JP2000026969A - インライン式蒸着装置における蒸着室への蒸発源の連続送り込み方法 - Google Patents
インライン式蒸着装置における蒸着室への蒸発源の連続送り込み方法Info
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- JP2000026969A JP2000026969A JP10195503A JP19550398A JP2000026969A JP 2000026969 A JP2000026969 A JP 2000026969A JP 10195503 A JP10195503 A JP 10195503A JP 19550398 A JP19550398 A JP 19550398A JP 2000026969 A JP2000026969 A JP 2000026969A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 インライン式蒸着装置における蒸着室の真空
を維持しつつ多数の基板（被蒸着物）に連続して成膜す
る場合において、膜質や成膜分布に変化を生じさせるこ
となく、蒸着室への信頼性のおける蒸発物質の連続した
送り込み、回収を可能とする方法を提供する。 【解決手段】 インライン式蒸着装置における加熱抵抗
式蒸発源を蒸着室へ送り込む方法において、それぞれ内
部にカセット状の蒸発源を収容している複数のロードロ
ック室を、ロードロックバルブを介してそれぞれ蒸着室
に連設し、真空状態にあるロードロック室から真空状態
にある蒸着室への前記蒸発源の送り込み及び回収を各ロ
ードロック室と前記蒸着室との間で順次行うことを特徴
とする蒸着室への蒸発源の連続送り込み方法。
を維持しつつ多数の基板（被蒸着物）に連続して成膜す
る場合において、膜質や成膜分布に変化を生じさせるこ
となく、蒸着室への信頼性のおける蒸発物質の連続した
送り込み、回収を可能とする方法を提供する。 【解決手段】 インライン式蒸着装置における加熱抵抗
式蒸発源を蒸着室へ送り込む方法において、それぞれ内
部にカセット状の蒸発源を収容している複数のロードロ
ック室を、ロードロックバルブを介してそれぞれ蒸着室
に連設し、真空状態にあるロードロック室から真空状態
にある蒸着室への前記蒸発源の送り込み及び回収を各ロ
ードロック室と前記蒸着室との間で順次行うことを特徴
とする蒸着室への蒸発源の連続送り込み方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、有機ＥＬ膜の量
産用蒸着装置などのように、主に量産用に供せられるイ
ンライン式蒸着装置における蒸着室への蒸発源の送り込
み方法に関し、特に、インライン式蒸着装置において蒸
発源を蒸着室へ連続して送り込むことによって、タクト
タイムを向上させることを目的としたインライン式蒸着
装置における蒸着室への蒸発源の連続送り込み方法に関
する。
産用蒸着装置などのように、主に量産用に供せられるイ
ンライン式蒸着装置における蒸着室への蒸発源の送り込
み方法に関し、特に、インライン式蒸着装置において蒸
発源を蒸着室へ連続して送り込むことによって、タクト
タイムを向上させることを目的としたインライン式蒸着
装置における蒸着室への蒸発源の連続送り込み方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、蒸着室の真空を維持しつつ多数の
基板（被蒸着物）に連続して成膜する場合（一般に、真
空を維持しつつ１００回から２００回の連続した蒸着が
行われる）において、蒸発源としての多量の蒸発物質を
確保すべく種々の手段が採用されていた。例えば、蒸発
源に使われる坩堝やボートの容量を大きくして、予め長
時間の蒸着に必要な量の蒸発物質を当該容量の大きな坩
堝やボートの中にため込んでおいたり、予め真空中にた
め込んだワイヤー状、粒状の蒸発物質を坩堝やボートの
中へ機械的に送り込み、蒸発によって減少した蒸発物質
を補う方法などが採用されていた。
基板（被蒸着物）に連続して成膜する場合（一般に、真
空を維持しつつ１００回から２００回の連続した蒸着が
行われる）において、蒸発源としての多量の蒸発物質を
確保すべく種々の手段が採用されていた。例えば、蒸発
源に使われる坩堝やボートの容量を大きくして、予め長
時間の蒸着に必要な量の蒸発物質を当該容量の大きな坩
堝やボートの中にため込んでおいたり、予め真空中にた
