JP2000046400A - クリーンルーム用外気処理装置 - Google Patents
クリーンルーム用外気処理装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】高度に清浄化を行う処理能力を有しつつランニ
ングコストの低減を図ることができるクリーンルーム用
外気処理装置を提供することを課題とする。 【解決手段】上流側から、粗塵フィルタ１、純水を洗浄
水としたエアスクラバ２、及び第１、第２ケミカルフィ
ルタ３，４を直列に接続すると共に、各エアフィルタを
それぞれ迂回するバイパスダクト１１〜１３を備える。
各エアフィルタへの気体の流れは、電磁開閉弁１４〜２
３によって上記バイパスダクト１１〜１３側に流入可能
となっている。粗塵フィルタ１の出側で各エアフィルタ
２，３，４の除去対象物質の気中濃度をモニタ２５で監
視し、各除去対象物質の気中濃度が所定閾値以下の場合
には、気流をバイパスダクト１１〜１３側に迂回させ
る。
ングコストの低減を図ることができるクリーンルーム用
外気処理装置を提供することを課題とする。 【解決手段】上流側から、粗塵フィルタ１、純水を洗浄
水としたエアスクラバ２、及び第１、第２ケミカルフィ
ルタ３，４を直列に接続すると共に、各エアフィルタを
それぞれ迂回するバイパスダクト１１〜１３を備える。
各エアフィルタへの気体の流れは、電磁開閉弁１４〜２
３によって上記バイパスダクト１１〜１３側に流入可能
となっている。粗塵フィルタ１の出側で各エアフィルタ
２，３，４の除去対象物質の気中濃度をモニタ２５で監
視し、各除去対象物質の気中濃度が所定閾値以下の場合
には、気流をバイパスダクト１１〜１３側に迂回させ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体工場などの
クリーンルームに清浄な外気を導入するために設けられ
て、外気中の塵埃や特定の不要ガス成分を除去するクリ
ーンルーム用外気処理装置に関する。
クリーンルームに清浄な外気を導入するために設けられ
て、外気中の塵埃や特定の不要ガス成分を除去するクリ
ーンルーム用外気処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造関連の工場やバイオケミカル
系の研究所等で使用されるクリーンルームにあっては、
空気中に含まれる微量物質や特定のガス成分を高レベル
で除去して給気するために、例えば図３に示すような設
備で、導入した外気を、外気処理装置５０で清浄化処理
をした後に、空気調和機５１及び室内の天井面等に設け
た高性能フィルタ５２を介してクリーンルーム５３内に
給気する。
系の研究所等で使用されるクリーンルームにあっては、
空気中に含まれる微量物質や特定のガス成分を高レベル
で除去して給気するために、例えば図３に示すような設
備で、導入した外気を、外気処理装置５０で清浄化処理
をした後に、空気調和機５１及び室内の天井面等に設け
た高性能フィルタ５２を介してクリーンルーム５３内に
給気する。
【０００３】そして、従来の上記外気処理装置５０で
は、目標とする外気の清浄化レベルや処理内容に応じ
て、エアフィルタ５０ａとして、ケミカルフィルタが設
置されたり、エアスクラバが設置される。また、高度の
清浄化を要する場合などでは、上記ケミカルフィルタと
エアスクラバの両方が使用される場合もある。
は、目標とする外気の清浄化レベルや処理内容に応じ
て、エアフィルタ５０ａとして、ケミカルフィルタが設
置されたり、エアスクラバが設置される。また、高度の
清浄化を要する場合などでは、上記ケミカルフィルタと
エアスクラバの両方が使用される場合もある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の外気処理装置５０にあっては、導入した外気の成分
内容や清浄度に関係なく、導入した外気が、常に設置し
た全てのエアフィルタ５０ａを通過するように構成され
ている。
来の外気処理装置５０にあっては、導入した外気の成分
内容や清浄度に関係なく、導入した外気が、常に設置し
た全てのエアフィルタ５０ａを通過するように構成され
ている。
【０００５】この結果、必要以上にエアフィルタ５０ａ
で外気処理を行うこととなり、その結果、フィルタの交
換期間や保守間隔が短くなるなど、ランニングコストが
掛かるという問題がある。
で外気処理を行うこととなり、その結果、フィルタの交
換期間や保守間隔が短くなるなど、ランニングコストが
掛かるという問題がある。
【０００６】また、上記エアスクラバの洗浄水として、
従来にあっては、飲料水と同程度の水質の工業用水や井
水などが使用されるが、この洗浄水中には、ケミカルフ
ィルタで除去すべき有機物等の成分が含有している場合
があり、当該ケミカルフィルタでの処理負荷が増えて寿
命がその分だけ短くなる。また、洗浄水内にケミカルフ
