JP2000072484A - 熱線遮蔽材料とこれを用いた塗布液、熱線遮蔽膜 - Google Patents

熱線遮蔽材料とこれを用いた塗布液、熱線遮蔽膜

Info

Publication number
JP2000072484A
JP2000072484A JP11069398A JP6939899A JP2000072484A JP 2000072484 A JP2000072484 A JP 2000072484A JP 11069398 A JP11069398 A JP 11069398A JP 6939899 A JP6939899 A JP 6939899A JP 2000072484 A JP2000072484 A JP 2000072484A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat ray
film
ray shielding
fine particles
shielding film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11069398A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3262098B2 (ja
Inventor
Hiroko Kuno
裕子 久野
Hiromitsu Takeda
広充 武田
Kenji Adachi
健治 足立
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP06939899A priority Critical patent/JP3262098B2/ja
Publication of JP2000072484A publication Critical patent/JP2000072484A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3262098B2 publication Critical patent/JP3262098B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 可視光領域の光の透過率が高くて反射率が低
く、近赤外領域の光の透過率が低くて反射率が高い熱線
遮蔽材料、器材、膜の導電性が概ね106Ω/□以上に
制御可能な膜と、それを簡便な塗布法で成膜できる塗布
液を提供する。 【解決手段】 La、Pr、Nd、Ce、Y、Ti、Z
r、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、および、Wの
群から選択される1種または2種以上の金属の平均粒径
100nm以下のホウ化物微粒子を含有した熱線遮蔽材
料、器材。また、これを分散した熱線遮蔽膜用塗布液。
更に、平均粒径100nm以下の酸化ルテニウム微粒子か
酸化イリジウム微粒子のうちの1種以上とを含有した熱
線遮蔽膜用塗布液。また、上記いずれかの塗布液を基材
に塗布後加熱して得た熱線遮蔽膜。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、車両、ビル、事務
所、一般住宅などの窓、電話ボックス、ショーウインド
ー、照明用ランプ、透明ケースなど、ガラス、プラスチ
ックスその他の各種熱線遮蔽機能を必要とする透明もし
くは半透明基材に用いる熱線遮蔽材料、これを用いた器
材、塗布液、熱線遮蔽膜に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、太陽光や電球などの外部光源から
熱成分を除去・減少する方法として、ガラス表面に可視
・赤外域の波長を反射する材料を利用して熱線反射ガラ
スとすることが行なわれていた。そして、熱線反射のた
めの材料には、FeOX、CoOX、CrOX、TiOX
の金属酸化物や、Ag、Au、Cu、Ni、Alなどの
自由電子を多量にもつ金属材料が選択されてきた。
【0003】しかし、これらの材料では熱効果に大きく
寄与する近赤外線以外に、可視光領域の光も同時に反射
もしくは吸収する性質があり、可視光透過率が低下して
しまう欠点があった。建材、乗り物、電話ボックスなど
に用いられる透明基材では、可視光領域の高い透過率が
必要とされ、これらの材料を利用する場合は可視光透過
率を高くするため膜厚を非常に薄くしなければならず、
従ってスプレー焼き付けやCVD法、或いはスパッタ法
や真空蒸着法などの物理成膜法を用いて10nmレベル
の極めて薄い薄膜に成膜して用いられることが通常行な
われてきた。
【0004】これらの成膜方法は大がかりな装置や真空
設備を必要とし、生産性、大面積化に問題があり、ま
た、膜の製造コストが高かった。
【0005】また、これらの膜は膜厚を薄くして透過率
を高くしようとすると熱線遮蔽特性が低下し、逆に膜厚
を厚くして熱線遮蔽特性を高くすると膜が暗くなってし
まう。さらに、これらの材料熱線遮蔽特性を高くしよう
とすると可視光領域の反射率も同時に高くなってしまう
傾向があり、鏡のようなギラギラした外観を与えて美観
を損ねてしまった。
【0006】さらに、これらの材料では膜の導電性が高
くなるものが多い。膜の導電性が高いと携帯電話やT
V、ラジオなどの電波を反射して受信不能になったり、
周辺地域に電波障害を引き起こすなどの欠点があった。
【0007】上記従来の欠点を改善するためには、膜の
物理特性として、可視光領域の光の反射率が低く、近赤
外領域の光の反射率が高く、かつ、膜の導電性が概ね1
6Ω/□以上に制御可能な膜を形成する必要があっ
た。しかしながら従来このような膜、或いはこのような
膜を形成する材料は知られていなかった。
【0008】可視光透過率が高く、かつ熱線遮蔽機能を
