JPH03129382A - Hologram and card with diffraction grating pattern - Google Patents
Hologram and card with diffraction grating patternInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ホログラム及び回折格子柄付カードに関し、
特に、プラスチック素材表面に形成した凹凸模様上に反
射層を施したホログラム又は回折格子層フィルムを用い
たカードに関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a card with a hologram and a diffraction grating pattern,
In particular, the present invention relates to a card using a hologram or a diffraction grating layer film in which a reflective layer is provided on an uneven pattern formed on the surface of a plastic material.
従来、プラスチック素材表面に形式した凹凸模様上に反
射層を施したホログラム又は回折格子の製作方法として
は、ホログラム又は回折格子の凹凸形状を記録してある
金型をプラスチックフィルムに加圧密着してその凹凸模
様を複製しくレリーフホログラム化又はレリーフ回折格
子化）、複製したプラスチックフィルムの凹凸面上に金
属蒸着等により反射層を形式する方法（例えば、「印刷
雑誌Ｊ １９８７ （Ｖｏｌ、７０）、Ｐｌ、５−１１
、 コ（７）方法には、押出機のチルロールにホログ
ラム又は回折格子の凹凸形状を記録してある金属メツキ
樹脂板又は耐熱性樹脂板を張り付けて、ポリプロピレン
、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂を流して複製し
、複製したプラスチックフィルムの凹凸面上に金属蒸着
等により反射層を形式する方法も含まれる。）と、金属
反射層を予めプラスチックフィルムの表面に形成してお
き、この反射層上から上記の金型を加圧密着して反射層
を形成した凹凸模様を複製する方法（例えば、特開昭５
８−６５４６６号）がある。このようにして形成した反
射型のホログラム又は回折格子は、転写型のフィルム又
は貼合型のフィルムの形式に構成され、カードにこのよ
うなフィルムを転写又は貼り合わせてホログラム又は回
折格子柄付カードとしている。転写型のフィルム構成の
具体例を第４図と第５図に、また、貼合型のフィルム構
成の具体例を第６図にあげる。第４図の転写型のフィル
ム２０においては、シート基材９上に、剥離層ＩＯを介
して、ホログラム又は回折格子層３、反射層４、アンカ
ー層７、及び、接着剤層６がこの順序で設けられて構成
されている。アンカー層７は、反射層４と接着剤層６の
接着性を高めるためのもので、省くこともできる。また
、第５図の転写型のフィルム２０においては、シート基
材９とホログラム層又は回折格子層３との間には、剥離
層ＩＯ及びオーバープリント層１１がこの順序で設けら
れ、しかも反射層４と接着剤層５との間には、アンカー
層７が設けられている。この場合においても、アンカー
層７を省くことができる。さらに、第６図の貼合型のフ
ィルム３０においては、ホログラム又は回折格子層３の
上にシート基材９を設け、反射層４側には接着剤層６、
剥離紙１２をこの順に設けて構成されている。Conventionally, the method for producing holograms or diffraction gratings in which a reflective layer is applied on a pattern of protrusions and convexities formed on the surface of a plastic material is to press a mold in which the concavo-convex shape of the hologram or diffraction grating is recorded and adhere it to a plastic film under pressure. A method of duplicating the uneven pattern to form a relief hologram or a relief diffraction grating), and a method of forming a reflective layer by metal vapor deposition on the uneven surface of the duplicated plastic film (for example, "Print Magazine J 1987 (Vol. 70), Pl. , 5-11
In method (7), a metal-plated resin plate or a heat-resistant resin plate on which the uneven shape of a hologram or diffraction grating is recorded is pasted on the chill roll of an extruder, and a resin such as polypropylene or polyethylene terephthalate is poured onto the plate to reproduce the image. However, it also includes a method of forming a reflective layer on the uneven surface of the duplicated plastic film by metal vapor deposition or the like. ), and a method in which a metal reflective layer is formed in advance on the surface of a plastic film, and the above-mentioned mold is tightly pressed onto the reflective layer to reproduce the uneven pattern of the reflective layer (for example, 5
No. 8-65466). The reflection type hologram or diffraction grating thus formed is configured in the form of a transfer type film or a bonded type film, and such a film is transferred or bonded to a card to create a card with a hologram or diffraction grating pattern. It is said that A specific example of a transfer type film structure is shown in FIGS. 4 and 5, and a specific example of a lamination type film structure is shown in FIG. In the transfer-type film 20 shown in FIG. 4, a hologram or diffraction grating layer 3, a reflective layer 4, an anchor layer 7, and an adhesive layer 6 are placed in this order on a sheet base material 9 via a release layer IO. It is set up and configured. The anchor layer 7 is for increasing the adhesiveness between the reflective layer 4 and the adhesive layer 6, and can be omitted. Further, in the transfer type film 20 shown in FIG. 5, a release layer IO and an overprint layer 11 are provided in this order between the sheet base material 9 and the hologram layer or the diffraction grating layer 3, and a reflective layer 11 is provided in this order. An anchor layer 7 is provided between the adhesive layer 4 and the adhesive layer 5. Even in this case, the anchor layer 7 can be omitted. Furthermore, in the laminated film 30 shown in FIG. 6, a sheet base material 9 is provided on the hologram or diffraction grating layer 3, and an adhesive layer 6 is provided on the reflective layer 4 side.
The release paper 12 is provided in this order.
また、金型によってホログラム又は回折格子の凹凸形状
を加圧密着して？ｊ［５１！するプラスチックフィルム
の材料としては、塩化ビニル、ポリス−Ｐレン、ポリプ
ロピレン、ポリエチレンテレフタレート等の熱可塑性樹
脂の外、熱成形性を有する紫外線硬化樹脂、電子線硬化
樹脂、熱硬化樹脂等が用いられる。熱可塑性樹脂を用い
る場合は、加熱プレス工程により金型の複製を行う。ま
た、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、熱硬化樹脂の場
合は、加熱しながら金型をエンボスする間又はエンボス
後に、紫外線又は電子線を照射するか熱を加えて樹脂を
硬化させるようにすればよい（例えば、特開昭６０−２
５４１７５号、同６１−６７８２号〉。Also, can the uneven shape of the hologram or diffraction grating be pressed into close contact with the mold? j[51! Materials for the plastic film include thermoplastic resins such as vinyl chloride, polypropylene, polypropylene, and polyethylene terephthalate, as well as thermoformable ultraviolet curable resins, electron beam curable resins, thermosetting resins, and the like. When thermoplastic resin is used, the mold is duplicated by a hot press process. In addition, in the case of ultraviolet curable resins, electron beam curable resins, and thermosetting resins, the resin may be cured by irradiating ultraviolet rays or electron beams or by applying heat during or after embossing the mold while heating. (For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-2
No. 54175, No. 61-6782>.
このようなホログラム又は回折格子層フィルムをクレジ
ットカード、バンクカード等のカード類に転写又は貼着
して、ホログラム及び回折格子柄付カードが作製される
。A card with a hologram or diffraction grating pattern is produced by transferring or pasting such a hologram or diffraction grating layer film onto cards such as credit cards and bank cards.
