JP2000047556A - Production of article having light diffracting structure - Google Patents

Production of article having light diffracting structure

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JP2000047556A
JP2000047556A JP21060098A JP21060098A JP2000047556A JP 2000047556 A JP2000047556 A JP 2000047556A JP 21060098 A JP21060098 A JP 21060098A JP 21060098 A JP21060098 A JP 21060098A JP 2000047556 A JP2000047556 A JP 2000047556A
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light
layer
diffraction structure
article
light diffraction
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Takashi Aono
隆 青野
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
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    • GPHYSICS
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    • G03H2250/10Laminate comprising a hologram layer arranged to be transferred onto a carrier body

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  • Credit Cards Or The Like (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the production method of article having light diffracting structure with which an article is provided with a light diffracting structure performing the display of picture patterns or the like or recording of characters or images through the radiation of laser beams onto the light reflecting layer of the light diffracting structure without exerting any adverse influence caused by the heat of laser beams upon an object to be transferred. SOLUTION: Concerning the production of article having light diffracting structure with which a light diffracting structure forming layer 4 and a light reflecting layer 5 are transferred on the article while using light diffracting structure transfer foil constituted by laminating the light diffracting structure forming layer 4 and light reflecting layer 5 on a support 1, one part of the light reflecting layer 5 is destroyed by irradiating the light diffracting structure transfer foil with laser beams 10 before transferring the light diffracting structure forming layer 4 and light reflecting layer 5 to the article.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ホログラムや回折
格子を形成した光回折構造を有する物品の製造方法に関
するものである。特に、前記光回折構造の光反射層にレ
ーザー光を照射して、前記光反射層の一部を破壊するこ
とにより絵柄、模様等の表示や、文字、画像等の記録が
形成されてなる光回折構造を有する光回折構造を有する
物品の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an article having a light diffraction structure formed with a hologram or a diffraction grating. In particular, by irradiating a laser beam to the light reflection layer of the light diffraction structure and destructing a part of the light reflection layer, light such as a display of a picture, a pattern, or the like, or a recording of a character, an image, or the like is formed. The present invention relates to a method for manufacturing an article having a light diffraction structure having a diffraction structure.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、クレジットカード、キャッシ
ュカード等の物品の全面あるいは一部に、各種の絵柄、
模様等の表示や、文字、画像等の記録が形成されてなる
ホログラムや回折格子等の光回折構造を有する光回折構
造を有する物品はすでに知られている。これらの光回折
構造は、一般的に光回折構造形成層と光反射層を積層し
て形成してある。
2. Description of the Related Art Conventionally, various patterns, such as credit cards, cash cards, etc.
Articles having a light diffraction structure having a light diffraction structure such as a hologram or a diffraction grating on which a display of a pattern or the like or a recording of a character or an image is formed are already known. These light diffraction structures are generally formed by laminating a light diffraction structure forming layer and a light reflection layer.

【0003】従来、これらの光回折構造へ記録表示を形
成する方法として、例えば、回折格子やホログラムの干
渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回
折格子や干渉縞が凹凸の形で記録表示された原版をプレ
ス型として用い、支持体シート上に離型性樹脂層、保護
層を順に積層した積層シートの保護層の上に、光回析構
造形成層用樹脂の塗布液をグラビアコート法、ロールコ
ート法、バーコート法などの手段で塗布して、塗膜を形
成し、その上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜
手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹
凸模様を光回析構造形成層に複製して各種の記録表示を
形成している。このように、表面凹凸のレリーフとして
回析格子やホログラムの干渉縞を光回析構造層の表面に
記録表示する方法は、量産性があり、コストも低くでき
るものである。
Conventionally, as a method of forming a recorded display on these optical diffraction structures, for example, when recording an interference fringe of a diffraction grating or a hologram as a relief of the surface unevenness, the diffraction grating or the interference fringe is formed in an uneven shape. Using the original plate recorded and displayed as a press mold, a coating solution of the resin for the light diffraction structure forming layer is gravure coated on the protective layer of a laminated sheet in which a release resin layer and a protective layer are sequentially laminated on a support sheet. Coating method, roll coating method, applied by means such as a bar coating method, to form a coating film, on which the original plate is stacked, and by appropriate means such as a heating roll, and both are heated and pressure-bonded to form an original plate. The concave and convex pattern is duplicated on the light diffraction structure forming layer to form various recorded displays. As described above, the method of recording and displaying the diffraction grating or the interference fringes of the hologram on the surface of the light diffraction structure layer as the relief of the surface unevenness has mass productivity and can reduce the cost.

【0004】しかしながら、上記したような従来の光回
折構造への記録表示では、原版の凹凸模様を光回析構造
形成層に複製して記録表示を形成するため、同一の記録
表示内容を量産する場合には好ましいが、各種の異なる
記録表示を有する光回析構造を多品種作製したい場合
や、可変情報を光回析構造に記録表示したい場合等に
は、作製しにくく、また生産効率が悪いという欠点があ
る。
[0004] However, in the above-described recording display on the conventional optical diffraction structure, since the recorded display is formed by duplicating the concave and convex pattern of the original on the optical diffraction structure forming layer, the same recorded display content is mass-produced. Although it is preferable in the case, when it is desired to produce a variety of light diffraction structures having various different recording indications, or when it is desired to record and display variable information on the optical diffraction structure, it is difficult to produce, and the production efficiency is poor. There is a disadvantage that.

【0005】そこで、上記したような光回析構造形成層
への凹凸模様記録表示の他にも、光回折構造に新たな記
録表示を行う製造方法として、例えば、既に特公平6−
85102、特公平6−90590において公知となっ
ている方法がある。上記の公知技術では、あらかじめホ
ログラムが転写されたホログラム付きカードを作製して
おき、このカードのホログラム層に接する反射層上にレ
ーザー光を照射して、反射層に孔を空けることで、反射
層に記録表示するものである。
Therefore, in addition to the above-described recording and display of the concavo-convex pattern on the light diffraction structure forming layer, as a manufacturing method for performing a new recording and display on the light diffraction structure, for example, Japanese Patent Publication No.
85102 and Japanese Patent Publication No. 6-90590. According to the above-described known technique, a card with a hologram on which a hologram is transferred is prepared in advance, and a laser beam is irradiated on the reflection layer in contact with the hologram layer of the card to form a hole in the reflection layer. Is recorded and displayed.

【0006】しかしながら、上記したようなホログラム
付きカードのホログラム層に対して、レーザー光を照射
する方法では、光反射層以外の部分にも熱が蓄積され、
カード基材の塩化ビニルが焦げて黒くなる危険性があ
る。焦げる原因としては、カード基材として使用されて
いるもの、例えば、紙、プラスチック等が、着色されて
いるものが多く、この着色のための顔料がレーザー光を
吸収し、カード基材の損傷の原因となっていることがあ
る。また、カードがISOに準拠した磁気カードとして
使用される場合、厚さ280μmの白色ポリ塩化ビニル
(以下、PVC)シートをコアシートとして、これを2
枚重ね、その両側にそれぞれ厚さ100μmの透明PV
Cシートをオーバーシートとして重ねて、熱プレスなど
により積層する4層構成の基材シート(合計厚さ0.7
6mm)が用いられるが、この基材シート上にホログラ
ム箔を転写し、その後にレーザー光によるホログラム箔
の加工を行った場合、次のような問題が生じる。コアシ
ート−オーバーシート間にレーザーを吸収する顔料(例
えばカーボンブラックによる黒色など)の印刷が施され
ている場合、その上に転写されているホログラム箔に対
してレーザー加工を行うと、レーザーを照射された部分
において表面が凸状に膨らんだ状態となる。この現象に
ついて厳密な分析、検証を行ったわけではないので正確
なところはわからないが、外観及び状況から考えて次の
ようなことが予想される。レーザー加工は金属層を破壊
することであり、金属層が破壊されることでレーザー光
は基材に照射される。そのため、レーザーは黒色インキ
部によって吸収され、インキが気化され、体積が膨張し
オーバーシート層を押し上げる。その結果、カード表面
はレーザーが照射された部分において凸状に膨らむと思
われる。また、カード基材の表面に形成した印刷インキ
の色によって、レーザー光を吸収しやすい色、例えば、
カーボン黒にシリカやそれらの絵柄と重ね合わせた際の
種々の条件の違いにより、レーザー光に対する影響が異
なり、従って、印刷インキの色の制約もでてくるという
問題がある。
However, in the method of irradiating the hologram layer of the card with a hologram with a laser beam as described above, heat is accumulated in portions other than the light reflection layer,
There is a danger that the vinyl chloride of the card substrate will burn and become black. As a cause of scorching, many of those used as card base materials, for example, paper, plastic, etc., are colored, and the pigment for coloring absorbs laser light and damages the card base material. May be the cause. When the card is used as a magnetic card conforming to ISO, a white polyvinyl chloride (hereinafter, referred to as PVC) sheet having a thickness of 280 μm is used as a core sheet.
100 μm thick transparent PV on both sides
A four-layer base sheet (total thickness of 0.7) in which C sheets are stacked as oversheets and stacked by hot pressing or the like
6 mm) is used, but when the hologram foil is transferred onto this base sheet and then the hologram foil is processed by laser light, the following problem occurs. If a laser absorbing pigment (for example, black with carbon black) is printed between the core sheet and the oversheet, laser irradiation is performed when the hologram foil transferred on the core sheet is subjected to laser processing. The surface becomes a convex swelling state in the portion where it is made. Since this phenomenon has not been rigorously analyzed and verified, its exact location is unknown, but the following is expected from the viewpoint of appearance and situation. Laser processing is to destroy a metal layer, and a laser beam is applied to a substrate by breaking the metal layer. Therefore, the laser is absorbed by the black ink portion, the ink is vaporized, the volume expands, and the oversheet layer is pushed up. As a result, it is considered that the surface of the card swells in a convex shape at the portion irradiated with the laser. Also, depending on the color of the printing ink formed on the surface of the card substrate, a color that easily absorbs laser light, for example,
There is a problem that the effect on the laser beam is different due to the difference in various conditions when the carbon black is superimposed with silica or their picture, and thus the color of the printing ink is restricted.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記したように、あら
かじめ光回折構造をカード等の物品基材に設けた状態
で、前記光回折構造の光反射層にレーザー光の照射し
て、光反射層に各種の記録表示を施す方法においては、
レーザー光の照射による物品基材への悪影響がある場合
があり、レーザー光の照射に際して、物品基材毎にその
材質のレーザー光による影響条件や、物品基材表面にお
ける印刷インキや加工状況によりレーザー光の照射条件
を変更する必要があり、光反射層へのレーザー光による
加工に際して、様々な制約があった。本発明において
は、レーザー光の照射による物品への悪影響を及ぼすこ
となく、光回析構造の光反射層にレーザー光の照射によ
る絵柄、模様等の表示や、文字、画像等の記録を施した
光回折構造を有する物品を製造することのできる、光回
折構造を有する物品の製造方法を提供するものである。
As described above, in the state where the light diffraction structure is provided in advance on an article base material such as a card, the light reflection layer of the light diffraction structure is irradiated with laser light to form a light reflection layer. In the method of displaying various records on the
Irradiation of the laser beam may have an adverse effect on the article substrate.When irradiating the laser beam, the laser beam depends on the influence of the laser light on the material of each article substrate, the printing ink on the surface of the article substrate, and the processing conditions. It was necessary to change the light irradiation conditions, and there were various restrictions when processing the light reflection layer with laser light. In the present invention, without detrimental effects on the article by the irradiation of laser light, the light reflection layer of the light diffraction structure, the display of the pattern, pattern, and the like by the irradiation of the laser light, and the characters, images, etc. were subjected to recording. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an article having a light diffraction structure, which can manufacture an article having a light diffraction structure.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の光回折構造を有する物品の製造方法は、
支持体上に光回折構造形成層、光反射層が積層されてな
る光回折構造転写箔を用いて、物品上に、前記光回折構
造形成層、光反射層を転写した光回折構造を有する物品
の製造方法において、前記物品に前記光回折構造形成
層、光反射層を転写する前に、前記光回折構造転写箔に
レーザー光を照射して前記光反射層の一部を破壊するこ
とを特徴とするものである。
In order to achieve the above-mentioned object, a method for producing an article having an optical diffraction structure according to the present invention comprises:
An article having a light diffraction structure formed by transferring the light diffraction structure forming layer and the light reflecting layer onto an article using a light diffraction structure transfer foil in which a light diffraction structure forming layer and a light reflecting layer are laminated on a support. In the manufacturing method, before transferring the light diffraction structure forming layer and the light reflection layer to the article, the light diffraction structure transfer foil is irradiated with laser light to partially destroy the light reflection layer. It is assumed that.

