JP2000061845A - 直接粒子ビ―ムを含む流動研磨システム - Google Patents

直接粒子ビ―ムを含む流動研磨システム

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 研磨材の衝突と研磨された材料を回収して捕
らえるための真空と正圧を作り出して制御することが可
能な研磨システムを提供すること。 【解決手段】 研磨システムのための手動接触器におい
て、ハウジングは研磨面に向けられる第一端と第二端を
備え、空気を供給する発生源を備えた流通のための前記
ハウジングの第一端には吸入口と複数個の排出口を備え
ており、各排出口は吸入口とは別の一定の間隔を有し、
ハウジングカバーは硬い研磨材料に接触する開口部があ
る第一端と第二端とを備えており、前記吸入口の直線上
にハウジングカバーの開口部と注入口とを取り囲んでい
るハウジングカバーの第二端と複数個の排出口とを備え
ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、研磨粒子の衝突に
より制御される直接研磨及び、使用済研磨粒子と研磨さ
れた材料が流れる状況の過程や安全性,衛生面だけでな
く、衝突と収集の幾何学による有利な制御をも供給する
システムに関する。
【0002】
【従来の技術】接触表面部分を研磨するために粒子を使
用することは、よく知られている。バフ研磨、磨き仕上
げ、がら研磨及びキャリヤ媒体における粒子の方向づけ
られた流れの場合と同様に、粒子は材料を表面から除去
する運動エネルギーにより動くことができる。キャリヤ
媒体における粒子の方向づけられた流れの最も良く知ら
れている大規模な例はサンドブラスティングである。サ
ンドブラスティングは、篩にかけられてはいるが大きさ
が不規則な粒子の袋を消費する工業規模の設備を使用し
て成される。高い空気圧力は、衝突させるべき表面に砂
をまき散らすのに使われて、これにより表面が研磨さ
れ、また、より高圧にすることで材料を実際に切削する
ことができる。
【0003】小さなサイズに応用する場合、砂の大きさ
はより一層均一である。室内での利用には清潔、衛生面
の理由からも使用した砂の収集も融通するべきである。
米国特許5,037,432号では使用した砂の収集を
容易にする手持ち装置が開示されている。この装置では
砂の流れが研磨する表面に斜めに衝突することを最も重
要な要素として開示している。実際、この特許の装置は
本来、使われた砂の戻り通路の循環性の為に設計されて
いて、研磨材料の通る循環通路の一部としての研磨用の
開口部を備え付けている。研磨材を研磨される材料表面
に左右に通過させ、その材料を剥離することで研磨され
る。殆どの材料は、研磨材料の流れの循環通路内の露出
表面の流れを逆上った端で除去されながら、材料は非直
線形に除去される。最初に接触する材料表面の流れに沿
った研磨は、媒体を投げ散らして、更に混合して剥離す
ることで成される。浅い角度での磨耗なので、粒子を端
から端までばらばらに動かす為には、粒子内の少なくと
も半分以上の運動エネルギーが使われる、というのは、
粒子の半分以下の運動エネルギーがターゲットである表
面を研磨するのに利用できるということである。これら
の考案の特徴は、機具を非能率的にし、その機具の変化
に富んで応用した使用を制限している。更に、その様な
非能率的な利用は、無駄に研磨材を使用していると解釈
される。与えられた量の材料を除去する為に、必要とさ
れる3から5倍の研磨材が使われる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】特に繊細な仕事が行わ
れたりするような小規模の利用には、研磨材の流れの制
御が重要である。そのような制御システムは、利用する
研磨力のなめらかで均一な制御が可能であるべきであ
る。機具は均一で比例した力の利用を許す正確な制御を
容易にするべきである。研磨された材料の除去は、非能
率的な外部の剥離や掘り返しではなく、衝突によって起
こるべきである。更に、粒子流出の流れは斜めに表面を
研磨するので、焦点を絞ることができない。研磨する表
面への不規則な力の利用だけでなく、研磨媒体の流れの
分散の為に、エッチング書き或いは他の忍耐が必要であ
る仕事はできない。
【0005】従来の研磨装置の他の問題は、いつも安全
に収集して隔離されない研磨材料により起こる汚染であ
る。例えば、鉛系塗料を用いた工業用塗料剥離作業にお
いては、剥離された材料が普通の埃のように積もるの
で、工場とごみ捨て場の周辺の汚染の根拠となる。尚、
研磨材と除去された材料が安全処理収集されない所での
労働者は、空気で運ばれる汚染物にさらされる。研磨材
の微粒子のろ過と共に、研磨された廃棄材料は特別な問
題を提示している。殆どの場合において、研磨された廃
棄材料の大きさは、研磨材より大きい破片から研磨材よ
り更に小さくて微細な粉粒まで様々である。これらの収
集は、短時間毎に連続して交換しなければならない表面
が拡張されたフィルターを備えつけずに、最も細かい粒
子の厳密なろ過によって行われなければならない。経済
的に可能であるなら、この使用済研磨剤の収集は、研磨
された材料を除去処理し、再利用するということになる
かもしれない。
【0006】研磨された材料の管理と隔離は、ニキビ、
ニキビあと、黒色面皰、入れ墨、乾せんやエグゼマ(E
XEMA)などの他の皮膚状態などを含む医療過程で皮
膚表面を除去するのに研磨材が使われる医療分野では更
に問題である。皮膚表面の除去は、皮膚を切らないよう
に、そして血管が通っている所を通らずに優しく行わな
ければならない。研磨された材料としての皮膚表面は隔
離されるべきであり、正規の滅菌と加工なしでは再利用
を止めるべきである。剥離された皮膚表面は全て汚染医
療廃棄物として取り扱われるべきであり、逆流防止及び
最終的な形状破壊手段と適切処理を備えた密閉容器を含
む廃棄物収集スペースに収集されるべきである。
【0007】
【発明を解決するための手段】本発明のシステムは、使
用済研磨材と研磨された材料の回収と獲得の両方に及ぶ
十分な真空を供給しながら、幅広い範囲での制御を可能
にする為の真空と正圧の両方を作り出す機械を含む。こ
のシステムの第一実施形態は足踏みペダルの使用によっ
て容易にされる真空とブースト作業を含み、その効果は
様々な表面の研磨、清掃及び磨き仕上げの優れた制御に
特に有効である。真空のみのシステムを含むであろう第
二実施形態は、特に化粧品学分野の職員による人体組織
と共に使用する為のものである。第三実施形態は、真空
と空気の増幅システムを含み、医療分野での熟練した職
員のために設計されている。このシステムは、ブースト
操作が可能なように最低真空レベルで設定して使われ
る。また、オペレーターが足踏みペダル制御装置又は研
磨する地域に手動接触器を押しつける以外の制御装置の
独立的操作を要さずに、研磨する地域に密接して作動す
る手動接触器であるのが好ましい表面研磨器具を使える
ようにしてある。全ての実施形態は、使用済研磨粒子と
研磨された材料の混合の集中衝突と収集の動力が集めら
れて撤回させられる同心空間を作り出す予防用先端を有
する手持ち直接粒子ビーム研磨手動接触器の特徴を成し
ている。置き換え可能な先端プラスチックキャップ内に
おける幾何学的配列の観点から言うと、前記器具は、集
中して商店を合わすことが可能な研磨材の流れを供給し
ていて、使用済研磨材を、各研磨粒子の全エネルギーを
研磨される表面に完全接触させる研磨材衝突面からすぐ
に除去できるように集中的に配置されている、除去可能
な管接続口の一連を備え付けている。普通のプラスチッ
クで作られているのが好ましい予防用先端は高価ではな
く、交換可能であるので、あらゆる材料の表面に使用す
るのに好都合である。表面地域をより細かく形成する為
に、研磨材が直通する多数の異なった大きさの開口部を
伴った予防用先端が利用できる。
【0008】手動接触機は交換できる環状インサートと
しての流出加速器を備えている。環状インサートは加速
された研磨衝突の更に集中された流れの為の長い先端、
或いは加速された研磨衝突の更に集中された流れの為の
短い先端を備えることができる。色々な先端の長さと組
合わさっていて色々な内径のサイズの有している様々な
環状インサートは、研磨材の流れの速さと流出面積を調
整する為に色々な形状とプラスチックキャップの大きさ
と組み合わせて有効的に使用される。手持ち器具内の均
一で放射状に配置されている戻り経路に結合している予
防用先端は、二つの目的に役立つややトロイダルなパタ
ーンを作り出す。まず第一に、前記流出加速器インサー
トに結合している先端とその(応用に基づいた)デザイ
ンは研磨材ビームに対して放射状の真空を供給し、研磨
される材料への衝突前に、そのビームは前もって決定さ
れた形状に斜角をつけられる。第二の目的は、先端のど
真ん中から全方角(360°)に均等で放射状に引き込
まれる流れの中の使用済研磨材と研磨される材料を均一
に回収する事である。このデザインによって、各研磨粒
の全エネルギーは研磨される表面に使用され、且つ、粒
子間の衝突は最小化又は削除される。
【0009】このシステムは、(ある一つの配列では瞬
時応答足踏み制御装置付きで作動可能な)圧力ブースト
をも備えているので、オペレーターは研磨されている対
象物に集中できると共に、オペレーターがオンとオフ機
能の管理が素早くできる独立した制御を伴っている真空
と加圧されたブーストの両方を利用している。供給容器
は、ベンチュリ管の働きにより研磨材を供給管路に引き
込む極小さな穴を有している集配管を備えている。この
供給容器は研磨材供給システムが真空モード又は全力加
圧モードの時に作動できる。真空吹き出し弁は真空モー
ドの時に供給容器にエアキャリアーを供給する為に使わ
れ、システムが加圧作動に遷移する時には制動器として
使われる。空気吸入調整弁は材料供給容器に入る分流さ
れた空気量を制御している。吸入空気の供給が無い時は
供給容器に入る空気は最少であり、真空吹き出し弁から
のみ発生する。吸入空気の供給がある時は、付加空気が
供給容器に供給され、研磨材の流れが付加されることに
なる。加圧制御下において制御範囲を狭める為の開放し
た状況での空気は、供給容器に供給された圧力を緩和し
て弱める為に供給容器から分流又は方向転換される。
【0010】第二の弁は、真空作動下での作動力の制御
と同様に、真空通路末端付近の真空管路に入る空気を分
流する為に使われ、空気増幅作業下では供給容器に入る
空気を弱めたり或いは制御する。圧力は対象物におい
て、粒子の流れを速くさせる原因となるので、圧力増幅
作業下でのこの弁は、研磨された粒子や材料を出口管に
沿って動かす為の真空が十分に存在するように完全に閉
鎖されている。使用済み変更例である三方向電磁弁と真
空センサーは真空をモニターする為に使われ、十分な量
の使用済媒体の清掃又は収集が施行できる状況の間での
み研磨媒体導入を許す手動接触器の先端中の圧力が設定
されている真空レベルより低い時、ブースト操作を許さ
ない。第一と第二の弁として使用されている中空コアフ
ィードバルブの特殊化した一組は、オペレーターがもっ
と簡単で、直線形に粒子と真空の流れを制御する能力を
促している。弁が回転する時に、弁のアクティブコアは
流出経路に向かっての開口部のセットの一連の移動を引
き起こす。流れが利用できる総断面積はコアの角置換に
関係して段々に変化するので、もしできれば、どちらか
の弁を180°回転させることで、スムーズで比例した
制御が成し遂げられる。
【0011】
【発明の実施の形態】本願発明の直接粒子ビーム含有流
体研磨システムの描写と働きは図1を参照して最も良く
記述できる。具体的な配置についてと、それから、その
配置中に具体的に表現される概図と本発明の諸相のバリ
エーションによって本発明は最も良く説明されると思わ
れる。図1はシステム21に該当する供給と収集機能を
備えた研磨装置の斜視図である。システム21は、見え
ない底面と上向きに折り曲げてある面の内の一面が側面
25として見られる面を備えた、長さを三つ折りにした
一片の鉄でできるハウジング23内に存在する。分離器
である第一フィルター29と第二フィルター31の分離
システムが表されていて、同様に電力コード27も見ら
れる。使用済研磨材と研磨された材料を、流動している
空気の流れから取り除く方法としては、湿式及び乾式分
析法、ろ過、サイクロン、液体吸着などの無数の方法が
あることが分かる。前記フィルターはコンパクトで移動
可能なシステムにとって最大な利点があると考えられる
ので利用され、また説明される。廃棄物の収集スペース
は廃棄物容器33という形で備えつけられ、側面25か
ら延長して取り付けられていることが分かる。もしそう
でなければ、廃棄物の収集スペースはハウジング23又
は本発明に関して描写されるハウジングの内側或いは遠
隔に備えつけられている。廃棄物容器は壁面25に支え
られながら壁面を貫通してシステム21内の他の構成部
分と接続している。一連の垂直に延びる接続ロッド
(棒)35は廃棄物容器33を支えていて且つ上板37
と底板39を廃棄物容器33内がどれだけ詰まっている
か一目で分かるガラス又は他の透き通った素材でできて
いる円筒部41に結合している。
【0012】図1に見られるのは速続管継手43と45
の二つは接続管47と49にそれぞれ接続している。速
続管継手43と45は差込みと管直径約0.375イン
チであるのが好ましい管の端の固定を容易にし、適所に
固定するリリースリングを備えている。この種の素早く
取り外し可能な管継手は備えられているリングを管継手
の方に押し戻しながら管を引っ張ることでそれぞれの管
47と49の取り外しを可能にしている。足踏みペダル
制御装置51は素早く開く弁を備えていて、その操作に
より管47と49内に研磨材を供給する為の加圧空気の
流れをつくり出すことができる。ハウジング23上はカ
バープレート53で、システム21のほとんどの制御を
支持している前板55に隣接している。前板55は、シ
ステム21を作動させ又停止させるON/OFFロッカ
ースイッチを支持しているが、ロックアウト安全スイッ
チ59にロックアウトキーを差込まなければロックアウ
ト安全スイッチ59は閉鎖したままである。前板55の
中心には、普通、第二フィルター31の下流地点で測ら
れるシステム内の真空量を示す計器61がある。尚、計
器61は研磨材の供給に流れる加圧空気の流れの全圧力
を示し、そのような計器は前面55の他の部分に配置し
てもよい。計器61の片側にはバルブハンドル63があ
り、このバルブハンドルは前面55上での変位を視覚的
に示す数記号の一連に囲まれている。配置位置は自由で
あるが、この位置は一般的には真空ブリーダーバルブ制
御装置で占められている。バルブハンドル63の片側に
は研磨材供給を送り込むための空気吸入分流器を制御し
ている他のハンドル65が同じように配置してあり、一
般的にハウジング23内に備えられている圧力感知逆止
弁に相当するため、このつまみは分流器とみなされる。
【0013】図1では上板74、フィルキャップ73と
手動接触器75を備えた供給容器アセンブリー71が部
分的に見られる。あらゆる表面研磨機具は、ここで開示
されているいずれのシステム内での利用が可能である
が、この開示されているシステムの構成部分の多くは研
磨される表面に置くエンクロージャーと共に良く機能す
るので、本発明の全てを開示するために本発明の全ての
利点を明示する為に手動接触器75を用いることにす
る。他の周知の表面研磨機具は、ここに開示されている
本発明のシステムと一緒に利用する事で多様で有益な利
用ができる。研磨材を供給する管77と研磨材を戻す管
79は器具75を接続するために延びている。
【0014】図2の右側面図は図1で部分的に見られる
供給容器71を備えた構造を分かりやすく表している。
供給容器71もまた、図2で見られる3本の垂直な支柱
の一連を備えている。垂直な支柱35は上板81と底板
83を接続している。器具75から出ている管77と7
9は速続管継手によって二つの異なった位置に接続して
いる。供給管77は底板83につながっている速続管継
手85に接続していて、戻り管79はハウジング23の
側面89に取り付けてある速続管継手87に接続してい
る。内にある器具75を支え、保護している円筒形支え
91はハウジング23の側面89によって支えられてい
る。本質的に支え91はその内側に使用していない器具
75を技術者によって設置できるようになっている安定
保持(取付)ホルスターであり、器具75の作動を止め
た時のこのホルスターの使用は器具内にある粒状研磨材
の重力による排水をも促すだろう。
【0015】図3の器具75をクローズアップした斜視
図では、管77と79を接続する二つの滑り管継手93
と95がクローズアップして見やすく描写されている。
研磨粒が溜まらずに見られる絞り穴に向かって均一に流
れることができるように器具75は研磨粒加速用の長さ
を備えつけている細長い軸を有している。器具75の末
端は開口部103が開いているプラスチックキャップ1
01で覆われている。システムを作動させる為には、真
空が手動接触器75のネジ山のない内径115から内径
113まで通り抜けれるように開口部103を覆わなけ
ればならない。開口部103は研磨する領域上に直接設
置され、半球形の端を備えたキャップ101は研磨する
領域上を鉛筆のように手動で動かすことができる。この
キャップは研磨する物の形状に合った他の形をとっても
よい。更に重要なことは、開口部103を通って研磨対
象物に衝突する時の粒子の形とその分布を更に調整する
ために補足的な構造とどこかで連結している異なった形
の開口部103の形はプラスチックキャップ101を変
えるだけで簡単に調整できるということである。キャッ
プ101はプラスチックで使い捨て可能であるのが好ま
しい。なぜなら、器具75が皮を研磨するために使われ
る時、キャップは外側の皮との接触又はキャップ101
の内表面に吸着しているような研磨された皮の粒子など
によって不純物を除去するために使い捨てにできるから
である。
【0016】図4にある器具75の側面断面図は二つの
ネジ山付内径105と107を表している。器具75が
二つの部分で構成されている場合は、前方部109と後
方部111を備えることになる。特に、図4に見られる
内径は全て、一つの構成部分として構成されているなら
