JP2000024513A - ファイバ型光触媒及びそれを用いた反応装置 - Google Patents
ファイバ型光触媒及びそれを用いた反応装置Info
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Landscapes
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
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- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光触媒に光が届かないような環境下であって
も有用物や有害物を含む流体を処理することができ、し
かも処理すべき流体が不透明であっても処理することが
できるファイバ型光触媒及びそれを用いた反応装置を提
供する。 【解決手段】 ファイバ本体８が所定の曲率で曲げられ
ることにより、ファイバ本体８の外周より光が漏洩する
ので、光が届かないような環境下であっても、光触媒層
７に十分に光が照射されることにより、有害物の分解除
去あるいは有用物の合成等の反応効率が高くなる。しか
も有害物や有用物を含む処理流体が不透明であっても十
分な光が光触媒層７に照射され、反応が十分に促進され
る。
も有用物や有害物を含む流体を処理することができ、し
かも処理すべき流体が不透明であっても処理することが
できるファイバ型光触媒及びそれを用いた反応装置を提
供する。 【解決手段】 ファイバ本体８が所定の曲率で曲げられ
ることにより、ファイバ本体８の外周より光が漏洩する
ので、光が届かないような環境下であっても、光触媒層
７に十分に光が照射されることにより、有害物の分解除
去あるいは有用物の合成等の反応効率が高くなる。しか
も有害物や有用物を含む処理流体が不透明であっても十
分な光が光触媒層７に照射され、反応が十分に促進され
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ファイバ型光触媒
及びそれを用いた反応装置に関する。
及びそれを用いた反応装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】大気中のＮＯｘや屋内のホルムアルデヒ
ド等の有害物の分解除去や水からのＨ2 抽出、防蝕等有
用物の合成等を行う方法として光触媒を用いる方法があ
る。これは有害物（有用物）に光触媒を接触させると共
に、光触媒に光を照射して反応を促進するものである。
ド等の有害物の分解除去や水からのＨ2 抽出、防蝕等有
用物の合成等を行う方法として光触媒を用いる方法があ
る。これは有害物（有用物）に光触媒を接触させると共
に、光触媒に光を照射して反応を促進するものである。
【０００３】通常、光触媒は無機バインダあるいは有機
バインダで成型された状態で使用されたり、プラスチッ
クあるいはガラス上に分散された状態で使用される。
バインダで成型された状態で使用されたり、プラスチッ
クあるいはガラス上に分散された状態で使用される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した光
触媒に効率的に光を照射するために、触媒の形状や触媒
を用いた反応装置の構造等を工夫する必要がある。
触媒に効率的に光を照射するために、触媒の形状や触媒
を用いた反応装置の構造等を工夫する必要がある。
【０００５】すなわち従来の光触媒はシート状あるいは
ハニカム状に形成されていたが、シート状の光触媒では
多量の流体を処理するには大きな受光面積が必要なため
反応装置が大型化し、ハニカム状の光触媒ではハニカム
内部に光が届かないため光触媒の性能を十分に活用する
ことができず反応効率が悪かった。また、従来の光触媒
では不透明な流体を処理することはできなかったという
問題があった。
ハニカム状に形成されていたが、シート状の光触媒では
多量の流体を処理するには大きな受光面積が必要なため
反応装置が大型化し、ハニカム状の光触媒ではハニカム
内部に光が届かないため光触媒の性能を十分に活用する
ことができず反応効率が悪かった。また、従来の光触媒
では不透明な流体を処理することはできなかったという
問題があった。
【０００６】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、光触媒に光が届かないような環境下であっても有用
物や有害物を含む流体を処理することができ、しかも処
理すべき流体が不透明であっても処理することができる
ファイバ型光触媒及びそれを用いた反応装置を提供する
ことにある。
し、光触媒に光が届かないような環境下であっても有用
物や有害物を含む流体を処理することができ、しかも処
理すべき流体が不透明であっても処理することができる