【0009】また、前記レーザー光がパルスレーザー光
であることを特徴とする光回折構造を有する物品の製造
方法である。
Further, there is provided a method for manufacturing an article having an optical diffraction structure, wherein the laser light is pulsed laser light.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下に本発明の光回折構造を有す
る物品の製造方法について、その材料および製造方法な
ど、発明の実施の形態について詳しく説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a method for manufacturing an article having an optical diffraction structure according to the present invention will be described in detail with reference to an embodiment of the present invention, including its material and manufacturing method.

【0011】〔光回折構造転写箔について〕 (支持体)本発明の光回折構造転写箔に用いる支持体と
しては、その上に積層する各層、即ち、離型性樹脂層、
保護層、光回折構造形成層、光反射層、接着層の各層
を、順次コーティングなどにより形成する際の耐熱性お
よび耐溶剤性、また、形成された光回折構造転写層をカ
ードなど物品の基材に転写する際、熱転写方式を利用す
る場合には、その耐熱性が必要であり、これらの性能を
備えたプラスチックフィルム、例えば2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフィルム(以下、単に、PETフィ
ルムと表示する)などを使用することができる。PET
フィルムを使用する場合、その厚さは、5〜250μm
のものが好ましく、加工適性や引張強度、熱転写の際の
熱効率などを考慮すると20〜50μmが更に好まし
い。
[About the Light Diffraction Structure Transfer Foil] (Support) As the support used for the light diffraction structure transfer foil of the present invention, each layer laminated thereon, that is, a release resin layer,
The heat resistance and solvent resistance when the protective layer, the light diffraction structure forming layer, the light reflection layer, and the adhesive layer are sequentially formed by coating or the like, and the formed light diffraction structure transfer layer is used as a base for an article such as a card. When using a thermal transfer method when transferring to a material, the heat resistance is required, and a plastic film having such performance, for example, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (hereinafter, simply referred to as a PET film) is used. Etc. can be used. PET
If a film is used, its thickness should be 5-250 μm
The thickness is more preferably 20 to 50 μm in consideration of workability, tensile strength, thermal efficiency during thermal transfer, and the like.

【0012】(離型性樹脂層)支持体の少なくとも一方
の面に、コーティングなどにより積層する離型性樹脂層
は、支持体にはよく接着し、その上に形成する保護層の
樹脂を比較的容易に剥離でき、且つ、耐熱性、耐溶剤性
などに優れた樹脂で形成することが好ましい。このよう
な樹脂としては、例えば、メラミン系樹脂など架橋性に
優れた各種熱硬化性樹脂が好適に使用できる。このよう
な樹脂は、架橋度合いを制御して用いることにより、転
写の際の剥離力を適宜調整することも可能である。離型
性樹脂層は、リバースロールコーターなどによるコーテ
ィング方式で形成することができ、その厚さは薄くてよ
く0.1〜4μm程度で充分である。
(Release resin layer) A release resin layer laminated on at least one surface of the support by coating or the like adheres well to the support and compares the resin of the protective layer formed thereon. It is preferable to use a resin that can be easily peeled off and has excellent heat resistance, solvent resistance, and the like. As such a resin, for example, various thermosetting resins having excellent crosslinking properties such as a melamine resin can be suitably used. By using such a resin while controlling the degree of crosslinking, the peeling force at the time of transfer can be appropriately adjusted. The releasable resin layer can be formed by a coating method using a reverse roll coater or the like, and its thickness may be thin, and about 0.1 to 4 μm is sufficient.

【0013】(保護層)前記離型性樹脂層の上に設ける
保護層は、転写後、カードなどの最外層となって下側の
層を保護するものであり、透明性、耐擦傷性、耐摩耗
性、耐熱性、耐薬品性、耐汚染性などを兼ね備えた樹脂
が適している。このような樹脂としては、例えば、電離
放射線硬化型樹脂が挙げられ、具体的には、ポリウレタ
ンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシ
アクリレート、ポリエーテルアクリレートなどが挙げら
れ、これらはそれぞれのプレポリマーに粘度、或いは架
橋密度を調整するために多官能または単官能のモノマー
を添加して用いてもよく、また、必要に応じて公知の光
反応開始剤、増感剤を添加して用いてもよい。このほ
か、ポリエン/チオール系の電離放射線硬化型樹脂など
も耐摩耗性に優れており好ましく使用できる。
(Protective Layer) The protective layer provided on the release resin layer serves as the outermost layer of a card or the like after transfer to protect the lower layer, and has transparency, scratch resistance, and the like. A resin having abrasion resistance, heat resistance, chemical resistance, stain resistance and the like is suitable. Such resins include, for example, ionizing radiation-curable resins, specifically, polyurethane acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, and the like. To adjust the crosslinking density, a polyfunctional or monofunctional monomer may be added and used, and if necessary, a known photoreaction initiator and sensitizer may be added and used. In addition, a polyene / thiol-based ionizing radiation curable resin and the like are also excellent in abrasion resistance and can be preferably used.

【0014】以上のような保護層用樹脂には、更に必要
に応じて、界面活性剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤など
の添加剤を加えることもできる。また、保護層を設ける
方法は、前記保護層用樹脂組成物で塗布液を作製し、従
来公知の各種ロールコーティング方式やグラビアコーテ
ィング方式で塗布した後、UV(紫外線)照射、または
EB(電子線)照射などにより樹脂を硬化させて保護層
を形成することができる。尚、前記塗布液には粘度調整
のため、必要に応じて適当な有機溶剤を添加してもよ
く、その場合には塗布後、先ず有機溶剤を除くための熱
風乾燥を行い、次いでUVまたはEBの照射により樹脂
の硬化を行えばよい。
If necessary, additives such as a surfactant, an antistatic agent, and an ultraviolet absorber may be added to the above-mentioned resin for the protective layer. Further, a method for providing a protective layer is as follows. After a coating solution is prepared from the resin composition for a protective layer and applied by various known roll coating methods or gravure coating methods, UV (ultraviolet) irradiation or EB (electron beam) irradiation is performed. ) The protective layer can be formed by curing the resin by irradiation or the like. In order to adjust the viscosity, an appropriate organic solvent may be added to the coating solution, if necessary. In this case, after coating, first, hot air drying is performed to remove the organic solvent, and then UV or EB is applied. The curing of the resin may be performed by the irradiation.

【0015】このような保護層の厚さは、光回折構造転
写層全体の厚さを薄くするために、0.5〜4.0μm
の範囲にすることが好ましい。保護層の厚さが0.5μ
m未満の場合は、充分な耐擦傷性、耐摩耗性が得られ
ず、また、4.0μmを超える厚さは、既に耐摩耗性は
充分にあるため必要性がなく、むしろ、光回折構造転写
層全体の厚さが増し、磁気記録・読み取り特性が低下す
るおそれがあるため好ましくない。
The thickness of such a protective layer is 0.5 to 4.0 μm in order to reduce the thickness of the entire light diffraction structure transfer layer.
It is preferable to be within the range. 0.5μ of protective layer thickness
When the thickness is less than m, sufficient abrasion resistance and abrasion resistance cannot be obtained, and when the thickness exceeds 4.0 μm, there is no necessity because the abrasion resistance is already sufficient. This is not preferable because the thickness of the entire transfer layer may increase and the magnetic recording / reading characteristics may decrease.

