JP2000033332A - 塗装用デザインローラの製造方法及び塗装方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡易にかつ低コストで生産することができ、
少量生産にも適用することができる塗装用デザインロー
ラの製造方法及び該塗装用デザインローラを用いた塗装
方法並びに該塗装方法に用いる塗料組成物を得る。 【解決手段】 円筒状のローラ部の周面に形成された凹
凸パターンを、塗装後の塗膜の上に押し当てながら該ロ
ーラを回転させることにより該凹凸パターンを塗膜表面
に転写して塗膜表面に凹凸模様を形成するための塗装用
デザインローラを製造する方法であり、感光性材料層２
を選択的に露光することにより、該感光性材料層２に上
記凹凸パターンに対応した露光領域７と未露光領域８を
形成する工程と、感光性材料層２に現像処理を施すこと
により、露光領域７または未露光領域８のいずれかを除
去して感光性材料層２に凹凸パターンを形成する工程
と、該凹凸パターンを形成した感光性材料層２を円筒状
基材の周面に巻き付けることによりローラ部を製造する
工程とを備えることを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、塗装後の塗膜に押
し当てて塗膜表面に凹凸模様を形成するための塗装用デ
ザインローラの製造方法及び該塗装用デザインローラを
用いた塗装方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、建築物の外壁及び内壁等においては、壁面に塗料を
塗装した後、塗膜表面が柔軟性を有している間に、塗膜
に凹凸パターンを転写して塗膜表面に凹凸模様を形成す
る塗装方法が知られている。塗膜表面に凹凸パターンを
転写する方法として、円筒状のローラ部の周面に凹凸パ
ターンが形成されたデザインローラを用いる方法が一般
的に採用されている。デザインローラの凹凸パターンを
塗膜の上に押し当てながらローラ部を回転させることに
より、凹凸パターンを塗膜表面に転写して塗膜表面に凹
凸模様を形成することができる。このような凹凸模様
は、ローラ部の周面に形成された凹凸パターンを繰り返
し単位とする連続した凹凸模様となる。

【０００３】従来のデザインローラのローラ部は、樹脂
またはゴムなどの可撓性を有する材料で所望の凹凸パタ
ーンが形成されたシートを作製し、このシートを円筒状
の基材に巻き付けることにより製造されている。シート
は、金型を用いたプレス成形または射出成形等の成形方
法により製造されている。

【０００４】以上のように、従来のデザインローラは、
金型を用いて凹凸パターンを有したシートを成形してお
り、金型の作製に高いコストがかかるため、安価に製造
することができないという問題があった。特に、デザイ
ンローラを少量生産する場合、１つのデザインローラの
製造原価における金型作製のコストが大きくなるため、
製造コストが非常に高くなるという問題を有していた。
従って、デザインローラの凹凸パターンを自由に変更す
ることができず、塗膜に付与する凹凸模様が制限され、
塗膜の意匠選択の範囲が狭められていた。

【０００５】近年、住宅等の新築やリフォームにおい
て、外壁や内壁の意匠に対する要望が多様化してきてお
り、従来のデザインローラの製造方法では、このような
要望に対応できなくなってきており、デザインローラを
簡易にかつ低コストで製造することができる方法が求め
られている。

【０００６】本発明の目的は、簡易にかつ低コストで生
産することができ、少量生産にも適用することができる
塗装用デザインローラの製造方法及び該塗装用デザイン
ローラを用いた塗装方法並びに該塗装方法に用いる塗料
組成物を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の局面に従
う製造方法は、円筒状のローラ部の周面に形成された凹
凸パターンを、塗装後の塗膜の上に押し当てながら該ロ
ーラ部を回転させることにより該凹凸パターンを塗膜表
面に転写して塗膜表面に凹凸模様を形成するための塗装
用デザインローラを製造する方法であり、感光性材料層
を選択的に露光することにより、該感光性材料層に前記
凹凸パターンに対応した露光領域と未露光領域を形成す
る工程と、該感光性材料層に現像処理を施すことによ
り、露光領域または未露光領域のいずれかを除去して感
光性材料層に凹凸パターンを形成する工程と、凹凸パタ
ーンを形成した感光性材料層を円筒状基材の周面に巻き
付けることによりローラ部を製造する工程とを備えるこ
とを特徴としている。

【０００８】第１の局面によれば、感光性材料層に直接
凹凸パターンを形成し、これを円筒状基材の周面に巻き
付けてローラ部を製造する。従って、デザインローラを
少量生産する場合に適している。

【０００９】第１の局面によれば、従来のように金型を
製作する必要がないので、簡易にかつ低コストで塗装用
デザインローラを製造することができる。また、低コス
トで製造することができるので、多種多様の凹凸模様に
対応させて塗装用デザインローラを製造することができ
る。

【００１０】本発明の第２の局面に従う製造方法は、円
筒状のローラ部の周面に形成された凹凸パターンを、塗
装後の塗膜の上に押し当てながら該ローラ部を回転させ
ることにより該凹凸パターンを塗膜表面に転写して塗膜
表面に凹凸模様を形成するための塗装用デザインローラ
を製造する方法であり、感光性材料層を選択的に露光す
ることにより、該感光性材料層に前記凹凸パターンの型
となる第２の凹凸パターンに対応した露光領域と未露光
領域を形成する工程と、該感光性材料層に現像処理を施
すことにより、露光領域または未露光領域のいずれかを
除去して感光性材料層に第２の凹凸パターンを形成する
工程と、第２の凹凸パターンを形成した感光性材料層を
型として用いて、樹脂またはゴムを成形することにより
凹凸パターンを有した成形体を成形する工程と、凹凸パ
ターンを有した成形体を円筒状基材の周面に巻き付ける
ことによりローラ部を製造する工程とを備えることを特
徴としている。

【００１１】第２の局面によれば、ローラ部の周面に形
成する凹凸パターンの型となる第２の凹凸パターンを感
光性材料層に形成し、この感光性材料層を型として用い
て、樹脂またはゴムを成形することにより凹凸パターン
を有した成形体を成形し、この成形体を円筒状基材の周
面に巻き付けてローラ部を製造する。感光性材料層を型
として用いて成形する場合の成形方法は、特に限定され
るものではないが、射出成形、注型成形、ブロー成形な
どの成形方法が挙げられる。成形する樹脂またはゴム
は、感光性材料層を型として用いて成形することができ
る樹脂またはゴムであれば特に限定されるものではない
が、例えば、発泡ウレタン樹脂や液状ゴム等の樹脂及び
ゴムが挙げられる。型として用いられる感光性材料層
は、必ずしも成形体全体を成形する型でなくともよく、
少なくとも凹凸パターン部分を成形する型であればよ
い。従って、成形体全体を成形する金型内に感光性材料
層を配置し、該感光性材料層によって凹凸パターン部の
みを成形してもよい。この場合、金型は他の凹凸パター
ンに対しても共通して使用することができるので経済的
である。

【００１２】第２の局面によれば、感光性材料層からな
る型を成形し、この型を用いて凹凸パターンを有した成
形体を成形するので、同一のデザインローラを多量に生
産する場合に適している。第２の局面では、感光性材料
層からなる型を製造するが、従来の金型に比べ、感光性
材料層からなる型は、低コストで製造することができる
ので、従来に比べ経済的に塗装用デザインローラを製造
することができる。また、低コストでデザインローラを
製造することができるので、多種多様の凹凸模様に対応
させて塗装用デザインローラを製造することができる。

【００１３】以下、本発明の第１の局面及び第２の局面
に従う製造方法に共通の事項については、「本発明の製
造方法」として説明する。本発明の製造方法において用
いる感光性材料層は、露光領域が現像液に不溶化し現像
処理で未露光領域を除去するネガ型の感光性材料であっ
てもよいし、露光領域が可溶化し露光領域を現像処理で
除去するポジ型の感光性材料であってもよい。解像度や
凹凸パターンの鮮明性などの点からは、ネガ型の感光性
材料が好ましい。以下、ネガ型感光性材料について説明
する。

【００１４】本発明の製造方法において用いるネガ型感
光性材料としては、例えば、重合性モノマーの重合物ま
たはクロロプレンゴム、エチレン−クロロプレンゴム、
ブチルゴム、シリンーンゴム、フッ素ゴム、アクリルゴ
ム、多硫化ゴム、天然ゴム、ブタジエンゴム、イソプレ
ンゴム、これらのゴムの発泡体またはこれらのゴム成分
と、光硬化性モノマーとの反応物、光硬化開始剤等の材
料で形成されたものが挙げられる。具体的には、従来よ
り印刷板やその他のフォトレジストなどに用いられるも
のが挙げられ、基本的にはアクリルモノマー、不飽和ポ
リエステル等の液状版や液状のモノマー成分が多い同型
の感光性材料がより好適に用いられる。具体的に液状版
としては、米国特許第４，２０９，５８１号、米国特許
第４，２３４，６７６号等に記載されたものが挙げられ
る。感光性材料は水現像型のものが好ましく、例えば特
開昭６１−２２３３９５号公報及び特開昭６１−２４６
７４２号公報に記載のものが挙げられる。また、溶剤現
像型のものであってもよく、例えば米国特許第４，３２
３，６３７号、同第４，２３４，６７６号、同４，２６
４，７０５号、特開昭５２−６４３０１号公報などに記
載されているものが挙げられる。さらに具体的に説明す
ると、同型の感光性材料は熱可塑性的に加工可能な重合
体、光重合性エチレン系不飽和モノマー及び光重合開始
剤を少なくとも含有する。