ファイバ型光触媒及びそれを用いた反応装置を提供する
ことにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のファイバ型光触媒は、有害物の分解除去ある
いは有用物の合成等を行う光触媒において、ファイバ本
体の外周に光触媒をコーティングし、このファイバ本体
の端部より光を入射させると共にファイバ本体を所定の
曲率で曲げてファイバ本体から外部へ光を漏洩させるよ
うにしたものである。
に本発明のファイバ型光触媒は、有害物の分解除去ある
いは有用物の合成等を行う光触媒において、ファイバ本
体の外周に光触媒をコーティングし、このファイバ本体
の端部より光を入射させると共にファイバ本体を所定の
曲率で曲げてファイバ本体から外部へ光を漏洩させるよ
うにしたものである。
【０００８】上記構成に加え本発明のファイバ型光触媒
は、光ファイバがシート状に形成されていてもよい。
は、光ファイバがシート状に形成されていてもよい。
【０００９】本発明の反応装置は、有害物の分解除去あ
るいは有用物の合成等を行う反応装置において、ファイ
バ本体の外周に光触媒をコーティングし、このファイバ
本体を支持部材に巻き付けてファイバ型光触媒を形成
し、このファイバ型光触媒を有害物あるいは有用物の流
体内に配置すると共に、ファイバ型光触媒のファイバ本
体の一端あるいは両端に光入射手段を設けたものであ
る。
るいは有用物の合成等を行う反応装置において、ファイ
バ本体の外周に光触媒をコーティングし、このファイバ
本体を支持部材に巻き付けてファイバ型光触媒を形成
し、このファイバ型光触媒を有害物あるいは有用物の流
体内に配置すると共に、ファイバ型光触媒のファイバ本
体の一端あるいは両端に光入射手段を設けたものであ
る。
【００１０】上記構成に加え本発明の反応装置は、光フ
ァイバがシート状に形成されていてもよい。
ァイバがシート状に形成されていてもよい。
【００１１】本発明によれば、ファイバ本体が所定の曲
率で曲げられることにより、ファイバ本体の外周より光
が漏洩するので、光が届かないような環境下であって
も、光触媒に十分に光が照射される。光触媒に十分に光
が照射されることにより、有害物の分解除去あるいは有
用物の合成等の反応効率が高くなる。しかも有害物や有
用物を含む流体が不透明であっても十分な光が光触媒に
照射され、反応が十分に促進される。また、光ファイバ
がシート状に形成されている場合には、ファイバ本体の
一部が破損しても他のファイバ本体が光触媒に光を伝搬
するので、信頼性が向上する。
率で曲げられることにより、ファイバ本体の外周より光
が漏洩するので、光が届かないような環境下であって
も、光触媒に十分に光が照射される。光触媒に十分に光
が照射されることにより、有害物の分解除去あるいは有
用物の合成等の反応効率が高くなる。しかも有害物や有
用物を含む流体が不透明であっても十分な光が光触媒に
照射され、反応が十分に促進される。また、光ファイバ
がシート状に形成されている場合には、ファイバ本体の
一部が破損しても他のファイバ本体が光触媒に光を伝搬
するので、信頼性が向上する。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて詳述する。
図面に基づいて詳述する。
【００１３】図１（ａ）は本発明の反応装置の一実施の
形態を示す概念図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）に示
した反応装置に用いられるファイバ型光触媒の概念図で
ある。
形態を示す概念図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）に示
した反応装置に用いられるファイバ型光触媒の概念図で
ある。
【００１４】図１（ａ）に示す反応装置１は、有害物あ
るいは有用物等の処理流体の入口２及び出口３が形成さ
れた容器４と、容器４内に配置されたファイバ型光触媒
からなるファイバ充填層５とで構成されている。ファイ
バ充填層５は、後述するファイバ型光触媒を有し、光フ
ァイバに入射された光がファイバ本体から漏洩して光触
媒に照射するようになっている。
るいは有用物等の処理流体の入口２及び出口３が形成さ
れた容器４と、容器４内に配置されたファイバ型光触媒
からなるファイバ充填層５とで構成されている。ファイ
バ充填層５は、後述するファイバ型光触媒を有し、光フ
ァイバに入射された光がファイバ本体から漏洩して光触
媒に照射するようになっている。
【００１５】図１（ｂ）に示すファイバ型光触媒６は、
光触媒が吸収する波長の光を透過する光ファイバのファ
イバ本体８の外周に光触媒をコーティングして光触媒層
７を形成し、このファイバ本体８を図には示されていな
い支持部材に所定の曲率で巻き付けたものである。
光触媒が吸収する波長の光を透過する光ファイバのファ
