JP2000033319A5 - - Google Patents

Description

【０００５】
この後、ノズル１０５を退避させて、昇降機構によって上蓋１０４をカップ１０２に被せて開口部１０１を塞ぎ、カップ１０２内を気密な処理スペース１０６とする。この状態で、カップ１０２、スピンチャック１０３、ガラス基板Ｇ及び上蓋１０４を一体に同期回転させ、遠心力によりガラス基板Ｇの上面にレジスト塗膜を形成する。

【０００９】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するため、請求項１記載に係る本発明の塗布装置は、矩形の基板上に塗布液を塗布する塗布装置であって、回転可能に保持され、前記基板より僅かに大きい矩形の開口部が上部に設けられた容器と、前記容器内で基板を回動可能に保持し、かつ、前記開口部を介して基板を容器内より搬出入する保持部材と、少なくとも前記容器内に搬入された基板の四隅が前記開口部より隠れるまで前記保持部材を回動する手段と、前記容器を前記保持部材と共に回転する手段と、前記回転する容器内で前記保持部材により保持された基板上に塗布液を滴下する手段とを具備するものである。

【００１７】
請求項９記載に係る本発明の塗布方法は、請求項７または８項記載の塗布方法であって、塗布液がレジスト液であり、前記基板上にレジスト液を滴下する前に基板上に前記開口部を介してシンナーを滴下する工程を具備するものである。
請求項１０記載に係る本発明の塗布装置は、請求項１から請求項３のうちいずれか１項記載の塗布装置であって、前記保持部材により保持された基板上に前記開口部を介してシンナーを滴下する手段と、前記開口部に被せられ、前記開口部を閉じた状態で前記容器と共に回転する蓋とを具備し、前記塗布液がレジスト液であり、前記レジスト液を滴下し前記シンナーを滴下する手段は、内管および外管でなる２重構造の管であり、前記蓋の中央にベアリングを介して前記管が設けられていることを特徴とするものである。
請求項１１記載に係る本発明の塗布装置は、請求項１０記載の塗布装置であって、前記内管から前記レジスト液を、前記外管から前記シンナーをそれぞれ前記基板に対して供給することを特徴とするものである。

【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
図１は本発明の一実施形態に係る塗布・現像処理システムの斜視図である。
図１に示すように、この塗布・現像処理システム１の前方には、基板、例えばＬＣＤ用のガラス基板Ｇを、塗布・現像処理システム１に対して搬出入するローダ・アンローダ部２が設けられている。このローダ・アンローダ部２には、ガラス基板Ｇを例えば２５枚ずつ収納したカセットＣを所定位置に整列させて載置させるカセット載置台３と、各カセットＣから処理すべきガラス基板Ｇを取り出し、また塗布・現像処理システム１において処理の終了したガラス基板Ｇを各カセットＣへ戻すローダ・アンローダ４が設けられている。図示のローダ・アンローダ４は、本体５の走行によってカセットＣの配列方向に移動し、本体５に搭載された板片状のピンセット６によって各カセットＣからガラス基板Ｇを取り出し、また各カセットＣへガラス基板Ｇを戻すようになっている。また、ピンセット６の両側には、ガラス基板Ｇの四隅を保持して位置合わせを行う基板位置合わせ部材７が設けられている。

【００２８】
以上の各処理装置１５〜１８および２０〜２３は、何れも搬送路１０、１１の両側において、ガラス基板Ｇの出入口を内側に向けて配設されている。第１の搬送装置２５がローダ・アンローダ部２、各処理装置１５〜１８および受け渡し部１２との間でガラス基板Ｇを搬送するために搬送路１０上を移動し、第２の搬送装置２６が受け渡し部１２および各処理装置２０〜２３との間でガラス基板Ｇを搬送するために搬送路１１上を移動するようになっている。各搬送装置２５、２６は、それぞれ上下一対のアーム２７、２７を有しており、各処理装置１５〜１８および２０〜２３にアクセスするときは、一方のアーム２７で各処理装置のチャンバから処理済みのガラス基板Ｇを搬出し、他方のアーム２７で処理前のガラス基板Ｇをチャンバ内に搬入するように構成されている。

【００３２】
スピンチャック２８の載置部４０の外周側下面には、シール部材４１が取り付けられている。スピンチャック２８を下降させて、シール部材４１をカップ２９の底部に当接させると、気密な処理スペース４２が形成されるようになっている．なお、このシール部材４１はカップ２９の底面の方に取り付けてもよい。

【００３７】
カップ２９は、固定カラー４４の外周面にベアリング５３を介して装着される回転外筒５４の上端部に固定される連結筒５５を介して取り付けられており、回転外筒５４に装着される従動プーリ５６と第２のモータ３２の駆動軸５７に装着される駆動プーリ５８に掛け渡されるタイミングベルト５９によって第2のモータ３２からの駆動がカップ２９に伝達されてカップ２９が水平方向に回転されるように構成されている。

【００５４】
本発明は、上述した実施の形態に限定されない。
例えば、最初の実施の形態では、第１のモータと第２のモータとを同期回転させることで、ガラス基板Ｇをカップ２９と共に回転するものであったが、ガラス基板Ｇの９０°回動については別の駆動手段によって行うようにして、ガラス基板Ｇとカップ２９とを１つのモータで回転させるように構成してもよい。
また、上述した実施の形態では、処理液としてレジスト液を例にとり説明したが、他の処理液にも当然適用できる。
さらに、基板としてガラス基板Ｇを例にとり説明したが、長方形の基板であればその材質は問われない。