【００１５】熱可塑性的に加工可能な重合体の例として
は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、
スチレン重合体、特にスチレン−ジエン共重合体、ブタ
ジエン及び／またはイソプレン重合体、ブタジエン／ア
クリルニトリル共重合体（ニトリルゴム）、エラストマ
ーのポリウレタン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミ
ドイミド、（メタ）アクリレート重合体、塩化ビニル／
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニリデン重合体、ビニルエ
ステル−特にビニルアセテート−またはビニルプロピオ
ネート重合体、ポリビニルアルコール及びその他であ
る。使用する熱可塑性的に加工可能な重合体の種類に基
づき、該重合体に関して自体公知の一般的加工条件、例
えば温度負荷性、可塑化、助剤添加等が考慮される。熱
可塑性的に加工可能な重合体としては、ポリウレタン及
びビニルアルコール重合体の他に、エラストマーのゴム
状重合体、例えば特にブタジエン及びイソプレンの一成
分重合体、ブタジエン及びイソプレン相互の並びにその
他の共重合可能な単量体との共重合体、例えばニトリル
ゴム、例えば重合されたアクリルニトリル１５〜４５重
量％を有するブタジエン／アクリルニトリル共重合体、
カルボキシル基を有するニトリルゴム、塩化ビニル含有
のニトリルゴム及びスチレン、ブタジエン及び／または
イソプレンからなる多ブロック共重合体、例えばＡＢ−
２ブロック共重合体、ＡＢＡ−３ブロック共重合体、Ａ
ＢＣ−３ブロック共重合体（これらは例えばドイツ連邦
共和国特許出願公開第２９４２１８３号明細書に記載さ
れている）、星型ブロック共重合体、上記種類の部分的
もしくは完全に水素化されたブロック共重合体などが挙
げられる。

【００１６】光重合性エチレン系不飽和モノマーは、エ
チレン系不飽和基を有する化合物である。特定の例とし
ては不飽和カルボン酸エステル（例えば、ｎ−ブチル
（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）ア
クリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリ
ル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ
（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコー
ルモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルモノ（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレン
グリコールモノ（メタ）アクリレート、エチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ジアリルイタコネート、グリセロー
ルジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）
アクリレート、１，３−プロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジ
（メタ）アクリレート、１，２，４−ブタントリオール
トリ（メタ）アクリレート、グリセロールポリプロピレ
ングリコールトリ（メタ）アクリレート、１、４ベンゼ
ンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオ
ールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオー
ルジ（メタ）アクリレート）、不飽和アミド（例えば、
メチレンビス（メタ）アクリルアミド、エチレンビス
（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス
（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキシメチル）ア
クリルアミド、Ｎ−（ヒドロキシメチル）メタクリルア
ミド、Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、
Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、Ｎ，
Ｎ’−ビス（β−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、
Ｎ，Ｎ’−ビス（β−ヒドロキシエチル）メタクリルア
ミド）、ジビニルエステル（例えば、ジビニルアジペー
ト、ジビニルフタレート）、アクリル化またはメタクリ
ル化ウレタン（ヒドロキシアルキルアクリレートまたは
ヒドロキシアルキルメタクリレートとイソシアネート化
合物から誘導される）、ジアクリルまたはジメタクリル
エステル、または芳香族化合物とポリアルコール、例え
ばビスフェノールまたはノボラック化合物とから誘導さ
れるジエポキシポリエーテル等が挙げられる。これらの
化合物の１種またはそれ以上が用いられ、一般に非水溶
性モノマーが好ましい。

【００１７】光重合性開始剤の例としては、ベンゼンエ
ーテル類（例えば、ベンゾインイソプロピルエーテル、
ベンゾインイソブチルエーテル）、ベンゾフェノン類
（例えば、ベンゾフェノン、メチル−ｏ−ベンゾイルベ
ンゾエート）、キサントン類（例えば、キサントン、チ
オキサントン、２−クロロチオキサントン）、アセトフ
ェノン類（例えば、アセトフェノン、トリクロロアセト
フェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２
−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン）、ベンジ
ル、２−エチルアントラキノン、メチルベンゾイルホル
メート、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノ
ン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピル
−イソプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン等が挙げられる。これらは単独または
組み合わせて使用してもよい。

【００１８】上記感光性材料にはさらに必要に応じて、
コアシェルまたはマイクロゲルからなるもの、例えば部
分内部架橋共重合体または／及び塩基性窒素原子含有化
合物を配合してもよい。

【００１９】具体例としては、例えば、ブタジエン／メ
タクリル酸／ジビニルベンゼン／メタクリル酸メチルか
らなる部分架橋共重合体、スチレン／イソプレン／スチ
レン共重合体、マレイン酸モノエステル変性イソプレン
共重合体、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピルメタクリル
アミド、メタクリル酸ラウリル及び２−エチレンアント
ラキノンからなるゴム成形体（例えば、商品名「フレキ
シード ＳＤＡ１８７」、硬化後硬度ＪＩＳ Ａ４０
°、４．８ｍｍ：日本ペイント社製）、スチレン／イソ
プレン／スチレン共重合体を主成分とするゴム成形体
（例えば、商品名「サイレンＴＤＲ」：Ｄｕ Ｐｏｎｔ
社製）などが挙げられる。この他、アクリル系液状注型
用のゴム成形体（商品名「ＡＰＲ」：旭化成工業社製）
も使用できる。

【００２０】本発明の製造方法において用いる感光性材
料層は、ベースフィルム上に設けられていてもよい。特
に感光性材料層がそれ自体十分な強度を有さず、取り扱
いが困難な場合には、ベースフィルムの上に設けられて
いることが好ましい。ベースフィルムとしては、特に限
定されるものではないが、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）などのような支持フィルムとして十分な強度
を有するプラスチックフィルムが好ましい。また、ベー
スフィルムを設けることにより、凹部がベースフィルム
に達するような凹凸パターンを形成することが可能にな
る。

【００２１】また、感光性材料層の選択的露光に際し
て、ベースフィルム側から露光する場合には、ベースフ
ィルムは、露光する光を実質的に透過するベースフィル
ムが用いられる。

【００２２】本発明において、感光性材料層の厚みは、
製造する塗装用デザインローラのローラ部の凹凸パター
ン等により適宜設定されるものであるが、一般には０．
１〜１０ｍｍ、好ましくは、１〜７ｍｍ程度である。本
発明の製造方法において用いるベースフィルムの厚み
は、特に限定されるものではないが、５０〜２００μｍ
程度である。

【００２３】本発明の製造方法において、感光性材料層
に照射する光は、感光性材料層を露光して、化学反応を
生じさせ、現像剤に対し不溶化させるか、あるいは現像
剤に対し可溶化させる波長の光が用いられる。一般に
は、感光性材料層に照射する光として、紫外線が用いら
れる。

【００２４】本発明の製造方法における好ましい実施態
様においては、感光性材料層の選択的露光が、マスクフ
ィルムを用いて感光性材料層を部分的に遮蔽することに
より行われる。すなわち、マスクフィルムに透過領域と
非透過領域を形成し、透過領域を透過した光により感光
性材料層を露光する。従って、マスクフィルムの透過領
域に対応する部分は感光性材料層の露光領域となり、非
透過領域に対応する部分は未露光領域となる。透過領域
には、完全に光を透過する領域のみならず、透過率を変
化させた領域を設け、階調を有するマスクフィルムとし
てもよい。このような階調を有するマスクフィルムを用
いることにより、後述するように、マスクフィルムの階
調に対応する高さ勾配を有する凹凸パターンを形成する
ことができ、複雑な凹凸パターンの形状を形成すること
ができる。

【００２５】本発明の製造方法において用いるマスクフ
ィルムは、光を遮蔽する非透過領域を形成することがで
きるフィルムであれば特に限定されるものではないが、
例えば、銀塩フィルムや非銀塩フィルムなどの印刷板や
その他のフォトレジストを感光する際に用いるマスクフ
ィルムを用いることができる。

【００２６】本発明の製造方法において、ベースフィル
ム層上に設けられた感光性材料層を、マスクフィルムを
用いて露光する場合、以下のようにマスクフィルムを配
置して露光する方法が挙げられる。

【００２７】（１）感光性材料層のベースフィルム側に
マスクフィルムを配置し、マスクフィルム及びベースフ
ィルムを透過した光を感光性材料層に露光する。 （２）マスクフィルムを、感光性材料層のベースフィル
ム側と反対側に配置し、マスクフィルムを介して感光性
材料層を露光する。

【００２８】（３）感光性材料層のベースフィルム側ま
たはその反対側のいずれか一方側にマスクフィルムを配
置し、該マスクフィルムを介して感光性材料層を露光し
た後、感光性材料層の他方側にマスクフィルムを配置
し、該マスクフィルムを介して感光性材料層を露光す
る。なお、マスクフィルムは、予め両側に配置し、露光
のみを順次行ってもよい。 （４）感光性材料層のベースフィルム側及びその反対側
の両側にマスクフィルムを配置し、両側から同時に感光
性材料層を露光する。

【００２９】ネガ型感光性材料を用いる場合、上記
（２）の露光方法では、光が感光性材料層のベースフィ
ルム近傍にまで到達せず、従って露光領域がベースフィ
ルムまで達しないため、現像した際に露光領域が脱離
し、凹凸パターンを形成できない場合がある。従って、
上記（２）の露光方法は、比較的厚みの薄い感光性材料
層を露光する場合や、露光強度が強い場合に採用するこ
とができる。

【００３０】ネガ型感光性材料を用い、上記（１）の方
法で露光する場合、感光性材料層においては、ベースフ
ィルム側から露光され硬化するので、上記（２）のよう
に露光部分が脱離するおそれがない。また、階調を有す
るマスクフィルムを用いて露光する場合には、マスクフ
ィルムの階調に対応する高さ勾配を有する凹凸パターン
を形成することができる。