イバ本体８の外周に光触媒をコーティングして光触媒層
７を形成し、このファイバ本体８を図には示されていな
い支持部材に所定の曲率で巻き付けたものである。
【００１６】光ファイバ内を伝搬する光は通常、ファイ
バ本体８内を反射しながら伝搬するが、光ファイバを所
定の曲率で曲げると伝搬光がファイバ本体８の外部へ透
過する性質がある。本発明はこのような性質を利用した
ものである。ファイバ本体８は、予め表面を研磨して光
が光触媒層７側に漏れやすくするのが好ましい。
バ本体８内を反射しながら伝搬するが、光ファイバを所
定の曲率で曲げると伝搬光がファイバ本体８の外部へ透
過する性質がある。本発明はこのような性質を利用した
ものである。ファイバ本体８は、予め表面を研磨して光
が光触媒層７側に漏れやすくするのが好ましい。
【００１７】光触媒とは、紫外光や可視光を照射すると
触媒活性（物質を分解あるいは合成する活性）を示す物
質をいう。この種の光触媒としてはアナターセ型構造を
有するＴｉＯ2 や金属担持ＴｉＯ2 やゼオライトが挙げ
られる。ＴｉＯ2 は紫外光を吸収して触媒活性を示す
が、アナターセ型のＴｉＯ2 にＦｅやＣｒをドープする
と可視光でも触媒活性を示すようになる。尚、図には直
線状のファイバ本体８が示されているが実際には伝搬光
が外部に漏れるような所定の曲率で曲げられている。
触媒活性（物質を分解あるいは合成する活性）を示す物
質をいう。この種の光触媒としてはアナターセ型構造を
有するＴｉＯ2 や金属担持ＴｉＯ2 やゼオライトが挙げ
られる。ＴｉＯ2 は紫外光を吸収して触媒活性を示す
が、アナターセ型のＴｉＯ2 にＦｅやＣｒをドープする
と可視光でも触媒活性を示すようになる。尚、図には直
線状のファイバ本体８が示されているが実際には伝搬光
が外部に漏れるような所定の曲率で曲げられている。
【００１８】このようなファイバ型光触媒６は、所定の
間隔で容器４内に固定される。このときファイバ型光触
媒６の末端は光を取り入れることができるように外部に
出すのが好ましい。反応装置１に処理すべき処理流体を
流すと共に、ファイバ充填層５の各ファイバ本体８に光
を導光すると、ファイバ本体８から径方向に光が漏れ、
その漏れた光が光触媒層７に十分に照射されるので、処
理流体の反応が効率的になる。また、処理流体が不透明
であってもファイバ本体８自体が径方向に発光すること
になるので、光触媒層７に十分に光が照射される。
間隔で容器４内に固定される。このときファイバ型光触
媒６の末端は光を取り入れることができるように外部に
出すのが好ましい。反応装置１に処理すべき処理流体を
流すと共に、ファイバ充填層５の各ファイバ本体８に光
を導光すると、ファイバ本体８から径方向に光が漏れ、
その漏れた光が光触媒層７に十分に照射されるので、処
理流体の反応が効率的になる。また、処理流体が不透明
であってもファイバ本体８自体が径方向に発光すること
になるので、光触媒層７に十分に光が照射される。
【００１９】
【実施例】図２（ａ）は本発明のファイバ型光触媒の一
実施例を示す概念図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）に
示したファイバ型光触媒に用いられる光ファイバのファ
イバ本体の断面図である。
実施例を示す概念図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）に
示したファイバ型光触媒に用いられる光ファイバのファ
イバ本体の断面図である。
【００２０】光ファイバ９は、光が伝搬するコア１０の
外周を、コア１０より屈折率の低いクラッド１１で覆っ
てファイバ本体８を形成し、ファイバ本体８の外周を、
プラスチック等の被覆材で被覆した構造を有している。
外周を、コア１０より屈折率の低いクラッド１１で覆っ
てファイバ本体８を形成し、ファイバ本体８の外周を、
プラスチック等の被覆材で被覆した構造を有している。
【００２１】光ファイバ９には紫外線の透過率の高いＵ
Ｖファイバを用いる方が好ましい。これは光触媒層７が
可視光より紫外光に対してより強く反応を促進するから
である。
Ｖファイバを用いる方が好ましい。これは光触媒層７が
可視光より紫外光に対してより強く反応を促進するから
である。
【００２２】図２（ａ）に示すファイバ型光触媒は、光
ファイバ９の被覆を除去してファイバ本体８を露出さ
せ、ファイバ本体８のクラッドの外周に光触媒（例えば
ＴｉＯ2 ）層を形成し（図２（ｂ））、そのファイバ本
体を光ファイバの支持棒１２にらせん状に巻き付けたも
のである。ファイバ本体８への光触媒のコーティング
は、被覆を除去した担持前の光ファイバをチタン化合物
の水溶液に浸漬することにより行われる。その結果、フ
ァイバ本体表面（クラッド表面）にアナターセ型の酸化
チタン被膜が形成される。
