JP2000031238A - Substrate transfer equipment - Google Patents

Substrate transfer equipment

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JP2000031238A
JP2000031238A JP19610298A JP19610298A JP2000031238A JP 2000031238 A JP2000031238 A JP 2000031238A JP 19610298 A JP19610298 A JP 19610298A JP 19610298 A JP19610298 A JP 19610298A JP 2000031238 A JP2000031238 A JP 2000031238A
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transfer
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shaft
drive
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竹志 谷口
Mitsuo Ogasawara
光雄 小笠原
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate transfer equipment where a driving source such as a motor is protected against troubles caused by a processing liquid atmosphere or a processing solution. SOLUTION: A roller support frame 71 is kept in a state to transfer a substrate along a horizontal plane with the rod 82A of a cylinder 82 extended. When the extended rod 82A is contracted by the cylinder 82, the roller support frame 71 is tilted by making the support pins 75 and 76 which are extended vertically along the transfer direction TD serve as a center. A drive shaft 77 through which a drive force is transmitted to a transfer roller 21 serves as a center of swing of a roller support frame 71, so that the engagement of a bevel gear 78 attached to the rotary shaft of a transfer roller 21 with a bevel gear 79 attached to a drive shaft 77 is restrained from being broken off even if the roller support frame 71 is tilted, and the transfer roller 21 can be rotated by the drive force of a motor 80. It is not necessary that the motor 80 is tilted together with the roller support frame 71.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用ガ
ラス基板のようなFPD(Flat Panel Display:フラッ
トパネルディスプレイ)用基板、フォトマスク用ガラス
基板および半導体ウエハなどの各種の基板をその主面に
沿った搬送方向に搬送するとともに、搬送方向にほぼ平
行な軸線まわりに傾けることができる基板搬送装置に関
する。
The present invention relates to various substrates such as a flat panel display (FPD) substrate such as a glass substrate for a liquid crystal display device, a glass substrate for a photomask, and a semiconductor wafer. The present invention relates to a substrate transfer apparatus that can transfer in a transfer direction along the axis and tilt about an axis substantially parallel to the transfer direction.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置のようなフラットパネルデ
ィスプレイの製造工程においては、基板の表面に対し
て、エッチング液などの処理液を用いた処理を施すため
の基板処理装置が用いられる。この種の基板処理装置の
中には、処理液が基板上で滞留することがないように、
基板を搬送方向にほぼ平行な軸線まわりに傾いた姿勢で
搬送しながら、基板の表面に処理液を供給するようにし
たものがある。
2. Description of the Related Art In a manufacturing process of a flat panel display such as a liquid crystal display device, a substrate processing apparatus for performing a process using a processing liquid such as an etching liquid on the surface of a substrate is used. In this type of substrate processing equipment, so that the processing liquid does not stay on the substrate,
In some cases, the processing liquid is supplied to the surface of the substrate while the substrate is transported in a posture inclined about an axis substantially parallel to the transport direction.

【0003】このような基板処理装置には、通常、ほぼ
水平な状態で搬送されてくる基板を傾斜させることので
きる基板搬送装置が備えられている。この基板搬送装置
の構成例は、たとえば特開平9−155306号公報に
記載されている。
[0003] Such a substrate processing apparatus is usually provided with a substrate transfer device capable of inclining a substrate transferred in a substantially horizontal state. An example of the configuration of the substrate transfer apparatus is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-155306.

【0004】上記公開公報に記載された基板搬送装置
は、互いに平行な位置関係で搬送方向に沿って並設され
た複数本の搬送ローラを有している。この複数本の搬送
ローラは、ローラ支持枠に一体的に支持されており、ロ
ーラ支持枠に取り付けられたモータなどの駆動手段によ
って回転駆動されるようになっている。また、ローラ支
持枠の搬送方向に沿う一方端縁付近には、エアシリンダ
のロッドが連結されていて、このロッドを伸縮させるこ
とにより、複数本の搬送ローラは、その回転軸が水平方
向に伸びた水平状態と搬送方向にほぼ平行な軸線まわり
に傾斜した傾斜状態との間で変位されるようになってい
る。
[0004] The substrate transfer device described in the above-mentioned publication has a plurality of transfer rollers arranged in parallel in the transfer direction in a positional relationship parallel to each other. The plurality of transport rollers are integrally supported by a roller support frame, and are rotationally driven by driving means such as a motor attached to the roller support frame. Also, a rod of an air cylinder is connected near one edge along the transport direction of the roller support frame, and by expanding and contracting the rod, the plurality of transport rollers have their rotation shafts extending in the horizontal direction. The inclined state is inclined between an inclined horizontal state and an inclined state about an axis substantially parallel to the transport direction.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような基板搬送装置を基板に所定の処理液を供給して基
板を処理する処理槽と隣接する位置に配置し、この処理
槽に例えば傾斜状態の基板を処理槽に設けられた基板搬
入口に向けて搬送する場合には、次のような問題が発生
する。すなわち、処理槽内の処理液を含む雰囲気(以
下、処理液雰囲気と称す)が基板搬入口から基板搬送装
置のモータなどの駆動部に流入し、モータなどの駆動部
が故障するという問題が発生する。
However, the above-described substrate transfer apparatus is disposed at a position adjacent to a processing tank for processing a substrate by supplying a predetermined processing liquid to the substrate, and the processing tank is provided with, for example, an inclined state. When the substrate is transported toward the substrate loading port provided in the processing tank, the following problem occurs. That is, the problem that the atmosphere containing the processing liquid in the processing tank (hereinafter, referred to as the processing liquid atmosphere) flows into the driving unit such as the motor of the substrate transfer device from the substrate loading port, and the driving unit such as the motor breaks down. I do.

【0006】また、上記の基板搬送装置を上記のような
処理槽内に設ける場合がある。例えば、水平状態で基板
を搬送させつつ基板を所定の処理液に浸漬させて処理す
る浸漬槽と、浸漬槽で処理された基板の姿勢を水平状態
から傾斜状態に変更した後、傾斜状態で基板を搬送させ
つつ基板の表面に向けて所定の処理液を供給する処理槽
とを有する基板処理装置においては、基板処理装置を小
型化するために、上記の基板搬送装置を処理槽内に設け
ることがある。このように、処理槽内に基板搬送装置が
設けられている場合、処理槽内で基板に供給された処理
液によって基板搬送装置の駆動部が故障することを防止
する必要がある。
In some cases, the above-described substrate transfer device is provided in the above-described processing tank. For example, an immersion tank in which a substrate is immersed in a predetermined processing solution while transporting the substrate in a horizontal state, and a substrate treated in the immersion tank is changed from a horizontal state to an inclined state, and then the substrate is inclined. In a substrate processing apparatus having a processing tank that supplies a predetermined processing liquid toward the surface of the substrate while transferring the substrate, the substrate transfer apparatus described above is provided in the processing tank in order to reduce the size of the substrate processing apparatus. There is. As described above, when the substrate transfer device is provided in the processing bath, it is necessary to prevent the driving unit of the substrate transfer device from being broken by the processing liquid supplied to the substrate in the processing bath.

【0007】本発明の目的は、上述のような点に鑑み、
処理液雰囲気や処理液によりモータなどの駆動源が故障
することを防止できる基板搬送装置を提供することであ
る。
In view of the above, an object of the present invention is to provide
It is an object of the present invention to provide a substrate transfer apparatus capable of preventing a drive source such as a motor from being damaged by a processing liquid atmosphere or a processing liquid.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段および発明の効果】上記の
目的を達成するための請求項1記載の発明は、基板をそ
の主面に沿った搬送方向に搬送するとともに、基板の姿
勢を所定の第1姿勢から、この第1姿勢に対して上記搬
送方向にほぼ平行な回動軸線まわりに傾いた第2姿勢に
変更する基板搬送装置において、基板を支持しつつその
主面に沿った方向に搬送する搬送手段と、この搬送手段
を上記回動軸線まわりに傾けて、上記搬送手段に支持さ
れた基板の姿勢を上記第1姿勢から上記第2姿勢に変更
する傾斜手段と、その内部に上記搬送手段を収納する収
納手段と、この収納手段の内部かつ上記回動軸線上に配
置され、上記回動軸線まわりに回転駆動される駆動軸
と、上記収納手段の外部に固定配置され、上記駆動軸を
駆動するための駆動源と、上記収納手段を貫通して設け
られ、上記駆動源による駆動力を上記駆動軸に伝達する
第1伝達手段と、上記駆動軸による駆動力を上記搬送手
段に伝達する第2伝達手段と、を備えたことを特徴とす
る基板搬送装置である。
Means for Solving the Problems and Effects of the Invention According to the first aspect of the present invention, a substrate is transported in a transport direction along a main surface thereof, and a posture of the substrate is adjusted to a predetermined position. In a substrate transport apparatus for changing from the first attitude to a second attitude inclined about a rotation axis substantially parallel to the transport direction with respect to the first attitude, the substrate is supported while supporting the substrate in a direction along the main surface thereof. Transport means for transporting, tilt means for inclining the transport means about the rotation axis, and changing the attitude of the substrate supported by the transport means from the first attitude to the second attitude; A storage means for storing the transfer means, a drive shaft disposed inside the storage means and on the rotation axis and driven to rotate about the rotation axis, and fixedly disposed outside the storage means, Drive to drive the axis A first transmission means provided through the storage means for transmitting a driving force from the driving source to the driving shaft; a second transmission means for transmitting the driving force from the driving shaft to the transport means; A substrate transport device comprising:

【0009】この請求項1に係る発明によれば、搬送手
段により基板をその主面に沿った方向に搬送することが
できるとともに、傾斜手段により搬送手段を回動軸線ま
わりに傾けて搬送手段に支持された基板の姿勢を第1姿
勢から第2姿勢に変更することができる。
According to the first aspect of the present invention, the substrate can be transported in the direction along the main surface by the transporting means, and the transporting means can be tilted around the rotation axis by the tilting means to be transferred to the transporting means. The posture of the supported substrate can be changed from the first posture to the second posture.

【0010】また、駆動源が収納手段の外部に固定配置
されているので、収納手段の内部に存在する処理液雰囲
気や処理液がモータなどの駆動源に達することがなく、
駆動部が故障することを防止できる。
Further, since the drive source is fixedly arranged outside the storage means, the processing liquid atmosphere and the processing liquid existing inside the storage means do not reach the drive source such as the motor.
The failure of the drive unit can be prevented.

【0011】さらに、駆動軸が回動軸線上に配置されて
いるので、傾斜手段によって搬送手段が回動軸まわりに
傾けられたときに、駆動軸の配置位置が変位することは
ない。したがって、搬送手段の傾斜状態にかかわらず第
1伝達手段を固定配置できるので、第1伝達手段を貫通
させるために収納手段に設ける貫通孔を長穴等にする必
要がなく、貫通孔付近のシール性が向上できる。ゆえ
に、収納手段の内部に存在する処理液雰囲気や処理液に
起因してモータなどの駆動源が故障することを確実に防
止できる。
Further, since the drive shaft is arranged on the rotation axis, the arrangement position of the drive shaft does not change when the conveying means is tilted around the rotation axis by the inclination means. Therefore, the first transmitting means can be fixedly arranged regardless of the inclined state of the transporting means, so that it is not necessary to make the through-hole provided in the storage means for penetrating the first transmitting means into an elongated hole or the like. Performance can be improved. Therefore, it is possible to reliably prevent a drive source such as a motor from breaking down due to the processing liquid atmosphere or the processing liquid existing inside the storage means.

【0012】またさらに、駆動源を固定配置できるの
で、搬送手段の回動に応じて駆動源が回動する場合に確
保される駆動源回動用の空間が不要となり、基板搬送装
置のコンパクト化を図ることができる。
Further, since the drive source can be fixedly arranged, the space for the drive source rotation secured when the drive source is rotated according to the rotation of the transfer means is not required, and the substrate transfer device can be made compact. Can be planned.