達成するのが難しい角遷移又は分布点を有しているの
で、この一部分としての構造は、簡単な製造法によって
器具75内に内径を構成しやすくしている。ネジ山付内
径105は、後方部111の中心に向けて斜めに設置し
ているネジ山なし内径113に遷移している。また、ネ
ジ山付内径107は切れ目のない真っ直ぐなネジ山なし
内径115に遷移していて、後方部111の末端部で開
口している。前方部109は軸状に隆起している外枠1
19と、この外枠119と少なくとも同じ範囲で、そし
てできれば、最初の内径113の部分にピッタリとはま
り込むように隆起してある軸状に隆起している内枠12
1で構成されている。しかし、内径113を通る空気と
粒子の流れが横断部の流出域で削減されないように便宜
を図らなければならない。隆起している内枠121は、
切れ目のない真っ直ぐなネジ山なし内径115と連結し
ているチャンバー123を形成している。この配置によ
って、前方部109は後方部111の外縁部に密閉しな
がら接続でき、同時に、内枠121が内径113のネジ
山のない部分の開口部のすぐ近くの後方部111の周囲
表面を取り囲んでいる。これによってネジ山のない部分
の内径113を孤立させ、その経路を開くだけでなく、
環状チャンバー123が外枠119と121の間に孤立
するようになる。前方部109は中央内径125とその
周辺の内径127の一連を備えている。中央内径125
は環状インサート131として見られる流出加速器12
9を備えていて、この中央内径125の内側を二つの異
なった差渡し(直径)にすることで流れを制限すること
ができる。大きすぎる粒子が入口をふさいだとしても、
分離している流出加速器129の使用でその粒子を取り
除くことが可能である。この流出加速器は前端に円錐形
部を備え、中央内径125の中にその差込み部分を拡張
している。他のオプションとしては、あらゆる種類のベ
ンチュリオリフィス又は材料が開口部を通り抜ける速度
を効果的に促進する構造がある。器具75が中央で取り
外せて、インサート131が器具75の末端からすぐに
届く場所に位置しているので、インサート131は容易
に取り外すことが可能である。
【0017】普通の操作では速い空気や他の流動体の流
れは管継手95と管79からネジ山付内径105に入り
込む。内径に沿って研磨粒を運ぶこの流動体としてはガ
スが好ましい。ガスと研磨粒は内径113を通って軸状
に隆起している内枠121を横切り中央内径125に入
り込み、流出加速器129を通り抜ける際にガス流動体
は速度を上げる。高速の流動体と研磨粒は加速器131
を出て、プラスチックキャップ101内の加速器129
の末端の開口部から開口部103に向けてその間の空間
を通り抜ける。開口部103で覆われている被研磨表面
部分では閉鎖したチャンバーが形成されていて、その中
ではキャリアーガスや開口部103に隣接したある組織
表面から研磨された材料の粒子と同じように被研磨表面
にぶつかる研磨材が開口部103内に現れ、そして一連
の周辺内径127内に押し込まれる。キャップ101で
囲まれている容積内には、研磨粒や被研磨材のいずれも
収集されずに前記の過程が素早く安定した状態に達する
ことが期待される。使用した研磨粒と研摩された材料は
周辺内径を通り抜けてチャンバー123に入り、そして
ネジ山なし内径115から滑り管継手93の留め金と管
77を通る。安定した状況での操作を確実なものとする
ための圧力と真空の製造法は以下のシステムの観点から
説明する。
【0018】図5はプラスチックキャップ101を除い
た手動接触器75の正面図であり、一連の周辺内径12
7の入口の位置が分かりやすく描写されている。使用し
た研磨粒と研摩された材料の戻り道に均一な有効性を持
たす為に、この一連の周辺内径127の入口は位置付け
てある。異なったサイズのプラスチックキャップ101
と開口部103が別の応用に利用できることが分かる。
より激しい研磨には、インサート131の開口部の末端
の側に開口部103を備えたり、又より大きい開口部1
03から十分に距離を置いてインサート131の開口部
の末端を備えたキャップ101を作ることができる。こ
の様な装置は、よりゆっくりとした速度で広範囲を研摩
する。
【0019】これまではシステム21の内部の部分を見
てきたが、このシステムの全体のより深い理解を促すた
めに更にこのシステムの働きについて説明する。図6は
ハウジング23を後部から見通して、その構造の概要図
を表している。これによってシステム21の物理的設計
に関する図式的説明がなされる。電力は通常の壁コンセ
ント135からシステム21に供給される。ON/OF
Fスイッチ137はハウジング23に入る電力の有効を
操作していて、システム21を勝手に使用できないよう
に鍵で制御できる。システム21の中心部では以下に真
空ポンプ/コンプレッサー141として表される真空ポ
ンプとコンプレッサーの組み合わせが見られる。この装
置は普通、内側に電気モーターを備えた密閉部分として
入手可能であり、少なくとも一つの管接続口143に吸
い込まれ、少なくとも一つの管接続口145から加圧出
力を吐き出す空気の流れの一方向的な動きをつくり出す
二つの一方向逆止弁装置を備えている。ピストンの振幅
の片方のそれぞれは管接続口143で真空をつくり出
し、真空ポンプ/コンプレッサー141内での次のもう
片方の振幅は管接続口145で加圧出力をつくり出して
いて、これらの管接続口は使われていなければ単にプラ
グを抜いておける。
【0020】ただ一つの真空ポンプ/コンプレッサー制
御システムを用いた操作の基本的理論としてはまず、モ
ーターは常に一定の荷重で働き、且つこの荷重はできる
だけ少なくなければならない。真空ポンプ/コンプレッ
サーはピストンの片側つまり正面のチャンバー内で動い
ているただ一つのピストンを備えている。チャンバー内
で排気空間をつくり出すピストンの振幅の片方のそれぞ
れは、チャンバー内に空気を吸い込み、そしてこの過程
において入口管路の抵抗が真空をつくり出している。ピ
ストンが振幅して排気チャンバーの容量が減少すること
で圧縮力がつくり出される。圧縮用の空気は、チャンバ
ーに入った空気やちょうど最大の真空振幅で入口弁が閉
じた後の真空振幅の残りの空気に基づいている。つま
り、荷重が二つにならない理由は、最大真空荷重の下で
の圧力荷重は自然的にほぼゼロになるからである。最大
圧力荷重はポンプ/コンプレッサー内に入る空気入力が
最大である時、実質的に真空が全く発生しない時又は真
空入力が常圧の時に起こりうる。従って、真空ポンプ/
コンプレッサー141の真空又は空気の部屋はその他の
点でどの様にも制限されてはならない。本発明のシステ
ム21は真空と空気制御弁を独断的な制御弁としてでは
なく、故意に真空ポンプ/コンプレッサー141への真
空入力を絶やしたり、又故意に真空ポンプ/コンプレッ
サー141出力からの圧力の増強を持ちこたえる分流部
分として使用している。
【0021】システム21は管接続口145からの圧力
上昇が無いときにだけ真空モードとして働くので、吸入
管接続口143の説明から始める。真空管接続口143
は管路147を通って前記図1に見られる圧力計61に
接続している。圧力計61は単に真空管接続口145に
発生した真空量を示している。管路151を通ってT接
続部は、圧力計61と管接続口143との間の管路14
7と真空制御弁149を接続している。真空制御弁14
9は、真空管路151に選択的に空気を抜くように流体
伝導しているフリット又はフィルター付管接続口153
を備えた通し弁である。真空制御弁149が閉じている
時は真空制御弁149に空気は流れず、圧力計61は、
別のやり方で流れの有効性と説明された他の因子に基づ
くことを許すシステム21と同じぐらいの真空をつくり
出せるようになる。真空制御弁149が開いている時
は、圧力計61で読み取られるフィルター付管接続口1
53を通り抜ける空気とシステム21の残りの部分から
の空気が一緒になり、管接続口143内の真空を減少さ
せる。管接続口143は管路155として真空ポンプ/
コンプレッサー141に隣接しているように表されたT
接続部分を備えている。管路155は筒状フィルターの
形をした第二フィルター31内の出力口に接続してい
る。第二フィルター31の入力口は第一フィルター29
の出力口に接続している管路157に接続している。第
一フィルター29の入力口は管路159を通って廃棄物
容器33の出力口に接続している。
【0022】廃棄物容器33は小さいサイズのものなら
大変軽くて、流出空気の流れから分離するのが困難な研
摩材を分離させる手助けをするノックアウトグリッド
(穴格子)を備えている。ノックアウトグリッド(穴格
子)は入ってくる研摩材を寄り道させて廃棄物容器33
の底に落ちるようにする。皮を研摩する時は使用者が汚
染した研摩材を再利用しないように染料又は他の安全装
置を備え居る。廃棄物容器33はハウジング23の壁を
通り抜けて速続管継手87に接続している管路161に
接続している入力口を備えている。前記のように、速続
管継手87は管77に接続していて、プラスチックキャ
ップ101内での研摩作用による戻し空気、使用済研磨
材と研磨材料を受け入れている。
【0023】再度、手動接触器75を検討し、逆方向に
動かしてみると、管79は研磨材と空気を供給容器71
から運び込む。この容器71はその内部の垂直な管に結
びつく速続管継手85を備えている。この垂直な管の底
部付近に穴が一つ開いている。空気が容器に入ってくる
と、真空による負の引き込み、又は正の空気増圧、又は
この二つの組み合わせによって空気は垂直な管の上まで
流れていく。垂直な管の底部付近に開いている穴を空気
が通ると、適切な流出量の研摩材が吸い込まれる。穴の
大きさによって空気と研摩材の混合を調整することがで
きる。供給容器71は管165と接続している入口管接
続口163を備えている。管路165はT型圧力差吸気
口チェックと空気制御弁171の最初の管接続口169
に誘導している安全弁167を連結させている。安全弁
167は通路165の圧力と大気の圧力差が水銀柱約
0.5インチある時に管路165に空気を流し込む。安
全弁は周囲の環境又はフィルターを通して吸気してい
る。
【0024】まず、一番分かりやすいシステムである真
空のみのシステムを説明する。オペレーターの観点から
言うと、真空ポンプ/コンプレッサー141の真空側に
空気を導くために真空制御弁149のバルブハンドル6
3は全開にして作業を最低限で作動させる。供給容器7
1に連結し、空気を送り込んでいる空気制御弁のバルブ
ハンドル65は全開で設置され、そして足踏み操作ペダ
ル51はその通気口から圧力を押し出すために動かさな
いでおく。真空が発生し且つ研摩表面を研摩する準備を
するために手動接触器75はプラスチックキャップ10
1を適切な場所に設置して、その開口部103で研摩す
る領域をふさぐ。真空制御弁149のバルブハンドル6
3を回して周囲の空気を入口から吸入し、真空ポンプ/
コンプレッサー141の真空側に入れる。そうすれば、
手動接触器75の先端で発生した真空がシステム21を
通過して下向きに供給容器267のU型ベンチュリ管2
75に及んでいるのが分かる。空気は真空逃し弁から吸
入され、もし必要ならば管165を通って供給容器26
7の底に入れられる。研摩に使われる媒体を扇動し、そ
れが凝集せずに流体であるように空気を分散させるよう
な構成によって供給容器267の底へ空気を導入する。
容器の底部271流動集合体の間を通り抜けてU型ベン
チュリ管275の上部まで上り、それから管275を通
る時に媒体を拾い上げて、小さい吸入オリフィス277
を流れ過ぎる。研摩媒体は管79に沿って手動接触器7
5まで運ばれる。手動接触器75では流出加速器129
が、研摩媒体と空気の流れが環状インサート131の末
端開口部から出ていく時にその速度とエネルギーを最大
にする。一度高速の研摩媒体と空気の混合物が環状イン
サート131を過ぎ去ると、この混合物は、キャップ1
01の開口部103を狙い定める粒子の光線として開口
部103内に露出しているどんな表面にも直接衝突する
ように方向づけられる。もし、この状況の一つの要因が
変えられたら、全ての操作をも変えなければならない。
この真空のみの操作では上記されているように、管47
と49から空気が押し出されない時にもし供給容器71
に入れる周囲の空気の供給を遮るために供給容器71と
連結している入口/出口制御弁171を閉じた状態(完
全な空気増幅操作)に設置したら、真空安全弁167が
空気を真空管165に供給するために開き、機械がまだ
作動するようにする。このシステムは圧力のために安全
弁167において水銀柱0.5インチを失う状態に陥
る。
【0025】図6を再度参照にすると、システム21は
真空ポンプ/コンプレッサー141の圧力管接続口14
5を利用した圧力ブ−ストを備えている。このブ−スト
が作動している時は弁149と171の開閉からのシス
テム21に対する反応が異なる。真空ポンプ/コンプレ
ッサー141の管接続口145は管路177を通って滑
り管継手45に圧縮した空気を供給する。管49は滑り
管継手45を速開/速閉に便利な通気弁である足踏みペ
ダル51に連結している。出力管47は足踏みペダル5
1の操作に応じて加圧空気を供給する。真空ポンプ/コ
ンプレッサー141が容積移送式とするなら、二種類の
操作制御法がある。一つの配列として、足踏みペダル制
御装置51に一定圧力安全弁を設けることで供給圧力を
高く一定に保つと、足踏みペダル制御装置51が作動し
ている時、普段は閉鎖している足踏みペダル制御装置5
1内の弁が供給管47に向けて開かれる。しかし、これ
は好ましい操作ではない。もし、圧力を高められるなら
ば、真空ポンプ/コンプレッサー141内の運転モータ
ーの速度が落ちはじめる。というのも、この運転モータ
ーはより高い圧力に対して使用でき、高圧安全弁を通り
抜ける高圧の空気の流れを供給する為により良く機能す
るからである。この様な場合、足踏みペダルを踏んで管
47に流れを通す。
【0026】しかしながら、エネルギーを節約し、且つ
圧力ブーストが必要になるときまで真空ポンプ/コンプ
レッサー141がその内にあるモーターからのエネルギ
ーの大部分を使い果たすようにエネルギーを供給する為
に足踏みペダル制御装置51は別の意味で接続される。
ペダルを踏まなければ足踏みペダル弁51は開いた状態
で、出口管接続口はフィルター又は排気装置を備えてい
て、管路175と管49から足踏みペダル弁51に多量
低圧で一定な空気が流れ込み、排気装置を通り抜けて出
ていく。圧力低下に基づいて選ぶことができるこの排気
装置は管路175と管49づたいの圧縮空気に実質的に
は圧力が低下しないことを示す。足踏みペダル弁51が
押し下げられた時、圧縮空気の拡散は遮られ、管47が
開かれるので、周囲に拡散する代わりに管47を通り抜
けるように再度方向づけられる。この配列では普通、真
空ポンプ/コンプレッサー141が多量の真空をつくり
出すほぼその時に、圧縮空気が供給される。効果的な増
幅は手動接触器75で利用する圧力差と考えられるの
で、備えつけてあるブーストは真空と圧力増幅の大きさ
に関係せずに効果的である。速続管継手43に流れ込む
圧縮空気もまたT型接続器によって管路165に接続さ
れている管路177に流れ込む。管路165に加えられ
た付加圧力は供給容器71と手動接触器75に向けられ
た推進力を増加させる。それから圧縮空気は空気と研磨
材が開口部103の研磨対象に向けて上向きに流れるよ
うにし、真空は使用済研磨材と研磨材料を除去する。完
全真空操作において、操作の差異は安全弁167と17
1の組み合わせから入ってくる空気中の圧力低下を引い
た大気圧に対して働くどんな真空をも含んでいる。圧力
増幅操作では、本質的に同じ真空状態が示されるが、入
力操作圧力の増加は空気と研磨材の流れの増加の原因で
ある。
【0027】弁149と171を再度見てみると、圧力
増幅の場合のこれらの働きが異なっていることは明らか
である。真空のみでの最大の作動(真空を減少させるた
めの真空管への分流無し)は弁149閉鎖と弁171の
完全開放(全分流で空気増幅無し)を必要とする。しか
し、管177に空気を増幅すると増加した空気圧が弁1
71を通り抜ける空気の流れが逆戻りする。従って、補
力状態下で弁171と149が閉鎖している時に最も強
力に作動する。この強力な設定では、足踏みペダル弁5
1は完全制御した高圧で強い空気の流れと研磨材を手動
接触器に供給する為に利用される。弁171と149が
閉鎖されていると空気の増幅は加えられずに入力空気の
み安全弁167を通り抜け、圧力増幅が加えられた時は
安全弁167は一方向逆止弁であるのですぐに閉鎖す
る。従って、図6のシステム21は安全弁167を通っ
て入ってくる空気の最小の流れと、弁167が閉鎖した
時の最大の増幅圧力と真空によって機能するようにな
る。キャップ101を皮膚上に使用した時には、特に多
量の真空が作られるかもしれないが、断続的に足踏み制
御動力増幅機能が供給容器71を通る空気の流れを完全
に閉鎖して、設置してある安全弁167が安全性を備え
ているのが好ましい。前記最大補力の設定では弁171
の開口部はシステム21の機能を弱め、その機能の幅を
狭くする。弁171が開いている時は真空機能を増強
し、足踏みペダル弁51が開いている時は多量の空気の
流れが手動接触器75に運ばれる圧力を減らす弁171
を通って流出する。弁171の開放は足踏みペダル制御
弁51を用いて、最大動力の操作状態から最少動力の操
作状態にする。例えば、最大有効力の2/3 から 1/3の操
作状態にする。弁171が完全に開いている時は動力操
作は最大から最小動力操作の間の最小の範囲に達する。
真空制御弁149の開放は真空量を減少できるので、空
気制御弁171と合わせて使用すると、操作の範囲の中
央に動く。しかし、一般的に動力ブースト操作中の弁1
49の開放から利点はあまり得られない。尚、もし十分
な真空が弁149により分流されるなら、使用済み研磨
材と研磨された材料を引き込んで収集する為に不適切な
真空が存在することがある。
【0028】管47と49からの増幅入力なしのシステ
ム21は真空/空気分流制御システムである。システム
中に使用される真空と空気の最大限の制御自体はエネル
ギーの観点から言うと、おおよそ完全なものから半完全