ファイバ９の被覆を除去してファイバ本体８を露出さ
せ、ファイバ本体８のクラッドの外周に光触媒（例えば
ＴｉＯ2 ）層を形成し（図２（ｂ））、そのファイバ本
体を光ファイバの支持棒１２にらせん状に巻き付けたも
のである。ファイバ本体８への光触媒のコーティング
は、被覆を除去した担持前の光ファイバをチタン化合物
の水溶液に浸漬することにより行われる。その結果、フ
ァイバ本体表面（クラッド表面）にアナターセ型の酸化
チタン被膜が形成される。
【００２３】このようなファイバ型光触媒６を図３
（ａ）〜図３（ｃ）に示す金属製固定格子１３内に多数
平行に取り付けて、図４（ａ）〜図４（ｃ）に示すファ
イバ型光触媒ユニット１４を形成し、複数のファイバ型
光触媒ユニット１４を容器４内に配置し、光入射手段
（図示せず）を設けたものが反応装置１である（図
５）。
（ａ）〜図３（ｃ）に示す金属製固定格子１３内に多数
平行に取り付けて、図４（ａ）〜図４（ｃ）に示すファ
イバ型光触媒ユニット１４を形成し、複数のファイバ型
光触媒ユニット１４を容器４内に配置し、光入射手段
（図示せず）を設けたものが反応装置１である（図
５）。
【００２４】尚、１５はファイバ型光触媒ユニット１４
を固定するための金属製アングルである。
を固定するための金属製アングルである。
【００２５】尚、図３（ａ）は金属製固定格子の平面図
であり、図３（ｂ）は図３（ａ）の正面図、図３（ｃ）
は図３（ａ）の右側面図である。図４（ａ）はファイバ
型光触媒ユニットの平面図であり、図４（ｂ）は図４
（ａ）の正面図であり、図４（ｃ）は図４（ａ）の右側
面図である。図５は反応装置の概念図である。
であり、図３（ｂ）は図３（ａ）の正面図、図３（ｃ）
は図３（ａ）の右側面図である。図４（ａ）はファイバ
型光触媒ユニットの平面図であり、図４（ｂ）は図４
（ａ）の正面図であり、図４（ｃ）は図４（ａ）の右側
面図である。図５は反応装置の概念図である。
【００２６】ここで、図４（ａ）に示したファイバ型光
触媒ユニット１４のファイバ型光触媒６の各光ファイバ
９の両側はそれぞれ束ねられてバンドルファイバの一端
に接続される。バンドルファイバの他端を、例えば凹面
鏡（あるいは凸レンズ）の焦点位置に配置することによ
り、太陽光が集束された後、バンドルファイバ及び光フ
ァイバ９を伝搬して光触媒に照射される。尚、太陽光の
代わりにＵＶ（紫外線）ランプやＸｅ（キセノン）ラン
プ等の光源を用いてバンドルファイバに光を入射するよ
うにしてもよい。また、光ファイバ９の一方のみから光
を入射してもよい。
触媒ユニット１４のファイバ型光触媒６の各光ファイバ
９の両側はそれぞれ束ねられてバンドルファイバの一端
に接続される。バンドルファイバの他端を、例えば凹面
鏡（あるいは凸レンズ）の焦点位置に配置することによ
り、太陽光が集束された後、バンドルファイバ及び光フ
ァイバ９を伝搬して光触媒に照射される。尚、太陽光の
代わりにＵＶ（紫外線）ランプやＸｅ（キセノン）ラン
プ等の光源を用いてバンドルファイバに光を入射するよ
うにしてもよい。また、光ファイバ９の一方のみから光
を入射してもよい。
【００２７】このような反応装置１の入口２に処理すべ
き処理流体を流すと共に光ファイバ９にバンドルファイ
バを介して太陽光等の光を入射すると、ファイバ本体８
（図１）の外周より光が漏洩するので、光が届かないよ
うな環境下であっても、光触媒に十分に光が照射される
ことにより、有害物の分解除去あるいは有用物の合成等
の反応効率が高くなる。しかも有害物や有用物を含む流
体が不透明であっても十分な光が光触媒に照射され、反
応が十分に促進される。反応装置１内で有害物の分解除
去あるいは有用物の合成が行われた後、出口３から処理
済み流体が排出される。
き処理流体を流すと共に光ファイバ９にバンドルファイ
バを介して太陽光等の光を入射すると、ファイバ本体８
（図１）の外周より光が漏洩するので、光が届かないよ
うな環境下であっても、光触媒に十分に光が照射される
ことにより、有害物の分解除去あるいは有用物の合成等
の反応効率が高くなる。しかも有害物や有用物を含む流
体が不透明であっても十分な光が光触媒に照射され、反
応が十分に促進される。反応装置１内で有害物の分解除
去あるいは有用物の合成が行われた後、出口３から処理
済み流体が排出される。
【００２８】すなわち、光ファイバ９に光が導光される
と、光はファイバ本体８表面から光触媒層７に照射す
る。この光によって光触媒層７上で目的とする反応が生
じる。また反応に必要な光は、バンドルファイバ及び光
ファイバ９によって光触媒まで導光されるため、従来の
反応装置のように光が届かないような場所で使用できな
いことが無くなり、光が届かないような場所であっても
光が届くので反応装置の大型化が期待できる。また、処
理すべき処理流体が不透明な場合であっても光触媒に光
を供給することができる。