ィルタでの除去対象成分が含有していない場合であって
も、他の有機成分等が気中に取り込まれてケミカルフィ
ルタに不必要な負担を掛ける一因ともなる。
従来にあっては、飲料水と同程度の水質の工業用水や井
水などが使用されるが、この洗浄水中には、ケミカルフ
ィルタで除去すべき有機物等の成分が含有している場合
があり、当該ケミカルフィルタでの処理負荷が増えて寿
命がその分だけ短くなる。また、洗浄水内にケミカルフ
ィルタでの除去対象成分が含有していない場合であって
も、他の有機成分等が気中に取り込まれてケミカルフィ
ルタに不必要な負担を掛ける一因ともなる。
【０００７】本発明は、上記のような問題点に着目して
なされたもので、高度に清浄化を行う処理能力を有しつ
つランニングコストの低減を図ることができるクリーン
ルーム用外気処理装置を提供することを課題とするもの
である。
なされたもので、高度に清浄化を行う処理能力を有しつ
つランニングコストの低減を図ることができるクリーン
ルーム用外気処理装置を提供することを課題とするもの
である。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、外気を清浄化し、空調設備を通じてクリ
ーンルームに給気するための外気処理装置であって、上
流側から、粗塵フィルタ、純水を洗浄水としたエアスク
ラバ、及び１又は２以上のケミカルフィルタの各エアフ
ィルタを直列に接続すると共に、粗塵フィルタを除く各
エアフィルタをそれぞれ迂回するバイパス流路を備え、
さらに、粗塵フィルタを除く各エアフィルタへの気体の
流れの全部又は一部を上記バイパス流路側に切り換える
流路切換え手段と、上記粗塵フィルタの出側で当該粗塵
フィルタを通過した外気中に存在する各エアフィルタの
除去対象物質をそれぞれ連続的に検出するモニタと、上
記モニタによる検出に基づき各エアフィルタの除去対象
物質の気中濃度を判定し、各除去対象物質の気中濃度に
応じて対応するエアフィルタへの気体の流れの全部又は
一部を、上記流路切換え手段を通じて上記バイパス流路
側に迂回させるコントローラと、を備えることを特徴と
するクリーンルーム用外気処理装置を提供する。
に、本発明は、外気を清浄化し、空調設備を通じてクリ
ーンルームに給気するための外気処理装置であって、上
流側から、粗塵フィルタ、純水を洗浄水としたエアスク
ラバ、及び１又は２以上のケミカルフィルタの各エアフ
ィルタを直列に接続すると共に、粗塵フィルタを除く各
エアフィルタをそれぞれ迂回するバイパス流路を備え、
さらに、粗塵フィルタを除く各エアフィルタへの気体の
流れの全部又は一部を上記バイパス流路側に切り換える
流路切換え手段と、上記粗塵フィルタの出側で当該粗塵
フィルタを通過した外気中に存在する各エアフィルタの
除去対象物質をそれぞれ連続的に検出するモニタと、上
記モニタによる検出に基づき各エアフィルタの除去対象
物質の気中濃度を判定し、各除去対象物質の気中濃度に
応じて対応するエアフィルタへの気体の流れの全部又は
一部を、上記流路切換え手段を通じて上記バイパス流路
側に迂回させるコントローラと、を備えることを特徴と
するクリーンルーム用外気処理装置を提供する。
【０００９】本発明によれば、エアフィルタとしてエア
スクラバと各種のケミカルフィルタとを備えることで高
度の清浄化処理を行う能力を有すると共に、導入した外
気中の除去対象物質の気中濃度レベルに応じて必要以上
にエアフィルタでの処理を行わないか、その処理量を減
少させる。
スクラバと各種のケミカルフィルタとを備えることで高
度の清浄化処理を行う能力を有すると共に、導入した外
気中の除去対象物質の気中濃度レベルに応じて必要以上
にエアフィルタでの処理を行わないか、その処理量を減
少させる。
【００１０】また、エアスクラバの洗浄水として純水を
使用することで、洗浄水によってエアフィルタで除去す
べき除去対象物質その他の物質が気中に取り込まれるこ
とが防止される。この結果、ケミカルフィルタの処理を
中断しても、そのケミカルフィルタの除去対象物質が、
エアスクラバの洗浄水を原因としてクリーンルーム内に
侵入することが回避される。
使用することで、洗浄水によってエアフィルタで除去す
べき除去対象物質その他の物質が気中に取り込まれるこ
とが防止される。この結果、ケミカルフィルタの処理を
中断しても、そのケミカルフィルタの除去対象物質が、
エアスクラバの洗浄水を原因としてクリーンルーム内に
侵入することが回避される。
【００１１】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態を図面を
参照しつつ説明する。図１は、本実施形態に係る外気処
理装置の構成を説明するための図である。
参照しつつ説明する。図１は、本実施形態に係る外気処
理装置の構成を説明するための図である。
【００１２】外気処理装置は、粗塵フィルタ１、エアス