め込んだワイヤー状、粒状の蒸発物質を坩堝やボートの
中へ機械的に送り込み、蒸発によって減少した蒸発物質
を補う方法などが採用されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記の従来採用されて
いた方法には、それぞれ以下に述べるような問題点が存
在していた。すなわち、蒸発源に使われる坩堝やボート
の容量を大きくする場合には、坩堝やボートに寿命があ
るということと、坩堝やボート内にため込まれている蒸
発物質の減少に伴って、膜質や成膜分布に変化が生じる
という問題点があった。また、予め真空中にため込んだ
ワイヤー状、粒状の蒸発物質を坩堝やボートの中へ送り
込む方法においては、この送り込みを行うための機構の
構造が複雑になりやすく、そのため、信頼性が乏しいと
いう問題点があった。
いた方法には、それぞれ以下に述べるような問題点が存
在していた。すなわち、蒸発源に使われる坩堝やボート
の容量を大きくする場合には、坩堝やボートに寿命があ
るということと、坩堝やボート内にため込まれている蒸
発物質の減少に伴って、膜質や成膜分布に変化が生じる
という問題点があった。また、予め真空中にため込んだ
ワイヤー状、粒状の蒸発物質を坩堝やボートの中へ送り
込む方法においては、この送り込みを行うための機構の
構造が複雑になりやすく、そのため、信頼性が乏しいと
いう問題点があった。
【０００４】すなわち、蒸着室の真空を維持しつつ多数
の基板（被蒸着物）に連続して成膜する場合において、
膜質や成膜分布に変化を生じさせることなく、蒸発源と
しての蒸発物質を信頼性のおける方法で、連続して供給
できる方法は提案されていなかった。
の基板（被蒸着物）に連続して成膜する場合において、
膜質や成膜分布に変化を生じさせることなく、蒸発源と
しての蒸発物質を信頼性のおける方法で、連続して供給
できる方法は提案されていなかった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、主に量産用に
供せられるインライン式蒸着装置における加熱抵抗式蒸
発源を蒸着室へ送り込む方法において、それぞれ内部に
カセット状の蒸発源を収容している複数のロードロック
室を、ロードロックバルブを介してそれぞれ蒸着室に連
設し、真空状態にあるロードロック室から真空状態にあ
る蒸着室への蒸発源の送り込み及び回収を各ロードロッ
ク室と前記蒸着室との間で順次行うことにより、蒸着室
における１枚の基板への蒸着の度ごとに所定量に調整さ
れた蒸発源を、真空状態にあるロードロック室から真空
状態にある蒸着室へ連続して送り込めるようにし、蒸着
室の真空を維持しつつ多数の基板に連続して成膜する際
の蒸発物質の信頼性おける連続供給を可能としたのであ
る。
供せられるインライン式蒸着装置における加熱抵抗式蒸
発源を蒸着室へ送り込む方法において、それぞれ内部に
カセット状の蒸発源を収容している複数のロードロック
室を、ロードロックバルブを介してそれぞれ蒸着室に連
設し、真空状態にあるロードロック室から真空状態にあ
る蒸着室への蒸発源の送り込み及び回収を各ロードロッ
ク室と前記蒸着室との間で順次行うことにより、蒸着室
における１枚の基板への蒸着の度ごとに所定量に調整さ
れた蒸発源を、真空状態にあるロードロック室から真空
状態にある蒸着室へ連続して送り込めるようにし、蒸着
室の真空を維持しつつ多数の基板に連続して成膜する際
の蒸発物質の信頼性おける連続供給を可能としたのであ
る。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の方法によれば、真空状態
にあるロードロック室から真空状態にある蒸着室への蒸
発源の送り込み及び回収が各ロードロック室と蒸着室と
の間で順次行われるわけであるが、蒸着室と複数のロー
ドロック室とはそれぞれロードロックバルブを介して接
続されているので、蒸着作業に供されていたカセット状
の蒸発源が、蒸着室からそれが収容されるべきロードロ
ック室へ回収され、替わって他のロードロック室から新
しいカセット状の蒸発源が蒸着室へ送り込まれて新たな
蒸着作業に供されている間に、前記回収されたカセット
状の蒸発源の交換作業が行われる。この時、蒸着室と交
換作業が行われるロードロック室との間は前記ロードロ
ックバルブによって閉鎖されているので、蒸着室の真空
状態は維持され、このように蒸着室の真空状態が維持さ
れている下で、ロードロック室から蒸着室への連続的な