【００３１】上記（３）の露光方法では、感光性材料層
のベースフィルム側及びその反対側の両側から露光する
ので、比較的厚みの厚い感光性材料層を露光する場合
や、露光強度が弱い場合、短時間で露光した場合などに
適している。なお、通常ベースフィルム側及びその反対
側に配置するマスクフィルムは、同一パターンのマスク
フィルムが用いられ、これらのマスクフィルムを位置合
わせして露光する。

【００３２】上記（４）の露光方法も、上記（３）の露
光方法と同様に、両側から露光する方法であり、感光性
材料層の厚みが比較的厚い場合、露光強度が弱い場合、
あるいは短時間で露光させたい場合に適している。この
方法においても、上記（３）の方法と同様に、マスクフ
ィルムとして通常同一パターンのマスクフィルムを用
い、マスクフィルムの位置合わせを行い、両側から同時
に露光する。

【００３３】本発明の製造方法において用いるマスクフ
ィルムは、例えば、ディジタル画像データから第２原図
として作成することができる。ディジタル画像データ
は、いわゆる白黒の画像データのみならず、中間調を有
する、すなわち階調を有するディジタル画像データであ
ってもよい。このような階調を有するディジタル画像デ
ータから第２原図を作成する場合は、ディジタル画像デ
ータに対して階調再現処理を行い得られる画像データに
基づいて第２原図を作成することが好ましい。このよう
な階調再現処理としては、誤差拡散ディザ法、濃度パタ
ーン法、網点法、及び濃度階調圧縮分割法等が挙げられ
る。これらの階調再現処理は、単独で用いてもよいし、
組み合わせて用いてもよい。

【００３４】また、凹凸パターンのディジタル画像デー
タにおける凹凸の情報を、露光後の現像処理により実現
される感光性材料層における凹凸パターンの凹凸と一致
させるため、階調修正処理（階調補正処理）をディジタ
ル画像データに対して施すことができる。このような階
調修正処理は、上記の階調再現処理の前または後のいず
れで行ってもよい。

【００３５】本発明の製造方法に従う他の実施態様にお
いては、レーザ光を感光性材料層に照射し、このレーザ
光を走査することにより、感光性材料層を選択的に露光
する。すなわち、レーザ光を走査して感光性材料層の露
光すべき領域のみを選択的に照射することにより、感光
性材料層に凹凸パターンまたは第２の凹凸パターンに対
応した露光領域及び未露光領域を形成する。マスクフィ
ルムによる露光の場合と同様に、レーザ光照射による露
光の場合においても、レーザ光の走査及びレーザ光の照
射強度等を、ディジタル画像データに基づいて制御する
ことができる。また、ディジタル画像データから作成さ
れた第２原図に基づいてレーザ光の走査及びレーザ光の
照射強度等を制御してもよい。ディジタル画像データが
階調を有するディジタル画像データである場合には、上
述のように、階調再現処理及び／または階調修正処理を
行ってもよい。

【００３６】上述のように、本発明の製造方法によれ
ば、簡易にかつ低コストで塗装用デザインローラを製造
することができる。従って、塗装後の塗膜に対し、種々
の凹凸模様を付与したシミュレーション画像を作成し、
これらのシミュレーション画像を比較検討して、塗膜に
付与すべき凹凸模様を決定し、決定した凹凸模様に対応
する凹凸パターンを有する塗装用デザインローラを製造
することができる。

【００３７】すなわち、本発明の第３の局面に従う製造
方法は、塗装済基材のディジタル画像データを準備し、
選択した凹凸パターンのディジタル画像データから、該
凹凸パターンを転写して形成される凹凸模様のディジタ
ル画像データを作成し、塗装済基材のディジタル画像デ
ータと凹凸模様のディジタル画像データを合成して、塗
装済基材の塗膜の上に凹凸模様が形成された状態を示す
シミュレーション画像を作成し、凹凸パターンの選択と
シミュレーション画像の作成を繰り返して、塗装用デザ
インローラに付与する凹凸パターンを決定し、決定した
凹凸パターンのディジタル画像データを用いて感光性材
料層を選択的に露光することを特徴としている。

【００３８】本発明の第３の局面において、決定した凹
凸パターンのディジタル画像データを用いて、感光性材
料層を選択的に露光した後は、上記本発明の第１の局面
または第２の局面に従い塗装用デザインローラを製造す
る。

【００３９】塗装済基材のディジタル画像データには、
塗装後の塗膜の模様及び塗装によって生じた塗膜表面の
凹凸模様の情報が含まれており、さらには、塗装下地と
なる基材の凹凸形状も反映されている。

【００４０】第３の局面によれば、塗膜に凹凸模様を付
与したシミュレーション画像を作成し、ユーザーまたは
デザイナーが望む凹凸パターンを選択することができ
る。従って、ユーザー等は、数多くの凹凸パターンの中
から、好みの凹凸パターンを選択し、塗膜の上に凹凸模
様が形成された最終的な状態を確認した上で、凹凸パタ
ーンを決定することができる。従って、第３の局面によ
れば、効率的に凹凸パターンを選択することができ、決
定した凹凸パターンを有する塗装用デザインローラを効
率的に製造することができる。

【００４１】マスクフィルムを用いて感光性材料層を選
択的に露光する場合、上記凹凸パターンのディジタル画
像データから第２原図としてのマスクフィルムを作成す
ることができる。この際、上述のように、凹凸パターン
のディジタル画像データに対して階調再現処理や階調修
正処理を行うことができる。

【００４２】また、上述のように、レーザ光を走査する
ことにより感光性材料層を選択的に露光してもよい。ま
た、第３の局面においては、塗装済基材のディジタル画
像データと凹凸模様のディジタル画像データを合成した
シミュレーション画像を、塗装見本として出力してもよ
い。

【００４３】本発明の塗装用デザインローラは、円筒状
のローラ部の周面に凹凸パターンが形成されており、該
凹凸パターンを、塗装後の塗膜の上に押し当てながら該
ローラ部を回転させることにより該凹凸パターンを塗膜
表面に転写して塗膜表面に凹凸模様を形成するための塗
装用デザインローラであり、凹凸パターンが感光性樹脂
または感光性ゴムから形成されていることを特徴として
いる。

【００４４】本発明の塗装用デザインローラは、例え
ば、上記の第１の局面〜第３の局面に従う製造方法によ
り製造することができる塗装用デザインローラである。
感光性樹脂及び感光性ゴムとしては、ネガ型及びポジ型
のいずれでも使用し得るが、取り扱いやすさ及び解像度
等の点からは、ネガ型の感光性樹脂及びネガ型の感光性
ゴムが好ましい。ネガ型の感光性樹脂またはネガ型の感
光性ゴムを用いる場合、本発明の塗装用デザインローラ
の凹凸パターンは、露光により不溶化した感光性樹脂ま
たは感光性ゴムから形成されている。

【００４５】本発明の塗装用デザインローラの凹凸パタ
ーンの凸部の高さ（凹凸パターンの底部からの高さ）
は、０．１〜１０ｍｍ程度であることが好ましく、さら
に好ましくは１〜７ｍｍ程度である。このような凹凸パ
ターンの寸法形状は、塗膜の種類、塗布量、膜厚及び表
面の乾燥の程度等により適宜選択し得るものである。

【００４６】本発明の塗装方法は、基材上に塗料を塗装
した後、上記本発明の塗装用デザインローラを塗膜表面
に押し当てながらローラ部を回転させ、該ローラ部の周
面に形成された凹凸パターンを塗膜表面に転写して塗膜
表面に凹凸模様を形成することを特徴としている。

【００４７】基材上に塗装する塗料の塗布量及び乾燥膜
厚は、特に限定されるものではないが、塗料の塗布量と
しては０．５〜３ｋｇ／ｍ² が好ましく、乾燥膜厚とし
ては１〜７ｍｍ程度が好ましい。塗装方法は、特に限定
されるものではなく、ローラ塗装や吹き付け塗装など一
般的な塗装方法により塗装することができる。

【００４８】本発明において、塗料が塗装される基材
は、特に限定されるものではないが、例えばコンクリー
ト面、モルタル面、スレート板、ＰＣ板、ＡＬＣ板、コ
ンクリートブロック面、木材、石材、プラスチック、金
属などが挙げられる。これらの基材には、プライマー塗
装などの下地処理が行われていてもよい。特に、基材と
しては、デザインローラによる塗膜表面への凹凸模様の
付与が求められる基材が好ましく、このような基材とし
ては、建築物の外壁または内壁が挙げられる。

【００４９】上記の建築物外壁または内壁に塗装される
塗料としては、石材調塗料や砂岩調塗料または漆喰調塗
料が挙げられる。塗料粘度としては、７０〜３００ポイ
ズ程度が好ましい。また、塗料中にガラス繊維、炭素繊
維、ワラスサなどの繊維を含有させることにより、デザ
インローラによる凹凸模様付与が容易になる。ガラス繊
維の含有量は、特に限定されるものではないが、塗料全
重量に対して、０．０１〜１０％程度が好ましい。

【００５０】石材調塗料及び砂岩調塗料においては、一
般に着色骨材が含有される。骨材としては、天然石を砕
いたもの、セラミックス、顔料をセラミックコーティン
グしたものが挙げられる。骨材の粒径は、特に限定され
るものではないが、例えば、８．０〜１４０メッシュ
（２．０ｍｍ〜１０６μｍ）程度のものが挙げられる。
また、軽量骨材として市販されているものを使用しても
よい。骨材の含有量としては、特に限定されるものでは
ないが、６０〜８５重量％程度が一般的である。

【００５１】石材調塗料及び砂岩調塗料のバインダーと
しては、特に限定されるものではないが、水性アクリル
エマルジョンが好ましい。不揮発分（ＮＶ）としては、
２０〜６０重量％程度が好ましい。