ところで、上記したような従来のホログラム又は回折格
子層フィルムにおいては、ホログラム層又は回折格子層
３の凹凸面に施す反射層４は、アルミニウム等の金属蒸
着膜、−ら構成するのが通常である。金属蒸着層は導電
性であるため、このようなホログラム又は回折格子層フ
ィルムを用いているカードは、コンデンサー効果を生じ
、種々の取り扱い時に、電荷がたまることになる。例え
ば、このような電荷を有するカードを書込読出機にかけ
ると、静電荷のために読み取りエラーが発生したり、ヘ
ッドが破壊されたり、回路中のＩＣが破壊される等のト
ラブルが発生する。また、同じく導電性のために、カー
ドの中にＩＣ等の電子部品を埋め込むと、これら電子部
品と外部の電子機械との間を読み出し等のために結合す
るときに、導通によるトラブルが発生しやすくなり、ま
た誤動作による短絡等でＩＣの書込読取装置を破壊する
ことがある。そして、金属蒸着層は、ホログラム層等の
蒸着基板が塑性に富むものであっても、カードに文字等
をエンボスする際、金属蒸着膜に割れが発生して白い地
肌が目立つようになり、商品価値を阻害し好ましくない
。By the way, in the conventional hologram or diffraction grating layer film as described above, the reflective layer 4 applied to the uneven surface of the hologram layer or diffraction grating layer 3 is usually composed of a metal vapor deposited film such as aluminum. . Because the metallized layer is electrically conductive, cards using such hologram or grating layer films create a capacitor effect and accumulate charge during various handling. For example, if a card with such an electric charge is placed in a read/write machine, the static charge may cause reading errors, damage to the head, and damage to the IC in the circuit. . Also, due to its conductivity, if electronic components such as ICs are embedded in the card, problems may occur due to conduction when connecting these electronic components to an external electronic machine for purposes such as reading. In addition, short circuits caused by malfunctions may damage the IC's writing/reading device. Even if the vapor deposition substrate such as the hologram layer is highly plastic, when embossing characters etc. on the card, the metal vapor deposition layer will crack and a white background will become noticeable, causing the product to become unusable. It is undesirable because it hinders the value.
したがって、本発明の目的は、上記した従来のプラスチ
ック素材にホログラムの干渉縞の凹凸模様又は回折格子
の凹凸模様の絵柄を型付けし、その面に反射層を設けて
形成したホログラム及び回折格子層フィルム、又は、プ
ラスチック素材表面に反射層を設け、その上にホログラ
ムの干渉縞の凹凸模様又は回折格子の凹凸模様の絵柄を
型付けして形成したホログラム及び回折格子層フィルム
を転写又は貼着して構成したホログラム及び回折格子柄
付カードの問題点を解決して、十分な反射性を有してい
てホログラム像又は回折色を鮮やかに再現し、反射層の
導電性による問題がなく、かつ、カードにエンボスを施
しても反射層の割れによって白い地肌が目立つことのな
いホログラム及び回折格子柄付カードを提供することで
ある。Therefore, an object of the present invention is to provide a hologram and a diffraction grating layer film formed by molding a concavo-convex pattern of interference fringes of a hologram or a concavo-convex pattern of a diffraction grating on the above-mentioned conventional plastic material, and providing a reflective layer on the surface thereof. Alternatively, a reflective layer is provided on the surface of a plastic material, and a hologram and a diffraction grating layer film formed by molding an uneven pattern of interference fringes of a hologram or an uneven pattern of a diffraction grating are transferred or pasted onto the reflective layer. This solution solves the problems of cards with holograms and diffraction gratings, which have sufficient reflectivity to vividly reproduce hologram images or diffraction colors, and which do not have problems due to the conductivity of the reflective layer. To provide a card with a hologram and a diffraction grating pattern in which the white background does not stand out due to cracks in a reflective layer even when embossing is applied.
本発明のホログラム及び回折格子柄付カードは、ホログ
ラムの干渉縞又は回折格子の格子を凹凸形状の絵柄とし
て表面に記録してあるプラスチックフィルムであってそ
の凹凸形状表面に反射層を有するフィルムを転写又は貼
着してなるホログラム及び回折格子柄付カードにおいて
、上記反射層として、微細な蒸着部が非蒸着部によって
遮断されている海・島構造の金属蒸着層からなる反射層
を用いていることを特徴とするものである。The hologram and diffraction grating patterned card of the present invention is a plastic film on which the interference fringes of the hologram or the grating of the diffraction grating are recorded as an uneven pattern on the surface, and a film having a reflective layer is transferred onto the uneven surface. Or, in the pasted hologram and diffraction grating patterned card, the reflective layer is made of a metal vapor deposited layer with a sea/island structure in which fine vapor deposited areas are blocked by non-evaporated areas. It is characterized by:
このような転写又は貼着するフィルムは、ホログラムの
干渉縞又は回折格子の格子を凹凸形状の絵柄として表面
に記録してある金型をプラスチックフィルムに加圧密着
して、その凹凸模様をエンボス複製し、複製されたプラ
スチック層の凹凸面上に前記の海・島構造の金属蒸着層
を形成したものである場合と、プラスチックフィルムに
予め前記の淘・島構造の金属蒸着層を直接蒸着するか、
樹脂箔上に前記の海・島構造の金属蒸着層を蒸着してこ
の箔をプラスチックフィルムに貼り付けるか、又は、一
旦他の基板に前記の海・島構造の金属蒸着層を蒸着して
、この蒸着層をプラスチックフィルム上に転写して形成
した前記の海・島構造の金属蒸着層を表面に有するプラ
スチックフィルム上に、前記金属蒸着層側からホログラ
ムの干渉縞又は回折格子の格子を凹凸形状の絵柄として
表面に記録してある金型を加圧密着して、その凹凸模様
をエンボス複製して形成したものである場合とがある。Such a film to be transferred or pasted is made by pressurizing a mold on which the interference fringes of a hologram or the grating of a diffraction grating are recorded as an uneven pattern on the surface of the plastic film. However, the metal vapor deposition layer with the sea/island structure described above is formed on the uneven surface of the duplicated plastic layer, and the metal vapor deposition layer with the sea/island structure is directly vapor deposited on the plastic film in advance. ,
Either the metal vapor deposition layer with the sea/island structure described above is vapor-deposited on the resin foil and this foil is attached to a plastic film, or the metal vapor deposition layer with the sea/island structure is vapor-deposited on another substrate, This vapor-deposited layer is transferred onto a plastic film, and on the plastic film having the metal vapor-deposited layer with the sea/island structure on its surface, interference fringes of a hologram or gratings of a diffraction grating are formed in an uneven shape from the metal vapor-deposited layer side. In some cases, the pattern is formed by pressurizing a mold that has been recorded on the surface and copying the uneven pattern by embossing.
また、前記の海・島構造の金属蒸着層からなる反射層は
、金８７に着膜をエツチングして形成することもできる
し、金属蒸着膜のリフトオフ加工により形成することも
できる。これらの場合、蒸着部と非Ｍｔｉｒ部が規則的
に配置されていても、不規則に配置されていてもよい。Further, the reflective layer made of the metal vapor deposited layer having the sea/island structure can be formed by etching a film deposited on gold 87, or by lift-off processing of the metal vapor deposited film. In these cases, the vapor deposition parts and the non-Mtir parts may be arranged regularly or irregularly.