なもので、これらの水準以下では重要な実際の操作は無
く、弁の巧みな操作を通して真空と空気の向きを変える
ことができる。これは単なる状況であって、真空のみの
操作では、真空制御弁153は最大から約20°回転の
間でのみ操作に重要な影響を与える。この特徴が、真空
と空気増幅制御のための特別な制御弁の考案に導いた。
システム21の他の特徴としては、システム21がエア
ブーストと押すことでその増幅を可能にする足踏みペダ
ル制御装置51と一緒に使用された場合、システム21
はキャップ101内の開口部103をふさいでいる物質
又は開口部103の端に浮遊している物質を伴わずに研
磨媒体が開口部103を通して吹き出すことができる。
足踏みペダル制御装置51の使用は研磨材が入るべきで
ない場所に偶然に研磨媒体を排出する危険を引き起こ
す。その上、手動接触器75が足踏みペダル制御装置5
1を解除する前に研磨する物質上の位置にある開口部1
03の適用範囲から動かされたら、研磨媒体は手動接触
器75の開口部103から排出されやすくなり、研磨す
る物質とその研磨されている場所以外の場所を傷める原
因となる。
【0029】図6のエアブーストの操作は足踏みペダル
操作で増幅した空気の押し寄せる影響を和らげることを
基本としている。足踏みペダル制御装置51の代わりに
図18の弁331のような前記制限弁の使用によって増
幅空気制御弁を除去すること又は作動しないことを意図
としている。空気制御弁65で制御を鈍らせている間に
弁331などで制御可能なゆるやかな流れの供給は無意
味である。図6では、足踏みペダル制御装置51の除
去、弁331での取り替え、空気制御弁65とその管路
の排除と閉鎖は分配制御を可能にするが、素早いON/
OFFでの増幅の供給能力を排除することになる。尚、
システム21は使用者に親切な方法や手動接触器75か
ら出される(以前に使用された)廃棄媒体と研磨された
物質の混合物の安全な収集のための構造は規定していな
い。使用した媒体の補充は操縦者が不適切に供給容器に
注入するかもしれず、これは補充媒体を汚してしまうこ
とになる。また、廃棄媒体は操縦者によって廃棄物容器
の底から流し出される。これは機械のオペレーター又は
保持者に汚染研磨媒体を供給容器33に戻して再利用す
るか又は不安全で制御できていない方法で研磨された部
分からできた研磨する物質の形状で汚染の可能性を持つ
使用済媒体を処分することで同じような汚染研磨媒体を
拒絶する選択権を与えている。医療の環境で使用された
場合、システム21の描写は空気増幅システムの0.7
ミクロン上流フィルターとシステム21内での空気循環
の為のセラミック炉と紫外線消毒システムの合併に至る
殺菌した空気の流れの流出に焦点を当てていない。人体
組織の重研磨は殺菌剤の汚染物質又はシステム21内に
循環している他の汚染物質をつくり出すかもしれない。
【0030】システム21は、これまで説明してきたよ
うに良く機能する。前記と後記の考案は研磨が遂行され
る特別な環境のみに関係しているが、システム21によ
って焦点を絞られていない他の考案も考慮する必要があ
る。例えば、リサイクルが可能なガラスや他の媒体など
の簡素なエッチングに使われるシステム21は能率的で
巧みで清潔なシステムを形成する。例えば、一人の所有
者によって購買され掃除又は小さな部分を研磨する環境
の店で使用されるシステム21は供給研磨材と廃棄研磨
材の性質の管理欠如に問題はない。システム21のこれ
らの特性は一般的な利用には問題を引き起こさない。他
の利用にはもっと微細な必要性があるかもしれず、新し
くてより良い流れ制御システムや空気増幅制御システム
や媒体供給/廃棄制御管理システムや空気清浄殺菌器な
どの更なる発明をうながすであろう。
【0031】図7、8、9ではネジ状の廃棄物容器シス
テムが描写してあり、この中から使用済研磨材を除去す
るのは難しい。上板37に似ている上板201を含め廃
棄物容器33に類似している廃棄物容器アセンブリー1
99はハウジング23にボルトで留めてあるネジ穴20
3を2つ備えている。上板201はそこから延びている
入口チューブ205と出口チューブ207を含めた2本
のチューブを備えている。このチューブの構造は上板2
01の中心に向かって延びていて、それから下向きに方
向づけられている内径209と211を備えている。こ
のチューブは上板201の中心に向かって内に延びてい
るので、これらは上板201の底に付着しているチュー
ブ又は上板201の固いボディに空いている内径として
存在する。いずれの場合においても、方向変換すること
で研磨材をガスの流れから分離する手助けをしている。
例えば、上板37にある立体のメッシュグリッドは方向
変換の為に使われていて、ここにおいても同じ原理が使
われているのが分かる。ガス、使用済み研磨材、研磨さ
れた物質は入口管205から入り、下向きに方向づけら
れる。表されているような構成を取り決めた後、フィル
ターを通された出力ガスは内径211から入り、出口管
207から出る。この時のフィルターは5ミクロンが好
ましい。一点鎖線として見られる構成は支えながら密閉
して使用されている収集容器213の位置である。
【0032】図8は図7の線8−8においての断面図
で、収集容器213の中を覗き込んだ図であり、その内
部構成部分を表している。容器213は鉄又はプラスチ
ックの外壁215と一連の周辺穴219がパンチされて
いる又は穴が開けられている上板217を備えている。
外側の輪状シール221は使用済み研磨材、研磨された
物質が流出しないようにを上板217に押しつけて密閉
している。内側の輪状シール223は容器のネジ穴22
5を一連の周辺穴219から隔離させている。従って、
内径209を通って入ってくる物質は上板217にぶつ
かり、周辺穴219の中に落ちて壁215に囲まれた空
間の中に入る。外側の輪状封かんシール221は入って
きた物質が容器213から逃げ出さないように防いでい
る。内側の輪状封かんシール223はフィルターに通る
べき空気の流れの出力と入ってきた物質が接触しないよ
うに分離している。
【0033】図からも明らかな様に、内径211はネジ
穴225をネジ山でかみ合わせるネジ山付き短管227
で終わっている。この構造では容器はネジ山付き短管2
27をネジ山で外すことで簡単に取り替えることができ
る。上板217の底周辺に拡張してあるのは入ってくる
空気の流れとその使用済み研磨材と研磨された物質に通
路を作るために下向きに曲げてあるゴムフラッパー23
1である。一旦、使用済み研磨材と研磨された物質が容
器213に入ると、フィルター233は固形を残して空
気が自由に通り抜ける拡張した表面を示している。容器
が一杯になってもフィルター233には流れが邪魔され
ないだけの十分な表面がある。尚、水平面がフィルター
233より高くなっても、流れは使用済み研磨材を通り
抜けることができる。それに使用済み研磨材が研磨され
た物質より小さい時でも、使用済み研磨材のほとんどは
容器213の底に収集されるはずである。フラッパー2
31は固形から空気を分離する受動的な構造を提供し、
又空気が流れていない時は容器213の内容量を密閉す
る為にある。一旦、研磨過程が停止されたら、システム
21は空気で浄化されるか、単に研磨された物質の供給
の停止又は排出が促される。これによって、システム2
1から研磨された物質が排除される。システム21が閉
鎖された時は、容器213はニップル227からネジを
もって外すことができ、この時、上板217の上に無作
為な物質は何も乗っていない。一番良い使用例では、研
磨される物質の重さは研磨粒の重さより軽いと思われる
ので、研磨される物質の容量が分かる収集容器を備えつ
けるであろう。材料を使い果たした時、システム21は
きれいに一掃され、廃棄物容器213の取り替えと新し
い供給容器の設置ができるようになる。
【0034】図9は容器上部の細部が表している。この
図は上板217、一連の周辺穴219、外側と内側の輪
状シール221と223、ネジ山付き短管227とかみ
合うネジ穴225と一連の周辺穴219から見通せるゴ
ムフラッパー231を備えている構造である。図10に
は供給容器アセンブリー71に似た供給容器アセンブリ
ー251がハウジング23への連結を容易にする隠され
た二つのネジ穴257がある上板255を備えて描かれ
ている。空気入力管259は連続管又は管状容積265
として上板255の表面に伸びている空気入力管261
の入口を備えている。空気出力管263は連続管又は管
状容積265として上板255の表面に伸びていて、研
磨される材料を伴った空気の流れを運ぶ空気研磨材出力
内径265からの出口を備えている。供給容器267の
輪郭は一点鎖線で表されている。
【0035】図11は図10の線11−11においての
断面図で、供給容器アセンブリー251の内部構成部分
を表している。内部構成部分は上板255に永久固定す
る構造又はネジ山嵌合で取り外し可能な構造として備え
つけられる。空気入力管261と連結しているのは下向
きに伸びていて膨らむ管271で、これは容器67内で
粒子研磨材を流体化作用に導く供給容器267の底から
入力空気を出させる。このことにより、研磨材はいつも
自由に流れ、遊離していて、給送出口を詰まらせたり塞
いだりしない。この膨らむ管271は上板255と同じ
ネジ山取付け金具でかみ合わせてあるのが好ましい上部
拡張部273を備えているように表されている。図11
の眺めから言うと、この膨らむ管271の左側は空気と
研磨材の出力内径265と連結している下向きに伸びて
いるU型ベンチュリ管275であり、これは研磨材を引
き入れる底の湾曲部にある小さい入口オリフィス277
を備えている。大きさが50から100ミクロンの範囲
の研磨媒体に合った入力オリフィス277の大きさは直
径約0.045インチである。あらゆる応用の為に選ば
れる大きさは、研磨媒体の大きさの機能と研磨媒体の大
きさに関係する研磨表面に使われる媒体の量によって決
まる。ベンチュリ管275は、取付け金具281から下
向きに伸びているものと一般的に平行している管275
の上向きの延長の端で終結している開口端279を備え
ていて、この開口端279は膨らむ管271の延長で最
も低い所から研磨材に浸透する空気を吸い込む。空気が
ベンチュリ管275を急いで通ると、手動接触器75に
向かう途中の空気出力管263から外に流れる均一な空
気/研磨材の混合物を作る為に研磨材が入力オリフィス
277を均一に運び通される。
【0036】図12は真空分流弁301の簡単な断面図
が見られ、この弁の一つの可能な配置は図6の真空制御
弁149として利用される。真空分流弁301はネジ山
付き内部表面309があるボス307を含む側面管接続
口305が付いた本体303を備えている。ハンドル3
11は中央旋回支軸から離れて両方の方向に伸びている
一般的に細長いつまみを備え付けている。バルブ本体3
03は矢印で示されている底面開口部313を有し、ハ
ンドル311は弁軸315で真空分流弁301の内部に
接続されている。真空分流弁301は、2個又は3個、
又はもっと多くのボス307を備えることができること
は明らかだが、それぞれのボスには真空分流弁301の
中央部に入る一定の大きさと形の開口部がある。使用さ
れていないボスは単に引き抜くことができる。また、シ
ステム21と共に利用する為に設置した場合、真空分流
弁301の運転段階用のアナログの視覚表示としてのハ
ンドル311の位置を使う為に真空分流弁301の回転
を制御するのが好ましい。
【0037】図13は図12の線13−13においての
真空分流弁301の機能を示した側面断面図である。真
空分流弁301の低部の313を開口しているバルブ本
体303は、ボス307のネジ山付き内部表面309を
通ることが許された空気が吸い込まれる前に真空圧が筒
状バルブエレメント317の一線上の開口端に入ること
ができるように位置づけられている。筒状バルブエレメ
ント317の内側は、ネジ穴319の中央に垂直に大雑
把にあるように描かれている縮小した内径319の一連
が含まれることを記しておく。後で見られるが、この小
さな内径319は筒状バルブエレメント317の周囲に
分布し、その壁を通って延長している。内径309の内
奥部の端では、内径309が筒状バルブエレメント31
7の外面空間をこの内径309に露出している窓口32
1を見せている。小さな直径の内径309につながる窓
口321は大きいかもしれず、大きな直径の内径309
につながる窓口321は小さいかもしれないので、この
内径309の空間はボス308の全直径よりは重要な筒
状バルブエレメント317の外面にある眺め窓であるか
ら、窓口321として強調されている。更に、もっと小
さい又は大きい窓の輪郭や窓口321と違った形の輪郭
をはっきりとさせる内径309の内には他の密閉構造が
あるかもしれない。どの縮小した内径319が窓口32
1の中にあり、内径309内に空気の流れを通すために
開口し、そして空気を加えられた真空の中に真っ直ぐに
分流するかは、窓口321の大きさと形が決める。
【0038】固定原理として窓口321を考慮する上
で、窓口321を横切って通っている縮小した内径31
7の数と大きさのずっと変わりつづける複数の組み合わ
せ又はミックスを作る筒状バルブエレメント317の動
きと縮小した内径317の位置を付け加える。縮小した
内径317のうちの一つが窓口321の反対の端に近づ
くと、内径317は窓口321の端の後ろを動き始め、
その中の流れが制限されるようになる。これは、閉まっ
ている状態から他の縮小した内径317が窓口321の
反対の端に近づくと起こり、窓口321の端の後ろから
出始め、そして流通を始めることで開かれる。
【0039】ここでは弁がさらされる流れの領域を均一
に横切る制御された流れを得る為にこの差圧式流出オリ
フィスの原理が用いられる。全く直線形のない非線形の
空気などの流体流出なので、流れが利用できる空間と比
率が釣り合っている弁開口部の輪郭は必要とされる直線
性をもたらさないので、効果的でない。重要な能力を持
つ弁が使われている所では、その機能範囲の端の低いほ
うの直線化には普通、特別精密な角弁別を備えた高価な
制御装置が必要とされる。しかし、ちょうど均等に配置
された縮小した一連の内径319はバルブハンドル31
1を回すことで窓口321の枠内外に配置され、この内
径319の画期的な利用は弁流出の直線化をもたらし、
又この利用はバルブハンドル311と弁軸315と比例
している。これによって、バルブハンドル311の物理
的位置をアナログの流出表示器として使えるようにし、
システム21のハウジングとその活用は比べることがで
きるバルブハンドル311の位置に対して流出表示を提
示するかもしれない。これで、オペレーターにとってよ
り完全で再生可能な増幅空気に対する制御を可能にし、
バルブハンドル341の位置を視覚的に確かめることで
増幅の大きさが正しいかどうかの確認ができるようにな
る。この様な弁技術は流出スペクトルの最低部の直線化
の為に特に重要である。図13には表されていないが、
分流弁301は、変位が180°の範囲でのみできるよ
うに絞りを備え付けるのが好ましいが、流れは低部開口
部313に存在するバルブ本体303を貫いている弁の
管接続口309からであり、ただ一つのボス307が入
力として使用されているだけであるけれども、円筒形バ
ルブエレメント317の表面を横切っている縮小した内
径319の放射状分布の拡張は、180°を越えさすこ
とが可能である。例えば、極端な場合で窓口321が円
筒形バルブエレメント317の面積の20°を占めてい
る時、縮小した一連の内径319を円筒形バルブエレメ
ント317の残りの340°に分布させることができ
る。真空分流弁301の限界を180°にするのは、オ
ペレーターがバルブハンドル311の下の指示器の指標
を読むために腰を曲げたり、身をかがめたりしなくても
いいように利用する読取口がいつもバルブハンドル31
1上に位置するようにするためである。
【0040】図14では筒状バルブエレメント317上
の縮小した内径319の位置の描写が一線上に描かれて
いる。この図面のパラメーターはただの例であって、円
筒形バルブエレメント317の直径と高さ、それと窓口
321の面積の幾何学的配置に非常に左右される。この
図面の場合、鞍型窓を形成する為に円筒形バルブエレメ
ント317に対する窓口321の内径を0.355イン
チに基づかせている。円筒形バルブエレメント317の
直径は0.75インチである。図から分かるように、小
さな直径の窓口321を持つ大きな直径の円筒形バルブ
エレメント317には、窓口321におけるもっと多く
の縮小した内径319の組み合わせの可能性がある。
【0041】真空分流弁301の作動能力範囲が180
°を越えるようにしたいと仮定すると、325と番号付
けられている円筒形バルブエレメント317の直線状の
描写の直線の長さの半分より小さい所に大まかに占めて
いる縮小した内径319が見られる。直線状の描写32
5の全体の長さはγとして表され、ほぼ180°作動範
囲の直線状の描写325はνという記号で示されてい
る。窓口321において一度に一つから三つの縮小した
内径319がどんな時でも存在するように縮小した内径
319は各15°ずつのほぼ均等に配置されている。こ
の縮小した内径319は直径0.016、0.016、
0.016、0.026、0.026、0.026、
0.035、0.035、0.035、0.040、
0.040、0.040、0.045インチで直線状の
描写325上に連続して現れる。中央にある最初の縮小
した内径319の中央から最後の縮小した内径319の
中央まではηで表され、仮に窓口321の範囲と円筒形
バルブエレメント317の直径は約15°離れていると
予想すると、穴の間隔は約ψ°で表される。
【0042】完全に閉まっている状態から窓口321は
まず、最初の0.016インチの縮小した内径319の
一部を開けはじめ、それから最初の0.016インチの
縮小した内径319を全て開ける。円筒形バルブエレメ
ント317は回転し続けるので、二番目の0.016イ
ンチの縮小した内径319は空気の流れをもっと加えな
がら窓口321から見える位置に入る。最後に、三番目
の0.016インチの縮小した内径319が空気の流れ
を更に加えながら窓口321から見える位置に入る。次
に、最初の0.016インチの縮小した内径319は窓