もつ材料としては、アンチモン含有酸化錫(ATO)
や、錫含有酸化インジウム(ITO)が知られている。
これらの材料は可視光反射率が比較的低く、ギラギラし
た外観を与えることはないが、プラズマ波長が近赤外域
の比較的長波長側にあり、可視光に近い近赤外域におけ
るこれらの膜の反射・吸収効果は十分でなかった。ま
た、物理成膜法でこれらの膜を形成した場合には、膜の
導電性が上がって電波を反射してしまう欠点があった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、上記
従来技術の問題点を解決し、可視光領域の光の透過率が
高くて反射率が低く、近赤外領域の光の透過率が低くて
反射率が高い熱線遮蔽材料、これを用いた器材、及び、
上記特性で更に導電性が概ね106Ω/□以上に制御可
能な膜を高コストの物理成膜法を用いずに簡便な塗布法
で成膜できる塗布液と、これを用いた熱線遮蔽膜とを提
供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明者らは、材料そのものの特性として自由電子
を多量に保有するホウ化物に着目し、種々検討の結果、
これを超微粒子化し、かつ高度に分散した器材や膜を作
製することにより、可視光領域に透過率の極大をもつと
ともに、可視光領域に近い近赤外域に強いプラズマ反射
を発現して透過率の極小をもつようになるという現象を
見出し、本発明を完成した。
【0011】すなわち、本発明の熱線遮蔽材料は、L
a、Pr、Nd、Ce、Y、Ti、Zr、Hf、V、N
b、Ta、Cr、Mo、および、Wの群から選択される
1種または2種以上の金属の平均粒径100nm以下の
ホウ化物微粒子を含有することを特徴とする。
【0012】また、本発明の他の熱線遮蔽材料は、L
a、Pr、Nd、Ce、Y、Ti、Zr、Hf、V、N
b、Ta、Cr、Mo、および、Wの群から選択される
1種または2種以上の金属の平均粒径100nm以下の
ホウ化物微粒子と、平均粒径100nm以下の酸化ルテ
ニウム微粒子、および、平均粒径100nm以下の酸化
イリジウム微粒子のうちの1種以上とを含有することを
特徴とする。
【0013】また、本発明の熱線遮蔽器材は、上記いず
れかの構成の熱線遮蔽材料を含有することを特徴とす
る。
【0014】また、本発明の熱線遮蔽膜形成用塗布液
は、上記いずれかの構成の熱線遮蔽材料が樹脂バインダ
ー中に分散されたことを特徴とする。
【0015】また、本発明の他の熱線遮蔽膜形成用塗布
液は、上記いずれかの構成の熱線遮蔽材料と、珪素、ジ
ルコニウム、チタン、もしくは、アルミニウムの金属ア
ルコキシド、または、金属アルコキシドの部分加水分解
重合物のうちの1種以上とが樹脂バインダー中に分散さ
れたことを特徴とする。
【0016】また、本発明の熱線遮蔽膜は、上記いずれ
かの構成の熱線遮蔽材料を含有することを特徴とする。
【0017】また、本発明の多層熱線遮蔽膜は、上記構
成の熱線遮蔽膜の上に更に、珪素、ジルコニウム、チタ
ン、および、アルミニウムの金属酸化物のうちの1種以
上を含有する酸化物膜が形成されたことを特徴とする。
【0018】また、これらの上に更に、樹脂膜を形成し
てもよい。
【0019】上記本発明によれば、透過率が、波長40
0〜700nmに極大値を、波長700〜1800nm
に極小値をもち、かつ、透過率の極大値と極小値との差
が百分率で15ポイント以上である熱線遮蔽膜が実現で
き、また、表面抵抗値が106Ω/□以上である熱線遮
蔽膜が実現できる。
【0020】
【発明の実施の形態】本発明に使用されるホウ化物微粒
子としては、ホウ化ランタン(LaB6)、ホウ化プラ
セオジウム(PrB6)、ホウ化ネオジウム(Nd
6)、ホウ化セリウム(CeB6)、ホウ化イットリウ
ム(YB6)、ホウ化チタン(TiB2)、ホウ化ジルコ
ニウム(ZrB2)、ホウ化ハフニウム(HfB2)、ホ
ウ化バナジウム(VB2)、ホウ化タンタル(Ta
2)、ホウ化クロム(CrB、CrB2)、ホウ化モリ
ブデン(MoB2、Mo25、MoB)、ホウ化タング
ステン(W25)などの微粒子がその代表的なものとし
て挙げられる。
【0021】また本発明に使用されるホウ化物微粒子
は、その表面が酸化していないことが好ましいが、通常
得られる物は僅かに酸化していることが多く、また微粒
子の分散工程で表面の酸化が起こることはある程度避け
られない。しかしその場合でも熱線遮蔽効果を発現する
有効性に変わりはない。
【0022】ホウ化物微粒子は結晶としての完全性が高
いほど大きい熱線遮蔽効果が得られるが、結晶性が低く
X線回折で極めてブロードな回折ピークを生じるような
ものであっても、微粒子内部の基本的な結合が金属とホ
ウ素の結合から成り立っているものであるならば熱線遮
蔽効果を発現する。
【0023】本発明に使用される酸化ルテニウム及び酸
化イリジウムの微粒子には、二酸化ルテニウム(RuO
2)、ルテニウム酸鉛(Pb2Ru26.5)、ルテニウム
酸ビスマス(Bi2Ru27)、二酸化イリジウム(I
rO2)、イリジウム酸ビスマス(Bi2Ir27)、イ
リジウム酸鉛(Pb2Ir26.5)などの微粒子がその
代表的な例として挙げられる。これらの微粒子は酸化物
として安定であり、また多量の自由電子を保有してお
り、極めて有効な熱線遮蔽機能をもっている。
【0024】上記ホウ化物微粒子、酸化ルテニウム微粒
子、酸化イリジウム微粒子は、灰黒色、茶黒色、緑黒色
などに着色した粉末であるが、粒径が可視光波長に比べ
て十分小さく薄膜中や透明器材中に分散した状態におい
ては、膜や器材に可視光透過性が生じる。しかし赤外光
遮蔽能は十分強く保持できる。
【0025】この理由は詳細には理解されていないが、