蒸発源の送り込み及び回収が行われ、連続的に成膜が行
われることになる。
にあるロードロック室から真空状態にある蒸着室への蒸
発源の送り込み及び回収が各ロードロック室と蒸着室と
の間で順次行われるわけであるが、蒸着室と複数のロー
ドロック室とはそれぞれロードロックバルブを介して接
続されているので、蒸着作業に供されていたカセット状
の蒸発源が、蒸着室からそれが収容されるべきロードロ
ック室へ回収され、替わって他のロードロック室から新
しいカセット状の蒸発源が蒸着室へ送り込まれて新たな
蒸着作業に供されている間に、前記回収されたカセット
状の蒸発源の交換作業が行われる。この時、蒸着室と交
換作業が行われるロードロック室との間は前記ロードロ
ックバルブによって閉鎖されているので、蒸着室の真空
状態は維持され、このように蒸着室の真空状態が維持さ
れている下で、ロードロック室から蒸着室への連続的な
蒸発源の送り込み及び回収が行われ、連続的に成膜が行
われることになる。
【０００７】そして、１枚の基板への１回の蒸着ごとに
蒸発源を交換するので、坩堝やボートの寿命を考慮する
必要はなくなり、また１回の蒸着に必要な蒸発物質の定
量を、カセット状の蒸発源の交換によって、毎回（１枚
の基板への１回の蒸着ごとに）装填することになるの
で、連続した成膜中における蒸発物質の減少に伴う膜質
や成膜分布の変化という問題点も生じない。
蒸発源を交換するので、坩堝やボートの寿命を考慮する
必要はなくなり、また１回の蒸着に必要な蒸発物質の定
量を、カセット状の蒸発源の交換によって、毎回（１枚
の基板への１回の蒸着ごとに）装填することになるの
で、連続した成膜中における蒸発物質の減少に伴う膜質
や成膜分布の変化という問題点も生じない。
【０００８】前記において、真空状態にある蒸着室へ蒸
発源を送り込む前に、ロードロック室内で蒸発源のガス
出し処理を行い、当該ガス出し処理を行った蒸発源を所
定の温度に維持しつつ、真空状態にある蒸着室へ送り込
むようにすれば、当該ガス出し処理を行った蒸発源が蒸
着室へ送り込まれた後、他の条件を満たすだけでただち
に蒸着作業を開始できるので、タクトタイムの短縮を図
り、成膜作業の効率を向上させることができる。
発源を送り込む前に、ロードロック室内で蒸発源のガス
出し処理を行い、当該ガス出し処理を行った蒸発源を所
定の温度に維持しつつ、真空状態にある蒸着室へ送り込
むようにすれば、当該ガス出し処理を行った蒸発源が蒸
着室へ送り込まれた後、他の条件を満たすだけでただち
に蒸着作業を開始できるので、タクトタイムの短縮を図
り、成膜作業の効率を向上させることができる。
【０００９】なお、前記において、蒸着室に連設する複
数のロードロック室は、少なくとも２個にする必要があ
る。すなわち、蒸着室に連設するロードロック室を２個
設け、ロードロック室から蒸着室への蒸発源の送り込み
及び回収を、当該２個のロードロック室の間で交互に繰
り返し、一方のロードロック室から蒸着室に蒸発源が送
り込まれて基板への成膜が行われている、すなわち蒸着
作業が行われている間に、他方のロードロック室と蒸着
室との間をロードロックバルブによって閉鎖し、大気圧
状態にしての蒸発源の交換、ロードロック室の真空抜
き、蒸発源のガス出しを行い、所定の余熱状態にして前
記一方のロードロック室から蒸着室に送り込まれている
蒸発源を用いた蒸着作業の完了を待ち、完了したなら
ば、直ちに当該蒸着作業に供されていた蒸発源を前記一
方のロードロック室へ回収して蒸着室との間のロードロ
ックバルブを閉鎖すると共に、他方のロードロック室と
蒸着室との間のロードロックバルブを開いて前記待機さ
せていた蒸発源を送り込んで蒸着作業に供することとす
れば、このように２個のロードロック室をそれぞれロー
ドロックバルブを介して蒸着室に連設しておくだけで、
蒸着室の真空を維持しつつ、連続して蒸発源を蒸着室へ
送り込み、連続して成膜を行うことができる。
数のロードロック室は、少なくとも２個にする必要があ
る。すなわち、蒸着室に連設するロードロック室を２個
設け、ロードロック室から蒸着室への蒸発源の送り込み
及び回収を、当該２個のロードロック室の間で交互に繰
り返し、一方のロードロック室から蒸着室に蒸発源が送
り込まれて基板への成膜が行われている、すなわち蒸着
作業が行われている間に、他方のロードロック室と蒸着
室との間をロードロックバルブによって閉鎖し、大気圧
状態にしての蒸発源の交換、ロードロック室の真空抜