【0013】請求項2記載の発明は、請求項1に記載の
基板搬送装置において、第1伝達手段は、上記駆動源と
連結され、上記搬送方向と直交する軸線まわりに上記駆
動源により回転駆動される出力軸と、この出力軸に設け
られた出力用ギアと、上記駆動軸に設けられ、上記出力
用ギヤと噛合する介在ギアとを有することを特徴とする
基板搬送装置である。
According to a second aspect of the present invention, in the substrate transfer apparatus according to the first aspect, the first transmission means is connected to the driving source, and is rotationally driven by the driving source about an axis orthogonal to the transport direction. A substrate transfer device comprising: an output shaft to be used; an output gear provided on the output shaft; and an intermediary gear provided on the drive shaft and meshing with the output gear.

【0014】この請求項2に係る発明によれば、介在ギ
アが回動軸線上に配置された駆動軸に設けられているの
で、傾斜手段により搬送手段が傾けられても、介在ギア
の位置が変位することがない。したがって、搬送手段の
傾斜状態にかかわらず、駆動源により駆動される出力軸
に設けられた出力用ギアと介在ギアとの噛合状態を保つ
ことができて、駆動源による駆動力を搬送手段に確実に
伝達することができる。
According to the second aspect of the present invention, since the intervening gear is provided on the drive shaft disposed on the rotation axis, the position of the intervening gear can be maintained even if the conveying means is tilted by the tilting means. There is no displacement. Therefore, regardless of the inclined state of the conveying means, the meshing state between the output gear provided on the output shaft driven by the driving source and the interposed gear can be maintained, and the driving force by the driving source can be reliably transmitted to the conveying means. Can be transmitted to

【0015】請求項3記載の発明は、請求項1または請
求項2に記載の基板搬送装置において、上記第2伝達手
段は、上記搬送方向と直交する軸線まわりに回転駆動さ
れる入力軸と、この入力軸に設けられた入力用ギアと、
上記駆動軸に設けられ、上記入力用ギヤと噛合する介在
ギアとを有することを特徴とする基板搬送装置である。
According to a third aspect of the present invention, in the substrate transfer apparatus according to the first or second aspect, the second transmission means includes an input shaft that is driven to rotate about an axis orthogonal to the transfer direction; An input gear provided on the input shaft;
A substrate transfer device, comprising: an intervening gear provided on the drive shaft and meshing with the input gear.

【0016】この請求項3に係る発明によれば、介在ギ
アが回動軸線上に配置された駆動軸に設けられているの
で、傾斜手段により搬送手段が傾けられても、介在ギア
の位置が変位することがない。したがって、搬送手段の
傾斜状態にかかわらず、入力用ギアと介在ギアとの噛合
状態を保つことができ、駆動源による駆動力を搬送手段
に確実に伝達することができる。
According to the third aspect of the present invention, since the intervening gear is provided on the drive shaft disposed on the rotation axis, the position of the intervening gear can be maintained even if the conveying means is tilted by the tilting means. There is no displacement. Therefore, the meshing state between the input gear and the intervening gear can be maintained irrespective of the inclined state of the conveying means, and the driving force of the drive source can be reliably transmitted to the conveying means.

【0017】請求項4記載の発明は、基板をその主面に
沿った搬送方向に搬送するとともに、基板の姿勢を所定
の第1姿勢から、この第1姿勢に対して上記搬送方向に
ほぼ平行な回動軸線まわりに傾いた第2姿勢に変更する
基板搬送装置において、基板を支持しつつその主面に沿
った方向に搬送する搬送手段と、この搬送手段を上記回
動軸線まわりに傾けて、上記搬送手段に支持された基板
の姿勢を上記第1姿勢から上記第2姿勢に変更する傾斜
手段と、その内部に上記搬送手段を収納する収納手段
と、この収納手段の外部に固定配置され、上記搬送手段
を駆動するための駆動源と、上記収納手段を貫通し、上
記駆動源により上記搬送方向と直交する軸線まわりに回
転駆動される出力軸と、上記搬送手段に連結され、上記
搬送方向と直交する軸線まわりに回転駆動される入力軸
と、上記出力軸と上記入力軸とがー直線状に延びた状態
および上記出力軸に対して上記入力軸が傾斜した状態
で、上記出力軸による駆動力を上記入力軸に伝達可能に
上記出力軸と上記入力軸とを連結する連結手段と、を備
えたことを特徴とする基板搬送装置である。
According to a fourth aspect of the present invention, the substrate is transported in the transport direction along the main surface thereof, and the substrate is shifted from a predetermined first attitude to the first attitude substantially parallel to the transport direction. A transfer means for supporting a substrate and transferring the substrate in a direction along a main surface thereof, and tilting the transfer means about the rotation axis. A tilting means for changing the attitude of the substrate supported by the transporting means from the first attitude to the second attitude, a storing means for storing the transporting means therein, and a fixed means disposed outside the storing means. A drive source for driving the transport unit, an output shaft that penetrates the storage unit and is driven to rotate about an axis orthogonal to the transport direction by the drive source, and connected to the transport unit, Orthogonal to the direction An input shaft that is driven to rotate around a line, the output shaft and the input shaft are in a state where they extend linearly, and in a state where the input shaft is inclined with respect to the output shaft, the driving force of the output shaft is reduced. A substrate transport device comprising: a coupling unit that couples the output shaft and the input shaft so as to be able to transmit to the input shaft.

【0018】この請求項4に係る発明によれば、搬送手
段により基板をその主面に沿った方向に搬送することが
できるとともに、傾斜手段により搬送手段を回動軸線ま
わりに傾けて搬送手段に支持された基板の姿勢を第1姿
勢から第2姿勢に変更することができる。
According to the fourth aspect of the present invention, the substrate can be transported in the direction along the main surface by the transporting means, and the transporting means can be tilted about the rotation axis by the tilting means to the transporting means. The posture of the supported substrate can be changed from the first posture to the second posture.

【0019】また、駆動源が収納手段の外部に固定配置
されているので、収納手段の内部に存在する処理液雰囲
気や処理液がモータなどの駆動源に達することがなくな
り、駆動源が故障することを防止できる。
Further, since the drive source is fixedly disposed outside the storage means, the processing liquid atmosphere and the processing liquid existing inside the storage means do not reach the drive source such as the motor, and the drive source is broken. Can be prevented.

【0020】さらに、連結手段により出力軸と入力軸と
がー直線状に延びた状態および出力軸に対して入力軸が
傾斜した状態で、出力軸による駆動力を入力軸に伝達で
きるので、搬送手段の傾斜状態にかかわらず出力軸を固
定配置できるので、出力軸を貫通させるために収納手段
に設ける貫通孔を長穴等にする必要がなくなり、貫通孔
付近のシール性が向上できて、収納手段の内部に存在す
る処理液雰囲気や処理液に起因してモータなどの駆動源
が故障することを確実に防止できる。
Further, the driving force of the output shaft can be transmitted to the input shaft in a state where the output shaft and the input shaft extend linearly by the connecting means and in a state where the input shaft is inclined with respect to the output shaft. Since the output shaft can be fixedly arranged regardless of the inclined state of the means, it is not necessary to make the through-hole provided in the storage means in order to penetrate the output shaft into an elongated hole, etc. It is possible to reliably prevent a drive source such as a motor from breaking down due to the processing liquid atmosphere or the processing liquid existing inside the means.

【0021】またさらに、駆動源を固定配置できるの
で、搬送手段の回動に応じて駆動源が回動する場合に確
保される駆動源回動用の空間が不要となり、基板搬送装
置のコンパクト化を図ることができる。
Further, since the drive source can be fixedly arranged, the space for the drive source rotation secured when the drive source is rotated according to the rotation of the transfer means is not required, and the substrate transfer apparatus can be made compact. Can be planned.

【0022】請求項5記載の発明は、基板をその主面に
沿った搬送方向に搬送するとともに、基板の姿勢を所定
の第1姿勢から、この第1姿勢に対して上記搬送方向に
ほぼ平行な回動軸線まわりに傾いた第2姿勢に変更する
基板搬送装置において、基板を支持しつつその主面に沿
った方向に搬送する搬送手段と、この搬送手段を上記回
動軸線まわりに傾けて、上記搬送手段に支持された基板
の姿勢を上記第1姿勢から上記第2姿勢に変更する傾斜
手段と、その内部に上記搬送手段を収納する収納手段
と、収納手段の外部に固定配置され、上記搬送手段を駆
動するための駆動源と、上記搬送手段に支持された基板
の姿勢が第1姿勢となるように上記傾斜手段により上記
搬送手段が傾けられたときに、上記駆動源による駆動力
を上記搬送手段に伝達するための第1駆動力伝達手段
と、上記搬送手段に支持された基板の姿勢が第2姿勢と
なるように上記傾斜手段により上記搬送手段が傾けられ
たときに、上記駆動源による駆動力を上記搬送手段に伝
達するための第2駆動力伝達手段と、を備えたことを特
徴とする基板処理装置である。
According to a fifth aspect of the present invention, the substrate is transported in the transport direction along the main surface thereof, and the substrate is moved from a predetermined first attitude to the first attitude substantially parallel to the transport direction. A transfer means for supporting a substrate and transferring the substrate in a direction along a main surface thereof, and tilting the transfer means about the rotation axis. Tilting means for changing the attitude of the substrate supported by the transport means from the first attitude to the second attitude, storage means for storing the transport means therein, and fixedly disposed outside the storage means; A drive source for driving the transfer unit, and a driving force generated by the drive source when the transfer unit is tilted by the tilt unit so that the posture of the substrate supported by the transfer unit is the first position. To the above-mentioned transport means. A first driving force transmitting means for performing the driving force by the driving source when the conveying means is tilted by the tilting means so that the posture of the substrate supported by the conveying means becomes the second posture. And a second driving force transmitting means for transmitting the driving force to the transporting means.

【0023】この請求項5に係る発明によれば、搬送手
段により基板をその主面に沿った方向に搬送することが
できるとともに、傾斜手段により搬送手段を回動軸線ま
わりに傾けて搬送手段に支持された基板の姿勢を第1姿
勢から第2姿勢に変更することができる。
According to the fifth aspect of the present invention, the substrate can be transported in the direction along the main surface by the transporting means, and the transporting means can be tilted around the rotation axis by the tilting means to be transferred to the transporting means. The posture of the supported substrate can be changed from the first posture to the second posture.

【0024】また、搬送手段に支持された基板の姿勢が
第1姿勢となるように傾斜手段により搬送手段が傾けら
れたときに、搬送手段を駆動するための第1駆動力伝達
手段と、搬送手段に支持された基板の姿勢が第2姿勢と
なるように傾斜手段により搬送手段が傾けられたとき
に、搬送手段を駆動するための第2駆動力伝達手段とが
それぞれ設けられているので、搬送手段の傾斜状態にか
かわらず駆動源を収納手段の外部に固定配置することが
できる。したがって、収納手段の内部に存在する処理液
雰囲気や処理液がモータなどの駆動源に達することがな
くなり、駆動源が故障することを防止できる。
A first driving force transmitting means for driving the transfer means when the transfer means is tilted by the tilt means so that the posture of the substrate supported by the transfer means becomes the first position; And a second driving force transmitting means for driving the transport means when the transport means is tilted by the tilt means so that the attitude of the substrate supported by the means becomes the second attitude. The drive source can be fixedly disposed outside the storage means regardless of the inclined state of the transfer means. Therefore, the processing liquid atmosphere and the processing liquid existing inside the storage means do not reach the driving source such as the motor, and the driving source can be prevented from being broken.

【0025】さらに、搬送手段の傾斜状態に応じて第1
駆動力伝達手段および第2駆動力伝達手段がそれぞれ設
けられているので、搬送手段の傾斜状態にかかわらず、
第1駆動力伝達手段および第2駆動力伝達手段を固定配
置することができる。したがって、第1駆動力伝達手段
または第2駆動力伝達手段を貫通させるために収納手段
に設ける貫通孔を長穴等にする必要がなくなり、貫通孔
付近のシール性が向上できて、収納手段の内部に存在す
る処理液雰囲気や処理液に起因してモータなどの駆動源
が故障することを確実に防止できる。
Further, the first state may be selected according to the inclined state of the conveying means.
Since the driving force transmitting means and the second driving force transmitting means are provided respectively, regardless of the inclined state of the conveying means,
The first driving force transmitting means and the second driving force transmitting means can be fixedly arranged. Therefore, it is not necessary to use a long hole or the like for the through-hole provided in the storage means for allowing the first driving force transmission means or the second driving force transmission means to pass therethrough. Failure of a drive source such as a motor due to the processing liquid atmosphere or the processing liquid present inside can be reliably prevented.