口321から見える位置から動き出し始めるか又は窓口
321内に存在し、0.026インチの縮小した内径3
19と取り替えられる。つまり、最後の0.016イン
チの縮小した内径319は最初の0.026インチの縮
小した内径319と交換され、少し多めの一線上の流れ
を付加する。円筒形バルブエレメント317が回転し続
けるので、二番目の0.016インチの縮小した内径3
19が窓口321から出ると同時に二番目の0.026
インチの縮小した内径319が真空分流弁301を通る
少し多めの一線上の流れを付加する為に窓口321から
見える位置に入る。最後に、三番目の0.016インチ
の縮小した内径319が窓口321から出ると同時に三
番目の0.026インチの縮小した内径319が再度、
真空分流弁301を通る少し多めの一線上の流れを付加
する為に窓口321から見える位置に入る。次に最初の
0.026インチの縮小した内径319は窓口321か
ら見える位置から動き出し始めるか又は窓口321内に
存在し、0.026インチの縮小した内径319と取り
替えられ、この過程が繰り返される。最後に0.040
インチの縮小した内径319が消されると同時に0.0
45インチの縮小した内径319が付加される。
【0043】最も潤滑な作業の為に、取り替えられた二
つの縮小した内径319のいづれも、それぞれの退去と
侵入が同時に起こるべきである。もしそうでなければ、
望まれずに流れが減少し、その後すぐに流れが増加し
て、直線化が妥協される。更に、後から説明される円筒
形バルブエレメントを備えた弁に似ている弁301は、
多量の流れの直接計測能力を有している。弁301の大
きさの倍増はその流出能力と収容能力を倍加する。故
に、本発明の実施例に記述されているシステムが実験の
必要も無く大きさによって測定できるようにする為に、
上記弁301の大きさを異なったサイズの弁301にあ
てはめることができる。
【0044】図15は図13の線15−15においての
真空分流弁301の断面図で、弁が閉鎖している時の縮
小した内径319の位置を表している。図16は三つの
0.016インチの縮小した内径319を窓口321の
視界に入れる円筒形バルブエレメント317の最初の動
きを表している。
【0045】図17は足踏みペダル制御装置51に代用
可能な一つの構造として或いは場合によってはシステム
21に対して空気の増幅を供給するあらゆる手工具又は
足踏み制御増圧器と連結して使用される正送り空気分岐
弁331の簡単な斜視図であり、以下に本発明の更に進
んだ実施例中にもっと都合良く説明され、又利用されて
いる。これはシステム21内での使用を説明する為に足
踏みペダル制御装置51に代用可能な物として紹介され
る。正送り空気分岐弁331は本体333と二つのサイ
ドボス335と337を備えていて、これらのボスはそ
れぞれに開口部338を備えていて、ネジ山が付いてい
てもよい。供給空気が二方向に分かれるかもしれないの
で、ボスは180°離して配置されている。ハンドル3
41は中央旋回支軸から離れて両方の方向に伸びている
一般的に細長いつまみを備え付けている。バルブ本体3
33は矢印で示されている底面開口部343を有し、ハ
ンドル341は弁軸345で正送り空気分岐弁331の
内部に接続されている。更にまた、正送り空気分岐弁3
31は2又は3、又はもっと多くのボス337を備える
ことができることは明らかだが、それぞれのボスには正
送り空気分岐弁331の中央部に入る一定の大きさと形
の開口部があり、二つの向かい合って配置されているボ
ス335と337は二方向の横流しとしての利用が理想
的には要求される。二つ以上の数の使用されていないボ
スは単に引き抜くことができる。また、システム21と
共に利用する為に設置した場合、正送り空気分岐弁33
1の運転段階用のアナログの視覚表示としてのハンドル
341の位置を使う為に正送り空気分岐弁331の回転
を制御するのが好ましい。
【0046】図18は図17の線18−18においての
正送り空気分岐弁331の機能を示した側面断面図であ
る。正送り空気分岐弁331の低部の343を開口して
いるバルブ本体333は、空気がボス335又は337
を通ることが許される前に空気の流れが筒状バルブエレ
メント347の一線上の開口端に入ることができるよう
に位置づけられている。筒状バルブエレメント347の
内側はネジ穴338と339内中央に垂直に大雑把にあ
るように描かれている小さな内径349の一連が含まれ
ることを記しておく。後で見られるが、この小さな内径
349は筒状バルブエレメント347の周囲に分布し、
その壁を通って延長しているが、空気分流弁301に見
られるような規則的な連続的増加パターンは続かない。
ボス337と335の内奥部の端では、内径338と3
39が窓口351と353をそれぞれ見せている。窓口
351と353はボス337と335をそれぞれ流れ通
るように筒状バルブエレメント347の反対側をさらけ
出している。この場合、筒状バルブエレメント347は
実質的にはその周辺部延長全て隈なく使用される。更
に、窓口351と353は、ボス337と335の端か
ら端までのさし渡し(直径)と言うよりはむしろ筒状バ
ルブエレメント347の外面の重要な眺め窓であるから
使われる。しかしながら、空気弁正送り空気分岐弁33
1で完成された直線性は、弁に流出が無い所から最大の
流出までの配置からではなく、動作範囲の一端でボス3
35に0%分岐とボス337に100%分岐、そして動
作範囲の他の一端でボス337を100%分岐に、ボス
335を0%分岐に遷移する。これらの二つの状況の間
で、もしできれば、空気弁正送り空気分岐弁331を通
る空気の流れが制限しない直線化遷移が成されなければ
ならない。これらの二つの状況の中間で、流れはボス3
37と335に均等に分かれることが期待される。
【0047】足踏みペダル制御装置51に関して論議し
たように、ブースト用の空気圧力が必要とされるまで自
由な流出状況である為に、真空ポンプ/コンプレッサー
141の圧縮面を可能にすることが望まれる。空気供給
の制限は、真空を働かせる為の真空ポンプ/コンプレッ
サー141のエンジン力使用を邪魔をするので、足踏み
ペダル制御装置51が、排気制限と排気制限による圧力
からの圧縮力増幅によって妨げられる普通状態の自由排
気を実施するように、弁も同じことができる。この場合
の弁は正送り空気分岐弁331である。
【0048】筒状バルブエレメント347はその表面の
全周囲の殆どを使うが、図19にある小さい内径349
の配置考察では直線状の描写355の180°の長さだ
けを越えても内径には均一な段階値が伴わないことを表
している。更に、窓口351と353を横切って通って
いる縮小した内径347の数と大きさのずっと変わりつ
づける複数の組み合わせ又はミックスを作る筒状バルブ
エレメント347の動きと縮小した内径347の位置を
付け加える。連続操作の終わりに100%の流出がボス
335と337の一つに入り、もう片方に0%の流出が
入るので、小さい内径347の内で一番大きいものが窓
口351の端の後ろに動き、その流れを制限され始めて
いる間に、内径347の内最初の一つが窓口353(こ
れが流れていない方とみなす)の端に接近する。
【0049】また、全く直線状でない空気などの流体流
出の為、流れが利用できる空間と比率が釣り合っている
弁開口部の輪郭は必要とされる直線性をもたらさないの
で、効果的でない。更に、流れは向かい合って位置する
二つの開口部を通るので、窓口の幾何学的配置は、小さ
な内径の窓口353と351の一つだけでなく、同時に
他の窓口353と361の一つへの侵入と退去に関係す
る。しかし、片側から他方への流れのスムーズな遷移を
目的とするので、流出空間での変化は、それが片側だけ
であっても二つのボス337と335の間の分流の比率
に影響する。十分に間隔の空いている小さい内径349
はバルブハンドル341を回すことで窓口351と35
3の枠内外に配置され、この内径349の画期的な利用
はボス335と337間の関連した流れの直線化をもた
らし、又この利用はバルブハンドル341と弁軸345
と比例している。これによって、空気増幅(エアブース
ト)の大きさを厳密に制御するためにバルブハンドル3
41の物理的位置をアナログの流出表示器として使用可
能にしている。
【0050】これで、オペレーターにとってより完全で
再生可能な増幅空気に対する制御を可能にし、バルブハ
ンドル341の位置を視覚的に確かめることで増幅の大
きさが正しいかどうかの確認ができるようになる。この
様な弁技術は、空気の流れを遮らずに必要とされる空気
を直線化する為に特に重要である。真空分流弁301を
有する正送り空気分岐弁331は180°以上の範囲で
のみ変位が起こるようにストップ(絞り)と共に備えら
れているが、この場合、筒状バルブエレメント347の
360°ほとんどが利用されているので、180°の範
囲制限は機能上必要である。このことは図19に一番良
く表されていて、筒状バルブエレメント347上の小さ
い内径349の位置の描写が一線上に描かれていて、直
線状描写355と読んでいる。この図面のパラメーター
はただの例であって、再び、円筒形バルブエレメント3
47の直径と高さ、それと窓口351と353の面積の
幾何学的配置に非常に左右される。この図面の場合、鞍
型窓を形成する為に円筒形バルブエレメント347に対
する窓口351と353の内径を再度0.355インチ
に基づかせている。円筒形バルブエレメント347の直
径は0.75インチである。
【0051】小さい内径349は、直線状の描写355
の全体の長さはγとして表され、ほぼ360°作動範囲
の直線状の描写355はνという記号で示されている。
窓口351と353において一度に二つの小さい内径3
49がどんな時でも存在するように小さい内径349は
それぞれ約45°ずつのほぼ均等に配置されている。こ
の小さい内径349は直径0.080、0.280、
0.120、0.280、0.120、0.280と
0.080インチで、直線状の描写355上に連続して
現れる。中央にある最初の小さい内径349の中央から
最後の小さい内径349の中央まではηで表されてい
て、穴の間隔は約45°である。小さい内径349は七
つ存在するが、0°の位置では小さい内径349は存在
しない。直線状の描写355の180°の長さの物を使
って、一端を窓口351の一つの代わりとし、もう一方
の端を窓口353以外の物の代わりとするなら、直線状
の描写355を横切るその様な物は関係のある窓口35
1と353に同時に現れる二つの小さい内径349を思
いつかせる。左から始めて180°にある一番大きな窓
口353を窓口353と考えて、0°を窓口351と考
えるなら、窓口351は利用できる小さい内径349を
有さない。右に動いて、窓口351は0.280インチ
の小さい内径349とは関連せず、0.120インチの
小さい内径349と関連するので、窓口351は0.0
80インチの小さい内径349と考えるようになる。窓
口351は0.080インチの小さい内径349とは関
連せず、0.280インチの小さい内径349と関連す
るので、180°のマークにおいて窓口351は0.1
20インチの小さい内径349とは関連せず、0.28
0インチの小さい内径349と関連するというふうであ
る。筒状バルブエレメント347の角移動の終わりで
は、窓口351を通る流れは完全に開放され、窓口35
3を通る流れは完全に閉鎖される。
【0052】図20は図18の線20−20からの正送
り空気分岐弁331の断面図で、ボス335を通る10
0%の流れが通りすぎる位置に弁がある時の小さい内径
349の位置を表している。図21は、ボス337に入
る空気の流れの変遷を始める筒状バルブエレメント34
7の最初の動きを表していて、これは、ボス335の約
75%とボス337の25%を通ると思われるバルブハ
ンドル341と一致している。
【0053】初めて図22に表されているシステム50
1は、同じ種類の研磨作業を行なっている技術者によっ
て使用される所や、極めて簡単に動かされるシステムが
管理されている所や、妥当に手を加えないと、新しい供
給媒体のみの利用の為と、できるだけ多くの廃棄媒体を
隔離する為のプロトコールを侵害される所で必要とされ
る。システム501は二つの慣行を発達させた空気圧力
用と真空の制御用の弁を利用している直線形真空/空気
直接制御システムである。(これらの弁は本明細書内に
特許として出願される。)これらの弁は、制御用つまみ
の設定1の「空気/真空無」から制御用つまみの設定5
の「空気/真空最大」までの完全直線形制御を提供し、
制御用つまみの最小から最大までの完全な180°の動
きは円滑な完全直線形の流出制御を提供する。
【0054】図22のシステム501は一般的に言う
と、水銀柱が10インチ以下の真空レベルにおいて空気
増幅機能を全て遮る、真空の慣行に作用し、電気で作動
する空気の流れ制御弁を利用する。この方向電磁操作弁
は、送受器具75が開口部103を研磨する材料で塞い
で(閉鎖して)、水銀柱が10インチ以上に発達させな
いと作動しない。もし、真空が発達しないと、空気増幅
システムはどんな状況においても作動しない。もし、シ
ステムが使用されていて、送受器が塞がれていて、真空
が水銀柱の10インチ以上で、空気ブーズトが入ってい
て、オペレーターが送受器具75を研磨された材料から
取り去ると、真空は直ちに無くなり、空気増幅システム
はソレノイドによって閉鎖されて、媒体の流れは抑制さ
れているので送受器具75から媒体は脱出しない。シス
テム501は図7から11に説明されている研磨媒体供
給、廃棄媒体と研磨された材料の収拾と制御の進歩的な
考案を利用している。使い捨てできる供給媒体と廃棄物
の容器は組み合わさったペアで、この両方の容器は同時
に置き換えられる。供給システムの考案では、供給媒体
は密閉媒体容器に入れて提供されていて、これはオペレ
ーターによって180度回転ロックでシステムに設置さ
れる。廃棄媒体容器は360度ロック、逆流止め(廃棄
物は入るが外には出れない)、フィルターシステム、そ
れと外側の鉄製外装を備えた自己収集部(設備)であ
る。空の媒体容器と満杯の廃棄物容器の処理はオーナー
(保持者)又はオペレーターによって管理される。
【0055】図22のシステム501は化粧学と医学の
分野において特に有効であり、図6のシステム21に似
たように方向づけられている。ハウジング503はその
中の構成部分を支持する為に丁度良い大きさであるこの
ハウジングの二つの実施例を表す。電力は通常の壁コン
セント505からシステム501に供給される。ON/
OFFスイッチ507はハウジング503内にある真空
/コンプレッサー511に入る電力の使用可能度を操作
している。真空/コンプレッサー511には、少なくと
も一つの管接続口513に吸い込まれ、少なくとも一つ
の管接続口515から圧縮された出力を出す一方向の空
気の流れの動きがある。ピストンの振幅の片方はそれぞ
れ、管接続口513で真空をつくり出し、真空/コンプ
レッサー511内での次のもう片方の振幅は管接続口5
15で圧縮出力をつくり出す。
【0056】真空側のシステム501は、管接続口51
3と制限オリフィス521を通って真空計519に接続
されている管路517を含んでいる。真空管路523
は、視覚点検の為に一般的にはハウジング503の外側
に設置されている第二フィルター525に接続されてい
て、且つ、接続管531を通って図8に見られる第一フ
ィルター233を含む廃棄物容器533に接続されてい
る。廃棄物容器533は図7〜9に好んで見られる。フ
ィルター233に流れを通した後、廃棄物容器533か
ら前記図面に見られる管77と79が意図せず逆になる
のを防ぐ為に黒いコードにしても良い管継手537に伸
びている管路533を通して続いている。T型管継手
は、管路535内に作られた真空の中に気圧を押しやる
ことができる(入れることができる)直線形真空制御弁
539につながっている。真空制御弁539は多様なデ
ザインでできるが、この真空制御弁539には図12〜
16の真空分流弁301のデザインを用いるのが好まし
い。この構造では、手動接触器75までの途中の管接続
口537のちょうど前で、分流(分路)が管路とフィル
ターの一般的な真空の連続に導入されることに気づく。
(図6では、弁149が真空ポンプ/コンプレッサー1
41の中に直接垂直に空気を分流していたので、廃棄物
容器は真空緩衝器として使われた。)
【0057】T型接続は、真空センサースイッチK1が
管接続口537のちょうど前の管路535内の真空と流
体伝導されるようにする為に使われている。水銀計で1
0インチ以上位に管路535内の真空が十分高くなった
ら、中継組織が管接続口515からシステムの供給側に
空気圧力を得られるようにする分流弁K2を作動する。
管路535内の真空が水銀計で10インチ以下の時、管
接続口515から得られる圧力は単に、ハウジング50
3内の気圧に押しやられる。流れの真空ポンプ/コンプ
レッサー511からの迂回は、研磨粒を排出する空気
の流れを防ぐ為、そして、真空を使い物にならないよ
うに変えてしまう真空ポンプ/コンプレッサー511の
装備を避ける為である。
【0058】システム501の真空部を続けると、真空
は管接続口537から手動接触器75の真空側に引き起
こされる。もし、キャップ101の開口部103が手動
接触器75を研磨する表面上に押しつけることで塞がれ
ていたら、供給容器545から研磨粒と空気の混合物が
管路543を通って引き込まれることができるように真
空は管接続口541に引き起こされる。システム21の
ようにシステム501は真空モードのみで作動すること
ができ、ハウジング503の周囲から、そしてシステム
501を通して大気を引き込んでいる。しかし、圧力増
幅中の圧縮された空気は真空ポンプ/コンプレッサーか
らの空気で、これは以前に真空システムの排出として空
気が管接続口513に入ってくる真空ポンプ/コンプレ
ッサー511を通って引き込まれたものである。たとえ
廃棄物容器533と第一フィルター223と第二フィル
ター525が機械であるにもかかわらず完全に全ての研
磨粒と研磨された材料を真空吸込管路523から排除す
ると期待されているにしても、極少量の汚染物質が通り
抜けることが出来るかもしれないという、ほんのわずか