【００５２】漆喰調塗料は、珪藻土を主原料とした粉体
を水で希釈したものである。この希釈は、塗装前に行わ
れるのが一般的であり、希釈率は５０〜１００重量％で
あることが好ましい。

【００５３】塗装後、塗膜が柔軟性を有している間に、
本発明のデザインローラを用いて、塗膜表面に凹凸模様
を形成する。通常、塗膜の塗装直後から１５分後程度ま
での間にデザインローラを塗膜表面に押し当てて転が
し、凹凸パターンを塗膜表面に転写して、凹凸模様を塗
膜表面に形成する。

【００５４】なお、本発明のデザインローラを用いた塗
装が困難な部分、例えば、壁と天井とが交わる部分につ
いては、本発明のデザインローラと同じ凹凸パターンを
有する板材を用いることができる。この板材は、凹凸パ
ターンを有する感光性樹脂または感光性ゴムを板状のも
のに貼り付けることによって得ることができる。凹凸パ
ターンを有する感光性樹脂または感光性ゴムが貼り付け
られた板状のものは、必要に応じて湾曲していてもよい
し、作業性を高めるために、取っ手などを有していても
よい。なお、該凹凸パターンを有する感光性樹脂または
感光性ゴムは、本発明のデザインローラと同じ方法によ
って得ることができる。

【００５５】本発明の技術的内容をまとめると、以下の
通りである。 （１）円筒状のローラ部の周面に形成された凹凸パター
ンを、塗装後の塗膜の上に押し当てながら該ローラ部を
回転させることにより該凹凸パターンを塗膜表面に転写
して塗膜表面に凹凸模様を形成するための塗装用デザイ
ンローラを製造する方法であって、感光性材料層を選択
的に露光することにより、該感光性材料層に前記凹凸パ
ターンに対応した露光領域と未露光領域を形成する工程
と、前記感光性材料層に現像処理を施すことにより、前
記露光領域または未露光領域のいずれかを除去して前記
感光性材料層に凹凸パターンを形成する工程と、前記凹
凸パターンを形成した感光性材料層を円筒状基材の周面
に巻き付けることによりローラ部を製造する工程とを備
える塗装用デザインローラの製造方法。

【００５６】（２）円筒状のローラ部の周面に形成され
た凹凸パターンを、塗装後の塗膜の上に押し当てながら
該ローラ部を回転させることにより該凹凸パターンを塗
膜表面に転写して塗膜表面に凹凸模様を形成するための
塗装用デザインローラを製造する方法であって、感光性
材料層を選択的に露光することにより、該感光性材料層
に前記凹凸パターンの型となる第２の凹凸パターンに対
応した露光領域と未露光領域を形成する工程と、前記感
光性材料層に現像処理を施すことにより、前記露光領域
または未露光領域のいずれかを除去して前記感光性材料
層に前記第２の凹凸パターンを形成する工程と、前記第
２の凹凸パターンを形成した感光性材料層を型として用
いて、樹脂またはゴムを成形することにより前記凹凸パ
ターンを有した成形体を成形する工程と、前記凹凸パタ
ーンを有した成形体を円筒状基材の周面に巻き付けるこ
とによりローラ部を製造する工程とを備える塗装用デザ
インローラの製造方法。

【００５７】（３）前記感光性材料層がベースフィルム
上に設けられていることを特徴とする（１）または
（２）に記載の塗装用デザインローラの製造方法。

【００５８】（４）前記感光性材料層がネガ型感光性材
料から形成されており、現像処理を施すことにより未露
光領域を除去して前記感光性材料層に凹凸パターンを形
成することを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項
に記載の塗装用デザインローラの製造方法。

【００５９】（５）前記感光性材料層の選択的露光が、
マスクフィルムを用いて感光性材料層を部分的に遮蔽す
ることにより行われることを特徴とする（１）〜（４）
のいずれか１項に記載の塗装用デザインローラの製造方
法。

【００６０】（６）前記感光性材料層の選択的露光が、
マスクフィルムを介して紫外線を照射することにより行
われることを特徴とする（５）に記載の塗装用デザイン
ローラの製造方法。

【００６１】（７）前記感光性材料層が、露光する光を
実質的に透過するベースフィルム上に設けられているこ
とを特徴とする（５）または（６）に記載の塗装用デザ
インローラの製造方法。

【００６２】（８）前記マスクフィルムが前記感光性材
料層のベースフィルム側に配置され、該マスクフィルム
を介して前記感光性材料層が露光されることを特徴とす
る（７）に記載の塗装用デザインローラの製造方法。

【００６３】（９）前記マスクフィルムが、前記感光性
材料層のベースフィルム側と反対側に配置され、該マス
クフィルムを介して前記感光性材料層が露光されること
を特徴とする（７）に記載の塗装用デザインローラの製
造方法。

【００６４】（１０）前記マスクフィルムが、透明フィ
ルムの一方面側にマスク画像を形成したマスクフィルム
であり、該マスク画像が形成されていない面が前記感光
性材料層と接するようにマスクフィルムを配置すること
を特徴とする（９）に記載の塗装用デザインローラの製
造方法。

【００６５】（１１）前記感光性材料層のベースフィル
ム側またはその反対側のいずれか一方側に配置したマス
クフィルムを介して前記感光性材料層を露光した後、前
記感光性材料層の他方側に配置したマスクフィルムを介
して前記感光性材料層を露光することを特徴とする
（７）に記載の塗装用デザインローラの製造方法。

【００６６】（１２）前記感光性材料層のベースフィル
ム側及びその反対側の両方にマスクフィルムを配置し、
両側から同時に前記感光性材料層を露光することを特徴
とする（７）に記載の塗装用デザインローラの製造方
法。

【００６７】（１３）前記マスクフィルムが、階調を有
するマスクフィルムであることを特徴とする（５）〜
（１２）のいずれか１項に記載の塗装用デザインローラ
の製造方法。

【００６８】（１４）前記感光性材料層に形成される凹
凸パターンまたは第２の凹凸パターンが、前記マスクフ
ィルムの階調に対応する高さ勾配を有することを特徴と
する（１３）に記載の塗装用デザインローラの製造方
法。

【００６９】（１５）前記マスクフィルムが、銀塩フィ
ルムまたは非銀塩フィルムであることを特徴とする
（５）〜（１４）のいずれか１項に記載の塗装用デザイ
ンローラの製造方法。

【００７０】（１６）前記マスクフィルムが、ディジタ
ル画像データから作成された第２原図である（５）〜
（１５）のいずれか１項に記載の塗装用デザインローラ
の製造方法。

【００７１】（１７）第２原図が階調を有するディジタ
ル画像データから作成されることを特徴とする（１６）
に記載の塗装用デザインローラの製造方法。（１８）第
２原図が、前記ディジタル画像データに対して階調再現
処理を行い得られる画像データに基づいて作成されるこ
とを特徴とする（１７）に記載の塗装用デザインローラ
の製造方法。

【００７２】（１９）前記階調再現処理が、誤差拡散デ
ィザ法、濃度パターン法、網点法及び濃度階調圧縮分割
法のうちの少なくとも１つであることを特徴とする（１
８）に記載の塗装用デザインローラの製造方法。

【００７３】（２０）前記階調再現処理の前または後
に、階調修正処理が行われることを特徴とする（１７）
〜（１９）のいずれか１項に記載の塗装用デザインロー
ラの製造方法。

【００７４】（２１）前記感光性材料層の選択的露光
が、レーザ光を走査して前記感光性材料層の露光すべき
領域のみを選択的に照射することにより行われることを
特徴とする（１）〜（４）のいずれか１項に記載の塗装
用デザインローラの製造方法。

【００７５】（２２）前記レーザ光の走査及びレーザ光
の照射強度がディジタル画像データに基づいて制御され
ることを特徴とする（２１）に記載の塗装用デザインロ
ーラの製造方法。

【００７６】（２３）（１）〜（２２）のいずれか１項
に記載の塗装用デザインローラの製造方法であって、塗
装済基材のディジタル画像データを準備し、選択した凹
凸パターンのディジタル画像データから、該凹凸パター
ンを転写して形成される凹凸模様のディジタル画像デー
タを作成し、前記塗装済基材のディジタル画像データと
前記凹凸模様のディジタル画像データを合成して、塗装
済基材の塗膜の上に凹凸模様が形成された状態を示すシ
ミュレーション画像を作成し、前記凹凸パターンの選択
とシミュレーション画像の作成を繰り返して、塗装用デ
ザインローラに付与する凹凸パターンを決定し、前記決
定した凹凸パターンのディジタル画像データを用いて感
光性材料層を選択的に露光することを特徴とする塗装用
デザインローラの製造方法。

【００７７】（２４）前記凹凸パターンのディジタル画
像データから第２原図としてのマスクフィルムを作成
し、該マスクフィルムを用いて感光性材料層を選択的に
露光することを特徴とする（２３）に記載の塗装用デザ
インローラの製造方法。

【００７８】（２５）前記シミュレーション画像を塗装
見本として出力することを特徴とする（２３）または
（２４）に記載の塗装用デザインローラの製造方法。 （２６）（１）〜（２５）のいずれか１項に記載の方法
で製造されたことを特徴とする塗装用デザインローラ。

【００７９】（２７）円筒状のローラ部の周面に凹凸パ
ターンが形成されており、該凹凸パターンを、塗装後の
塗膜の上に押し当てながら該ローラ部を回転させること
により該凹凸パターンを塗膜表面に転写して塗膜表面に
凹凸模様を形成するための塗装用デザインローラであっ
て、前記凹凸パターンが感光性樹脂または感光性ゴムか
ら形成されていることを特徴とする塗装用デザインロー
ラ。