これら微粒子中の自由電子は量が多く、微粒子内部及び
表面の自由電子プラズモンによるプラズマ周波数がちょ
うど、可視〜近赤外の付近にあるために、この波長領域
の熱線が選択的に反射・吸収されるからだと考えられ
る。
【0026】実験によれば、これら微粒子を十分細かく
かつ均一に分散した膜では、透過率が波長400〜70
0nmに極大値をもち、かつ、波長700〜1800n
mに極小値をもち、さらにこれらの透過率の極大値と極
小値との差が百分率で15ポイント以上であることが観
察される。可視光波長が380〜780nmであり、視
感度が550nm付近をピークとする釣鐘型であること
を考慮すると、このような膜では可視光を有効に透過し
それ以外の熱線を有効に反射・吸収することが理解でき
る。
【0027】本発明において、塗布液中のホウ化物微粒
子、酸化ルテニウム微粒子、酸化イリジウム微粒子の平
均粒径は、100nm以下が良い。粒子径が100nm
よりも大きくなると、上に述べたような特有の透過率プ
ロファイル、すなわち透過率が波長400〜700nm
に極大値をもち、かつ、波長700〜1800nmに極
小値をもち、かつ、極大値と極小値との差が百分率で1
5ポイント以上であるようなプロファイルが得られず、
単調に透過率の減少した灰色っぽい膜になってしまう。
また、粒子径が100nmよりも大きい場合には、分散
液中の微粒子同士の凝集傾向が強くなり、微粒子の沈降
原因となってしまう。さらに100nm以上の微粒子も
しくはそれらの凝集した粗大粒子は、光散乱源となって
膜に曇り(ヘイズ)を生じたり、可視光透過率が減少す
る原因となるので好ましくない。従って上記無機微粒子
の平均粒径は100nm以下とする必要がある。なお、
通常、経済的に入手可能な最低の粒径は2nm程度の微
粒子であるが、下限をこれに限定するものではない。
【0028】塗布液中の微粒子の分散媒は特に限定され
るものではなく、塗布条件や塗布環境、塗布液中のアル
コキシド、樹脂バインダーなどに合わせて選択可能であ
る。例えば、水や、アルコール、エーテル、エステル、
ケトンなどの有機溶媒の各種が使用可能であり、また、
必要に応じて酸やアルカリを添加してpHを調整しても
良い。更に塗布液中微粒子の分散安定性を一層向上させ
るために、各種の界面活性剤、カップリング剤などを添
加することも可能である。そのときのそれぞれの添加量
は、無機微粒子に対して30重量%以下、好ましくは5
重量%以下である。
【0029】この塗布液を用いて膜を形成したときの膜
の導電性は、微粒子の接触箇所を経由した導電パスに沿
って行われるため、例えば界面活性剤やカップリング剤
の量を加減することで導電パスを部分的に切断すること
ができ、膜の導電性を106Ω/□以上の表面抵抗値へ
低下させることは容易である。
【0030】また珪素、ジルコニウム、チタン、アルミ
ニウムの金属アルコキシド、もしくはこれら金属アルコ
キシドの部分加水分解重合物、または合成樹脂バインダ
ーの含有量を加減することによっても導電性を制御でき
る。
【0031】上記微粒子の分散方法は、微粒子が均一に
溶液中に分散する方法であれば任意に選択できる。例え
ば、ビーズミル、ボールミル、サンドミルを用いる、超
音波分散する、などの方法を挙げることができる。
【0032】本発明の熱線遮蔽材料は、板状、シート
状、フィルム状のプラスティック樹脂やガラスなど、ま
た合わせガラスの中間膜などの透明器材を製造する際の
添加剤としても用いることができる。器材製造の際に
は、ホウ化物微粒子の多くが500〜700℃で酸化、
もしくは分解することに注意を要する。
【0033】本発明の熱線遮蔽膜は、基材上に上記微粒
子が高密度に堆積し膜を形成するものであり、塗布液中
に含まれる珪素、ジルコニウム、チタン、もしくは、ア
ルミニウムの金属アルコキシド、またはこれら金属の部
分加水分解重合物、または樹脂バインダーは、塗布、硬
化後、微粒子の基材への結着性を向上させ、更に膜の硬
度を向上させる効果がある。また、このようにして得ら
れた膜上に、更に珪素、ジルコニウム、チタン、もしく
は、アルミニウムなどの金属アルコキシドまたはこれら
金属アルコキシドの加水分解重合物、または樹脂を含有
する被膜を第2層として被着することで、微粒子を主成
分とする膜の基材への結着力や、膜の硬度や耐候性を一
層向上させる。
【0034】塗布液中に珪素、ジルコニウム、チタン、
アルミニウムの金属アルコキシド、もしくはこれら金属
の加水分解重合物、または樹脂バインダーを含まない場
合、この塗布液を基材に塗布後に得られる膜は、基材上
に上記微粒子のみが堆積した膜構造になる。このままで
も熱線遮蔽効果を示すが、この膜に上記と同様に更に珪
素、ジルコニウム、チタン、アルミニウムの金属アルコ
キシド、もしくはこれら金属の加水分解重合物、または
樹脂バインダーを含む塗布液を塗布して被膜を形成して
多層膜としてもよい。このようにすることにより、塗布
液成分が第1層の微粒子の堆積した間隙を埋めて成膜さ
れるため、膜のヘイズが低減し可視光透過率が向上し、
また微粒子の基材への結着性が向上する。
【0035】上記微粒子を主成分とする膜を、珪素、ジ
ルコニウム、チタン、アルミニウムの金属アルコキシ
ド、もしくはこれら金属の加水分解重合物からなる被膜
で結着する方法としては、スパッタ法や蒸着法も可能で
あるが、成膜工程の容易さやコストが低いなどの利点か
ら、塗布法が有効である。塗布液は、水やアルコール中
に珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウムの金属ア
ルコキシド、もしくはこれら金属の加水分解重合物を1
種もしくは2種以上含むものであり、その含有量は、加
熱後に得られる酸化物換算で全溶液中の40重量%以下