な可能性が存在する。第一フィルター223と第二フィ
ルター525は約5ミクロンの大きさであると思われる
が、それとは異なった大きさでもよい。例えば、フィル
ターの大きさを段々小さくすると、それに応じて過度の
圧力低下を防ぐ為に表面積を大きくする。
【0059】システム501に再侵入しようとする汚染
物質が真空ポンプ/コンプレッサー511を通り抜ける
ないことを絶対確実にする為に、一つの任意の装置とし
て、一般的な操作、弁機能停止や破裂などを通して、供
給容器545に入る管路547はまず、紫外線浄化シス
テム549にたどり着く前に0.7ミクロンのフィルタ
ー585を通り抜ける。主として、紫外線で照らされた
紫外線浄化システム549は拡張空間フィルターシステ
ムを備えていて、十分な流れの滞在時間を有しているの
で、もし、汚染粒子が導入されたら紫外線にさらして、
これらを台無しにする。紫外線浄化システム549への
吸気は管路551から供給され、又任意に、セラミック
ヒーターであるのが好ましいヒーター552を通して接
続してもよい。このヒーターは、空気に付加された熱が
紫外線浄化システム549と連結して働くように設置さ
れ、紫外線照射の為の高温加工蒸気(?)を備えること
でその有効性を高めている。尚、吸込管路547内のど
んな熱でも供給容器545内の媒体によって吸収される
機会がある。更に、余分に熱交換器を吸込管路547の
一部として又は管路543の一部として付加することも
できる。管路547と管路543のいづれかは、ハウジ
ング503の鉄壁の付属装置と管路547又は管路54
3或いはハウジング503の外壁にある熱フィンのおそ
らく両方にそって蛇行した道筋を通る。
【0060】それから、管路522は制御弁555に安
全弁554を据え付ける為に使われていて、直線形操作
に左右されるT型接続管継手553を通って接続されて
いる。完全にフィルターを通った空気のみ安全弁554
を通ってシステム501に入るようにする為に、0.0
7ミクロンの空気フィルター556が安全弁554の端
に設置され、入ってくる空気が十分にろ過されるように
している。
【0061】制御弁555は、図17〜21に見られる
正送り空気分岐弁331として好んで配置されるが、ど
んな配置でもできる。弁555は、約0.7ミクロンの
フィルターサイズのフィルター558を通って管接続口
515に戻って接続している管路に接続している一つの
入口を有している。フィルター558はシステム501
に再導入されるあらゆる汚染粒子を制限している。これ
らの汚染粒子は真空ポンプ/コンプレッサー511の真
空吸入の前に備えられたろ過を通ることができたもので
ある。弁555はエアダンプである第二の管接続口55
9を有していて、この管接続口はできれば、弁555に
侵入する又は出ている空気が分散するようにフリット又
はフィルターを備えるのが好ましい。しかし、吸込空気
が管路552に方向転換されて第二の管接続口559を
通って空気パージがいっぱいの状態で制御弁555が作
動するのが望ましい。それから、もし制御弁555が空
気を100%第二の管接続口559を通って完全に方向
転換されるように設置されていて、管路552が閉じら
れていたら、真空レベルの作動用の管路551に空気が
入るのを許す為に安全弁553を開くことができる。
【0062】弁555は真空作動の間、管路552に入
る空気の流れを良くすることができるように配置されて
いて、管路557を通って供給される圧縮された空気を
第二の管接続口559に方向転換するか又は管路551
まで達することのできる空気の量を調整することで制御
できる。しかし、直線形空気制御弁555が吸込空気に
対して作動する前に、分流弁K2は、その排出口に空気
をそらさないように設置されることで管路557を圧縮
するための作動位置に位置していなければならない。K
2の働きには、中継器K1において水銀計10インチの
真空をむしろ必要とするべきである。単に真空ポンプ/
コンプレッサー511の管接続口515が周囲の大気に
口を開けることを許して、分流弁K2と弁555とヒー
ター552と紫外線浄化システム549を削除すること
でシステム501は、空気増幅能力の無い物に組み立て
られる。尚、T型に設置された安全弁553は管路54
7内にフィルター558と任意でマフラーと共に位置づ
けられる。この結果のシステムは、まだ真空のみの作動
であるが、図7〜11に見られる供給と廃棄物の容器を
まだ備えている。
【0063】図23には、最初から化粧学関係のマーケ
ットで用いるつもりの真空のみのシステム601が表さ
れている。真空のみの作動は、医療に関係のない職員向
きであると信じられる。システム601はメインハウジ
ング603と二つの反対側に位置する側面支柱605と
607を有している。側面支柱605は廃棄物容器61
1を支えていて、側面支柱607は供給容器613を支
えている。メインハウジング603は上板615とシス
テム601の操作構成部分を備えた斜めの前板617を
含んでいる。前板617は、システム601を作動させ
又停止させるON/OFFロッカースイッチ619を支
持しているが、ロックアウト安全スイッチ621にロッ
クアウトキーを差込まなければロックアウト安全スイッ
チ621は閉鎖したままである。前板617の中心は真
空圧計器623である。計器623の片側には、前板6
17上での変位を視覚的に示している内部の真空制御
弁、もしできれば、図12〜16の真空分流弁301の
操作用のバルブハンドル625が数記号の一連に囲まれ
ている。傾いている前板617の下は垂直前板627
で、図1の管47と49、そして手動接触器75に導い
ている管77と79に接続される二つの速続管継手63
1と633を支持している。あと、電力コード635と
未使用時の手動接触器75を支持している円筒形支え6
37が表されている。
【0064】図24ではシステム601の全面図が見ら
れる。図25の後面図はフューズ641と、また、図2
2に見られる第二フィルター525の作動用と見た目用
の両方の為のグラスカバー643が表している。カバー
643は一般的に、内蔵されているフィルター成分を変
える為にネジを外すことで取り外しができる。供給容器
613と廃棄物容器611の両方は、図7〜11の説明
と一致していて、好んでネジを外すことで取り外しがで
きる。
【0065】図26には、最初から医療分野のマーケッ
トで用いるつもりの真空とブーストのシステム701が
見られる。ブーストと真空の操作からの増力は、良くト
レーニングされた医療専門家向きであると信じられる。
このシステム701はメインハウジング703と完全な
上蓋705と垂直前板707を有する。側面709と前
面パネル707は、廃棄物容器713の垂直な支えを収
容している長方形の余地711の為に短縮されている。
この余地711内であり、廃棄物容器713の真下には
四つのオプショナルインディケーター714の一連が見
られる。これらのオプショナルインディケーター714
は選択可能で、欠陥を示すために多数の内部構成部分や
システムに接続できるだろう。できるなら、各オプショ
ナルインディケーター714は、紫外線システムを照ら
している別々のガラス球に相当する。(図29〜31に
見られる。)理想的には、長い有効期間と信頼性の為
に、オプショナルインディケーター714は、ファイバ
ーオプティックタイプで、このファイバーオプティック
ケーブル線に沿っての光の伝達を通して紫外線ガラス球
の欠陥が直接示される。他の余地715は供給容器71
7の垂直な支えを収容している。メインハウジング70
3の一番遠い側面は、未使用時の手動接触器75を支持
している円筒形支え719である。
【0066】前の垂直パネルは、システム701の操作
構成部分であり、このシステム701を作動させ又停止
させるON/OFFロッカースイッチ721を支持して
いるが、ロックアウト安全スイッチ723にロックアウ
トキーを差込まなければロックアウト安全スイッチ72
1は閉鎖したままである。前板の中心は圧力計器725
であり、この計器725の片側下方には、バルブハンド
ル727が数記号の一連に囲まれていて、図12〜16
の真空分流弁301であるのが好ましい内部の真空制御
弁の操作用のバルブハンドル727の前板上での変位を
視覚的に示している。計器725のもう一方の片側下方
には、バルブハンドル729が数記号の一連に囲まれて
いて、図17〜21の弁351であるのが好ましい内部
の圧力増幅制御弁の操作用のバルブハンドル729の前
板上での変位を視覚的に示している。また、図1の管4
7と49、そして手動接触器75に導いている管77と
79に接続される二つの速続管継手731と733がパ
ネル707によって支持されている。あと、電力コード
735も表されている。
【0067】図27には側壁737を示しているシステ
ム701の前面図が表されている。図28の後面図はフ
ューズ741と、また、図22に見られる第二フィルタ
ー525の作動用と見た目用の両方の為のグラスカバー
743が表している。カバー743は一般的に、内蔵さ
れているフィルター成分を変える為にネジを外すことで
取り外しができる。供給容器713と廃棄物容器717
の両方は、図7〜11の説明と一致していて、好んでネ
ジを外すことで取り外しができる。また、通気口745
も表されている。
【0068】システム601と701の形而下の認識に
突き当たったシステム501、601と701を集合的
に検討している具現を含んだ、或いは含まないシステム
501は、システム21に多くの利点を付加している。
システム501、601と701は図7〜11に見られ
るように、密閉収容使い捨て廃棄物容器213によっ
て、使用済媒体のオペレーターによる処理を排除してい
て、そして、オペレーターに更なる研磨効果の指範囲の
調整を付与し、且つ患者に快適性を付与する為の図12
〜16の新しい直線形真空分流弁301と図17〜21
の空気増幅弁331の使用を促している。更に、システ
ム501、601と701の始動において、弁301と
331の位置関係は、オペレーターによる使用前の機械
のあらかじめの設置を可能にしていて、仮実験や失敗に
よって適切な操作状況を探す手間と患者の費用を削減す
る。
【0069】新しい媒体の供給物は、発送と使用者の受
け取りの前に媒体自体の密閉できる容器に瓶詰にされ
る。密閉構造の殆どは供給された研磨材の保全性と純度
を保証するために利用できる。この供給物は、システム
501、601と701を形態化した機械の支持構造部
にネジで留める為に蓋を開けられるまであらゆる場所で
密閉したままにしておける。図7〜11の供給容器26
7と廃棄物容器213の収容能力は、システム501、
601と701の機械を空にして再度補充する為など、
オペレーターが研磨材を取り扱うことによるタイムロス
を少なくとも90%ほど無くす。空気増幅制御用の真空
の必要条件を整える図22に真空センサースイッチK
1、ソレノイド弁K2として示されている真空安全スイ
ッチとソレノイド弁は手動接触器75が配置位置にない
時、それから、手動接触器75の先端に水銀柱で少なく
とも10インチの真空がない時の研磨媒体の不慮の噴出
を削除する。
【0070】真空センサースイッチK1、ソレノイド弁
K2の分流弁配列としての使用は、操作の自由モード用
の足踏みペダル制御装置51を削除した仕組みの働きを
する。或いは、もし望むなら、図6の任意の足踏みペダ
ル制御装置51を使用して、更にきつく研磨媒体を制御
することが可能である。オペレーターが研磨する物質の
表面から開口部103を離して手動接触器75の操作を
一休みする時、弁K2はエアブーストが直線形制御弁5
55に到達できる前に、自動的に空気供給の方向転換を
する。これで、オペレーターはただ手動接触器75だけ
に係わっていればよくなり、研磨する地域との関係は気
に掛けなくてもよくなる。特にオペレーターが絶えず配
置されている環境にあったり、或いは更にきつい制御が
必要とされる場合において、もし足踏みペダル制御装置
51が望まれるなら、備え付けることができる。システ
ム21などが医療分野以外で利用される時に、この様な
状況が起こることが多い。各研磨対象において取り替え
る手動接触器75の使い捨てキャップ101は、研磨処
理の衛生的条件を保証する。手動接触器75は持ちやす
く、オペレーターにとって最適なように構成されてい
る。正確な調整ができるように大きい真空計を備える
と、オペレーターにとって見やすくなる。
【0071】図29には紫外線浄化システム549の具
現が表されている。紫外線システム549を見下ろした
図面は、長方形で三つの内側バッフル(阻流板)753
と755と757の一連を備えたハウジング751を説
明している。壁759は排出口763から離れて位置す
る吸込口761を有する。バッフル(阻流板)753と
757は端壁769の近くに開口部765と767を備
えていて、バッフル(阻流板)755は壁759の近く
に開口部771の一組を備えている。一目で分かるよう
に、開口部765、767、771、吸込口761、排
出口763と組み合わさっているバッフル(阻流板)7
53と755と757は、紫外線浄化システム549に
入ってくる空気の蛇行した流れを作り出す。取り外し可
能な壁769は類似した電気ソケット775の一連を支
持している。紫外線777はソケット775の一つに表
され、紫外線浄化システム549の長さの大部分を占め
ているように見える。紫外線浄化システム549の構成
の目的は、そこを通る空気の流れに紫外線777を十分
に露光する事と、紫外線777からの電磁紫外線と接触
させる事である。紫外線浄化システム549のハウジン
グの大きさは約8×8×6インチであるのが好ましい。
図29は8インチの大きさで表されている。ガラス球は
約16から20ワット力のワット数定格を有してよい。
【0072】図30には、基盤781に支えられている
ガラス球777の側面図に曲がった蛍光性チューブ77
9がある。基盤781は、電気ソケット775内の対に
なっているプラグに挿入する二つの電気プロング783
を有する。ガラス球777の交換においては、紫外線浄
化システム549上の8×6インチの壁を開き、切れた
ガラス球777を取り外して新しいガラス球777と置
き換える。また、図29には、取り外し可能な壁769
を適所に固定するシール(封)791とネジ又はボルト
793の一組が見られる。浄化システム549の左側に
はファイバーオプティックセンサー794の一連が見ら
れ、それぞれは浄化システム549から伸び出ているフ
ァイバーオプティックケーブル線795を有している。
ファイバーオプティックケーブル線795は、図26と
27に見られる四つのオプショナルインディケーター7
14にライトを送り返す。浄化システム549の構造
は、明快なように上部壁を取り外して表されている。
【0073】図31には、図29にも見られる端壁76
9を適所に固定するシール(封)791とネジ又はボル
ト793の一組が表されている。適所に上部壁796が
見られる図31の側面断面図は、取り外し可能な壁76
9の付属部分を更に良く表している。蛇行した空気の流
れを作りだす開口部765が見られる。図31は、浄化
システム549内の紫外線777の殺菌用紫外線波長発
光の最大反射率の為にシルバーの陽極処理した鉄ででき
ていると思われる紫外線浄化システム549の線31−
31においての断面図である。紫外線浄化システム54
9はどんな大きさででも作れるが、十分な大きさの紫外
線浄化システム549に加えて、適切な数のガラス球7
77と適切な電力定格が使われていて、空気の流れが適
切な照射の中に居る十分な時間を有する必要がある。
【0074】一般的に内部システム701は、図22の
システム501に相対しているが、システム501は多
くのバリエーションが可能であるので、図26〜28の
物理的実現は本質的には構造の幅広い変化を伴っている
かもしれないシステム705の物理的実現であり、図2
2に示されているものと似通っている関係を有してい
る。同様に、内部システム601の性能は図22のシス
テム501の全性能ほどよくないが、このシステム60
1もまた、多数のバリエーションの可能性を有してい
る。システム501は図26〜28のシステム701に
適応させられるであろう構成部分をできるだけ沢山説明
されているので、システム601に適応させられるであ
ろう真空のみでの図式のシステムが明らかにされる。
【0075】図32には真空のみのシステム801の斜
視図が表されている。システム801は、図7〜11に
描かれている研磨媒体の供給と廃棄物と研磨された材料
の収集と制御の進歩的なデザインの利用もしている。特
に化粧学と医療の分野で有用な図32のシステム801
が表されている。ハウジング803はその内部の個性部
分を支持するのに適した大きさであり、システム701
のハウジングが好ましい。電力は普通の壁コンセント8
05によって供給される。ON/OFFスイッチ807
はハウジング803に入る電力を制御している。しか
し、真空作動によって放出される空気が周囲の空間に自
由に脱出するようにするディフューザー809は真空/
コンプレッサー811内に見られる。説明したように、
真空/コンプレッサー811の圧力側に圧力を増強させ
て、別の方法で真空を作り出すのに使われる力を失わせ
る。真空/コンプレッサー811の真空側は、少なくと
も一つの管接続口813に吸い込まれて制限オリフィス
821を通っている真空計819に接続されている管路
817に入る一方通行の空気の流出動作を伴う。真空管
路823は視覚点検の為に一般的には透明なハウジング
827を備えているハウジング803の外側に設置され
ている第二フィルター825に接続されている。この第
二フィルター825は継続管831を通って図8に見ら
れる第一フィルター233を含む廃棄物容器833に接
続されている。フィルター233に流れを供給した後、
廃棄物容器833から流れは手動接触器75に接続する
為の管継手837に延長している管路835を通って継
続する。T型管継手は管路835内に作られた真空の中
に気圧を押しやることができる直線形真空制御弁839
につながっていて、入口フィルター・ディフューザー8
40を備えているかもしれない。この真空制御弁839
は図12〜16の真空分流弁301であるのが好まし
い。
【0076】手動接触器75への他の接続は、供給容器
