JP2000057771A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JP2000057771A
JP2000057771A JP10221578A JP22157898A JP2000057771A JP 2000057771 A JP2000057771 A JP 2000057771A JP 10221578 A JP10221578 A JP 10221578A JP 22157898 A JP22157898 A JP 22157898A JP 2000057771 A JP2000057771 A JP 2000057771A
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voltage
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memory cell
response
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勇 林
Akira Yamazaki
彰 山崎
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    • GPHYSICS
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    • GPHYSICS
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 出力バッファの動作による電源電圧変動の影
響を受けずに正確にデータ信号の読出/書込のタイミン
グ制御ができる半導体記憶装置を提供する。 【解決手段】 出力バッファ72は、外部電源電圧Ex
t.VDDを受ける電源ピンP1からの電圧VDD1を
受けて動作し、アレイ制御回路20、リード制御回路3
0、ライト制御回路40、および内部クロック生成回路
45に含まれる遅延回路22,23,32,33,4
2,43,46は、外部電源電圧Ext.VDDを受け
る電源ピンP2からの電圧VDD2を受けて動作する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は半導体記憶装置に
関し、さらに詳しくは、内部制御信号のタイミングを調
整するための遅延回路を有する半導体記憶装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】DRAM(ダイナミックランダムアクセ
スメモリ)と呼ばれる半導体記憶装置においては、制御
回路によって、行アドレスストローブ信号/RAS、列
アドレスストローブ信号/CASなどの外部制御信号に
応答して内部制御信号が生成される。内部制御信号は、
DRAM内部の各回路の動作を制御する信号であり、例
えば、ワード線を活性化するタイミングを決める信号や
センスアンプを活性化する信号などがある。これらの内
部制御信号の立ち上がりや立ち下がりに応答してワード
線やセンスアンプなどが活性化される。内部制御信号の
立ち上がりや立ち下がりのタイミングは、制御回路内に
設けられた遅延回路での遅延量によって調整される。こ
の遅延回路は、バッファと容量とで構成される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】制御回路内に設けられ
た遅延回路へ供給される電源電圧が変動すると、これに
伴ってバッファの駆動電流が変動するため、この遅延回
路での遅延量が変動する。したがって、制御回路内の遅
延回路へ供給される電源電圧は一定であることが望まし
い。しかし、図6に示されるように従来のDRAMで
は、出力バッファ100に供給される電源電圧VDDと
制御回路CTL0内の遅延回路DL0へ供給される電源
電圧VDDとは同じ電源ピンP0から供給されている。
また、通常、出力バッファ100の動作による電源電圧
の変動は大きい。このため、出力バッファ100の動作
によって制御回路CTL0内の遅延回路DL0へ供給さ
れる電源電圧が大きく変動する。この結果、制御回路C
TL0内の遅延回路DL0での遅延量が変動し、データ
信号の読出/書込動作のタイミング制御が正確に行われ
なくなるという問題が生じていた。
【0004】この発明は、以上のような問題を解決する
ためになされたもので、その目的は、出力バッファの動
作による電源電圧変動の影響を受けずに正確にデータ信
号の読出/書込のタイミング制御ができる半導体記憶装
置を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明の1つの局面に
従った半導体記憶装置は、メモリセルアレイと、第1お
よび第2の電源と、出力バッファと、制御回路とを備え
る。メモリセルアレイは、行および列に配置された複数
のメモリセルを有する。出力バッファは、第1の電源か
らの電圧を受けて動作し、メモリセルアレイからのデー
タ信号を外部へ出力する。制御回路は、メモリセルアレ
イのデータ信号の読出/書込を制御する。上記制御回路
は、制御信号発生回路と、遅延回路とを含む。制御信号
発生回路は、外部制御信号に応答して内部制御信号を発
生する。遅延回路は、第2の電源からの電圧を受けて動