が好ましい。また必要に応じて酸やアルカリを添加して
pHを調整することも可能である。このような液を上記
微粒子を主成分とする膜上に更に第2層として塗布し加
熱することで、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニ
ウムなどの酸化物被膜を容易に作製することが可能であ
る。
【0036】本発明の塗布液、及び、本発明で用いる被
膜形成用の塗布液の塗布方法は特に限定されない。例え
ば、スピンコート法、スプレーコート法、ディップコー
ト法、スクリーン印刷法、ロールコート法、流し塗りな
ど、処理液を平坦かつ薄く均一に塗布できる方法であれ
ばよい。
【0037】上記金属アルコキシド及びその加水分解重
合物を含む塗布液の塗布後の基材加熱温度は、100℃
未満では塗膜中に含まれるアルコキシドまたはその加水
分解重合物の重合反応が未完結で残る場合が多く、また
水や有機溶媒が膜中に残留して加熱後の膜の可視光透過
率の低減の原因となるので、100℃以上が好ましく、
更に好ましくは塗布液中の溶媒の沸点以上で加熱を実施
する。
【0038】樹脂バインダーを使用した場合は、それぞ
れの硬化方法に従って硬化させれば良い。例えば、紫外
線硬化樹脂であれば紫外線を適宜照射すれば良く、また
常温硬化樹脂であれば塗布後そのまま放置しておけば良
い。このため、既存の窓ガラスなどへの現場での塗布が
可能である。
【0039】本発明の塗布液に使用するバインダー成分
として、或いはオーバーコート用の塗布液として、オル
ガノシラザン溶液を用いても良い。オルガノシザラン溶
液は、側鎖基の修正や酸化触媒の添加で重合硬化温度が
100℃以下のものも市販されており、これらを用いる
と成膜温度をかなり低くさせることもできる。
【0040】常温硬化性バインダーとして、市販のシリ
ケート系のものを用いることも可能である。硬化後はS
iO2の無機膜を形成し、耐候性や膜強度においては樹
脂膜より優れる。
【0041】本発明の材料、膜では上記超微粒子が分散
しているため、物理成膜法により製造された酸化物薄膜
のように結晶が緻密に膜内を埋めた鏡面状表面をもつ膜
に比べると、可視光領域での反射が少なく、ギラギラし
た外観を呈することが回避できる。その一方で、上記の
ように可視〜近赤外域にプラズマ周波数をもつために、
これに伴うプラズマ反射が近赤外域で大きくなる。これ
は非常に好ましい特性である。可視光領域の反射をさら
に抑制したい場合は、本発明の微粒子分散膜の上に、S
iO2やMgFのような低屈折率の膜を成膜することに
より、容易に視感反射率1%以下の多層膜を得ることが
できる。
【0042】本発明の塗布液には、透過率を向上させる
ために、さらにATOやITOやアルミニウム添加酸化
亜鉛などの超微粒子を混合しても良い。これらの透明超
微粒子は、添加量を増すと可視光に近い近赤外線領域で
の吸収が増加するため、可視光透過率の高い熱線遮蔽膜
が得られる。また逆にATOやITOやアルミニウム添
加酸化亜鉛などの超微粒子を分散した液に本発明の塗布
液を添加すれば、膜に着色すると同時にその熱線遮蔽効
果を補助することもできる。この場合、主体となるIT
Oなどに対してほんの僅かの添加量で熱線遮蔽効果を補
助でき、ITOの必要量の大幅な減少が可能で、液のコ
ストを下げられる。
【0043】本発明の材料、器材、塗布液、膜には、熱
線遮蔽機能とともに、人体に有害な紫外線の遮蔽機能を
ももたせるため、無機系の酸化チタンや酸化亜鉛、酸化
セリウムなどの微粒子や、有機系のベンゾフェノンやベ
ンゾトリアゾールなどの1種もしくは2種以上を添加し
てもよい。
【0044】本発明の塗布液は、焼成時の熱による塗布
成分の分解或いは化学反応を利用して目的の熱線遮蔽膜
を形成するものではないため、特性の安定した均一な膜
厚の透過膜を形成することができる。
【0045】このように本発明によれば、上記無機微粒
子の材料を適当に混合することで、熱線遮蔽効果を有す
る器材、膜の製造が可能であるが、これらの微粒子材料
は無機材料であるので有機材料と比べて耐候性は非常に
高く、例えば太陽光線(紫外線)の当たる部位に使用し
ても、色や諸機能の劣化はほとんど生じない。
【0046】
【実施例】以下本発明の実施例を比較例と共に説明す
る。
【0047】(実施例1) 平均粒径67nmのLaB
6微粒子8g、ジアセトンアルコール(DAA)80
g、水及び分散剤適量を混合し、直径4mmのジルコニ
アボールを用いて100時間ボールミル混合して、La
6分散液100gを作製した。これをA液とする。平
均重合度で4〜5量体である多摩化学工業株式会社製エ
チルシリケート40を6g、エタノール31g、5%塩
酸水溶液8g、水5gで調製したエチルシリケート溶液
50gと、水800g、及びエタノール300gを良く
混合・攪拌して、エチルシリケート混合液1150gを
調製した。これをB液とする。
【0048】A液とB液を、LaB6濃度が1.0%、
LaB6/SiO2比が4:1となるような割合で混合・
攪拌し、塗布液を作製した。これをC液とする。このC
液15gを145rpmで回転する200×200×3
mmのソーダライム板ガラス基板上にビーカから滴下
し、そのまま3分間振り切った後、回転を止めた。これ
を180℃の電気炉に入れて30分間加熱し目的とする
膜を得た。
【0049】形成された膜の分光特性は日立製作所製の
分光光度計を用いて測定した。LaB6微粒子を用いた
本実施例の膜の透過プロファイルを図1に示す。透過率
の極大値が580nm、極小値が1055nm付近にあ
り、極大値と極小値の差が38ポイントと十分大きく、
またJIS−R−3106に基づいて、膜正味の値とし
て可視光透過率54.6%が得られた。
