JP2000028630A - ガス式センサ - Google Patents
ガス式センサInfo
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- JP2000028630A JP2000028630A JP22849398A JP22849398A JP2000028630A JP 2000028630 A JP2000028630 A JP 2000028630A JP 22849398 A JP22849398 A JP 22849398A JP 22849398 A JP22849398 A JP 22849398A JP 2000028630 A JP2000028630 A JP 2000028630A
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Abstract
状態をそのガス流にさらされるヒートワイヤの抵抗値の
変化として電気的に検出するようにしたガス式センサに
あって、簡単な構造によってガス流の状態を検出できる
ようにする。 【構成】 ガス式センサの検出回路が実装される基板上
にNiなどのヒートワイヤを直接ボンディングして、そ
のヒートワイヤがガス流にさらされるような構造にす
る。
Description
角速度、加速度、流量などの物理量によるガス流の状態
を、そのガス流にさらされるヒートワイヤの抵抗値の変
化として電気的に検出するガス式センサに関する。
ンプによってセンサ本体におけるノズル孔からガス通路
内にガスを噴出させておき、センサ本体に角速度が作用
したときのガス通路内におけるガス流の偏向状態を、ガ
ス通路内に設けられたヒートワイヤ対における感熱抵抗
の変化として電気的に検出して、そのときセンサ本体に
作用している角速度の向きおよび大きさを求めるように
したガス式角速度センサがある。
っては、センサ本体がマイクロマシニング加工によって
形成された超小型のものが開発されており、そのマイク
ロチップ化されたセンサ本体を角速度検出回路のICチ
ップおよびマイクロポンプとともに回路基板上に実装
し、それをガスが封入されたキャンパッケージ内に収納
して、ポンプ駆動によりガスをそのパッケージ内で循環
させるような構造のものにしている(特開平5−297
008号公報参照)。
ンサにあって、ヒートワイヤを形成するに際して、温度
抵抗特性の良好な白金を半導体基板上にパターニングし
てヒートワイヤを平面的に形成したうえで、そのヒート
ワイヤが形成された部分の下側をエッチングにより除去
してガス通路にかかるヒートワイヤブリッジを構成する
ようにしている。
点は、マイクロ化されたガス式センサにあって、温度抵
抗特性の良好な白金を半導体基板上にパターニングして
ヒートワイヤを平面的に形成したうえで、そのヒートワ
イヤが形成された部分の下側をエッチングにより除去し
てガス通路にかかるヒートワイヤブリッジを構成するの
では、その構造が複雑になっていることである。
作用する物理量によるガス流の状態をそのガス流にさら
されるヒートワイヤの抵抗値の変化として電気的に検出
するようにしたガス式センサにあって、簡単な構造によ
ってガス流の状態を検出することができるようにするべ
く、検出回路が実装される基板上にNiなどのヒートワ
イヤを直接ボンディングして、そのヒートワイヤがガス
流にさらされるようにしている。
度を検出するようにしたときの構成例を示している。
実装されるHIC基板2をガスが封入されたケース1内
に収納して、そのHIC基板2の表面に一対のヒートワ
イヤHW1,HW2をボンディングによってブリッジ状
に取り付け、HIC基板2上に設けられたマイクロポン
プ3の駆動によってケース1内でガスをオープンループ
で循環させて一対のヒートワイヤHW1,HW2に向か
ってガス流(図中矢印で示す)が生ずるようにしてい
る。
で、一対のヒートワイヤHW1,HW2および基準抵抗
R1,R2によってブリッジ回路を構成して、ケース1
に角速度が作用したときの一対のヒートワイヤHW1,
HW2に向かうガス流の偏向状態に応じたブリッジ回路
の不平衡出力を増幅回路AMPを通して取り出すように
している。
のICチップ4がHIC(セラミック)基板2の裏面に
取り付けられている。
Au等に比して温度抵抗係数の大きいNiワイヤを、ガ
ス流の偏向状態の検出感度を上げるようにするとともに
所望の消費電力および抵抗値となるように任意に選定さ
れた線径(例えば8〜25μm)のものとしている。
して加速度を検出するようにしたときの構成例を示して
いる。
実装されるHIC基板2をガスが封入されたケース1内
に収納して、そのHIC基板2の表面に、X方向検出用
のヒートワイヤ対HWX1,HWX2,HWX3,HW
X4およびY方向検出用のヒートワイヤ対HWY1,H
WY2,HWY3,HWY4をそれぞれボンディングに
よってブリッジ状に取り付け、X方向またはY方向の加
速度が加わったときのケース1内におけるガスの変動状
態を各ヒートワイヤ対によって検出するようにしてい
る。
加わったときには、ガスがHWX1からHWX2の方向
に流れることになる。すなわち、ケース1内のガスはそ
れ自体が質量を有し、慣性の作用を受けるからである。
こうしてHWX1はHWX2よりもガス流により冷却さ
れて相測のヒートワイヤ間に電気抵抗差が生ずることに
なり、それを検出することによりX方向に作用する加速
度を検知することができるようになる。
すHWX1,HWX2が各々対向するHWX3,HWX
4をともなっている。これはセンサ本体に加速度ではな
く回転モーメントが作用したときにそれを誤って加速度
として検出してしまうことを防止するためである。すな
わち、センサ本体に図5中矢印Aで示す方向の回転モー
メントが加わったとき、HWX1はHWX2よりも冷却
されてあたかもX方向に加速度が加わったかのような状
態を示すが、それと同時にHWX4もHWX1と同量の
冷却効果を受ける。そこで、互いに対向するHWX1,
HWX2およびHWX3,HWX4の間における抵抗値