クラバ２、第１ケミカルフィルタ３、及び第２ケミカル
フィルタ４の順に、第１〜３接続ダクト６〜８を通じて
直列に接続されて構成され、第２ケミカルフィルタ４の
出口は、第４接続ダクト９を通じて空調設備５に接続す
る。
クラバ２、第１ケミカルフィルタ３、及び第２ケミカル
フィルタ４の順に、第１〜３接続ダクト６〜８を通じて
直列に接続されて構成され、第２ケミカルフィルタ４の
出口は、第４接続ダクト９を通じて空調設備５に接続す
る。
【００１３】ここで、図１中、符号１０はＯＡダクトを
示す。また、上記空調設備５を通過した空気は、高性能
フィルタ３１を通じてクリーンルーム３０に給気され、
クリーンルーム３０から排気された空気は、還気ダクト
３２を通じて空調設備５に戻される。
示す。また、上記空調設備５を通過した空気は、高性能
フィルタ３１を通じてクリーンルーム３０に給気され、
クリーンルーム３０から排気された空気は、還気ダクト
３２を通じて空調設備５に戻される。
【００１４】また、本実施形態にあっては、上記エアス
クラバ２の洗浄水として純水が使用されて、洗浄水によ
る処理によって不要な成分を処理中の気体に取り込まな
いようにしている。
クラバ２の洗浄水として純水が使用されて、洗浄水によ
る処理によって不要な成分を処理中の気体に取り込まな
いようにしている。
【００１５】また、上記第１接続ダクト６の途中から、
第１バイパスダクト１１が分岐し、その第１バイパスダ
クト１１の他端部は、上記第４接続ダクト９に合流して
いる。その第１バイパスダクト１１の途中から第２バイ
パスダクト１２が分岐し、その第２バイパスダクト１２
の他端部は、上記第２接続ダクト７に合流している。さ
らに、上記第２バイパスダクト１２の分岐点Ｐ５よりも
下流側で、上記第１バイパスダクト１１から第３バイパ
スダクト１３が分岐し、その第３バイパスダクト１３の
他端部は、第３接続ダクト８に合流している。
第１バイパスダクト１１が分岐し、その第１バイパスダ
クト１１の他端部は、上記第４接続ダクト９に合流して
いる。その第１バイパスダクト１１の途中から第２バイ
パスダクト１２が分岐し、その第２バイパスダクト１２
の他端部は、上記第２接続ダクト７に合流している。さ
らに、上記第２バイパスダクト１２の分岐点Ｐ５よりも
下流側で、上記第１バイパスダクト１１から第３バイパ
スダクト１３が分岐し、その第３バイパスダクト１３の
他端部は、第３接続ダクト８に合流している。
【００１６】この第１〜第３バイパスダクト１１〜１３
によって、各エアフィルタ２，３，４を迂回する各バイ
パス流路が形成される。また、第１接続ダクト６におけ
る第１バイパスダクト１１の分岐点Ｐ１よりも下流側に
第１電磁開閉弁１４が介装される。第２接続ダクト７に
おける第２バイパスダクト１２の合流点Ｐ２の前後に第
２電磁開閉弁１５及び第３電磁開閉弁１６が介装され
る。第３接続ダクト８における第３バイパスダクト１３
の合流点Ｐ３の前後に第４電磁開閉弁１７及び第５電磁
開閉弁１８が介装される。第４接続ダクト９における第
１バイパスダクト１１の合流点Ｐ４の上流側に第６電磁
開閉弁１９が介装される。
によって、各エアフィルタ２，３，４を迂回する各バイ
パス流路が形成される。また、第１接続ダクト６におけ
る第１バイパスダクト１１の分岐点Ｐ１よりも下流側に
第１電磁開閉弁１４が介装される。第２接続ダクト７に
おける第２バイパスダクト１２の合流点Ｐ２の前後に第
２電磁開閉弁１５及び第３電磁開閉弁１６が介装され
る。第３接続ダクト８における第３バイパスダクト１３
の合流点Ｐ３の前後に第４電磁開閉弁１７及び第５電磁
開閉弁１８が介装される。第４接続ダクト９における第
１バイパスダクト１１の合流点Ｐ４の上流側に第６電磁
開閉弁１９が介装される。
【００１７】また、第１バイパスダクト１１における、
第１接続ダクト６からの分岐点Ｐ１と第２バイパスダク
ト１２の分岐点Ｐ５との間、及び第３バイパスダクト１
３の分岐点Ｐ６と第４接続ダクト９への合流点Ｐ４との
間に、それぞれ第７電磁開閉弁２０、及び第８電磁開閉
弁２１が介装されている。
第１接続ダクト６からの分岐点Ｐ１と第２バイパスダク
ト１２の分岐点Ｐ５との間、及び第３バイパスダクト１
３の分岐点Ｐ６と第４接続ダクト９への合流点Ｐ４との
間に、それぞれ第７電磁開閉弁２０、及び第８電磁開閉
弁２１が介装されている。
【００１８】また、第２バイパスダクト１２の途中に第
９電磁開閉弁２２が、第３バイパスダクト１３の途中に
第１０電磁開閉弁２３が介装されている。ここで、上記
各電磁開閉弁１４〜２３は、初期状態では、第７電磁開
閉弁２０、第８電磁開閉弁２１、第９電磁開閉弁２２、
及び第１０電磁開閉弁２３は、閉状態に設定されてお
り、その他の電磁開閉弁１４〜１９は開状態に設定され
ている。そして、上記各電磁開閉弁１４〜２３によっ
て、流路切換え手段が構成される。