【0050】本実施例による膜の透過色は美しい深緑色
であった。また可視光反射率は2.2%と低く、市販の
熱線反射ガラスのような膜面のギラツキ感はまったく感
じられなかった。
【0051】更にこの膜の表面抵抗値を、三菱化学
(株)製の表面抵抗計を用いて測定したところ3.2×
1011Ω/□が得られ、膜抵抗値が十分高いために電波
透過性には全く問題がないことが分かった。
【0052】(比較例1) 塗布法に比べて高コストの
物理成膜法により作製された市販の熱線反射ブロンズガ
ラスについて、340〜1800nmの分光透過率を測
定し、JIS−R−3106に従って可視光透過率を求
めたところ、38.8%となった。また可視光反射率は
34.2%と非常に高く、外観もギラギラしたミラー状
の外観を呈していた。また膜面の表面抵抗値は83Ω/
□と低く、電波透過性及び反射性に問題があった。
【0053】(実施例2) 実施例1で作製したC液を
板ガラスの1層目としてスピンコートした後、そのまま
3分間回転を続け、続いてB液をSiO2固形分換算で
0.9%になるようにエタノールで希釈したシリケート
液15gを板ガラス上にビーカから滴下してさらに回転
を3分間続けた後、回転を止めた。このようにして塗布
した2層膜のガラス基板を180℃の電気炉に入れ、3
0分間加熱して目的とする2層膜を得た。
【0054】形成された膜の分光特性を実施例1と同様
にして評価した。可視光透過率は56.2%と上昇した
反面、可視光反射率は1.7%となって反射光がさらに
抑えられた。さらに裏面に黒テープを貼って裏面からの
反射を無くして測定すると可視光反射率は0.5%とな
り、無反射ガラスに近い外観になった。この膜の透過率
の極大・極小値の位置は、実施例1での単層膜とほぼ同
じであり、同様の熱線遮蔽効果をもつことは明らかであ
る。
【0055】以下の実施例3〜14及び比較例2〜3に
おいて成膜された膜の可視光透過率と透過率の極大・極
小値、及び表面抵抗値は、実施例1に述べたと同様な方
法で評価し、実施例1、2の結果も含めてまとめて表1
に示した。
【0056】(実施例3) 平均粒径67nmのLaB
6微粒子8g、イソホロン80g、水及び分散剤適量を
混合し、ジルコニアボールを用いて100時間ボールミ
ル混合して、LaB6イソホロン分散液100gを作製
した。これをD液とする。バインダーとして、エポキシ
樹脂50重量%をイソホロンに溶解して、エポキシ樹脂
バインダー溶液を作製した。これをE液とする。D液と
E液とエタノールを強力に混合・攪拌して、LaB6
エポキシ樹脂の固形分が全体の1.4重量%、LaB6
とエポキシ樹脂の重量比が70:30となるようにし
て、塗布液を作製し、実施例1と同様にして塗布液を作
製し、成膜・加熱して膜を得た。
【0057】(実施例4) バインダーとして、信越シ
リコーン製常温硬化型シリケート液X−40−9740
をB液の代わりに用いて、実施例1と同様にして塗布液
を作製し、成膜して膜を得た。ただし加熱はせずに、2
5℃の室温内2日間放置で乾燥膜となったものを評価し
た。
【0058】(実施例5) バインダーとして、NEケ
ムキャット(株)製低温硬化型ポリペルヒドロシラザン
溶液をE液の代わりに用いて、実施例3に示したLaB
6イソホロン分散液(D液)及びキシレンを混合・攪拌
して、LaB6濃度が1.0%、LaB6/SiO2比が
4:1となるようにして、これを塗布液とした。これを
用いて実施例1と同様にして成膜し、80℃の電気炉で
加熱して膜を得た。
【0059】(実施例6) A液調製において、LaB
6の代わりに平均粒径75nmのPrB6微粒子を用いた
他は、実施例1と全く同様にして塗布液を調製し、これ
を成膜・加熱して目的の膜を得た。
【0060】(実施例7) A液調製において、LaB
6の代わりに平均粒径58nmのCeB6微粒子を用いた
他は、実施例1と全く同様にして塗布液を調製し、これ
を成膜・加熱して目的の膜を得た。
【0061】(実施例8) A液調製において、LaB
6の代わりに平均粒径54nmのYB6微粒子を用いた他
は、実施例1と全く同様にして塗布液を調製し、これを
成膜・加熱して目的の膜を得た。
【0062】(実施例9) A液調製において、LaB
6の代わりに平均粒径84nmのTiB2微粒子を用いた
他は、実施例1と全く同様にして塗布液を調製し、これ
を成膜・加熱して目的の膜を得た。
【0063】(実施例10) A液調製において、La
6の代わりに平均粒径63nmのTaB2微粒子を用い
た他は、実施例1と全く同様にして塗布液を調製し、こ
れを成膜・加熱して目的の膜を得た。
【0064】(実施例11) A液調製において、La
6の代わりに平均粒径59nmのMoB微粒子を用い
た他は、実施例1と全く同様にして塗布液を調製し、こ
れを成膜・加熱して目的の膜を得た。
【0065】(実施例12) A液調製において、La
6の代わりに平均粒径85nmのW25微粒子を用い
た他は、実施例1と全く同様にして塗布液を調製し、こ
れを成膜・加熱して目的の膜を得た。
【0066】(実施例13) 平均粒径30nmの酸化
ルテニウム(RuO2)微粒子15g、N−メチル−2
−ピロリドン(NMP)23g、ジアセトンアルコール
(DAA)57g、水及び分散剤適量を混合し、直径4
mmのジルコニアボールを用いて100時間ボールミル
混合して、RuO2分散液100gを作製した。このR
uO2分散液に、RuO2濃度が1%、RuO2:SiO2
=4:1となるようにB液のシリケート液を混合・攪拌
してRuO2分散シリケート液とした。これをF液とす
る。F液に、RuO2:LaB6=1.0:1.0の重量
比になるようにA液を混合して十分攪拌し、塗布液を調
製した。この塗布液を用いて、実施例1と全く同様にし