き、蒸発源のガス出しを行い、所定の余熱状態にして前
記一方のロードロック室から蒸着室に送り込まれている
蒸発源を用いた蒸着作業の完了を待ち、完了したなら
ば、直ちに当該蒸着作業に供されていた蒸発源を前記一
方のロードロック室へ回収して蒸着室との間のロードロ
ックバルブを閉鎖すると共に、他方のロードロック室と
蒸着室との間のロードロックバルブを開いて前記待機さ
せていた蒸発源を送り込んで蒸着作業に供することとす
れば、このように２個のロードロック室をそれぞれロー
ドロックバルブを介して蒸着室に連設しておくだけで、
蒸着室の真空を維持しつつ、連続して蒸発源を蒸着室へ
送り込み、連続して成膜を行うことができる。
【００１０】
【実施例】添付図面を用いて本発明の好ましい実施例を
説明する。
説明する。
【００１１】図１（ａ）に示すように、蒸着室１の両側
にロードロック室２、６が設けられており、ロードロッ
ク室２、６と蒸着室１との間には、ロードロックバルブ
４、８がそれぞれ介装されている。また、蒸着室１内の
上部には、基板ホルダ５が備えられている。これらの蒸
着室１、ロードロック室２、６、ロードロックバルブ
４、８、基板ホルダ５は、それそれ従来公知のものを使
用することができる。
にロードロック室２、６が設けられており、ロードロッ
ク室２、６と蒸着室１との間には、ロードロックバルブ
４、８がそれぞれ介装されている。また、蒸着室１内の
上部には、基板ホルダ５が備えられている。これらの蒸
着室１、ロードロック室２、６、ロードロックバルブ
４、８、基板ホルダ５は、それそれ従来公知のものを使
用することができる。
【００１２】本発明においては、ロードロック室２内に
蒸発源カセット３が、ロードロック室６内に蒸発源カセ
ット７が、それぞれ収容されており、これらは、ロード
ロックバルブ４、８が開状態にあるときに、従来公知の
搬送手段（図示していない）によって、蒸着室１内に送
り込まれ、また蒸着室１内から回収される構成となって
いる。
蒸発源カセット３が、ロードロック室６内に蒸発源カセ
ット７が、それぞれ収容されており、これらは、ロード
ロックバルブ４、８が開状態にあるときに、従来公知の
搬送手段（図示していない）によって、蒸着室１内に送
り込まれ、また蒸着室１内から回収される構成となって
いる。
【００１３】本発明による蒸着室への蒸発源の送り込み
及び回収は、以下のように行われる。図１（ａ）図示の
状態は、ロードロックバルブ４が開かれ、ロードロック
室２内に収容されていた蒸発源カセット３が蒸着室１に
送り込まれて蒸着が行われている状態を示すものであ
る。この際、ロードロックバルブ８は閉じられ、左側の
ロードロック室６においては蒸発源カセット７の交換作
業等が行われている。
及び回収は、以下のように行われる。図１（ａ）図示の
状態は、ロードロックバルブ４が開かれ、ロードロック
室２内に収容されていた蒸発源カセット３が蒸着室１に
送り込まれて蒸着が行われている状態を示すものであ
る。この際、ロードロックバルブ８は閉じられ、左側の
ロードロック室６においては蒸発源カセット７の交換作
業等が行われている。
【００１４】図１（ａ）図示の状態での蒸着作業が終了
すると、蒸発源カセット３は搬送手段（図示していな
い）によってロードロック室２内に回収され、ロードロ
ックバルブ４が閉じられる。そして、ただちに、ロード
ロックバルブ８が開けられ、ロードロック室６から、蒸
発源カセット７が搬送手段（図示していない）によって
蒸着室１に送り込まれ、蒸発源カセット７を蒸発源とす
る蒸着室１内での新たな蒸着作業が開始される。
すると、蒸発源カセット３は搬送手段（図示していな
い）によってロードロック室２内に回収され、ロードロ
ックバルブ４が閉じられる。そして、ただちに、ロード
ロックバルブ８が開けられ、ロードロック室６から、蒸
発源カセット７が搬送手段（図示していない）によって
蒸着室１に送り込まれ、蒸発源カセット７を蒸発源とす
る蒸着室１内での新たな蒸着作業が開始される。
【００１５】なお、前記のように蒸着作業に供されてい
た蒸発源カセット３がロードロック室２内に回収され、
引き続いてロードロック室６から蒸発源カセット７が蒸
着室１に送り込まれてくる間に、前記回収された蒸発源
カセット３を蒸発源として蒸着が行われた基板は、蒸着
室１内の真空状態を維持したまま従来公知の方法によっ
て基板ホルダ５から取り外され、前記新たに送り込まれ
た蒸発源カセット７を蒸発源として蒸着が行われる新た