作し、制御信号発生回路からの内部制御信号を遅延させ
る。上記第2の電源は、遅延回路にのみ電源電圧を供給
する。
【0006】上記半導体記憶装置においては、第1の電
源からの電圧を受けて出力バッファが動作し、第2の電
源からの電圧を受けて制御回路内の遅延回路が動作す
る。これにより、出力バッファの動作によって第1の電
源から出力バッファへ供給される電源電圧が変動して
も、第2の電源から遅延回路へ供給される電源電圧は影
響を受けないため、遅延回路は正常に動作する。この結
果、出力バッファの動作による電源電圧変動の影響を受
けずに正確にデータ信号の読出/書込のタイミングを制
御することができる。さらに、第2の電源は遅延回路に
のみ電源電圧を供給するため、出力バッファ以外の回路
による電源電圧の変動が生じても遅延回路は影響を受け
ることなく正常に動作する。
【0007】この発明のもう1つの局面に従った半導体
記憶装置は、メモリセルアレイと、第1および第2の電
源ピンと、出力バッファと、制御回路とを備える。メモ
リセルアレイは、行および列に配置された複数のメモリ
セルを有する。第1および第2の電源ピンは、外部電源
電圧を受ける。出力バッファは、第1の電源ピンからの
電圧を受けて動作し、メモリセルアレイからのデータ信
号を外部へ出力する。制御回路は、メモリセルアレイの
データ信号の読出/書込を制御する。上記制御回路は、
制御信号発生回路と、遅延回路とを含む。制御信号発生
回路は、外部制御信号に応答して内部制御信号を発生す
る。遅延回路は、第2の電源ピンからの電圧を受けて動
作し、制御信号発生回路からの内部制御信号を遅延させ
る。
【0008】上記半導体記憶装置においては、第1の電
源ピンからの電圧を受けて出力バッファが動作し、第2
の電源ピンからの電圧を受けて制御回路内の遅延回路が
動作する。また、外部から第1の電源ピンおよび第2の
電源ピンへ供給される外部電源電圧は安定している。こ
れにより、出力バッファの動作によって第1の電源ピン
から出力バッファへ供給される電源電圧が変動しても第
2の電源ピンから遅延回路へ供給される電源電圧は影響
を受けないため、遅延回路は正常に動作する。この結
果、出力バッファの動作による電源電圧変動の影響を受
けずに正確にデータ信号の読出/書込のタイミングを制
御することができる。
【0009】好ましくは、上記半導体記憶装置はさら
に、行デコーダと、列デコーダと、センスアンプとを備
える。行デコーダは、第1の電源ピンからの電圧を受け
て動作し、行アドレス信号に応答してメモリセルアレイ
の行を選択する。列デコーダは、第1の電源ピンからの
電圧を受けて動作し、列アドレス信号に応答してメモリ
セルアレイの列を選択する。センスアンプは、第1の電
源ピンからの電圧を受けて動作し、メモリセルアレイ中
のメモリセルから読出されたデータ信号を増幅する。
【0010】上記半導体記憶装置においては、第1の電
源ピンからの電圧を受けて出力バッファ、行デコーダ、
列デコーダ、およびセンスアンプが動作し、第2の電源
ピンからの電圧を受けて制御回路内の遅延回路が動作す
る。
【0011】好ましくは、上記半導体記憶装置はさら
に、第3の電源ピンと、行デコーダと、列デコーダと、
センスアンプとを備える。第3の電源ピンは、外部電源
電圧を受ける。行デコーダは、第3の電源ピンからの電
圧を受けて動作し、行アドレス信号に応答してメモリセ
ルアレイの行を選択する。列デコーダは、第3の電源ピ
ンからの電圧を受けて動作し、列アドレス信号に応答し
てメモリセルアレイの列を選択する。センスアンプは、
第3の電源ピンからの電圧を受けて動作し、メモリセル
アレイ中のメモリセルから読出されたデータ信号を増幅
する。
【0012】上記半導体記憶装置においては、第1の電
源ピンからの電圧を受けて出力バッファが動作し、第2
の電源ピンからの電圧を受けて制御回路内の遅延回路が
動作し、第3の電源ピンからの電圧を受けて行デコー
ダ、列デコーダ、およびセンスアンプが動作する。
【0013】この発明のさらにもう1つの局面に従った
半導体記憶装置は、メモリセルアレイと、第1および第
2の電源ピンと、内部電源回路と、出力バッファと、制
御回路とを備える。メモリセルアレイは、行および列に
配置された複数のメモリセルを有する。第1および第2
の電源ピンは、外部電源電圧を受ける。内部電源回路
は、第2の電源ピンからの電圧を受けて第2の電源ピン
からの電圧よりも低い内部電源電圧を発生する。出力バ
ッファは、第1の電源ピンからの電圧を受けて動作し、
メモリセルアレイからのデータ信号を外部へ出力する。
制御回路は、メモリセルアレイのデータ信号の読出/書
込を制御する。上記制御回路は、制御信号発生回路と、
遅延回路とを含む。制御信号発生回路は、外部制御信号
に応答して内部制御信号を発生する。遅延回路は、第2
の電源ピンからの電圧を受けて動作し、制御信号発生回
路からの内部制御信号を遅延させる。
【0014】上記半導体記憶装置においては、第1の電
源ピンからの電圧を受けて出力バッファが動作し、内部
電源回路からの内部電源電圧を受けて制御回路内の遅延
回路が動作する。また、内部電源回路からは常に安定し
た内部電源電圧が供給される。これにより、出力バッフ
ァの動作によって第1の電源ピンから出力バッファへ供