と、光はファイバ本体８表面から光触媒層７に照射す
る。この光によって光触媒層７上で目的とする反応が生
じる。また反応に必要な光は、バンドルファイバ及び光
ファイバ９によって光触媒まで導光されるため、従来の
反応装置のように光が届かないような場所で使用できな
いことが無くなり、光が届かないような場所であっても
光が届くので反応装置の大型化が期待できる。また、処
理すべき処理流体が不透明な場合であっても光触媒に光
を供給することができる。
【００２９】上述した反応装置の適用例を以下に示す。
【００３０】（１）トンネル排ガス、燃焼排ガスの浄化 ＮＯｘ除去 ２ＮＯ＋Ｏ2 →ＮＯ2 （ＮＯ2 が触媒に吸着して除去さ
れる） 有機化合物の分解 ＣｘＨｙ＋（ｘ＋ｙ／２）Ｏ2 →ｘＣＯ2 ＋ｙ／２Ｈ2
Ｏ （２）排水 有機化合物の分解 有害微生物の殺菌（滅菌） 尚、本実施例では１本の支持棒に、光触媒がコーティン
グされた１本のファイバ本体を巻き付けた場合で説明し
たが、これに限定されず１本の支持棒に、光触媒がコー
ティングされたシート状のファイバ本体を巻き付けても
よい。この場合、ファイバ本体の一部が破損しても他の
ファイバ本体が光触媒に光を伝搬するので、信頼性が向
上する。
れる） 有機化合物の分解 ＣｘＨｙ＋（ｘ＋ｙ／２）Ｏ2 →ｘＣＯ2 ＋ｙ／２Ｈ2
Ｏ （２）排水 有機化合物の分解 有害微生物の殺菌（滅菌） 尚、本実施例では１本の支持棒に、光触媒がコーティン
グされた１本のファイバ本体を巻き付けた場合で説明し
たが、これに限定されず１本の支持棒に、光触媒がコー
ティングされたシート状のファイバ本体を巻き付けても
よい。この場合、ファイバ本体の一部が破損しても他の
ファイバ本体が光触媒に光を伝搬するので、信頼性が向
上する。
【００３１】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果を発揮する。
な優れた効果を発揮する。
【００３２】光触媒に光が届かないような環境下であっ
ても有用物や有害物を含む流体を処理することができ、
しかも処理すべき流体が不透明であっても処理すること
ができるファイバ型光触媒及びそれを用いた反応装置の
提供を実現することができる。
ても有用物や有害物を含む流体を処理することができ、
しかも処理すべき流体が不透明であっても処理すること
ができるファイバ型光触媒及びそれを用いた反応装置の
提供を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は本発明の反応装置の一実施の形態を示
す概念図であり、（ｂ）は（ａ）に示した反応装置に用
いられるファイバ型光触媒の概念図である。
す概念図であり、（ｂ）は（ａ）に示した反応装置に用
いられるファイバ型光触媒の概念図である。
【図２】（ａ）は本発明のファイバ型光触媒の一実施例
を示す概念図であり、（ｂ）は（ａ）に示したファイバ
型光触媒に用いられる光ファイバのファイバ本体の断面
図である。
を示す概念図であり、（ｂ）は（ａ）に示したファイバ
型光触媒に用いられる光ファイバのファイバ本体の断面
図である。
【図３】（ａ）は金属製固定格子の平面図であり、
（ｂ）は（ａ）の正面図、（ｃ）は（ａ）の右側面図で
ある。
（ｂ）は（ａ）の正面図、（ｃ）は（ａ）の右側面図で
ある。
【図４】（ａ）はファイバ型光触媒ユニットの平面図で
あり、（ｂ）は（ａ）の正面図であり、（ｃ）は（ａ）
の右側面図である。
あり、（ｂ）は（ａ）の正面図であり、（ｃ）は（ａ）
の右側面図である。
【図５】反応装置の概念図である。
１ 反応装置 ４ 容器 ５ ファイバ充填層 ６ ファイバ型光触媒 ７ 光触媒層 ８ ファイバ本体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 32/00 Ｃ０３Ｃ 25/02 Ｂ 37/02 ３０１ Ｂ０１Ｄ 53/36 Ｇ // Ｃ０３Ｃ 25/24 １０１Ａ (72)発明者 八木 武人 神奈川県横浜市磯子区新中原町１番地 石 川島播磨重工業株式会社技術研究所内 (72)発明者 大原 宏明 神奈川県横浜市磯子区新中原町１番地 石 川島播磨重工業株式会社技術研究所内 Ｆターム(参考） 4D048 AA06 AA22 AB03 BA07X BB08 EA01 4G060 AA03 AA20 AC04 AC14 4G069 AA03 AA08 BA04B BA29B BA48A CA01 CA02 CA05 CA10 CA11 CA13 CA17 EA03X EA03Y EA07 EC22Y FA02 FB23 4G075 AA24 BA04 BA05 BA06 CA32 CA33
Claims (4)
- 【請求項１】 有害物の分解除去あるいは有用物の合成
等を行う光触媒において、光ファイバのファイバ本体の
外周に光触媒をコーティングし、このファイバ本体の端
