JP2000057737A - 洗浄装置および洗浄装置の汚れ除去方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 回転ディスクの表面を洗浄する洗浄ローラの
汚れ発生を抑制し、汚れが発生した場合における汚れの
除去を容易に行い得るようにする。 【解決手段】 回転ディスク１０は位置決めローラ１
２，１３によって回転自在に位置決めされる。この回転
ディスク１０はそれぞれ駆動シャフト２１，２２に設け
られた２つの通液性の洗浄ローラ２３，２４によって挟
み付けられて回転駆動される。駆動シャフト２１，２２
の中には液体供給孔が形成されており、液体供給孔に供
給された洗浄液は通液性の洗浄ローラ２３，２４を透過
して外周面が流出する。これにより、洗浄ローラ２３，
２４の外周面に異物の付着などの汚れの発生が抑制され
る。汚れが発生したとしても、それぞれの洗浄ローラ２
３，２４を高速で回転させることによって、汚れを除去
することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスクなどの
回転ディスクの表面を洗浄処理する洗浄技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、コンピュータの記憶媒体とし
て使用される磁気ディスクは、アルミニウム合金製やガ
ラス製の素材を用いて、中心部に貫通孔を有し所定の内
外径のサブストレートつまり回転ディスクの基板を形成
した後に、種々の表面処理工程を経て製造されている。
その表面処理工程としては、アルミナ粉末、炭化けい素
粉末、ダイヤモンド粉末などの砥粒を有するラップ剤を
用いたラッピング、あるいはラップ剤よりも細かい砥粒
を有するポリッシング剤を用いたポリッシングとも言わ
れる研磨工程や表面に磁性膜を形成するためのスパッタ
リング工程以外に、これらの工程終了後に回転ディスク
の表面を清浄化するために、洗浄処理が行われている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来、回転ディスクの
表面の洗浄処理する装置としては、特公平8-14891 号公
報に記載されるように、複数本の搬送ローラによって回
転ディスクを水平に搬送するようにし、回転ディスクの
外周面と回転ディスクの貫通孔の内周面とを洗浄する側
面洗浄ブラシと、回転ディスクの表面を洗浄する表面洗
浄ブラシとを有するものがある。また、回転ディスクを
回転させながら洗浄ブラシにより回転ディスク表面を洗
浄するようにしたものとしては、たとえば、特公平7-14
509 号公報に記載されるようなものがある。しかしなが
ら、これまで開発されている洗浄装置は、洗浄液をノズ
ルによって回転ディスクの表面に供給するようにしてお
り、洗浄ブラシや洗浄ローラが汚れ易いだけでなく、汚
れた場合には、その洗浄ローラの汚れを除去する処理に
時間がかかるという問題点がある。

【０００４】本発明の目的は、回転ディスクの表面を洗
浄する洗浄ローラの汚れ発生を抑制し、汚れが発生した
場合における汚れの除去を容易に行い得るようにするこ
とにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の洗浄装置は、回
転ディスクの外周面に接触して前記回転ディスクの回転
中心位置を規制する位置決めローラと、回転駆動される
第１の駆動シャフトに設けられ、前記位置決めローラに
より位置決めされた前記回転ディスクの一方の面に接触
する第１の洗浄ローラと、回転駆動される第２の駆動シ
ャフトに設けられ、前記回転ディスクの他方の面に接触
する第２の洗浄ローラとを有し、前記それぞれの駆動シ
ャフトに洗浄液を供給する液体供給孔を形成し、前記液
体供給孔から洗浄液を前記回転ディスクの表面に案内す
るようにしたことを特徴とする。前記それぞれの洗浄ロ
ーラを通液性の部材により形成し、前記それぞれの液体
供給孔内の洗浄液を前記洗浄ローラを透過させて前記回
転ディスクの表面に流出するようにしている。