【0016】(光回折構造形成層)前記保護層の上に
は、光回折構造形成層、即ち、ホログラムまたは回折格
子を形成した層を設ける。光回折構造自体は、平面ホロ
グラム、体積ホログラムともに使用でき、具体例として
は、レリーフホログラム、リップマンホログラム、フル
ネルホログラム、フラウンホーファホログラム、レンズ
レスフーリエ変換ホログラム、レーザー再生ホログラム
(イメージホログラムなど)、白色光再生ホログラム
(レインボーホログラムなど)、カラーホログラム、コ
ンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マル
チプレックスホログラム、ホログラフィックステレオグ
ラム、ホログラフィック回折格子などが挙げられる。
(Light Diffraction Structure Forming Layer) On the protective layer, a light diffraction structure forming layer, that is, a layer on which a hologram or a diffraction grating is formed is provided. The light diffraction structure itself can be used for both planar holograms and volume holograms. Specific examples are relief holograms, Lippmann holograms, Fresnel holograms, Fraunhofer holograms, lensless Fourier transform holograms, laser reproduction holograms (such as image holograms), and white light. Examples include a reproduction hologram (such as a rainbow hologram), a color hologram, a computer hologram, a hologram display, a multiplex hologram, a holographic stereogram, and a holographic diffraction grating.

【0017】これらの光回析構造を形成する形成層の材
料には、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂(例、PMM
A)、ポリスチレン、ポリカーボネートなどの熱可塑性
樹脂、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリ
エステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アク
リレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエーテ
ル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレ
ート、メラミン(メタ)アクリレート、トリアジン系ア
クリレートなどの熱硬化性樹脂をそれぞれ単独、或いは
上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とを混合して使用する
ことができ、更には、ラジカル重合性不飽和基を有する
熱成形性物質、或いは、これらにラジカル重合性不飽和
単量体を加え電離放射線硬化性としたものなどを使用す
ることができる。このほか、銀塩、重クロム酸ゼラチ
ン、サーモプラスチック、ジアゾ系感光材料、フォトレ
ジスト、強誘電体、フォトクロミックス材料、サーモク
ロミックス材料、カルコゲンガラスなどの感光材料など
も使用できる。
The material of the formation layer for forming these light diffraction structures is polyvinyl chloride, acrylic resin (eg, PMM
A), thermoplastic resins such as polystyrene and polycarbonate, unsaturated polyester, melamine, epoxy, polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate , A thermosetting resin such as melamine (meth) acrylate or triazine acrylate can be used alone, or a mixture of the above-mentioned thermoplastic resin and thermosetting resin can be used. Or a material obtained by adding a radical polymerizable unsaturated monomer to these materials to make them ionizing radiation-curable. In addition, photosensitive materials such as silver salts, dichromated gelatin, thermoplastics, diazo photosensitive materials, photoresists, ferroelectrics, photochromic materials, thermochromic materials, and chalcogen glass can be used.

【0018】上記の材料を用いて光回析構造を形成する
方法は、従来既知の方法によって形成することができ、
例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレ
リーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹
凸の形で記録された原版をプレス型として用い、前記支
持体上に離型性樹脂層、保護層を順に積層した積層シー
トの保護層の上に、前記光回析構造形成層用樹脂の塗布
液をグラビアコート法、ロールコート法、バーコート法
などの手段で塗布して、塗膜を形成し、その上に前記原
版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加
熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製すること
ができる。また、フォトポリマーを用いる場合は、前記
積層シートの保護層上に、フォトポリマーを同様にコー
ティングした後、前記原版を重ねてレーザー光を照射す
ることにより複製することができる。このように、表面
凹凸のレリーフとして回析格子やホログラムの干渉縞を
光回析構造層の表面に記録する方法は、量産性があり、
コストも低くできる点で特に好ましい。このような光回
折構造形成層の膜厚は0.1〜6μmの範囲が好まし
く、0.1〜4μmの範囲が更に好ましい。
A method for forming a light diffraction structure using the above-mentioned materials can be formed by a conventionally known method.
For example, when recording interference fringes of a diffraction grating or hologram as a relief of surface irregularities, an original plate on which the diffraction gratings or interference fringes are recorded in the form of irregularities is used as a press mold, and a release resin Layer, a coating solution of the resin for the light diffraction structure forming layer is applied on the protective layer of the laminated sheet in which the protective layer is sequentially laminated by means of a gravure coating method, a roll coating method, a bar coating method, etc. A film is formed, and the original is superimposed thereon, and the two are heated and pressed by an appropriate means such as a heating roll, so that the concavo-convex pattern of the original can be duplicated. When a photopolymer is used, a photopolymer can be coated on the protective layer of the laminated sheet in the same manner, and then the original can be overlapped and irradiated with a laser beam to perform replication. Thus, the method of recording the diffraction grating or the interference fringes of the hologram on the surface of the light diffraction structure layer as a relief of the surface irregularities has mass productivity,
It is particularly preferable in that the cost can be reduced. The thickness of such a light diffraction structure forming layer is preferably in the range of 0.1 to 6 μm, and more preferably in the range of 0.1 to 4 μm.

【0019】(光反射層)前記のように光回折構造形成
層の表面に凹凸のレリーフとして回折格子やホログラム
の干渉縞を記録し、その回析効率を高めるために光反射
層をレリーフ面に形成する。光反射層の材質としては、
アルミニウム(Al)、亜鉛(Zn)、インジウム(I
n)、金(Au)、銀(Ag)、コバルト(Co)、ス
ズ(Sn)、セレン(Se)、チタン(Ti)、鉄(F
e)、テルル(Te)、銅(Cu)、鉛(Pb)、ニッ
ケル(Ni)、パラジウム(Pd)などの単体金属、も
しくはそれらの合金がある。
(Light Reflecting Layer) As described above, interference fringes of a diffraction grating or a hologram are recorded as a relief of irregularities on the surface of the light diffraction structure forming layer, and the light reflecting layer is formed on the relief surface in order to increase the diffraction efficiency. Form. As the material of the light reflection layer,
Aluminum (Al), zinc (Zn), indium (I
n), gold (Au), silver (Ag), cobalt (Co), tin (Sn), selenium (Se), titanium (Ti), iron (F
e), elemental metals such as tellurium (Te), copper (Cu), lead (Pb), nickel (Ni), palladium (Pd), or alloys thereof.

【0020】光反射層の薄膜の形成方法としては、真空
蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法な
どの薄膜形成法が挙げられる。薄膜は、色調、デザイ
ン、用途等に応じて適切な条件を設定すればよいが、5
0Å〜1μmの範囲が好ましく、更には100〜100
0Åがより好ましい。透明性を有する着色光反射層を設
けたい場合は、膜厚を200Å以下にするのが好まし
い。また、隠蔽性を有する着色光反射層を設けたい場合
は、膜厚を200Å以上にするのが望ましい。薄膜は、
上記のように、転写箔の用途、トータルデザインを考慮
し、色調、隠蔽性あるいは透明性等の必要に応じて設定
することができる。
As a method of forming a thin film of the light reflecting layer, a thin film forming method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, and an ion plating method may be mentioned. For the thin film, appropriate conditions may be set according to the color tone, design, application, etc.
The range is preferably from 0 ° to 1 μm, more preferably from 100 to 100
0 ° is more preferred. When it is desired to provide a colored light reflecting layer having transparency, the film thickness is preferably 200 ° or less. When it is desired to provide a colored light reflecting layer having a concealing property, the film thickness is desirably 200 mm or more. The thin film is
As described above, the color tone, the concealing property, the transparency, and the like can be set as necessary in consideration of the use of the transfer foil and the total design.

【0021】(接着層)光回折構造転写箔は、前記光反
射層の上にあらかじめ接着層を設けないで、カード基材
上に光回折構造転写層を転写する際に、接着剤を光反射
層上に塗布してから接着してもよいし、または、あらか
じめ前記光反射層の上に接着層を形成した状態で光回折
構造転写箔を構成しておいてもよく、光回折構造を有す
る物品の製造工程を定める時に選択すればよい。これら
接着層の材質は、光反射層との接着性がよく、且つ転写
に際して、カードなど物品の被転写体に対しても強固に
接着できるものが好ましい。具体的には、塩化ビニル系
樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ゴム変性物など
が挙げられ、これらの中から適するものを適宜選択して
使用でき、また、これらは単体、もしくは2種以上の混
合系で、更に必要に応じてハードレジンや可塑剤、その
他の添加剤を加えて使用することができる。
(Adhesive Layer) The light diffractive structure transfer foil does not provide an adhesive layer in advance on the light reflecting layer, and the adhesive is used to transfer the light diffractive structure transfer layer onto the card substrate. The adhesive may be applied after coating on the layer, or the light diffraction structure transfer foil may be configured in a state where the adhesive layer is formed on the light reflection layer in advance, and has a light diffraction structure. It may be selected when determining the manufacturing process of the article. The material of the adhesive layer is preferably a material having good adhesiveness to the light reflection layer and capable of firmly adhering to a transfer object such as a card at the time of transfer. Specifically, vinyl chloride resins, vinyl acetate resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins, acrylic resins, polyester resins, polyurethane resins, polyamide resins, rubber modified products, and the like. Suitable ones can be selected from among them, and these can be used alone or in a mixed system of two or more kinds, and can be used by further adding a hard resin, a plasticizer, and other additives as necessary. it can.

