれら公知の方法に従って製造することができる。
【0071】すなわち,強磁性金属微粉末の製造方法の
例としては,下記の方法を挙げることができる。 (a)複合有機酸塩(主としてシュウ酸塩)を水素など
の還元性気体で還元する方法、(b)酸化鉄を水素など
の還元性気体で還元してFeあるいはFe−Co粒子な
どを得る方法、(c)金属カルボニル化合物を熱分解す
る方法、(d)強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナト
リウム,次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤
を添加して還元する方法、(e)水銀陰極を用い強磁性
金属粉末を電解祈出させたのち水銀と分離する方法、
(f)金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法、強磁性粉末を使用する場合に,その形状にと
くに制限はないが通常は針状,粒状,サイコロ状,米粒
状および板状のものなどが使用される。この強磁性金属
粉末の比表面積(SBET )は40m2 /g以上であるこ
とが好ましく,さらに45m2 /g以上のものを使用す
ることが特に好ましい。
例としては,下記の方法を挙げることができる。 (a)複合有機酸塩(主としてシュウ酸塩)を水素など
の還元性気体で還元する方法、(b)酸化鉄を水素など
の還元性気体で還元してFeあるいはFe−Co粒子な
どを得る方法、(c)金属カルボニル化合物を熱分解す
る方法、(d)強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナト
リウム,次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤
を添加して還元する方法、(e)水銀陰極を用い強磁性
金属粉末を電解祈出させたのち水銀と分離する方法、
(f)金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法、強磁性粉末を使用する場合に,その形状にと
くに制限はないが通常は針状,粒状,サイコロ状,米粒
状および板状のものなどが使用される。この強磁性金属
粉末の比表面積(SBET )は40m2 /g以上であるこ
とが好ましく,さらに45m2 /g以上のものを使用す
ることが特に好ましい。
【0072】これら強磁性金属粉末の結晶子サイズは1
50〜300Åが好ましい。これらの強磁性金属粉末の
例示は特開昭53−70397号、特開昭58−119
609号、特開昭58−130435号、特開昭59−
80901号、特開昭59−16903号、特開昭59
−41453号、特公昭61−37761号、米国特許
4447264号、米国特許4791021号、米国特
許4931198号の公報等に記載されている。
50〜300Åが好ましい。これらの強磁性金属粉末の
例示は特開昭53−70397号、特開昭58−119
609号、特開昭58−130435号、特開昭59−
80901号、特開昭59−16903号、特開昭59
−41453号、特公昭61−37761号、米国特許
4447264号、米国特許4791021号、米国特
許4931198号の公報等に記載されている。
【0073】六方晶フェライト粉末としては,板状六方
晶のバリウムフェライト、変性バリウムフェライトおよ
び変性ストロンチウムフェライトなどが使用できる。バ
リウムフェライトの粒子サイズは約0.001〜1μm
の板径で厚みが板径の1/2〜1/20である。バリウ
ムフェライトの比重は4〜6g/ccで,比表面積は1
m2 /g〜70m2 /gである。これらバリウムフェラ
イトは必要に応じて希土類元素を10wt%以下の量で
含み、そのよのアルカリ金属、アルカリ土類金属を磁気
特性向上のためあるいは不純物として含み得る。
晶のバリウムフェライト、変性バリウムフェライトおよ
び変性ストロンチウムフェライトなどが使用できる。バ
リウムフェライトの粒子サイズは約0.001〜1μm
の板径で厚みが板径の1/2〜1/20である。バリウ
ムフェライトの比重は4〜6g/ccで,比表面積は1
m2 /g〜70m2 /gである。これらバリウムフェラ
イトは必要に応じて希土類元素を10wt%以下の量で
含み、そのよのアルカリ金属、アルカリ土類金属を磁気
特性向上のためあるいは不純物として含み得る。
【0074】これらの強磁性粉末の表面には後に述べる
分散剤,潤滑剤,帯電防止剤等をそれぞれの目的の為に
分散に先立って溶剤中で含浸させて,吸着させてもよ
い。本発明の磁性層は、カーボンブラック等の添加剤を
含むことができる。磁性層に使用されるカーボンブラッ
クはゴム用ファ−ネス,ゴム用サ−マル,カラ−用ブラ
ック,アセチレンブラック等を用いる事ができる。これ
らカーボンブラックはテープの帯電防止剤、遮光剤、摩
擦係数調節剤、耐久性向上を目的として使用される。こ
れらカ−ボンブラックの米国における略称の具体例をし
めすとSAF,ISAF,IISAF,T,HAF,S
PF,FF,FEF,HMF,GPF,APF,SR
F,MPF,ECF,SCF,CF,FT,MT,HC
C,HCF,MCF,LFF,RCF等があり,米国の
ASTM規格のD−1765−82aに分類されている
ものを使用することができる。本発明に使用されるこれ
らカ−ボンブラックの平均粒子径は 5〜1000nm
(電子顕微鏡),窒素吸着法比表面積は1〜800m2
/g,pHは4〜11(JIS規格K−6221−19
82法),ジブチルフタレ−ト(DBP)吸油量は10
〜800ml/100g(JIS規格K−6221−1
982法)である。本発明に使用されるカ−ボンブラッ
クのサイズは,塗布膜の表面電気抵抗を下げる目的で5
〜100nmのカ−ボンブラックを,また塗布膜の強度
を制御するときに50〜1000nmのカ−ボンブラッ
クを用いる。また塗布膜の表面粗さを制御する目的でス
ペ−シングロス減少のための平滑化のためにより微粒子
のカ−ボンブラック(100nm未満)を,粗面化して
摩擦係数を下げる目的で粗粒子のカ−ボンブラック(1
00nm以上)を用いる。このようにカ−ボンブラック
の種類と添加量は記録テープに要求される目的に応じて
使い分けらる。また,これらのカ−ボンブラックを,後
述の分散剤などで表面処理したり,樹脂でグラフト化し
て使用してもよい。また,カ−ボンブラックを製造する
ときの炉の温度を2000℃以上で処理して表面の一部
をグラファイト化したものも使用できる。また,特殊な
カ−ボンブラックとして中空カ−ボンブラックを使用す
ることもできる。
分散剤,潤滑剤,帯電防止剤等をそれぞれの目的の為に
分散に先立って溶剤中で含浸させて,吸着させてもよ
い。本発明の磁性層は、カーボンブラック等の添加剤を
含むことができる。磁性層に使用されるカーボンブラッ
クはゴム用ファ−ネス,ゴム用サ−マル,カラ−用ブラ
ック,アセチレンブラック等を用いる事ができる。これ
らカーボンブラックはテープの帯電防止剤、遮光剤、摩
擦係数調節剤、耐久性向上を目的として使用される。こ
れらカ−ボンブラックの米国における略称の具体例をし
めすとSAF,ISAF,IISAF,T,HAF,S
PF,FF,FEF,HMF,GPF,APF,SR
F,MPF,ECF,SCF,CF,FT,MT,HC
C,HCF,MCF,LFF,RCF等があり,米国の
ASTM規格のD−1765−82aに分類されている
ものを使用することができる。本発明に使用されるこれ
らカ−ボンブラックの平均粒子径は 5〜1000nm
(電子顕微鏡),窒素吸着法比表面積は1〜800m2
/g,pHは4〜11(JIS規格K−6221−19
82法),ジブチルフタレ−ト(DBP)吸油量は10
〜800ml/100g(JIS規格K−6221−1
982法)である。本発明に使用されるカ−ボンブラッ
クのサイズは,塗布膜の表面電気抵抗を下げる目的で5
〜100nmのカ−ボンブラックを,また塗布膜の強度
を制御するときに50〜1000nmのカ−ボンブラッ
クを用いる。また塗布膜の表面粗さを制御する目的でス
ペ−シングロス減少のための平滑化のためにより微粒子
のカ−ボンブラック(100nm未満)を,粗面化して
摩擦係数を下げる目的で粗粒子のカ−ボンブラック(1
00nm以上)を用いる。このようにカ−ボンブラック
の種類と添加量は記録テープに要求される目的に応じて
使い分けらる。また,これらのカ−ボンブラックを,後
述の分散剤などで表面処理したり,樹脂でグラフト化し
て使用してもよい。また,カ−ボンブラックを製造する
ときの炉の温度を2000℃以上で処理して表面の一部
をグラファイト化したものも使用できる。また,特殊な
カ−ボンブラックとして中空カ−ボンブラックを使用す
ることもできる。
【0075】これらのカ−ボンブラックは磁性層の場
合、強磁性金属粉末100重量部に対して0.1〜30
重量部で用いることが望ましい。また、この場合後述す
る樹脂100重量部に対して20〜400重量部で用い
ることが望ましい。本発明に使用出来るカ−ボンブラッ
クは例えば『カ−ボンブラック便覧』,カ−ボンブラッ
ク協会編(昭和46年発行)を参考にすることが出来
る。これらカ−ボンブラックの例示は米国特許4539
257号、米国特許4614685号、特開昭61−9
2424号、特開昭61−99927号の公報等に記載
されている。
合、強磁性金属粉末100重量部に対して0.1〜30
重量部で用いることが望ましい。また、この場合後述す
る樹脂100重量部に対して20〜400重量部で用い
ることが望ましい。本発明に使用出来るカ−ボンブラッ
クは例えば『カ−ボンブラック便覧』,カ−ボンブラッ
ク協会編(昭和46年発行)を参考にすることが出来
る。これらカ−ボンブラックの例示は米国特許4539
257号、米国特許4614685号、特開昭61−9
2424号、特開昭61−99927号の公報等に記載
されている。
【0076】本発明の磁性層で用いられる研磨剤は、磁
気テープの耐久性やVTRのヘッドクリーニング効果を
向上させるために用いられ、一般的に研磨作用若しくは
琢磨作用をもつ材料で α−アルミナ,γ−アルミナ,
α、γ−アルミナ 熔融アルミナ,炭化珪素,酸化クロ
ム,酸化セリウム,コランダム,人造ダイヤモンド,ダ
イヤモンド、α−酸化鉄,ザクロ石,エメリ−(主成