【０００６】本発明の洗浄装置の汚れ除去方法は、回転
駆動される第１の駆動シャフトに設けられ前記位置決め
ローラにより位置決めされた前記回転ディスクの一方の
面に接触する通液性の第１の洗浄ローラと、第２の駆動
シャフトに設けられ前記回転ディスクの他方の面に接触
する通液性の第２の洗浄ローラとを有する洗浄装置にお
ける前記それぞれの洗浄ローラを、前記回転ディスクを
洗浄する回転速度よりも高い速度で高速回転し、前記そ
れぞれの駆動シャフトに形成された液体供給孔から前記
それぞれの洗浄ローラを透過させて液体を外周面から流
出し、前記それぞれの洗浄ローラの汚れを除去するよう
にしたことを特徴とする。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。

【０００８】図１は本発明の一実施の形態である洗浄装
置を示す斜視図であり、図２は図１における矢印IIで示
す方向から見た正面図であり、図３は図２における矢印
III−III 線方向から見た平面図であり、図４は図３に
おけるIV−IV線に沿う断面図である。

【０００９】この洗浄装置は被処理物である回転ディス
ク１０を垂直に支持するための支持台１１を有し、この
支持台１１には、回転ディスク１０の外周面に接触して
回転ディスク１０を回転自在に支持するための位置決め
ローラ１２，１３が設けられ、回転ディスク１０はその
回転中心軸Ｏ_D の位置がずれないように規制される。未
洗浄の回転ディスク１０は上方から位置決めローラ１
２，１３にまで図示しない搬送装置により搬入され、洗
浄後には上方に搬送装置により搬出されるようになって
いる。２つの位置決めローラ１２，１３の間には、倒れ
防止用のローラ１４が支持台１１に設けられており、図
４に示すように、このローラ１４の円筒面１４ａには回
転ディスク１０の外周面が接触することなく、フランジ
部１４ｂの内面に接触して回転ディスク１０の倒れが防
止されるようになっている。２つの位置決めローラ１
２，１３はそれぞれの円筒面に回転ディスク１０の外周
面が接触して位置決めが行われる。

【００１０】支持台１１の上方には、ほぼ水平方向に延
びる第１の駆動シャフト２１が配置され、この第１の駆
動シャフト２１に沿ってほぼ平行に第２の駆動シャフト
２２が配置されている。第１の駆動シャフト２１には、
位置決めローラ１２，１３によって位置決めされて支持
された回転ディスク１０の一方の面に接触する第１の洗
浄ローラ２３が設けられ、第２の駆動シャフト２２に
は、回転ディスク１０の他方の面に接触する第２の洗浄
ローラ２４が設けられている。

【００１１】両方の駆動シャフト２１，２２は、図１に
おいて矢印Ａで示すように、相互に水平方向に接近離反
移動自在となっており、接近させると両方の洗浄ローラ
２３，２４は回転ディスク１０を挟んで保持する状態と
なり、離反させた状態では回転ディスク１０を位置決め
ローラ１２，１３により支持する位置に搬入したり、こ
の位置から搬出することができる。両方の駆動シャフト
２１，２２は相対的に接近離反移動するようになってい
れば良く、一方の駆動シャフトを水平方向に移動させる
ことなく、他方の駆動シャフトのみを一方の駆動シャフ
トに向けて接近離反移動させるようにしても良い。

【００１２】両方の駆動シャフト２１，２２は、それぞ
れモータＭ₁ ，Ｍ₂ により図１において矢印Ｒ₁ ，Ｒ₂
で示すように、回転中心軸Ｏ₁ ，Ｏ₂ を中心として、相
互に逆方向に回転駆動されるとともに、相互に同一回転
速度または相違した回転速度で回転駆動されるようにな
っている。

【００１３】それぞれの洗浄ローラ２３，２４は、発泡
ウレタンなどの発泡プラスチック材料からなるスポンジ
により形成されており、液体を通過させる通液性を有
し、駆動シャフト２１，２２の先端部側の低摩擦円筒部
２５，２６と、基端部側の高摩擦円筒部２７，２８とを
備えている。高摩擦円筒部２７，２８は全体的にほぼ平
坦な外周面となっており、低摩擦円筒部２５，２６は高
摩擦円筒部２７，２８の外径よりも小径となった本体部
２９から径方向外方に突出した多数の突起部３０を有
し、突起部３０の先端までの外径は高摩擦円筒部２７，
２８の外径とほぼ同一に設定されている。これにより、
低摩擦円筒部２５，２６が回転ディスク１０に接触する
面積は高摩擦円筒部２７，２８が回転ディスク１０に接
触する面積よりも少ない面積となり、両方の洗浄ローラ
２３，２４の間で回転ディスク１０を挟んだ状態とする
と、両方の高摩擦円筒部２７，２８により回転ディスク
１０に加えられる押し付け力の方が、低摩擦円筒部２
５，２６により回転ディスク１０に加えられる押し付け
力よりも大きくなる。