【0022】上記のような材料で形成される接着層は、
通常、上記材料を溶液状の塗布液とし、これをロールコ
ーターなどで塗布、乾燥することによって形成できる。
接着層の厚さは、0.5〜5μmの範囲が好ましく、
1.5〜3μmの範囲が更に好ましい。以上のようにし
て、支持体の離型性樹脂層の上に、光回折構造転写層と
して、保護層、光回析構造形成層、光反射層、接着層が
順に積層された光回折構造転写箔が製造できる。但し、
前記の接着層は、上記したようにあらかじめ光反射層上
に積層しておいてもよいし、また接着層を光反射層上に
積層しない状態としておき、光回折構造転写層を転写す
る際に接着剤を塗布するようにしてもよい。この場合、
あらかじめ光反射層上に接着層を設けた場合には、接着
剤を広幅で塗布して製造することができるので、生産効
率が良い。また、あらかじめ光反射層上に接着層を設け
ず、光回折構造転写層を転写する際に接着剤を塗布する
場合には、レーザー光を照射する際に光反射層に直接レ
ーザー光が照射されるので、レーザー光のエネルギーも
低くてすむと共に、レーザー光の照射により接着剤が焦
げるという危険性もないという利点がある。
The adhesive layer formed of the above materials is
Usually, the material can be formed by applying a solution in the form of a solution, applying the solution with a roll coater or the like, and drying.
The thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 0.5 to 5 μm,
The range of 1.5 to 3 μm is more preferable. As described above, the light diffraction structure transfer layer in which the protective layer, the light diffraction structure forming layer, the light reflection layer, and the adhesive layer are sequentially laminated on the release resin layer of the support as the light diffraction structure transfer layer. Foil can be manufactured. However,
The adhesive layer may be previously laminated on the light reflecting layer as described above, or the adhesive layer is not laminated on the light reflecting layer, and when transferring the light diffraction structure transfer layer, An adhesive may be applied. in this case,
When an adhesive layer is provided on the light reflection layer in advance, the adhesive can be applied over a wide area to produce the adhesive layer, so that the production efficiency is high. When an adhesive is applied when transferring the light diffraction structure transfer layer without providing an adhesive layer on the light reflection layer in advance, when the laser light is applied, the light reflection layer is directly irradiated with the laser light. Therefore, there is an advantage that the energy of the laser beam may be low and there is no danger of the adhesive being burned by the irradiation of the laser beam.

【0023】上記の構成による光回折構造転写箔に対し
て、前記光反射層にレーザー光を用いて、施したい絵
柄、模様等の表示や、文字、画像等の記録の部分にレー
ザー光を照射することで、レーザー光が照射された光反
射層の部分を破壊して、絵柄、模様、文字、記録等を前
記光反射層に形成することで本発明の光回折構造転写箔
を製造する。
The light diffraction structure transfer foil having the above structure is irradiated with laser light by using laser light on the light reflection layer to display a picture or pattern to be applied or to record characters or images. By doing so, the portion of the light reflection layer irradiated with the laser beam is destroyed, and a pattern, pattern, character, record, or the like is formed on the light reflection layer, whereby the light diffraction structure transfer foil of the present invention is manufactured.

【0024】また、前記光反射層に照射するレーザー光
は、連続光よりもパルス光であることが望ましい。連続
光のレーザー光は、一定時間の間、常に同じ出力を保っ
ている光であるが、これに対して、パルス光は、ごくわ
ずかな時間の間のみ高出力を有する光であるため、熱が
基材などに蓄積しないため、その部分での変形、変質等
のダメージを起こさずにデザイン加工、文字の描写等を
行うことができるものである。その結果、レーザー光の
出力など安定にレーザー加工を行うことが可能な条件を
広く設定することができるので、レーザー光の出力変動
などの影響を受けずに安定した加工を行うことができ
る。また、本発明に使用するパルスレーザー光として
は、CWのレーザー光を外部変調器でその出力を制御す
る方法、また、Qスイッチをレーザー共振器内に挿入し
Qスイッチのスイッチングによってレーザー媒質に蓄積
されたエネルギーを瞬時に出力させる方法がある。前者
のレーザーの具体例としてアルゴンレーザーやHe−N
eレーザー、YAGレーザー、半導体レーザーなどがあ
り、外部変調器としてメカニカルシャッター、A/O変
調素子、E/O変調素子などをQスイッチとして挿入
し、共振器のQ値をコントロールすることにより数十ナ
ノから数百ナノ秒の時間幅のパルス光を発生させること
ができる。
Further, it is desirable that the laser light applied to the light reflecting layer is pulsed light rather than continuous light. Continuous laser light is light that always keeps the same output for a certain period of time, whereas pulsed light is light that has high output only for a very short period of time. Does not accumulate on the substrate or the like, so that it is possible to perform design processing, depiction of characters, and the like without causing damage such as deformation and alteration at that portion. As a result, conditions that allow stable laser processing, such as the output of laser light, can be set broadly, so that stable processing can be performed without being affected by fluctuations in the output of laser light. As the pulse laser light used in the present invention, a method of controlling the output of a CW laser light by an external modulator, or inserting a Q switch into a laser resonator and storing the laser light in a laser medium by switching the Q switch. There is a method of instantly outputting the energy that has been applied. Specific examples of the former laser include an argon laser and He-N
There are e-lasers, YAG lasers, semiconductor lasers, etc., and a mechanical shutter, an A / O modulation element, an E / O modulation element, etc. are inserted as Q switches as external modulators, and several tens of Pulse light with a time width of nano to several hundred nanoseconds can be generated.

【0025】上記の構成による光回折構造転写箔にレー
ザー光を照射する場合には、支持体がレーザー光に対し
て透明であれば支持体側から照射しても、また接着層側
から照射してもよいが、特に光反射層に近い接着層側か
ら照射する方が、低エネルギーのレーザー光で光反射層
を破壊することができるので好ましい。また、光回折構
造転写箔をロールシート状に形成して加工を行う場合、
転写箔とレーザーの距離を一定に保ちながら加工を行う
ために、転写箔をドラムに巻き付け外側からレーザー光
を照射して光反射層を破壊することができるが、この時
光反射層がドラム側に接するように巻き付け、支持体側
からレーザー光を照射すると加工時の塵などがドラムに
蓄積し、安定な加工を阻害する要因となる。
When irradiating the light diffraction structure transfer foil having the above structure with a laser beam, if the support is transparent to the laser beam, it can be irradiated from the support side or from the adhesive layer side. However, it is particularly preferable to irradiate from the adhesive layer side close to the light reflection layer because the light reflection layer can be destroyed by low-energy laser light. In addition, when the light diffraction structure transfer foil is formed into a roll sheet and processed,
In order to perform processing while keeping the distance between the transfer foil and the laser constant, the transfer foil can be wound around the drum and irradiated with laser light from the outside to break the light reflection layer. When wrapped so as to be in contact with and irradiate laser light from the support side, dust during processing accumulates on the drum, which is a factor that hinders stable processing.

【0026】上記したように、好ましい例としては、接
着層を設けない構成の光回折構造転写箔を製造した後
に、光反射層側からレーザー光を照射して、光反射層を
加工することで、絵柄、模様等の表示や、文字、画像等
の記録を形成した光回折構造転写箔を製造するのが安定
性があってよい。
As described above, as a preferable example, after manufacturing the light diffraction structure transfer foil having no adhesive layer, the light reflection layer is irradiated with laser light to process the light reflection layer. It may be stable to manufacture a light diffraction structure transfer foil on which a display of a pattern, a pattern, etc., and a record of characters, images, etc. are formed.

【0027】また、本発明による光回折構造を有する物
品の製造方法は、支持体上に光回折構造形成層、光反射
層が積層されてなる光回折構造転写箔に、レーザー光を
照射して、前記光反射層の一部を破壊することにより絵
柄、模様等の表示や、文字、画像等の記録を前記光反射
層に形成した後、物品に、前記光回折構造転写箔の光回
折構造転写層を貼付するものであるため、レーザー光の
照射をコントロールすることで、様々な種類の異なる絵
柄、模様等のデザイン表示や、顔写真等の画像情報表
示、そして物品毎に異なる機械読み取り可能な情報、例
えばバーコード、OCR文字、OMR等の記録表示を光
反射層の破壊により形成できるので、記録表示の選択の
幅が広く選べ、各種の用途に適応することができる。
In the method for producing an article having a light diffraction structure according to the present invention, a light diffraction structure transfer foil comprising a support and a light diffraction structure forming layer and a light reflection layer laminated thereon is irradiated with laser light. After the display of a pattern, a pattern, or the like, a character, an image, or the like is formed on the light reflection layer by destroying a part of the light reflection layer, the light diffraction structure of the light diffraction structure transfer foil is formed on the article. Because the transfer layer is affixed, by controlling the irradiation of laser light, various types of different designs, such as designs, patterns, etc., image information such as face photographs, etc., and different machine readable for each article Since information such as barcodes, OCR characters, and OMR can be formed by destruction of the light reflecting layer, a wide range of recording and display options can be selected and can be adapted to various uses.

【0028】〔光回折構造を有する物品について〕前記
本発明の光回折構造転写箔は、前述したように物品上
に、その光回析構造転写層を転写するものであり、主た
る転写対象物である物品は、特にセキュリティー性を持
たせる必要がある情報媒体、例えばクレジットカード、
キャッシュカード、IDカード等のカード類、商品券、
株券等の金券類、身分証明書、パスポート、運転免許証
等が挙げられ、これらのものに光回折構造を付けること
により偽造、変造防止および真偽判定の判断に役立つ効
果があるものである。また、セキュリティー性を持たせ
る必要がない媒体においても、レーザー光を照射して、
前記光反射層の一部を破壊することにより絵柄、模様等
のデザイン表示を施すことで、意匠性にすぐれたデザイ
ン効果が期待できるので、時計、鞄、装身具、容器、化
粧品、電化製品等の様々な物品に光回折構造を付けても
よく光回折構造転写層の表面が耐摩耗性など物性に優れ
ていることから、各種の物品全般に広く使用できるもの
である。
[About Article Having Light Diffraction Structure] The light diffraction structure transfer foil of the present invention transfers the light diffraction structure transfer layer onto an article as described above. Certain articles are information media that need to be particularly secure, such as credit cards,
Cards such as cash cards, ID cards, gift certificates,
Examples include cash vouchers such as stock certificates, identification cards, passports, driver's licenses, and the like. By attaching an optical diffraction structure to them, it is possible to prevent counterfeiting, falsification, and judge authenticity. Also, even for media that do not need to have security properties, irradiate with laser light,
By applying a design display such as a pattern or a pattern by destroying a part of the light reflection layer, a design effect excellent in design can be expected, so that watches, bags, accessories, containers, cosmetics, electric appliances, etc. Various articles may be provided with a light diffraction structure, and the surface of the light diffraction structure transfer layer is excellent in physical properties such as abrasion resistance, so that it can be widely used in various articles in general.