給される電源電圧が変動しても内部電源回路から遅延回
路へ供給される内部電源電圧は影響を受けないため、遅
延回路は正常に動作する。この結果、出力バッファの動
作による電源電圧変動の影響を受けずに正確にデータ信
号の読出/書込のタイミングを制御することができる。
【0015】好ましくは、上記半導体記憶装置はさら
に、第3の電源ピンと、行デコーダと、列デコーダと、
センスアンプとを備える。第3の電源ピンは、外部電源
電圧を受ける。行デコーダは、第3の電源ピンからの電
圧を受けて動作し、行アドレス信号に応答してメモリセ
ルアレイの行を選択する。列デコーダは、第3の電源ピ
ンからの電圧を受けて動作し、列アドレス信号に応答し
てメモリセルアレイの列を選択する。センスアンプは、
第3の電源ピンからの電圧を受けて動作し、メモリセル
アレイ中のメモリセルから読出されたデータ信号を増幅
する。
【0016】上記半導体記憶装置においては、第1の電
源ピンからの電圧を受けて出力バッファが動作し、内部
電源回路からの内部電源電圧を受けて制御回路内の遅延
回路が動作し、第3の電源ピンからの電圧を受けて行デ
コーダ、列デコーダ、およびセンスアンプが動作する。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して詳しく説明する。なお、図中同一または相
当部分には同一符号を付してその説明を繰返さない。
【0018】[実施の形態1]図1は、この発明の実施
の形態1によるシンクロナスDRAMの全体構成を示す
ブロック図である。図1を参照して、このシンクロナス
DRAMは、外部電源電圧Ext.VDDを受ける電源
ピンP1,P2と、データ入出力ピンP3,P4と、外
部行アドレスストローブ信号Ext./RASを受ける
行アドレスストローブピンP5と、外部列アドレススト
ローブ信号Ext./CASを受ける列アドレスストロ
ーブピンP6と、外部ライトイネーブル信号Ext./
WEを受けるライトイネーブルピンP7と、外部アドレ
ス信号EADを受けるアドレスピンP8と、外部クロッ
ク信号Ext.CLKを受けるクロック信号ピンP9
と、メモリセルアレイ10と、行アドレスストローブ
(/RAS)バッファ11と、列アドレスストローブ
(/CAS)バッファ12と、ライトイネーブル(/W
E)バッファ13と、行アドレスバッファ14と、列ア
ドレスバッファ15と、アドレス検出回路16と、クロ
ック(CLK)バッファ17と、アレイ制御回路20
と、リード制御回路30と、ライト制御回路40と、内
部クロック生成回路45と、行デコーダ50と、ワード
ドライバ51と、列デコーダ60と、列ドライバ61
と、センスアンプ62と、プリアンプ71と、出力バッ
ファ72と、ライトドライバ73と、入力バッファ74
とを備える。
【0019】メモリセルアレイ10は、行および列に配
置された複数のメモリセル(図示せず)と、行に配置さ
れた複数のワード線(図示せず)と、列に配置された複
数のビット線対(図示せず)とを含む。/RASバッフ
ァ11は、外部行アドレスストローブ信号Ext./R
ASに応答して行アドレスストローブ信号/RASを発
生する。/CASバッファ12は、外部列アドレススト
ローブ信号Ext./CASに応答して列アドレススト
ローブ信号/CASを発生する。/WEバッファ13
は、外部ライトイネーブル信号Ext./WEに応答し
てライトイネーブル信号/WEを発生する。行アドレス
バッファ14は、行アドレスストローブ信号/RASに
応答して外部アドレス信号EADを行アドレス信号XA
Dとして行デコーダ50に供給する。列アドレスバッフ
ァ15は、列アドレスストローブ信号/CASに応答し
て外部アドレス信号EADを列アドレス信号YADとし
て列デコーダ60に供給する。アドレス検出回路16
は、列アドレス信号YADの変化を検出し、これに応じ
て検出信号ATDを発生する。CLKバッファ17は、
外部クロック信号Ext.CLKに応答してクロックバ
ッファ信号BUFCLKを発生する。
【0020】アレイ制御回路20は、アレイ制御信号発
生回路21と、遅延回路22,23とを含む。アレイ制
御信号発生回路21は、行アドレスストローブ信号/R
ASに応答して制御信号RxtおよびS0tを発生す
る。遅延回路22は、電源ピンP2からの電圧VDD2
を受けて動作し、制御信号Rxtを所定時間遅延させて
ワード線駆動信号Rxとしてワードドライバ51へ出力
する。遅延回路23は、電源ピンP2からの電圧VDD
2を受けて動作し、制御信号S0tを所定時間遅延させ
てセンスアンプ活性化信号S0としてセンスアンプ62
へ出力する。
【0021】リード制御回路30は、リード制御信号発
生回路31と、遅延回路32,33とを含む。リード制
御信号発生回路31は、列アドレスストローブ信号/C
ASおよび検出信号ATDに応答して制御信号PAEt
およびCDEtを発生する。遅延回路32は、電源ピン
P2からの電圧VDD2を受けて動作し、制御信号PA
Etを所定時間遅延させてプリアンプ活性化信号PAE
としてプリアンプ71へ出力する。遅延回路33は、電
源ピンP2からの電圧VDD2を受けて動作し、制御信
号CDEtを所定時間遅延させて列デコードイネーブル
信号CDEとして列ドライバ61へ出力する。