分:コランダムと磁鉄鉱),ガ−ネット,珪石,窒化珪
素,窒化硼素,炭化モリブデン,炭化硼素,炭化タング
ステン,チタンカ−バイド,トリポリ,ケイソウ土,ド
ロマイト等で,主としてモ−ス硬度6以上の材料が1内
至4種迄の組合わせで使用される。これらの研磨剤は平
均粒子径が通常、0.005〜5μmの大きさのものが
使用さる。これらの研磨剤は磁性層の場合、強磁性金属
粉末100重量部に対して0.01〜20重量部の範囲
で添加される。また、この場合、後述する樹脂100重
量部に対して0.01〜5重量部で用いることが望まし
い。これらの具体例としては住友化学(株)製のAKP
1、AKP15、AKP20、AKP30、AKP5
0、AKP80、Hit50、Hit100等が挙げら
れる。これらについては特公昭52−28642号,特
公昭49−39402号,特開昭63−98828号,
米国特許3687725号,米国特許3007807
号,米国特許3041196号,米国特許329306
6号,米国特許3630910号,米国特許38334
12号,米国特許4117190号,英国特許1145
349号,西独特許853211号等に記載されてい
る。
気テープの耐久性やVTRのヘッドクリーニング効果を
向上させるために用いられ、一般的に研磨作用若しくは
琢磨作用をもつ材料で α−アルミナ,γ−アルミナ,
α、γ−アルミナ 熔融アルミナ,炭化珪素,酸化クロ
ム,酸化セリウム,コランダム,人造ダイヤモンド,ダ
イヤモンド、α−酸化鉄,ザクロ石,エメリ−(主成
分:コランダムと磁鉄鉱),ガ−ネット,珪石,窒化珪
素,窒化硼素,炭化モリブデン,炭化硼素,炭化タング
ステン,チタンカ−バイド,トリポリ,ケイソウ土,ド
ロマイト等で,主としてモ−ス硬度6以上の材料が1内
至4種迄の組合わせで使用される。これらの研磨剤は平
均粒子径が通常、0.005〜5μmの大きさのものが
使用さる。これらの研磨剤は磁性層の場合、強磁性金属
粉末100重量部に対して0.01〜20重量部の範囲
で添加される。また、この場合、後述する樹脂100重
量部に対して0.01〜5重量部で用いることが望まし
い。これらの具体例としては住友化学(株)製のAKP
1、AKP15、AKP20、AKP30、AKP5
0、AKP80、Hit50、Hit100等が挙げら
れる。これらについては特公昭52−28642号,特
公昭49−39402号,特開昭63−98828号,
米国特許3687725号,米国特許3007807
号,米国特許3041196号,米国特許329306
6号,米国特許3630910号,米国特許38334
12号,米国特許4117190号,英国特許1145
349号,西独特許853211号等に記載されてい
る。
【0077】本発明の磁性層に使用されるバインダ−と
しては従来公知の熱可塑性樹脂,熱硬化性樹脂,反応型
樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光線
硬化型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑性樹
脂としては軟化温度が150℃以下,平均分子量が10
000〜300000,重合度が約50〜2000程度
のものでより好ましくは200〜600程度であり,例
えば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体,塩化ビニル共重合
体,塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体,
塩化ビニルビニルアルコール共重合体,塩化ビニル塩化
ビニリデン共重合体,塩化ビニルアクリロニトリル共重
合体,アクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体,
アクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体,アクリル
酸エステルスチレン共重合体,メタクリル酸エステルア
クリロニトリル共重合体,メタクリル酸エステル塩化ビ
ニリデン共重合体,メタクリル酸エステルスチレン共重
合体,ウレタンエラストマ−,ナイロン−シリコン系樹
脂,ニトロセルロース−ポリアミド樹脂,ポリフッ化ビ
ニル,塩化ビニリデンアクリロニトリル共重合体,ブタ
ジエンアクリロニトリル共重合体,ポリアミド樹脂,ポ
リビニルブチラ−ル,セルロ−ス誘導体(セルロ−スア
セテ−トブチレ−ト,セルロ−スダイアセテ−ト,セル
ロ−ストリアセテ−ト,セルロ−スプロピオネ−ト,ニ
トロセルロ−ス,エチルセルロ−ス,メチルセルロ−
ス,プロピルセルロ−ス,メチルエチルセルロ−ス,カ
ルボキシメチルセルロ−ス,アセチルセルロ−ス等),
スチレンブタジエン共重合体,ポリエステル樹脂,ポリ
カーボネート樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エ
ステル共重合体,アミノ樹脂,各種の合成ゴム系の熱可
塑性樹脂及びこれらの混合物等が使用される。これらの
樹脂の例示は特公昭37−6877号,特公昭39−1
2528号,特公昭39−19282号,特公昭40−
5349号 特公昭40−20907号,特公昭41−
9463号,特公昭41−14059号,特公昭41−
16985号 特公昭42−6428号,特公昭42−
11621号,特公昭43−4623号,特公昭43−
15206号 特公昭44−2889号,特公昭44−
17947号,特公昭44−18232号,特公昭45
−14020号,特公昭45−14500号,特公昭4
7−18573号,特公昭47−22063号,特公昭
47−22064号 特公昭47−22068号,特公
昭47−22069号,特公昭47−22070号,特
公昭47−27886号,特開昭 57−13352
1,特開昭58−137133,特開昭58−1665
33,特開昭58−222433,特開昭59−586
42等、米国特許4571364号、米国特許4752
530号の公報等に記載されている。
しては従来公知の熱可塑性樹脂,熱硬化性樹脂,反応型
樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光線
硬化型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑性樹
脂としては軟化温度が150℃以下,平均分子量が10
000〜300000,重合度が約50〜2000程度
のものでより好ましくは200〜600程度であり,例
えば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体,塩化ビニル共重合
体,塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体,
塩化ビニルビニルアルコール共重合体,塩化ビニル塩化
ビニリデン共重合体,塩化ビニルアクリロニトリル共重
合体,アクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体,
アクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体,アクリル
酸エステルスチレン共重合体,メタクリル酸エステルア
クリロニトリル共重合体,メタクリル酸エステル塩化ビ
ニリデン共重合体,メタクリル酸エステルスチレン共重
合体,ウレタンエラストマ−,ナイロン−シリコン系樹
脂,ニトロセルロース−ポリアミド樹脂,ポリフッ化ビ
ニル,塩化ビニリデンアクリロニトリル共重合体,ブタ
ジエンアクリロニトリル共重合体,ポリアミド樹脂,ポ
リビニルブチラ−ル,セルロ−ス誘導体(セルロ−スア
セテ−トブチレ−ト,セルロ−スダイアセテ−ト,セル
ロ−ストリアセテ−ト,セルロ−スプロピオネ−ト,ニ
トロセルロ−ス,エチルセルロ−ス,メチルセルロ−
ス,プロピルセルロ−ス,メチルエチルセルロ−ス,カ
ルボキシメチルセルロ−ス,アセチルセルロ−ス等),
スチレンブタジエン共重合体,ポリエステル樹脂,ポリ
カーボネート樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エ
ステル共重合体,アミノ樹脂,各種の合成ゴム系の熱可
塑性樹脂及びこれらの混合物等が使用される。これらの
樹脂の例示は特公昭37−6877号,特公昭39−1
2528号,特公昭39−19282号,特公昭40−
5349号 特公昭40−20907号,特公昭41−
9463号,特公昭41−14059号,特公昭41−
16985号 特公昭42−6428号,特公昭42−
11621号,特公昭43−4623号,特公昭43−
15206号 特公昭44−2889号,特公昭44−
17947号,特公昭44−18232号,特公昭45
−14020号,特公昭45−14500号,特公昭4
7−18573号,特公昭47−22063号,特公昭
47−22064号 特公昭47−22068号,特公
昭47−22069号,特公昭47−22070号,特
公昭47−27886号,特開昭 57−13352
1,特開昭58−137133,特開昭58−1665
33,特開昭58−222433,特開昭59−586
42等、米国特許4571364号、米国特許4752
530号の公報等に記載されている。
【0078】熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布
液の状態では200000以下の分子量であり,塗布,
乾燥後に加熱加湿することにより,縮合,付加等の反応
により分子量は無限大のものとなる。又,これらの樹脂
のなかで,樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融し
ないものが好ましい。具体的には例えばフェノ−ル樹
脂,フェノキシ樹脂,エポキシ樹脂,ポリウレタン樹
脂,ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリカーボネート
樹脂,尿素樹脂,メラミン樹脂,アルキッド樹脂,シリ
コン樹脂,アクリル系反応樹脂(電子線硬化樹脂),エ
ポキシ−ポリアミド樹脂,ニトロセルロースメラミン樹
脂,高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネ−トプレポ