【0029】[0029]

【実施例】以下に、本発明の光回折構造を有する物品の
製造方法の具体的な実施例として、被転写体にカード媒
体を用いた、光回折構造を有するのカード媒体を製造す
る場合を例に挙げて詳細に説明する。旦し、本発明はこ
れらの図面および実施例に限定されるものではない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As a specific embodiment of the method for manufacturing an article having an optical diffraction structure according to the present invention, a case where a card medium having an optical diffraction structure is manufactured using a card medium as a transfer object will be described below. This will be described in detail using an example. However, the present invention is not limited to these drawings and examples.

【0030】図1は、光回折構造転写箔の一実施例の構
成を説明する模式断面図である。図1において、光回折
構造転写箔20は、支持体1の一方の面に離型性樹脂層
2を設け、更にその離型性樹脂層2の上に、光回折構造
転写層7として、保護層3、光回折構造形成層4、光反
射層5、接着層6を順に積層して構成されると共に、前
記保護層3には、厚さ0.5〜4.0μmの電離放射線
硬化型樹脂を用いて、被転写体に転写後の光回析構造転
写層7の耐摩耗性がテーバー形アブレーザーによる耐摩
耗試験で100回以上の耐久性を有するように構成され
ている。
FIG. 1 is a schematic sectional view for explaining the structure of one embodiment of the light diffraction structure transfer foil. In FIG. 1, a light diffractive structure transfer foil 20 is provided with a releasable resin layer 2 on one surface of a support 1, and is further protected on the releasable resin layer 2 as a light diffractive structure transfer layer 7. A layer 3, a light diffraction structure forming layer 4, a light reflecting layer 5, and an adhesive layer 6 are sequentially laminated, and the protective layer 3 has an ionizing radiation curable resin having a thickness of 0.5 to 4.0 μm. Is used so that the abrasion resistance of the light diffraction structure transfer layer 7 after being transferred to the transfer object has a durability of 100 times or more in a wear resistance test using a Taber-type ab laser.

【0031】そして、カード基材に光回折構造転写層7
を転写する際には、例えば、光回折構造転写箔20の接
着層6面をカード基材表面に合わせて重ね、熱プレス装
置、またはホットスタンピング装置などにより支持体1
側から加熱、圧着することにより、接着層6が溶融また
は軟化し被転写体表面に接着する。その後、支持体1を
引き剥がすことにより、離型性樹脂層2と保護層3との
界面で容易に剥離し、保護層3を最外層とする光回折構
造転写層7が被転写体であるカードに転写される。
The light diffraction structure transfer layer 7 is applied to the card base material.
When transferring, for example, the adhesive layer 6 surface of the light diffraction structure transfer foil 20 is overlapped with the surface of the card substrate, and the support 1 is pressed by a hot press device or a hot stamping device.
By heating and pressing from the side, the adhesive layer 6 is melted or softened and adheres to the surface of the transfer-receiving body. Thereafter, the support 1 is peeled off to easily peel off at the interface between the release resin layer 2 and the protective layer 3, and the light diffraction structure transfer layer 7 having the protective layer 3 as the outermost layer is the transfer target. Transferred to card.

【0032】本発明の光回折構造を有する物品を、カー
ド媒体に適応する場合の基材シートとしては、ポリ塩化
ビニル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミ
ド、ポリイミド、セルロースジアセテート、セルロース
トリアセテート、ポリスチレン系樹脂、アクリル樹脂、
ポリプロピレン、ポリエチレンなどの樹脂のほか、アル
ミニウム、銅などの金属、紙、そして、樹脂またはラテ
ックス等の含浸紙などの単独、或いは複合体シートなど
を用いることができる。
When the article having the light diffraction structure of the present invention is applied to a card medium, examples of the base sheet include polyvinyl chloride, polyester, polycarbonate, polyamide, polyimide, cellulose diacetate, cellulose triacetate, polystyrene resin, acrylic resin,
In addition to resins such as polypropylene and polyethylene, metals such as aluminum and copper, paper, and impregnated paper such as resin or latex, etc., alone or in combination, can be used.

【0033】このような基材シートの厚さは、材質によ
っても異なるが、通常、10μm〜5mm程度の範囲で
ある。特に磁気カードの場合、基材シートをISO規格
に準拠したものとする場合には、その厚さは0.76m
mである。そして、基材シートをポリ塩化ビニル(以
下、PVC)で形成する場合、通常、厚さ280μmの
白色PVCシートをコアシートとして、これを2枚重
ね、その両側にそれぞれ厚さ100μmの透明PVCシ
ートをオーバーシートとして重ねて、熱プレスなどによ
り積層する4層構成の基材シート(合計厚さ0.76m
m)が用いられている。この場合、磁気記録層は、前記
透明PVCシート(オーバーシート)の表面にテープ状
または全面状に予め設けておくことにより、熱プレスな
どによる積層時に、テープ状であっても基材シートに押
し込まれ、表面平滑に一体化され積層される。
The thickness of the base sheet varies depending on the material, but is usually in the range of about 10 μm to 5 mm. In particular, in the case of a magnetic card, when the base sheet conforms to the ISO standard, its thickness is 0.76 m.
m. When the base sheet is formed of polyvinyl chloride (hereinafter, PVC), usually, a white PVC sheet having a thickness of 280 μm is used as a core sheet, two of which are stacked, and a transparent PVC sheet having a thickness of 100 μm is provided on both sides thereof. Are laminated as an over sheet and laminated by hot pressing or the like.
m) is used. In this case, the magnetic recording layer is provided on the surface of the transparent PVC sheet (oversheet) in the form of a tape or the entire surface in advance, so that the magnetic recording layer can be pressed into the base sheet even in the form of a tape during lamination by hot pressing or the like. It is integrated and laminated with a smooth surface.

【0034】以下に具体的な実施例を挙げて説明する。 〔実施例1〕 (光回折構造転写箔の作製)図1に示すように支持体1
として、厚さ25μmの2軸延伸透明PETフィルム
(片面コロナ放電処理)を用い、そのコロナ放電処理面
に、下記組成の離型性樹脂層用塗布液をグラビアリバー
スコート法により、乾燥時の厚さが0.5μmとなるよ
うに塗布して、離型性樹脂層2が積層された支持体1を
作製した。 離型性樹脂層用塗布液の組成 メラミン系樹脂 5重量部 溶剤 メチルアルコール 25重量部 溶剤 エチルアルコール 45重量部 酢酸セルロース樹脂 1重量部 パラトルエンスルフォン酸 0.05重量部
Hereinafter, a specific embodiment will be described. [Example 1] (Production of light diffraction structure transfer foil) As shown in FIG.
A 25 μm-thick biaxially stretched transparent PET film (single-sided corona discharge treatment) was used, and a coating liquid for a release resin layer having the following composition was dried on the corona discharge-treated surface by a gravure reverse coating method. Was applied so as to have a thickness of 0.5 μm, thereby producing a support 1 on which the release resin layer 2 was laminated. Composition of coating solution for release resin layer Melamine resin 5 parts by weight Solvent Methyl alcohol 25 parts by weight Solvent Ethyl alcohol 45 parts by weight Cellulose acetate resin 1 part by weight Paratoluenesulfonic acid 0.05 part by weight

【0035】次に、前記離型性樹脂層2の上に、下記組
成の保護層用塗布液をグラビアリバースコート法によ
り、硬化後の厚さが0.5μmとなるように塗布し、紫
外線照射装置(出力160W/cmの高圧水銀ランプ2
灯式)により、紫外線を照射量500mJ/cm2 で照
射して塗膜の硬化を行い、保護層3を形成した。 保護層用塗布液の組成 ポリウレタンアクリレート(プレポリマー) 20重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 100重量部 2−ヒドロキシエチルアクリレート 5重量部 光重合開始剤 1重量部 増感剤 1重量部
Next, a coating liquid for a protective layer having the following composition is applied on the release resin layer 2 by a gravure reverse coating method so that the thickness after curing becomes 0.5 μm, and ultraviolet irradiation is performed. Equipment (High pressure mercury lamp 2 with 160 W / cm output)
UV light was applied at a dose of 500 mJ / cm 2 to cure the coating film, thereby forming the protective layer 3. Composition of coating solution for protective layer Polyurethane acrylate (prepolymer) 20 parts by weight Dipentaerythritol hexaacrylate 100 parts by weight 2-hydroxyethyl acrylate 5 parts by weight Photopolymerization initiator 1 part by weight Sensitizer 1 part by weight

【0036】次に、前記保護層3の上に、下記組成の光
回折構造形成層用塗布液をグラビアリバーズコート法に
より、乾燥時の厚さが2μmとなるように塗布し、10
0℃、1分間の条件で乾燥させて光回折構造を形成する
ための樹脂層を形成した。 光回折構造形成層用塗布液の組成 アクリル樹脂 40重量部 メラミン樹脂 10重量部 溶剤 シクロヘキサノン 50重量部 溶剤 メチルエチルケトン 25重量部
Next, a coating solution for forming a light diffraction structure having the following composition was applied onto the protective layer 3 by a gravure rivers coating method so that the thickness when dried was 2 μm.
The resin layer was dried at 0 ° C. for 1 minute to form a resin layer for forming an optical diffraction structure. Composition of coating solution for forming optical diffraction structure layer Acrylic resin 40 parts by weight Melamine resin 10 parts by weight Solvent Cyclohexanone 50 parts by weight Solvent Methyl ethyl ketone 25 parts by weight

【0037】前記光回折構造を形成するための樹脂層の
上に、ホログラム原版を載置し、150℃、50kg/
cm2 、1分間の条件で加熱圧着してホログラムレリー
フ8を型付けした後、ホログラム原版を剥離してホログ
ラムレリーフ8を備えた光回析構造形成層4を形成し
た。
A hologram master is placed on a resin layer for forming the light diffraction structure, and the hologram master is placed at 150 ° C. and 50 kg / h.
After the hologram relief 8 was molded by applying heat and pressure under the condition of cm 2 for 1 minute, the hologram master was peeled off to form the light diffraction structure forming layer 4 having the hologram relief 8.