【0022】ライト制御回路40は、ライト制御信号発
生回路41と、遅延回路42,43とを含む。ライト制
御信号発生回路41は、列アドレスストローブ信号/C
AS、内部ライトイネーブル信号/WE、および検出信
号ATDに応答して制御信号WDEtおよびCDEtを
発生する。遅延回路42は、電源ピンP2からの電圧V
DD2を受けて動作し、制御信号WDEtを所定時間遅
延させてライトデータイネーブル信号WDEとしてライ
トドライバ73へ出力する。遅延回路43は、電源ピン
P2からの電圧VDD2を受けて動作し、制御信号CD
Etを所定時間遅延させて列デコードイネーブル信号C
DEとして列ドライバ61へ出力する。
【0023】内部クロック生成回路45は、電源ピンP
2からの電圧VDD2を受けて動作する遅延回路46を
含み、クロックバッファ信号BUFCLKに応答して内
部クロック信号int.CLKを発生する。遅延回路4
6は、内部クロック信号int.CLKの立ち上がりお
よび立ち下がりのタイミングを調整する。
【0024】行デコーダ50は、電源ピンP1からの電
圧VDD1を受けて動作し、行アドレスバッファ14か
らの行アドレス信号XADに応答してメモリセルアレイ
10の行(ワード線)を選択する。ワードドライバ51
は、電源ピンP1からの電圧VDD1を受けて動作し、
ワード線駆動信号Rxに応答して、行デコーダ50によ
り選択されたワード線を電源電圧よりも高い電圧に昇圧
する。列デコーダ60は、電源ピンP1からの電圧VD
D1を受けて動作し、列アドレスバッファ15からの列
アドレス信号YADに応答してメモリセルアレイ10の
列(ビット線対)を選択する。列ドライバ61は、電源
ピンP1からの電圧VDD1を受けて動作し、行デコー
ドイネーブル信号CDEに応答して列選択ゲート(図示
せず)をオンにし、列デコーダ60により選択されたビ
ット線対と入出力線IOとを接続する。センスアンプ6
2は、電源ピンP1からの電圧VDD1を受けて動作
し、センスアンプ活性化信号S0に応答して、メモリセ
ルアレイ10中のメモリセル(図示せず)から読出され
たデータ信号を増幅する。プリアンプ71は、プリアン
プ活性化信号PAEに応答して、メモリセルアレイ10
中のメモリセル(図示せず)から入出力線IOへ読出さ
れたデータ信号を増幅して出力バッファ72へ供給す
る。出力バッファ72は、電源ピンP1からの電圧VD
D1を受けて動作し、プリアンプ71からのデータ信号
を入出力ピンP3へ出力する。この信号が外部出力デー
タ信号DQとなる。入力バッファ74は、外部入力デー
タ信号Dinをバッファリングしてライトドライバ73
へ出力する。ライトドライバ73は、ライトデータイネ
ーブル信号WDEに応答して、入力バッファ74からの
データ信号を入出力線IOへ供給する。
【0025】図2は、図1に示された遅延回路22,2
3,32,33,42,43,46の構成を示すブロッ
ク図である。図2を参照して、この遅延回路22,2
3,32,33,42,43,46は、バッファ81と
キャパシタ82とを含む。バッファ81は、電源ピンP
2からの電圧VDD2をうける電源ノードVDD2と接
地ノードGNDとの間に接続され、入力信号INを所定
時間遅延させて出力ノードOUTへ出力する。この遅延
時間は、バッファ81のサイズを調整する等によって所
望の値にすることができる。キャパシタ82は、バッフ
ァ81の出力ノードOUTと接地ノードGNDとの間に
接続される。
【0026】次に、以上のように構成されたDRAMの
動作について説明する。上述したシンクロナスDRAM
の各部は、内部クロック信号int.CLKの立ち上が
りまたは立ち下がりに同期して動作する。したがって、
内部クロック信号の立ち上がりおよび立ち下がりのタイ
ミングは、常に正確でなければならない。この内部クロ
ック信号int.CLKの立ち上がりまたは立ち下がり
のタイミングは、遅延回路46による遅延量によって決
定される。
【0027】次に、(a)メモリセルからデータ信号を
読み出す場合、(b)メモリセルにデータ信号を書込む
場合とについて説明する。
【0028】(a)メモリセルからデータ信号を読み出
す場合行アドレスストローブ信号/RASが立ち下がる
と、行アドレスバッファ14によってこのときの外部ア
ドレス信号EADが行アドレス信号XADとして行デコ
ーダ50に供給される。続いて、行デコーダ50によっ
て、アクセスされるメモリセルを含んだ行に配置された
ワード線が選択される。一方、行アドレスストローブ信
号/RASの立ち下がりに応答して、アレイ制御信号発
生回路21において制御信号RxtおよびS0tが生成
される。制御信号Rxtは、遅延回路22によって所定
時間遅延されてワード線駆動信号Rx(所定時間立ち上
がるパルス信号)としてワードドライバ51へ供給され
る。ワードドライバ51では、ワード線駆動信号Rxの
立ち上がりに応答して、行デコーダ50によって選択さ
れたワード線を電源電圧よりも高い電圧に昇圧する。選
択されたワード線が昇圧されると、メモリセルに蓄えら
れた電荷により対応するビット線対間に微小な電位差が
生じる。
【0029】このように、行デコーダ50によってワー
ド線が選択されるタイミングに合わせてそのワード線を
昇圧する必要がある。したがって、ワード線駆動信号R