て成膜・加熱して目的の膜を得た。
【0067】(実施例14) 平均粒径28nmのIr
2微粒子を用いた他は、実施例11と全く同様にし
て、IrO2:LaB6混合分散シリケート塗布液を作製
し、これを成膜・加熱して目的の膜を得た。
【0068】以上の実施例1〜14では全ての膜につい
て、透過率の極大が波長400〜700nmにあり、極
小値が波長700〜1800nmにあって、かつ、極大
値と極小値との差が百分率で15ポイント以上であるこ
とが観測され、これらの膜が熱線遮蔽膜として有用であ
ることが明らかである。また実施例の全ての膜は可視光
領域での反射率が8%以下であってミラー状のギラツキ
が無く、さらに表面抵抗値が全ての膜で8×1010Ω/
□以上であって、電波透過性において問題のないことが
確かめられた。
【0069】(比較例2) 平均粒径137nmのLa
6を用いた他は、実施例1と全く同様にして、LaB6
分散シリケート塗布液を作製し、これを成膜・加熱して
目的の膜を得た。しかしこの膜は微粒子径が大きすぎる
ために、曇りが大きくて(ヘイズ値28%)透明性に欠
き、またやや緑みを帯びた灰色となり、さらに極大値と
極小値の差が12%と小さく、熱線遮蔽膜として実用に
供することは困難と判断された。
【0070】(比較例3) 平均粒径22nmのITO
超微粒子を用いた他は、実施例1と全く同様にして、I
TO分散シリケート塗布液を作製し、これを成膜・加熱
して目的の膜を得た。しかしこの膜は透過率が、可視光
域から1500nmの赤外域に至るまで90%以上であ
り、近赤外線を遮蔽するという目的にはこの濃度(1
%)では使用できないことがわかった。
【0071】
【表1】
【0072】
【発明の効果】以上の実施例に示されるように、本発明
によれば、可視光領域の光の透過率が高くて反射率が低
く、近赤外領域の光の透過率が低くて反射率が高い熱線
遮蔽材料、これを用いた器材、及び、上記特性で更に導
電性が概ね106Ω/□以上に制御可能な膜を高コスト
の物理成膜法を用いずに簡便な塗布法で成膜できる塗布
液と、これを用いた熱線遮蔽膜とが提供できた。本発明
の膜は、従来膜に比べて表面のギラツキ感が無く、また
電波透過性にも優れた熱線遮蔽膜である。また、本発明
の塗布液を用いることにより、コスト面や大面積膜の面
から工業的有用性が高い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1、比較例2の透過率を示すグ
ラフである。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 La、Pr、Nd、Ce、Y、Ti、Z
    r、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、および、Wの
    群から選択される1種または2種以上の金属の平均粒径
    100nm以下のホウ化物微粒子を含有する熱線遮蔽材
    料。
  2. 【請求項2】 La、Pr、Nd、Ce、Y、Ti、Z
    r、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、および、Wの
    群から選択される1種または2種以上の金属の平均粒径
    100nm以下のホウ化物微粒子と、平均粒径100n
    m以下の酸化ルテニウム微粒子、および、平均粒径10
    0nm以下の酸化イリジウム微粒子のうちの1種以上と
    を含有する熱線遮蔽材料。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の熱線遮
    蔽材料を含有する熱線遮蔽器材。
  4. 【請求項4】 請求項1または請求項2に記載の熱線遮
    蔽材料が樹脂バインダー中に分散された熱線遮蔽膜形成
    用塗布液。
  5. 【請求項5】 請求項1または請求項2に記載の熱線遮
    蔽材料と、珪素、ジルコニウム、チタン、もしくは、ア
    ルミニウムの金属アルコキシド、または、金属アルコキ
    シドの部分加水分解重合物のうちの1種以上とが樹脂バ
    インダー中に分散された熱線遮蔽膜形成用塗布液。
  6. 【請求項6】 請求項1または請求項2に記載の熱線遮
    蔽材料を含有する熱線遮蔽膜。
  7. 【請求項7】 請求項1または請求項2に記載の熱線遮
    蔽材料を含有する熱線遮蔽膜の上に更に、珪素、ジルコ
    ニウム、チタン、および、アルミニウムの金属酸化物の
    うちの1種以上を含有する酸化物膜が形成された多層熱
    線遮蔽膜。
  8. 【請求項8】 請求項6または請求項7に記載の熱線遮
    蔽膜の上に更に、樹脂膜が形成された多層熱線遮蔽膜。
  9. 【請求項9】 透過率が、波長400〜700nmに極
    大値を、波長700〜1800nmに極小値をもち、か
    つ、透過率の極大値と極小値との差が百分率で15ポイ
    ント以上である請求項6〜請求項8のいずれかに記載の
    熱線遮蔽膜。
  10. 【請求項10】 表面抵抗値が106Ω/□以上である
    請求項6〜請求項9のいずれかに記載の熱線遮蔽膜。
JP06939899A 1998-03-16 1999-03-16 熱線遮蔽材料とこれを用いた熱線遮蔽器材並びに塗布液および熱線遮蔽膜 Expired - Lifetime JP3262098B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP06939899A JP3262098B2 (ja) 1998-03-16 1999-03-16 熱線遮蔽材料とこれを用いた熱線遮蔽器材並びに塗布液および熱線遮蔽膜