845から管路843を通って連絡している管継手84
1を通してである。管継手841に空気と研磨材の供給
を流動させて引き込むのに使われる供給容器845はそ
の内にきれいな周囲の空気を吸い込む為のフィルター・
ディフューザー管継手847を有している。吸込空気は
きれいな空気なので、紫外線処理と熱処理は必要である
とは思われず、フィルター・ディフューザー管継手84
7は小粒子ろ過サイズを有することができ、これは少な
くとも入口フィルター・ディフューザー840と同じ位
小さい。このフィルター・ディフューザー840は粒子
がが供給容器845に侵入するのを防ぐ為のものであ
り、ディフューザー又はフィルターかどうかは、侵入を
許された粒子のサイズによって決まる。
【0077】本発明を研磨システムとその手持ち器具の
操作という観点より説明してきたが、当業者であれば、
本発明の構造と技術が研磨される表面に対して研磨材を
衝突させる為の真空又は真空とブーストシステムが使用
されていて、特に殺菌効果のあるシステムが必要とされ
る多くの小型器具への応用が可能であることを理解する
であろう。本発明は、特に図示された実施例に関して述
べられてきたが、本発明の精神と範囲から逸脱すること
のない技術において、当業者には本発明の多くの変更及
び改良が自明である。従って、ここに保証された本特許
内に含まれることが妥当であるとここに認められるよう
な変更及び改良は全て、本技術範囲に合理的且つ適正に
含まれる。
【図面の簡単な説明】
【図1】フィルター,廃棄物キャニスター及びペダル操
作のパワーブーストを含むハウジングの種々の外表面の
特徴を示している本発明に係るシステムのスーツケース
大のハウジングの左側斜視図である。
【図2】供給キャニスター及び手動工具と真空/媒体線
の管継手を表している、図1に示すシステムの右側面図
である。
【図3】供給と出口の管を表した送受器及び、予め決定
されたターゲットに対する開口部を有した、移動可能な
プラスチックチップの斜視図である。
【図4】供給路と流れの絞り弁、及び戻り管につながる
一般的な経路と合併し放射状に位置する2つの戻り経路
を示す図3の4−4線断面図である。
【図5】プラスチックの先端を取り除き、供給通路、流
動加速器及び放射状に位置する戻り経路を覗くことので
きる送受器の端面図である。
【図6】直接粒子ビーム含有流体研磨システムで、真空
或いは圧力ブースト操作のあらゆる組み合わせが可能な
第一実施形態の全略図である。
【図7】移動するのが困難な浪費した研磨材料からのト
ッププレートから垂れ下がっていて垂直なスクリュータ
イプとして描かれた、代替の廃棄物キャニスターシステ
ムの平面図である。
【図8】図7に示す代替の廃棄物キャニスターシステム
の側部断面図である。
【図9】図8に示す処理可能な廃棄物キャニスターの平
面図である。
【図10】トッププレートから垂れ下がっていて垂直な
スクリュータイプとして描かれた、代替の供給キャニス
ターシステムの平面図である。
【図11】図10に示す代替供給キャニスターシステム
の側部断面図である。
【図12】通常オペレーターによる比例したアナログコ
ントロールを容易にする直接粒子ビームを含む流動研磨
システムの働きを直線化するのに好都合なように構成さ
れていて、システムの真空制御と共に使用されている、
シングルボスを有する円筒エレメント弁の斜視図であ
る。
【図13】図12の構造とその働きを描いている、13
−13線側面断面図である。
【図14】図12と13の弁の円筒エレメントにある様
々なサイズの流れの開口部の位置の一線状の描写であ
る。
【図15】図13の15−15線から見た、図12〜1
4の弁の円筒エレメントが作動している時の位置を描い
ている図である。
【図16】図15と類似していて、図12〜15の弁の
円筒エレメントが作動している時の角変位を表している
図である。
【図17】通常オペレーターによる比例したアナログコ
ントロールを容易にする直接粒子ビームを含む流動研磨
システムの働きを直線化するのに好都合なように構成さ
れていて、システムの空気増幅制御と共に使用される、
向かい合って位置する二つのボスを有する円筒エレメン
ト弁の斜視図である。
【図18】図17の構造とその働きを描いている、18
−18線側面断面図である。
【図19】図17と18の弁の円筒エレメントにある様
々なサイズの流れの開口部の位置の一線状を示す図であ
る。
【図20】図19の20−20線から見た、図17〜1
9の弁の円筒エレメントが作動している時の位置を描い
ている図である。
【図21】図20と類似していて、図17〜20の弁の
円筒エレメントが作動している時の角変位を表している
図である。
【図22】本発明の第二実施形態を示す全略図である。
【図23】化粧品学の分野での安全利用の為と真空のみ
での運転の為に構成された真空とブースト能力を備えた
本願発明の第二実施形態のハウジングに特に適している
ハウジングの一つの構造を示す斜視図である。
【図24】図23に示すハウジングの正面図である。
【図25】図23と24に示すハウジングの後面図であ
る。
【図26】医療分野での安全利用の為と真空のみでの運
転の為に構成されている真空能力とブースト能力を備え
た本発明の第二の実施形態用のハウジングの一つの構造
を示す斜視図である。
【図27】図26に示すハウジングの正面図である。
【図28】図26と27に示すハウジングの後面図であ
る。
【図29】紫外線に直面して蛇行した流れをつくり出す
バッフル(阻流板)を内部に備えた紫外線清浄システム
のハウジングの配置図である。
【図30】図29に表されている紫外線バルブの側面図
である。
【図31】紫外線に直面して蛇行した流れをつくり出す
バッフルを内部に備えた紫外線清浄システムのハウジン
グの側面図である。
【図32】空気増幅能力以外の多くの利点を備えた図2
2に見られる全システムを含む、図23〜25のハウジ
ングシステムと共有される第三実施形態の真空のみのシ
ステムを示す図である。
【符号の説明】
21,501,801 研磨システム(研磨粒配送補充
システム) 25,601,701 ハウジング 29,529 第一フィルター 29,233 第二フィルター 31,525,825 第二フィルター 33,533,833 廃棄物容器(廃棄物収集スペー
ス) 35,79,115,543 発生源 51,K1,K2 流れ分岐弁 61,519,819 真空計 71,545 供給容器(供給部) 75 手動接触器 101 ハウジングカバー 103 開口部 109 前部 111 後部 115 排出口 119 外枠 121 内枠 123 排出収集チャンバー 125 吸入口 127 排出口 141,511,811 真空ポンプ(圧縮空気発生装
置) 149 真空制御弁 165,547 空気入口 171,555 流れ分岐弁(位置選択弁) 171,167,521,555 供給空気制御弁 199 収集容器 215 容器下腹部 219 収集穴 225 ネジ穴 231 フラッパー 233 分離器 275 ベンチュリ管 277 吸入オリフィス 301,341 弁 303,333 本体 309,338,339 窓口 315,345 弁軸 317,347 円形バルブエレメント 319,349 一連の穴
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 カルビン ロン キャリアー 米国 カリフォルニア92629 ダーナポイ ント シーブルックドライブ33

Claims (65)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 研磨システムのための手動接触器(7
    5)であって、ハウジング(109、111)は研磨す
    る材料面に向けられる第一端と第二端とを持っており、
    空気の流れを供給する最初の発生源を備えている流通の
    ための前記ハウジングの前記第一端に開口している吸入
    口(125)と複数個の排出口(127)を持ってお
    り、それぞれの排出口は前記ハウジングの前記第一端に
    あり、前記排出口は吸入口とは別に一定の間隔をあけて
    いて、ハウジングカバー(101)は硬い研磨材料に接
    触する開口部(103)がある第一端と第二端とを備え
    ていて、前記吸入口(125)の直線状に前記ハウジン
    グカバーの前記開口部と、前記吸入口(125)を取り
    囲んでいる前記ハウジングカバーの前記第二端と、前記
    複数個の排出口とを備えている手動接触器。
  2. 【請求項2】 前記ハウジングが前記複数個の排出口
    (127)と空気の流れを収集する最初の前記発生源と
    流通していて前記複数個の排出口(127)と空気の流
    れを収集する最初の前記発生源の間に介在する排出収集
    チャンバー(123)を内蔵している請求項1記載の手
    動接触器(75)。
  3. 【請求項3】 前記ハウジングの第一端と一致している
    第一端と第二端を持っていて、前記吸入口と前記複数個
    の排出口を取り囲んで軸状に隆起している外枠(11
    9)と前記吸入口(125)を取り囲んでいる内枠(1
    21)を含んでいる前部(109)と、第一端は前記内
    枠(121)と前記排出収集チャンバーを形成している
    外枠(119)の間の空間である前記前部の第二端とぴ
    ったりと合わさっている後部(111)から成り立って
    いる前記ハウジングを組み込んでいる請求項2記載の手
    動接触器。
  4. 【請求項4】 第一端が前記ハウジングの第一端と一致
    している第一端と第二端を持っている前部(109)
    と、前記前部(109)の第二端とぴったり合わさって
    いる第一端を持っている後部(111)の間の空間(1
    23)が前記排出収集チャンバー(123)を形成して
    いる前記ハウジングを組み込んでいる請求項2記載の手
    動接触器(75)。
  5. 【請求項5】 後部(111)が前記排出収集チャンバ
    ー(123)につながっている主要排出口(115)を
    含む前記後部(111)を組み込んでいる請求項4記載
    の手動接触器(75)。
  6. 【請求項6】 前記ハウジングカバー(101)にある
    半球形の中央に前記ハウジングカバー(101)の開口
    部(103)が位置している請求項1記載の手動接触器
    (75)。
  7. 【請求項7】 複数の前記排出口(127)が前記吸入
    口(125)に放射状に配置されている請求項1記載の
    手動接触器(75)。
  8. 【請求項8】 研磨粒を運ぶ空気の流れを供給する最初
    の発生源(79、543)と、研磨粒又は研磨された材
    料のいずれかを運ぶ空気の流れを収集する最初の発生源
    (77、35)と、研磨される材料に直面している第一
    端と前記手動接触器(75)の第一端の半径の中心に開
    口していて空気の流れを供給する最初の発生源と流通し
    ている吸入口(125)と前記吸入口から一定の間隔に
    配置されていて空気の流れを収集する最初の発生源(1
    15)と流体伝導している排出口(115)を備えた手
    動接触器(75)から成る研磨システム(21、50
    1、801)。
  9. 【請求項9】 研磨粒又は研磨された材料のいずれかを
    運ぶ空気の流れを収集する最初の上記発生源(115)
    が、最初に入ってくる圧力以上の時、研磨粒を運ぶ空気
    の流れを供給する最初の前記発生源(79、543)を
    抑制する機能を備えた請求項8記載の手動接触器(7
    5)。
  10. 【請求項10】 前記手動接触器(75)が複数個の排
    出口(127)と、前記複数個の排出口(127)と空
    気の流れを収集する最初の前記発生源と流通していて前
    記複数個の排出口(127)と空気の流れを収集する最
    初の前記発生源の間に介在する排出収集チャンバー(1
    23)を内蔵している請求項8記載の研磨システム(2
    1、501、801)。
  11. 【請求項11】 供給容器(71、545)と、前記手
    動接触器(75)の吸入口と流通している研磨粒を運ぶ
    空気の流れが通過する第一端とベンチュリ管(275)
    の長さに沿って前記供給容器(71、545)の中に位
    置している吸入オリフィス(277)を備えたベンチュ
    リ管とから成る研磨粒を運ぶ空気の流れを供給する最初
    の前記発生源を内蔵している請求項10記載の研磨シス
    テム(21、501、801)。
  12. 【請求項12】 周囲の空気と最終的に流通する第二端
    も備えている前記ベンチュリ管(275)を内蔵してい
    る請求項11記載の研磨システム(21、501、80
    1)。
  13. 【請求項13】 前記供給容器(71、545)内にあ
    る研磨粒を流動化するために前記供給容器(71、54
    5)の最低部に開口する入口からの空気供給がある前記
    供給容器(71、545)を内蔵している請求項11記
    載の研磨システム(21、501、801)。
  14. 【請求項14】 ハウジング(25、601、701)
    と、そのハウジング(25、601、701)によって
    支持されていて真空力の源を生成する為の真空入口を備
    えた真空ポンプ(141、511、811)と、前記真
    空ポンプ(141、511、811)により送られる真
    空量を制御する為に空気前記真空入口へ分流する為の前
    記真空入口と流通する真空制御弁(149)と、前記ハ
    ウジング(25、601、701)によって支持されて
    いて前記真空ポンプ(141、511、811)の前記
    真空入口と流通する真空口と、前記ハウジング(25、
    601、701)によって支持されていて研磨粒を運ぶ
    空気の流れを供給する供給口と空気入口を備えた供給容
    器(71、545)から成る研磨粒配送補充システム
    (21、501、801)。
  15. 【請求項15】 前記真空口と前記真空ポンプ(14
    1、511、811)の前記真空入口との間に介在し、
    前記真空ポンプと流通する入口と出口を持ち、少なくと
    も仮貯蔵用の前記研磨材を実質的にその中に除去する為
    に配置されている廃棄物容器(33、533、833)
    を内蔵している請求項14記載の研磨システム(21、
    501、801)。
  16. 【請求項16】 第一フィルターを内蔵していて、前記
    廃棄物容器(33、533、833)が前記第一フィル
    ター(29、529)を通過するように全ての空気の流
    れを起こすことによって前記廃棄物を除去する為に配置
    されている請求項15記載のシステム(21、501、
    801)。
  17. 【請求項17】 前記第一フィルター(29、529)
    と前記真空ポンプ(141、511、811)の前記真
    空入口に介在する第二フィルター(29、233)から
    成り、前記第二フィルター(29、233)を通過する
    ように全ての空気の流れを起こすことによって前記廃棄
    物の除去をさらに確かにする為に少なくとも前記第一フ
    ィルター(29、529)の精密ろ過部と同じ位小さい
    精密ろ過部を備えている請求項16記載のシステム(2
    1、501、801)。
  18. 【請求項18】 前記廃棄物容器(33、533、83
    3)の外側に位置して前記ハウジング(25、601、
    701)によって独立的に支持されている前記第二フィ
    ルター(29、233)を備えている請求項17記載の
    システム(21、501、801)。
  19. 【請求項19】 視的検査を促し又前記第二フィルター
    (29、233)の交換が容易なように、前記ハウジン
    グ(25、601、701)の外側から便利な透明のフ
    ィルターをかぶせた前記第二フィルター(29、23
    3)を備えている請求項18記載のシステム(21、5
    01、801)。
  20. 【請求項20】 前記供給容器(71、545)に入っ
    てくる空気を制限制御する為の前記供給容器(71、5
    45)と流通する供給容器空気制御弁を備えている請求
    項14記載のシステム(21、501、801)。
  21. 【請求項21】 空気入口を持つ前記供給容器(71、
    545)を備え、更に前記ハウジング(25、601、
    701)によって支持されていて、前記供給容器(7
    1、545)の空気入口と流通する圧縮空気の源を送る
    圧力出口を有した圧縮空気発生装置を備えている請求項
    14記載のシステム(21、501)。
  22. 【請求項22】 前記圧縮空気を排出することにより圧
    縮空気の圧力を制御しながら減少させる為の前記圧力出
    口と流通する流れの分岐弁(51、K1、K2)を備え
    ている請求項21記載のシステム(21、501)。
  23. 【請求項23】 前記流れの分岐弁(51、K1、K
    2)がその流れの分岐弁(51、K1、K2)の素早い
    制御の為の手動作動弁に搭載されているバネである請求
    項22記載のシステム(21、501)。
  24. 【請求項24】 前記流れの分岐弁(51、K1、K
    2)が前記ハウジング(25、601、701)により
    支持されている位置選択弁である請求項22記載のシス
    テム(21、501)。
  25. 【請求項25】 前記位置選択弁の変位位置が前記流れ
    の分岐弁によって排出された前記圧縮空気の流れに対し
    て比例する請求項24記載のシステム(21、50
    1)。
  26. 【請求項26】 前記真空制御弁の変位位置が前記真空
    入口に分岐されて入ってくる空気の流れに対して比例す
    る請求項14記載のシステム(21、501、80
    1)。
  27. 【請求項27】 前記ハウジング(25、601、70
    1)によって支持されていて前記真空ポンプ(141、