【００８０】（２８）前記感光性樹脂または感光性ゴム
が、ネガ型の感光性樹脂または感光性ゴムであることを
特徴とする（２７）に記載の塗装用デザインローラ。 （２９）基材上に塗料を塗装した後、（２６）〜（２
８）のいずれか１項に記載の塗装用デザインローラを塗
膜表面に押し当てながらローラ部を回転させ、該ローラ
部の周面に形成された凹凸パターンを塗膜表面に転写し
て塗膜表面に凹凸模様を形成することを特徴とする塗装
方法。

【００８１】（３０）前記塗料の塗布量が０．５〜３ｋ
ｇ／ｍ² であることを特徴とする（２９）に記載の塗装
方法。（３１）乾燥膜厚が１〜７ｍｍとなるように前記
塗料が塗装されることを特徴とする（２９）または（３
０）に記載の塗装方法。

【００８２】（３２）前記基材が建築物の外壁または内
壁であることを特徴とする（２９）〜（３１）のいずれ
か１項に記載の塗装方法。 （３３）（２９）〜（３２）のいずれか１項に記載の塗
装方法に用いる塗料組成物であって、塗料粘度が７０〜
３００ポイズであることを特徴とする塗料組成物。

【００８３】（３４）ガラス繊維を含有することを特徴
とする（３３）に記載の塗料組成物。 （３５）着色骨材を含有することを特徴とする（３３）
または（３４）に記載の塗料組成物。

【００８４】（３６）石材調塗料または砂岩調塗料であ
ることを特徴とする（３３）〜（３５）のいずれか１項
に記載の塗料組成物。 （３７）漆喰調塗料であることを特徴とする（３３）〜
（３５）のいずれか１項に記載の塗料組成物。

【００８５】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の第１の局面に従
う製造方法の一実施例を示す断面図である。図２に示す
ように、感光性材料層を有するマスクフィルム１は、ベ
ースフィルム３の上に感光性材料層２を設け、感光性材
料層２の上に保護層４を設けることにより構成されてい
る。感光性材料層２は、高分子結合剤と、エチレン性不
飽和二重結合を有するモノマーと、光硬化開始剤とを含
み、紫外線等が照射された露光領域において、光硬化が
生じる。未露光領域においては、比較的柔らかく、例え
ばブラシ等で擦ることにより水中で容易に除去すること
ができる。

【００８６】図１（ａ）に示すように、本実施例では、
ベースフィルム３側にマスクフィルム５を配置してい
る。マスクフィルム５は、透明フィルムの一方面側にマ
スク画像６を形成することにより構成されている。マス
ク画像６が設けられた領域では紫外線等の光が遮蔽さ
れ、マスク画像６が設けられていない領域において紫外
線等の光が透過する。このようなマスクフィルム５は、
銀塩フィルムまたは非銀塩フィルムなどから形成され
る。

【００８７】マスク画像６がベースフィルム３側に位置
するようにマスクフィルム５をベースフィルム３の上に
載せ、この状態で図１（ｂ）に示すように、紫外線等を
照射し、露光する。図１（ｂ）に示すように、マスク画
像６が存在しない露光領域７においては、紫外線等が照
射され光硬化する。未露光領域８においては、マスク画
像６で紫外線等が遮蔽されるため、紫外線等が照射され
ない状態となっている。

【００８８】次に、図１（ｃ）に示すように、水中に浸
漬しブラシ等で擦ることにより、未露光領域８の部分を
除去する。以上のようにして、図１（ｄ）に示すよう
に、ベースフィルム３の上には露光領域７のみが残り、
マスクフィルム５のマスク画像６のパターンに対応した
凹凸パターンがベースフィルム３の上に形成される。

【００８９】以上のようにして得られた凹凸パターンが
形成されたベースフィルム３を、円筒状基材の上に巻き
付けることにより、所望の凹凸パターンを有したローラ
部を製造することができ、これによって本発明の塗装用
デザインローラを製造することができる。

【００９０】図３は、本発明の第１の局面に従う製造方
法の他の実施例を示す断面図である。本実施例において
は、マスクフィルム５として、透過領域と非透過領域の
間の中間的な透過領域を有するマスクフィルム、すなわ
ち、階調を有するマスクフィルムが用いられている。

【００９１】図３（ａ）に示すように、ベースフィルム
３の上に、階調を有するマスクフィルム５が載せられて
いる。マスクフィルム５には、光透過率が１００％の領
域Ｒ ₁₀₀ 、光透過率が７５％の領域Ｒ₇₅、光透過率が５
０％の領域Ｒ₅₀、光透過率が２５％の領域Ｒ₂₅、及び光
透過率が０％の領域Ｒ₀ が形成されている。この状態
で、図３（ａ）に示すように、紫外線等を照射し、感光
性材料層２を露光する。Ｒ₀ 〜Ｒ₁₀₀ の領域では、それ
ぞれの光透過率に応じて、感光性材料層２がベースフィ
ルム３側から露光され光硬化反応を生じる。

【００９２】紫外線等の露光強度及び露光時間を、Ｒ
₁₀₀ の領域で露光領域７がほぼ１００％、すなわち保護
層４に到達するように制御する。このように制御するこ
とにより、Ｒ₇₅、Ｒ₅₀、及びＲ₂₅の各領域においては、
その光透過率に応じて露光領域７の深さが決定される。

【００９３】次に、図３（ｂ）に示すように、水中に浸
漬してブラシ等で擦り、未露光領域８を除去することに
より、現像処理を行う。上記現像処理により、図３
（ｃ）に示すように、露光領域７のみがベースフィルム
３上に残る。光透過率０％の領域Ｒ₀ に対応する領域Ａ
１においては、露光領域が形成されておらず、凸部が存
在していない。Ｒ₂₅〜Ｒ₁₀₀ に対応する領域Ａ２〜Ａ５
においては、それぞれの透過率に対応した高さを有する
凸部が露光領域７として形成されている。従って、マス
クフィルムの階調に対応する高さ勾配を有する露光領域
７が形成されている。

【００９４】以上のように、階調を有するマスクフィル
ムを用いることにより、凸部の高さが異なる凹凸パター
ンを形成することができる。図４及び図５は、このよう
な凹凸パターンの例を示す断面図である。マスク画像濃
度の透過率を種々変化させた階調を有するマスクフィル
ムを用い、ベースフィルム３側から露光することによ
り、図４に示すような凹凸パターンを有する露光領域７
及び図５に示すような凹凸パターンを有する露光領域７
を形成することができる。

【００９５】階調を有するディジタル画像データを用い
て、階調を有するマスクフィルムを作成する場合には、
ディジタル画像データに対して階調再現処理を施して得
られる画像データに基づいてマスクフィルムを作成して
もよい。このような階調再現処理としては、誤差拡散デ
ィザ法、濃度パターン法、網点法及び濃度階調圧縮分割
法等が挙げられる。これらを単独で、もしくは組み合わ
せて階調再現処理を行うことができる。また、ディジタ
ル画像データにおける凹凸パターンと、実際の凹凸パタ
ーンの高さとを対応させるため、階調修正処理を階調再
現処理の前または後に行ってもよい。

【００９６】図６は、本発明の第１の局面に従う製造方
法のさらに他の実施例を示す断面図である。本実施例で
は、マスクフィルム５を、ベースフィルム３と反対側に
配置し感光性材料層２を露光している。

【００９７】図６（ａ）に示すように、感光性材料層２
の上に、マスクフィルム層５を配置する。本実施例で
は、マスク画像６が感光性材料層２側に位置するように
マスクフィルム５を感光性材料層２の上に載せている。
また、本実施例では、図２に示す保護層４を剥離し、感
光性材料層２の上にマスクフィルム層５を載せている
が、保護層４を剥離せずに、保護層４の上にマスクフィ
ルム層５を載せてもよい。

【００９８】次に、図６（ｂ）に示すように、紫外線等
を照射し、マスクフィルム５を介して感光性材料層２を
露光する。マスク画像６が設けられないない領域では、
感光性材料層２が露光され露光領域７が形成される。マ
スク画像６が設けられて領域では、紫外線等が遮蔽され
未露光領域８となる。

【００９９】次に、図６（ｃ）に示すように、現像処理
を施し、未露光領域８を除去する。これにより、図６
（ｄ）に示すように、ベースフィルム３の上に露光領域
７のみが残され、マスクフィルム５のマスク画像６のパ
ターンに対応した凹凸パターンがベースフィルム３の上
に形成される。

【０１００】図７は、本発明の第１の局面に従う製造方
法のさらに他の実施例を示す断面図である。図７（ａ）
に示すように、本実施例では、感光性材料層２の上にマ
スクフィルム５が載せられており、マスク画像６が感光
性材料層２と反対側に位置するようにマスクフィルム５
が配置されている。また、図６のところで述べたのと同
じように、保護層４を剥離せずに、保護層４の上にマス
クフィルム層５を載せてもよい。

【０１０１】図７（ｂ）に示すように、この状態で紫外
線等を照射して露光することにより、マスク画像６が設
けられていない領域で紫外線等が照射され、露光領域７
が形成される。マスク画像６が設けられている領域では
紫外線等が遮蔽され、未露光領域８となる。

【０１０２】次に、図７（ｃ）に示すように、現像処理
を施すことにより、未露光領域８を除去する。以上のよ
うにして、図７（ｄ）に示すように、ベースフィルム３
の上に露光領域７のみが残され、ベースフィルム３の上
に、マスクフィルム５のマスク画像６のパターンに対応
した凹凸パターンが形成される。