【0026】またさらに、駆動源を固定配置できるの
で、搬送手段の回動に応じて駆動源が回動する場合に確
保される駆動源回動用の空間が不要となり、基板搬送装
置のコンパクト化を図ることができる。
Further, since the drive source can be fixedly arranged, a space for the drive source rotation secured when the drive source is rotated according to the rotation of the transfer means becomes unnecessary, and the substrate transfer apparatus can be made compact. Can be planned.

【0027】請求項6記載の発明は、請求項5に記載の
基板搬送装置において、上記搬送手段は、上記搬送方向
と平行な軸線まわりに回転駆動され、上記傾斜手段によ
って上記搬送手段とー体に傾斜する駆動軸を有し、上記
第1駆動力伝達手段は、上記収納槽を貫通し、上記駆動
源により回転駆動される第1出力軸と、この第1出力軸
に設けられた第1出力用ギアと、上記搬送手段に支持さ
れた基板の姿勢が上記第1姿勢となるように上記傾斜手
段によって上記搬送手段が傾けられたときに、上記第1
出力用ギアと噛合するように上記駆動軸に設けられた第
1介在ギアとを有し、上記第2駆動力伝達手段は、上記
収納槽を貫通し、上記駆動源により回転駆動される第2
出力軸と、この第2出力軸に設けられた第2出力用ギア
と、上記搬送手段に支持された基板の姿勢が上記第2姿
勢となるように上記傾斜手段によって上記搬送手段が傾
けられたときに、上記第2出力用ギアと噛合するように
上記駆動軸に設けられた第2介在ギアとを有することを
特徴とする基板搬送装置である。
According to a sixth aspect of the present invention, in the substrate transfer apparatus according to the fifth aspect, the transfer means is driven to rotate about an axis parallel to the transfer direction, and the transfer means and the body are rotated by the tilt means. The first driving force transmission means penetrates the storage tank and is driven to rotate by the driving source, and the first output shaft provided on the first output shaft. When the transfer means is tilted by the tilting means so that the posture of the output gear and the substrate supported by the transfer means becomes the first posture,
A first intervening gear provided on the drive shaft so as to mesh with the output gear, wherein the second driving force transmitting means penetrates the storage tank and is driven to rotate by the drive source;
An output shaft, a second output gear provided on the second output shaft, and the transfer means being tilted by the tilting means such that a posture of the substrate supported by the transfer means becomes the second posture. And a second intervening gear provided on the drive shaft so as to mesh with the second output gear.

【0028】この請求項6に係る発明によれば、搬送手
段の傾斜状態に応じて、第1駆動力伝達手段が有する第
1出力用ギアと第1介在ギアとが噛合し、また、第2駆
動力伝達手段が有する第2出力用ギアと第2介在ギアと
が噛合するので、搬送手段の傾斜状態にかかわらず、駆
動源による駆動力を、第1駆動力伝達手段または第2駆
動力伝達手段を介して搬送手段に確実に伝達することが
できる。
According to the sixth aspect of the present invention, the first output gear and the first intervening gear of the first driving force transmitting means are meshed with each other, and Since the second output gear and the second intervening gear of the driving force transmitting means mesh with each other, the driving force from the driving source is transmitted to the first driving force transmitting means or the second driving force transmitting regardless of the inclined state of the conveying means. It can be reliably transmitted to the conveying means via the means.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下では、この発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0030】図1は、この発明に係る基板搬送装置が適
用される基板処理装置の構成を簡略化して示す断面図で
ある。この基板処理装置は、たとえば、液晶表示装置用
ガラス基板などの基板Sを搬送方向TDに向けて次々と
搬送しながら、この基板Sの表面にエッチング液を供給
することによって、基板Sの表面にエッチング処理を施
すための装置である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a simplified structure of a substrate processing apparatus to which the substrate transfer apparatus according to the present invention is applied. The substrate processing apparatus supplies an etchant to the surface of the substrate S, for example, while sequentially transporting the substrates S such as a glass substrate for a liquid crystal display device in the transport direction TD. This is an apparatus for performing an etching process.

【0031】このような機能を実現するために、この基
板処理装置は、搬送方向TDに関して上流側から順に、
入口コンベア1、エッチング処理槽2、水洗処理槽3お
よび出口コンベア4を、搬送方向TDに沿って結合して
構成されている。入口コンベア1、エッチング処理槽
2、水洗処理槽3および出口コンベア4は、いずれも、
互いにほぼ平行な位置関係で配列された複数本の搬送ロ
ーラ11,21,31,41を備えている。搬送ローラ
11,21,31,41は、それぞれ、搬送方向TDと
直交する方向に延びた軸線まわりに回転して、その上に
置かれた基板Sを搬送方向TDに沿って搬送することが
できる。
In order to realize such a function, this substrate processing apparatus is arranged in the order from the upstream side in the transport direction TD.
An inlet conveyor 1, an etching tank 2, a washing tank 3 and an outlet conveyor 4 are connected together in the transport direction TD. The entrance conveyor 1, the etching treatment tank 2, the washing treatment tank 3, and the exit conveyor 4,
A plurality of transport rollers 11, 21, 31, 41 are arranged in a substantially parallel positional relationship with each other. Each of the transport rollers 11, 21, 31, and 41 rotates around an axis extending in a direction orthogonal to the transport direction TD, and can transport the substrate S placed thereon along the transport direction TD. .

【0032】未処理の基板Sは、図示しない基板搬入ロ
ボットによって、入口コンべア1の搬送ローラ11上に
水平姿勢で戦置される。この載置された基板Sは、搬送
ローラ11によって水平姿勢を保ったままでエッチング
処理槽2に向けて搬送され、エッチング処理槽2に設け
られた搬送ローラ21を含む後述の搬送機構(基板搬送
装置)に受け渡される。水平姿勢でエッチング処理槽2
内に搬送された基板Sは、その姿勢を搬送機構により傾
斜姿勢に変更された後、エッチング処理槽2内で搬送ロ
ーラ21によって搬送されつつ処理される。そして、エ
ッチング処理槽2内で搬送ローラ2によって傾斜姿勢で
支持された基板Sは、その傾斜姿勢を保ったまま水洗処
理槽3に搬入され、水洗処理槽3に設けられた搬送ロー
ラ31を含む搬送機構に受け渡される。次に、基板Sは
水洗処理槽3内で搬送ローラ31によって搬送されつつ
処理された後、搬送機構によりその姿勢を傾斜姿勢から
水平姿勢に変更されて、出口コンベア4の搬送ローラ4
1上に払い出される。出口コンベア4に払い出された処
理済みの基板Sは、図示しない基板搬出ロボットによっ
て搬送ローラ41上から取り除かれる。
The unprocessed substrate S is placed in a horizontal posture on the transport rollers 11 of the entrance conveyor 1 by a substrate loading robot (not shown). The mounted substrate S is transported by the transport rollers 11 to the etching processing tank 2 while maintaining the horizontal posture, and includes a transport mechanism (substrate transport device described later) including the transport rollers 21 provided in the etching processing tank 2. ). Etching tank 2 in horizontal position
The substrate S conveyed into the inside is changed in its posture to the inclined posture by the conveyance mechanism, and then processed while being conveyed by the conveyance rollers 21 in the etching processing tank 2. The substrate S supported in the etching tank 2 in the inclined position by the transport roller 2 is carried into the washing tank 3 while maintaining the inclined position, and includes the transport roller 31 provided in the washing tank 3. Delivered to the transport mechanism. Next, the substrate S is processed while being transported by the transport rollers 31 in the rinsing tank 3, and then the attitude thereof is changed from the inclined attitude to the horizontal attitude by the transport mechanism.
Payed on one. The processed substrate S delivered to the exit conveyor 4 is removed from above the transport rollers 41 by a substrate unloading robot (not shown).

【0033】入口コンベア1の搬送ローラ11は、その
回転軸が搬送方向TDと直交する水平方向に延びた状態
に設けられており、基板搬入ロボットによって載置され
た基板Sを、水平に支持しつつエッチング処理槽2に向
けて搬送する。
The transport roller 11 of the entrance conveyor 1 is provided with its rotation axis extending in a horizontal direction perpendicular to the transport direction TD, and horizontally supports the substrate S placed by the substrate loading robot. While being conveyed toward the etching processing tank 2.

【0034】エッチング処理槽2には、基板Sの上面に
エッチング液をスプレーするための上部スプレーノズル
22が備えられている。上部スプレーノズル22には、
エッチング液タンク24に貯留されたエッチング液が、
ポンプ25によって汲み出され、エッチング液供給管2
6を介して供給されている。エッチング供給管26の途
中部には、エア弁27が介装されており、このエア弁2
7を開閉することによって、上部スプレーノズル22か
らエッチング液を噴出させたり、その噴出を停止させた
りすることができる。
The etching bath 2 is provided with an upper spray nozzle 22 for spraying an etching solution on the upper surface of the substrate S. In the upper spray nozzle 22,
The etching liquid stored in the etching liquid tank 24 is
Pumped by the pump 25, the etchant supply pipe 2
6. An air valve 27 is interposed in the middle of the etching supply pipe 26.
By opening and closing the nozzle 7, the etching liquid can be ejected from the upper spray nozzle 22 or the ejection can be stopped.

【0035】スプレーノズル22から基板Sに供給され
た後のエッチング液は、エッチング処理槽2の底面に接
続された回収配管61を介して、エッチング液タンク2
4に回収されるようになっている。
The etching liquid supplied to the substrate S from the spray nozzle 22 is supplied to the etching liquid tank 2 via a collection pipe 61 connected to the bottom of the etching tank 2.
4 to be collected.

【0036】上記の構成により、エッチング処理槽2内
に搬入された基板Sの上面に向けてエッチング液を供給
して、その上面にエッチング液によるエッチング処理を
施すことができる。
With the above configuration, an etching solution can be supplied toward the upper surface of the substrate S carried into the etching tank 2 and the upper surface can be subjected to the etching process using the etching solution.

【0037】また、基板Sにエッチング液が供給されて
いる間、搬送ローラ21は、基板Sを搬送方向TDに搬
送するために正転されたり、基板Sを搬送方向とは逆方
向に戻すために逆転されたりしている。これにより、基
板Sは、エッチング処理槽2内で揺動され、スプレーノ
ズル22から噴出されるエッチング液を基板Sの上面全
域にほぼ均一に供給でき、また、搬送路長を長くするこ
となくエッチング工程に必要十分な処理時間を確保でき
る。
While the etching liquid is being supplied to the substrate S, the transport roller 21 is rotated forward to transport the substrate S in the transport direction TD, or returned to the opposite direction to the transport direction. Has been reversed. Thereby, the substrate S is swung in the etching tank 2 and the etchant spouted from the spray nozzle 22 can be supplied almost uniformly to the entire upper surface of the substrate S, and the etching can be performed without increasing the transport path length. A sufficient and sufficient processing time for the process can be secured.

【0038】さらに、基板Sにエッチング液が供給され
ている間、複数本の搬送ローラ21は、後述する基板搬
送機構(基板搬送装置)によって搬送方向TDにほぼ平
行な軸線まわりに所定の傾斜角度だけ、たとえば5度か
ら10度の範囲内で傾斜されるようになっている。これ
により、搬送ローラS上の基板Sが上記傾斜角度だけ傾
斜された状態となり、基板Sの上面に供給されたエッチ
ング液は基板Sの傾斜に沿って流れ落ちるから、基板S
の上面にエッチング液が滞留する部分が生じず、基板S
の表面全域にほぼ均一な処理を施すことができる。
Further, while the etching liquid is being supplied to the substrate S, the plurality of transport rollers 21 are rotated by a substrate transport mechanism (substrate transport device) described later at a predetermined inclination angle about an axis substantially parallel to the transport direction TD. Only, for example, it is inclined within a range of 5 degrees to 10 degrees. As a result, the substrate S on the transport roller S is inclined by the above-mentioned inclination angle, and the etching liquid supplied to the upper surface of the substrate S flows down along the inclination of the substrate S.
There is no portion where the etchant stays on the upper surface of the substrate, and the substrate S
A substantially uniform treatment can be applied to the entire surface of the substrate.