の変化の関係を予め図示しないセンサ制御装置に入力し
ておくようにすれば、各ヒートワイヤ間の電気抵抗差か
ら加速度のみを確実に検出できるようになる。また、同
時に、加速度と回転モーメントの両方を検出するセンサ
として利用することも可能である。なお、図5中のHW
Y1〜HWY4もY方向において上記と同様の作用をな
すものである。
ヒートワイヤ対とともに加速度検出回路を構成するため
のICチップである。
ため、各ヒートワイヤにこの熱が好適となるような配慮
がなされている。すなわち、このICチップ6はヒート
ワイヤ下面の基板2上に配設され、熱は基板2の全体に
ほぼ均一に分布するようにしている。そのためにヒート
ワイヤ近傍のガスは特定の部位のみ温度上昇することが
なく、熱は常にワイヤに対して均等に拡散して、加速度
発生時にはガスの流れを的確にとらえることができるよ
うになる。
属製のベース部7と接着剤8によって固着されている。
接着剤8は例えばシリコン等の高熱伝導性のものからな
り、ICチップ6の熱がベース部7を通して適宜放出さ
れ、ヒートワイヤ周囲のガス雰囲気を常に一定の状態に
する機能をもかねそなえている。
流の流量を検出する流量センサにあっても同様に、流量
検出のための電気回路が実装されるHIC基板上にヒー
トワイヤをボンディングによってブリッジ状に取り付け
て、ヒートワイヤをガス流にさらすような構造にするこ
とも可能である。
用する物理量によるガス流の状態をそのガス流にさらさ
れるヒートワイヤの抵抗値の変化として電気的に検出す
るようにしたガス式センサにあって、検出回路が実装さ
れる基板上にNiなどのヒートワイヤを直接ボンディン
グして、そのヒートワイヤがガス流にさらされるように
したもので、簡単な構造によってガス流の状態を検出で
きるようになるという利点がある。
断面図である。
部分の斜視図である。
ある。
正断面図である。
板部分の斜視図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 センサ本体に作用する物理量によるガス
流の状態をそのガス流にさらされるヒートワイヤの抵抗
値の変化として電気的に検出するガス式センサにあっ
て、その検出回路が実装される基板上にヒートワイヤを
ボンディングすることによって構成されたガス式セン
サ。 - 【請求項2】 ヒートワイヤがボンディングされた回路
基板をガスが封入されたケース内に収納して、ケース内
でガスをオープンループで循環させることによって、ケ
ースに作用する角速度を検出するようにしたことを特徴
とする請求項1の記載によるガス式センサ。 - 【請求項3】 ヒートワイヤがボンディングされた回路
基板をガスが封入されたケース内に収納して、ケースに
作用する加速度を検出するようにしたことを特徴とする
請求項1の記載によるガス式センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22849398A JP2000028630A (ja) | 1998-07-08 | 1998-07-08 | ガス式センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22849398A JP2000028630A (ja) | 1998-07-08 | 1998-07-08 | ガス式センサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000028630A true JP2000028630A (ja) | 2000-01-28 |
Family
ID=16877332
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22849398A Pending JP2000028630A (ja) | 1998-07-08 | 1998-07-08 | ガス式センサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000028630A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018179764A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 株式会社ミクニ | 自動二輪車の転倒検出装置 |
-
1998
- 1998-07-08 JP JP22849398A patent/JP2000028630A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018179764A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 株式会社ミクニ | 自動二輪車の転倒検出装置 |
JP2018171973A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 株式会社ミクニ | 自動二輪車の転倒検出装置 |
CN110461696A (zh) * | 2017-03-31 | 2019-11-15 | 株式会社三国 | 摩托车倾倒检测装置 |
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A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20041201 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
Effective date: 20070801 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
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A02 | Decision of refusal |
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