【0038】次に、前記光回析構造形成層4のホログラ
ムレリーフ形成面に、マグネトロンスパッタリング方式
によりアルミニウム(Al)を用いて、膜厚350Åの
薄膜層を形成して光反射層5とした。
Next, a thin film layer having a thickness of 350 ° was formed on the hologram relief forming surface of the light diffraction structure forming layer 4 using aluminum (Al) by a magnetron sputtering method to form a light reflecting layer 5.

【0039】前記光反射層5の上に、下記組成の接着層
用塗布液をグラビアリバースコート法により、乾燥時の
厚さが2μmとなるように塗布、乾燥して接着層6を形
成し、実施例1の光回析構造転写箔を作製した。 接着層用塗布液の組成 塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体 20重量部 アクリル樹脂 10重量部 溶剤 酢酸エチル 20重量部 溶剤 トルエン 50重量部 以上のように作製した実施例1の光回折構造転写箔20
の各層の厚さ構成は下記の通りである。支持体シート
(25μm)/離型性樹脂層(0.5μm)/保護層
(0.5μm)/光回折構造形成層(2μm)/光反射
層(350Å)/接着層(2μm)
An adhesive layer coating solution having the following composition was applied onto the light reflecting layer 5 by a gravure reverse coating method so that the thickness when dried was 2 μm, and dried to form an adhesive layer 6. An optical diffraction structure transfer foil of Example 1 was produced. Composition of Coating Solution for Adhesive Layer Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer 20 parts by weight Acrylic resin 10 parts by weight Solvent Ethyl acetate 20 parts by weight Solvent Toluene 50 parts by weight The light diffraction structure transfer foil 20 of Example 1 produced as described above.
The thickness configuration of each layer is as follows. Support sheet (25 µm) / Releasable resin layer (0.5 µm) / Protective layer (0.5 µm) / Light diffraction structure forming layer (2 µm) / Light reflecting layer (350 °) / Adhesive layer (2 µm)

【0040】次に、図2に示すように、レーザー光光源
9から出力5W、ビームスポットサイズ50μm、波長
1064nmのYAGレーザー光10を対物レンズ11
により、光回折構造転写箔20の接着層6側から光反射
層5に集光させ、レーザー光10により光反射層5の一
部を連続的に破壊することで破壊部12による顔画像1
3を形成した。
Then, as shown in FIG. 2, a YAG laser beam 10 having an output of 5 W, a beam spot size of 50 μm, and a wavelength of 1064 nm was applied from a laser beam source 9 to an objective lens 11.
Is focused on the light reflection layer 5 from the adhesive layer 6 side of the light diffraction structure transfer foil 20, and a part of the light reflection layer 5 is continuously destroyed by the laser light 10, so that the face image 1
3 was formed.

【0041】(光回折構造を有するカードの作製)図3
に示すように、厚さ0.76mmのポリ塩化ビニルシー
ト(白色コアシート2枚、透明オーバーシート2枚の4
層積層構成)からなる被転写体の基材シート14に対し
て、ホットスタンブ装置により、150℃、10kg/
cm2 、1秒間の条件で基材シート14の表面に、光回
折構造転写箔20の光回折構造転写層7を加熱圧着して
転写した後、離型性樹脂層2と支持体シート1を剥離
し、図4、図5に示すような実施例1の光回折構造を有
するカード30を作製した。
(Preparation of Card Having Optical Diffraction Structure) FIG.
As shown in the figure, a 0.76 mm-thick polyvinyl chloride sheet (two white core sheets and two transparent oversheets) was used.
The substrate sheet 14 of the transfer member composed of the layer stacking structure) is heated at 150 ° C. and 10 kg /
After the light diffraction structure transfer layer 7 of the light diffraction structure transfer foil 20 was transferred to the surface of the base material sheet 14 by heating and pressing under the condition of cm 2 for 1 second, the release resin layer 2 and the support sheet 1 were separated. By peeling off, a card 30 having an optical diffraction structure of Example 1 as shown in FIGS. 4 and 5 was produced.

【0042】〔実施例2〕 (光回折構造転写箔の作製)図1に示すように支持体シ
ート1として、厚さ25μmの2軸延伸透明PETフィ
ルム(片面コロナ放電処理)を用い、そのコロナ放電処
理面に、下記組成の離型性樹脂層用塗布液をグラビアリ
バースコート法により、乾燥時の厚さが0.5μmとな
るように塗布して、離型性樹脂層2が積層された支持体
シート1を作製した。 離型性樹脂層用塗布液の組成 メラミン系樹脂 5重量部 溶剤 メチルアルコール 25重量部 溶剤 エチルアルコール 45重量部 酢酸セルロース樹脂 1重量部 パラトルエンスルフォン酸 0.05重量部
Example 2 (Preparation of Light Diffraction Structure Transfer Foil) As shown in FIG. 1, a biaxially stretched transparent PET film (single-sided corona discharge treatment) having a thickness of 25 μm was used as the support sheet 1 and its corona was used. On the discharge-treated surface, a coating liquid for a release resin layer having the following composition was applied by a gravure reverse coating method so that the thickness when dried was 0.5 μm, and the release resin layer 2 was laminated. A support sheet 1 was produced. Composition of coating solution for release resin layer Melamine resin 5 parts by weight Solvent Methyl alcohol 25 parts by weight Solvent Ethyl alcohol 45 parts by weight Cellulose acetate resin 1 part by weight Paratoluenesulfonic acid 0.05 part by weight

【0043】次に、前記離型性樹脂層2の上に、下記組
成の保護層用塗布液をグラビアリバースコート法によ
り、硬化後の厚さが0.5μmとなるように塗布し、紫
外線照射装置(出力160W/cmの高圧水銀ランプ2
灯式)により、紫外線を照射量500mJ/cm2 で照
射して塗膜の硬化を行い、保護層3を形成した。 保護層用塗布液の組成 ポリウレタンアクリレート(プレポリマー) 20重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 100重量部 2−ヒドロキシエチルアクリレート 5重量部 光重合開始剤 1重量部 増感剤 1重量部
Next, a coating liquid for a protective layer having the following composition is applied onto the release resin layer 2 by a gravure reverse coating method so that the thickness after curing becomes 0.5 μm, and ultraviolet irradiation is performed. Equipment (High pressure mercury lamp 2 with 160 W / cm output)
UV light was applied at a dose of 500 mJ / cm 2 to cure the coating film, thereby forming the protective layer 3. Composition of coating solution for protective layer Polyurethane acrylate (prepolymer) 20 parts by weight Dipentaerythritol hexaacrylate 100 parts by weight 2-hydroxyethyl acrylate 5 parts by weight Photopolymerization initiator 1 part by weight Sensitizer 1 part by weight

【0044】次に、前記保護層3の上に、下記組成の光
回折構造形成層用塗布液をグラビアリバーズコート法に
より、乾燥時の厚さが2μmとなるように塗布し、10
0℃、1分間の条件で乾燥させて光回折構造を形成する
ための樹脂層を形成した。 光回折構造形成層用塗布液の組成 アクリル樹脂 40重量部 メラミン樹脂 10重量部 溶剤 シクロヘキサノン 50重量部 溶剤 メチルエチルケトン 25重量部
Next, a coating solution for forming a light diffraction structure having the following composition was applied onto the protective layer 3 by a gravure rivers coating method so that the thickness when dried was 2 μm.
The resin layer was dried at 0 ° C. for 1 minute to form a resin layer for forming an optical diffraction structure. Composition of coating solution for forming optical diffraction structure layer Acrylic resin 40 parts by weight Melamine resin 10 parts by weight Solvent Cyclohexanone 50 parts by weight Solvent Methyl ethyl ketone 25 parts by weight

【0045】前記光回折構造を形成するための樹脂層の
上に、ホログラム原版を載置し、150℃、50kg/
cm2 、1分間の条件で加熱圧着してホログラムレリー
フ8を型付けした後、ホログラム原版を剥離してホログ
ラムレリーフ8を備えた光回析構造形成層4を形成し
た。
A hologram master was placed on a resin layer for forming the light diffraction structure, and the hologram master was placed at 150 ° C. and 50 kg / h.
After the hologram relief 8 was molded by applying heat and pressure under the condition of cm 2 for 1 minute, the hologram master was peeled off to form the light diffraction structure forming layer 4 having the hologram relief 8.