【０１０３】なお、本実施例では、図７（ｄ）に示すよ
うに、露光領域７のエッジ部分が、図６（ｄ）に示す露
光領域７に比べ、滑らかに形成されている。これは、マ
スク画像６を感光性材料層２と反対側に配置したことに
よるものである。すなわち、マスク画像６を感光性材料
層２と反対側に配置することにより、露光領域７に入射
する光がマスクフィルム５のフィルム内で散乱し、若干
広がった状態で感光性材料層２に入射するため、やや広
い領域で露光領域７が形成される。従って、このような
照射光の散乱を利用することにより、凹凸パターンの凸
部のエッジ部分の形状を変化させることができる。従っ
て、必要に応じて、マスクフィルム５と感光性材料層２
の間に光を散乱するフィルムを介在させ、さらに光を散
乱させることによって、さらに滑らかなエッジ部を有す
る凸部を形成させることができる。

【０１０４】図８は、本発明の第１の局面に従うさらに
他の実施例を示す断面図である。本実施例は、感光性材
料層２の厚みが比較的厚い場合や、露光する光の強度が
弱い場合、すなわち片側の露光だけでは、感光性材料層
２の厚み方向全体に露光することができない場合に有利
に適用し得る露光方法である。

【０１０５】図８（ａ）に示すように、まず感光性材料
層２の上にマスクフィルム５を配置し、図８（ｂ）に示
すように、この状態で紫外線等を照射して感光性材料層
２に露光領域７を形成する。このとき、露光領域７は、
ベースフィルム３に達しない状態である。この状態で現
像処理を施し、未露光領域８を除去すると、露光領域７
はベースフィルム３と接していないので、露光領域７は
脱離してしまい、ベースフィルム３上に凹凸パターンを
形成することができない。

【０１０６】本実施例では、図８（ｃ）に示すように、
次に、ベースフィルム３側にマスクフィルム５を配置す
る。このときのマスクフィルム５は、同じ露光領域７を
露光することができるように、同一のマスクパターンを
有したマスクフィルムを用いる。従って、図８（ａ）の
工程において用いたマスクフィルム５を、そのまま位置
合わせして用いてもよいし、別のマスクパターン、例え
ば左右対称のマスクパターンのマスクフィルムを作成
し、これを用いてもよい。

【０１０７】この状態で、図９（ｄ）に示すように、紫
外線を照射して、露光領域７上方の感光性材料層２の部
分を露光し、感光性材料層２の厚み方向の全体に及ぶ露
光領域７を形成する。

【０１０８】次に、図９（ｅ）に示すように、マスクフ
ィルム５を取り去り、現像処理を施すことにより、未露
光領域８を除去する。以上のようにして、図９（ｆ）に
示すように、ベースフィルム３の上に露光領域７のみを
残し、マスクフィルムのマスク画像のパターンに対応し
た凹凸パターンを形成することができる。

【０１０９】図１０は、本発明の第１の局面に従う製造
方法のさらに他の実施例を示す断面図である。本実施例
では、図１０（ａ）に示すように、感光性材料層２のベ
ースフィルム３側及びその反対側の両方に、マスクフィ
ルム５を配置している。この状態で、図１０（ｂ）に示
すように、両側から紫外線等を照射し、それぞれマスク
フィルム５を介して感光性材料層２を露光し、露光領域
７を形成する。

【０１１０】露光後、マスクフィルム５を取り除き、現
像処理を施すことにより、図９（ｆ）と同様な凹凸パタ
ーンを有する露光領域７をベースフィルム３上に形成す
ることができる。図１０に示すように、感光性材料層２
の両側から同時に露光することにより、より短時間で露
光領域７を形成することができる。

【０１１１】図８〜図１０に示すように、感光性材料層
の一方面側からのみの照射ではなく、他方面側からも照
射して感光性材料層に露光領域を形成する方法によれ
ば、より厚みのある感光性材料層を露光して凹凸パター
ンを形成することができるので、より高さのある凹凸パ
ターンを有する塗装用デザインローラを製造することが
できる。

【０１１２】上記の実施例では、マスクフィルムを介し
て露光することにより、感光性材料層を選択的に露光す
る方法を説明したが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、例えば、レーザ光を露光すべき領域のみに照射
することにより、感光性材料層を選択的に露光させ、露
光領域を形成してもよい。

【０１１３】図８〜図９に示す実施例及び図１０に示す
実施例において、ベースフィルム３側から露光する際、
マスクフィルム５を用いずに、ベースフィルム３側の感
光性材料層２を全面照射してもよい。このように全面照
射することにより、ベースフィルム３側に連続した露光
領域が形成される。この連続した露光領域は、フロア部
となり、各凸部を連結するものであるため、例えば、ベ
ースフィルム３を露光後に剥離しても、各凸部はこのフ
ロア部により連結されている。従って、ベースフィルム
３を取り除き、このフロア部を円筒状基材に巻き付け
て、ローラ部を製造することができる。なお、この際、
フロア部の厚みは、円筒状基材の周面に巻き付けること
ができる可撓性を有することが必要であり、そのような
可撓性を考慮してフロア部の露光すべき厚みが決定され
る。

【０１１４】図１１〜図１３は、本発明の第２の局面に
従う製造方法の一実施例を示す断面図である。本発明の
第２の局面では、感光性材料層を用いて一旦凹凸パター
ンの型となる第２パターンを有する感光性材料層を形成
し、これを型として用いて樹脂またはゴムを成形するこ
とにより、所望の凹凸パターンを有する成形体を成形
し、これを円筒状基材に巻き付けて本発明の塗装用デザ
インローラを製造する。

【０１１５】図１１（ａ）に示すように、ベースフィル
ム１３上に設けられた感光性材料層１２の上に、マスク
フィルム１５を配置する。なお、感光性材料層１２及び
ベースフィルム１３は、図２に示す感光性材料層２及び
ベースフィルム３と同様のものを用いることができる。
マスクフィルム１５に形成されたマスク画像１６は、塗
装用デザインローラのローラ部の周面に形成する凹凸パ
ターンの型となる第２パターンを形成するようにパター
ニングされている。

【０１１６】図１１（ｂ）に示すように、マスクフィル
ム１５を介して紫外線等を照射することにより、感光性
材料層１２を露光し、露光領域１７を形成する。マスク
画像１６が設けられている領域においては、紫外線等が
遮蔽され、未露光領域１８となる。

【０１１７】次に、図１１（ｃ）に示すように、水中に
浸漬してブラシ等をかけることにより、未露光領域１８
を除去して現像処理を行う。以上のようにして、図１２
（ｄ）に示すように、ベースフィルム１３の上に、露光
領域１７のみを残し、第２のパターンを有する型１９を
形成することができる。

【０１１８】図１２（ｅ）に示すように、型１９の表面
に、シリコン樹脂、フッ素樹脂等の離型処理剤を塗布
し、離型処理層２０を形成する。次に、図１３（ｆ）に
示すように、型１９に発泡ウレタン樹脂を流し込んだ
後、発泡成形させて、成形体２１を得る。

【０１１９】次に、この成形体２１を型１９から取り出
し、図１３（ｇ）に示すように、所望の凹凸パターンを
有する成形体２１を製造することができる。以上のよう
にして得られる成形体を、円筒状基材に巻き付けること
により、ローラ部を製造し、本発明の塗装用デザインロ
ーラを製造することができる。なお、本発明の第２の局
面における感光性材料層の露光においても、上記の第１
の局面に従う各種の露光方法を適用することができる。

【０１２０】図１４は、本発明に従う一実施例の塗装用
デザインローラの凹凸パターンのディジタル画像２２を
示す図である。図１５は、図１４に示すディジタル画像
２２のデータから作成された第２原図としてのマスク画
像のパターン２３を示す図である。このようなマスクパ
ターン２３を有するマスクフィルムを作成し、該マスク
フィルムを用いて、例えば、図１に示す露光方法に従
い、ベースフィルム３側から露光する。

【０１２１】図１６は、このようにして感光性材料層を
露光した後、現像処理して得られるベースフィルム２４
上の凹凸パターンを有する感光性樹脂層を示す斜視図で
ある。ベースフィルム２４上に凸部２５が形成され、図
１４に示すパターン画像２２に対応する凹凸パターンが
ベースフィルム２４上に形成されている。

【０１２２】図１５に示すマスクパターン２３は、本発
明の第１の局面に従い、かつ感光性材料層としてのネガ
型の感光性材料層を用いる場合のマスクパターンであ
る。第１の局面に従いかつポジ型の感光性材料層を用い
る場合や、第２の局面に従いネガ型の感光性材料層を用
いて型を作成する場合には、図１４に示すパターンと同
様なマスクパターンが用いられる。

【０１２３】図１７は、図１６に示す凹凸パターンが形
成されたベースフィルム２４を、紙筒やプラスチック筒
などの円筒状基材２６の上に巻き付けた状態を示す斜視
図である。円筒状基材２６の上に巻き付け、例えば接着
剤等により接着することにより固定し、ローラ部を製造
することができる。円筒状基材２６のまわりには、所望
の凹凸パターンとなるように凸部２５が形成されてい
る。このようにして、本発明の塗装用デザインローラの
ローラ部を製造することができる。

【０１２４】図１８は、図１７に示すローラ部を用いた
塗装用デザインローラを示す平面図である。図１８に示
すように、円筒状基材２６内に円筒状の支持部２７を挿
入して固定する。支持部２７は、支柱２８の一方端に回
転可能に取り付けられており、従ってベースフィルム２
４上に形成された凸部２５は回転可能な状態で設けられ
ている。支柱２８の他方端には取っ手２９が取り付けら
れている。以上のようにして、本発明に従う一実施例の
塗装用デザインローラ３０を製造することができる。

【０１２５】塗装用デザインローラ３０を用いて塗膜に
凹凸模様を形成するには、塗装後の塗膜の上に、所定の
凹凸パターンとなるように形成された凸部２５を押し当
て、支持部２７で回転させながら塗膜上を移動させる。
これにより、凸部２５が塗膜に押し付けられ、所定の凹
凸パターンが塗膜上に転写され、塗膜表面に、図１４の
凹凸パターンに対応した凹凸模様を形成することができ
る。