【0039】エッチング処理が施された基板Sは、エッ
チング処理槽2の出口付近に設けられた液切りローラ6
2を通過することによって、その表面に付着したエッチ
ング液がある程度除去された後、所定の傾斜角度を保っ
たまま水洗処理槽3に向けて搬出される。
The substrate S that has been subjected to the etching process is supplied to a draining roller 6 provided near the exit of the etching bath 2.
After passing through the etching solution 2, the etching solution attached to the surface is removed to some extent, and then carried out toward the washing tank 3 while maintaining a predetermined inclination angle.

【0040】水洗処理槽3内には、搬送ローラ31の上
方および下方に、それぞれ基板Sの上面および下面に純
水を供給するための純水用スプレーノズル32,33が
配設されている。純水用スプレーノズル32には、純水
タンク34に貯留された純水が、ポンプ35によって汲
み出され、純水供給管36を介して供給されている。純
水供給管36の途中部には、エア弁37が介装されてお
り、このエア弁37を開閉することによって、純水用ス
プレーノズル32から純水を吐出させたり、その吐出を
停止させたりすることができる。また、純水用スプレー
ノズル33には、ポンプ35によって純水タンク34か
ら汲み出された純水が、ポンプ35とエア弁37との間
の純水供給管36に分岐して結合された分岐管38を介
して供給されている。分岐管38の途中部には、エア弁
39が介装されており、このエア弁39を開閉すること
によって、純水用スプレーノズル33から純水を吐出さ
せたり、その吐出を停止させたりすることができる。
In the rinsing tank 3, pure water spray nozzles 32 and 33 for supplying pure water to the upper and lower surfaces of the substrate S are provided above and below the transport roller 31, respectively. Pure water stored in a pure water tank 34 is pumped out by a pump 35 and supplied to the pure water spray nozzle 32 through a pure water supply pipe 36. An air valve 37 is interposed in the middle of the pure water supply pipe 36. By opening and closing the air valve 37, pure water is discharged from the pure water spray nozzle 32 or the discharge is stopped. Or you can. The pure water spray nozzle 33 is connected to a pure water supply pipe 36 between the pump 35 and the air valve 37 by branching the pure water pumped out of the pure water tank 34 by the pump 35. It is supplied via a tube 38. An air valve 39 is interposed in the middle of the branch pipe 38. By opening and closing the air valve 39, pure water is discharged from the pure water spray nozzle 33 or the discharge is stopped. be able to.

【0041】基板に供給された後の純水は、電磁弁65
および回収配管66を介して純水タンク34に回収され
るか、電磁弁67および廃液配管68を介して廃棄され
る。具体的には、基板Sに対する洗浄処理を開始した当
初の期間には、電磁弁65を閉じ、電磁弁67を開く。
これにより、エッチング液等を多く含んだ純水が廃棄さ
れる。その後、一定時間経過後に電磁弁65を開くとと
もに、電磁弁67を閉じる。これにより、基板Sの洗浄
に用いられた後の純水のうち、比較的清浄なものについ
ては、純水タンク34に回収することができる。
The pure water supplied to the substrate is supplied to a solenoid valve 65.
And collected in the pure water tank 34 via the collection pipe 66 or discarded through the solenoid valve 67 and the waste liquid pipe 68. Specifically, in the initial period when the cleaning process for the substrate S is started, the solenoid valve 65 is closed and the solenoid valve 67 is opened.
As a result, pure water containing a large amount of an etching solution or the like is discarded. Thereafter, after a certain period of time, the solenoid valve 65 is opened and the solenoid valve 67 is closed. Thus, of the pure water used for cleaning the substrate S, relatively pure water can be collected in the pure water tank 34.

【0042】上記の構成により、エッチング液によって
処理された基板Sの表面に、純水用スプレーノズル3
2,33から純水を供給することができ、その表面に付
着しているエッチング液等を洗い流すことができる。
With the above structure, the spray nozzle 3 for pure water is provided on the surface of the substrate S treated with the etching solution.
Pure water can be supplied from 2 and 33, and the etching solution and the like adhering to the surface can be washed away.

【0043】また、エッチング処理槽2と同様に、基板
Sに純水が供給されている間は、搬送ローラ31が交互
に正転または反転されて、基板Sが水洗処理槽3内で揺
動される。これにより、純水用スプレーノズル32,3
3から噴出される純水で基板Sの表面全域を隈無く洗浄
でき、また、水洗処理槽3の搬送路長を長くすることな
く基板Sの表面からエッチング液を除去するのに必要十
分な処理時間を確保できる。
Similarly to the etching treatment tank 2, while the pure water is being supplied to the substrate S, the transport rollers 31 are alternately rotated forward or inverted, and the substrate S is swung in the washing treatment tank 3. Is done. Thereby, the pure water spray nozzles 32, 3
The entire surface of the substrate S can be thoroughly washed with pure water spouted from the substrate 3, and a process sufficient and sufficient to remove the etchant from the surface of the substrate S without increasing the length of the transport path of the washing tank 3. I can secure time.

【0044】さらに、基板Sに純水が供給されている
間、後述する搬送機構(基板搬送装置)が有する搬送ロ
ーラ31は、搬送方向TDにほぼ平行な軸線まわりに、
エッチング処理槽2での傾斜角度と同じ所定の傾斜角度
だけ傾斜されるようになっている。これにより、搬送ロ
ーラS上の基板Sが水平面に対して所定の傾斜角度だけ
傾斜された状態となり、基板Sの上面に供給された純水
は、基板S上で滞留することなく基板Sの傾斜に沿って
流れ落ちるから、基板Sの表面に付着しているエッチン
グ液を良好に洗い流すことができる。そして、エッチン
グ液が洗い流された基板Sは、搬送機構によりその姿勢
を傾斜姿勢から水平姿勢に変更された後、出口コンベア
4に向けて払い出される。
Further, while pure water is being supplied to the substrate S, the transport roller 31 of the transport mechanism (substrate transport device) described later rotates around an axis substantially parallel to the transport direction TD.
It is configured to be inclined by the same predetermined inclination angle as the inclination angle in the etching processing tank 2. As a result, the substrate S on the transport roller S is tilted by a predetermined tilt angle with respect to the horizontal plane, and the pure water supplied to the upper surface of the substrate S does not stay on the substrate S without tilting. Therefore, the etchant adhering to the surface of the substrate S can be washed away satisfactorily. Then, the substrate S from which the etchant has been washed out is discharged toward the exit conveyor 4 after its posture is changed from the inclined posture to the horizontal posture by the transport mechanism.

【0045】出口コンベア4の搬送ローラ41は、その
回転軸が搬送方向TDと直交する水平方向に延びてお
り、水洗処理槽3から搬出されてくる基板Sを、水平に
支持しつつ搬送方向TDに沿って搬送するようになって
いる。出口コンベア4の入口付近には、基板Sの上面お
よび下面に乾燥エアを吹き付けて基板Sの表面の水分を
除去する一対のエアナイフ装置42,43が配置されて
いる。これらの一対のエアナイフ装置42,43には、
図外のエア供給源から送り出される乾燥エアが、エア供
給配管44およびエア弁45を介して供給されるように
なっている。エアナイフ装置42,43を通過すること
によって水分が除去された基板Sは、上記したように、
図示しない基板搬出ロボットによって搬送ローラ41上
から取り除かれる。
The transport roller 41 of the exit conveyor 4 has a rotation axis extending in a horizontal direction perpendicular to the transport direction TD, and supports the substrate S unloaded from the washing tank 3 in the transport direction TD while supporting the substrate S horizontally. Is transported along. Near the entrance of the exit conveyor 4, a pair of air knife devices 42 and 43 for blowing dry air onto the upper and lower surfaces of the substrate S to remove moisture on the surface of the substrate S are arranged. These pair of air knife devices 42 and 43 include:
Dry air sent from an air supply source (not shown) is supplied through an air supply pipe 44 and an air valve 45. The substrate S from which moisture has been removed by passing through the air knife devices 42 and 43 is, as described above,
The transfer roller 41 is removed from the transfer roller 41 by a substrate transfer robot (not shown).

【0046】図2は、本発明の第1の実施形態を示し、
エッチング処理槽2に設けられた搬送ローラ21を含む
搬送機構(基板搬送装置)の構成を上方から見たときの
断面図であり、図3は、図2の切断面線A−Aから見た
断面図である。エッチング処理槽2に設けられた搬送機
構および水洗処理槽3に設けられた搬送機構は、ほぼ同
様な構成であるから、以下では、エッチング処理槽2に
備えられた搬送機構7を取り上げて説明する。
FIG. 2 shows a first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a configuration of a transfer mechanism (substrate transfer device) including a transfer roller 21 provided in the etching treatment tank 2 when viewed from above, and FIG. 3 is viewed from a cut line AA in FIG. It is sectional drawing. Since the transport mechanism provided in the etching tank 2 and the transport mechanism provided in the rinsing tank 3 have substantially the same configuration, the transport mechanism 7 provided in the etching tank 2 will be described below. .

【0047】搬送機構7は、複数本の搬送ローラ21を
一体的に保持するためのローラ支持枠71を備えてい
る。ローラ支持枠71は、搬送方向TDに延びた一対の
支持板72,73を含む。一対の支持板72,73は、
搬送方向TDと直交する方向に所定間隔を置いて互いに
対向した状態に設けられており、この一対の支持板7
2,73間に、複数本の搬送ローラ21が回転自在に支
持されている。また、一対の支持板72,73は、複数
の連結板74によって搬送ローラ21の下方で連結され
ている。これら複数本の搬送ローラ21およびローラ支
持枠71などにより、本発明の搬送手段が構成されてい
る。
The transport mechanism 7 has a roller support frame 71 for holding a plurality of transport rollers 21 integrally. The roller support frame 71 includes a pair of support plates 72 and 73 extending in the transport direction TD. The pair of support plates 72, 73
The pair of support plates 7 are provided facing each other at a predetermined interval in a direction orthogonal to the transport direction TD.
A plurality of transport rollers 21 are rotatably supported between the rollers 2 and 73. The pair of support plates 72 and 73 are connected below the transport roller 21 by a plurality of connection plates 74. The transport unit of the present invention is constituted by the plurality of transport rollers 21 and the roller support frame 71 and the like.

【0048】図2における左側の支持板72には、搬送
方向TDに対向するエッチング処理槽(収納手段)2の
側壁2A,2Bから互いに近接する水平方向に突設され
た支持ピン75,76が挿通されていて、これにより、
ローラ支持枠71は、支持ピン75,76を中心として
回動自在に支持されている。また、支持板72には、搬
送方向TDに延びた駆動軸77が、その軸芯を支持ピン
75,76の軸芯と一致させるように回転自在に支持さ
れている。
On the left support plate 72 in FIG. 2, support pins 75 and 76 projecting horizontally from the side walls 2A and 2B of the etching processing tank (housing means) 2 opposed to the transport direction TD are provided. Has been penetrated,
The roller support frame 71 is supported rotatably about support pins 75 and 76. A drive shaft 77 extending in the transport direction TD is rotatably supported by the support plate 72 such that its axis coincides with the axis of the support pins 75 and 76.