【0046】次に、前記光回析構造形成層4のホログラ
ムレリーフ形成面に、マグネトロンスパッタリング方式
によりアルミニウム(Al)を用いて、膜厚350Åの
薄膜層を形成して光反射層5とした。以上のように作製
した実施例2の光回折構造転写箔には、実施例1の光回
折構造転写箔に対して、光反射層5の上面に接着層6を
設けない構成とした。つまり、図1に示した光回折構造
転写箔20の構成から接着層6だけを設けない状態の光
回折構造転写箔20を作製した。各層の厚さ構成は下記
の通りである。 支持体シート(25μm)/離型性樹脂層(0.5μ
m)/保護層(0.5μm)/光回折構造形成層(2μ
m)/光反射層(350Å)
Next, on the hologram relief forming surface of the light diffraction structure forming layer 4, a thin film layer having a thickness of 350 ° was formed by magnetron sputtering using aluminum (Al) to form a light reflecting layer 5. The light diffraction structure transfer foil of Example 2 manufactured as described above has a configuration in which the adhesive layer 6 is not provided on the upper surface of the light reflection layer 5 with respect to the light diffraction structure transfer foil of Example 1. That is, the light diffraction structure transfer foil 20 without the adhesive layer 6 was manufactured from the structure of the light diffraction structure transfer foil 20 shown in FIG. The thickness configuration of each layer is as follows. Support sheet (25 μm) / Releasable resin layer (0.5 μm)
m) / protective layer (0.5 μm) / light diffraction structure forming layer (2 μm)
m) / Light reflection layer (350 °)

【0047】次に、図2の光回折構造転写箔20の接着
層6だけを設けない状態の実施例2の光回折構造転写箔
に対して、レーザー光光源9から出力5W、ビームスポ
ットサイズ50μm、波長1064nmのYAGレーザ
ー光10を対物レンズ11により、光反射層5に集光さ
せ、レーザー光10により光反射層5の一部を連続的に
破壊することで破壊部12による顔画像13を形成し
た。
Next, with respect to the light diffraction structure transfer foil of Example 2 in which only the adhesive layer 6 of the light diffraction structure transfer foil 20 of FIG. The YAG laser beam 10 having a wavelength of 1064 nm is condensed on the light reflection layer 5 by the objective lens 11 and a part of the light reflection layer 5 is continuously destroyed by the laser beam 10 so that the face image 13 by the destruction portion 12 is formed. Formed.

【0048】(光回折構造を有するカードの作製)図3
の光回折構造転写箔20において、接着層6を設けない
状態の実施例2の光回折構造転写箔の光反射層6の上面
に、下記組成の接着層用塗布液をグラビアリバースコー
ト法により、塗布して接着層を形成した後、厚さ0.7
6mmのポリ塩化ビニルシート(白色コアシート2枚、
透明オーバーシート2枚の4層積層構成)からなる被転
写体の基材シート14上に光回折構造転写シートを接着
し、光回折構造転写箔の保護層3から離型性樹脂層2と
支持体シート1を剥離して、図4、図5に示すような実
施例2の光回折構造を有するカード30を作製した。 接着層用塗布液の組成 塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体 20重量部 アクリル樹脂 10重量部 溶剤 酢酸エチル 20重量部 溶剤 トルエン 50重量部
(Preparation of Card Having Optical Diffraction Structure) FIG.
In the light diffraction structure transfer foil 20 of Example 2, the coating liquid for an adhesion layer having the following composition was applied to the upper surface of the light reflection layer 6 of the light diffraction structure transfer foil of Example 2 in a state where the adhesive layer 6 was not provided by a gravure reverse coating method. After coating to form an adhesive layer, a thickness of 0.7
6mm polyvinyl chloride sheet (2 white core sheets,
The light diffractive structure transfer sheet is adhered to the base sheet 14 of the object to be transferred composed of two transparent oversheets (four-layer laminated structure), and is supported from the protective layer 3 of the light diffractive structure transfer foil to the releasable resin layer 2. The body sheet 1 was peeled off, and a card 30 having an optical diffraction structure of Example 2 as shown in FIGS. 4 and 5 was produced. Composition of coating solution for adhesive layer Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer 20 parts by weight Acrylic resin 10 parts by weight Solvent Ethyl acetate 20 parts by weight Solvent Toluene 50 parts by weight

【0049】〔実施例3〕 (光回折構造転写箔の作製)図1に示すように支持体1
として、厚さ25μmの2軸延伸透明PETフィルム
(片面コロナ放電処理)を用い、そのコロナ放電処理面
に、下記組成の離型性樹脂層用塗布液をグラビアリバー
スコート法により、乾燥時の厚さが0.5μmとなるよ
うに塗布して、離型性樹脂層2が積層された支持体1を
作製した。 離型性樹脂層用塗布液の組成 メラミン系樹脂 5重量部 溶剤 メチルアルコール 25重量部 溶剤 エチルアルコール 45重量部 酢酸セルロース樹脂 1重量部 パラトルエンスルフォン酸 0.05重量部
Example 3 (Preparation of Light Diffraction Structure Transfer Foil) As shown in FIG.
A 25 μm-thick biaxially stretched transparent PET film (single-sided corona discharge treatment) was used, and a coating liquid for a release resin layer having the following composition was dried on the corona discharge-treated surface by a gravure reverse coating method. Was applied so as to have a thickness of 0.5 μm, thereby producing a support 1 on which the release resin layer 2 was laminated. Composition of coating solution for release resin layer Melamine resin 5 parts by weight Solvent Methyl alcohol 25 parts by weight Solvent Ethyl alcohol 45 parts by weight Cellulose acetate resin 1 part by weight Paratoluenesulfonic acid 0.05 part by weight

【0050】次に、前記離型性樹脂層2の上に、下記組
成の保護層用塗布液をグラビアリバースコート法によ
り、硬化後の厚さが0.5μmとなるように塗布し、紫
外線照射装置(出力160W/cmの高圧水銀ランプ2
灯式)により、紫外線を照射量500mJ/cm2 で照
射して塗膜の硬化を行い、保護層3を形成した。 保護層用塗布液の組成 ポリウレタンアクリレート(プレポリマー) 20重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 100重量部 2−ヒドロキシエチルアクリレート 5重量部 光重合開始剤 1重量部 増感剤 1重量部
Next, a coating liquid for a protective layer having the following composition is applied onto the release resin layer 2 by a gravure reverse coating method so that the thickness after curing becomes 0.5 μm, and irradiation with ultraviolet rays is performed. Equipment (High pressure mercury lamp 2 with 160 W / cm output)
UV light was applied at a dose of 500 mJ / cm 2 to cure the coating film, thereby forming the protective layer 3. Composition of coating solution for protective layer Polyurethane acrylate (prepolymer) 20 parts by weight Dipentaerythritol hexaacrylate 100 parts by weight 2-hydroxyethyl acrylate 5 parts by weight Photopolymerization initiator 1 part by weight Sensitizer 1 part by weight

【0051】次に、前記保護層3の上に、下記組成の光
回折構造形成層用塗布液をグラビアリバーズコート法に
より、乾燥時の厚さが2μmとなるように塗布し、10
0℃、1分間の条件で乾燥させて光回折構造を形成する
ための樹脂層を形成した。 光回折構造形成層用塗布液の組成 アクリル樹脂 40重量部 メラミン樹脂 10重量部 溶剤 シクロヘキサノン 50重量部 溶剤 メチルエチルケトン 25重量部
Next, a coating solution for forming a light diffraction structure having the following composition was applied onto the protective layer 3 by a gravure rivers coating method so that the thickness when dried was 2 μm.
The resin layer was dried at 0 ° C. for 1 minute to form a resin layer for forming an optical diffraction structure. Composition of coating solution for forming optical diffraction structure layer Acrylic resin 40 parts by weight Melamine resin 10 parts by weight Solvent Cyclohexanone 50 parts by weight Solvent Methyl ethyl ketone 25 parts by weight

【0052】前記光回折構造を形成するための樹脂層の
上に、ホログラム原版を載置し、150℃、50kg/
cm2 、1分間の条件で加熱圧着してホログラムレリー
フ8を型付けした後、ホログラム原版を剥離してホログ
ラムレリーフ8を備えた光回析構造形成層4を形成し
た。
A hologram master is placed on a resin layer for forming the light diffraction structure, and the hologram master is placed at 150 ° C. and 50 kg / h.
After the hologram relief 8 was molded by applying heat and pressure under the condition of cm 2 for 1 minute, the hologram master was peeled off to form the light diffraction structure forming layer 4 having the hologram relief 8.

【0053】次に、前記光回析構造形成層4のホログラ
ムレリーフ形成面に、マグネトロンスパッタリング方式
によりアルミニウム(Al)を用いて、膜厚500Åの
薄膜層を形成して光反射層5とした。
Next, a 500-nm-thick thin film layer was formed on the hologram relief forming surface of the light diffraction structure forming layer 4 using aluminum (Al) by a magnetron sputtering method to form a light reflecting layer 5.

【0054】前記光反射層5の上に、下記組成の接着層
用塗布液をグラビアリバースコート法により、乾燥時の
厚さが2μmとなるように塗布、乾燥して接着層6を形
成し、実施例3の光回析構造転写箔を作製した。 接着層用塗布液の組成 塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体 20重量部 アクリル樹脂 10重量部 溶剤 酢酸エチル 20重量部 溶剤 トルエン 50重量部 以上のように作製した実施例1の光回折構造転写箔20
の各層の厚さ構成は下記の通りである。 支持体シート(25μm)/離型性樹脂層(0.5μ
m)/保護層(0.5μm)/光回折構造形成層(2μ
m)/光反射層(500Å)/接着層(2μm)
An adhesive layer coating solution having the following composition was applied on the light reflecting layer 5 by a gravure reverse coating method so as to have a dry thickness of 2 μm, and dried to form an adhesive layer 6. An optical diffraction structure transfer foil of Example 3 was produced. Composition of Coating Solution for Adhesive Layer Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer 20 parts by weight Acrylic resin 10 parts by weight Solvent Ethyl acetate 20 parts by weight Solvent Toluene 50 parts by weight The light diffraction structure transfer foil 20 of Example 1 produced as described above.
The thickness configuration of each layer is as follows. Support sheet (25 μm) / Releasable resin layer (0.5 μm)
m) / protective layer (0.5 μm) / light diffraction structure forming layer (2 μm)
m) / light reflecting layer (500 °) / adhesive layer (2 μm)

【0055】次に、図2に示すように、レーザー光光源
9からピーク出力10kW/時間幅0.2μS、ビーム
径100μmに絞り込んだパルス光を対物レンズ11に
より、光回折構造転写箔20の接着層6側から光反射層
5に集光させ、レーザー光10により光反射層5の一部
を連続的に破壊することで破壊部12による顔画像13
を形成した。
Next, as shown in FIG. 2, the pulse light narrowed down from the laser light source 9 to a peak output of 10 kW / time width of 0.2 μS and a beam diameter of 100 μm is bonded to the light diffraction structure transfer foil 20 by the objective lens 11. The light is focused on the light reflection layer 5 from the layer 6 side, and a part of the light reflection layer 5 is continuously destroyed by the laser light 10, so that the face image 13 by the destruction portion 12 is obtained.
Was formed.