リマーの混合物,メタクリル酸塩共重合体とジイソシア
ネートプレポリマーの混合物,ポリエステルポリオール
とポリイソシアネートとの混合物,尿素ホルムアルデヒ
ド樹脂,低分子量グリコ−ル/高分子量ジオ−ル/トリ
フェニルメタントリイソシアネートの混合物,ポリアミ
ン樹脂,ポリイミン樹脂及びこれらの混合物等である。
これらの樹脂の例示は特公昭39−8103号,特公昭
40−9779号,特公昭41−7192号,特公昭4
1−8016号 特公昭41−14275号,特公昭4
2−18179号,特公昭43−12081号,特公昭
44−28023号 特公昭45−14501号,特公
昭45−24902号,特公昭46−13103号,特
公昭47−22065号 特公昭47−22066号,
特公昭47−22067号,特公昭47−22072
号,特公昭47−22073号 特公昭47−2804
5号,特公昭47−28048号,特公昭47−289
22号等の公報に記載されている。これらの熱可塑,熱
硬化性樹脂,反応型樹脂は,主たる官能基以外に官能基
としてカルボン酸(COOM),スルフィン酸,スルフ
ェン酸、スルホン酸(SO3M),燐酸(PO(OM)
(OM)),ホスホン酸、硫酸(OSO3M),及びこ
れらのエステル基等の酸性基(MはH、アルカリ金属、
アルカリ土類金属、炭化水素基)、アミノ酸類;アミノ
スルホン酸類,アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エス
テル類,アルキルベタイン型等の両性類基,アミノ基,
イミノ基,イミド基,アミド基等また,水酸基,アルコ
キシル基,チオ−ル基,アルキルチオ基、ハロゲン基
(F、Cl、Br、I),シリル基,シロキサン基、エ
ポキシ基、イソシアナト基、シアノ基、ニトリル基、オ
キソ基、アクリル基、フォスフィン基を通常1種以上6
種以内含み,各々の官能基は樹脂1gあたり1×10-6
eq〜1×10-2eq含む事が好ましい。
液の状態では200000以下の分子量であり,塗布,
乾燥後に加熱加湿することにより,縮合,付加等の反応
により分子量は無限大のものとなる。又,これらの樹脂
のなかで,樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融し
ないものが好ましい。具体的には例えばフェノ−ル樹
脂,フェノキシ樹脂,エポキシ樹脂,ポリウレタン樹
脂,ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリカーボネート
樹脂,尿素樹脂,メラミン樹脂,アルキッド樹脂,シリ
コン樹脂,アクリル系反応樹脂(電子線硬化樹脂),エ
ポキシ−ポリアミド樹脂,ニトロセルロースメラミン樹
脂,高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネ−トプレポ
リマーの混合物,メタクリル酸塩共重合体とジイソシア
ネートプレポリマーの混合物,ポリエステルポリオール
とポリイソシアネートとの混合物,尿素ホルムアルデヒ
ド樹脂,低分子量グリコ−ル/高分子量ジオ−ル/トリ
フェニルメタントリイソシアネートの混合物,ポリアミ
ン樹脂,ポリイミン樹脂及びこれらの混合物等である。
これらの樹脂の例示は特公昭39−8103号,特公昭
40−9779号,特公昭41−7192号,特公昭4
1−8016号 特公昭41−14275号,特公昭4
2−18179号,特公昭43−12081号,特公昭
44−28023号 特公昭45−14501号,特公
昭45−24902号,特公昭46−13103号,特
公昭47−22065号 特公昭47−22066号,
特公昭47−22067号,特公昭47−22072
号,特公昭47−22073号 特公昭47−2804
5号,特公昭47−28048号,特公昭47−289
22号等の公報に記載されている。これらの熱可塑,熱
硬化性樹脂,反応型樹脂は,主たる官能基以外に官能基
としてカルボン酸(COOM),スルフィン酸,スルフ
ェン酸、スルホン酸(SO3M),燐酸(PO(OM)
(OM)),ホスホン酸、硫酸(OSO3M),及びこ
れらのエステル基等の酸性基(MはH、アルカリ金属、
アルカリ土類金属、炭化水素基)、アミノ酸類;アミノ
スルホン酸類,アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エス
テル類,アルキルベタイン型等の両性類基,アミノ基,
イミノ基,イミド基,アミド基等また,水酸基,アルコ
キシル基,チオ−ル基,アルキルチオ基、ハロゲン基
(F、Cl、Br、I),シリル基,シロキサン基、エ
ポキシ基、イソシアナト基、シアノ基、ニトリル基、オ
キソ基、アクリル基、フォスフィン基を通常1種以上6
種以内含み,各々の官能基は樹脂1gあたり1×10-6
eq〜1×10-2eq含む事が好ましい。
【0079】これらの結合剤の単独又は組合わされたも
のが使われ,ほかに添加剤が加えられる。磁性層の強磁
性金属粉末と結合剤との混合割合は重量比で強磁性金属
粉末100重量部に対して結合剤5〜300重量部の範
囲で使用される。添加剤としては分散剤,潤滑剤,研磨
剤,帯電防止剤,酸化防止剤,溶剤等がくわえられる。
のが使われ,ほかに添加剤が加えられる。磁性層の強磁
性金属粉末と結合剤との混合割合は重量比で強磁性金属
粉末100重量部に対して結合剤5〜300重量部の範
囲で使用される。添加剤としては分散剤,潤滑剤,研磨
剤,帯電防止剤,酸化防止剤,溶剤等がくわえられる。
【0080】本発明の磁性層にもちいるポリイソシアネ
−トとしては,トリレンジイソシアネ−ト,4,4’−
ジフェニルメタンジイソシアネ−ト,ヘキサメチレンジ
イソシアネ−ト,キシリレンジイソシアネ−ト,ナフチ
レン−1,5−ジイソシアネ−ト,o−トルイジンジイ
ソシアネ−ト,イソホロンジイソシアネ−ト,トリフェ
ニルメタントリイソシアネ−ト,イソホロンジイソシア
ネ−ト等のイソシアネ−ト類,又当該イソシアネ−ト類
とポリアルコ−ルとの生成物,又イソシアネ−ト類の縮
合に依って生成した2〜10量体のポリイソシアネ−
ト、又ポリイソシアネートとポリウレタンとの生成物で
末端官能基がイソシアネートであるもの等を使用するこ
とができる。これらポリイソシアネ−ト類の平均分子量
は100〜20000のものが好適である。これらポリ
イソシアネ−トの市販されている商品名としては,コロ
ネ−トL,コロネ−トHL,コロネ−ト2030,コロ
ネ−ト2031,ミリオネ−トMR,ミリオネ−トMT
L(日本ポリウレタン株製),タケネ−トD−102,
タケネ−トD−110N,,タケネ−トD−200,タ
ケネ−トD−202,タケネ−ト300S,タケネ−ト
500(武田薬品株製),スミジュ−ルT−80,スミ
ジュ−ル44S,スミジュ−ルPF,スミジュ−ルL,
スミジュ−ルN,デスモジュ−ルL,デスモジュ−ルI
L,デスモジュ−ルN,デスモジュ−ルHL,デスモジ
ュ−ルT65,デスモジュ−ル15,デスモジュ−ル
R,デスモジュ−ルRF,デスモジュ−ルSL,デスモ
ジュ−ルZ4273(住友バイエル社製)等があり,こ
れらを単独若しくは硬化反応性の差を利用して二つ若し
くはそれ以上の組み合わせによって使用することができ
る。又,硬化反応を促進する目的で,水酸基(ブタンジ
オ−ル,ヘキサンジオ−ル、分子量が1000〜100
00のポリウレタン、水等),アミノ基(モノメチルア
ミン,ジメチルアミン,トリメチルアミン等)を有する
化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルアセトネート等
の触媒を併用する事も出来る。これらの水酸基やアミノ
基を有する化合物は多官能である事が望ましい。これら
ポリイソシアネ−トは磁性層、、とも結合剤樹脂とポリ
イソシアネ−トの総量100重量部あたり2〜70重量
部で使用することが好ましく、よりこのましくは5〜5
0重量部である。これらの例示は特開昭60−1316
22号、特開昭61−74138号等の公報において示
されている。
−トとしては,トリレンジイソシアネ−ト,4,4’−
ジフェニルメタンジイソシアネ−ト,ヘキサメチレンジ
イソシアネ−ト,キシリレンジイソシアネ−ト,ナフチ
レン−1,5−ジイソシアネ−ト,o−トルイジンジイ
ソシアネ−ト,イソホロンジイソシアネ−ト,トリフェ
ニルメタントリイソシアネ−ト,イソホロンジイソシア
ネ−ト等のイソシアネ−ト類,又当該イソシアネ−ト類
とポリアルコ−ルとの生成物,又イソシアネ−ト類の縮
合に依って生成した2〜10量体のポリイソシアネ−
ト、又ポリイソシアネートとポリウレタンとの生成物で
末端官能基がイソシアネートであるもの等を使用するこ
とができる。これらポリイソシアネ−ト類の平均分子量
は100〜20000のものが好適である。これらポリ
イソシアネ−トの市販されている商品名としては,コロ
ネ−トL,コロネ−トHL,コロネ−ト2030,コロ
ネ−ト2031,ミリオネ−トMR,ミリオネ−トMT
L(日本ポリウレタン株製),タケネ−トD−102,
タケネ−トD−110N,,タケネ−トD−200,タ
ケネ−トD−202,タケネ−ト300S,タケネ−ト
500(武田薬品株製),スミジュ−ルT−80,スミ
ジュ−ル44S,スミジュ−ルPF,スミジュ−ルL,
スミジュ−ルN,デスモジュ−ルL,デスモジュ−ルI
L,デスモジュ−ルN,デスモジュ−ルHL,デスモジ
ュ−ルT65,デスモジュ−ル15,デスモジュ−ル
R,デスモジュ−ルRF,デスモジュ−ルSL,デスモ
ジュ−ルZ4273(住友バイエル社製)等があり,こ
れらを単独若しくは硬化反応性の差を利用して二つ若し
くはそれ以上の組み合わせによって使用することができ
る。又,硬化反応を促進する目的で,水酸基(ブタンジ
オ−ル,ヘキサンジオ−ル、分子量が1000〜100
00のポリウレタン、水等),アミノ基(モノメチルア
ミン,ジメチルアミン,トリメチルアミン等)を有する
化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルアセトネート等
の触媒を併用する事も出来る。これらの水酸基やアミノ
基を有する化合物は多官能である事が望ましい。これら
ポリイソシアネ−トは磁性層、、とも結合剤樹脂とポリ
イソシアネ−トの総量100重量部あたり2〜70重量
部で使用することが好ましく、よりこのましくは5〜5