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10-64916 1998-03-16
JP6491698 1998-03-16
JP06939899A JP3262098B2 (ja) 1998-03-16 1999-03-16 熱線遮蔽材料とこれを用いた熱線遮蔽器材並びに塗布液および熱線遮蔽膜

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000072484A true JP2000072484A (ja) 2000-03-07
JP3262098B2 JP3262098B2 (ja) 2002-03-04

Family

ID=26406048

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP06939899A Expired - Lifetime JP3262098B2 (ja) 1998-03-16 1999-03-16 熱線遮蔽材料とこれを用いた熱線遮蔽器材並びに塗布液および熱線遮蔽膜

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3262098B2 (ja)

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004514163A (ja) * 2000-11-14 2004-05-13 シーピーフィルムズ・インコーポレーテッド 光学活性フィルムコンポジット
JP2006161248A (ja) * 2004-12-10 2006-06-22 Kawashima Selkon Textiles Co Ltd 遮熱線性繊維と遮熱線採光性布帛
JP2006202971A (ja) * 2005-01-20 2006-08-03 New Japan Radio Co Ltd 半導体光センサ
JP2006283242A (ja) * 2005-04-01 2006-10-19 Kb Seiren Ltd 近赤外線遮光繊維およびそれを含むカーテン、アウターウェアー
JP2006527697A (ja) * 2003-06-19 2006-12-07 エレクトリシテ・ドゥ・フランス 金属酸化物層の作製方法
US7244376B2 (en) 2004-01-26 2007-07-17 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Hexaboride particles, hexaboride particle dispersion, and article making use of hexaboride particles or hexaboride particle dispersion
JP2007201137A (ja) * 2006-01-26 2007-08-09 New Japan Radio Co Ltd 半導体光センサ
US7258923B2 (en) 2003-10-31 2007-08-21 General Electric Company Multilayered articles and method of manufacture thereof
US7399571B2 (en) 2005-05-06 2008-07-15 General Electric Company Multilayered articles and method of manufacture thereof
JP2009519883A (ja) * 2005-12-14 2009-05-21 ソリユテイア・インコーポレイテツド 安定化された赤外線吸収剤を含む中間層
JP2009298813A (ja) * 2007-07-30 2009-12-24 Yohei Tanaka 生体深部組織の近赤外線損傷の防止製品
KR101003728B1 (ko) 2002-07-31 2010-12-23 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 열선 차폐 성분 함유 마스터 배치와 이 마스터 배치가적용된 열선 차폐 투명 수지 성형체 및 열선 차폐 투명적층체
JP2012027288A (ja) * 2010-07-24 2012-02-09 Konica Minolta Holdings Inc 近赤外反射フィルム及びそれを設けた近赤外反射体
JP2012508131A (ja) * 2008-11-14 2012-04-05 エルジー・ケム・リミテッド 積層体
JP2012159762A (ja) * 2011-02-02 2012-08-23 Konica Minolta Holdings Inc 近赤外反射フィルム、その製造方法及び近赤外反射体
JP2012216756A (ja) * 2010-10-14 2012-11-08 Rohm Co Ltd 光検出装置及びこれに用いる光学フィルター
EP2682991A2 (en) 2005-11-30 2014-01-08 Daikin Industries, Limited Coating composition for protection cover of solar cell

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5609800B2 (ja) * 2011-07-19 2014-10-22 住友金属鉱山株式会社 色素増感型太陽電池