【００１４】それぞれの駆動シャフト２１，２２の中心
には液体供給孔３１，３２が形成されており、それぞれ
の液体供給孔３１，３２は複数の連通孔３３，３４によ
り洗浄ローラ２３，２４の内面に開口している。したが
って、図３に示すように、ポンプ３５から流路３６を介
してそれぞれの液体供給孔３１，３２に洗浄液を供給す
ると、洗浄ローラ２３，２４は通液性を有していること
から、図４において矢印で示すように、洗浄ローラ２
３，２４の内部を通過してそれぞれの外周面から洗浄液
が流出することになる。

【００１５】回転ディスク１０を洗浄する場合には、ポ
ンプ３５から洗浄液を供給することにより洗浄ローラ２
３，２４の外周面から洗浄液が流出して、回転ディスク
１０の表面と洗浄ローラ２３，２４の間に洗浄液が供給
される。しかも、洗浄液が流出することから、洗浄に伴
って洗浄ローラ２３，２４の外周面にゴミなどの異物が
付着しても、洗浄液によって異物が除去されて洗浄ロー
ラの外周面における汚れの発生が抑制される。

【００１６】位置決めローラ１２，１３により位置決め
された状態の回転ディスク１０の回転中心軸Ｏ_D に対し
て、それぞれの駆動シャフト２１，２２の回転中心軸Ｏ
₁ ，Ｏ₂ が直交方向となり、しかも、それぞれの低摩擦
円筒部２５，２６と高摩擦円筒部２７，２８との境界部
がほぼ回転中心軸Ｏ_D の位置となるように、位置決めロ
ーラ１２，１３と駆動シャフト２１，２２の位置が設定
されている。このように、それぞれの駆動シャフト２
１，２２の回転中心軸、つまり洗浄ローラ２３，２４の
回転中心軸Ｏ₁ ，Ｏ₂ が回転ディスク１０の回転中心軸
Ｏ_D と直交するようになっているので、それぞれの洗浄
ローラ２３，２４は回転ディスク１０の回転中心軸Ｏ_D
に対して一直線状となって直交する半径方向線の部分に
接触することになる。

【００１７】図５は洗浄ローラ２３のうち、回転ディス
ク１０の一方の面に接触する接触領域をハッチングを付
して示す図であり、回転ディスク１０の回転中心軸Ｏ_D
から一直線状となった半径方向の一方側に延びる半径方
向線Ｒ_A を中心として所定の幅の接触領域Ｓ_A に低摩擦
円筒部２５が接触し、半径方向の他方側に延びる半径方
向線Ｒ_B を中心として所定の幅の接触領域Ｓ_B に高摩擦
円筒部２７が接触することになる。他の洗浄ローラ２４
についても同様に、低摩擦円筒部２６が反対面の接触領
域Ｓ_A に接触し、高摩擦円筒部２８が反対側の接触領域
Ｓ_B に接触することになる。

【００１８】洗浄ローラ２３，２４の回転に伴うそれぞ
れの接触領域Ｓ_A ，Ｓ_B の移動方向は、両方の洗浄ロー
ラ２３，２４の回転中心軸Ｏ₁ ，Ｏ₂ が回転ディスク１
０の回転中心軸Ｏ_D に直交しているので、図５に示すよ
うに、一直線状となった半径方向線Ｒ_A ，Ｒ_B に対して
直角方向となる。