【0049】搬送ローラ21の回転軸(入力軸)G1
は、支持板72を貫通しており、その先端には、それぞ
れかさ歯車(入力用ギア)78が取り付けられている。
これに対応して、駆動軸77には、かさ歯車78とそれ
ぞれ噛み合うように、複数個のかさ歯車(介在ギア)7
9が取り付けられている。また、支持板72と対向する
エッチング処理槽2の左側壁2Cの外面には、搬送ロー
ラ21を回転駆動するための駆動力を発生するモータ
(駆動源)80が取り付けられている。このモータ80
の出力軸G2は、左側壁2Cを貫通してエッチング処理
槽2内に突出しており、その先端には、かさ歯車(出力
用ギア)81が取り付けられている。このかさ歯車81
は、駆動軸77に設けられた複数個のかさ歯車79のう
ちの1つと噛合している。なお、モータ80の出力軸G
2,かさ歯車81およびかさ歯車79などから本発明の
第1伝達手段が構成され、搬送ローラ21の回転軸G
1、かさ歯車78およびかさ歯車79などから本発明の
第2伝達手段が構成される。
The rotating shaft (input shaft) G1 of the transport roller 21
Are penetrated through the support plate 72, and bevel gears (input gears) 78 are attached to the ends thereof.
Correspondingly, a plurality of bevel gears (intervening gears) 7 are provided on the drive shaft 77 so as to mesh with the bevel gears 78, respectively.
9 is attached. A motor (drive source) 80 for generating a driving force for rotating the transport roller 21 is attached to the outer surface of the left side wall 2C of the etching tank 2 facing the support plate 72. This motor 80
The output shaft G2 extends through the left side wall 2C and protrudes into the etching bath 2, and a bevel gear (output gear) 81 is attached to a tip of the output shaft G2. This bevel gear 81
Is engaged with one of a plurality of bevel gears 79 provided on the drive shaft 77. The output shaft G of the motor 80
2, the first transmission means of the present invention is constituted by the bevel gear 81 and the bevel gear 79, and the like.
1, the bevel gear 78, the bevel gear 79 and the like constitute the second transmission means of the present invention.

【0050】この構成により、モータ80の駆動力によ
ってかさ歯車81が回転すると、このかさ歯車81の回
転力が、かさ歯車79を介して駆動軸77に与えられ
て、駆動軸77を回転させる。そして、駆動軸77の回
転は、かさ歯車79およびかさ歯車78によって搬送ロ
ーラ21の回転力に変換され、搬送ローラ21を回転さ
せる。
With this configuration, when the bevel gear 81 is rotated by the driving force of the motor 80, the rotating force of the bevel gear 81 is given to the drive shaft 77 via the bevel gear 79, thereby rotating the drive shaft 77. Then, the rotation of the drive shaft 77 is converted by the bevel gear 79 and the bevel gear 78 into a rotational force of the transport roller 21 to rotate the transport roller 21.

【0051】図2における右側の支持板73には、支持
ピン75,76を回動中心として、駆動軸77の回転軸
線まわりにローラ支持枠71を傾けるための傾斜機構
(傾斜手段)が連結されている。この傾斜機構には、鉛
直方向に進退可能なロッド82Aを有するシリンダ82
が備えられている。シリンダ82は、エッチング処理槽
2の外部に設けられており、ロッド82Aは、その先端
がエッチング処理槽2の図2における右側壁2Dに取り
付けられたカバー83内で昇降するようになっている。
また、シリンダ82の下端に設けられた軸82Bが基台
(図示せず)に回動自在に取り付けられており、シリン
ダ82は、ロッド82Aの昇降に伴い、軸82Bまわり
に若干揺動するように設けられている。
A tilting mechanism (tilting means) for tilting the roller support frame 71 around the rotation axis of the drive shaft 77 around the support pins 75 and 76 is connected to the right support plate 73 in FIG. ing. The tilting mechanism includes a cylinder 82 having a rod 82A which can move forward and backward in a vertical direction.
Is provided. The cylinder 82 is provided outside the etching tank 2, and the rod 82 </ b> A moves up and down in a cover 83 attached to the right side wall 2 </ b> D of the etching tank 2 in FIG. 2.
A shaft 82B provided at the lower end of the cylinder 82 is rotatably attached to a base (not shown), and the cylinder 82 swings slightly around the shaft 82B as the rod 82A moves up and down. It is provided in.

【0052】ロッド82Aの先端には、取付部材84が
取り付けられている。取付部材84には、搬送方向TD
とほぼ平行な軸85に揺動自在に支持されたレバー86
の一端が、搬送方向TDとほぼ平行な軸87まわりに回
動自在に連結されている。レバー86の他端は、右側壁
2Dに形成された連通口88を介してエッチング処理槽
2内に進入しており、エッチング処理槽2内に設けられ
た一対の昇降棒89の上端に取り付けられた搬送方向T
Dとほぼ平行な軸90まわりに回動自在に連結されてい
る。また、昇降棒89の下端は、支持板73の下端部に
取り付けられた搬送方向TDとほぼ平行な軸91まわり
に回動自在に連結されている。
A mounting member 84 is mounted on the tip of the rod 82A. The mounting member 84 has a transport direction TD
Lever 86 supported swingably on a shaft 85 substantially parallel to
Is connected rotatably about an axis 87 substantially parallel to the transport direction TD. The other end of the lever 86 enters the etching tank 2 through a communication port 88 formed in the right side wall 2D, and is attached to the upper end of a pair of lifting rods 89 provided in the etching tank 2. Transport direction T
It is connected rotatably about an axis 90 substantially parallel to D. The lower end of the elevating rod 89 is connected to the lower end of the support plate 73 so as to be rotatable around an axis 91 substantially parallel to the transport direction TD.

【0053】なお、レバー86および昇降棒89の長さ
などは、シリンダ82のロッド82Aが伸長された状態
で、ローラ支持枠71に保持された搬送ローラ21の回
転軸が水平となるように設定されている。また、ロッド
82Aには、カバー83内において、ベローズ92が外
装されており、エッチング処理槽2内のエッチング液や
エッチング液成分を含む雰囲気が、ロッド82Aとカバ
ー83との隙間から漏れ出さないようになっている。
The lengths of the lever 86 and the lifting rod 89 are set such that the rotation axis of the transport roller 21 held by the roller support frame 71 is horizontal when the rod 82A of the cylinder 82 is extended. Have been. The rod 82A is covered with a bellows 92 inside the cover 83 so that the atmosphere containing the etching solution and the etching solution component in the etching tank 2 does not leak from the gap between the rod 82A and the cover 83. It has become.

【0054】上記の構成により、シリンダ82によって
ロッド82Aを収縮させると、レバー86が、軸85を
中心として図3における時計回りに傾き、これに伴って
昇降棒89が上昇する。そして、昇降棒89の上昇によ
って、ローラ支持枠71の支持板73側が持ち上げら
れ、その結果、ローラ支持枠71を支持ピン75,76
を中心として図3における反時計回りに傾けることがで
きる。
With the above arrangement, when the rod 82A is contracted by the cylinder 82, the lever 86 is tilted clockwise in FIG. 3 around the shaft 85, and the elevating rod 89 is raised accordingly. Then, the lifting plate 89 raises the support plate 73 side of the roller support frame 71, and as a result, the roller support frame 71 is supported by the support pins 75 and 76.
Can be tilted counterclockwise in FIG.

【0055】このとき、駆動軸77は、その軸芯を支持
ピン75,76の軸芯と一致させるように支持されてい
ることにより、ローラ支持枠71の揺動中心となってい
る。すなわち、駆動軸77は、ローラ支持枠71の回動
軸線上に配置されているので、ローラ支持枠71を支持
ピン75,76を中心に傾けても、搬送ローラ21の回
転軸に取り付けられたかさ歯車78と駆動軸77に取り
付けられたかさ歯車79との噛合は解除されず、モータ
80の駆動力によって搬送ローラ21を回転させること
ができる(図4(a),(b)参照)。
At this time, the drive shaft 77 is supported so that its axis coincides with the axes of the support pins 75 and 76, and thus serves as the swing center of the roller support frame 71. That is, since the drive shaft 77 is disposed on the rotation axis of the roller support frame 71, even if the roller support frame 71 is tilted about the support pins 75 and 76, the drive shaft 77 is attached to the rotation shaft of the transport roller 21. The engagement between the bevel gear 78 and the bevel gear 79 attached to the drive shaft 77 is not released, and the transport roller 21 can be rotated by the driving force of the motor 80 (see FIGS. 4A and 4B).

【0056】以上のようにこの実施形態によれば、シリ
ンダ82によってローラ支持枠71の一方端縁側を持ち
上げて、ローラ支持枠71を支持ピン75,76を中心
として傾けることにより、ローラ支持枠71に一体的に
保持された搬送ローラ21を、支持ピン75,76を中
心として傾けることができる。また、その状態で搬送ロ
ーラ21を回転させることができる。これにより、搬送
ローラ21によって搬送される基板Sを、水平面に沿っ
て搬送したり、水平面に対して傾斜した状態で搬送した
りすることができる。
As described above, according to this embodiment, the one end side of the roller support frame 71 is lifted by the cylinder 82, and the roller support frame 71 is tilted about the support pins 75 and 76, whereby the roller support frame 71 is tilted. The transfer roller 21 held integrally with the support rollers 75 can be inclined about the support pins 75 and 76. In addition, the transport roller 21 can be rotated in that state. Thus, the substrate S transported by the transport rollers 21 can be transported along a horizontal plane or can be transported in a state inclined with respect to the horizontal plane.

【0057】また、ローラ支持枠71を傾斜させても、
モータ80などの駆動源の位置は変化せず、この駆動源
がローラ支持枠71と一体的に傾斜するといったような
ことはない。ゆえに、搬送ローラ21を傾斜させて、基
板Sの姿勢を変更するために、エッチング処理槽2が大
型化してしまうといったことはない。
Further, even if the roller support frame 71 is inclined,
The position of the drive source such as the motor 80 does not change, and the drive source does not incline integrally with the roller support frame 71. Therefore, the size of the etching bath 2 does not increase because the conveying roller 21 is inclined to change the posture of the substrate S.

【0058】さらに、シリンダ82がエッチング処理槽
2の外部に設けられているから、シリンダ82にエッチ
ング液が付着するおそれがなく、シリンダ82がエッチ
ング液による悪影響を受けるおそれがない。
Further, since the cylinder 82 is provided outside the etching processing tank 2, there is no possibility that the etching liquid adheres to the cylinder 82, and there is no possibility that the cylinder 82 is adversely affected by the etching liquid.

【0059】上述の第1の実施形態においては、駆動軸
77に設けられた複数のかさ歯車79の1つに、かさ歯
車81とかさ歯車78が両方とも噛合する構成である
が、これに代えて、図5に示されるように、駆動軸77
にかさ歯車78とは噛合しないかさ歯車79Aを設け
て、このかさ歯車79Aにかさ歯車81を噛合させるこ
とによりモータ80による駆動力を駆動軸77に伝達し
てもよい。また、かさ歯車81とかさ歯車79Aとの組
み合わせを、ウオームギアと平歯車との組み合わせに代
えてもよい。
In the above-described first embodiment, both the bevel gear 81 and the bevel gear 78 mesh with one of the plurality of bevel gears 79 provided on the drive shaft 77. Thus, as shown in FIG.
A bevel gear 79A that does not mesh with the bevel gear 78 may be provided, and the driving force of the motor 80 may be transmitted to the drive shaft 77 by meshing the bevel gear 81 with the bevel gear 79A. Further, the combination of the bevel gear 81 and the bevel gear 79A may be replaced with a combination of a worm gear and a spur gear.

【0060】また、別の変形例として、駆動軸77を回
転させるための構成を、たとえば、図6に示すように、
モータの出力軸G2を駆動軸77と平行に設け、モータ
の出力軸と駆動軸77との間にタイミングベルトTBを
巻き掛けて、このタイミングベルトTBを介してモータ
の駆動力を駆動軸77に伝達する構成としてもよい。さ
らには、モータの出力軸を駆動軸77と平行に設け、モ
ータの出力軸の回転をギア機構を介して駆動軸77に伝
達する構成を採ることもできる。
As another modified example, a structure for rotating the drive shaft 77 is, for example, as shown in FIG.
The output shaft G2 of the motor is provided in parallel with the drive shaft 77, a timing belt TB is wound between the output shaft of the motor and the drive shaft 77, and the driving force of the motor is applied to the drive shaft 77 via the timing belt TB. It is good also as a structure which transmits. Further, a configuration may be adopted in which the output shaft of the motor is provided in parallel with the drive shaft 77, and the rotation of the output shaft of the motor is transmitted to the drive shaft 77 via a gear mechanism.