xの立ち上がりのタイミングは重要である。このワード
線駆動信号Rxの立ち上がりのタイミングは、上述のよ
うに遅延回路22の遅延量によって決定される。
【0030】続いて、センスアンプ活性化信号S0がH
レベルに立上がり、これに応答して、センスアンプ62
は、ビット線対間の微小電位差を電位差VDDに増幅す
る。このときのセンスアンプ活性化信号S0が立ち上が
るタイミングは、遅延回路23での遅延量によって決定
される。
【0031】行アドレスストローブ信号/RASが立ち
下がった後、列アドレスストローブ信号/CASが立ち
下がると、列アドレスバッファ15によってこのときの
外部アドレス信号EADが列アドレス信号YADとして
列デコーダ60に供給される。続いて、列デコーダ60
によって、アクセスされるメモリセルに対応したビット
線対が選択される。
【0032】一方、列アドレスストローブ信号/CAS
の立ち下がりおよび検出信号ATDに応答して、リード
制御信号発生回路31において制御信号PAEtおよび
CDEtが生成される。制御信号CDEtは、遅延回路
33によって所定時間遅延されて列デコードイネーブル
信号CDEとして列ドライバ61へ供給される。列デコ
ードイネーブル信号CDEの立ち上がりまたは立ち下が
りに応答して、列ドライバ61は、列デコーダ60によ
って選択されたビット線対に対応する列選択ゲートをオ
ンにして、そのビット線対と入出力線IOとを接続す
る。これによって、センスアンプ62により増幅された
ビット線対間の電位差VDDが入出力線対IOに転送さ
れる。
【0033】このように、列デコーダ60によってビッ
ト線対が選択されるタイミングに合わせて対応する列選
択ゲートをオンにする必要がある。したがって、列デコ
ードイネーブル信号CDEの立ち上がりまたは立ち下が
りのタイミングは重要である。この列デコードイネーブ
ル信号CDEの立ち上がりまたは立ち下がりのタイミン
グは、遅延回路33の遅延量によって決定される。
【0034】リード制御信号発生回路31において生成
された制御信号PAEtは、遅延回路32によって所定
時間遅延されてプリアンプイネーブル信号PAEとして
プリアンプ71へ供給される。プリアンプイネーブル信
号PAEの立ち上がりまたは立ち下がりに応答して、プ
リアンプ71は、入出力線IOに転送された電位差VD
Dを増幅して出力バッファ72へ供給する。このよう
に、センスアンプ62により増幅されたビット線対間の
電位差VDDが入出力線対IOに転送されるタイミング
に合わせてプリアンプ71を活性化する必要がある。し
たがって、プリアンプイネーブル信号PAEの立ち上が
りまたは立ち下がりのタイミングは重要である。このプ
リアンプイネーブル信号PAEの立ち上がりまたは立ち
下がりのタイミングは、遅延回路32の遅延量によって
決定される。
【0035】出力バッファ72は、プリアンプ71で増
幅された信号を受けてこれを入出力ピンP3へ出力す
る。これにより、選択されたメモリセルのデータが外部
出力データ信号DQとして出力される。
【0036】以上のように、ワード線駆動信号Rx、セ
ンスアンプ活性化信号S0、列デコードイネーブル信号
CDE、およびプリアンプ活性化信号PAEの立ち上が
りまたは立ち下がりのタイミングは、メモリセルからデ
ータを読み出す際に、DRAM各部の動作のタイミング
を決定するものである。また、これらの信号の立ち上が
りまたは立ち下がりのタイミングは、遅延回路22,2
3,32,33での遅延量によって決定される。
【0037】(b)メモリセルにデータ信号を書込む場
合上記(a)の場合と同様に、書込みがされるメモリセ
ルに対応したワード線およびビット線対が選択される。
【0038】入出力ピンP4からの外部入力データ信号
Dinが、入力バッファ74によってバッファリングさ
れ、続いてライトドライバ73へ供給される。
【0039】列アドレスストローブ信号/CASの立ち
下がりおよび検出信号ATDに応答して、ライト制御信
号発生回路41において制御信号WDEtおよびCDE
tが生成される。
【0040】ライト制御信号発生回路41において生成
された制御信号WDEtは、遅延回路42によって所定
時間遅延されてライトデータイネーブル信号WDEとし
てライトドライバ73へ供給される。ライトデータイネ
ーブル信号WDEの立ち上がりまたは立ち下がりに応答
して、ライトドライバ73は、入力バッファ74からの
データ信号を入出力線IOへ出力する。
【0041】このように、入力バッファ74により外部
入力データ信号Dinが取り込まれるタイミングに合わ
せてライトドライバ73を活性化する必要がある。した
がって、ライトデータイネーブル信号WDEの立ち上が
りまたは立ち下がりのタイミングは重要である。このラ
イトデータイネーブル信号WDEの立ち上がりまたは立
ち下がりのタイミングは、遅延回路42の遅延量によっ
て決定される。
【0042】制御信号CDEtは、遅延回路43によっ
て所定時間遅延されて列デコードイネーブル信号CDE
として列ドライバ61へ供給される。列デコードイネー
ブル信号CDEの立ち上がりまたは立ち下がりに応答し
て、列ドライバ61は、列デコーダ60によって選択さ
れたビット線対に対応する列選択ゲートをオンにして、