９電磁開閉弁２２が、第３バイパスダクト１３の途中に
第１０電磁開閉弁２３が介装されている。ここで、上記
各電磁開閉弁１４〜２３は、初期状態では、第７電磁開
閉弁２０、第８電磁開閉弁２１、第９電磁開閉弁２２、
及び第１０電磁開閉弁２３は、閉状態に設定されてお
り、その他の電磁開閉弁１４〜１９は開状態に設定され
ている。そして、上記各電磁開閉弁１４〜２３によっ
て、流路切換え手段が構成される。
【００１９】また、上記粗塵フィルタ１の出側に第１モ
ニタ２５が介装されている。第１モニタ２５は、独立し
た３つのモニタ本体Ａ，Ｂ，Ｃから構成され、各モニタ
本体Ａ，Ｂ，Ｃは、それぞれ上記エアスクラバ２、第１
ケミカルフィルタ３、及び第２ケミカルフィルタ４に対
応して、導入した外気内における、対応するエアフィル
タ２，３，４で除去すべき各除去対象物質の気中濃度を
それぞれ連続的に検出している。
ニタ２５が介装されている。第１モニタ２５は、独立し
た３つのモニタ本体Ａ，Ｂ，Ｃから構成され、各モニタ
本体Ａ，Ｂ，Ｃは、それぞれ上記エアスクラバ２、第１
ケミカルフィルタ３、及び第２ケミカルフィルタ４に対
応して、導入した外気内における、対応するエアフィル
タ２，３，４で除去すべき各除去対象物質の気中濃度を
それぞれ連続的に検出している。
【００２０】同様に、クリーンルーム３０内における上
記各除去対象物質の気中濃度を連続的に検出する第２モ
ニタ２６を備える。第２モニタ２６は、上記３種類の除
去対象物質に応じて３つのモニタ本体Ａ′，Ｂ′，Ｃ′
から構成される。なお、図１では、高性能フィルタ３１
を通過する前の調和空気をモニタしているが、高性能フ
ィルタ３１を通過した後の調和空気をモニタするように
してもよい。
記各除去対象物質の気中濃度を連続的に検出する第２モ
ニタ２６を備える。第２モニタ２６は、上記３種類の除
去対象物質に応じて３つのモニタ本体Ａ′，Ｂ′，Ｃ′
から構成される。なお、図１では、高性能フィルタ３１
を通過する前の調和空気をモニタしているが、高性能フ
ィルタ３１を通過した後の調和空気をモニタするように
してもよい。
【００２１】そして、コントローラ２７は、上記第１モ
ニタ２５からの検出信号に基づいて、各除去対象物質の
気中濃度が閾値以下かどうか判定を行い、上述の各電磁
開閉弁１４〜２３を次のように操作して外気処理の制御
を行う。次に、各弁１４〜２３の操作を図２を参照しつ
つ説明する。
ニタ２５からの検出信号に基づいて、各除去対象物質の
気中濃度が閾値以下かどうか判定を行い、上述の各電磁
開閉弁１４〜２３を次のように操作して外気処理の制御
を行う。次に、各弁１４〜２３の操作を図２を参照しつ
つ説明する。
【００２２】まず、エアスクラバ２、第１ケミカルフィ
ルタ３、及び第２ケミカルフィルタ４での各除去対象物
質の気中濃度がそれぞれ所定閾値以下かどうか判定し
て、全てのエアフィルタ２，３，４での各除去対象物質
の気中濃度が全て所定閾値以下と判定した場合には（図
２中の場合）、第１電磁開閉弁１４、第９電磁開閉弁
２２、及び第１０電磁開閉弁２３に閉指令を供給すると
共に、第７電磁開閉弁２０、及び第８電磁開閉弁２１に
開指令を供給する。
ルタ３、及び第２ケミカルフィルタ４での各除去対象物
質の気中濃度がそれぞれ所定閾値以下かどうか判定し
て、全てのエアフィルタ２，３，４での各除去対象物質
の気中濃度が全て所定閾値以下と判定した場合には（図
２中の場合）、第１電磁開閉弁１４、第９電磁開閉弁
２２、及び第１０電磁開閉弁２３に閉指令を供給すると
共に、第７電磁開閉弁２０、及び第８電磁開閉弁２１に
開指令を供給する。
【００２３】また、エアスクラバ２及び第１ケミカルフ
ィルタ３での各除去対象物質の気中濃度が所定閾値以下
と判定し、第２ケミカルフィルタ４での除去対象物質の
気中濃度が所定閾値よりも高いと判定した場合には（図
２中の場合）、第１電磁開閉弁１４、第４電磁開閉弁
１７、第９電磁開閉弁２２、及び第８電磁開閉弁２１に
閉指令を供給すると共に、第７電磁開閉弁２０、第１０
電磁開閉弁２３、第５電磁開閉弁１８、及び第６電磁開
閉弁１９に開指令を供給する。
ィルタ３での各除去対象物質の気中濃度が所定閾値以下
と判定し、第２ケミカルフィルタ４での除去対象物質の
気中濃度が所定閾値よりも高いと判定した場合には（図
２中の場合）、第１電磁開閉弁１４、第４電磁開閉弁
１７、第９電磁開閉弁２２、及び第８電磁開閉弁２１に
閉指令を供給すると共に、第７電磁開閉弁２０、第１０
電磁開閉弁２３、第５電磁開閉弁１８、及び第６電磁開
閉弁１９に開指令を供給する。
【００２４】また、エアスクラバ２での除去対象物質の
気中濃度が所定閾値以下と判定し、第１ケミカルフィル
タ３及び第２ケミカルフィルタ４での各除去対象物質の
気中濃度が所定閾値よりも高いと判定した場合には（図
２中の場合）、第１電磁開閉弁１４、第２電磁開閉弁
１５、第１０電磁開閉弁２３、及び第８電磁開閉弁２１