0重量部である。これらの例示は特開昭60−1316
22号、特開昭61−74138号等の公報において示
されている。
【0081】本発明の磁性層に使用される粉末状潤滑剤
としては,グラファイト、二硫化モリブデン,窒化硼
素,弗化黒鉛,炭酸カルシウム,硫酸バリウム,酸化珪
素,酸化チタン,酸化亜鉛,酸化錫,二硫化タングステ
ン等の無機微粉末,アクリルスチレン系樹脂微粉末,ベ
ンゾグアナミン系樹脂微粉末,メラミン系樹脂微粉末,
ポリオレフイン系樹脂微粉末,ポリエステル系樹脂微粉
末,ポリアミド系樹脂微粉末,ポリイミド系樹脂微粉
末,ポリフッカエチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末等
がある。
としては,グラファイト、二硫化モリブデン,窒化硼
素,弗化黒鉛,炭酸カルシウム,硫酸バリウム,酸化珪
素,酸化チタン,酸化亜鉛,酸化錫,二硫化タングステ
ン等の無機微粉末,アクリルスチレン系樹脂微粉末,ベ
ンゾグアナミン系樹脂微粉末,メラミン系樹脂微粉末,
ポリオレフイン系樹脂微粉末,ポリエステル系樹脂微粉
末,ポリアミド系樹脂微粉末,ポリイミド系樹脂微粉
末,ポリフッカエチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末等
がある。
【0082】また有機化合物系潤滑剤としてはシリコン
オイル(ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポリ
シロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアルキ
ルポリシロキサン(信越化学製KF96、KF69
等)),脂肪酸変性シリコンオイル,フッ素アルコ−
ル,ポリオレフィン(ポリエチレンワックス、ポリプロ
ピレン等),ポリグリコ−ル(エチレングリコール、ポ
リエチレンオキシドワックス等),テトラフルオロエチ
レンオキシドワックス,ポリテトラフルオログリコ−
ル,パーフルオロアルキルエーテル,パ−フルオロ脂肪
酸,パ−フルオロ脂肪酸エステル,パ−フルオロアルキ
ル硫酸エステル,パ−フルオロアルキルスルホン酸エス
テル,パ−フルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステ
ル,パ−フルオロアルキル燐酸エステル等の弗素や珪素
を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルス
ルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、
アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸
ジエステル、アルキル燐酸エステル,琥珀酸エステル等
の有機酸および有機酸エステル化合物、トリアザインド
リジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベ
ンゾトリアジン、ベンゾジアゾール、EDTA等の窒素
・硫黄を含む複素(ヘテロ)環化合物、炭素数10〜4
0の一塩基性脂肪酸と炭素数2〜40個の一価のアルコ
−ルもしくは二価のアルコ−ル,三価のアルコ−ル,四
価のアルコ−ル,六価のアルコ−ルのいずれか1つもし
くは2つ以上とから成る脂肪酸エステル類,炭素数10
個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して
炭素数が11〜70個と成る一価〜六価のアルコ−ルか
ら成る脂肪酸エステル類、炭素数8〜40の脂肪酸或い
は脂肪酸アミド類,脂肪酸アルキルアミド類、脂肪族ア
ルコ−ル類も使用できる。
オイル(ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポリ
シロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアルキ
ルポリシロキサン(信越化学製KF96、KF69
等)),脂肪酸変性シリコンオイル,フッ素アルコ−
ル,ポリオレフィン(ポリエチレンワックス、ポリプロ
ピレン等),ポリグリコ−ル(エチレングリコール、ポ
リエチレンオキシドワックス等),テトラフルオロエチ
レンオキシドワックス,ポリテトラフルオログリコ−
ル,パーフルオロアルキルエーテル,パ−フルオロ脂肪
酸,パ−フルオロ脂肪酸エステル,パ−フルオロアルキ
ル硫酸エステル,パ−フルオロアルキルスルホン酸エス
テル,パ−フルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステ
ル,パ−フルオロアルキル燐酸エステル等の弗素や珪素
を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルス
ルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、
アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸
ジエステル、アルキル燐酸エステル,琥珀酸エステル等
の有機酸および有機酸エステル化合物、トリアザインド
リジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベ
ンゾトリアジン、ベンゾジアゾール、EDTA等の窒素
・硫黄を含む複素(ヘテロ)環化合物、炭素数10〜4
0の一塩基性脂肪酸と炭素数2〜40個の一価のアルコ
−ルもしくは二価のアルコ−ル,三価のアルコ−ル,四
価のアルコ−ル,六価のアルコ−ルのいずれか1つもし
くは2つ以上とから成る脂肪酸エステル類,炭素数10
個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して
炭素数が11〜70個と成る一価〜六価のアルコ−ルか
ら成る脂肪酸エステル類、炭素数8〜40の脂肪酸或い
は脂肪酸アミド類,脂肪酸アルキルアミド類、脂肪族ア
ルコ−ル類も使用できる。
【0083】これら化合物の具体的な例としては,カプ
リル酸ブチル,カプリル酸オクチル,ラウリン酸エチ
ル,ラウリン酸ブチル,ラウリン酸オクチル,ミリスチ
ン酸エチル,ミリスチン酸ブチル,ミリスチ酸オクチ
ル,ミリスチン酸2エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル,パルミチン酸ブチル,パルミチン酸オクチル,パル
ミチン酸2エチルヘキシル、ステアリン酸エチル,ステ
アリン酸ブチル,ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル,ステアリン酸2エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル,ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸2
エチルペンチル、ステアリン酸2ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレ−ト,アンヒドロソ
ルビタンジステアレ−ト,アンヒドロソルビタントリス
テアレ−ト,アンヒドロソルビタンテトラステアレ−
ト,オレイルオレ−ト,オレイルアルコ−ル,ラウリル
アルコ−ル、モンタンワックス、カルナウバワックス、
等が有り単独若しくはくみあわせ使用出来る。
リル酸ブチル,カプリル酸オクチル,ラウリン酸エチ
ル,ラウリン酸ブチル,ラウリン酸オクチル,ミリスチ
ン酸エチル,ミリスチン酸ブチル,ミリスチ酸オクチ
ル,ミリスチン酸2エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル,パルミチン酸ブチル,パルミチン酸オクチル,パル
ミチン酸2エチルヘキシル、ステアリン酸エチル,ステ
アリン酸ブチル,ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル,ステアリン酸2エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル,ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸2
エチルペンチル、ステアリン酸2ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレ−ト,アンヒドロソ
ルビタンジステアレ−ト,アンヒドロソルビタントリス
テアレ−ト,アンヒドロソルビタンテトラステアレ−
ト,オレイルオレ−ト,オレイルアルコ−ル,ラウリル
アルコ−ル、モンタンワックス、カルナウバワックス、
等が有り単独若しくはくみあわせ使用出来る。
【0084】また本発明の磁性層に使用される潤滑剤と
しては所謂潤滑油添加剤も単独若しくはくみあわせで使
用出来,防錆剤としてしられている酸化防止剤(アルキ
ルフェノ−ル、ベンゾトリアジン、テトラアザインデ
ン、スルファミド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミ
ン、ヒドロキノン、EDTA等の金属キレート剤),錆
どめ剤(ナフテン酸,アルケニルコハク酸,燐酸、ジラ
ウリルフォスフェ−ト等),油性剤(ナタネ油,ラウリ
ルアルコ−ル等),極圧剤(ジベンジルスルフィド,ト
リクレジルフォスフェ−ト,トリブチルホスファイト
等),清浄分散剤,粘度指数向上剤,流動点降下剤,泡
どめ剤等がある。これらの潤滑剤は結合剤100重量部
に対して0.01〜30重量部の範囲で添加される。こ
れらについては,特公昭43−23889号,特公昭4
8−24041号,特公昭48−18482号,特公昭
44−18221,特公昭47−28043号,特公昭
57−56132,特開昭59−8136号,特開昭5
9−8139号、特開昭61−85621号、米国特許
3423233号,米国特許3470021号,米国特
許3492235号,米国特許3497411号,米国
特許3523086号,米国特許3625760号,米
国特許3630772号,米国特許3634253号,
米国特許3642539号,米国特許3687725
号,米国特許4135031号,米国特許449786
4号,米国特許4552794号,アイビ−エムテクニ
カル デイ スクロジャ−ブリテン(IBM Techn