【００１９】接触領域Ｓ_B に接触する高摩擦円筒部２
７，２８により回転ディスク１０に加えられる押し付け
力の方が、接触領域Ｓ_A に接触する低摩擦円筒部２５，
２６により加えられる押し付け力よりも大きいので、両
方の駆動シャフト２１，２２を逆方向に回転駆動させる
と、図５に示すように、接触領域Ｓ_B の部分で回転ディ
スク１０に半径方向線Ｒ_B に直角方向に加えられる回転
力Ｔ_B は、接触領域Ｓ_Aの部分から回転ディスク１０に
加えられる回転力Ｔ_A よりも大きくなる。これにより、
回転ディスク１０は高摩擦円筒部２７，２８による回転
力が勝って矢印Ｒで示す方向に回転駆動されることにな
る。つまり、洗浄ローラ２３，２４の回転運動が回転デ
ィスク１０の回転運動に変換されることになる。

【００２０】このような回転力が加えられることから、
回転ディスク１０には図２において下方に向かう移動力
が加えられるが、回転ディスク１０は位置決めローラ１
２，１３により規制されているので、これに接触した状
態で回転運動する。

【００２１】両方の駆動シャフト２１，２２を図示する
方向とそれぞれ逆の方向に回転駆動した場合には、回転
ディスク１０には上方に向かう移動力が加えられること
になるので、その場合には位置決めローラ１２，１３は
回転ディスク１０の上側に配置して、回転ディスク１０
の搬入と搬出は、下側から行うことになる。

【００２２】両方の洗浄ローラ２３，２４をほぼ同一の
回転数により回転させると、高摩擦円筒部２７，２８の
周速度に依存した速度で回転ディスク１０が回転駆動さ
れることになり、低摩擦円筒部２５，２６の外周面は回
転ディスク１０に滑り接触することになり、回転ディス
ク１０の表面は主として低摩擦円筒部２５，２６の滑り
接触により洗浄される。

【００２３】両方の洗浄ローラ２３，２４の回転速度を
相違させると、低速回転の方の高摩擦円筒部の周速度に
ほぼ依存した速度で回転ディスク１０が回転駆動され、
高速回転の方の高摩擦円筒部の外周面も回転ディスク１
０の表面に対して滑り接触することが判明した。したが
って、それぞれのモータＭ₁ ，Ｍ₂ によって駆動シャフ
ト２１，２２の回転速度を相違させると、それぞれの低
摩擦円筒部２５，２６に加えて、高速で回転する方の高
摩擦円筒部も回転ディスク１０に対して滑り接触して効
率的に洗浄を行うことができることになり、洗浄時間を
短縮することができる。

【００２４】図１において矢印Ｂで示すように、両方の
駆動シャフト２１，２２は軸方向に所定のストロークで
往復動するようになっており、軸方向に移動することに
よって、洗浄ローラ２３，２４の弾性変形した外周部が
回転ディスク１０の外周面と貫通孔１０ａの内周面とに
入り込んで、それぞれの部分を洗浄することになる。図
示する場合には両方の駆動シャフト２１，２２をそれぞ
れ軸方向に往復動するようにしているが、少なくとも一
方を往復動させるようにしても良い。

【００２５】図６はそれぞれの駆動シャフト２１，２２
の他の具体例を示す図であり、駆動シャフト２１，２２
は段付き軸部材により形成されており、この段付きの軸
部材に嵌合されたスペーサ３７によって、低摩擦円筒部
２５，２６と高摩擦円筒部２７，２８とは相互に分離さ
れている。高摩擦円筒部２７，２８は駆動シャフト２
１，２２に対してスリーブ３８を介して取り付けられて
おり、高摩擦円筒部２７，２８を構成するスポンジの部
分は、低摩擦円筒部２５，２６を構成するスポンジの部
分よりも厚みが薄く設定されている。

【００２６】これにより、低摩擦円筒部２５，２６は回
転ディスク１０に押し付けられると、高摩擦円筒部２
７，２８よりも弾性変形量が大きくなり、高摩擦円筒部
２７，２８よりも小さな押し付け力が回転ディスク１０
に加えられることになる。また、高摩擦円筒部２７，２
８のスポンジの部分の厚みが薄く設定されていることか
ら、液体供給孔３１，３２から洗浄液を供給したときに
は、高摩擦円筒部２７，２８を浸透して回転ディスク１
０に流出する洗浄液の方が流通抵抗が小さくなり、低摩
擦円筒部２５，２６を浸透して流出する洗浄液よりも多
くなる。