【0056】(光回折構造を有するカードの作製)図3
に示すように、厚さ0.76mmのポリ塩化ビニルシー
ト(白色コアシート2枚、透明オーバーシート2枚の4
層積層構成)からなる被転写体の基材シート14に対し
て、ホットスタンブ装置により、150℃、10kg/
cm2 、1秒間の条件で基材シート14の表面に、光回
折構造転写箔20の光回折構造転写層7を加熱圧着して
転写した後、離型性樹脂層2と支持体シート1を剥離
し、図4、図5に示すような実施例3の光回折構造を有
するカード30を作製した。
(Production of Card Having Optical Diffraction Structure) FIG.
As shown in the figure, a 0.76 mm-thick polyvinyl chloride sheet (two white core sheets and two transparent oversheets) was used.
The substrate sheet 14 of the transfer member composed of the layer stacking structure) is heated at 150 ° C. and 10 kg /
After the light diffraction structure transfer layer 7 of the light diffraction structure transfer foil 20 was transferred to the surface of the base material sheet 14 by heating and pressing under the condition of cm 2 for 1 second, the release resin layer 2 and the support sheet 1 were separated. By peeling off, a card 30 having an optical diffraction structure of Example 3 as shown in FIGS. 4 and 5 was produced.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
光回折構造を有する物品の製造方法は、被転写物である
物品への転写前の段階において、光回折構造転写箔の光
回析構造形成層内の光反射層に、レーザー光を照射し
て、前記光反射層の一部を破壊することにより絵柄、模
様等の表示や、文字、画像等の記録を前記光反射層に形
成するものであるので、レーザー光の照射による被転写
物への悪影響、つまり、熱の影響による被転写物の変
色、変形、損傷などの心配がない。また、レーザー光の
照射条件を設定する際に、被転写物毎の制約を考慮する
必要がないので、光回折構造転写箔の積層構成や照射方
向などによる異なる条件にも、最適なレーザー光の照射
を行うことで光反射層への記録表示を形成することがで
きるものである。また、レーザー光にパルスレーザー光
を用いることで、光反射層への熱の影響をできるだけ少
なくすることができ、光回折構造転写箔における他の部
分への損傷を防ぐことができる。従って、従来熱の影響
を受けやすい素材を用いた被転写物に対しても、光反射
層に絵柄、模様等の表示や、文字、画像等の記録を形成
した光回折構造を貼付した物品を製造することが可能と
なり幅広い製品への展開ができるようになった。
As described in detail above, the method for manufacturing an article having an optical diffraction structure according to the present invention provides a method for manufacturing an article having an optical diffraction structure at a stage prior to transfer to an article to be transferred. The light reflecting layer in the crystal structure forming layer is irradiated with a laser beam, and a part of the light reflecting layer is destroyed to display a pattern, display of a pattern or the like, characters, recording of an image or the like on the light reflecting layer. Since it is formed, there is no fear of adverse effects on the object to be transferred due to the irradiation of laser light, that is, discoloration, deformation, damage, etc. of the object to be transferred due to heat. In addition, when setting the irradiation conditions of laser light, it is not necessary to consider the restrictions of each transfer object, so that the optimum laser light can be applied to different conditions depending on the lamination structure of the light diffraction structure transfer foil and the irradiation direction. By performing the irradiation, a recorded display on the light reflecting layer can be formed. Further, by using a pulse laser beam as the laser beam, the influence of heat on the light reflection layer can be reduced as much as possible, and damage to other portions of the light diffraction structure transfer foil can be prevented. Therefore, even for an object to be transferred using a material which is conventionally susceptible to heat, an article in which a light diffraction structure in which a display of a pattern, a pattern, or the like, a character, an image or the like is formed on a light reflecting layer is attached. It has become possible to manufacture and to develop a wide range of products.

【0058】また、本発明の光回折構造を有する物品の
製造方法では、被転写物への転写前の段階において、光
回析構造形成層に形成したホログラムや回折格子による
絵柄、模様、画像等の表示の他に、光回析構造転写層を
被転写物へ転写する前の段階に、第2の記録表示とし
て、新たに光反射層に、絵柄、模様等の表示や、文字、
画像等の記録を形成することができるため、光回析構造
転写層毎に異なる記録表示や、可変情報等の記録表示へ
の対応ができるので、多品種の光回折構造を有する物品
の製造も効率良く行うことができるものである。また、
このため、同一のホログラムや回折格子による絵柄、模
様等の表示を施した光回折構造転写箔を大量に製造し在
庫しておいても、光反射層の部分の記録表示をその後、
自由に変更して形成することができるので、偽造、変造
等の悪事を企てる者が、偽造、変造品を製造した場合で
も、真偽判別の判断を行なうための記録表示を光反射層
に追加したり、記録表示を従来品と変更することで短期
間に偽造、変造対策を行うことが可能である。
In the method for producing an article having an optical diffraction structure according to the present invention, a pattern, a pattern, an image, or the like formed by a hologram or a diffraction grating formed on a light diffraction structure forming layer before the transfer to an object to be transferred. In addition to the display, before the transfer of the light diffraction structure transfer layer to the transfer target, as a second recording display, a new light reflection layer, a display of a pattern, pattern, etc., characters,
Since images and other records can be formed, it is possible to respond to different types of records and displays, such as variable information, for each light diffraction structure transfer layer. It can be performed efficiently. Also,
For this reason, even if a large number of light diffraction structure transfer foils on which the same hologram or diffraction grating is displayed, such as a pattern, a pattern, etc., are manufactured and stocked, the recording display of the light reflection layer portion is thereafter performed.
Since it can be formed by freely changing, even if a person who plans forgery, falsification, etc., makes a counterfeit or falsified product, a record display for judging the authenticity is added to the light reflection layer By changing the record display to the conventional product, countermeasures for counterfeiting and falsification can be taken in a short period of time.

【0059】[0059]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る光回折構造転写箔の実施例を示す
断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of an optical diffraction structure transfer foil according to the present invention.

【図2】本発明に係る光回折構造転写箔に、レーザー光
を照射した状態の実施例を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an embodiment in a state where laser light is irradiated on the light diffraction structure transfer foil according to the present invention.

【図3】本発明に係る光回折構造転写箔に、レーザー光
を照射した後の状態の実施例を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of a state after irradiating a laser beam to the light diffraction structure transfer foil according to the present invention.

【図4】本発明に係る光回折構造を有する物品の実施例
を示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing an embodiment of an article having a light diffraction structure according to the present invention.

【図5】本発明に係る光回折構造を有する物品の実施例
を示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing an embodiment of an article having a light diffraction structure according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 支持体 2 離型性樹脂層 3 保護層 4 光回折構造形成層 5 光反射層 6 接着層 7 光回折構造転写層 8 ホログラムレリーフ 9 レーザー光光源 10 レーザー光 11 対物レンズ 12 穿孔部 13 顔画像 14 基材シート 20 光回折構造転写箔 30 光回折構造を有する物品 REFERENCE SIGNS LIST 1 support 2 release resin layer 3 protective layer 4 light diffraction structure forming layer 5 light reflection layer 6 adhesive layer 7 light diffraction structure transfer layer 8 hologram relief 9 laser light source 10 laser light 11 objective lens 12 perforated part 13 face image 14 base sheet 20 light diffraction structure transfer foil 30 article having light diffraction structure

フロントページの続き Fターム(参考) 2C005 HA02 HA10 HB02 HB03 HB10 JA15 JA18 JA19 JB02 JB08 JB09 KA24 KA37 KA48 LA11 LA19 LA20 LA22 LA30 2H049 AA07 AA33 CA05 CA28 2K008 AA13 BB00 DD02 EE04 FF03 FF11 FF17 FF27 HH01 HH06Continued on the front page F-term (reference) 2C005 HA02 HA10 HB02 HB03 HB10 JA15 JA18 JA19 JB02 JB08 JB09 KA24 KA37 KA48 LA11 LA19 LA20 LA22 LA30 2H049 AA07 AA33 CA05 CA28 2K008 AA13 BB00 DD02 EE04 FF03 FF27H17

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体(1)上に光回折構造形成層
(4)、光反射層(5)が積層されてなる光回折構造転
写箔(20)を用いて、物品上に、前記光回折構造形成
層(4)、光反射層(5)を転写した光回折構造を有す
る物品の製造方法において、前記物品に前記光回折構造
形成層(4)、光反射層(5)を転写する前に、前記光
回折構造転写箔(20)にレーザー光(10)を照射し
て前記光反射層(5)の一部を破壊することを特徴とす
る光回折構造を有する物品の製造方法。
1. A light diffractive structure transfer foil (20) comprising a light diffractive structure forming layer (4) and a light reflecting layer (5) laminated on a support (1). In a method for manufacturing an article having a light diffraction structure to which a diffraction structure forming layer (4) and a light reflecting layer (5) are transferred, the light diffraction structure forming layer (4) and the light reflecting layer (5) are transferred to the article. A method of manufacturing an article having a light diffraction structure, wherein a part of the light reflection layer (5) is destroyed by irradiating the light diffraction structure transfer foil (20) with a laser beam (10) before.
【請求項2】 前記レーザー光(10)がパルスレーザ
ー光であることを特徴とする請求項1記載の光回折構造
を有する物品の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the laser beam is a pulsed laser beam.
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