な基板が基板ホルダ５に装着されている。
た蒸発源カセット３がロードロック室２内に回収され、
引き続いてロードロック室６から蒸発源カセット７が蒸
着室１に送り込まれてくる間に、前記回収された蒸発源
カセット３を蒸発源として蒸着が行われた基板は、蒸着
室１内の真空状態を維持したまま従来公知の方法によっ
て基板ホルダ５から取り外され、前記新たに送り込まれ
た蒸発源カセット７を蒸発源として蒸着が行われる新た
な基板が基板ホルダ５に装着されている。
【００１６】前記蒸着室１に送り込まれた蒸発源カセッ
ト７は、すでにロードロック室６内にあるときに、ガス
出し処理が施され、所定温度に、すなわち余熱状態に維
持されているので、蒸着室１内において、他の条件が満
たされれば、ただちに蒸着作業が開始される。
ト７は、すでにロードロック室６内にあるときに、ガス
出し処理が施され、所定温度に、すなわち余熱状態に維
持されているので、蒸着室１内において、他の条件が満
たされれば、ただちに蒸着作業が開始される。
【００１７】なお、図１（ａ）図示の蒸着作業の際に
は、ロードロックバルブ４が、一方、図１（ｂ）図示の
蒸着作業の際には、ロードロックバルブ８が、それぞれ
開かれた状態で蒸着作業が行われることになる。これ
は、搬送装置の給電線が存在しているため、ロードロッ
クバルブ４、８を閉鎖できないためであるが、ロードロ
ックバルブ４、８を閉鎖しなくても、蒸発源カセット
３、７を蒸着室１へ送り込む時点のロードロック室２、
６内は、真空状態に保たれているので、蒸着室１内の真
空状態は一貫して維持され、蒸着作業に支障が生じるこ
とはない。
は、ロードロックバルブ４が、一方、図１（ｂ）図示の
蒸着作業の際には、ロードロックバルブ８が、それぞれ
開かれた状態で蒸着作業が行われることになる。これ
は、搬送装置の給電線が存在しているため、ロードロッ
クバルブ４、８を閉鎖できないためであるが、ロードロ
ックバルブ４、８を閉鎖しなくても、蒸発源カセット
３、７を蒸着室１へ送り込む時点のロードロック室２、
６内は、真空状態に保たれているので、蒸着室１内の真
空状態は一貫して維持され、蒸着作業に支障が生じるこ
とはない。
【００１８】図１（ｂ）図示の状態における蒸発源カセ
ット７を蒸発源とする蒸着室１内での蒸着作業と並行し
て、ロードロック室２に回収された蒸発源カセット３の
交換作業が行われる。この作業は、ロードロック室２の
扉（図示していない）を開けて、ロードロック室２内を
大気圧にして行われる。
ット７を蒸発源とする蒸着室１内での蒸着作業と並行し
て、ロードロック室２に回収された蒸発源カセット３の
交換作業が行われる。この作業は、ロードロック室２の
扉（図示していない）を開けて、ロードロック室２内を
大気圧にして行われる。
【００１９】本発明の方法に使用されるカセット状の蒸
発源である蒸発源カセット３、７は、図２図示のよう
に、板９の上に複数のボート（あるいは坩堝）１０、１
０をまとめて組み込んで構成されている。このように複
数のボート（あるいは坩堝）１０、１０がまとめられて
組み込まれてカセット状になっているので、この蒸発源
カセット３、７を交換することにより、一度に、複数の
ボート（あるいは坩堝）を交換することができ、蒸発源
としての複数のボート（あるいは坩堝）を交換しなけれ
ばならないにもかかわらず、その交換に要する時間を短
縮化することができる。
発源である蒸発源カセット３、７は、図２図示のよう
に、板９の上に複数のボート（あるいは坩堝）１０、１
０をまとめて組み込んで構成されている。このように複
数のボート（あるいは坩堝）１０、１０がまとめられて
組み込まれてカセット状になっているので、この蒸発源
カセット３、７を交換することにより、一度に、複数の
ボート（あるいは坩堝）を交換することができ、蒸発源
としての複数のボート（あるいは坩堝）を交換しなけれ
ばならないにもかかわらず、その交換に要する時間を短
縮化することができる。
【００２０】蒸発源カセット３の交換が完了した後、ロ
ードロック室２は真空に排気され、新しいボートと蒸着
物が装着された蒸発源カセット３のガス出し処理が行わ
れ、蒸発源カセット３を所定温度にすなわち余熱状態に
維持して、蒸発源カセット７を蒸発源とする蒸着室１内
での蒸着作業の終了を待つ。このガス出し処理、余熱状
態の維持は従来公知の方法によって行われる。
ードロック室２は真空に排気され、新しいボートと蒸着
物が装着された蒸発源カセット３のガス出し処理が行わ