に閉指令を供給すると共に、第７電磁開閉弁２０、第９
電磁開閉弁２２、第３電磁開閉弁１６、第４電磁開閉弁
１７、第５電磁開閉弁１８、及び第６電磁開閉弁１９に
開指令を供給する。
気中濃度が所定閾値以下と判定し、第１ケミカルフィル
タ３及び第２ケミカルフィルタ４での各除去対象物質の
気中濃度が所定閾値よりも高いと判定した場合には（図
２中の場合）、第１電磁開閉弁１４、第２電磁開閉弁
１５、第１０電磁開閉弁２３、及び第８電磁開閉弁２１
に閉指令を供給すると共に、第７電磁開閉弁２０、第９
電磁開閉弁２２、第３電磁開閉弁１６、第４電磁開閉弁
１７、第５電磁開閉弁１８、及び第６電磁開閉弁１９に
開指令を供給する。
【００２５】また、エアスクラバ２及び第２ケミカルフ
ィルタ４での各除去対象物質の気中濃度が所定閾値以下
と判定し、第１ケミカルフィルタ３での除去対象物質の
気中濃度が所定閾値よりも高いと判定した場合には（図
２中の場合）、第１電磁開閉弁１４、第２電磁開閉弁
１５、第５電磁開閉弁１８、及び第６電磁開閉弁１９に
閉指令を供給すると共に、第７電磁開閉弁２０、第９電
磁開閉弁２２、第３電磁開閉弁１６、第４電磁開閉弁１
７、第１０電磁開閉弁２３、及び第８電磁開閉弁２１に
開指令を供給する。
ィルタ４での各除去対象物質の気中濃度が所定閾値以下
と判定し、第１ケミカルフィルタ３での除去対象物質の
気中濃度が所定閾値よりも高いと判定した場合には（図
２中の場合）、第１電磁開閉弁１４、第２電磁開閉弁
１５、第５電磁開閉弁１８、及び第６電磁開閉弁１９に
閉指令を供給すると共に、第７電磁開閉弁２０、第９電
磁開閉弁２２、第３電磁開閉弁１６、第４電磁開閉弁１
７、第１０電磁開閉弁２３、及び第８電磁開閉弁２１に
開指令を供給する。
【００２６】また、全てのエアフィルタ２，３，４での
各除去対象物質の気中濃度が全て，所定閾値より高いと
判定した場合には（図２中の場合）、各電磁開閉弁１
４〜２３を上述の初期状態に復帰させる。
各除去対象物質の気中濃度が全て，所定閾値より高いと
判定した場合には（図２中の場合）、各電磁開閉弁１
４〜２３を上述の初期状態に復帰させる。
【００２７】また、エアスクラバ２及び第１ケミカルフ
ィルタ３での各除去対象物質の気中濃度が所定閾値より
も高いと判定し、第２ケミカルフィルタ４での除去対象
物質の気中濃度が所定閾値以下と判定した場合には（図
２中の場合）、第７電磁開閉弁２０、第９電磁開閉弁
２２、第５電磁開閉弁１８、及び第６電磁開閉弁１９に
閉指令を供給すると共に、第１電磁開閉弁１４、第２電
磁開閉弁１５、第３電磁開閉弁１６、第４電磁開閉弁１
７、第１０電磁開閉弁２３、及び第８電磁開閉弁２１に
開指令を供給する。
ィルタ３での各除去対象物質の気中濃度が所定閾値より
も高いと判定し、第２ケミカルフィルタ４での除去対象
物質の気中濃度が所定閾値以下と判定した場合には（図
２中の場合）、第７電磁開閉弁２０、第９電磁開閉弁
２２、第５電磁開閉弁１８、及び第６電磁開閉弁１９に
閉指令を供給すると共に、第１電磁開閉弁１４、第２電
磁開閉弁１５、第３電磁開閉弁１６、第４電磁開閉弁１
７、第１０電磁開閉弁２３、及び第８電磁開閉弁２１に
開指令を供給する。
【００２８】また、エアスクラバ２及び第２ケミカルフ
ィルタ４での各除去対象物質の気中濃度が所定閾値より
も高いと判定し、第１ケミカルフィルタ３での除去対象
物質の気中濃度が所定閾値以下と判定した場合には（図
２中の場合）、第７電磁開閉弁２０、第８電磁開閉弁
２１、第３電磁開閉弁１６、及び第４電磁開閉弁１７に
閉指令を供給すると共に、第１電磁開閉弁１４、第２電
磁開閉弁１５、第９電磁開閉弁２２、第１０電磁開閉弁
２３、第５電磁開閉弁１８、及び第６電磁開閉弁１９に
開指令を供給する。
ィルタ４での各除去対象物質の気中濃度が所定閾値より
も高いと判定し、第１ケミカルフィルタ３での除去対象
物質の気中濃度が所定閾値以下と判定した場合には（図
２中の場合）、第７電磁開閉弁２０、第８電磁開閉弁
２１、第３電磁開閉弁１６、及び第４電磁開閉弁１７に
閉指令を供給すると共に、第１電磁開閉弁１４、第２電
磁開閉弁１５、第９電磁開閉弁２２、第１０電磁開閉弁
２３、第５電磁開閉弁１８、及び第６電磁開閉弁１９に
開指令を供給する。
【００２９】また、エアスクラバ２での除去対象物質の
気中濃度が所定閾値よりも高いと判定し、第１ケミカル
フィルタ３及び第２ケミカルフィルタ４での各除去対象
物質の気中濃度が所定閾値以下と判定した場合には（図
２中の場合）、第７電磁開閉弁２０、第１０電磁開閉
弁２３、第３電磁開閉弁１６、及び第６電磁開閉弁１９
に閉指令を供給すると共に、第１電磁開閉弁１４、第２
電磁開閉弁１５、第９電磁開閉弁２２、及び第８電磁開
閉弁２１に開指令を供給する。
気中濃度が所定閾値よりも高いと判定し、第１ケミカル
フィルタ３及び第２ケミカルフィルタ４での各除去対象