そのビット線対と入出力線IOとを接続する。これによ
って、入出力線IOの電位差VDDがビット線対に転送
され、メモリセルにデータが書込まれる。
【0043】このように、ライトドライバ73によって
入力バッファ74からのデータ信号が入出力線IOへ出
力されるタイミングに合わせて、対応する列選択ゲート
をオンにする必要がある。したがって、列デコードイネ
ーブル信号CDEの立ち上がりまたは立ち下がりのタイ
ミングは重要である。この列デコードイネーブル信号C
DEの立ち上がりまたは立ち下がりのタイミングは、遅
延回路43の遅延量によって決定される。
【0044】以上のように、ライトデータイネーブル信
号WDEおよび列デコードイネーブル信号CDEの立ち
上がりまたは立ち下がりのタイミングは、メモリセルへ
データを書込む際に、DRAM各部の動作のタイミング
を決定するものである。また、これらの信号の立ち上が
りまたは立ち下がりのタイミングは、遅延回路42,4
3での遅延量によって決定される。
【0045】図3は、この発明の実施の形態1における
シンクロナスDRAMの供給電源系統を示すブロック図
である。図3に示される制御回路CTLは、図1に示さ
れたアレイ制御回路20、リード制御回路30、ライト
制御回路40、内部クロック生成回路45を含んだもの
である。また、制御信号発生回路CSGは、図1に示さ
れたアレイ制御信号発生回路21、リード制御信号発生
回路31、およびライト制御信号発生回路41を含んだ
ものである。さらに、遅延回路DLは、図1に示された
遅延回路22,23,32,33,42,43,46を
含んだものである。
【0046】このシンクロナスDRAMでは、出力バッ
ファ72用の電源ピンP1と、遅延回路DL用の電源ピ
ンP2を設けて、出力バッファ72に供給される電源電
圧VDD1と遅延回路DLに供給される電源電圧VDD
2とを電源ピンから切離している。また、図1には示さ
れていないが、出力バッファ72用の接地ピンP11お
よび遅延回路DL用の接地ピンP12を設けて出力バッ
ファ72の接地電圧GND1と遅延回路DLの接地電圧
GND2とを電源ピンから切離している。なお、メモリ
セルアレイ10、行デコーダ50、列デコーダ60、セ
ンスアンプ62などを含むメモリアレイ部MCは、出力
バッファ72と同じ電源ピンP1、接地ピンP11から
電源電圧VDD1および接地電圧GND1を受ける。
【0047】通常、出力バッファ72の動作時には大量
の電力が消費されるため、出力バッファ72へ供給され
る電源電圧VDD1が変動することがある。しかし、こ
の実施の形態1によれば、出力バッファ72に供給され
る電源電圧VDD1と遅延回路DLに供給される電源電
圧VDD2とを電源ピンから切離し、さらに、出力バッ
ファ72の接地電圧GND1と遅延回路DLの接地電圧
GND2とを電源ピンから切離しているため、出力バッ
ファ72の動作によって電源電圧VDD1に変動が生じ
た場合でも、遅延回路DLへの電源電圧VDD2は影響
を受けることなく安定している。したがって、データ信
号の読出/書込のタイミング制御を正確に行うことがで
きる。
【0048】[実施の形態2]図4は、この発明の実施
の形態2によるシンクロナスDRAMの供給電源系統を
示すブロック図である。図4を参照して、このシンクロ
ナスDRAMは、図1および図3に示される構成に加え
てさらに、外部電源電圧Ext.VDDを受ける電源ピ
ンP13と、接地電圧GNDを受ける接地ピン14とを
備える。メモリアレイ部MCは、電源ピンP13からの
電源電圧VDD3および接地ピンP14からの接地電圧
GND3を受ける。
【0049】このシンクロナスDRAMでは、出力バッ
ファ72用の電源ピンP1と、遅延回路DL用の電源ピ
ンP2と、メモリアレイ部MC用の電源ピンP13とを
設けて、出力バッファ72に供給される電源電圧VDD
1と、遅延回路DLに供給される電源電圧VDD2と、
メモリアレイ部MCに供給される電源電圧VDD3とを
電源ピンから切離している。また、出力バッファ72用
の接地ピンP11と、遅延回路DL用の接地ピンP12
と、メモリアレイ部MC用の接地ピンP14とを設け
て、出力バッファ72の接地電圧GND1と、遅延回路
DLの接地電圧GND2と、メモリアレイ部MCの接地
電圧GND3とを電源ピンから切離している。これによ
って、実施の形態1に示されるのと同様の効果を得るこ
とができ、さらに、出力バッファ72の動作による電源
電圧VDD1の変動による影響をメモリアレイ部MCが
受けることがない。
【0050】[実施の形態3]図5は、この発明の実施
の形態3によるシンクロナスDRAMの供給電源系統を
示すブロック図である。図5を参照して、このシンクロ
ナスDRAMは、図4に示される構成に加えてさらに、
内部電源回路VDCを備える。内部電源回路VDCは、
電源ピンP2からの電源電圧VDD2を受けて、電源電
圧VDD2よりも低い内部電源電圧int.VDDを発
生する。
【0051】遅延回路DLは、内部電源回路VDCから
の内部電源電圧int.VDDを受けて動作する。内部
電源回路VDCは、電源電圧VDD2が変動しても安定
した内部電源電圧int.VDDを発生するため、たと
え出力バッファ72の動作による電源電圧VDD1の変