さらに、この微細な蒸着部が非蒸着部によって遮断され
ている海・島構造の金属蒸着層からなる反射層は、蒸着
条件を選択することにより直接形成することもできる。Furthermore, the reflective layer consisting of a metal vapor deposited layer having a sea/island structure in which fine vapor deposited portions are blocked by non-deposited portions can also be directly formed by selecting vapor deposition conditions.
その場合、蒸着金属はスズであることが望ましい。In that case, the deposited metal is preferably tin.
さらに、前記プラスチックフィルム材料としては、熱可
斑性樹脂、熱成形性を有する紫外ｌｓｌ！！！ｌ化樹脂
、熱成形性を有する電子線硬化樹脂、熱成形性を有する
熱硬化樹脂の何れかを用いるのが望ましい。Further, the plastic film material includes a thermoplastic resin, a thermoformable ultraviolet LSL! ! ! It is desirable to use any one of a l-containing resin, an electron beam curing resin having thermoformability, and a thermosetting resin having thermoformability.
微細な蒸着部が非蒸着部によって遮断されている海・島
構造の金属蒸着層をプラスチック素材表面に形成したホ
ログラム又は回折格子の凹凸模様上の反射層として用い
ているため、反射層は十分な反射性を有しており、ホロ
グラム又は回折格子の回折効率が高く、ホログラム像又
は回折色を鮮やかに再現する。そして、反射層は絶縁性
であるため、ホログラム又は回折格子柄フィルムを用い
たカード類を積み重ねておいてもコンデンサーを形成し
て静電気を持つことはなく、書込読出機を破壊すること
はない。また、カード類の中にＩＣ等の電子部品を埋め
込んでも、導通による問題は発生しない。さらに、カー
ド類に文字等をエンボスしても、割れが発生して白い地
肌が目立つようなことはない。A metal vapor deposited layer with a sea/island structure in which fine vapor deposited areas are blocked by non-evaporated areas is used as a reflective layer on the uneven pattern of a hologram or diffraction grating formed on the surface of a plastic material, so the reflective layer is sufficiently thick. It has a reflective property, and the diffraction efficiency of the hologram or diffraction grating is high, and the hologram image or diffraction color is vividly reproduced. Furthermore, since the reflective layer is insulating, even if cards using holograms or diffraction grid pattern films are stacked, they will not form a capacitor and have static electricity, and will not destroy the read/write device. . Furthermore, even if electronic components such as ICs are embedded in cards, problems due to conduction will not occur. Furthermore, even if letters or the like are embossed on cards, cracks will not occur and the white background will not stand out.
Ｃ実施例〕
次に、図面を参照にして、本発明の実施例について説明
する。C Embodiment] Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
まず、本発明のホログラム及び回折格子柄付カードの層
構造について説明する。第１図は、部分的にホログラム
又は回折格子柄フィルムを転写して作製したカードｌの
断面を示しており、カード基材２上に、ホログラム又は
回折格子層３及び反射層４が、反射層４がカード基材２
と接するようにして設けられている。また、必要に応じ
ては、ホログラム層３上にオーバシート５が設けられて
いてもよい。カード基材２と反射層４とは、接着材層６
を介して一体化されている。場合によっては、この接着
材層６と反射層４との間には、両者の接着性を高めるた
めにアンカー層７が設けられていてもよい。この第１図
の部分ホログラム又は回折格子柄付カード１は、例えば
第４図に示したような転写型のフィルムを転写して作製
することができる。First, the layer structure of the hologram and diffraction grating patterned card of the present invention will be explained. FIG. 1 shows a cross section of a card l produced by partially transferring a hologram or a diffraction grating film, in which a hologram or diffraction grating layer 3 and a reflective layer 4 are formed on a card base material 2. 4 is card base material 2
It is placed so that it is in contact with the Further, an oversheet 5 may be provided on the hologram layer 3 if necessary. The card base material 2 and the reflective layer 4 are composed of an adhesive layer 6
integrated through. In some cases, an anchor layer 7 may be provided between the adhesive layer 6 and the reflective layer 4 in order to improve the adhesion between them. The partial hologram or diffraction grating patterned card 1 shown in FIG. 1 can be produced, for example, by transferring a transfer type film as shown in FIG.
また、第２図は、第５図に示したような転写型のフィル
ムをカード基材２全面に転写して構成した全面ホログラ
ム又は回折格子柄付カード１を示しており、この場合、
カード基材２は、例えば０゜５〜０．６ｍｍの厚さの塩
化ビニル製コア１３に、０．１ｍｍの厚さの塩化ビニル
製オーバシート１４を接着してなるものであり、ホログ
ラム又は回折格子層３及び反射層４は、接着材層６とア
ンカー層７を介して一体化されている。そして、ホログ
ラム又は回折格子層３の上には、オーバプリント層１１
が設けられている。Further, FIG. 2 shows a card 1 with a full-surface hologram or diffraction grating pattern formed by transferring a transfer-type film as shown in FIG. 5 onto the entire surface of the card base material 2. In this case,
The card base material 2 is made by adhering a vinyl chloride oversheet 14 with a thickness of 0.1 mm to a vinyl chloride core 13 with a thickness of 0.5 to 0.6 mm, for example, and has a hologram or a diffraction pattern. The grating layer 3 and the reflective layer 4 are integrated via an adhesive layer 6 and an anchor layer 7. Then, on the hologram or diffraction grating layer 3, an overprint layer 11 is provided.
is provided.
ところで、第１図、第２図に例示したような本発明のホ
ログラム又は回折格子柄付カード１に用いられる第４図
から第６図のような転写型又は貼合型のホログラム又は
回折格子柄フィルムの層構成は、従来のものと本質的な
差異はない。すなわち、従来技術の説明において、第４
図から第６図を用いて説明したように、転写型のフィル
ム構成（第４図、第５１！ｌ）と貼合型のフィルム構成
（第６図）がある。第４図の転写型のフィルム２０にお
いては、シート基材９上に、剥離層１０を介して、ホロ
グラム又は回折格子層３、反射層４、アンカー層７、及
び、接着剤層６がこの順序で設けられて構成されている
。アンカー層７は反射層４と接着剤層６の接着性を高め
るためのもので、省くこともできる。また、第５図の転
写型のフィルム２０においては、シート基材９とホログ
ラム層又は回折格子層３との間には、剥離層１０及びオ
ーバープリント層１１がこの順序で設けられ、しかも反
射層４と接着剤層５との間には、アンカー層７が設けら
れている。この場合においても、アンカー層７を省くこ
とができる。さらに、第６１！１の貼合型のフィルム３
０においては、ホログラム又は回折格子層３の上にシー
ト基材９を設け、反射層４側には接着剤層６、剥離紙１
２をこの順に設けて構成されている。By the way, the hologram or diffraction grating pattern of the transfer type or the bonding type as shown in FIGS. 4 to 6 used in the card 1 with the hologram or diffraction grating pattern of the present invention as illustrated in FIGS. 1 and 2 The layer structure of the film is essentially the same as that of conventional films. That is, in the description of the prior art, the fourth
As explained using FIGS. 6 to 6, there are a transfer type film structure (FIG. 4, 51!l) and a lamination type film structure (FIG. 6). In the transfer type film 20 shown in FIG. 4, a hologram or diffraction grating layer 3, a reflective layer 4, an anchor layer 7, and an adhesive layer 6 are placed on a sheet base material 9 via a release layer 10 in this order. It is set up and configured. The anchor layer 7 is for increasing the adhesion between the reflective layer 4 and the adhesive layer 6, and can be omitted. Further, in the transfer type film 20 shown in FIG. 5, a release layer 10 and an overprint layer 11 are provided in this order between the sheet base material 9 and the hologram layer or the diffraction grating layer 3, and a reflective layer 11 is provided in this order. An anchor layer 7 is provided between the adhesive layer 4 and the adhesive layer 5. Even in this case, the anchor layer 7 can be omitted. Furthermore, the 61st!1 laminated film 3
0, a sheet base material 9 is provided on the hologram or diffraction grating layer 3, and an adhesive layer 6 and a release paper 1 are provided on the reflective layer 4 side.