【００２７】次に、図７を参照して回転ディスク１０の
表面を洗浄処理する手順について説明する。

【００２８】未処理の回転ディスク１０は、図７（Ａ）
に示すように、両方の洗浄ローラ２３，２４を離反させ
た状態のもとで、図示しない搬送装置によって位置決め
ローラ１２，１３の上に位置決めされる。この状態のも
とで、図７（Ｂ）に示すように、両方の洗浄ローラ２
３，２４を相互に接近移動させて、両方の洗浄ローラ２
３，２４によって回転ディスク１０を挟んで保持する。
保持した後には、前記搬送装置を回転ディスク１０から
離して搬送装置を退避させる。

【００２９】この状態のもとで、図７（Ｃ）に示すよう
に、両方の洗浄ローラ２３，２４を相互に逆方向であっ
て、両方の洗浄ローラの回転速度を同一あるいは相違さ
せて回転駆動するとともに、ポンプ３５から洗浄液を供
給する。これにより、回転ディスク１０と洗浄ローラ２
３，２４の外周面との間に洗浄液が介在した状態のもと
で、両方の低摩擦円筒部２５，２６と高速回転する方の
高摩擦円筒部とが回転ディスク１０の表面に滑り接触し
て洗浄が行われる。

【００３０】この洗浄に際しては、たとえば、洗浄ロー
ラ２３を高速回転させ、洗浄ローラ２４を低速回転させ
る操作を数１０秒行った後に、洗浄ローラ２３を低速回
転させ、洗浄ローラ２４を高速回転させる操作を同様の
時間行うようにして、これを複数回繰り返すようにす
る。これにより、両面が同一の条件によって洗浄される
ことになる。高速回転速度としては、たとえば、７００
rpm 程度とし、低速回転速度としては、たとえば、２０
０rpm 程度として洗浄したところ、効率的に高精度の洗
浄処理を行うことが可能であった。

【００３１】この洗浄に際して、図７（Ｄ）に示すよう
に、一方の洗浄ローラを軸方向に往復動させるか、両方
の洗浄ローラを逆方向に同時に軸方向に往復動させるこ
とにより、回転ディスク１０の外周面と貫通孔１０ａの
内周面を洗浄ローラにより洗浄処理することができる。
このとき、駆動シャフト２１，２２の内部に形成された
液体供給孔３１，３２から洗浄液を供給すると、洗浄ロ
ーラ２３，２４の外周面から洗浄液が回転ディスク１０
の表面に向けて吐出することになり、確実に回転ディス
ク１０と洗浄ローラ２３，２４との間に洗浄液が供給さ
れることになる。しかも、外周面から洗浄液が吐出する
ことから、洗浄ローラ２３，２４の外周面の清浄度が保
たれて、高品質の洗浄を行うことができる。

【００３２】回転ディスク１０を洗浄する場合には、図
１に示す一対の洗浄ローラ２３，２４を隣接させて二対
設けることにより、二段階の洗浄処理を行うことができ
る。第一段階目の洗浄処理においては、洗浄液として洗
浄剤を含むリンス液を使用した洗浄を行い、第二段階目
の洗浄処理においては、洗浄液として純水を使用した洗
浄を行うことができる。

【００３３】所定の枚数の回転ディスク１０に対する洗
浄を行った後に、回転ディスクを洗浄する回転速度より
も高い速度で両方の洗浄ローラ２３，２４を高速回転
し、それぞれの駆動シャフト２１，２２に形成された液
体供給孔３１，３２から洗浄ローラ２３，２４を透過さ
せて液体を外周面から流出させると、洗浄ローラの外周
面に異物が食いついたような場合の洗浄ローラの汚れを
も確実に除去することができる。

【００３４】図８は本発明の他の実施の形態である洗浄
装置を示す図であり、この洗浄装置の基本構造は前述し
た洗浄装置と同一である。この場合には支持台１１が、
図２との比較により明確なように、図２に示す場合より
も上側にずれている。