ical Disclosure Bulletin)
Vol.9,No7,p779(1966年12月)、
エレクトロニク(ELEKTRONIK)1961年N
o12,p380、化学便覧,応用編,p954−96
7,1980年丸善株発行等に記載されている。
しては所謂潤滑油添加剤も単独若しくはくみあわせで使
用出来,防錆剤としてしられている酸化防止剤(アルキ
ルフェノ−ル、ベンゾトリアジン、テトラアザインデ
ン、スルファミド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミ
ン、ヒドロキノン、EDTA等の金属キレート剤),錆
どめ剤(ナフテン酸,アルケニルコハク酸,燐酸、ジラ
ウリルフォスフェ−ト等),油性剤(ナタネ油,ラウリ
ルアルコ−ル等),極圧剤(ジベンジルスルフィド,ト
リクレジルフォスフェ−ト,トリブチルホスファイト
等),清浄分散剤,粘度指数向上剤,流動点降下剤,泡
どめ剤等がある。これらの潤滑剤は結合剤100重量部
に対して0.01〜30重量部の範囲で添加される。こ
れらについては,特公昭43−23889号,特公昭4
8−24041号,特公昭48−18482号,特公昭
44−18221,特公昭47−28043号,特公昭
57−56132,特開昭59−8136号,特開昭5
9−8139号、特開昭61−85621号、米国特許
3423233号,米国特許3470021号,米国特
許3492235号,米国特許3497411号,米国
特許3523086号,米国特許3625760号,米
国特許3630772号,米国特許3634253号,
米国特許3642539号,米国特許3687725
号,米国特許4135031号,米国特許449786
4号,米国特許4552794号,アイビ−エムテクニ
カル デイ スクロジャ−ブリテン(IBM Techn
ical Disclosure Bulletin)
Vol.9,No7,p779(1966年12月)、
エレクトロニク(ELEKTRONIK)1961年N
o12,p380、化学便覧,応用編,p954−96
7,1980年丸善株発行等に記載されている。
【0085】本発明の磁性層に使用する分散剤、分散助
剤としては,カプリル酸,カプリン酸,ラウリン酸,ミ
リスチン酸,パルミチン酸,ステアリン酸,オレイン
酸,エライジン酸,リノ−ル酸,リノレン酸,ステアロ
−ル酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数2
〜40個の脂肪酸(R1 COOH,R1 は炭素数1〜3
9個のアルキル基、フェニル基、アラルキル基),前記
の脂肪酸のアルカリ金属(Li,Na,K,NH
4 + 等)またはアルカリ土類金属(Mg,Ca,Ba
等),Cu,Pb等から成る金属石鹸(オレイン酸
銅),脂肪酸アミド;レシチン(大豆油レシチン)等が
使用される。この他に炭素数4〜40の高級アルコ−
ル,(ブタノ−ル,オクチルアルコ−ル,ミリスチルア
ルコ−ル,ステアリルアルコ−ル)及びこれらの硫酸エ
ステル,スルホン酸、フェニルスルホン酸、アルキルス
ルホン酸、スルホン酸エステル、燐酸モノエステル,燐
酸ジエステル、燐酸トリエステル、アルキルホスホン
酸、フェニルホスホン酸、アミン化合物等も使用可能で
ある。また,ポリエチレングリコール、ポリエチレンオ
キサイド,スルホ琥珀酸,スルホ琥珀酸金属塩、スルホ
琥珀酸エステル等も使用可能である。これらの分散剤は
通常一種類以上で用いられ,一種類の分散剤は結合剤1
00重量部に対して0.005〜20重量部の範囲で添
加される。これら分散剤の使用方法は,強磁性金属粉末
や非磁性微粉末の表面に予め被着させても良く,また分
散途中で添加してもよい。このようなものは,例えば特
公昭39−28369号,特公昭44−17945号,
特公昭44−18221号,特公昭48−7441号、
特公昭48−15001号、特公昭48−15002
号,特公昭48−16363号,特公昭49−3940
2号,米国特許3387993号,同3470021号
等に於いて示されている。
剤としては,カプリル酸,カプリン酸,ラウリン酸,ミ
リスチン酸,パルミチン酸,ステアリン酸,オレイン
酸,エライジン酸,リノ−ル酸,リノレン酸,ステアロ
−ル酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数2
〜40個の脂肪酸(R1 COOH,R1 は炭素数1〜3
9個のアルキル基、フェニル基、アラルキル基),前記
の脂肪酸のアルカリ金属(Li,Na,K,NH
4 + 等)またはアルカリ土類金属(Mg,Ca,Ba
等),Cu,Pb等から成る金属石鹸(オレイン酸
銅),脂肪酸アミド;レシチン(大豆油レシチン)等が
使用される。この他に炭素数4〜40の高級アルコ−
ル,(ブタノ−ル,オクチルアルコ−ル,ミリスチルア
ルコ−ル,ステアリルアルコ−ル)及びこれらの硫酸エ
ステル,スルホン酸、フェニルスルホン酸、アルキルス
ルホン酸、スルホン酸エステル、燐酸モノエステル,燐
酸ジエステル、燐酸トリエステル、アルキルホスホン
酸、フェニルホスホン酸、アミン化合物等も使用可能で
ある。また,ポリエチレングリコール、ポリエチレンオ
キサイド,スルホ琥珀酸,スルホ琥珀酸金属塩、スルホ
琥珀酸エステル等も使用可能である。これらの分散剤は
通常一種類以上で用いられ,一種類の分散剤は結合剤1
00重量部に対して0.005〜20重量部の範囲で添
加される。これら分散剤の使用方法は,強磁性金属粉末
や非磁性微粉末の表面に予め被着させても良く,また分
散途中で添加してもよい。このようなものは,例えば特
公昭39−28369号,特公昭44−17945号,
特公昭44−18221号,特公昭48−7441号、
特公昭48−15001号、特公昭48−15002
号,特公昭48−16363号,特公昭49−3940
2号,米国特許3387993号,同3470021号
等に於いて示されている。
【0086】本発明の磁性層に用いる防黴剤としては2
−(4−チアゾリル)−ベンズイミダゾール、N−(フ
ルオロジクロロメチルチオ)−フタルイミド、10,1
0’−オキシビスフェノキサルシン、2,4,5,6テ
トラクロロイソフタロニトリル、P−トリルジヨードメ
チルスルホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロ
アセト酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス(トリブ
チル錫)、サルチルアニライド等がある。 このような
ものは,例えば「微生物災害と防止技術」1972年工
学図書、「化学と工業」32,904(1979)等に
於いて示されている。
−(4−チアゾリル)−ベンズイミダゾール、N−(フ
ルオロジクロロメチルチオ)−フタルイミド、10,1
0’−オキシビスフェノキサルシン、2,4,5,6テ
トラクロロイソフタロニトリル、P−トリルジヨードメ
チルスルホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロ
アセト酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス(トリブ
チル錫)、サルチルアニライド等がある。 このような
ものは,例えば「微生物災害と防止技術」1972年工
学図書、「化学と工業」32,904(1979)等に
於いて示されている。
【0087】本発明の磁性層に用いるカーボンブラック
以外の帯電防止剤としてはグラファイト,変成グラファ
イト,カ−ボンブラックグラフトポリマ−,酸化錫−酸
化アンチモン,酸化錫,酸化チタン−酸化錫−酸化アン
チモン,等の導電性粉末;サポニン等の天然界面活性
剤;アルキレンオキサイド系,グリセリン系,グリシド
−ル系,多価アルコ−ル,多価アルコ−ルエステル,ア
ルキルフェノ−ルEO付加体等のノニオン界面活性剤;
高級アルキルアミン類,環状アミン,ヒダントイン誘導
体,アミドアミン,エステルアミド,第四級アンモニウ
ム塩類,ピリジンそのほかの複素環類,ホスホニウムま
たはスルホニウム類等のカチオン界面活性剤;カルボン
酸,スルホン酸,ホスホン酸、燐酸,硫酸エステル基,
ホスホン酸エステル、燐酸エステル基などの酸性基を含
むアニオン界面活性剤;アミノ酸類;アミノスルホン酸
類,アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル類,ア
ルキルベタイン型等の両性界面活性剤等が使用される。
これら帯電防止剤として使用し得る界面活性剤化合物
例の一部は特開昭60−28025号、米国特許227
1623号,同2240472号,同2288226
号,同2676122号,同2676924号,同26
76975号,同2691566号,同2727860
号,同2730498号,同2742379号,同27
39891号,同3068101号,同3158484
号,同3201253号,同3210191号,同32
94540号,同3415649号,同3441413
号,同3442654号,同3475174号,同35
45974号,西独特許公開(OLS)1942665
号,英国特許1077317号,同1198450号等
をはじめ,小田良平他著『界面活性剤の合成とその応
用』(槙書店1972年版);A.W.ベイリ著『サ−
フエス アクテイブ エ−ジエンツ』(インタ−サイエ
ンス パブリケ−ション コ−ポレイテッド1985年
版);T.P.シスリ−著『エンサイクロペディア オ
ブ サ−フエスアクティブ エ−ジェンツ,第2巻』
(ケミカルパブリシュカンパニ−1964年版);『界
面活性剤便覧』第六刷(産業図書株式会社,昭和41年
12月20日);丸茂秀雄著『帯電防止剤』幸書房(1
968)等の成書に記載されている。これらの界面活性
剤は単独または混合して添加しても良い。記録テープに
おける,これらの界面活性剤の使用量は,強磁性金属粉
末100重量部当たり通常、0.01〜10重量部であ
る。これらは帯電防止剤として用いられるものである
が,時としてそのほかの目的,例えば分散,磁気特性の
改良,潤滑性の改良,塗布助剤、湿潤剤、硬化促進剤、
分散促進剤として適用される場合もある。
以外の帯電防止剤としてはグラファイト,変成グラファ
イト,カ−ボンブラックグラフトポリマ−,酸化錫−酸