2 are provided in this order.
本発明のカードに用いるホログラム又は回折格子層フィ
ルムの従来のものとの本質的な違いは反射層４にある。The essential difference between the hologram or diffraction grating layer film used in the card of the present invention and the conventional one lies in the reflective layer 4.
この層４は、金属蒸着層であるが、ミクロに見ると、非
蒸着部と蒸着部が海・島構造をとっているものである。This layer 4 is a metal vapor-deposited layer, but when viewed microscopically, the non-vapor-deposited part and the vapor-deposited part have a sea-island structure.
すなわち、第３図にその例の拡大平面図を示すように、
各蒸着部１８は非蒸着部１９によって取り囲まれ孤立し
ている。That is, as shown in the enlarged plan view of the example in FIG.
Each vapor deposition part 18 is surrounded by a non-evaporation part 19 and is isolated.
そのため、蒸着部１８自身は導電性であっても、絶縁性
の非蒸着部１９によって遮断されているので、マクロに
見れば、反射層４は絶縁性を呈する。Therefore, even if the vapor deposition part 18 itself is conductive, it is blocked by the insulating non-evaporation part 19, so that from a macroscopic perspective, the reflective layer 4 exhibits insulating properties.
そして、マクロに見たとき、このような非蒸着部と金属
の蒸着部が海・島構造をとっているものは、蒸着部と蒸
着部の間隔が０．１ｍｍ以下の場合、反射性を呈し、そ
の背後にあるものは見えない。When viewed from a macroscopic perspective, a structure with a sea/island structure of non-evaporated areas and metal evaporated areas exhibits reflectivity when the distance between the evaporated areas is 0.1 mm or less. , you can't see what's behind it.
したがって、このような絶縁性であって、反射性を有す
る反射層４を、例えば第４図から第６図の従来のものの
反射層４の代わりに用いれば、従来のような導電性に基
づく問題点を有しないものとなる。そして、この反射層
４は、少なくとも蒸着基板に回置性に富む加圧成形可能
な樹脂を用いれば、反射層４を含むカード１にＪＩＳ
Ｘ ６３０１−１９７９に規定されているようなエ
ンボス加工を施しても、単に島間隔が伸びるだけで、蒸
着部に割れが生じないから、反射層４の下に位置するカ
ード基材２の白い地肌が目立つようになることはない。Therefore, if such an insulating and reflective reflective layer 4 is used in place of the conventional reflective layer 4 shown in FIGS. 4 to 6, for example, problems caused by conductivity can be solved. It will have no points. This reflective layer 4 can be formed by JIS on the card 1 including the reflective layer 4, if a pressure moldable resin with excellent reversibility is used for at least the vapor deposition substrate.
Even if embossing as specified in X. never becomes noticeable.
蒸着部１８と非蒸着１９の配列は、第３図の（ａ）のよ
うに規則的であっても、（ｂ）のように不規則であって
もよい。ただし、（ａ）のように規則的に並んでいると
、回折により虹が発生することがあるので、この点を考
慮して用途によりいずれかのものを選択すればよい。The arrangement of the vapor deposited parts 18 and the non-evaporated parts 19 may be regular as shown in FIG. 3(a), or irregular as shown in FIG. 3(b). However, if they are arranged regularly as shown in (a), a rainbow may occur due to diffraction, so one should be selected depending on the intended use, taking this into consideration.
このような非蒸着部と蒸着部が海・島構造をとっている
反射層の製造方法をいくつかの例について説明する。最
も簡単には、金属蒸着膜をエツチングして、第３！！Ｉ
の海部すなわち非蒸Ｓ部１９に相当する部分を除去すれ
ばよい。蒸着部１８のサイズ及びその間の距離について
は、エツチングの容易性と反射性を考慮して要求に合う
値を選択すればよい。また、別の方法として、蒸着基板
に予め例えば水溶性の樹脂を非蒸着部１９に相当する部
分に印刷しておき、その上に金属を蒸着し、その後水洗
いによって非蒸ＨＲ１９に相当する部分の蒸着膜のみを
除去する、所謂リフトオフ加工により製造することもで
きる。以上のいずれの方法によっても、第３図の（ａ）
のように規則的にも、（ロ）のように不規則にもこの海
・島構造を作成できる。A method for manufacturing a reflective layer in which the non-evaporated portion and the deposited portion have a sea/island structure will be described with reference to several examples. The easiest way is to etch the metal vapor deposited film. ! I
What is necessary is to remove the sea part, that is, the part corresponding to the non-steamed S part 19. Regarding the size of the deposited portions 18 and the distance therebetween, values that meet requirements may be selected in consideration of ease of etching and reflectivity. As another method, for example, a water-soluble resin is printed in advance on the vapor deposition substrate in the area corresponding to the non-evaporated area 19, metal is vapor-deposited thereon, and then the area corresponding to the non-evaporated HR 19 is washed with water. It can also be manufactured by a so-called lift-off process in which only the deposited film is removed. By any of the above methods, (a) in FIG.
This sea/island structure can be created regularly as in (b) or irregularly as in (b).
さらに、蒸着金属材料、蒸着速度、蒸着膜厚等の蒸着条
件を選択することでも、第３図ら）のような非蒸着部と
蒸着部が不規則に並んでいる海・島構造のものを直接作
成できる（特開昭６３−１５７８５８号公報）。この場
合、材料としては融点の低い金属や貴金属がよく、特に
スズが好ましい。Furthermore, by selecting the deposition conditions such as the metal material to be deposited, the deposition rate, and the thickness of the deposited film, it is possible to directly create a sea/island structure in which non-deposited areas and deposited areas are arranged irregularly, as shown in Figure 3, etc. (Japanese Unexamined Patent Publication No. 157858/1983). In this case, the material is preferably a metal with a low melting point or a noble metal, and tin is particularly preferred.
その場合、島サイズは２００人〜１μｍ１島間隙は１０
０〜５０００Ａである。In that case, the island size is 200 people to 1 μm, and the island gap is 10
It is 0-5000A.
ところで、このような海・島構造の絶縁性の金属蒸着層
のホログラム層３への施し方としては、従来技術の説明
において示したとおり、大きく別けて２通りの方法があ
る。第１の方法は、ホログラムの干渉縞又は回折格子の
格子を凹６形状に記録してある金型を、熱可塑性樹脂、
熱成形性を有する紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、熱
硬化樹脂等からなるプラスチックフィルムに加圧密着し
てその凹凸模様をエンボス複製するか、押出機のチルロ
ールにホログラムの干渉縞又は回折格子の格子を凹凸形
状に記録してある金属メツキ樹脂板又は耐熱性樹脂板を
張り付けて、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレ
ート等の樹脂を流して複製して、レリーフホログラム状
又はレリーフ回折格子状のホログラム層３を作製する。By the way, as shown in the description of the prior art, there are broadly two methods for applying such an insulating metal vapor deposited layer having a sea/island structure to the hologram layer 3. The first method is to use a mold in which the interference fringes of a hologram or the grating of a diffraction grating are recorded in six concave shapes, and a mold made of thermoplastic resin.