【0061】図7は、この発明の第2の実施形態に係る
搬送機構の構成を上方から見たときの断面図である。こ
の図7では、図2に示す各部と同等の部分については、
同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
FIG. 7 is a cross-sectional view of the structure of the transport mechanism according to the second embodiment of the present invention when viewed from above. In FIG. 7, the same parts as those shown in FIG.
The same reference numerals are given and the detailed description is omitted.

【0062】この第2の実施形態に係る搬送機構7Aで
は、複数本の搬送ローラ21の回転軸に、それぞれ駆動
ギア101が取り付けられている。互いに隣接する2つ
の駆動ギア101は、支持板72に回転自在に支持され
た中間ギア102にそれぞれ噛合しており、一方の駆動
ギア101の回転は、中間ギア102を介して他方の駆
動ギア101に伝達されるようになっている。中間ギア
102のうちの1つには、その回転軸(入力軸)103
にフレキシブルカップリング(連結手段)104を介し
てモータ105の出力軸G2が連結されている。
In the transport mechanism 7A according to the second embodiment, the drive gears 101 are attached to the rotating shafts of the plurality of transport rollers 21, respectively. Two drive gears 101 adjacent to each other are meshed with an intermediate gear 102 rotatably supported by a support plate 72, and rotation of one drive gear 101 is performed via the intermediate gear 102 and the other drive gear 101 is rotated. It is transmitted to. One of the intermediate gears 102 has its rotating shaft (input shaft) 103
The output shaft G2 of the motor 105 is connected to the motor 105 via a flexible coupling (connection means) 104.

【0063】このフレキシブルカップリング104は、
モータ105の出力軸に対して回転軸103が傾斜した
状態であっても、モータ105の出力軸G2の回転を回
転軸103に伝達することができるものである(図8
(a),(b) 参照)。したがって、シリンダ82によってロ
ーラ支持枠71の一方端縁側を持ち上げて、ローラ支持
枠71を支持ピン75,76を中心として傾けても、モ
ータ105の駆動力を駆動ギア101および中間ギア1
02を介して搬送ローラ21に伝達することができる。
これにより、搬送ローラ21によって搬送される基板S
を、水平面に沿って搬送したり、水平面に対して傾斜し
た状態で搬送したりすることができ、上述した第1の実
施形態と同様な効果を得ることができる。
This flexible coupling 104
Even when the rotating shaft 103 is inclined with respect to the output shaft of the motor 105, the rotation of the output shaft G2 of the motor 105 can be transmitted to the rotating shaft 103 (FIG. 8).
(See (a), (b)). Therefore, even if one end side of the roller support frame 71 is lifted by the cylinder 82 and the roller support frame 71 is tilted about the support pins 75 and 76, the driving force of the motor 105 is applied to the drive gear 101 and the intermediate gear 1.
02 can be transmitted to the conveying roller 21.
Thereby, the substrate S transported by the transport roller 21
Can be conveyed along the horizontal plane, or can be conveyed while being inclined with respect to the horizontal plane, and the same effect as in the first embodiment can be obtained.

【0064】なお、この実施形態においては、支持ピン
75,76により規定されるローラ支持枠71の回動軸
線が、フレキシブルカップリング104における出力軸
G2と回転軸103との連結位置の近傍を通るようにさ
れていることが好ましい。これにより、ローラ支持枠7
1が傾斜させられた場合にも、出力軸G2と回転軸10
3との連結状態を良好に維持できる。
In this embodiment, the rotation axis of the roller support frame 71 defined by the support pins 75 and 76 passes near the connecting position between the output shaft G2 and the rotary shaft 103 in the flexible coupling 104. It is preferable that it is made so. Thereby, the roller support frame 7
1 is tilted, the output shaft G2 and the rotating shaft 10
3 can be favorably maintained.

【0065】図9は、この発明の第3の実施形態にかか
る搬送機構の構成を上方から見たときの断面図であり、
図10は、図9に示す切断面線B−Bから見た断面図で
ある。図9および図10において、図2および図3に示
す各部と同等の部分には、同一の参照符号を付し、その
詳細な説明を省略する。
FIG. 9 is a cross-sectional view of the configuration of the transport mechanism according to the third embodiment of the present invention when viewed from above.
FIG. 10 is a cross-sectional view taken along the line BB shown in FIG. 9 and 10, the same reference numerals are given to the same parts as those shown in FIGS. 2 and 3, and the detailed description thereof will be omitted.

【0066】この第3の実施形態に係る搬送機構7B
は、搬送ローラ21の回転軸が水平に延びた状態で駆動
軸77に駆動力を与えるための第1モータ(駆動源)1
11と、搬送ローラ21の回転軸が水平面に対して所定
角度だけ傾斜した状態で駆動軸77に駆動力を与えるた
めの第2モータ(駆動源)112とを備えている。
The transport mechanism 7B according to the third embodiment
Is a first motor (drive source) 1 for applying a driving force to the drive shaft 77 in a state where the rotation shaft of the transport roller 21 extends horizontally.
11 and a second motor (drive source) 112 for applying a driving force to the drive shaft 77 in a state where the rotation axis of the transport roller 21 is inclined by a predetermined angle with respect to a horizontal plane.

【0067】第1モータ111および第2モータ112
は、いずれもエッチング処理槽(収納手段)2の左側壁
2Cの外面に取り付けられている。第1モータ111の
出力軸(第1出力軸)113および第2モータ112の
出力軸(第2出力軸)114は、左側壁2Cを貫通して
エッチング処理槽2内に突出しており、その先端には、
それぞれウオームギア(第1出力用ギア)115および
ウオームギア(第2出力用ギア)116が取り付けられ
ている。これに対応して、駆動軸77には、搬送ローラ
21の回転軸が水平に延びた状態で、ウオームギア11
5と噛合する位置に平歯車(第1介在ギア)117が取
り付けられている(図11(a) 参照)。また、搬送ロー
ラ21の回転軸(入力軸)G1が水平面に対して所定角
度だけ傾斜した状態で、ウオームギア116と噛合する
位置に平歯車(第2介在ギア)118が取り付けられて
いる(図11(b) 参照)。
First motor 111 and second motor 112
Are attached to the outer surface of the left side wall 2C of the etching tank (storage means) 2. An output shaft (first output shaft) 113 of the first motor 111 and an output shaft (second output shaft) 114 of the second motor 112 project through the left side wall 2C into the etching bath 2 and have tips thereof. In
A worm gear (first output gear) 115 and a worm gear (second output gear) 116 are attached respectively. Correspondingly, the worm gear 11 is mounted on the drive shaft 77 with the rotation shaft of the transport roller 21 extending horizontally.
A spur gear (first intervening gear) 117 is attached at a position where it meshes with the gear 5 (see FIG. 11A). Further, a spur gear (second intervening gear) 118 is attached at a position where the rotation shaft (input shaft) G1 of the transport roller 21 is inclined by a predetermined angle with respect to the horizontal plane at a position where the worm gear 116 meshes (FIG. 11). (b)).

【0068】また、エッチング処理槽2の隔壁2A,2
Bには、搬送方向TDに沿って延びた支持軸119が架
け渡されており、ローラ支持枠71は、その支持軸11
9に回動自在に取り付けられている。
The partition walls 2A, 2A of the etching bath 2
B, a support shaft 119 extending along the transport direction TD is bridged, and the roller support frame 71 is supported by the support shaft 11.
9 so as to be freely rotatable.

【0069】この構成により、シリンダ82のロッド8
2Aが伸長されて、搬送ローラ21の回転軸が水平に延
びた状態になっている時には、ウオームギア115と平
歯車117とが噛み合って、第1モータ111の駆動力
が駆動軸77に伝達される。そして、第1モータ111
の駆動力による駆動軸77の回転が、かさ歯車79およ
びかさ歯車78によって搬送ローラ21の回転力に変換
されて、搬送ローラ21を回転させる。これにより、搬
送ローラ21上の基板Sを、水平な状態で搬送方向TD
に沿って搬送することができる。
With this configuration, the rod 8 of the cylinder 82
When 2 </ b> A is extended and the rotating shaft of the transport roller 21 extends horizontally, the worm gear 115 and the spur gear 117 mesh with each other, and the driving force of the first motor 111 is transmitted to the driving shaft 77. . Then, the first motor 111
Is rotated by the bevel gear 79 and the bevel gear 78 to rotate the transport roller 21 to rotate the transport roller 21. Thus, the substrate S on the transport roller 21 is moved horizontally in the transport direction TD.
Can be transported along.

【0070】また、搬送ローラ21の回転軸が傾斜した
状態になっている時には、ウオームギア116と平歯車
118とが噛み合って、第2モータ112の駆動力が駆
動軸77に伝達され、駆動軸77を回転させる。そし
て、この駆動軸77の回転が、かさ歯車79およびかさ
歯車78を介して搬送ローラ21に伝達されて、搬送ロ
ーラ21を回転させる。これにより、搬送ローラ21上
の基板Sを、水平面に対して傾斜させた状態で搬送方向
TDに沿って搬送することができる。
When the rotating shaft of the conveying roller 21 is in an inclined state, the worm gear 116 and the spur gear 118 mesh with each other, so that the driving force of the second motor 112 is transmitted to the driving shaft 77 and the driving shaft 77 is driven. To rotate. Then, the rotation of the drive shaft 77 is transmitted to the transport roller 21 via the bevel gear 79 and the bevel gear 78, and rotates the transport roller 21. Thus, the substrate S on the transport roller 21 can be transported along the transport direction TD while being inclined with respect to the horizontal plane.

【0071】さらに、上述した第1および第2の実施形
態に係る構成と同様に、ローラ支持枠71を傾斜させて
も、第1モータ111および第2モータ112など駆動
源は傾斜しないから、この第3の実施形態の構成を採用
しても、エッチング処理槽2が大型化することはない。
Further, similarly to the configurations according to the first and second embodiments described above, even if the roller support frame 71 is inclined, the driving sources such as the first motor 111 and the second motor 112 do not incline. Even if the configuration of the third embodiment is adopted, the size of the etching bath 2 does not increase.

【0072】上述の第3の実施形態では、駆動軸77に
平歯車117と平歯車118とがそれぞれ設けられてい
るが、ウオームギア115およびウオームギア116が
同一の鉛直面上に位置するように、第1モータ111お
よび第2モータ112を配置して、ウオームギア115
およびウオームギア116に噛合する平歯車を1つにし
てもよい。
In the above-described third embodiment, the spur gear 117 and the spur gear 118 are provided on the drive shaft 77, respectively, but the worm gear 115 and the worm gear 116 are arranged so that they are located on the same vertical plane. The first motor 111 and the second motor 112 are arranged, and the worm gear 115
Alternatively, one spur gear meshing with the worm gear 116 may be used.