物質の気中濃度が所定閾値以下と判定した場合には（図
２中の場合）、第７電磁開閉弁２０、第１０電磁開閉
弁２３、第３電磁開閉弁１６、及び第６電磁開閉弁１９
に閉指令を供給すると共に、第１電磁開閉弁１４、第２
電磁開閉弁１５、第９電磁開閉弁２２、及び第８電磁開
閉弁２１に開指令を供給する。
【００３０】ここで、各除去対象物質の所定閾値は、そ
れぞれ第１の閾値と、その第１の閾値よりも大きい第２
の閾値とからなり、上述の所定閾値以下かどうかの判定
は、第１の閾値で判定し、所定閾値より高いかどうかの
判定は第２の閾値で判定する。また、上記判定は、所定
サンプリング時間単位に行われ、前回の判定結果と異な
る場合に、上記各弁操作が行われる。
れぞれ第１の閾値と、その第１の閾値よりも大きい第２
の閾値とからなり、上述の所定閾値以下かどうかの判定
は、第１の閾値で判定し、所定閾値より高いかどうかの
判定は第２の閾値で判定する。また、上記判定は、所定
サンプリング時間単位に行われ、前回の判定結果と異な
る場合に、上記各弁操作が行われる。
【００３１】さらに、上記コントローラ２７では、上記
第１モニタ２５及び第２モニタ２６からの信号に基づ
き、各除去対象物質についての処理前（粗塵フィルタ１
での処理後）の気中濃度とクリーンルーム３０での処理
後の気中濃度に基づき、各エアフィルタ２，３，４での
現実の除去能力を評価して、各除去対象物質についての
閾値の補正を行うと共に、除去能力が所定以上に低下し
ていると判定した場合には、その旨の警告信号を出力す
る。
第１モニタ２５及び第２モニタ２６からの信号に基づ
き、各除去対象物質についての処理前（粗塵フィルタ１
での処理後）の気中濃度とクリーンルーム３０での処理
後の気中濃度に基づき、各エアフィルタ２，３，４での
現実の除去能力を評価して、各除去対象物質についての
閾値の補正を行うと共に、除去能力が所定以上に低下し
ていると判定した場合には、その旨の警告信号を出力す
る。
【００３２】上記構成の外気処理装置では、各エアフィ
ルタ２，３，４で処理を行う前に対応する除去対象物質
の気中濃度が所定閾値以下かどうか判定し、その結果、
それぞれ除去対象物質の気中濃度が所定閾値以下と判定
した場合には対応するエアフィルタ２，３，４での処理
を一時的に中断するので、各エアフィルタ２，３，４で
必要以上に処理をすることがなくなる。この結果、各エ
アフィルタ２，３，４の寿命が向上し、フィルタ交換期
間や保守間隔が長くなることで、外気処理装置のランニ
ングコストの低減を図ることができる。
ルタ２，３，４で処理を行う前に対応する除去対象物質
の気中濃度が所定閾値以下かどうか判定し、その結果、
それぞれ除去対象物質の気中濃度が所定閾値以下と判定
した場合には対応するエアフィルタ２，３，４での処理
を一時的に中断するので、各エアフィルタ２，３，４で
必要以上に処理をすることがなくなる。この結果、各エ
アフィルタ２，３，４の寿命が向上し、フィルタ交換期
間や保守間隔が長くなることで、外気処理装置のランニ
ングコストの低減を図ることができる。
【００３３】このとき、エアスクラバ２の洗浄水として
純水を使用することで、エアスクラバ２で処理をした際
に、気中に不必要な成分を侵入させることが回避され
る。この結果、洗浄水に起因する下流のケミカルフィル
タ３，４での処理負荷の増加が防止されると共に、その
ケミカルフィルタ３，４での除去対象物質が所定閾値以
下と判定して当該ケミカルフィルタ３，４での処理を中
断しても問題がない。
純水を使用することで、エアスクラバ２で処理をした際
に、気中に不必要な成分を侵入させることが回避され
る。この結果、洗浄水に起因する下流のケミカルフィル
タ３，４での処理負荷の増加が防止されると共に、その
ケミカルフィルタ３，４での除去対象物質が所定閾値以
下と判定して当該ケミカルフィルタ３，４での処理を中
断しても問題がない。
【００３４】また、本実施形態の外気処理装置では、エ
アスクラバ２と各種のケミカルフィルタ３，４とを併用
することで、高度の清浄化処理能力を持たせることがで
きる。
アスクラバ２と各種のケミカルフィルタ３，４とを併用
することで、高度の清浄化処理能力を持たせることがで
きる。
【００３５】さらに、モニタ２５，２６を通じて各エア
フィルタ２，３，４の寿命を判定可能であるので、不必
要なエアフィルタ２，３，４の交換を防止することもで
きる。
フィルタ２，３，４の寿命を判定可能であるので、不必
要なエアフィルタ２，３，４の交換を防止することもで
きる。
【００３６】ここで、第２電磁開閉弁１５、第４電磁開
閉弁１７、及び第６電磁開閉弁１９については逆止め弁
を使用してもよい。また、上記実施形態では、各エアフ
ィルタ２，３，４を迂回するバイパスダクトが独立して
いないが、各エアフィルタ２，３，４毎に独立してバイ
パスダクトを設けてもよい。
閉弁１７、及び第６電磁開閉弁１９については逆止め弁