【０１２６】図１９は、本発明の従う他の実施例の塗装
用デザインローラの凹凸パターンのディジタル画像３１
を示す図である。図２０は、図１９に示すディジタル画
像３１の凹凸パターンを形成するためのマスクフィルム
のパターン３２を示しており、図１９に示すディジタル
画像３１のデータから、第２原図として作成することが
できる図である。

【０１２７】図２０に示すパターン３２のマスクフィル
ムを用い、ネガ型の感光性材料層を用いて、本発明の第
１の局面に従い、感光性材料層を選択的に露光して、ベ
ースフィルム上に凹凸パターンを形成する。

【０１２８】図２１は、このようにして得られたベース
フィルム上の凹凸パターンを、円筒状基材の上に巻き付
けてローラ部とし、このローラ部を用いた塗装用デザイ
ンローラ３３を示している。図２１に示されるように、
図１９に示す凹凸パターンを繰り返し単位とする、連続
した凹凸模様を塗膜に付与することができる塗装用デザ
インローラが得られる。

【０１２９】図２２は、本発明に従う塗装用デザインロ
ーラのさらに他の実施例の凹凸パターンのディジタル画
像３４を示す図である。図２３は、図２２に示す凹凸パ
ターンのディジタル画像３４から作成される第２原図と
してのマスクフィルムのマスクパターン３５を示す図で
ある。

【０１３０】図２３に示すマスクパターンを有するマス
クフィルムを用い、本発明の第１の局面に従いネガ型感
光性材料層を選択的に露光し、図２２に示す凹凸パター
ンを有した塗装用デザインローラを得ることができる。

【０１３１】図２４は、このようにして得られる塗装用
デザインローラ３６を示す図である。塗装用デザインロ
ーラ３６は、図２２に示すパターンを繰り返し単位とす
る凹凸模様を塗膜に付与することができるデザインロー
ラである。

【０１３２】図２５は、本発明の第３の局面に従う製造
方法を示すフローチャートである。図２５に示すよう
に、本発明の第３の局面に従う製造方法においては、ま
ず塗装済基材（基材上に塗装した塗膜模様）のディジタ
ル画像データを入力する（ステップＳ１）。次に、塗装
用デザインローラの凹凸パターンを選択する（ステップ
Ｓ２）。次に、選択した凹凸パターンのディジタル画像
から、該凹凸パターンを転写して形成される凹凸模様の
ディジタル画像データを作成し、この凹凸模様のディジ
タル画像データと、塗装済基材のディジタル画像データ
とを合成して、塗装済基材の塗膜の上に凹凸模様が形成
された状態を示すシミュレーション画像を作成する（ス
テップＳ３）。

【０１３３】次に、シミュレーション画像に表された塗
膜の意匠性について検討し、ユーザーまたはデザイナー
等がディジタル画像データに表された塗膜の意匠が不適
切であると判断する場合には、再びステップＳ２に戻
り、他の凹凸パターンを選択する。

【０１３４】ユーザー、デザイナー等がシミュレーショ
ン画像に表された塗膜の意匠を適当と判断する場合に
は、塗装用デザインローラに付与する凹凸パターンとし
て、この選択したパターンを決定する（ステップＳ
５）。次に、決定した凹凸パターンの画像データを準備
し（ステップＳ６）、凹凸パターンの画像データに対し
階調再現処理を行い（ステップＳ７）、さらに階調修正
処理を行う（ステップ８）。必要に応じて、階調修正処
理は、階調再現処理の前に行ってもよい。

【０１３５】次に、このようにして得られた画像データ
に基づいて、マスクフィルムを作成する（ステップＳ
９）。凹凸パターンの種類によっては、上記の階調再現
処理または階調修正処理を行わず、直接マスクフィルム
を作成してもよい。

【０１３６】次に、作成したマスクフィルムを用いて、
上記で説明したように感光性材料層を選択的に露光し、
感光性材料層に凹凸パターンを形成する（ステップＳ１
０）。

【０１３７】次に、得られた感光性材料層の凹凸パター
ンを、円筒状基材に巻き付けローラ部を作製する（ステ
ップＳ１１）。図２６及び図２７は、図２５のフローチ
ャートにおけるマスクフィルム作成までのコンピュータ
グラフィックシステム（ＣＧシステム）を示す模式図で
ある。

【０１３８】図２６及び図２７に示すように、本実施例
のＣＧシステムは、凹凸パターンデータベース部４１、
塗装済基材データ作成部４２、シミュレーション画像作
成部４３、プリント部４４、凹凸パターンデータ変換処
理部４５、及びマスクフィルム作成部４６から構成され
ている。

【０１３９】凹凸パターンデータベース部４１には、多
数の凹凸パターンの画像データを格納（記憶）し、所望
の凹凸パターンの画像データを利用することができるデ
ータベース用コンピュータ４７が設けられている。

【０１４０】塗装済基材データ作成部４２には、塗料を
塗装した基材の写真等を撮影し、この画像を取り込んで
アナログ型の電気信号に変換するスキャナ２０と、該ス
キャナ２０から出力された電気信号を処理してディジタ
ル画像の画像データに変換する塗装済基材データ用コン
ピュータ４８が設けられている。スキャナ２０に代え
て、ディジタルカメラ、ＣＤ−ＲＯＭ等の画像情報提供
装置を設けてもよい。

【０１４１】シミュレーション画像作成部４３には、凹
凸パターンデータベース部４１から入力された凹凸パタ
ーンのディジタル画像データから、該凹凸パターンを転
写して形成される凹凸模様のディジタル画像データを作
成すると共に、該凹凸模様のディジタル画像データと、
塗装済基材データ作成部４２から入力された塗装済基材
ディジタル画像データとを合成して、塗装済基材の塗膜
の上に凹凸模様が形成された状態を示すシミュレーショ
ン画像を作成するシミュレーション用コンピュータ５０
が設けられている。

【０１４２】プリント部４４には、シミュレーション画
像作成部４３によって作成されたシミュレーション画像
を、所定のプリント用紙にプリントして塗装見本として
出力する印画紙プリンタ５１が設けられている。

【０１４３】以上のようにして、シミュレーション画像
作成部４３で、塗装済基材の塗膜の上に凹凸模様が形成
されたシミュレーション画像を見ることができ、必要に
応じて、対象となる建築物にこのような凹凸模様が形成
された塗膜が塗装されたシミュレーション画像を見るこ
とができる。このようなシミュレーション画像から、デ
ザイナー、ユーザー等が意図するイメージに合致する意
匠を有する塗膜であるか否かを判断することができる。

【０１４４】このようなシミュレーション画像から、選
択した凹凸パターンを採用する旨決定した場合には、凹
凸パターンの画像データを、図２７に示す凹凸パターン
データ変換処理部４５に送る。

【０１４５】凹凸パターンデータ変換処理部４５には、
凹凸パターンの画像データをデータ変換処理するための
凹凸パターンデータ変換処理用コンピュータ５２が設け
られている。この凹凸パターンデータ変換処理用コンピ
ュータ５２では、凹凸パターンの画像データに対し、階
調再現処理や、階調修正処理等のデータ変換処理が行わ
れる。階調再現処理としては、上述のように、誤差拡散
ディザ法（平均誤差最小ディザ法）等のディザ法、濃度
パターン法、網点法（ＡＭスクリーン法）、濃度階調分
割法、ＦＭスクリーン法等が挙げられる。

【０１４６】ディザ法は、濃淡画像の各画像をそれぞれ
実質的に異なるしきい値で白または黒に振り分けて二値
化する階調再現手法である。濃度パターン法は、中間調
で表現された原画像の各画像を、それぞれ、例えばｎ×
ｎ（ｎは自然数）のドット領域（点）で構成した上で、
各ドット領域を白または黒に設定することができるよう
にし、各画像中における白ドット領域（白点）と黒ドッ
ト領域（黒点）の数の比率を変えることにより中間調を
表現する手法である。この濃度パターン法は、画像の解
像度をある程度犠牲にして良好な中間調を有する画像を
得るのに適した階調再現処理手法である。

【０１４７】網点法は、濃淡原画像の１つの画素の濃度
レベルに対して、表示画素として所定の大きさの画素を
割り当て、濃淡原画像の濃度レベルに比例するように、
表示画素中の黒の占有部分を増加させることにより、擬
似的な中間調を作成する手法であり、主として印刷の技
術分野で用いられている階調再現処理手法である。

【０１４８】濃度階調分割法は、濃淡（中間調）あるい
は色調（多色）を表現する手法の１つであり、複数の版
材を用いて、塗色の構成により濃淡ないし色調を表現を
する手法である。網点法などとは異なり、網点分解を行
わないので、ドットゲインによる濃度変化が起こらず、
特にハイライト付近での階調再現性が高いといった利点
がある。

【０１４９】凹凸パターンの画像データが階調を有する
画像データの場合には、必要に応じて凹凸パターンデー
タ変換処理用コンピュータ５２を用いて、上述のような
階調再現処理を行う。また、感光性材料層に形成される
凹凸パターンと、凹凸パターンデータとを対応させるた
め、必要に応じて階調修正処理を行う。以上のようにし
てマスクフィルムを作成するためのマスクパターンのデ
ータを作成し、これをマスクフィルム作成部４６に出力
する。また、格納（保存）する必要がある場合には、Ｍ
Ｏディスク５３に保存する。

【０１５０】マスクフィルム作成部４６には、マスクフ
ィルム作成用コンピュータ５４と、自動現像機５５が設
けられている。マスクフィルム作成用コンピュータ５４
は、自動現像機５５の各種制御を行う。また、凹凸パタ
ーンデータ変換処理用コンピュータ５２で行う階調再現
処理及び階調修正処理を、マスクフィルム作成用コンピ
ュータ５４で行ってもよい。