【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る塗布・現像処理システムの斜視図である。
【図２】図１に示したレジスト塗布装置の正面図である。
【図３】図１に示したレジスト塗布装置の平面図である。
【図４】図２及び図３に示したレジスト塗布装置における処理の流れを示すフローである。
【図５】図４に示したステップ４０１でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図６】図４に示したステップ４０２でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図７】図４に示したステップ４０３でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図８】図４に示したステップ４０４でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図９】図４に示したステップ４０５でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図１０】図４に示したステップ４０６でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図１１】図４に示したステップ４０７でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図１２】図４に示したステップ４０８でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図１３】図４に示したステップ４０９でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図１４】図４に示したステップ４１０でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図１５】図４に示したステップ４１１でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図１６】図４に示したステップ４１２でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図１７】図４に示したステップ４１３でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図１８】図４に示したステップ４１４でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図１９】図４に示したステップ４１５でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図２０】図４に示したステップ４１６でのレジスト塗布装置の状態を示す概略図である。
【図２１】本発明の第２の実施形態に係るレジスト塗布装置の平面図である。
【図２２】従来の回転カップ式塗布装置の一例を示す正面図である。
【図２３】図２２に示した回転カップ式塗布装置の平面図である。
【図２４】本発明の変形例に係るレジスト塗布装置の平面図である。
【図２５】本発明の変形例に係るレジスト塗布装置の平面図である。
【図２６】本発明の変形例に係るレジスト塗布装置の拡大図である。

【符号の説明】
２３ レジスト塗布装置
２８ スピンチャック
２９ カップ
３０ 上蓋
３１ 第１のモータ
３２ 第２のモータ
３４ 第１のノズル
３８ 開口部

Claims (11)

1. 矩形の基板上に塗布液を塗布する塗布装置であって、
   回転可能に保持され、前記基板より僅かに大きい矩形の開口部が上部に設けられた容器と、
   前記容器内で基板を回動可能に保持し、かつ、前記開口部を介して基板を容器内より搬出入する保持部材と、
   少なくとも前記容器内に搬入された基板の四隅が前記開口部より隠れるまで前記保持部材を回動する手段と、
   前記容器を前記保持部材と共に回転する手段と、
   前記回転する容器内で前記保持部材により保持された基板上に塗布液を滴下する手段と
   を具備することを特徴とする塗布装置。
2. 請求項１記載の塗布装置であって、
   前記保持部材を回動する手段が、前記保持部材をほぼ９０°回転することを特徴とする塗布装置。
3. 矩形の基板上に塗布液を塗布する塗布装置であって、
   回転可能に保持され、前記基板より僅かに大きい矩形の開口部が上部に設けられた容器と、
   前記容器内で基板を保持すると共に、前記開口部を介して基板を容器内より搬出入する保持部材と、
   前記開口部を介して容器内に搬入された基板の四隅を開口部より覆う手段と、
   前記容器を前記保持部材と共に回転する手段と、
   前記回転する容器内で前記保持部材により保持された基板上に塗布液を滴下する手段と
   を具備することを特徴とする塗布装置。
4. 請求項１から請求項３のうちいずれか１項記載の塗布装置であって、
   塗布液がレジスト液であり、
   前記保持部材により保持された基板上に前記開口部を介してシンナーを滴下する手段を具備することを特徴とする塗布装置。
5. 請求項１から請求項４のうちいずれか１項記載の塗布装置であって、
   前記容器の開口部に蓋をして前記容器を前記保持部材と共に回転する手段を具備することを特徴とする塗布装置。
6. 請求項１から請求項５のうちいずれか１項記載の塗布装置であって、
   前記容器内を洗浄する手段を具備することを特徴とする塗布装置。
7. 矩形の基板上に塗布液を塗布する塗布方法であって、
   前記基板より僅かに大きい矩形の開口部が上部に設けられた容器の該開口部を介して基板を容器内に搬入する工程と、
   前記容器内に基板を搬入した後に、少なくとも基板の四隅が前記開口部より隠れるまで基板を回動する工程と、
   前記基板を回動した後に、前記容器を基板と共に回転しつつ前記開口部を介して基板上に塗布液を滴下する工程と
   を具備することを特徴とする塗布方法。
8. 矩形の基板上に塗布液を塗布する塗布方法であって、
   前記基板より僅かに大きい矩形の開口部が上部に設けられた容器の該開口部を介して基板を容器内に搬入する工程と、
   前記容器内に基板を搬入した後に、少なくとも基板の四隅が前記開口部より隠れるまで開口部を覆う工程と、
   前記開口部を覆った後に、前記容器を基板と共に回転しつつ前記開口部を介して基板上に塗布液を滴下する工程と
   を具備することを特徴とする塗布方法。
9. 請求項７または８項記載の塗布方法であって、
   塗布液がレジスト液であり、
   前記基板上にレジスト液を滴下する前に基板上に前記開口部を介してシンナーを滴下する工程を具備することを特徴とする塗布方法。
10. 請求項１から請求項３のうちいずれか１項記載の塗布装置であって、
    前記保持部材により保持された基板上に前記開口部を介してシンナーを滴下する手段と、
    前記開口部に被せられ、前記開口部を閉じた状態で前記容器と共に回転する蓋と
    を具備し、
    前記塗布液がレジスト液であり、
    前記レジスト液を滴下し前記シンナーを滴下する手段は、内管および外管でなる２重構造の管であり、
    前記蓋の中央にベアリングを介して前記管が設けられていることを特徴とする塗布装置。
11. 請求項１０記載の塗布装置であって、
    前記内管から前記レジスト液を、前記外管から前記シンナーをそれぞれ前記基板に対して供給することを特徴とする塗布装置。