を使用してもよい。また、上記実施形態では、各エアフ
ィルタ２，３，４を迂回するバイパスダクトが独立して
いないが、各エアフィルタ２，３，４毎に独立してバイ
パスダクトを設けてもよい。
【００３７】また、上記各開閉弁の代わりに流量制御弁
を採用し、対応する除去対象物質の気中濃度に基づき、
上述のコントローラ２７による制御と同様な操作によ
り、各流量制御弁の弁開度を制御してもよい。例えばエ
アスクラバ２での除去対象物質の気中濃度に対する閾値
を多段階に有して、除去対象物の気中濃度に応じて第１
電磁開閉弁１４の開度を絞り且つ第７電磁開閉弁２０を
所定量だけ開くことで、一部の気流を第１バイパスダク
ト１１側に流して、エアスクラバ２での処理量を減ら
す。
を採用し、対応する除去対象物質の気中濃度に基づき、
上述のコントローラ２７による制御と同様な操作によ
り、各流量制御弁の弁開度を制御してもよい。例えばエ
アスクラバ２での除去対象物質の気中濃度に対する閾値
を多段階に有して、除去対象物の気中濃度に応じて第１
電磁開閉弁１４の開度を絞り且つ第７電磁開閉弁２０を
所定量だけ開くことで、一部の気流を第１バイパスダク
ト１１側に流して、エアスクラバ２での処理量を減ら
す。
【００３８】また、上記実施形態では、ケミカルフィル
タを２種類，接続した場合を例に説明しているが、ケミ
カルフィルタは１種類でもよいし、３種類以上であって
も構わない。
タを２種類，接続した場合を例に説明しているが、ケミ
カルフィルタは１種類でもよいし、３種類以上であって
も構わない。
【００３９】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明の外気
処理装置では、高度の清浄化処理能力を有しつつランニ
ングコストを低減することができるという効果がある。
処理装置では、高度の清浄化処理能力を有しつつランニ
ングコストを低減することができるという効果がある。
【００４０】しかも、エアスクラバの洗浄水として純水
を使用することで、洗浄水として井水等を使用する場合
に比べて各ケミカルフィルタでの負荷を軽減できると共
に、当該ケミカルフィルタでの外気処理を一時中断した
場合であっても、該洗浄水を原因として、除去対象物質
がクリーンルームに侵入することが防止される。
を使用することで、洗浄水として井水等を使用する場合
に比べて各ケミカルフィルタでの負荷を軽減できると共
に、当該ケミカルフィルタでの外気処理を一時中断した
場合であっても、該洗浄水を原因として、除去対象物質
がクリーンルームに侵入することが防止される。
【図１】本発明の実施の形態に係る外気処理のシステム
構成例を示す図である。
構成例を示す図である。
【図２】コントローラでの弁制御を説明するための図で
ある。
ある。
【図３】従来の外気処理のシステム構成例を示す図であ
る。
る。
１ 粗塵フィルタ ２ エアスクラバ ３ 第１ケミカルフィルタ ４ 第２ケミカルフィルタ ５ 空調設備 ６ 第１接続ダクト ７ 第２接続ダクト ８ 第３接続ダクト ９ 第４接続ダクト １１ 第１バイパスダクト（バイパス流路） １２ 第２バイパスダクト（バイパス流路） １３ 第３バイパスダクト（バイパス流路） １４ 第１電磁開閉弁（流路切換え手段） １５ 第２電磁開閉弁（流路切換え手段） １６ 第３電磁開閉弁（流路切換え手段） １７ 第４電磁開閉弁（流路切換え手段） １８ 第５電磁開閉弁（流路切換え手段） １９ 第６電磁開閉弁（流路切換え手段） ２０ 第７電磁開閉弁（流路切換え手段） ２１ 第８電磁開閉弁（流路切換え手段） ２２ 第９電磁開閉弁（流路切換え手段） ２３ 第１０電磁開閉弁（流路切換え手段） ２５ 第１モニタ Ａ，Ｂ，Ｃ各除去対象物質対応のモニタ本体 ２６ 第２モニタ Ａ′，Ｂ′，Ｃ′各除去対象物質対応のモニタ本体 ３０ クリーンルーム ３１ 高性能フィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3L058 BD00 BE02 BF00 BG01 BG03 BG04 3L060 AA08 CC13 DD08 EE27 4D002 AA00 AA40 BA03 BA04 BA14 CA20 DA35 EA01 EA05 GA02 GB02 GB20 4D058 KB11 NA10 SA04 TA02 UA25
Claims (1)
- 【請求項１】 外気を清浄化し、空調設備を通じてクリ
ーンルームに給気するための外気処理装置であって、 上流側から、粗塵フィルタ、純水を洗浄水としたエアス
クラバ、及び１又は２以上のケミカルフィルタの各エア
フィルタを直列に接続すると共に、粗塵フィルタを除く
各エアフィルタをそれぞれ迂回するバイパス流路を備
え、 さらに、粗塵フィルタを除く各エアフィルタへの気体の
流れの全部又は一部を上記バイパス流路側に切り換える