    511、811)によって作られた真空を表している前
    記真空ポンプ(141、511、811)の前記真空入
    口と流通する真空計(61、519、819)を備えて
    いる請求項14記載のシステム(21、501、80
    1)。
  28. 【請求項28】 前記流れの分岐弁(51、K1、K
    2)が第一流れの分岐弁(51、K1、K2)であり、
    前記圧力出口で圧力により大きい制限を与える第一流れ
    の分岐弁(51、K1、K2)の操作にも関わらず、前
    記圧力出口の空気圧力の量の制御をしつつ与える前記圧
    力出口と流通する第二流れの分岐弁(171、555)
    から成る請求項22記載のシステム(21、501)。
  29. 【請求項29】 前記供給容器(71、545)内の圧
    力が所定の圧力より下がった時に前記供給容器(71、
    545)内に所定量の空気が入るようにする前記供給容
    器(71、545)の前記空気入口と流通する安全弁を
    備えている請求項21記載のシステム(21、50
    1)。
  30. 【請求項30】 ネジ穴(225)とそのネジ穴(22
    5)から一定の距離をおいて位置する少なくとも一つの
    収集穴(219)と容器下腹部(215)とを持つ収集
    容器(199)、材料が前記容器下腹部(215)内の
    少なくとも一つの前記収集穴(219)と前記ネジ穴
    (225)の間の流通経路にある前記第一フィルター
    (29、233)に流れるようにする少なくとも一つの
    前記収集穴(219)にたわんで隣接する柔軟性のある
    フラッパー(231)とをさらに備えている前記廃棄物
    容器(33、533、833)から成る請求項16記載
    のシステム(21、501、801)。
  31. 【請求項31】 前記第一フィルター(29、233)
    が空気の流れに適応する為に拡大された表面積を増加さ
    せる為の波型の側面を備え、有底筒状環状シリンダーと
    して形成されている請求項30記載のシステム(21、
    501、801)。
  32. 【請求項32】 前記供給容器(71、545)がさら
    に前記供給口と流通する研磨粒を運ぶ空気の流れが通過
    する第一端を備えたベンチュリ管(275)、空気の流
    れを前記ベンチュリ管(275)に送る為の第2端、そ
    して前記供給容器(71、545)が吸入オリフィスへ
    送る為に効果的な量の研磨材を充填するとき、前記ベン
    チュリ管(275)の前記第1端と第2端の間で、前記
    ベンチュリ管(275)へ研磨粒が送られる位置にある
    前記供給容器(71、545)内にある吸入オリフィス
    から成る請求項14に記載の研磨システム(21、50
    1、801)。
  33. 【請求項33】 ベンチュリ管(275)がU型で、前
    記吸入オリフィスが前記U型の最低部と隣接している請
    求項32に記載の研磨システム(21、501、80
    1)。
  34. 【請求項34】 前記供給容器(71、545)がその
    中にある研磨粒を流動化させる為にその底部に向かって
    開口している空気供給口を備えている請求項15に記載
    の研磨システム(21、501、801)。
  35. 【請求項35】 前記真空口での圧力が最高限界値より
    低い場合、前記真空口と流通しながら近距離に配置され
    る真空スイッチと、前記真空スイッチとに接続している
    電気作動装置と、前記真空口の圧力が前記最高限界値よ
    り上である時は前記供給口を通って前記供給容器(7
    1、545)から入る空気を制御制限すし、前記真空口
    の圧力が前記最高限界値より下である時には前記供給容
    器(71、545)から入る逆流している空気の流れを
    止めるために、空気の流れを方向転換させる圧縮空気発
    生装置を有する分流弁から成る請求項21記載の研磨シ
    ステム(21、501)。
  36. 【請求項36】 前記供給容器(71、545)の空気
    入口と不必要な粉粒物が供給口(71、545)の空気
    入口から侵入するのを防ぐ為の前記圧縮空気発生装置と
    の間にあるシステム浄化フィルターから成る請求項21
    に記載の研磨システム(21、501)。
  37. 【請求項37】 前記供給容器(71、545)の空気
    入口と、不必要な生物が前記供給容器(71、545)
    の空気入口に進入する前に前記不必要な生物を殺す為の
    前記圧縮空気発生装置の間にある浄化ヒーターからなる
    請求項21記載の研磨システム(21、501)。
  38. 【請求項38】 前記供給容器(71、545)の空気
    入口と不必要な生物が前記供給容器(71、545)の
    空気入口に侵入する前に前記圧縮空気発生装置からの空
    気を前記不必要な生物を殺す為に紫外線にさらす紫外線
    浄化システムから成る請求項21に記載の研磨システム
    (21、501)。
  39. 【請求項39】 真空力の源を生成する為の前記真空入
    口を備えた真空ポンプと、前記真空ポンプ(141、5
    11、811)により送られる真空量を制御する為に空
    気を前記真空入口へ分流する為の前記真空入口と流通す
    る制御弁と、前記真空ポンプ(141、511、81
    1)の入口と流通する出口と入口を備えた表面研磨器
    と、研磨粒を運ぶ空気の流れを供給する為の前記表面研
    磨器の入口から流れる供給用の研磨粒と空気と、前記真
    空入口と前記真空ポンプの真空入口の間に介在し、前記
    真空ポンプと流通する入口と前記真空ポンプ(141、
    511、811)の入口と流通する出口、そして少なく
    とも仮貯蔵庫用の前記研磨材を実質的に除去する為に配
    置されている前記廃棄物収集スペース(33、533、
    833)から成る研磨粒配送と補充システム(21、5
    01、801)。
  40. 【請求項40】 分離器からなり、前記廃棄物容器と前
    記分離器(233)がその分離器(233)を通る為に
    前記空気の流れ全てを起こすことで前記研磨材除去用に
    配置されている請求項39に記載のシステム(21、5
    01、801)。
  41. 【請求項41】 前記分離器が第一フィルター(29、
    233)であり、前記廃棄物収集スペースと前記第一フ
    ィルター(29、233)がその第一フィルターを通る
    為に全ての空気の流れを起こすことで前記研磨物除去用
    に配置されている請求項40に記載のシステム(21、
    501、801)。
  42. 【請求項42】 前記第一フィルター(29、529)
    と前記真空ポンプ(141、511、811)の真空入
    口に介在する第二フィルター(31、525、825)
    から成り、前記第二フィルター(31、535、82
    5)を通過する全ての空気の流れを起こすことで研磨材
    の除去をさらに確かにする為の前記第一フィルター(2
    9、233)の精密ろ過部のと少なくとも同じ位に小さ
    い精密ろ過部を備えている請求項41記載のシステム
    (21、501、801)。
  43. 【請求項43】 前記研磨粒の供給容器が空気入口(5
    47、165)を備え、前記研磨粒の供給に侵入する空
    気を制御制限する前記研磨粒の供給と流通する第一端と
    第二端を備えた供給空気制御弁(171、167、52
    1、555)から成る請求項第40に記載のシステム
    (21、501、801)。
  44. 【請求項44】 前記制御弁(171、167、55
    5)の第二端の一つと流通する圧縮空気の流れの源を導
    く為の圧力出口と前記研磨粒供給用の空気入口から成る
    圧縮空気発生装置(141、511、811)。
  45. 【請求項45】 前記圧縮空気を排出することにより圧
    縮空気の圧力を制御しながら減少させる為の前記圧縮空
    気発生装置(141、511、811)の圧力出口と流
    通する流れ分岐弁(51、K1、K2)から成る請求項
    44記載のシステム(21、501)。
  46. 【請求項46】 前記流れ分岐弁(51)がその流れ分
    岐弁(51)の素早い制御の為の手動作動装置に搭載さ
    れているバネである請求項45記載のシステム(21、
    501)。
  47. 【請求項47】 前記流れ分岐弁(171)が前記ハウ
    ジング(25、601、701)により支持された位置
    選択弁(171)である請求項45に記載のシステム
    (21、501)。
  48. 【請求項48】 前記位置選択弁(171)の変位位置
    が前記流れ分岐弁(51、K1、K2)によって排出さ
    れた前記圧縮空気の流れに対し比例する請求項47記載
    のシステム(21、501)。
  49. 【請求項49】 前記流れ分岐弁(171、555)が
    第一流れ分岐弁(51、K1、K2)であり、前記第一
    流れ分岐弁(51、K1、K2)の操作にも関わらず、
    前記空気圧力出口の空気圧力量に制限を加えながら制御
    することにより前記圧力出口で圧力により上限を与える
    前記圧力出口と流通する第二流れ分岐弁(171、55
    5)から成る請求項45記載のシステム(21、50
    1)。
  50. 【請求項50】 その本体の放射状平面に沿っている窓
    口(309、338、339)を有する円形の本体(3
    03、333)、そして前記バルブエレメント(31
    7、347)が前記本体(303、333)に関して前
    記窓口(309、338、339)を通って前記本体
    (303、333)に関して前記バルブエレメント(3
    17、347)の前記角変位に関して前記バルブエレメ
    ント(317、347)への流れを直線化させる為に前
    記バルブエレメント(317、347)が本体(30
    3、333)に関して直角に向きを換えられる時、前記
    窓口(309、338、339)上に一連に配置されて
    いる前記バルブエレメント(317、347)の外側か
    ら内側にある一連の穴(319、349)を備えている
    前記本体(303、333)内にぴったりと嵌まってい
    る円形バルブエレメント(317、347)から成る弁
    (301、341)。
  51. 【請求項51】 前記バルブエレメント(317、34
    7)が前記本体(303、333)に関して直角に向き
    を換えられる時、窓口(309、338、339)が前
    記一連の複数の穴(319、349)が前記窓口(30
    9、338、339)上に表れることができる大きさに
    されている請求項50に記載の弁(301、341)。
  52. 【請求項52】 複数の一連の穴(319、349)が
    前記バルブエレメント(317、347)の表面に均一
    に配置されている中央部を持つ請求項50に記載の弁
    (301、341)。
  53. 【請求項53】 前記一連の穴(319、349)のい
    ずれか一つが、前記窓口(309、338、339)の
    一方の側面から現れ始め、その反対側にももう一つの一
    連の穴(319、349)のいずれかが現れ始め、前記
    穴(319、349)の最初の穴が窓口(309、33
    8、339)上を完全に横切って移動する様に離れて配
    置されている請求項50に記載の弁(301、34
    1)。
  54. 【請求項54】 前記複数の一連の穴(319、34
    9)が離れ離れに配置され直線上にある請求項50に記
    載の弁(301、341)。
  55. 【請求項55】 前記弁(301、341)が本体(3
    03、333)に関して前記バルブエレメント(31
    7、347)の180°回転の範囲内で0流量から全流
    量になるように複数の前記一連の穴(319、349)
    が配置されている請求項50に記載の弁(301、34
    1)。
  56. 【請求項56】 前記円形バルブエレメント(317、
    347)と連結し、前記円形バルブエレメント(31
    7、347)を手動回転できる様に前記本体(303、
    333)の外に伸びている弁軸(315、345)から
    成る請求項50に記載の弁(301、341)。
  57. 【請求項57】 円筒形の形状と、弁軸開口部を持つ第
    一閉口端と第二開口端、及び前記円筒形本体(303、
    333)に向かって開いている窓口(309、338、
    339)を持つ本体(303、333)から成り、且
    つ、前記本体(303、333)内にぴったりと嵌ま
    り、第一端と前記本体(303、333)の前記第二開
    口端に配置されている第二開口端を持ち、前記本体(3
    03、333)の前記窓口(309、338、339)
    で円筒形バルブエレメント(317、347)の側面の
    一部が見られ、前記円筒形バルブエレメント(317、
    347)の外側から前記円筒形バルブエレメント(31
    7、347)の内側にかけて一連の穴(319、34
    9)を持ち、そしてその一連の穴が、前記窓口(30
    9、338、339)を通って前記円筒状バルブエレメ
    ント(317、347)に入る流れを直線化させる為
    に、前記本体(303、333)に関して前記円筒形バ
    ルブエレメント(317、347)の角変位に関係して
    いる前記円筒形バルブエレメント(317、347)が
    直角に向きを換えられた時に、前記窓口(309、33
    8、339)を横切って連続して見れる様に配置してあ
    る弁(301、341)。
  58. 【請求項58】 円形状で、前記本体(333)に向か
    って開いている第一窓口(338、339)と、第二窓
    口(338、339)と、中央主要開口部を持つ本体
    (333)と、そして、前記本体(303、333)内
    にぴったりと嵌まっており、前記バルブエレメント(3
    17、347)の外側から前記バルブエレメント(31
    7、347)の内側にかけて一連の穴(319、34
    9)を持ち、そしてその一連の穴が、前記本体(33
    3)と関連した前記バルブエレメント(317、34
    7)の角変位に関して前記第一と第二窓口(338、3
    39)の間に真っ直ぐにしてある前記本体を通る流れの
    形を直線化させる為の前記本体(333)に関して、前
    記バルブエレメント(317、347)が直角に向きを
    換えられた時に、前記窓口(338、339)を横切っ
    て連続して見れる様に配置してある弁(301、34
    1)。
  59. 【請求項59】 前記バルブエレメント(317)の周
    囲に均一に配置されている複数個の前記一連の穴(31
    9、349)が、中央を有する請求項58記載の弁(3
    41)。
  60. 【請求項60】 複数個の前記一連の穴(319、34
    9)が、第一窓口(338、339)において穴(31
    9、349)の総開口部面積が増加し、第二窓口(33
    8、339)において穴(319、349)の総開口部
    面積が減少するように構成されている請求項58記載の
    弁(341)。
  61. 【請求項61】 複数個の前記一連の穴(319、34
    9)が、第一窓口又は第二窓口(338、339)にお
    いて穴(319、349)の総開口部面積が増加してい
    る間に、もし第一窓口又は第二窓口(338、339)
    において流れが増加したら、前記一連の穴(319、3
    49)の一つが閉じられて、他の前記一連の穴(31
    9、349)の一つが第一窓口と第二窓口(309、3
    38、339)のそれぞれに開くように構成されてある
    請求項58記載の弁(341)。
  62. 【請求項62】 複数個の前記一連の穴(319、34
    9)が間隔を空けて直線上に位置している請求項58記
    載の弁(341)。
  63. 【請求項63】 前記本体に関係する前記バルブエレメ
    ント(317、347)の180°回転の始めにおいて
    前記弁は第一窓口では流れがなく、第二窓口で流れがあ
    り、前記弁は180°回転中において第一窓口を通過す
    る流れの半分と第二窓口を通過する流れの半分を直線的
    に変遷させ、前記弁は180°回転後は第一窓口(33
    8、339)と第二窓口(338、339)を通過する
    流れが全く無くなるように複数個の前記一連の穴(31
    9、349)が分布されている請求項58記載の弁(3
    41)。
  64. 【請求項64】 弁軸(315、345)が前記円形バ
    ルブエレメント(317、345)に連結しており、前
    記円形バルブエレメント(317、347)の手動回転
    が出来る様に前記本体(303、333)の外方向に伸
    びている請求項58に記載の弁(341)。
  65. 【請求項65】 円筒形の形状を有し、弁軸開口部を備
    えた第一閉口端と第二開口端を持ち、且つ前記円筒形本
    体(303、333)の側面に対して第一窓口(30
    9、338、339)と前記円筒形本体(303、33
    3)の反対側に対して第二窓口(309、338、33
    9)を備えた本体(303、333)と、前記本体(3
    03、333)内にぴったりと嵌まっており、第一端と
    前記本体(030、333)の前記第二開口端にある第
    二開口端を備え、前記円筒形のバルブエレメント(31
    7、347)の側面部分が本体(303、333)の前
    記第一と第二窓口(309、338、339)の両端か
    ら見ることができ、前記円筒形バルブエレメント(31