【００３５】支持台１１がずれているので、それぞれの
洗浄ローラ２３，２４の回転中心軸Ｏ₁ ，Ｏ₂ は、位置
決めローラ１２，１３により位置決めされた状態の回転
ディスク１０の回転中心軸Ｏ_D に対して直角方向を向く
とともに、回転中心軸Ｏ_D に対して偏心量Ｅだけ偏心し
た位置となる。

【００３６】図９は洗浄ローラ２３のうち、回転ディス
ク１０の一方の面に接触する接触領域をハッチングを付
して示す図であり、回転ディスク１０の回転中心軸Ｏ_D
を一直線状となって通る半径方向線Ｒ_A ，Ｒ_B からオフ
セット量ないし偏心量Ｅだけずれた位置が接触領域とな
り、この接触領域の中央部分から一方側の部分Ｓ_A に低
摩擦円筒部２５が接触し、他方側の部分Ｓ_B に高摩擦円
筒部２７が接触することになる。他の洗浄ローラ２４に
ついても同様に、低摩擦円筒部２６が反対面の接触領域
Ｓ_A に接触し、高摩擦円筒部２８が反対側の接触領域Ｓ
_B に接触することになる。

【００３７】図９に示すように、両方の洗浄ローラ２
３，２４の回転中心軸Ｏ₁ ，Ｏ₂ が回転ディスク１０の
回転中心軸Ｏ_D から偏心量Ｅだけオフセットしているの
で、それぞれの接触領域Ｓ_A ，Ｓ_B における半径方向線
Ｒ_a ，Ｒ_b は、前述した場合には半径方向線Ｒ_A ，Ｒ_B
が一直線状となるのと相違して、所定の角度αとなる。
したがって、洗浄ローラ２３，２４の回転に伴うそれぞ
れの接触領域Ｓ_A ，Ｓ_Bの移動方向は、半径方向線
Ｒ_a ，Ｒ_b に対しては角度θとなり、それぞれの接触領
域において回転ディスク１０に加えられる回転力は、半
径方向線Ｒ_a ，Ｒ_b に対して直角方向の分力Ｖ_A ，Ｖ_b
となる。

【００３８】この場合にも、図１に示す場合と同様に、
接触領域Ｓ_B に接触する高摩擦円筒部２７，２８により
回転ディスク１０に加えられる押し付け力の方が、接触
領域Ｓ_A に接触する低摩擦円筒部２５，２６により加え
られる押し付け力よりも大きいので、両方の駆動シャフ
ト２１，２２を逆方向に回転駆動させると、図９に示す
ように、接触領域Ｓ_B の部分で回転ディスク１０に加え
られる回転力Ｖ_B は、接触領域Ｓ_A の部分から回転ディ
スク１０に加えられる回転力Ｖ_A よりも大きくなる。こ
れにより、回転ディスク１０は高摩擦円筒部２７，２８
による回転力が勝って矢印Ｒで示す方向に回転駆動され
ることになる。つまり、洗浄ローラ２３，２４の回転運
動が回転ディスク１０の回転運動に変換されることにな
る。

【００３９】しかも、それぞれの接触領域Ｓ_A ，Ｓ_B の
移動速度は、回転ディスク１０に対しては、符号Ｖ_A ，
Ｖ_B で示すように半径方向線Ｒ_a ，Ｒ_b に対して直角な
方向と、符号Ｕ_A ，Ｕ_B で示すように半径方向の方向と
の分速度を有しているので、両方の洗浄ローラ２３，２
４の全ての低摩擦円筒部と高摩擦円筒部は、回転ディス
ク１０の表面に滑り接触することになる。

【００４０】したがって、この場合には、両方の洗浄ロ
ーラ２３，２４を同一回転速度で回転させても、低摩擦
円筒部２５，２６のみならず、両方の高摩擦円筒部２
７，２８の外周面も回転ディスク１０の表面に対して滑
り接触して効率的に洗浄を行うことができる。ただし、
両方の洗浄ローラの回転速度を相違させるようにしても
良い。

【００４１】図８に示す表面洗浄装置においても、図７
に示した場合と同様の手順により回転ディスク１０の表
面洗浄を行うことができるが、両方の洗浄ローラ２３，
２４の外周面の全体が回転ディスク１０に対して回転運
動を加えながら滑り接触して洗浄が行われる。