Either press a plastic film made of thermoformable ultraviolet curable resin, electron beam curable resin, thermosetting resin, etc. and emboss the uneven pattern on the plastic film, or emboss the uneven pattern on the extruder's chill roll. A metal-plated resin plate or a heat-resistant resin plate on which a grating is recorded in an uneven shape is attached, and a resin such as polypropylene, polyethylene terephthalate, etc. is poured and replicated to create a hologram layer 3 in the shape of a relief hologram or relief diffraction grating. do.
複製されたホログラム層３の凹凸面上に上記のような海
・島構造の絶縁性の金属蒸着層４を形成する。その後、
第４図から第６図に示したようなフィルム構成にする。On the uneven surface of the duplicated hologram layer 3, an insulating metal vapor deposition layer 4 having a sea/island structure as described above is formed. after that,
The film structure is made as shown in FIGS. 4 to 6.
第２の方法は、第１の方法において、金型を加圧密着す
るプラスチックフィルムに予め上記のような海・島構造
の絶縁性の金属蒸着層４を直接蒸着するか、樹脂箔上に
直接金属蒸着層４を蒸着してこの箔をプラスチックフィ
ルムに貼り付けるか、又は、一旦他の基板に蒸着層４を
蒸着して、この蒸着層４をプラスチックフィルム上に転
写して形成する等してプラスチックフィルム上に上記の
ような海・島構造の絶縁性の金属蒸着層４を形成し、プ
ラスチックフィルムの金属蒸着層４が形成されている側
からホログラムの干渉縞又は回折格子の格子を凹凸形状
に記録してある金型を加圧密着して、同時に凹凸形状に
なっているホログラム層３と反射層４をエンボス複製す
る。その後、第１の方法と同様に、第４図から第６図に
示したようなフィルム構成にする。In the second method, in the first method, an insulating metal vapor deposition layer 4 having a sea/island structure as described above is directly vapor-deposited in advance on the plastic film to which the mold is attached under pressure, or directly on the resin foil. Either the metal vapor deposition layer 4 is vapor-deposited and this foil is attached to a plastic film, or the vapor-deposition layer 4 is once vapor-deposited on another substrate and this vapor-deposition layer 4 is transferred onto the plastic film. An insulating metal vapor deposited layer 4 having a sea/island structure as described above is formed on a plastic film, and the interference fringes of a hologram or the grating of a diffraction grating are formed into an uneven shape from the side of the plastic film where the metal vapor deposited layer 4 is formed. The hologram layer 3 and the reflective layer 4 having an uneven shape are simultaneously embossed and duplicated by pressurizing and closely contacting the molds recorded in . Thereafter, in the same manner as in the first method, the film structure as shown in FIGS. 4 to 6 is formed.
上記第１の方法、第２の方法何れにおいても、ホログラ
ム層３を形成するプラスチックフィルムの材料は、熱可
塑性樹脂、熱成形性を有する紫外線硬化樹脂、電子線硬
化樹脂、熱硬化樹脂等の何れでもよいが、従来技術と同
様に、熱可塑性樹脂を用いる場合は、加熱プレス工程に
より金型の複製を行う。また、紫外線硬化樹脂、電子線
硬化樹脂、熱硬化樹脂の場合は、加熱しながら金型をエ
ンボスする間又はエンボス後に、紫外線又は電子線を照
射するか熱を加えて樹脂を硬化させるようにする。In both the first method and the second method, the material of the plastic film forming the hologram layer 3 is any one of thermoplastic resin, thermoformable ultraviolet curing resin, electron beam curing resin, thermosetting resin, etc. However, when a thermoplastic resin is used, as in the prior art, the mold is duplicated by a hot press process. In addition, in the case of ultraviolet curable resin, electron beam curable resin, and thermosetting resin, the resin is cured by irradiating ultraviolet rays or electron beams or by applying heat during or after embossing the mold while heating. .
このようにして構成された例えば第４図又は第５図の転
写型のホログラム又は回折格子柄フィルム２０は、その
接着剤層６がカード基材２と接するようにして加熱圧接
されると、フィルム２０のホログラム層３及び反射層４
がカード基材２上に転写されて、本発明に係るホログラ
ム又は回折格子柄付カードが得られる。For example, the transfer type hologram or diffraction grid pattern film 20 of FIG. 4 or FIG. 20 hologram layers 3 and reflective layers 4
is transferred onto the card base material 2 to obtain a card with a hologram or diffraction grating pattern according to the present invention.
ホログラム又は回折格子柄フィルム２０とカード基材２
とは、１００℃〜２００℃の温度で５〜５０ｋｇ／ｃ−
の圧力下で加熱圧接されることが好ましい。Hologram or diffraction grid pattern film 20 and card base material 2
means 5~50kg/c- at a temperature of 100℃~200℃
It is preferable that the welding is carried out under heat and pressure under a pressure of .
次いで、カード基材２上に転写されたホログラム上に、
必要に応じて、オーバーシート５を設ける。なお、ホロ
グラム又は回折格子柄フィルム２０にオーバープリント
層１１が設けられている場合には、このオーバープリン
ト層１１がオーバーシート５として機能する。Next, on the hologram transferred onto the card base material 2,
An oversheet 5 is provided if necessary. Note that when the hologram or diffraction grid pattern film 20 is provided with an overprint layer 11, this overprint layer 11 functions as the oversheet 5.
カード基材２としては、シート状の材料を広く用いるこ
とができ、具体的には、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン
テレフタレート、ポリイミド、ポリスチレン、ポリビニ
ルブチラール、ポリカーボネート、紙、合成紙、金属シ
ート、などが用いられる。カード基材２は、上記の材料
単独で構成されていてもよいが、場合によっては上記材
料の積層体として構成されていてもよい。As the card base material 2, a wide variety of sheet-like materials can be used. Specifically, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, polyimide, polystyrene, polyvinyl butyral, polycarbonate, paper, synthetic paper, metal sheets, etc. are used. It will be done. The card base material 2 may be composed of the above-mentioned materials alone, or may be composed of a laminate of the above-mentioned materials as the case may be.
このカード基材２の厚みは、０．２〜ｉ、 Ｏｒｎｍ
であることが好ましい。The thickness of this card base material 2 is 0.2 to i, Ornm
It is preferable that
次に、第４図から第６図のような転写型フィルム及び貼
合型フィルムの各層について説明する。Next, each layer of the transfer type film and bonded type film as shown in FIGS. 4 to 6 will be explained.
シート基材９としては、フィルム状のあらゆる材料が用
いられうる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート
、ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン
、ポリビニルブチラール、ポリカーボネートなどの重合
体フィルム、合成紙、鉄などの金属フィルムなどが用い
られうる。また、これらの積層体も用いられうる。この
シート基材９の膜厚は１〜２００μ巾、望ましくは１０
〜５０μｍであることが好ましい。As the sheet base material 9, any film-like material can be used. Specifically, polymer films such as polyethylene terephthalate, polyimide, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl butyral, and polycarbonate, synthetic paper, and metal films such as iron may be used. Moreover, a laminate of these may also be used. The film thickness of this sheet base material 9 is 1 to 200 μm wide, preferably 10 μm wide.