動によって電源電圧VDD2が影響を受けても、遅延回
路DLに供給される内部電源電圧int.VDDは影響
を受けない。したがって、データ信号の読出/書込のタ
イミング制御を正確に行うことができる。
【0052】今回開示された実施の形態はすべての点で
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。
【0053】
【発明の効果】この発明の1つの局面に従った半導体記
憶装置は、第1の電源と、遅延回路にのみ電源電圧を供
給する第2の電源とを設けたため、遅延回路へ供給され
る電源電圧は出力バッファの動作による電源電圧変動の
影響を受けない。この結果、正確にデータ信号の読出/
書込のタイミングを制御することができる。さらに、第
2の電源は遅延回路にのみ電源電圧を供給するため、出
力バッファ以外の回路による電源電圧の変動が生じても
遅延回路は影響を受けることなく正常に動作する。
【0054】この発明のもう1つの局面に従った半導体
記憶装置は、第1および第2の電源ピンを設けたため、
遅延回路へ供給される電源電圧は出力バッファの動作に
よる電源電圧変動の影響を受けない。この結果、正確に
データ信号の読出/書込のタイミングを制御することが
できる。
【0055】この発明のさらにもう1つの局面に従った
半導体記憶装置は、第1および第2の電源ピンと、内部
電源回路とを設けたため、内部電源回路から遅延回路へ
供給される内部電源電圧は出力バッファの動作による電
源電圧変動の影響を受けない。この結果、正確にデータ
信号の読出/書込のタイミングを制御することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1によるDRAMの全
体構成を示すブロック図である。
【図2】 図1に示された遅延回路の構成を示すブロッ
ク図である。
【図3】 図1に示されたシンクロナスDRAMの供給
電源系統を示すブロック図である。
【図4】 この発明の実施の形態2によるシンクロナス
DRAMの供給電源系統を示すブロック図である。
【図5】 この発明の実施の形態3によるシンクロナス
DRAMの供給電源系統を示すブロック図である。
【図6】 従来のDRAMの供給電源系統を示すブロッ
ク図である。
【符号の説明】
10 メモリセルアレイ、20 アレイ制御回路、30
リード制御回路、40 ライト制御回路、45 内部
クロック生成回路、22,23,32,33,42,4
3,46,DL 遅延回路、50 行デコーダ、60
列デコーダ、62 センスアンプ、72 出力バッフ
ァ、P1,P2,P13 電源ピン、CTL 制御回
路、CSG 制御信号発生回路、VDC 内部電源回
路、Ext.VDD 外部電源電圧、int.VDD
内部電源電圧、/RAS 行アドレスストローブ信号、
/CAS 列アドレスストローブ信号、/WE ライト
イネーブル信号、ATD 検出信号、BUFCLK ク
ロックバッファ信号、Rx ワード線駆動信号、S0
センスアンプ活性化信号、PAE プリアンプ活性化信
号、CDE 列デコードイネーブル信号、WDE ライ
トデータイネーブル信号、int.CLK 内部クロッ
ク信号、XAD 行アドレス信号、YAD 列アドレス
信号。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 行および列に配置された複数のメモリセ
    ルを有するメモリセルアレイと、 第1および第2の電源と、 前記第1の電源からの電圧を受けて動作し、前記メモリ
    セルアレイからのデータ信号を外部へ出力する出力バッ
    ファと、 前記メモリセルアレイのデータ信号の読出/書込を制御
    する制御回路とを備え、 前記制御回路は、 外部制御信号に応答して内部制御信号を発生する制御信
    号発生回路と、 前記第2の電源からの電圧を受けて動作し、前記制御信
    号発生回路からの内部制御信号を遅延させる遅延回路と
    を含み、 前記第2の電源は、前記遅延回路にのみ電源電圧を供給
    する、半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 行および列に配置された複数のメモリセ
    ルを有するメモリセルアレイと、 外部電源電圧を受ける第1および第2の電源ピンと、 前記第1の電源ピンからの電圧を受けて動作し、前記メ
    モリセルアレイからのデータ信号を外部へ出力する出力
    バッファと、 前記メモリセルアレイのデータ信号の読出/書込を制御
    する制御回路とを備え、 前記制御回路は、 外部制御信号に応答して内部制御信号を発生する制御信
    号発生回路と、 前記第2の電源ピンからの電圧を受けて動作し、前記制
    御信号発生回路からの内部制御信号を遅延させる遅延回
    路とを含む、半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記半導体記憶装置はさらに、 前記第1の電源ピンからの電圧を受けて動作し、行アド
    レス信号に応答して前記メモリセルアレイの行を選択す
    る行デコーダと、 前記第1の電源ピンからの電圧を受けて動作し、列アド
    レス信号に応答して前記メモリセルアレイの列を選択す