【0073】また、上述の第3の実施形態では、駆動軸
77が複数本の搬送ローラ21とー体にシリンダ82な
どによって傾斜させられる構成であるがこの構成に代え
て、図12に示される構成を採用しても良い。すなわ
ち、図12に示されるように、搬送方向TDと平行な軸
線まわりに回転駆動される2本の駆動軸77Aおよび駆
動軸77Bをそれぞれ設ける。この2本の駆動軸77A
および駆動軸77Bには、かさ歯車79Cおよびかさ歯
車79Dがそれぞれ設けられ、搬送ローラ21の回転軸
G1の先端にはかさ歯車78Bが設けられている。そし
て、搬送ローラ21の回転軸G1が水平状態にあるとき
には、かさ歯車78Bがかさ歯車79Cと噛合し、回転
軸G1が傾斜状態にあるときは、かさ歯車78Bがかさ
歯車79Dと噛合するように構成されている。駆動軸7
7Aおよび駆動軸77Bを回転駆動する機構は、駆動源
としてモータを用いその駆動力をギア等を介してそれぞ
れの駆動軸に伝達する機構等を採用すればよい。
In the third embodiment described above, the drive shaft 77 is tilted by a cylinder 82 or the like with respect to the plurality of transport rollers 21. Instead of this configuration, it is shown in FIG. A configuration may be adopted. That is, as shown in FIG. 12, two drive shafts 77A and 77B that are driven to rotate about an axis parallel to the transport direction TD are provided. These two drive shafts 77A
A bevel gear 79C and a bevel gear 79D are provided on the drive shaft 77B, respectively, and a bevel gear 78B is provided at the tip of the rotation shaft G1 of the transport roller 21. The bevel gear 78B meshes with the bevel gear 79C when the rotating shaft G1 of the transport roller 21 is in the horizontal state, and the bevel gear 78B meshes with the bevel gear 79D when the rotating shaft G1 is in the inclined state. It is configured. Drive shaft 7
As a mechanism for rotatingly driving the drive shaft 7A and the drive shaft 77B, a mechanism using a motor as a drive source and transmitting the drive force to each drive shaft via a gear or the like may be employed.

【0074】以上では、この発明の3つの実施形態につ
いて説明したが、この発明は、上述の3つの実施形態以
外の形態でも実施することができる。たとえば、図13
に示すように、シリンダ82をエッチング処理槽2の上
方に設け、シリンダ82のロッド82Aを、エッチング
処理槽2の天面を貫通させてローラ支持枠71の支持板
73に回動自在に連結してもよい。また、シリンダ82
をエッチング処理槽2の下方に設け、シリンダ82のロ
ッド82Aを、エッチング処理槽2の底板2Fを貫通さ
せてローラ支持枠71に回動自在に連結してもよい。こ
れらの構成が採用された場合、ローラ支持枠71を傾斜
させるための構成を簡素化することができる。
Although the three embodiments of the present invention have been described above, the present invention can be embodied in modes other than the above-described three embodiments. For example, FIG.
As shown in the figure, a cylinder 82 is provided above the etching tank 2, and a rod 82 A of the cylinder 82 is rotatably connected to a support plate 73 of a roller support frame 71 through a top surface of the etching tank 2. You may. The cylinder 82
May be provided below the etching tank 2, and the rod 82 </ b> A of the cylinder 82 may be rotatably connected to the roller support frame 71 through the bottom plate 2 </ b> F of the etching tank 2. When these configurations are adopted, the configuration for inclining the roller support frame 71 can be simplified.

【0075】さらに、シリンダ82をエッチング処理槽
2の上方に設け、シリンダ82のロッド82Aをワイヤ
を介してローラ支持枠71に連結し、ロッド82Aを収
縮させてワイヤを引き上げることにより、ローラ支持枠
71を傾斜させてもよい。また、ワイヤをモータで巻き
取ることにより、ローラ支持枠71を傾斜させる構成で
あってもよい。
Further, the cylinder 82 is provided above the etching tank 2, the rod 82A of the cylinder 82 is connected to the roller support frame 71 via a wire, and the rod 82A is contracted to pull up the wire, thereby obtaining the roller support frame. 71 may be inclined. Further, the roller support frame 71 may be inclined by winding the wire with a motor.

【0076】また、ローラ支持枠71を傾斜させるため
の駆動源としてシリンダを用いる必要はなく、モータな
ど他の種類の駆動源が用いられてもよい。たとえば、図
14に示すように、ねじ軸121に螺合するボールナッ
ト122をレバー86に連結し、モータ123の駆動力
でねじ軸121を回動させて、ボールナット122を上
下動させることにより、ローラ支持枠71を揺動させる
ボールねじ機構が採用されてもよい。なお、図13およ
び図14においては、搬送ローラ21を回転させるため
の構成の図示は省略されている。
Further, it is not necessary to use a cylinder as a drive source for inclining the roller support frame 71, and another type of drive source such as a motor may be used. For example, as shown in FIG. 14, a ball nut 122 screwed to the screw shaft 121 is connected to the lever 86, and the screw shaft 121 is rotated by the driving force of the motor 123 to move the ball nut 122 up and down. Alternatively, a ball screw mechanism for swinging the roller support frame 71 may be employed. 13 and 14, illustration of a configuration for rotating the transport roller 21 is omitted.

【0077】さらに、レバー86の揺動軸85にモータ
の出力軸を直結して、モータで直接にレバー86を揺動
させることにより、ローラ支持枠71を揺動させる構成
を採用することもできる。
Further, it is also possible to adopt a configuration in which the output shaft of the motor is directly connected to the swing shaft 85 of the lever 86, and the lever 86 is swung directly by the motor, whereby the roller support frame 71 is swung. .

【0078】レバー86に連結されたラックと、このラ
ックに噛合するピニオンとを有するラックアンドピニオ
ン機構を用い、当該ピニオンに正逆回転可能なモータか
らの回転力を与えるようにしてもよい。
A rack-and-pinion mechanism having a rack connected to the lever 86 and a pinion meshing with the rack may be used to apply a rotational force from a motor capable of normal and reverse rotation to the pinion.

【0079】また、図2に示される第1の実施の形態お
よび図9に示される第3の実施形態において、複数本の
搬送ローラ21の回転軸G1にそれぞれ設けられたかさ
歯車78が駆動軸77に設けられた複数のかさ歯車79
とそれぞれ噛合するように構成されているが、この構成
の変形例として図15に示される構成を採用してもよ
い。すなわち図15に示されるように、搬送ローラの回
転軸G1とは別に、搬送方向TDと直交する軸線まわり
に回転駆動される入力軸G1Aを設けて、この入力軸G
1Aの先端にかさ歯車78Aを取り付ける。このかさ歯
車78Aは、駆動軸77に設けられたかさ歯車79Bに
噛合されて、駆動軸の駆動力は入力軸G1Aに伝達され
る。入力軸G1Aに伝達された駆動力は、複数のギア2
01を介して複数本の搬送ローラ21に伝達され、搬送
ローラ21を回転駆動させる。入力軸GlAに入力され
た駆動力を上述のように複数のギアの組み合わせで伝達
するのに代えて、プーリとベルトとの組み合わせにより
伝達させてもよい。また、入力軸GlAを複数本の搬送
ローラ21の回転軸G1のーつで代用し、この回転軸G
1にかさ歯車78Aを設けるとともに、この回転軸G1
と他の回転軸G1とを複数のギア等で連動連結して、全
ての回転軸G1に駆動力を伝達してもよい。
Further, in the first embodiment shown in FIG. 2 and the third embodiment shown in FIG. 9, the bevel gears 78 provided on the rotation shafts G1 of the plurality of transport rollers 21 respectively have a drive shaft. A plurality of bevel gears 79 provided on 77
Are engaged with each other, but a configuration shown in FIG. 15 may be adopted as a modified example of this configuration. That is, as shown in FIG. 15, an input shaft G1A that is driven to rotate about an axis orthogonal to the transport direction TD is provided separately from the rotation axis G1 of the transport roller.
A bevel gear 78A is attached to the tip of 1A. The bevel gear 78A meshes with a bevel gear 79B provided on the drive shaft 77, and the driving force of the drive shaft is transmitted to the input shaft G1A. The driving force transmitted to the input shaft G1A
The transport roller 21 is transmitted to the plurality of transport rollers 21 via the drive roller 01 to rotate the transport rollers 21. Instead of transmitting the driving force input to the input shaft GIA with a combination of a plurality of gears as described above, the driving force may be transmitted with a combination of a pulley and a belt. Further, the input shaft GIA is replaced by one of the rotation shafts G1 of the plurality of transport rollers 21, and this rotation shaft G1
1 is provided with a bevel gear 78A and the rotating shaft G1.
The driving force may be transmitted to all the rotating shafts G1 by interlocking and connecting the other rotating shafts G1 with a plurality of gears or the like.

【0080】さらに、上述の実施形態では、基板に供給
すべきエッチング液を吐出するスプレーノズル22がロ
ーラ支持枠71とは別に設けられているが、ローラ支持
枠71にスプレーノズル22を取り付けておけば、ロー
ラ支持枠71の傾斜角度にかかわらず、基板に対して良
好にエッチング液を供給することができる。同様に、水
洗処理槽3において、ローラ支持枠71に純水用スプレ
ーノズル32,33を取り付けておけば、ローラ支持枠
71の傾斜角度にかかわらず、基板に対して良好に純水
を供給することができる。
Further, in the above-described embodiment, the spray nozzle 22 for discharging the etching liquid to be supplied to the substrate is provided separately from the roller support frame 71. For example, the etching liquid can be satisfactorily supplied to the substrate regardless of the inclination angle of the roller support frame 71. Similarly, if the spray nozzles 32 and 33 for pure water are attached to the roller support frame 71 in the water washing treatment tank 3, pure water can be satisfactorily supplied to the substrate regardless of the inclination angle of the roller support frame 71. be able to.

【0081】また、上述の各実施形態では複数本の搬送
ローラなどにより本発明の搬送手段が構成されるが、複
数本の搬送ローラをベルトコンベア等に代えてもよい。
要は基板を支持しつつその表面に沿った方向に搬送でき
る搬送手段であればよい。
In each of the above embodiments, the transport means of the present invention is constituted by a plurality of transport rollers and the like, but the plurality of transport rollers may be replaced by a belt conveyor or the like.
In short, any transporting means that can transport the substrate in a direction along the surface while supporting the substrate may be used.

【0082】また、上述の実施形態においては、液晶表
示装置用ガラス基板を搬送するための装置を例にとった
が、この発明は、半導体ウエハ、プラズマディプレイパ
ネル用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板などの他
の種類の基板を搬送するための装置にも適用することが
できる。
Further, in the above-described embodiment, an apparatus for transporting a glass substrate for a liquid crystal display device is taken as an example. However, the present invention relates to a semiconductor wafer, a glass substrate for a plasma display panel, and a glass for a photomask. The present invention can also be applied to an apparatus for transporting another type of substrate such as a substrate.

【0083】その他、特許請求の範囲に記載された技術
的事項の範囲内で、種々の設計変更を施すことが可能で
ある。
In addition, various design changes can be made within the scope of the technical matters described in the claims.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明に係る基板搬送装置が適用される基板
処理装置の構成を簡略化して示す断面図である。
FIG. 1 is a simplified cross-sectional view showing a configuration of a substrate processing apparatus to which a substrate transfer apparatus according to the present invention is applied.

【図2】この発明の第1の実施形態に係る搬送機構の構
成を示す上方から見た断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the transport mechanism according to the first embodiment of the present invention as viewed from above.

【図3】図2の切断面線A−Aから見た断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 2;

【図4】搬送ローラを駆動するための構成を示す断面図
である。
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a configuration for driving a transport roller.

【図5】上記第1の実施形態の変形例について説明する
ための断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining a modification of the first embodiment.

【図6】上記第1の実施形態の他の変形例について説明
するための断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining another modification of the first embodiment.

【図7】この発明の第2の実施形態に係る搬送機構の構
成を示す上方から見た断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing the configuration of a transport mechanism according to a second embodiment of the present invention, as viewed from above.

【図8】搬送ローラを駆動するための構成を示す断面図
である。
FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a configuration for driving a transport roller.

【図9】この発明の第3の実施形態に係る搬送機構の構
成を示す上方から見た断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view as viewed from above showing a configuration of a transport mechanism according to a third embodiment of the present invention.

【図10】図5の切断面線B−Bから見た断面図であ
る。
FIG. 10 is a cross-sectional view taken along line BB of FIG. 5;

【図11】搬送ローラを駆動するための構成を示す断面
図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a configuration for driving a transport roller.

【図12】上記第3の実施形態の変形例について説明す
るための断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view for explaining a modification of the third embodiment.

【図13】搬送ローラを傾斜させるための他の構成例を
簡略化して示す断面図である。
FIG. 13 is a simplified cross-sectional view showing another configuration example for inclining a transport roller.