【０１５１】自動現像機５５は、マスクフィルム作成用
コンピュータ５４から入力されるマスクパターンデータ
に基づいて、マスクフィルム（ネガフィルムあるいはホ
ジフィルム）を作成する。

【０１５２】以上のようにして得られたマスクフィルム
を用いて、上述の方法で感光性材料層を選択的に露光
し、本発明の第１の局面または第２の局面に従い、塗装
用デザインローラを製造することができる。

【０１５３】図２５に示すフローチャート及び図２６〜
２７に示す模式図においては、マスクフィルムを用いて
感光性材料層を選択的に露光する方法を例にして説明し
たが、本発明はこれに限定されるものではなく、例え
ば、上述のように、得られた画像データまたはマスクパ
ターンデータに基づいて、レーザ光を選択的に照射して
感光性材料層に凹凸パターンに対応した露光領域及び未
露光領域を形成し、塗装用デザインローラを製造するこ
とができる。

【０１５４】次に、基材の上に石材調塗料を塗装した
後、本発明の塗装用デザインローラを用いて該塗膜に凹
凸模様を形成する実施例について説明する。石材調塗料
としては、アクリル樹脂エマルジョン（ＮＶ＝５０，Ｔ
ｇ＝２０℃）：１６．８重量部、骨材：６９．９重量
部、ひび割れ防止剤としてのガラス繊維：０．３重量
部、造膜助剤：１．３重量部、増粘剤：０．５重量部、
軽量化剤：１．５重量部、水：９．７重量部を配合して
調製した。なお、骨材としては、大理石粉、着色硅砂、
陶磁器粉の混合物を用いた。骨材の粒度は、１２〜４０
メッシュ：１５重量％、４０〜７０メッシュ：５５重量
％、７０〜１００メッシュ：２５重量％、１００メッシ
ュ以上：５重量％のものを用いた。また、軽量化剤とし
ては、商品名「マイクロスフェアＦ−３０Ｅ」（松本油
脂製薬社製）を用いた。なお、得られた石材調塗料の粘
度は、１５０ポイズであった。

【０１５５】以上のようにして得られた石材調塗料を、
フレキシブルボード板の上に、塗布量が１．２ｋｇ／ｍ
² 、乾燥膜厚が１〜７ｍｍとなるように塗装した。塗装
後、約１０分間経過した後、図１８に示す塗装用デザイ
ンローラを塗膜表面に押し当てながらローラ部を回転さ
せ、該ローラ部周面に形成された凹凸パターンを塗膜表
面に転写した。なお、凸部２５の高さが３．０〜５．０
ｍｍであるローラを用いた。

【０１５６】得られた石材調塗膜には、図１４に示すよ
うな凹凸パターンに対応する凹凸模様を有する石材調塗
膜であった。

【０１５７】

【発明の効果】本発明によれば、簡易にかつ低コストで
塗装用デザインローラを生産することができる。従っ
て、少量生産の場合にも低コストで塗装用デザインロー
ラを製造することができる。

【０１５８】本発明によれば、簡易にかつ低コストで生
産することができるので、豊富なデザインの中から凹凸
模様を選択することができ、デザインローラの凹凸模様
選択における範囲を著しく拡大することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の局面に従う製造方法の一実施例
の製造工程を示す断面図。

【図２】本発明における感光性材料層の一例を示す断面
図。

【図３】本発明の第１の局面に従う製造方法の他の実施
例の製造工程を示す断面図。

【図４】本発明におけるローラ部周面の凹凸パターンの
一例を示す断面図。

【図５】本発明におけるローラ部周面の凹凸パターンの
他の例を示す断面図。

【図６】本発明の第１の局面に従う製造方法のさらに他
の実施例の製造工程を示す断面図。

【図７】本発明の第１の局面に従う製造方法のさらに他
の実施例の製造工程を示す断面図。

【図８】本発明の第１の局面に従う製造方法のさらに他
の実施例の製造工程を示す断面図。

【図９】本発明の第１の局面に従う製造方法のさらに他
の実施例の製造工程を示す断面図。

【図１０】本発明の第１の局面に従う製造方法のさらに
他の実施例の製造工程を示す断面図。

【図１１】本発明の第２の局面に従う製造方法の一実施
例における製造工程を示す断面図。

【図１２】本発明の第２の局面に従う製造方法の一実施
例における製造工程を示す断面図。

【図１３】本発明の第２の局面に従う製造方法の一実施
例における製造工程を示す断面図。

【図１４】本発明におけるローラ部周面に形成する凹凸
パターンの画像の一例を示す図。

【図１５】図１４に示す凹凸パターンの画像データに基
づいて作成されたマスクフィルムのマスクパターンを示
す図。

【図１６】図１５に示すマスクパターンを有するマスク
フィルムを用いて露光し現像処理した後の感光性材料層
を示す斜視図。

【図１７】図１６に示す感光性材料層を円筒状基材の上
に巻き付けた状態を示す斜視図。

【図１８】図１７に示すローラ部を有する塗装用デザイ
ンローラを示す平面図。

【図１９】本発明におけるローラ部周面に形成する凹凸
パターンの画像の他の例を示す図。

【図２０】図１９に示す凹凸パターンの画像データに基
づいて作成されたマスクフィルムのマスクパターンを示
す図。

【図２１】図１９の凹凸パターンを有する本発明の実施
例の塗装用デザインローラを示す斜視図。

【図２２】本発明におけるローラ部周面に形成する凹凸
パターンの画像の他の例を示す図。

【図２３】図２２に示す凹凸パターンの画像データに基
づいて作成されたマスクフィルムのマスクパターンを示
す図。

【図２４】図２２の凹凸パターンを有する本発明の実施
例の塗装用デザインローラを示す斜視図。

【図２５】本発明の第３の局面に従う製造方法のフロー
チャートを示す図。

【図２６】本発明におけるＣＧシステムを示す模式図。

【図２７】本発明におけるＣＧシステムを示す模式図。

【符号の説明】

１…感光性材料層を有するフィルム ２…感光性材料層 ３…ベースフィルム ４…保護層 ５…マスクフィルム ６…マスク画像 ７…露光領域 ８…未露光領域 １２…感光性材料層 １３…ベースフィルム １５…マスクフィルム １６…マスク画像 １７…露光領域 １８…未露光領域 １９…型 ２０…離型処理層 ２１…成形体 ２２…凹凸パターンの画像 ２３…マスクパターンの画像 ２４…ベースフィルム ２５…凹凸パターンの凸部 ２６…円筒状基材 ２７…支持部 ２８…支柱 ２９…取っ手 ３０…塗装用デザインローラ ３１…凹凸パターンの画像 ３２…マスクパターンの画像 ３３…塗装用デザインローラ ３４…凹凸パターンの画像 ３５…マスクパターンの画像 ３６…塗装用デザインローラ

フロントページの続き (72)発明者 小林 広典 大阪府寝屋川市池田中町19番17号 日本ペ イント株式会社内 Ｆターム(参考） 4D075 AC44 BB46Y CB21 DA15 DB02 DC02 EA21 EA45 4F213 AA44 AB03 AF01 AG08 AK03 WA12 WA36 WA72 WA86 WL12

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 円筒状のローラ部の周面に形成された凹
   凸パターンを、塗装後の塗膜の上に押し当てながら該ロ
   ーラ部を回転させることにより該凹凸パターンを塗膜表
   面に転写して塗膜表面に凹凸模様を形成するための塗装
   用デザインローラを製造する方法であって、 感光性材料層を選択的に露光することにより、該感光性
   材料層に前記凹凸パターンに対応した露光領域と未露光
   領域を形成する工程と、 前記感光性材料層に現像処理を施すことにより、前記露
   光領域または未露光領域のいずれかを除去して前記感光
   性材料層に凹凸パターンを形成する工程と、 前記凹凸パターンを形成した感光性材料層を円筒状基材
   の周面に巻き付けることによりローラ部を製造する工程
   とを備える塗装用デザインローラの製造方法。
2. 【請求項２】 円筒状のローラ部の周面に形成された凹
   凸パターンを、塗装後の塗膜の上に押し当てながら該ロ
   ーラ部を回転させることにより該凹凸パターンを塗膜表
   面に転写して塗膜表面に凹凸模様を形成するための塗装
   用デザインローラを製造する方法であって、 感光性材料層を選択的に露光することにより、該感光性
   材料層に前記凹凸パターンの型となる第２の凹凸パター
   ンに対応した露光領域と未露光領域を形成する工程と、 前記感光性材料層に現像処理を施すことにより、前記露
   光領域または未露光領域のいずれかを除去して前記感光
   性材料層に前記第２の凹凸パターンを形成する工程と、 前記第２の凹凸パターンを形成した感光性材料層を型と
   して用いて、樹脂またはゴムを成形することにより前記
   凹凸パターンを有した成形体を成形する工程と、 前記凹凸パターンを有した成形体を円筒状基材の周面に
   巻き付けることによりローラ部を製造する工程とを備え
   る塗装用デザインローラの製造方法。
3. 【請求項３】 円筒状のローラ部の周面に凹凸パターン
   が形成されており、該凹凸パターンを、塗装後の塗膜の
   上に押し当てながら該ローラ部を回転させることにより
   該凹凸パターンを塗膜表面に転写して塗膜表面に凹凸模
   様を形成するための塗装用デザインローラであって、 前記凹凸パターンが感光性樹脂または感光性ゴムから形
   成されていることを特徴とする塗装用デザインローラ。
4. 【請求項４】 基材上に塗料を塗装した後、請求項３に
   記載の塗装用デザインローラを塗膜表面に押し当てなが
   らローラ部を回転させ、該ローラ部の周面に形成された
   凹凸パターンを塗膜表面に転写して塗膜表面に凹凸模様
   を形成することを特徴とする塗装方法。