It is preferable that it is 50 micrometers.
ホログラム層３は、熱可塑性樹脂の外、熱成形性を有す
る紫外線または電子線で硬化する樹脂あるいは熱成形性
を有する熱硬化樹脂で構成されており、これら樹脂の表
面にホログラムが凹凸模様で形成されている。The hologram layer 3 is made of a thermoplastic resin, a resin that is cured by ultraviolet rays or an electron beam, or a thermosetting resin that has thermoformability, in addition to a thermoplastic resin, and a hologram is formed on the surface of these resins in an uneven pattern. has been done.
このホログラム層３は、先に述べたような方法により、
物体からの光の波面に相当する干渉縞又は回折格子が凹
凸模様で表面に形成されたホログラム又は回折格子原版
を用いた複製法により形成する。This hologram layer 3 is formed by the method described above.
It is formed by a replication method using a hologram or diffraction grating original plate on which interference fringes or diffraction gratings corresponding to the wavefront of light from an object are formed in an uneven pattern.
ホログラム層３の厚みは、０．１〜５０μｍ１望ましく
は０．５〜５μｍであることが好ましい。The thickness of the hologram layer 3 is preferably 0.1 to 50 μm, preferably 0.5 to 5 μm.
本発明に使用可能なホログラム層用の樹脂は、ホログラ
ムの成形（複製）時には熱成形可能であり、ホログラム
成形後つまり転写時には、転写の際の熱に耐えるだけの
耐熱性を有することが必要である。このような樹脂とし
ては、塩化ビニル、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポ
リエチレンテレフタレート等の熱可塑性樹脂の外、いわ
ゆる紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、熱硬化、自然硬
化型の反応性の樹脂などが用いられつる。The resin for the hologram layer that can be used in the present invention can be thermoformed during hologram molding (duplication), and after hologram molding, that is, during transfer, it must have heat resistance sufficient to withstand the heat during transfer. be. Examples of such resins include thermoplastic resins such as vinyl chloride, polystyrene, polypropylene, and polyethylene terephthalate, as well as so-called ultraviolet curable resins, electron beam curable resins, and thermosetting and naturally curing reactive resins. .
特に、本発明においては、電子線、紫外線等を照射する
か、または加熱することによりプレキュアする樹脂であ
って、かつホログラムのレリーフ型押しによる加熱加圧
成型では、型面に形成されたレリーフ凹凸形状を忠実に
形成でき、その後電子線あるいは紫外線を照射すること
により完全に硬化する樹脂が好適に用いられる。In particular, in the present invention, the resin is pre-cured by irradiation with electron beams, ultraviolet rays, etc., or by heating, and in heat-pressure molding by hologram relief embossing, the relief unevenness formed on the mold surface is A resin that can be accurately formed into a shape and is completely cured by irradiation with an electron beam or ultraviolet rays is preferably used.
このような樹脂としては、電子線硬化性樹脂、紫外線硬
化性樹脂または熱硬化性樹脂、具体的には、ラジカル重
合性不飽和基を有する次の２種類の樹脂を用いることが
できる。As such a resin, an electron beam curable resin, an ultraviolet ray curable resin, or a thermosetting resin, specifically, the following two types of resins having a radically polymerizable unsaturated group can be used.
（１）ラジカル重合性不飽和基を有するポリマーで、水
酸基、カルボキシル基、エポキシ基、アジリジニル基、
アミノ基、スルフォン基、イソシアネート基等の反応基
の少なくとも１つを有するアクリル樹脂、ポリエステル
樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレン樹脂、メラミン
樹脂等のポリマーまたはプレポリマーに、以下に述べる
（ａ）〜（ｄ）による反応で、ラジカル重合性不飽和基
を導入することによって作成されるもの。(1) A polymer having a radically polymerizable unsaturated group, such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group, an aziridinyl group,
The following (a) to (d) are added to polymers or prepolymers such as acrylic resins, polyester resins, polyurethane resins, polystyrene resins, and melamine resins having at least one reactive group such as an amino group, a sulfone group, or an isocyanate group. is created by introducing a radically polymerizable unsaturated group.
（ａ）水酸基を有する前記ポリマーまたはプレポリマー
の場合には、（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基を
有する単量体等を縮合反応させる。(a) In the case of the polymer or prepolymer having a hydroxyl group, a monomer having a carboxyl group such as (meth)acrylic acid is subjected to a condensation reaction.
（ｂ）カルボキシル基、スルフォン基を有する前記ポリ
マーまたはプレポリマーの場合には、水酸基を有する（
メタ）アクリル酸エステル誘導体と縮合反応させる。(b) In the case of the polymer or prepolymer having a carboxyl group or a sulfone group, the polymer or prepolymer has a hydroxyl group (
A condensation reaction is performed with a meth)acrylic acid ester derivative.
（Ｃ）エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジ
ニル基を有する前記ポリマーまたはプレポリマーの場合
には、水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステル誘導
体もしくは（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基を有
する単量体を付加させる。(C) In the case of the above polymer or prepolymer having an epoxy group, isocyanate group or aziridinyl group, a monomer having a carboxyl group such as a (meth)acrylic acid ester derivative having a hydroxyl group or (meth)acrylic acid is added. let
（ｄ）水酸基あるいはカルボキシル基を有する前記ポリ
マーまたはプレポリマーの場合には、エポキシ基を有す
る単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるい
はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エス
テル単量体のｌ対１モルの付加物を付加反応させる。(d) In the case of the above polymer or prepolymer having a hydroxyl group or a carboxyl group, the ratio of a monomer having an epoxy group or a monomer having an aziridinyl group or a diisocyanate compound to an acrylic acid ester monomer containing a hydroxyl group is 1:1. Moles of adducts undergo an addition reaction.
上記各反応を行うには、微量のハイドロキノン等の重合
禁止材を加え乾燥空気を送りながら行うことが好ましい
。To carry out each of the above reactions, it is preferable to add a small amount of a polymerization inhibitor such as hydroquinone and carry out the reaction while blowing dry air.
（２）ラジカル重合性不飽和基を有する化合物、具体的
には、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル
、メタクリル酸エステル、アクリルアミド、メタクリル
アミド等の誘導体のモノマーまたはオリゴマーの単体ま
たは混合物が好ましい。(2) Compounds having a radically polymerizable unsaturated group, specifically monomers or oligomers of derivatives such as acrylic acid, methacrylic acid, acrylic esters, methacrylic esters, acrylamide, methacrylamide, etc. alone or in mixtures are preferred.
また、上記のものは電子線により充分に硬化可能である
が、紫外線照射で硬化させる場合には、増感材として、
ベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル
等のベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン
類、ビアセチル類等の紫外線照射によりラジカルを発生
するものを用いることができる。In addition, although the above materials can be sufficiently cured by electron beams, when curing by ultraviolet irradiation, as a sensitizing material,
Those that generate radicals upon UV irradiation, such as benzoquinone, benzoin, benzoin ethers such as benzoin methyl ether, halogenated acetophenones, and biacetyls, can be used.