【図14】搬送ローラを傾斜させるための他の構成例を
簡略化して示す断面図である。
FIG. 14 is a simplified cross-sectional view showing another configuration example for inclining a transport roller.

【図15】搬送ローラを駆動するための他の構成例を示
す断面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view illustrating another configuration example for driving a transport roller.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

S 基板 2 エッチング処理槽(収納手段) 21,31 搬送ローラ(搬送手段) 7,7A,7B 搬送機構(基板搬送装置) 71 ローラ支持枠(ローラ支持部材) 78 かさ歯車(入力用ギア) 79 かさ歯車(介在ギア) 80,105,111,112 モータ(駆動源) 81 かさ歯車 82 シリンダ(傾斜手段) 84 取付部材(傾斜手段) 86 レバー(傾斜手段) 89 昇降棒(傾斜手段) 103 回転軸(入力軸) 104 フレキシブルカップリング(連結手段) 113 第1モータの出力軸(第1出力軸) 114 第2モータの出力軸(第2出力軸) 115 ウオームギア(第1出力用ギア) 116 ウオームギア(第2出力用ギア) 117 平歯車(第1介在ギア) 118 平歯車(第2介在ギア) G1 入力軸 G2 出力軸 S substrate 2 etching treatment tank (storage means) 21, 31 transfer roller (transfer means) 7, 7A, 7B transfer mechanism (substrate transfer device) 71 roller support frame (roller support member) 78 bevel gear (input gear) 79 bevel Gears (intervening gears) 80, 105, 111, 112 Motors (drive sources) 81 Bevel gears 82 Cylinders (tilting means) 84 Mounting members (tilting means) 86 Lever (tilting means) 89 Lifting rods (tilting means) 103 Rotating shaft ( Input shaft) 104 Flexible coupling (coupling means) 113 Output shaft of first motor (first output shaft) 114 Output shaft of second motor (second output shaft) 115 Worm gear (first output gear) 116 Worm gear (first output shaft) 2 output gear) 117 spur gear (first interposed gear) 118 spur gear (second interposed gear) G1 input shaft G2 output shaft

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3B201 AA02 AA03 AB02 AB14 AB39 AB42 BB24 BB33 BB62 BB81 BB93 CB15 CC01 CC11 CD22 5F031 BC05 CC15 JJ01 JJ05 KK02 KK06  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 3B201 AA02 AA03 AB02 AB14 AB39 AB42 BB24 BB33 BB62 BB81 BB93 CB15 CC01 CC11 CD22 5F031 BC05 CC15 JJ01 JJ05 KK02 KK06

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板をその主面に沿った搬送方向に搬送す
るとともに、基板の姿勢を所定の第1姿勢から、この第
1姿勢に対して上記搬送方向にほぼ平行な回動軸線まわ
りに傾いた第2姿勢に変更する基板搬送装置において、 基板を支持しつつその主面に沿った方向に搬送する搬送
手段と、 この搬送手段を上記回動軸線まわりに傾けて、上記搬送
手段に支持された基板の姿勢を上記第1姿勢から上記第
2姿勢に変更する傾斜手段と、 その内部に上記搬送手段を収納する収納手段と、 この収納手段の内部かつ上記回動軸線上に配置され、上
記回動軸線まわりに回転駆動される駆動軸と、 上記収納手段の外部に固定配置され、上記駆動軸を駆動
するための駆動源と、 上記収納手段を貫通して設けられ、上記駆動源による駆
動力を上記駆動軸に伝達する第1伝達手段と、 上記駆動軸による駆動力を上記搬送手段に伝達する第2
伝達手段と、を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
The substrate is transported in a transport direction along its main surface, and the posture of the substrate is changed from a predetermined first posture to a rotation axis substantially parallel to the transport direction with respect to the first posture. In a substrate transfer apparatus that changes to a tilted second posture, a transfer unit that transfers a substrate in a direction along a main surface thereof while supporting the substrate, and tilts the transfer unit around the rotation axis to support the transfer unit. Tilting means for changing the attitude of the substrate thus set from the first attitude to the second attitude, storage means for storing the transfer means therein, and disposed inside the storage means and on the rotation axis, A drive shaft rotatably driven around the rotation axis, a drive source fixedly arranged outside the storage means, and a drive source for driving the drive shaft; and a drive source provided through the storage means and provided by the drive source. Transfer the driving force to the drive shaft A first transmission means for, second transmitting a driving force by the drive shaft to the conveying means
A substrate transfer device comprising: a transmission unit.
【請求項2】請求項1に記載の基板搬送装置において、 第1伝達手段は、上記駆動源と連結され、上記搬送方向
と直交する軸線まわりに上記駆動源により回転駆動され
る出力軸と、この出力軸に設けられた出力用ギアと、上
記駆動軸に設けられ、上記出力用ギヤと噛合する介在ギ
アとを有することを特徴とする基板搬送装置。
2. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the first transmission means is connected to the drive source, and an output shaft rotated by the drive source around an axis orthogonal to the transfer direction. A substrate transfer device comprising: an output gear provided on the output shaft; and an intervening gear provided on the drive shaft and meshing with the output gear.
【請求項3】請求項1または請求項2に記載の基板搬送
装置において、 上記第2伝達手段は、上記搬送方向と直交する軸線まわ
りに回転駆動される入力軸と、この入力軸に設けられた
入力用ギアと、上記駆動軸に設けられ、上記入力用ギヤ
と噛合する介在ギアとを有することを特徴とする基板搬
送装置。
3. The substrate transfer device according to claim 1, wherein the second transmission unit is provided on the input shaft, the input shaft being driven to rotate about an axis orthogonal to the transfer direction. A substrate transfer device, comprising: an input gear; and an intervening gear provided on the drive shaft and meshing with the input gear.
【請求項4】基板をその主面に沿った搬送方向に搬送す
るとともに、基板の姿勢を所定の第1姿勢から、この第
1姿勢に対して上記搬送方向にほぼ平行な回動軸線まわ
りに傾いた第2姿勢に変更する基板搬送装置において、 基板を支持しつつその主面に沿った方向に搬送する搬送
手段と、 この搬送手段を上記回動軸線まわりに傾けて、上記搬送
手段に支持された基板の姿勢を上記第1姿勢から上記第
2姿勢に変更する傾斜手段と、 その内部に上記搬送手段を収納する収納手段と、 この収納手段の外部に固定配置され、上記搬送手段を駆
動するための駆動源と、 上記収納手段を貫通し、上記駆動源により上記搬送方向
と直交する軸線まわりに回転駆動される出力軸と、 上記搬送手段に連結され、上記搬送方向と直交する軸線
まわりに回転駆動される入力軸と、 上記出力軸と上記入力軸とがー直線状に延びた状態およ
び上記出力軸に対して上記入力軸が傾斜した状態で、上
記出力軸による駆動力を上記入力軸に伝達可能に上記出
力軸と上記入力軸とを連結する連結手段と、を備えたこ
とを特徴とする基板搬送装置。
4. A substrate is transported in a transport direction along a main surface thereof, and the posture of the substrate is changed from a predetermined first posture to a rotation axis substantially parallel to the transport direction with respect to the first posture. In a substrate transfer apparatus that changes to a tilted second posture, a transfer unit that transfers a substrate in a direction along a main surface thereof while supporting the substrate, and tilts the transfer unit around the rotation axis to support the transfer unit. Tilting means for changing the attitude of the substrate thus set from the first attitude to the second attitude, storage means for storing the transport means therein, and fixedly disposed outside the storage means to drive the transport means A drive source for driving the motor, an output shaft that penetrates the storage means and is driven to rotate about an axis perpendicular to the transport direction by the drive source, and connected to the transport means and around an axis perpendicular to the transport direction. Turning drive The input shaft, the output shaft and the input shaft are transmitted linearly and the input shaft is inclined with respect to the output shaft, and the driving force of the output shaft is transmitted to the input shaft. A substrate transfer device, comprising: a connecting means for connecting the output shaft and the input shaft as much as possible.
【請求項5】基板をその主面に沿った搬送方向に搬送す
るとともに、基板の姿勢を所定の第1姿勢から、この第
1姿勢に対して上記搬送方向にほぼ平行な回動軸線まわ
りに傾いた第2姿勢に変更する基板搬送装置において、 基板を支持しつつその主面に沿った方向に搬送する搬送
手段と、 この搬送手段を上記回動軸線まわりに傾けて、上記搬送
手段に支持された基板の姿勢を上記第1姿勢から上記第
2姿勢に変更する傾斜手段と、 その内部に上記搬送手段を収納する収納手段と、 収納手段の外部に固定配置され、上記搬送手段を駆動す
るための駆動源と、 上記搬送手段に支持された基板の姿勢が第1姿勢となる
ように上記傾斜手段により上記搬送手段が傾けられたと
きに、上記駆動源による駆動力を上記搬送手段に伝達す
るための第1駆動力伝達手段と、 上記搬送手段に支持された基板の姿勢が第2姿勢となる
ように上記傾斜手段により上記搬送手段が傾けられたと
きに、上記駆動源による駆動力を上記搬送手段に伝達す
るための第2駆動力伝達手段と、を備えたことを特徴と
する基板処理装置。
5. A substrate is transported in a transport direction along a main surface thereof, and the posture of the substrate is changed from a predetermined first posture to a rotation axis substantially parallel to the transport direction with respect to the first posture. In a substrate transfer apparatus that changes to a tilted second posture, a transfer unit that transfers a substrate in a direction along a main surface thereof while supporting the substrate, and tilts the transfer unit around the rotation axis to support the transfer unit. Tilting means for changing the attitude of the mounted substrate from the first attitude to the second attitude, storage means for storing the transfer means therein, and fixedly disposed outside the storage means to drive the transfer means And a driving force transmitted by the drive source to the transfer means when the transfer means is tilted by the tilt means so that the posture of the substrate supported by the transfer means becomes the first position. The first drive to do Force transmitting means, and transmitting the driving force from the drive source to the transfer means when the transfer means is tilted by the tilting means so that the posture of the substrate supported by the transfer means becomes the second position. A second driving force transmitting means for driving the substrate.
【請求項6】請求項5に記載の基板搬送装置において、 上記搬送手段は、上記搬送方向と平行な軸線まわりに回
転駆動され、上記傾斜手段によって上記搬送手段とー体
に傾斜する駆動軸を有し、 上記第1駆動力伝達手段は、上記収納槽を貫通し、上記
駆動源により回転駆動される第1出力軸と、この第1出
力軸に設けられた第1出力用ギアと、上記搬送手段に支
持された基板の姿勢が上記第1姿勢となるように上記傾
斜手段によって上記搬送手段が傾けられたときに、上記
第1出力用ギアと噛合するように上記駆動軸に設けられ
た第1介在ギアとを有し、 上記第2駆動力伝達手段は、上記収納槽を貫通し、上記
駆動源により回転駆動される第2出力軸と、この第2出
力軸に設けられた第2出力用ギアと、上記搬送手段に支
持された基板の姿勢が上記第2姿勢となるように上記傾
斜手段によって上記搬送手段が傾けられたときに、上記
第2出力用ギアと噛合するように上記駆動軸に設けられ
た第2介在ギアとを有することを特徴とする基板搬送装
置。
6. The substrate transfer apparatus according to claim 5, wherein the transfer means is driven to rotate about an axis parallel to the transfer direction, and has a drive shaft inclined to the transfer means and the body by the tilt means. Wherein the first driving force transmitting means penetrates the storage tank and is driven to rotate by the driving source; a first output gear provided on the first output shaft; When the transfer means is tilted by the tilting means so that the posture of the substrate supported by the transfer means becomes the first posture, the substrate is provided on the drive shaft so as to mesh with the first output gear. A first intervening gear, wherein the second driving force transmitting means penetrates the storage tank and is driven to rotate by the driving source; and a second output shaft provided on the second output shaft. The output gear and the substrate supported by the transfer means A second intervening gear provided on the drive shaft so as to mesh with the second output gear when the conveying means is tilted by the tilting means so as to be in the second posture. Characteristic substrate transfer device.
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