れ、蒸発源カセット３を所定温度にすなわち余熱状態に
維持して、蒸発源カセット７を蒸発源とする蒸着室１内
での蒸着作業の終了を待つ。このガス出し処理、余熱状
態の維持は従来公知の方法によって行われる。
【００２１】図１（ｂ）図示の状態での蒸着作業が完了
すると、蒸発源カセット７は搬送手段（図示していな
い）によってロードロック室６内に回収され、ロードロ
ックバルブ８が閉じられる。そして、ただちに、ロード
ロックバルブ４が開けられ、ロードロック室２から、蒸
発源カセット３が搬送手段（図示していない）によって
蒸着室１に送り込まれ、蒸発源カセット３を蒸発源とす
る蒸着室１内での新たな蒸着作業が開始されると共に、
ロードロック室６に回収された蒸発源カセット７の交換
作業、新たに装着された蒸発源カセット７のガス出し処
理、余熱状態への維持といった作業が行われる。
すると、蒸発源カセット７は搬送手段（図示していな
い）によってロードロック室６内に回収され、ロードロ
ックバルブ８が閉じられる。そして、ただちに、ロード
ロックバルブ４が開けられ、ロードロック室２から、蒸
発源カセット３が搬送手段（図示していない）によって
蒸着室１に送り込まれ、蒸発源カセット３を蒸発源とす
る蒸着室１内での新たな蒸着作業が開始されると共に、
ロードロック室６に回収された蒸発源カセット７の交換
作業、新たに装着された蒸発源カセット７のガス出し処
理、余熱状態への維持といった作業が行われる。
【００２２】前記の作業を繰り返すことにより、蒸着室
１を真空状態に維持したまま、多数の基板（被蒸着物）
への連続した成膜が行われる。
１を真空状態に維持したまま、多数の基板（被蒸着物）
への連続した成膜が行われる。
【００２３】なお、この実施例においては、蒸着室１の
両側にロードロックバルブ４、８を介在させてロードロ
ック室２、６を配置したが、本発明は、この実施例に限
定されるものではない。すなわち、蒸着室１の周囲に３
個以上のロードロック室を、それぞれロードロックバル
ブを介在させて連設し、蒸着室１内での１個の基板に対
する蒸着が完了する度ごとに、蒸着作業に供していた蒸
発源カセットの収容されるべきロードロック室への回
収、他のロードロック室からの新たな蒸発源カセットの
蒸着室１内への送り込みを順次行うこともできる。
両側にロードロックバルブ４、８を介在させてロードロ
ック室２、６を配置したが、本発明は、この実施例に限
定されるものではない。すなわち、蒸着室１の周囲に３
個以上のロードロック室を、それぞれロードロックバル
ブを介在させて連設し、蒸着室１内での１個の基板に対
する蒸着が完了する度ごとに、蒸着作業に供していた蒸
発源カセットの収容されるべきロードロック室への回
収、他のロードロック室からの新たな蒸発源カセットの
蒸着室１内への送り込みを順次行うこともできる。
【００２４】この実施例で説明したように、２個のロー
ドロック室を設ける場合でも、３個以上のロードロック
室を設ける場合でも、蒸着室１内での１個の基板に対す
る蒸着作業が終了するまでの間に、蒸発源カセットの交
換作業を行い、更に、新たに装着された蒸発源カセット
のガス出し処理、余熱状態への維持といった作業を終え
ておけば、蒸発源交換の待ち時間無しで多数の基板（被
蒸着物）への連続した成膜作業を行うことができる。
ドロック室を設ける場合でも、３個以上のロードロック
室を設ける場合でも、蒸着室１内での１個の基板に対す
る蒸着作業が終了するまでの間に、蒸発源カセットの交
換作業を行い、更に、新たに装着された蒸発源カセット
のガス出し処理、余熱状態への維持といった作業を終え
ておけば、蒸発源交換の待ち時間無しで多数の基板（被
蒸着物）への連続した成膜作業を行うことができる。
【００２５】
【発明の効果】本発明の方法によれば、蒸着室の真空を
維持しつつ多数の基板（被蒸着物）に連続して成膜する
場合において、膜質や成膜分布に変化を生じさせること
なく、蒸発源としての蒸発物質を信頼性のおける方法で
連続して供給することができる。しかも、この連続して
の蒸発物質の供給は、蒸着室とロードロック室との間に
介在するロードロックバルブの開閉、蒸着室とロードロ
ック室との間での蒸発源の搬送というような従来公知の
装置、機構を用いた極めて簡単な機構で達成することが
できる。
維持しつつ多数の基板（被蒸着物）に連続して成膜する
場合において、膜質や成膜分布に変化を生じさせること
なく、蒸発源としての蒸発物質を信頼性のおける方法で