オーバーシート５は、ホログラム層３を保護するととも
にカード全体の機械的強度を上げる働きをしており、ホ
ログラム層３を外部から見える状態に保つために透明度
の高い材料から構成されていることが好ましい。このオ
ーバーシート５としては、ポリ塩化ビニル、ポリエステ
ル、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アミド系樹脂、
ウレタン系樹脂などを用いることができる。オーバーシ
ート５の膜厚は、０．２〜２００μｍであることが好ま
しい。The oversheet 5 serves to protect the hologram layer 3 and increase the mechanical strength of the entire card, and is preferably made of a highly transparent material in order to keep the hologram layer 3 visible from the outside. . This oversheet 5 may include polyvinyl chloride, polyester, acrylic resin, epoxy resin, amide resin,
Urethane resin or the like can be used. The thickness of the oversheet 5 is preferably 0.2 to 200 μm.
接着剤層６は、ホログラム層３及び反射層４をカード基
材２上に接着させる役割を果たしている。The adhesive layer 6 serves to adhere the hologram layer 3 and the reflective layer 4 onto the card base material 2.
接着剤層としては、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポ
リエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エ
ポキシ系樹脂などの従来接着剤層として既知のもが広く
使用できる。その他、多くの粘着剤も使用できる。この
接着剤層５の膜厚は、０．１〜５０μｍ、望ましくは０
．５〜１０μｍであることが好ましい。As the adhesive layer, a wide variety of conventional adhesive layers such as acrylic resin, vinyl resin, polyester resin, urethane resin, amide resin, and epoxy resin can be used. Many other adhesives can also be used. The thickness of this adhesive layer 5 is 0.1 to 50 μm, preferably 0.
．． It is preferable that it is 5-10 micrometers.
オーバープリント層１１は、ホログラム層３と剥離層ｌ
Ｏとの間に接着性を高め、しかもホログラムに耐久性を
与える役割を果たしている。オーバープリント層１１と
しては、硬化型アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ビ
ニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、オ
レフィン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂などの
従来オーバープリント層として既知のものが広く使用で
きる。このオーバープリント層１１の膜厚は、０゜０５
〜ｌＯμｍ１望ましくは０．２〜２μｍであることが好
ましい。The overprint layer 11 includes the hologram layer 3 and the release layer l.
It plays the role of increasing adhesiveness with O and also providing durability to the hologram. The overprint layer 11 may be a material known as a conventional overprint layer such as a curable acrylic resin, a cellulose resin, a vinyl resin, a polyester resin, a urethane resin, an olefin resin, an amide resin, or an epoxy resin. can be widely used. The thickness of this overprint layer 11 is 0°05
~lOμm1, preferably 0.2 to 2μm.
アンカー層７は、反射層４と接着剤層６との間に接着性
を高める役割を果たしている。アンカー層７としては、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル系樹脂、ウ
レタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、
などの従来アンカー層として既知のものが広く使用でき
る。この“アンカー層の膜厚は、０．０２〜１０μｍ、
望ましくは０．２〜２μｍであることが好ましい。The anchor layer 7 plays a role in increasing the adhesiveness between the reflective layer 4 and the adhesive layer 6. As the anchor layer 7,
Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, polyester resin,
A wide variety of conventional anchor layers, such as, can be used. The thickness of this anchor layer is 0.02 to 10 μm,
The thickness is preferably 0.2 to 2 μm.
剥離層１０は、シート基材９とホログラム層３との間に
Ｎ離性を与えしかも転写後の表面の印刷適性およびホロ
グラム層の保護などを与えるための役割を果たしている
。剥離層１０としては、アクリル系樹脂、セルロース系
樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系
樹脂、オレフィン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹
脂などの従来剥離層としての既知のものが広く使用でき
る。The release layer 10 serves to provide N release properties between the sheet base material 9 and the hologram layer 3, and also to provide printability of the surface after transfer and protection of the hologram layer. As the release layer 10, materials known as conventional release layers such as acrylic resin, cellulose resin, vinyl resin, polyester resin, urethane resin, olefin resin, amide resin, and epoxy resin are widely used. can.
この剥離層６の膜厚は、０．０５〜ｌＯμの、好ましく
は０．２〜２μ田であることが好まし７い。The thickness of this peeling layer 6 is preferably 0.05 to 10μ, preferably 0.2 to 2μ.
ホログラム層３が上記の剥ｆｉ層としての役割を果たす
場合には、基本的には剥離層は不要である。When the hologram layer 3 serves as the above-mentioned release layer, the release layer is basically unnecessary.
なお、本発明においては、「カード」又は「カード類」
とは、クレジットカード、バンクカード等の狭義のカー
ドに加えて、銀行通帳等をも含めて意味するものである
。In addition, in the present invention, "card" or "cards"
In addition to cards in a narrow sense such as credit cards and bank cards, this also includes bank passbooks and the like.
本発明においては、上記したように、微細な蒸着部が非
蒸着部によって遮断されている海・島構造の金属蒸着層
をプラスチック素材表面に形成したホログラム又は回折
格子の凹凸模様上の反射層として用いているため、反射
層は十分な反射性を有しており、ホログラム又は回折格
子の回折効率が高く、ホログラム像又は回折色を鮮やか
に再現する。そして、反射層は絶縁性であるため、ホロ
グラム又は回折格子柄フィルムを用いた本発明のカード
類を積み重ねておいてもコンデンサーを形成して静電気
を持つことはなく、書込読出機を破壊することはない。In the present invention, as described above, a metal vapor deposited layer with a sea/island structure in which fine vapor deposited areas are blocked by non-evaporated areas is used as a reflective layer on the uneven pattern of a hologram or diffraction grating formed on the surface of a plastic material. Because of this, the reflective layer has sufficient reflectivity, the diffraction efficiency of the hologram or diffraction grating is high, and the hologram image or diffraction color is vividly reproduced. Since the reflective layer is insulating, even if the cards of the present invention using hologram or diffraction grid pattern films are stacked, they will not form a capacitor and have static electricity, which will destroy the read/write device. Never.
また、カード類の中にＩＣ等の電子部品を埋め込んでも
、導通による問題は発生しない。さらに、カード類に文
字等をエンボスしても、割れが発生して白い地肌が目立
つようなことはなく、ホログラム又は回折格子柄フィル
ムを転写又は貼着したカード類の商品価値を阻害しない
。Furthermore, even if electronic components such as ICs are embedded in cards, problems due to conduction will not occur. Furthermore, even if letters or the like are embossed on cards, cracks will not occur and the white background will not stand out, and the commercial value of cards to which holograms or diffraction grid pattern films have been transferred or adhered will not be impaired.
第１図は本発明のホログラム及び回折格子柄付カードの
１実施例の断面図、第２図は他の実施例の断面図、第３
図は本発明のカード用フィルムの反射層に用いる海・島
構造の金属蒸着層の例の拡大平面図、第４図は本発明の
カードに用いるホログラム又は回折格子柄転写フィルム
の１例及び従来例の構成を示す断面図、第５図は転写型
フィルムの他の例及び従来例の構成を示す断面図、第６
図は本発明のカードに用いる貼合型フィルムの１例及び
従来例の構成を示す断面図である。
１：カード、２：カード基材、３：ホログラム又は回折
格子層、４：反射層、５：オーバシート、６：接着材層
、７：アンカー層、９：シート基材、１０：剥離層、１
１オ一バプリント層、１２：剥離紙、１３：コア、１４
：オーバシート、１９：蒸着部、１９：非蒸着部：２Ｑ
：転写型フィルム、３０：貼合型フィルム
出 願 人 大日本印刷株式会社FIG. 1 is a cross-sectional view of one embodiment of a card with a hologram and a diffraction grating pattern according to the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of another embodiment, and FIG.