    7、347)の外側から内側にかけて一連の穴を備え、
    そしてその穴は前記第一窓口と第二窓口(309、33
    8、339)の中に見える様に配置されており、前記円
    筒形バルブエレメント(317、347)が前記本体
    (303、333)に関して直角に向きをえられる時、
    前記第一と第二窓口(338、339)のそれぞれを通
    る流れの方向が決められた順路で前記第一窓から第二窓
    にかけて直線上に変化する円筒形バルブエレメント(3
    17、347)。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008229340A (ja) * 2007-03-19 2008-10-02 Ferton Holding Sa 粉末噴射装置、粉末容器、その粉末容器のためのインサート、ならびに歯科治療方法
KR101121614B1 (ko) 2008-12-30 2012-02-28 주식회사 한진중공업 블라스팅 장치 및 그 내부압 조절 방법

Families Citing this family (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000121508A (ja) * 1998-10-15 2000-04-28 Tlv Co Ltd 電源を内蔵するモニタリング・システム
US6306119B1 (en) 1999-01-20 2001-10-23 Pearl Technology Holdings, Llc Skin resurfacing and treatment using biocompatible materials
IT1307045B1 (it) * 1999-06-16 2001-10-23 L I C A Di Rosso Luciano & C S Dispositivo di idromicroabrasione del tessuto umano.
US6641591B1 (en) 1999-08-26 2003-11-04 John H. Shadduck Instruments and techniques for controlled removal of epidermal layers
US6592595B1 (en) 2000-03-31 2003-07-15 Edge Systems Corporation Microdermabrasion and suction massage apparatus and method
WO2001080750A1 (en) * 2000-04-19 2001-11-01 Pearl Technology Holdings, Llc. Skin resurfacing and treatment using biocompatible materials
DE10046073A1 (de) * 2000-09-15 2002-04-04 Lothar Bode Vorrichtung und Verfahren zum Abtragen von oberflächigen Hautzellen
DE10102924C1 (de) * 2001-01-23 2002-06-13 Pieper Innovationsgmbh Verfahren und Vorrichtung zum Strahlbearbeiten, insbesondere formgenauen Abtragen und/oder Verdichten und/oder Beschichten, von festen Flächen
US6503256B2 (en) * 2001-03-13 2003-01-07 Dermamed, Inc. Microderm abrasion device and method
US6942649B2 (en) 2002-03-01 2005-09-13 Edge Systems Corporation Microdermabrasion fluid appplication system and method
FR2845885B1 (fr) * 2002-10-21 2005-07-22 Bionoface Appareil de micro-abrasion
WO2004037098A1 (fr) * 2002-10-21 2004-05-06 Bionoface Appareil de micro-abrasion
GB2437212B (en) * 2004-01-21 2008-06-11 Crystal Clear Internat Ltd Microdermabrasion device
GB0401550D0 (en) * 2004-01-21 2004-02-25 Ball Philip A handheld apparatus for use in micro-dermabrasion
US6851545B1 (en) 2004-03-23 2005-02-08 Caddy Corporation UVC conveyor belt system
US20060253125A1 (en) * 2005-03-07 2006-11-09 Ignon Roger G Microdermabrasion method and apparatus
US8025669B1 (en) * 2005-07-22 2011-09-27 Biorenew Labs, Llc Portable microderm abrasion device
US8048089B2 (en) 2005-12-30 2011-11-01 Edge Systems Corporation Apparatus and methods for treating the skin
US9566088B2 (en) 2006-03-29 2017-02-14 Edge Systems Llc Devices, systems and methods for treating the skin
WO2014151104A1 (en) 2013-03-15 2014-09-25 Edge Systems Llc Devices, systems and methods for treating the skin
US10172644B2 (en) 2006-03-29 2019-01-08 Edge Systems Llc Devices, systems and methods for treating the skin
SE532461C2 (sv) * 2007-03-16 2010-01-26 Amdent Ab Tandpoleringsanordning samt polerapparat innefattande nämnda tandpoleringsanordning
WO2009018590A2 (en) * 2007-08-01 2009-02-05 Do Huu Nghia An abrasive flow control structure, an abrasive material classifier and blasting systems incorporating same
WO2009088884A1 (en) 2008-01-04 2009-07-16 Edge Systems Corporation Apparatus and method for treating the skin
WO2009097451A1 (en) 2008-01-29 2009-08-06 Edge Systems Corporation Apparatus and method for treating the skin
DE102008026513A1 (de) * 2008-05-21 2009-11-26 Alfred Kärcher Gmbh & Co. Kg Trockeneisstrahlvorrichtung
US8556683B2 (en) 2009-11-13 2013-10-15 William R. Lynn Containment barrier for use with surface treatment
EP2451367B1 (en) 2009-07-08 2020-01-22 Edge Systems Corporation Devices for treating the skin using time-release substances
USD682414S1 (en) * 2011-02-17 2013-05-14 Tong Chen Microderm abrasion machine
CN102218707A (zh) * 2011-06-09 2011-10-19 广东工业大学 一种微磨料水射流精加工装置
US9775645B2 (en) 2013-03-01 2017-10-03 Envy Medical, Inc. Microdermabrasion system with ergonomic handle
US10238812B2 (en) 2013-03-15 2019-03-26 Edge Systems Llc Skin treatment systems and methods using needles
US8985400B2 (en) 2013-05-01 2015-03-24 Crystal-Mark, Inc. Micro particle flow facilitator
US8936416B2 (en) 2013-05-01 2015-01-20 Crystal-Mark, Inc., A Swan Technologies Corporation Fluidized particle abrasion device with precision control
CN103949983A (zh) * 2014-04-02 2014-07-30 徐州浩通水射流科技有限公司 一种前混合磨料水射流磨料混合系统
US10179229B2 (en) 2014-12-23 2019-01-15 Edge Systems Llc Devices and methods for treating the skin using a porous member
EP4324414A3 (en) 2014-12-23 2024-05-01 HydraFacial LLC Devices and methods for treating the skin using a rollerball or a wicking member
CN107920948A (zh) 2015-07-08 2018-04-17 边缘系统有限公司 用于促进毛发生长的装置、系统和方法
DE202015008939U1 (de) 2015-11-09 2016-03-21 Fb21 Vertriebs Gmbh Dermabrasionsstick
CN106002642B (zh) * 2016-07-14 2018-07-13 长春工业大学 3d打印零部件的后处理喷丸装置及其工作方法
BR112019001476A2 (pt) * 2016-07-25 2019-05-07 Med-Aesthetic Solutions, Inc. sistema esfoliante de pele de pressão positiva e método para esfoliação dérmica para rejuvenescimento da pele
CN106078485B (zh) * 2016-08-16 2018-06-15 重庆亚庆机械制造有限公司 一种打磨设备
CN107363732A (zh) * 2017-07-25 2017-11-21 佛山杰致信息科技有限公司 一种管内壁抛光装置
US10744620B2 (en) 2017-09-21 2020-08-18 Shape Technologies Group, Inc. Air flow management systems and methods to facilitate the delivery of abrasives to an abrasive fluid jet cutting head
CN107671747A (zh) * 2017-11-22 2018-02-09 河南理工大学 一种前混合式磨料气体射流连续供料系统及方法
CN108818326A (zh) * 2018-07-10 2018-11-16 马鞍山纽泽科技服务有限公司 一种工件喷砂装置及方法
CN110170912B (zh) * 2019-05-30 2024-03-15 湖南永创机电设备有限公司 一种用于玻璃基片抛光的真空吸附与吹气下料装置
USD1016615S1 (en) 2021-09-10 2024-03-05 Hydrafacial Llc Container for a skin treatment device
KR102544873B1 (ko) * 2021-12-13 2023-06-16 이석재 정전시 추락방지를 위한 진공압을 보상하는 블라스트머신
CN116619230B (zh) * 2023-07-24 2023-09-19 江苏安江汽车部件有限公司 一种自密封散热器导风板总成清洗装置及清洗方法
CN117167516B (zh) * 2023-11-02 2024-04-12 北京犀燃科技有限公司 一种旋转式高速气动阀

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ZA715193B (en) 1970-08-21 1972-04-26 Micronair Ltd Fluid flow regulating device
US3815286A (en) 1971-11-01 1974-06-11 Futurecraft Corp Ind Pneumatic abrasive cutting apparatus
AT379512B (de) 1984-05-02 1986-01-27 Nagy Erich Durchflussregulator fuer schwerkraftinfusionen bzw. -transfusionen
ES280655Y (es) 1984-07-23 1986-12-01 Isphording Hispania, S.A. Un grifo de gas
IT1188184B (it) 1985-08-14 1988-01-07 Texcontor Ets Sali ammonici quaternari di polisaccaridi ad attivita' ipocolesterolemizzante
JPS6363450A (ja) * 1986-09-03 1988-03-19 トノクラ医科工業株式会社 ウオ−タ−ジエツト手術装置
IT212331Z2 (it) * 1987-11-27 1989-07-04 Lorenzo Molinari Apparecchiatura per asportare in modo regolabile porzioni superficiali di tessuto umano
IT1218945B (it) 1988-01-11 1990-04-24 L I C A Di Rosso E C Snc Apparecchio per effettuare micro abrasioni unicamente mediante depressione particolarmente sul tessuto umano e in generale su corpi ad aderenza e non traspiranti
US5207234A (en) * 1988-01-11 1993-05-04 L.I.C.A. Di Rosso & C.S. N.C. Method for making micro-abrasions on human tissue
EP0564392A2 (en) 1992-03-04 1993-10-06 D. Antonio Fructuoso Martinez Medical equipment, useful in the cutaneous dermabrasion technique, achieved by means of abrasive powder
IT1286624B1 (it) 1996-05-10 1998-07-15 Mattioli Eng Srl Apparecchiatura a componenti sterili monouso,per trattamenti di dermoabrasione mediante getti di sostanze riducenti
IT1278703B1 (it) * 1995-06-16 1997-11-27 Moreno Naldoni Apparecchiatura per la microdermoabrasione mediante un getto di una miscela aria/sostanze riducenti e manipolo relativo
GB9520209D0 (en) 1995-09-25 1995-12-06 Cawley R Skin cleaning apparatus
AUPP028497A0 (en) * 1997-11-10 1997-12-04 Greenberg, Ronald Allan Improved apparatus and method for micro-abrasions of human tissues and/or hides

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008229340A (ja) * 2007-03-19 2008-10-02 Ferton Holding Sa 粉末噴射装置、粉末容器、その粉末容器のためのインサート、ならびに歯科治療方法
KR101121614B1 (ko) 2008-12-30 2012-02-28 주식회사 한진중공업 블라스팅 장치 및 그 내부압 조절 방법

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