    る列デコーダと、 前記第1の電源ピンからの電圧を受けて動作し、前記メ
    モリセルアレイ中のメモリセルから読出されたデータ信
    号を増幅するセンスアンプとを備える、請求項2に記載
    の半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 前記半導体記憶装置はさらに、 前記外部電源電圧を受ける第3の電源ピンと、 前記第3の電源ピンからの電圧を受けて動作し、行アド
    レス信号に応答して前記メモリセルアレイの行を選択す
    る行デコーダと、 前記第3の電源ピンからの電圧を受けて動作し、列アド
    レス信号に応答して前記メモリセルアレイの列を選択す
    る列デコーダと、 前記第3の電源ピンからの電圧を受けて動作し、前記メ
    モリセルアレイ中のメモリセルから読出されたデータ信
    号を増幅するセンスアンプとを備える、請求項2に記載
    の半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 行および列に配置された複数のメモリセ
    ルを有するメモリセルアレイと、 外部電源電圧を受ける第1および第2の電源ピンと、 前記第2の電源ピンからの電圧を受けて前記第2の電源
    ピンからの電圧よりも低い内部電源電圧を発生する内部
    電源回路と、 前記第1の電源ピンからの電圧を受けて動作し、前記メ
    モリセルアレイからのデータ信号を外部へ出力する出力
    バッファと、 前記メモリセルアレイのデータ信号の読出/書込を制御
    する制御回路とを備え、 前記制御回路は、 外部制御信号に応答して内部制御信号を発生する制御信
    号発生回路と、 前記第2の電源ピンからの電圧を受けて動作し、前記制
    御信号発生回路からの内部制御信号を遅延させる遅延回
    路とを含む、半導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 前記半導体記憶装置はさらに、 前記外部電源電圧を受ける第3の電源ピンと、 前記第3の電源ピンからの電圧を受けて動作し、行アド
    レス信号に応答して前記メモリセルアレイの行を選択す
    る行デコーダと、 前記第3の電源ピンからの電圧を受けて動作し、列アド
    レス信号に応答して前記メモリセルアレイの列を選択す
    る列デコーダと、 前記第3の電源ピンからの電圧を受けて動作し、前記メ
    モリセルアレイ中のメモリセルから読出されたデータ信
    号を増幅するセンスアンプとを備える、請求項5に記載
    の半導体記憶装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6990596B2 (en) * 2001-12-20 2006-01-24 Stmicroelectronics S.R.L. Memory device outputting read data in a time starting from a rising edge of an external clock that is shorter than that of known devices

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002005283A1 (en) * 2000-07-07 2002-01-17 Mosaid Technologies Incorporated Method and apparatus for synchronization of row and column access operations
US6879517B2 (en) * 2002-09-18 2005-04-12 Motorola, Inc. Battery circuit with three-terminal memory device
JP4275583B2 (ja) * 2004-06-24 2009-06-10 ユーディナデバイス株式会社 電子モジュール

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0646514B2 (ja) * 1989-10-19 1994-06-15 株式会社東芝 半導体装置
JPH03175720A (ja) * 1989-12-04 1991-07-30 Nec Corp 半導体集積回路
JP2605565B2 (ja) * 1992-11-27 1997-04-30 日本電気株式会社 半導体集積回路

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6990596B2 (en) * 2001-12-20 2006-01-24 Stmicroelectronics S.R.L. Memory device outputting read data in a time starting from a rising edge of an external clock that is shorter than that of known devices

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