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004514163A (ja) * 2000-11-14 2004-05-13 シーピーフィルムズ・インコーポレーテッド 光学活性フィルムコンポジット
JP4891519B2 (ja) * 2000-11-14 2012-03-07 シーピーフィルムズ・インコーポレーテッド 光学活性フィルムコンポジット
KR101003728B1 (ko) 2002-07-31 2010-12-23 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 열선 차폐 성분 함유 마스터 배치와 이 마스터 배치가적용된 열선 차폐 투명 수지 성형체 및 열선 차폐 투명적층체
JP2006527697A (ja) * 2003-06-19 2006-12-07 エレクトリシテ・ドゥ・フランス 金属酸化物層の作製方法
US7258923B2 (en) 2003-10-31 2007-08-21 General Electric Company Multilayered articles and method of manufacture thereof
KR100782666B1 (ko) * 2003-10-31 2007-12-07 제너럴 일렉트릭 캄파니 다층 제품 및 그의 제조 방법
US7244376B2 (en) 2004-01-26 2007-07-17 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Hexaboride particles, hexaboride particle dispersion, and article making use of hexaboride particles or hexaboride particle dispersion
JP2006161248A (ja) * 2004-12-10 2006-06-22 Kawashima Selkon Textiles Co Ltd 遮熱線性繊維と遮熱線採光性布帛
JP2006202971A (ja) * 2005-01-20 2006-08-03 New Japan Radio Co Ltd 半導体光センサ
JP2006283242A (ja) * 2005-04-01 2006-10-19 Kb Seiren Ltd 近赤外線遮光繊維およびそれを含むカーテン、アウターウェアー
US7399571B2 (en) 2005-05-06 2008-07-15 General Electric Company Multilayered articles and method of manufacture thereof
EP2682991A2 (en) 2005-11-30 2014-01-08 Daikin Industries, Limited Coating composition for protection cover of solar cell
JP2009519883A (ja) * 2005-12-14 2009-05-21 ソリユテイア・インコーポレイテツド 安定化された赤外線吸収剤を含む中間層
JP2007201137A (ja) * 2006-01-26 2007-08-09 New Japan Radio Co Ltd 半導体光センサ
JP2009298813A (ja) * 2007-07-30 2009-12-24 Yohei Tanaka 生体深部組織の近赤外線損傷の防止製品
JP2012508131A (ja) * 2008-11-14 2012-04-05 エルジー・ケム・リミテッド 積層体
JP2012027288A (ja) * 2010-07-24 2012-02-09 Konica Minolta Holdings Inc 近赤外反射フィルム及びそれを設けた近赤外反射体
JP2012216756A (ja) * 2010-10-14 2012-11-08 Rohm Co Ltd 光検出装置及びこれに用いる光学フィルター
JP2012159762A (ja) * 2011-02-02 2012-08-23 Konica Minolta Holdings Inc 近赤外反射フィルム、その製造方法及び近赤外反射体

Also Published As

Publication number Publication date
JP3262098B2 (ja) 2002-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4096277B2 (ja) 日射遮蔽材料、日射遮蔽膜用塗布液、及び、日射遮蔽膜
US6277187B1 (en) Film for cutting off heat rays and a coating liquid for forming the same
JP4626284B2 (ja) 日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法、および日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子
JP3262098B2 (ja) 熱線遮蔽材料とこれを用いた熱線遮蔽器材並びに塗布液および熱線遮蔽膜
JP4058822B2 (ja) 選択透過膜用塗布液、選択透過膜および選択透過多層膜
JP2005226008A (ja) 日射遮蔽体形成用分散液及び日射遮蔽体並びにその製造方法
JP3744188B2 (ja) 熱線遮蔽膜形成用塗布液及び熱線遮蔽膜
US20090216492A1 (en) Solar radiation shielding member and solar radiation shielding member forming fluid dispersion
JP2003176132A (ja) 日射遮蔽用アンチモン錫酸化物粒子および日射遮蔽膜形成用塗布液ならびに日射遮蔽膜
JP4182825B2 (ja) 日射遮蔽用アンチモン錫酸化物微粒子とこれを用いた日射遮蔽体形成用分散液および日射遮蔽体並びに日射遮蔽用透明基材
JP4058850B2 (ja) 日射フィルター膜形成用塗布液
JP2008230954A (ja) 日射遮蔽体形成用アンチモン含有酸化錫微粒子の製造方法、日射遮蔽体形成用分散液、日射遮蔽体、および、日射遮蔽用基材
JP4120887B2 (ja) 日射遮蔽用In4Sn3O12複合酸化物微粒子及びその製造方法並びに日射遮蔽膜形成用塗布液及び日射遮蔽膜及び日射遮蔽用基材
JP2003215328A (ja) 日射遮蔽用微粒子とこの微粒子を含む日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜
JP4200424B2 (ja) 日射遮蔽材料の製造方法、日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜並びに日射遮蔽用透明基材
JPH06144874A (ja) 熱線反射膜及びその製造方法
JP4415953B2 (ja) 選択透過膜用塗布液、選択透過膜および選択透過多層膜
JP5999361B2 (ja) 赤外線遮蔽材料、赤外線遮蔽材料微粒子分散液、赤外線遮蔽材料微粒子分散体、並びに赤外線遮蔽体
JPH11258418A (ja) 熱線遮蔽膜形成用塗布液及び熱線遮蔽膜
JPH11258417A (ja) 熱線遮蔽膜形成用塗布液及び熱線遮蔽膜
JP2002201027A (ja) 日射遮蔽用インジウム錫酸化物微粒子とその製造方法およびこれを用いた塗布液および日射遮蔽膜
JP2012082109A (ja) 高耐熱性熱線遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法、高耐熱性熱線遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子および高耐熱性熱線遮蔽体形成用分散液、並びに高耐熱性熱線遮蔽体
JPH1036774A (ja) 日射遮蔽膜用塗布液及びこれを用いた日射遮蔽膜
JP4194121B2 (ja) 熱線反射膜用塗布液及びこれを用いた熱線反射膜
JPH10101340A (ja) 日射遮蔽膜用塗布液およびこれを用いた日射遮蔽膜

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071221

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081221

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091221

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091221

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101221

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111221

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121221

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131221

Year of fee payment: 12

EXPY Cancellation because of completion of term