連続して供給することができる。しかも、この連続して
の蒸発物質の供給は、蒸着室とロードロック室との間に
介在するロードロックバルブの開閉、蒸着室とロードロ
ック室との間での蒸発源の搬送というような従来公知の
装置、機構を用いた極めて簡単な機構で達成することが
できる。
【００２６】また、蒸着室１内での１個の基板に対する
蒸着作業が終了するまでの間に、ロードロックバルブに
よって蒸着室１との間が閉鎖されている他のロードロッ
ク室内において蒸発源カセットの交換作業を行い、更
に、新たに装着された蒸発源カセットのガス出し処理、
余熱状態への維持といった作業を終えて待機させておく
ことにより、蒸発源交換の待ち時間無しで多数の基板
（被蒸着物）への連続した成膜作業を行うことができ、
タクトタイムの向上を図ることができる。
蒸着作業が終了するまでの間に、ロードロックバルブに
よって蒸着室１との間が閉鎖されている他のロードロッ
ク室内において蒸発源カセットの交換作業を行い、更
に、新たに装着された蒸発源カセットのガス出し処理、
余熱状態への維持といった作業を終えて待機させておく
ことにより、蒸発源交換の待ち時間無しで多数の基板
（被蒸着物）への連続した成膜作業を行うことができ、
タクトタイムの向上を図ることができる。
【図１】 本発明の好ましい実施例を説明する正面図で
あって、（ａ）は、ロードロック室２から送り込まれた
蒸発源カセットを蒸発源として蒸着が行われている状態
を表す正面図、（ｂ）は、（ａ）の状態に引き続いてロ
ードロック室６から送り込まれた蒸発源カセットを蒸発
源として蒸着が行われている状態を表す正面図。
あって、（ａ）は、ロードロック室２から送り込まれた
蒸発源カセットを蒸発源として蒸着が行われている状態
を表す正面図、（ｂ）は、（ａ）の状態に引き続いてロ
ードロック室６から送り込まれた蒸発源カセットを蒸発
源として蒸着が行われている状態を表す正面図。
【図２】 本発明に用いられるカセット状の蒸発源の斜
視図。
視図。
１ 蒸着室 ２、６ ロードロック室 ３、７ カセット状蒸発源 ４、８ ロードロックバルブ
Claims (3)
- 【請求項１】 インライン式蒸着装置における加熱抵抗
式蒸発源を蒸着室へ送り込む方法において、それぞれ内
部にカセット状の蒸発源を収容している複数のロードロ
ック室を、ロードロックバルブを介してそれぞれ蒸着室
に連設し、真空状態にあるロードロック室から真空状態
にある蒸着室への前記蒸発源の送り込み及び回収を各ロ
ードロック室と前記蒸着室との間で順次行うことを特徴
とする蒸着室への蒸発源の連続送り込み方法。 - 【請求項２】 蒸着室に連設するロードロック室を２個
設け、真空状態にあるロードロック室から真空状態にあ
る蒸着室への蒸発源の送り込み及び回収を、当該２個の
ロードロック室の間で交互に繰り返すことを特徴とした
請求項１記載の蒸着室への蒸発源の連続送り込み方法。 - 【請求項３】 真空状態にある蒸着室へ蒸発源を送り込
む前に、ロードロック室内で蒸発源のガス出し処理を行
い、当該ガス出し処理を行った蒸発源を所定の温度に維
持しつつ、真空状態にある蒸着室へ送り込むことを特徴
とする請求項１又は２記載の蒸着室への蒸発源の連続送
り込み方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19550398A JP4227220B2 (ja) | 1998-07-10 | 1998-07-10 | インライン式蒸着装置における蒸着室への蒸発源の連続送り込み方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19550398A JP4227220B2 (ja) | 1998-07-10 | 1998-07-10 | インライン式蒸着装置における蒸着室への蒸発源の連続送り込み方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000026969A true JP2000026969A (ja) | 2000-01-25 |
| JP4227220B2 JP4227220B2 (ja) | 2009-02-18 |
Family