化アンチモン,酸化錫,酸化チタン−酸化錫−酸化アン
チモン,等の導電性粉末;サポニン等の天然界面活性
剤;アルキレンオキサイド系,グリセリン系,グリシド
−ル系,多価アルコ−ル,多価アルコ−ルエステル,ア
ルキルフェノ−ルEO付加体等のノニオン界面活性剤;
高級アルキルアミン類,環状アミン,ヒダントイン誘導
体,アミドアミン,エステルアミド,第四級アンモニウ
ム塩類,ピリジンそのほかの複素環類,ホスホニウムま
たはスルホニウム類等のカチオン界面活性剤;カルボン
酸,スルホン酸,ホスホン酸、燐酸,硫酸エステル基,
ホスホン酸エステル、燐酸エステル基などの酸性基を含
むアニオン界面活性剤;アミノ酸類;アミノスルホン酸
類,アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル類,ア
ルキルベタイン型等の両性界面活性剤等が使用される。
これら帯電防止剤として使用し得る界面活性剤化合物
例の一部は特開昭60−28025号、米国特許227
1623号,同2240472号,同2288226
号,同2676122号,同2676924号,同26
76975号,同2691566号,同2727860
号,同2730498号,同2742379号,同27
39891号,同3068101号,同3158484
号,同3201253号,同3210191号,同32
94540号,同3415649号,同3441413
号,同3442654号,同3475174号,同35
45974号,西独特許公開(OLS)1942665
号,英国特許1077317号,同1198450号等
をはじめ,小田良平他著『界面活性剤の合成とその応
用』(槙書店1972年版);A.W.ベイリ著『サ−
フエス アクテイブ エ−ジエンツ』(インタ−サイエ
ンス パブリケ−ション コ−ポレイテッド1985年
版);T.P.シスリ−著『エンサイクロペディア オ
ブ サ−フエスアクティブ エ−ジェンツ,第2巻』
(ケミカルパブリシュカンパニ−1964年版);『界
面活性剤便覧』第六刷(産業図書株式会社,昭和41年
12月20日);丸茂秀雄著『帯電防止剤』幸書房(1
968)等の成書に記載されている。これらの界面活性
剤は単独または混合して添加しても良い。記録テープに
おける,これらの界面活性剤の使用量は,強磁性金属粉
末100重量部当たり通常、0.01〜10重量部であ
る。これらは帯電防止剤として用いられるものである
が,時としてそのほかの目的,例えば分散,磁気特性の
改良,潤滑性の改良,塗布助剤、湿潤剤、硬化促進剤、
分散促進剤として適用される場合もある。
【0088】本発明の分散,混練,塗布の際に使用する
有機溶媒としては,任意の比率でアセトン,メチルエチ
ルケトン,メチルイソブチルケトン,シクロヘキサノ
ン,イソホロン,テトラヒドロフラン等のケトン系;メ
タノ−ル,エタノ−ル,プロパノ−ル,ブタノ−ル,イ
ソブチルアルコ−ル,イソプロピルアルコ−ル,メチル
シクロヘキサノ−ルなどのアルコ−ル系;酢酸メチル,
酢酸エチル,酢酸ブチル,酢酸イソブチル,酢酸イソプ
ロピル,乳酸エチル,酢酸グリコ−ルモノエチルエ−テ
ル等のエステル系;ジエチルエ−テル,テトラヒドロフ
ラン,グリコ−ルジメチルエ−テル,グリコ−ルモノエ
チルエ−テル,ジオキサンなどのエ−テル系;ベンゼ
ン,トルエン,キシレン,クレゾ−ル,クロルベンゼ
ン,スチレンなどのタ−ル系(芳香族炭化水素);メチ
レンクロライド,エチレンクロライド,四塩化炭素,ク
ロロホルム,エチレンクロルヒドリン,ジクロルベンゼ
ン等の塩素化炭化水素,N,N−ジメチルホルムアルデ
ヒド,ヘキサン等のものが使用できる。またこれら溶媒
は通常任意の比率で2種以上で用いる。また1重量%以
下の量で微量の不純物(その溶媒自身の重合物、水分、
原料成分等)を含んでもよい。
有機溶媒としては,任意の比率でアセトン,メチルエチ
ルケトン,メチルイソブチルケトン,シクロヘキサノ
ン,イソホロン,テトラヒドロフラン等のケトン系;メ
タノ−ル,エタノ−ル,プロパノ−ル,ブタノ−ル,イ
ソブチルアルコ−ル,イソプロピルアルコ−ル,メチル
シクロヘキサノ−ルなどのアルコ−ル系;酢酸メチル,
酢酸エチル,酢酸ブチル,酢酸イソブチル,酢酸イソプ
ロピル,乳酸エチル,酢酸グリコ−ルモノエチルエ−テ
ル等のエステル系;ジエチルエ−テル,テトラヒドロフ
ラン,グリコ−ルジメチルエ−テル,グリコ−ルモノエ
チルエ−テル,ジオキサンなどのエ−テル系;ベンゼ
ン,トルエン,キシレン,クレゾ−ル,クロルベンゼ
ン,スチレンなどのタ−ル系(芳香族炭化水素);メチ
レンクロライド,エチレンクロライド,四塩化炭素,ク
ロロホルム,エチレンクロルヒドリン,ジクロルベンゼ
ン等の塩素化炭化水素,N,N−ジメチルホルムアルデ
ヒド,ヘキサン等のものが使用できる。またこれら溶媒
は通常任意の比率で2種以上で用いる。また1重量%以
下の量で微量の不純物(その溶媒自身の重合物、水分、
原料成分等)を含んでもよい。
【0089】これらの溶剤は磁性液、下塗液の合計固形
分100重量部に対して100〜20000重量部で用
いられる。好ましい磁性液の固形分率は10〜40重量
%である。有機溶媒の代わりに水系溶媒(水、アルコー
ル、アセトン等)を使用することもできる。磁性層の形
成は上記の組成などを任意に組合せて有機溶媒に溶解
し,塗布溶液として支持体上に塗布・乾燥・配向する。
支持体は塗布に先立って,コロナ放電処理,プラズマ処
理,下塗処理,熱処理,除塵埃処理,金属烝着処理,ア
ルカリ処理をおこなってもよい。これら支持体に関して
は例えば 西独特許3338854A,特開昭59−1
16926号,特開昭61−129731号,米国特許
4388368号;三石幸夫著,『繊維と工業』31巻
p50〜55,1975年などに記載されている。ま
たこれら支持体のヤング率(F5値)は目的に応じて、
巾方向、長手方向とも2〜30Kg/mm2 (1Kg/
m2 =9.8Pa)を選択することが出来る。
分100重量部に対して100〜20000重量部で用
いられる。好ましい磁性液の固形分率は10〜40重量
%である。有機溶媒の代わりに水系溶媒(水、アルコー
ル、アセトン等)を使用することもできる。磁性層の形
成は上記の組成などを任意に組合せて有機溶媒に溶解
し,塗布溶液として支持体上に塗布・乾燥・配向する。
支持体は塗布に先立って,コロナ放電処理,プラズマ処
理,下塗処理,熱処理,除塵埃処理,金属烝着処理,ア
ルカリ処理をおこなってもよい。これら支持体に関して
は例えば 西独特許3338854A,特開昭59−1
16926号,特開昭61−129731号,米国特許
4388368号;三石幸夫著,『繊維と工業』31巻
p50〜55,1975年などに記載されている。ま
たこれら支持体のヤング率(F5値)は目的に応じて、
巾方向、長手方向とも2〜30Kg/mm2 (1Kg/
m2 =9.8Pa)を選択することが出来る。
【0090】分散、混練の方法には特に制限はなく,ま
た各成分の添加順序(樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等)、
分散・混練中の添加位置、分散温度(0〜80℃)など
は適宜設定することができる。磁性塗料および各種塗料
の調製には通常の混練機,例えば,二本ロ−ルミル,三
本ロ−ルミル,ボ−ルミル,ペブルミル,トロンミル,
サンドグラインダ−,ツエ グバリ(Szegvari)
アトライタ−,高速インペラ−,分散機,高速スト−ン
ミル,高速度衝撃ミル,ディスパ−,ニ−ダ−,高速ミ
キサ−,リボンブレンダ−,コニ−ダ−,インテンシブ
ミキサ−,タンブラ−,ブレンダ−,ディスパ−ザ−,
ホモジナイザ−,単軸スクリュ−押し出し機,二軸スク
リュ−押し出し機,及び超音波分散機などを用いること
ができる。通常分散・混練にはこれらの分散・混練機を
複数備え、連続的に処理を行う。混練分散に関する技術
の詳細は,T.C.PATTON著(テ−.シ−.パッ
トン)“Paint Flow and Pigmen
t Dispersion”(ペイント フロ− アン
ド ピグメント デイ スパ−ジョン)1964年Joh
n Wiley & Sons社発行(ジョン ウイリ
− アンド サンズ))や田中信一著『工業材料』25
巻37(1977)などや当該書籍の引用文献に記載さ
れている。これら分散、混練の補助材料として分散・混
練を効率よく進めるため、球相当径で10cmφ〜0.
05mmφの径のスチールボール、スチールビーズ、セ
ラミツクビーズ、ガラスビーズ、有機ポリマービーズを
用いることが出来る。またこれら材料は球形に限らな
い。また,米国特許第2581414号及び同第285
5156号などの明細書にも記載がある。本発明におい
ても上記の書籍や当該書籍の引用文献などに記載された
方法に準じて混練分散を行い磁性塗料および、塗料を調
製することができる。
た各成分の添加順序(樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等)、
分散・混練中の添加位置、分散温度(0〜80℃)など
は適宜設定することができる。磁性塗料および各種塗料
の調製には通常の混練機,例えば,二本ロ−ルミル,三
本ロ−ルミル,ボ−ルミル,ペブルミル,トロンミル,
サンドグラインダ−,ツエ グバリ(Szegvari)
アトライタ−,高速インペラ−,分散機,高速スト−ン
ミル,高速度衝撃ミル,ディスパ−,ニ−ダ−,高速ミ
キサ−,リボンブレンダ−,コニ−ダ−,インテンシブ
ミキサ−,タンブラ−,ブレンダ−,ディスパ−ザ−,
ホモジナイザ−,単軸スクリュ−押し出し機,二軸スク
リュ−押し出し機,及び超音波分散機などを用いること
ができる。通常分散・混練にはこれらの分散・混練機を
複数備え、連続的に処理を行う。混練分散に関する技術
の詳細は,T.C.PATTON著(テ−.シ−.パッ
トン)“Paint Flow and Pigmen
t Dispersion”(ペイント フロ− アン
ド ピグメント デイ スパ−ジョン)1964年Joh
n Wiley & Sons社発行(ジョン ウイリ
− アンド サンズ))や田中信一著『工業材料』25
巻37(1977)などや当該書籍の引用文献に記載さ
れている。これら分散、混練の補助材料として分散・混
練を効率よく進めるため、球相当径で10cmφ〜0.