流路切換え手段と、上記粗塵フィルタの出側で当該粗塵
フィルタを通過した外気中に存在する各エアフィルタの
除去対象物質をそれぞれ連続的に検出するモニタと、上
記モニタによる検出に基づき各エアフィルタの除去対象
物質の気中濃度を判定し、各除去対象物質の気中濃度に
応じて対応するエアフィルタへの気体の流れの全部又は
一部を、上記流路切換え手段を通じて上記バイパス流路
側に迂回させるコントローラと、 を備えることを特徴とするクリーンルーム用外気処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21438298A JP3978630B2 (ja) | 1998-07-29 | 1998-07-29 | クリーンルーム用外気処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21438298A JP3978630B2 (ja) | 1998-07-29 | 1998-07-29 | クリーンルーム用外気処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000046400A true JP2000046400A (ja) | 2000-02-18 |
| JP3978630B2 JP3978630B2 (ja) | 2007-09-19 |
Family
ID=16654870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21438298A Expired - Fee Related JP3978630B2 (ja) | 1998-07-29 | 1998-07-29 | クリーンルーム用外気処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3978630B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005283087A (ja) * | 2003-08-26 | 2005-10-13 | Daikin Ind Ltd | 環境提供システム、環境提供装置、制御装置及び環境提供方法 |
| JP2005344985A (ja) * | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Daikin Ind Ltd | ダクト装置 |
| JP2018179476A (ja) * | 2017-04-21 | 2018-11-15 | 住友重機械工業株式会社 | 空気浄化システム |
| JP2020175915A (ja) * | 2019-04-17 | 2020-10-29 | 清水建設株式会社 | 封入対象物の封入システム及び封入対象物の封入方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61265432A (ja) * | 1985-05-20 | 1986-11-25 | Shimizu Constr Co Ltd | 空気清浄装置 |
| JPS62237237A (ja) * | 1986-04-08 | 1987-10-17 | Yoshiharu Harada | 清浄度可変の空気清浄ユニツト |
| JPH0339833A (ja) * | 1989-07-06 | 1991-02-20 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 清浄空調室の有害ガス除去装置 |
| JPH04358513A (ja) * | 1991-06-05 | 1992-12-11 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | スクラバ装置 |
| JPH0824534A (ja) * | 1994-07-18 | 1996-01-30 | Ebara Corp | 再生可能な空気清浄用イオン交換フィルタユニット及びそれを用いる空気清浄方法 |
| JPH10103714A (ja) * | 1996-07-24 | 1998-04-21 | Samsung Electron Co Ltd | 半導体清浄室用の空気調和システム |
| JPH10174838A (ja) * | 1996-10-18 | 1998-06-30 | Ebara Corp | ケミカルフィルター |
-
1998
- 1998-07-29 JP JP21438298A patent/JP3978630B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3978630B2 (ja) | 2007-09-19 |
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