ID=16342176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19550398A Expired - Lifetime JP4227220B2 (ja) | 1998-07-10 | 1998-07-10 | インライン式蒸着装置における蒸着室への蒸発源の連続送り込み方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4227220B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007146207A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 真空成膜方法、及び真空成膜装置 |
| US20070186852A1 (en) * | 2003-02-14 | 2007-08-16 | Junichiro Sakata | Manufacturing apparatus |
| KR100762707B1 (ko) | 2006-05-11 | 2007-10-01 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 발광소자 증착장치 및 증착재료 충진방법 |
| KR100945469B1 (ko) | 2002-02-05 | 2010-03-05 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 제조 시스템, 제조방법, 제조장치의 조작방법 및 발광장치 |
| US20110132260A1 (en) * | 2002-05-17 | 2011-06-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing apparatus |
| JP2012084812A (ja) * | 2010-10-14 | 2012-04-26 | Canon Inc | 処理設備、保守装置、および物品の製造方法 |
| CN110724913A (zh) * | 2019-11-07 | 2020-01-24 | 西安工业大学 | 一种大口径反射镜电阻热蒸发镀膜装置 |
-
1998
- 1998-07-10 JP JP19550398A patent/JP4227220B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100945469B1 (ko) | 2002-02-05 | 2010-03-05 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 제조 시스템, 제조방법, 제조장치의 조작방법 및 발광장치 |
| US20110132260A1 (en) * | 2002-05-17 | 2011-06-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing apparatus |
| US20070186852A1 (en) * | 2003-02-14 | 2007-08-16 | Junichiro Sakata | Manufacturing apparatus |
| US8747558B2 (en) * | 2003-02-14 | 2014-06-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing apparatus |
| JP2007146207A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 真空成膜方法、及び真空成膜装置 |
| KR100762707B1 (ko) | 2006-05-11 | 2007-10-01 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 발광소자 증착장치 및 증착재료 충진방법 |
| JP2012084812A (ja) * | 2010-10-14 | 2012-04-26 | Canon Inc | 処理設備、保守装置、および物品の製造方法 |
| CN110724913A (zh) * | 2019-11-07 | 2020-01-24 | 西安工业大学 | 一种大口径反射镜电阻热蒸发镀膜装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4227220B2 (ja) | 2009-02-18 |
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