The figure is an enlarged plan view of an example of a metal vapor deposited layer with a sea/island structure used as the reflective layer of the card film of the present invention, and Figure 4 is an example of a hologram or diffraction grid pattern transfer film used in the card of the present invention and a conventional FIG. 5 is a cross-sectional view showing the structure of an example, FIG. 5 is a cross-sectional view showing the structure of another example of a transfer film and a conventional example,
The figure is a sectional view showing an example of the structure of a bonded film used in the card of the present invention and a conventional example. 1: card, 2: card base material, 3: hologram or diffraction grating layer, 4: reflective layer, 5: oversheet, 6: adhesive layer, 7: anchor layer, 9: sheet base material, 10: release layer, 1
1 Overprint layer, 12: Release paper, 13: Core, 14
: Oversheet, 19: Evaporation part, 19: Non-evaporation part: 2Q
: Transfer type film, 30: Laminated type film Applicant: Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Claims (10)
状の絵柄として表面に記録してあるプラスチックフィル
ムであってその凹凸形状表面に反射層を有するフィルム
を転写又は貼着してなるホログラム及び回折格子柄付カ
ードにおいて、上記反射層として、微細な蒸着部が非蒸
着部によって遮断されている海・島構造の金属蒸着層か
らなる反射層を用いていることを特徴とするホログラム
及び回折格子柄付カード。(1) A hologram and a diffraction pattern obtained by transferring or pasting a film having a reflective layer on the surface of a plastic film on which the interference fringes of a hologram or the grating of a diffraction grating are recorded as an uneven pattern. A card with a checkered pattern, characterized in that the reflective layer is a reflective layer made of a metal vapor deposited layer with a sea/island structure in which fine vapor deposited parts are blocked by non-deposited parts. Attached card.
子の格子を凹凸形状の絵柄として表面に記録してある金
型をプラスチックフィルムに加圧密着して、その凹凸模
様をエンボス複製し、複製されたプラスチック層の凹凸
面上に前記の海・島構造の金属蒸着層を形成したもので
あることを特徴とする請求項１記載のホログラム及び回
折格子柄付カード。(2) The film is made by pressurizing and closely contacting a plastic film with a mold on which the interference fringes of a hologram or the lattice of a diffraction grating are recorded as an uneven pattern on the surface, and the uneven pattern is embossed and duplicated. 2. The card with a hologram and diffraction grating pattern according to claim 1, wherein the metal vapor deposited layer having the sea/island structure is formed on the uneven surface of the plastic layer.
記の海・島構造の金属蒸着層を直接蒸着するか、樹脂箔
上に前記の海・島構造の金属蒸着層を蒸着してこの箔を
プラスチックフィルムに貼り付けるか、又は、一旦他の
基板に前記の海・島構造の金属蒸着層を蒸着して、この
蒸着層をプラスチックフィルム上に転写して形成した前
記の海・島構造の金属蒸着層を表面に有するプラスチッ
クフィルム上に、前記金属蒸着層側からホログラムの干
渉縞又は回折格子の格子を凹凸形状の絵柄として表面に
記録してある金型を加圧密着して、その凹凸模様をエン
ボス複製して形成したものであることを特徴とする請求
項１記載のホログラム及び回折格子柄付カード。(3) The film can be made by directly depositing the metal vapor deposition layer with the sea/island structure on the plastic film in advance, or by vapor depositing the metal vapor deposition layer with the sea/island structure onto a resin foil and then using this foil as a plastic film. Or, the metal vapor deposited layer with the sea/island structure is formed by first vapor depositing the metal vapor deposited layer with the sea/island structure on another substrate, and then transferring this vapor deposited layer onto a plastic film. A mold having interference fringes of a hologram or gratings of a diffraction grating recorded on the surface as an uneven pattern is pressed and adhered to the plastic film having the above-mentioned metal vapor deposited layer on the surface, and the uneven pattern is embossed. The card with a hologram and diffraction grating pattern according to claim 1, which is formed by duplication.
、金属蒸着膜をエッチングして形成したものであること
を特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載のホロ
グラム及び回折格子柄付カード。(4) The hologram according to any one of claims 1 to 3, wherein the reflective layer made of a metal vapor deposited layer having a sea/island structure is formed by etching a metal vapor deposited film. and a card with a diffraction grid pattern.
、金属蒸着膜のリフトオフ加工により形成したものであ
ることを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載
のホログラム及び回折格子柄付カード。(5) The hologram according to any one of claims 1 to 3, wherein the reflective layer made of a metal vapor deposited layer having a sea/island structure is formed by lift-off processing of a metal vapor deposited film. and a card with a diffraction grid pattern.
非蒸着部が規則的に配置されていることを特徴とする請
求項４又は５記載のホログラム及び回折格子柄付カード
。(6) The card with a hologram and diffraction grating pattern according to claim 4 or 5, wherein the fine vapor-deposited portions and non-deposited portions of the metal vapor-deposited layer having the sea/island structure are regularly arranged.
非蒸着部が不規則に配置されていることを特徴とする請
求項４又は５記載のホログラム及び回折格子柄付カード
。(7) The card with a hologram and diffraction grating pattern according to claim 4 or 5, wherein the fine vapor-deposited portions and non-deposited portions of the metal vapor-deposited layer having the sea/island structure are irregularly arranged.
、蒸着条件を選択することにより直接形成したものであ
ることを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載
のホログラム及び回折格子柄付カード。(8) The reflective layer according to any one of claims 1 to 3, wherein the reflective layer made of a metal vapor deposited layer having a sea/island structure is directly formed by selecting vapor deposition conditions. Cards with hologram and diffraction grating patterns.
記載のホログラム及び回折格子柄付カード。(9) Claim 8 characterized in that the vapor-deposited metal is tin.
Card with hologram and diffraction grating pattern as described.
脂、熱成形性を有する紫外線硬化樹脂、熱成形性を有す
る電子線硬化樹脂、熱成形性を有する熱硬化樹脂の何れ
かからなることを特徴とする請求項１から９の何れか１
項に記載のホログラム及び回折格子柄付カード。(10) The plastic film material is characterized by being made of any one of a thermoplastic resin, a thermoformable ultraviolet curable resin, a thermoformable electron beam curable resin, and a thermoformable thermoset resin. Any one of claims 1 to 9
Cards with holograms and diffraction gratings as described in section.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26741889A JPH03129382A (en) | 1989-10-14 | 1989-10-14 | Hologram and card with diffraction grating pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26741889A JPH03129382A (en) | 1989-10-14 | 1989-10-14 | Hologram and card with diffraction grating pattern |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03129382A true JPH03129382A (en) | 1991-06-03 |
Family
ID=17444575
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26741889A Pending JPH03129382A (en) | 1989-10-14 | 1989-10-14 | Hologram and card with diffraction grating pattern |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03129382A (en) |
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-
1989
- 1989-10-14 JP JP26741889A patent/JPH03129382A/en active Pending
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