05mmφの径のスチールボール、スチールビーズ、セ
ラミツクビーズ、ガラスビーズ、有機ポリマービーズを
用いることが出来る。またこれら材料は球形に限らな
い。また,米国特許第2581414号及び同第285
5156号などの明細書にも記載がある。本発明におい
ても上記の書籍や当該書籍の引用文献などに記載された
方法に準じて混練分散を行い磁性塗料および、塗料を調
製することができる。
【0091】支持体上へ前記の磁気記録層用塗布液を塗
布する方法としては塗布液の粘度を1〜20000セン
チストークス(25°C)に調整し、エア−ドクタ−コ
−ター,ブレ−ドコ−ター,エアナイフコ−ター,スク
イズコ−ター,含浸コ−ター,リバ−スロ−ルコ−タ
ー,トランスファ−ロ−ルコ−ター,グラビアコ−タ
ー,キスコ−ター,キヤストコ−ター,スプレイコ−タ
ー、ロッドコ−ター、正回転ロ−ルコ−ター、カ−テン
コ−ター、押出コ−ター、バ−コ−ター、リップコータ
等が利用出来,その他の方法も可能であり,これらの具
体的説明は朝倉書店発行の『コ−テイング工学』253
頁〜277頁(昭和46.3.20.発行)等に詳細に
記載されている。これら塗布液の塗布の順番は任意に選
択でき、また所望の液の塗布の前に下塗り層あるいは支
持体との密着力向上のためにコロナ放電処理等を行って
も良い。
布する方法としては塗布液の粘度を1〜20000セン
チストークス(25°C)に調整し、エア−ドクタ−コ
−ター,ブレ−ドコ−ター,エアナイフコ−ター,スク
イズコ−ター,含浸コ−ター,リバ−スロ−ルコ−タ
ー,トランスファ−ロ−ルコ−ター,グラビアコ−タ
ー,キスコ−ター,キヤストコ−ター,スプレイコ−タ
ー、ロッドコ−ター、正回転ロ−ルコ−ター、カ−テン
コ−ター、押出コ−ター、バ−コ−ター、リップコータ
等が利用出来,その他の方法も可能であり,これらの具
体的説明は朝倉書店発行の『コ−テイング工学』253
頁〜277頁(昭和46.3.20.発行)等に詳細に
記載されている。これら塗布液の塗布の順番は任意に選
択でき、また所望の液の塗布の前に下塗り層あるいは支
持体との密着力向上のためにコロナ放電処理等を行って
も良い。
【0092】また磁性層を多層で構成したり、磁性層と
支持体の間に中間層を形成したいときは、同時多層塗
布、逐次多層塗布等を行ってもよい。これらは,例え
ば,特開昭57−123532号公報,特公昭62−3
7451号公報,特開昭59−142741号公報、特
開昭59−165239号公報の明細書等にしめされて
いる。
支持体の間に中間層を形成したいときは、同時多層塗
布、逐次多層塗布等を行ってもよい。これらは,例え
ば,特開昭57−123532号公報,特公昭62−3
7451号公報,特開昭59−142741号公報、特
開昭59−165239号公報の明細書等にしめされて
いる。
【0093】光記録層と磁性層は、どちらか一方を塗布
した後、残りのものを塗布してもよいが、両層を順次に
互いに異なる支持体面に塗布、乾燥することが好まし
い。この場合、磁性層と支持体の間に中間層を設ける場
合、磁性層と中間層との同時重層塗布法と上記塗布法を
併用することもできる。また、光記録層上に保護層を設
ける場合、光記録層及び保護層の同時重層と磁性層及び
中間層の同時重層を順次に形成することも可能である。
した後、残りのものを塗布してもよいが、両層を順次に
互いに異なる支持体面に塗布、乾燥することが好まし
い。この場合、磁性層と支持体の間に中間層を設ける場
合、磁性層と中間層との同時重層塗布法と上記塗布法を
併用することもできる。また、光記録層上に保護層を設
ける場合、光記録層及び保護層の同時重層と磁性層及び
中間層の同時重層を順次に形成することも可能である。
【0094】このような方法により,支持体上に約1〜
100μmほどで塗布された磁性液は必要により層中の
磁性粉末を直ちに20〜130°Cで多段階で乾燥しな
がら50000〜500000μT程の磁束密度で所望
の方向(垂直、長手、幅、ランダム、斜め等)へ配向さ
せる処理を施したのち,形成した磁性層を0.05〜2
μm厚みに乾燥する。このときの支持体の搬送速度は,
通常10m/分〜900m/分で行われ,複数の乾燥ゾ
ーンで乾燥温度を20℃〜130℃で制御し塗布膜の残
留溶剤量を0.1〜40mg/m2 とする。又必要によ
り表面平滑化加工を施し磁性層の中心面平均表面粗さを
0.5〜5nm(3Dミロー)とし,所望の形状に裁断
したりして,本発明の記録媒体を製造する。これらの製
造方法は粉体の予備処理・表面処理、混練・分散、塗布
・配向・乾燥、平滑処理、熱処理、EB処理、表面研磨
処理、裁断、巻き取りの工程を連続して行うことが望ま
しい。これらは,例えば,特公昭40−23625号公
報,特公昭39−28368号公報,特公昭47−38
802号公報、英国特許1191424号、特公昭48
−11336号公報、特開昭49−53631号、特開
昭50−112005号、特開昭51−77303号、
特公昭52−17404号、特開昭60−70532号
公報、特開平2−265672号、米国特許第3473
960号、米国特許第4728569号、米国特許47
46542号明細書等にしめされている。又,特公昭4
1−13181号公報にしめされる方法はこの分野にお
ける基本的,且つ重要な技術と考えられている。
100μmほどで塗布された磁性液は必要により層中の
磁性粉末を直ちに20〜130°Cで多段階で乾燥しな
がら50000〜500000μT程の磁束密度で所望
の方向(垂直、長手、幅、ランダム、斜め等)へ配向さ
せる処理を施したのち,形成した磁性層を0.05〜2
μm厚みに乾燥する。このときの支持体の搬送速度は,
通常10m/分〜900m/分で行われ,複数の乾燥ゾ
ーンで乾燥温度を20℃〜130℃で制御し塗布膜の残
留溶剤量を0.1〜40mg/m2 とする。又必要によ
り表面平滑化加工を施し磁性層の中心面平均表面粗さを
0.5〜5nm(3Dミロー)とし,所望の形状に裁断
したりして,本発明の記録媒体を製造する。これらの製
造方法は粉体の予備処理・表面処理、混練・分散、塗布
・配向・乾燥、平滑処理、熱処理、EB処理、表面研磨
処理、裁断、巻き取りの工程を連続して行うことが望ま
しい。これらは,例えば,特公昭40−23625号公
報,特公昭39−28368号公報,特公昭47−38
802号公報、英国特許1191424号、特公昭48
−11336号公報、特開昭49−53631号、特開
昭50−112005号、特開昭51−77303号、
特公昭52−17404号、特開昭60−70532号
公報、特開平2−265672号、米国特許第3473
960号、米国特許第4728569号、米国特許47
46542号明細書等にしめされている。又,特公昭4
1−13181号公報にしめされる方法はこの分野にお
ける基本的,且つ重要な技術と考えられている。
【0095】このように支持体に磁性層と光記録層を設
けた記録テープを裁断したあと所望のプラスチックや金
属のリールに巻き取る。巻き取る直前ないしはそれ以前
の工程において記録テープ(磁性層、エッジ端面、ベー
ス面)をバーニシュおよびまたはクリーニングを行うこ
とが望ましい。バーニツシュは記録テープを具体的にサ
ファイア刃、剃刀刃、超硬材料刃、ダイアモンド刃、セ
ラミックス刃のような硬い材料により記録テープ表面の
突起部分をそぎおとし平滑にする。これら材料のモース
硬度は8以上が好ましいが特に制限はなく突起を除去で
きるものであれば良い。これら材料の形状は特に刃であ
る必要はなく、角型、丸型、ホイール(回転する円筒形
状の周囲にこれらの材質を付与しても良い)のような形
状でも使用できる。また記録テープのクリーニングは、
記録テープ表面の汚れや余分な潤滑剤を除去する目的で
記録テープ表層を不織布などで磁性層面、エッジ端面、
光記録層側の面をワイピングすることにより行う。この
ようなワイピングの材料としては例えば日本バイリーン
製の各種バイリーンや東レ製のトレシー、エクセーヌ、
商品名キムワイプ、富士写真フィルム製各種研磨テー
プ、また不織布はナイロン製不織布、ポリエステル製不
織布、レーヨン製不織布、アクリロニトリル製不織布、
混紡不織布など、ティッシュペーパー等が使用できる。
これらは例えば特公昭46−39309号、特公昭58
−46768号、特開昭56−90429号、特公昭5
8−46767号、特開昭63−259830号、特開
平1−201824号等にも記載されている。
けた記録テープを裁断したあと所望のプラスチックや金
属のリールに巻き取る。巻き取る直前ないしはそれ以前
の工程において記録テープ(磁性層、エッジ端面、ベー
ス面)をバーニシュおよびまたはクリーニングを行うこ
とが望ましい。バーニツシュは記録テープを具体的にサ
ファイア刃、剃刀刃、超硬材料刃、ダイアモンド刃、セ
ラミックス刃のような硬い材料により記録テープ表面の
突起部分をそぎおとし平滑にする。これら材料のモース
硬度は8以上が好ましいが特に制限はなく突起を除去で
きるものであれば良い。これら材料の形状は特に刃であ
る必要はなく、角型、丸型、ホイール(回転する円筒形
状の周囲にこれらの材質を付与しても良い)のような形
状でも使用できる。また記録テープのクリーニングは、
記録テープ表面の汚れや余分な潤滑剤を除去する目的で
記録テープ表層を不織布などで磁性層面、エッジ端面、
光記録層側の面をワイピングすることにより行う。この
ようなワイピングの材料としては例えば日本バイリーン
製の各種バイリーンや東レ製のトレシー、エクセーヌ、
商品名キムワイプ、富士写真フィルム製各種研磨テー
プ、また不織布はナイロン製不織布、ポリエステル製不
織布、レーヨン製不織布、アクリロニトリル製不織布、
混紡不織布など、ティッシュペーパー等が使用できる。
これらは例えば特公昭46−39309号、特公昭58
−46768号、特開昭56−90429号、特公昭5
8−46767号、特開昭63−259830号、特開
平1−201824号等にも記載されている。
【0096】本発明に使用される強磁性金属粉末又は非
磁性粉末,結合剤,添加剤(潤滑剤,分散剤,帯電防止
剤,表面処理剤,カ−ボンブラック,研磨剤,遮光剤,
酸化防止剤,防黴剤,等),溶剤及び支持体(下塗層を
有してもよい)或いは記録テープの製法等は特公昭56
−26890号等に記載されているものも参考にでき
る。
磁性粉末,結合剤,添加剤(潤滑剤,分散剤,帯電防止
剤,表面処理剤,カ−ボンブラック,研磨剤,遮光剤,
酸化防止剤,防黴剤,等),溶剤及び支持体(下塗層を
有してもよい)或いは記録テープの製法等は特公昭56
−26890号等に記載されているものも参考にでき
る。
【0097】
【実施例】以下に本発明を実施例により更に具体的に説
明する。ここに示す成分,割合,操作順序等は本発明の
精神から逸脱しない範囲において変更しうるものである
ことは本業界に携わるものにとつては容易に理解される
ことである。従って,本発明は 下記の実施例に制限さ
れるべきではない。猶を,実施例中の部は重量部を示
す。
明する。ここに示す成分,割合,操作順序等は本発明の
精神から逸脱しない範囲において変更しうるものである