【００４２】本発明は前記実施の形態に限定されるもの
ではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能で
あることはいうまでもない。

【００４３】たとえば、前述した場合には回転ディスク
を垂直に保持して洗浄するようにしているが、水平に保
持して洗浄することも可能である。

【００４４】

【発明の効果】洗浄ローラが取り付けられた駆動シャフ
トの内部に液体供給孔を形成し、その液体供給孔に供給
された液体を回転ディスクに案内するようにしたので、
洗浄液を供給するホースやノズルなどが洗浄ローラの周
囲に這い回されることを防止できる。洗浄ローラを透過
させて洗浄液を回転ディスクの表面に流出するようにし
たので、洗浄ローラの外周面に対する異物などの付着を
抑制することができる。異物などの付着により洗浄ロー
ラが汚れても、液体を流出させながら洗浄ローラを高速
回転することによって、確実に汚れを除去することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態である洗浄装置を示す斜
視図である。

【図２】図１における矢印IIで示す方向から見た正面図
である。

【図３】図２における矢印III −III 線方向からみた平
面図である。

【図４】図３におけるIV−IV線に沿う断面図である。

【図５】洗浄ローラの回転ディスクに対する接触領域を
示す正面図である。

【図６】それぞれの駆動シャフトの他の具体例を示す断
面図である。

【図７】回転ディスクの洗浄手順を示す工程図である。

【図８】本発明の他の実施の形態である表面処理装置を
示す正面図である。

【図９】図８に示した表面処理装置における処理ローラ
の回転ディスクに対する接触領域を示す正面図である。

【符号の説明】

１０ 回転ディスク １０ａ 貫通孔 １１ 支持台 １２，１３ 位置決めローラ ２１，２２ 駆動シャフト ２３ 洗浄ローラ（第１の洗浄ローラ） ２４ 洗浄ローラ（第２の洗浄ローラ） ２５ 低摩擦円筒部（第１の低摩擦円筒部） ２６ 低摩擦円筒部（第２の低摩擦円筒部） ２７ 高摩擦円筒部（第１の高摩擦円筒部） ２８ 高摩擦円筒部（第２の高摩擦円筒部） ３０ 突起部 ３１，３２ 液体供給孔 ３３，３４ 連通孔 ３５ ポンプ ３６ 流路

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 回転ディスクの外周面に接触して前記回
   転ディスクの回転中心位置を規制する位置決めローラ
   と、 回転駆動される第１の駆動シャフトに設けられ、前記位
   置決めローラにより位置決めされた前記回転ディスクの
   一方の面に接触する第１の洗浄ローラと、 回転駆動される第２の駆動シャフトに設けられ、前記回
   転ディスクの他方の面に接触する第２の洗浄ローラとを
   有し、 前記それぞれの駆動シャフトに洗浄液を供給する液体供
   給孔を形成し、 前記液体供給孔から洗浄液を前記回転ディスクの表面に
   案内するようにしたことを特徴とする洗浄装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の洗浄装置において、前記
   それぞれの洗浄ローラを通液性の部材により形成し、前
   記それぞれの液体供給孔内の洗浄液を前記洗浄ローラを
   透過させて前記回転ディスクの表面に流出するようにし
   たことを特徴とする洗浄装置。
3. 【請求項３】 回転駆動される第１の駆動シャフトに
   設けられ前記位置決めローラにより位置決めされた前記
   回転ディスクの一方の面に接触する通液性の第１の洗浄
   ローラと、第２の駆動シャフトに設けられ前記回転ディ
   スクの他方の面に接触する通液性の第２の洗浄ローラと
   を有する洗浄装置における前記それぞれの洗浄ローラ
   を、前記回転ディスクを洗浄する回転速度よりも高い速
   度で高速回転し、 前記それぞれの駆動シャフトに形成された液体供給孔か
   ら前記それぞれの洗浄ローラを透過させて液体を外周面
   から流出し、 前記それぞれの洗浄ローラの汚れを除去するようにした
   ことを特徴とする洗浄装置の汚れ除去方法。