部より光を入射させると共にファイバ本体を所定の曲率
で曲げてファイバ本体の外部へ光を漏洩させるようにし
たことを特徴とするファイバ型光触媒。 - 【請求項２】 上記光ファイバがシート状に形成された
請求項１に記載のファイバ型光触媒。 - 【請求項３】 有害物の分解除去あるいは有用物の合成
等を行う反応装置において、光ファイバのファイバ本体
の外周に光触媒をコーティングし、このファイバ本体を
支持部材に巻き付けてファイバ型光触媒を形成し、この
ファイバ型光触媒を有害物あるいは有用物の流体内に配
置すると共に、上記ファイバ型光触媒のファイバ本体の
一端あるいは両端に光入射手段を設けたことを特徴とす
る反応装置。 - 【請求項４】 上記光ファイバがシート状に形成された
請求項３に記載の反応装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19292398A JP4120719B2 (ja) | 1998-07-08 | 1998-07-08 | ファイバ型光触媒を用いた反応装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19292398A JP4120719B2 (ja) | 1998-07-08 | 1998-07-08 | ファイバ型光触媒を用いた反応装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000024513A true JP2000024513A (ja) | 2000-01-25 |
| JP4120719B2 JP4120719B2 (ja) | 2008-07-16 |
Family
ID=16299241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19292398A Expired - Fee Related JP4120719B2 (ja) | 1998-07-08 | 1998-07-08 | ファイバ型光触媒を用いた反応装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4120719B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005345518A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-15 | Fujikura Ltd | 表面漏光光導波路及び光触媒モジュール |
| JP2007021278A (ja) * | 2005-07-12 | 2007-02-01 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光触媒浄化装置及び光触媒浄化方法 |
| WO2009008122A1 (ja) * | 2007-07-09 | 2009-01-15 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | 繊維状光触媒体及び浄化装置並びに繊維状光触媒体の製造方法 |
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| JPH09173367A (ja) * | 1995-12-26 | 1997-07-08 | Shadan Sankikai | 関節用装具 |
-
1998
- 1998-07-08 JP JP19292398A patent/JP4120719B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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| JP2007021278A (ja) * | 2005-07-12 | 2007-02-01 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光触媒浄化装置及び光触媒浄化方法 |
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| JP2009011995A (ja) * | 2007-07-09 | 2009-01-22 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 繊維状光触媒体及び浄化装置並びに繊維状光触媒体の製造方法 |
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| JP4120719B2 (ja) | 2008-07-16 |
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