ことは本業界に携わるものにとつては容易に理解される
ことである。従って,本発明は 下記の実施例に制限さ
れるべきではない。猶を,実施例中の部は重量部を示
す。
【0098】 実施例1 磁性層 強磁性金属粉末 Fe/Co=10/3 重量比 100部 Hc:147200A/m、σs:135emu/g、 平均長軸長:0.12μm、結晶子サイズ 160 Å Al2O3 とY2O3とを含有 塩化ビニル共重合体(重合度300 、SO3Na :4×10-5eq/g) 10部 ポリエステルポリウレタン樹脂 6部 カーボンブラック粉末(平均粒子径 85nm) 1部 α−Al2 O3 粉末(住友化学製Hit55 ) 8部 ステアリン酸ブチル 1部 メチルエチルケトン 10部 シクロヘキサノン 20部 上記組成をオープンニーダーで混練し、その後メチルエ
チルケトン90部、シクロヘキサノン80部で希釈した
後、サンドグラインダーを用いてジルコニアビーズで分
散し、その後、ステアリン酸 1部、コロネートL 1
0部を加えて、磁性層塗布液を調製した。
チルケトン90部、シクロヘキサノン80部で希釈した
後、サンドグラインダーを用いてジルコニアビーズで分
散し、その後、ステアリン酸 1部、コロネートL 1
0部を加えて、磁性層塗布液を調製した。
【0099】 中間層 αヘマタイト 80部 平均長軸長0.18μm、平均短軸長0.02μm、SSA:65m2/g、 pH:7.5 カーボンブラック(平均粒子径16nm、SSA:180m2/g ) 20部 塩化ビニル共重合体(重合度300, SO3Na:4×10-5eq/g) 12部 ポリエステルポリウレタン樹脂 5部 α−Al2 O3 粉末(住友化学製Hit55 ) 5部 ステアリン酸ブチル 1部 メチルエチルケトン 8部 シクロヘキサノン 20部 上記組成をオープンニーダーで混練し、その後メチルエ
チルケトン80部、シクロヘキサノン80部で希釈した
後、サンドグラインダーを用いてジルコニアビーズで分
散し、その後、ステアリン酸 1部、コロネートL 1
0部を加えて、中間層塗布液を調製した。
チルケトン80部、シクロヘキサノン80部で希釈した
後、サンドグラインダーを用いてジルコニアビーズで分
散し、その後、ステアリン酸 1部、コロネートL 1
0部を加えて、中間層塗布液を調製した。
【0100】 光記録層 TiO2(石原産業製TTO-55B ) 50部 シアニン色素(下記構造) 50部
【0101】
【化2】
【0102】 ニトロセルロース(RS1/2 :ダイセル社製) 20部 ポリエステルポリウレタン(東洋紡績社製,UR-8300) 20部 フェノキシ樹脂(UCC社製,RKHH) 25部 αアルミナ(平均粒子径:0.1μm) 1部 ベンゾグアナミン樹脂粉末 平均粒子径0.1μm 1部 メチルエチルケトン 10部 シクロヘキサノン 40部 上記組成をオープンニーダーで混練した後、ロールミルで混練し、その後、 メチルエチルケトン 200部 シクロヘキサノン 200部 で希釈し、ジルコニアビーズを用いたサンドグラインダーで分散した。その後 コロネートL 10部 メチルエチルケトン 200部 を添加して、光記録層塗布液とした。
【0103】支持体 常法によって作成したポリエチレンテレフタレートフィ
ルム:A(厚み:6μm、Ra:4nm、Rt:40nm)とその
表面に、アルミニウムを蒸着して、0.05μmのアルミニ
ウム金属膜を設けたポリエチレンテレフタレートフィル
ム:Bとを準備した。
ルム:A(厚み:6μm、Ra:4nm、Rt:40nm)とその
表面に、アルミニウムを蒸着して、0.05μmのアルミニ
ウム金属膜を設けたポリエチレンテレフタレートフィル
ム:Bとを準備した。
【0104】上記分散液を用いて、まず、支持体表面を
クリーニングした後にバインダーを用いた接着層を設
け、その後、中間層塗布液、磁性層塗布液を、乾燥後の
厚みで1μm、0.25μmになるように、ウェット・オン
・ウェット法(wet /wet)で塗布した後、磁場5570
00A/mの磁石と318000A/mのソレノイド磁
石を用いて、面内長手方向に配向した後、温風により乾
燥させた。その後、上記光記録層塗布液を乾燥後の厚み
が0.4μmになるように塗布し、カレンダー、キュアリ
ングした後、1/2吋にスリットして、コンピューターテ
ープを得た。
クリーニングした後にバインダーを用いた接着層を設
け、その後、中間層塗布液、磁性層塗布液を、乾燥後の
厚みで1μm、0.25μmになるように、ウェット・オン
・ウェット法(wet /wet)で塗布した後、磁場5570
00A/mの磁石と318000A/mのソレノイド磁
石を用いて、面内長手方向に配向した後、温風により乾
燥させた。その後、上記光記録層塗布液を乾燥後の厚み
が0.4μmになるように塗布し、カレンダー、キュアリ
ングした後、1/2吋にスリットして、コンピューターテ
ープを得た。
【0105】実施例2 実施例1において、支持体にBのアルミニウムを蒸着し
た支持体を用いて、アルミニウム蒸着していない面に中
間層、磁性層の順に塗布層を設け、その逆の面に上記光
記録層を設けた。 参考例 実施例1において、光記録層塗布液に代えて以下の組成
のBC層液を採用し、同様にして1/2吋コンピューター
用テープを作成した。
た支持体を用いて、アルミニウム蒸着していない面に中
間層、磁性層の順に塗布層を設け、その逆の面に上記光
記録層を設けた。 参考例 実施例1において、光記録層塗布液に代えて以下の組成
のBC層液を採用し、同様にして1/2吋コンピューター
用テープを作成した。
【0106】以下の処方により塗布液を調整した。 BC層処方 カーボンブラック 100部 SBET 220m2/g 平均粒径 17mμ DBP吸油量 75ml/100g 揮発分 1.5% pH 8.0 嵩密度 15 lbs/ft3 ニトロセルロース RS1/2 100部 ポリエステルポリウレタン 30部 ニッポラン(日本ポリウレタン社製) 分散剤 オレイン酸銅 10部 銅フタロシアニン 10部 硫酸バリウム 5部 メチルエチルケトン 500部 トルエン 500部 上記組成を予備混練し、ロールミルで混練した。次に上
記分散物100重量部に対して、 カーボンブラック 100部 SBET 200m2/g 平均粒径 200mμ DBP吸油量 36ml/100g pH 8.5 α−Al2 O3 (平均粒径 0.2μm) 0.1部 を添加した組成にてサンドグラインダーで分散を行い、
濾過後、上記分散物100重量部に対して以下の組成を
添加し、塗布液を調整した。
記分散物100重量部に対して、 カーボンブラック 100部 SBET 200m2/g 平均粒径 200mμ DBP吸油量 36ml/100g pH 8.5 α−Al2 O3 (平均粒径 0.2μm) 0.1部 を添加した組成にてサンドグラインダーで分散を行い、
濾過後、上記分散物100重量部に対して以下の組成を
添加し、塗布液を調整した。
【0107】 メチルエチルケトン 120部 ポリイソシアネート 5部 得られた塗布液をバーコーターにより、前記磁性層を設
けた非磁性支持体の反対側に乾燥厚み0.5μmになる
ように塗布した。以上のようにして作成した磁気記録テ
ープを以下のように評価した。 <磁気テープ評価方法>まず、実施例1,2の磁気テー
プの光記録層の面に以下の条件でサーボ信号を記録し
た。
けた非磁性支持体の反対側に乾燥厚み0.5μmになる
ように塗布した。以上のようにして作成した磁気記録テ
ープを以下のように評価した。 <磁気テープ評価方法>まず、実施例1,2の磁気テー
プの光記録層の面に以下の条件でサーボ信号を記録し
た。
【0108】半導体レーザー:波長680nm レーザービーム径:1μm 線速度:毎秒2m 記録パワー:8mW 参考例1のテープにはIBM製3590ドライブ用の磁気的な
サーボ信号を磁性層面に記録した。実施例1,2にはIB
M製3590ドライブを改造し、光記録層面に記録されたサ
ーボ信号を読みとるようにした。それぞれに誤り率を測
定した。結果を表1に示す。
サーボ信号を磁性層面に記録した。実施例1,2にはIB
M製3590ドライブを改造し、光記録層面に記録されたサ
ーボ信号を読みとるようにした。それぞれに誤り率を測
定した。結果を表1に示す。
【0109】
【表1】
【0110】以上から、本発明の記録テープでも、従来
のように磁性層にサーボ信号を記録した磁気テープと同
様の誤り率が得られることが明らかになった。本発明を
用いることにより、磁性層面にサーボ信号を記録する必
要がなくなるので、より記録密度を高めることが可能に
なることが明らかになった。
のように磁性層にサーボ信号を記録した磁気テープと同
様の誤り率が得られることが明らかになった。本発明を
用いることにより、磁性層面にサーボ信号を記録する必
要がなくなるので、より記録密度を高めることが可能に
なることが明らかになった。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/26 531 G11B 7/26 531
Claims (3)
- 【請求項1】 支持体の一方の面に強磁性粉末とバイン
ダーからなる磁性層を有し、支持体の他方の面に非磁性
粉末、色素及びバインダーからなる光記録層を有するこ
とを特徴とする記録テープ。 - 【請求項2】 上記支持体と光記録層の間に、金属を主
成分とする反射層を設けたことを特徴とする請求項1に
記載の記録テープ。 - 【請求項3】 光記録層の長手方向にサーボ信号を記録
することを特徴とする請求項1又は2に記載の磁気記録
テープ
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10246325A JP2000076730A (ja) | 1998-08-31 | 1998-08-31 | 磁性層と光記録層を有する記録テープ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10246325A JP2000076730A (ja) | 1998-08-31 | 1998-08-31 | 磁性層と光記録層を有する記録テープ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000076730A true JP2000076730A (ja) | 2000-03-14 |
Family
ID=17146890
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10246325A Pending JP2000076730A (ja) | 1998-08-31 | 1998-08-31 | 磁性層と光記録層を有する記録テープ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000076730A (ja) |
-
1998
- 1998-08-31 JP JP10246325A patent/JP2000076730A/ja active Pending
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