JP2000021579A - Substrate for organic electroluminescence display element and its manufacture and organic electroluminescence display element using it - Google Patents

Substrate for organic electroluminescence display element and its manufacture and organic electroluminescence display element using it

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JP2000021579A
JP2000021579A JP11048619A JP4861999A JP2000021579A JP 2000021579 A JP2000021579 A JP 2000021579A JP 11048619 A JP11048619 A JP 11048619A JP 4861999 A JP4861999 A JP 4861999A JP 2000021579 A JP2000021579 A JP 2000021579A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To use a large area substrate and to rotate the substrate by relaxing restriction of the evaporation material flying direction by arranging eaves and a skirt on second electrode line separating partition walls crossing first electrode lines formed as a film on the substrate. SOLUTION: A first electrode is formed as a film on a light transmissive insulating substrate 1 of an EL display element, and plural first electrode lines 2 are formed by photolithography. Next, plural second electrode line separating partition walls 7 are formed so as to cross the first electrode lines 2, Eaves and a skirt are formed on these partition walls 7. A lower skirt of the partition walls 7 is desirably longer in the parallel direction to the substrate than upper eaves. A tip angle of the lower skirt of the partition walls 7 is desirably formed in a gentle forward taper shape not more than 45 deg.. The partition walls 7 are desirably formed of a photosensitive resin by dispersing a UV absorber, a color material or both the UV absorber and the color material. Desirably, a height of the partition walls 7 is set to 0.2 to 100 μm, a width is set not less than 0.05 μm, and an eaves thickness is set to 0.05 to 10 μm.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、家庭用テレビ及び
高度な情報処理用端末表示装置としての発光型ディスプ
レイである有機エレクトロルミネッセンス表示素子及び
有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic electroluminescence display device and a substrate for an organic electroluminescence display device which are light-emitting displays as home televisions and advanced information processing terminal displays.

【0002】[0002]

【従来の技術】フラットパネルディスプレイの一つであ
る有機エレクトロルミネッセンス表示素子(以下、エレ
クトロルミネッセンスをELと称す)は、有機発光媒体
を陽極と陰極で挟持した構造になっており、電流を流す
ことで発光が起こる。発光媒体としては、通常、複数の
有機発光媒体層を積層したものが用いられる。自己発光
型であるため高輝度、高視野角でありかつ低電圧駆動と
いう特徴を有している。
2. Description of the Related Art An organic electroluminescence display element (hereinafter, referred to as EL), which is one of flat panel displays, has a structure in which an organic light emitting medium is sandwiched between an anode and a cathode. Light emission occurs. As the luminous medium, a laminate of a plurality of organic luminous medium layers is usually used. Since it is a self-luminous type, it has features of high luminance, high viewing angle, and low voltage driving.

【0003】有機エレクトロルミネッセンス表示素子と
しては、複数の陽極電極ラインと複数の陰極電極ライン
を交差させたマトリクス構造が用いられる。基板上に第
一電極ラインを形成し、発光媒体を挟んで第一電極ライ
ンと交差するように少なくとも第二電極ラインを形成す
る。第一電極が陽極の場合、第二電極は陰極であり、第
一電極が陰極の場合、第二電極は陽極である。大容量で
高精細な表示素子を製造するためには、電極ラインの非
常に微細なパターニング加工が必要となる。
[0003] As an organic electroluminescent display element, a matrix structure in which a plurality of anode electrode lines and a plurality of cathode electrode lines intersect is used. A first electrode line is formed on a substrate, and at least a second electrode line is formed so as to intersect the first electrode line with a light emitting medium interposed therebetween. When the first electrode is an anode, the second electrode is a cathode, and when the first electrode is a cathode, the second electrode is an anode. In order to manufacture a large-capacity, high-definition display element, very fine patterning of electrode lines is required.

【0004】一般には薄膜の微細なパターンを形成する
定法として、フォトリソグラフィ法やマスク蒸着法があ
る。
In general, there are a photolithography method and a mask evaporation method as a standard method for forming a fine pattern of a thin film.

【0005】しかし、フォトリソグラフィ法で第二電極
層をパターニングすると、フォトレジストの溶剤や現像
液などの下地の有機発光媒体層への侵入が避けられず、
素子の破壊や劣化を招いてしまうため使用できない。
[0005] However, when the second electrode layer is patterned by photolithography, invasion of the underlying organic luminescent medium layer such as a photoresist solvent or a developing solution cannot be avoided.
The device cannot be used because it causes destruction and deterioration of the device.

【0006】一方、マスク蒸着法では、蒸着マスクと基
板間の密着性の問題がある。密着不良の場合には、蒸着
マスクパターンの陰に蒸着物が回り込んでしまって解像
度が上がらない。蒸着マスクを基板と強制的に密着させ
ると、有機発光媒体層に傷が付いてしまうという問題が
ある。
On the other hand, the mask vapor deposition method has a problem of adhesion between the vapor deposition mask and the substrate. In the case of poor adhesion, the deposition does not go up behind the deposition mask pattern and the resolution does not increase. If the vapor deposition mask is forcibly brought into contact with the substrate, there is a problem that the organic light emitting medium layer is damaged.

【0007】有機発光媒体層に損傷を与えないパターニ
ング法として、特開平5−258859号、特開平5−
258860号に隔壁群を用いた有機物及び金属の斜め
蒸着法の技術が開示された(図8参照)。この方法で
は、陽極パターンと交差する方向に隔壁を形成し、その
後有機発光媒体層及び陰極をこの順で斜め方向から蒸着
する。この方法では有機発光媒体と陰極物質の積層とパ
ターニングが同時になされる。しかしこの技術について
は、色々な問題がある。蒸着ビームの方向を大面積で均
一に制御する必要があること、均一化のための基板回転
が不可能なこと、パターンの形状が直線状に限られるこ
となどが挙げられる。
As a patterning method which does not damage the organic light emitting medium layer, Japanese Patent Application Laid-Open Nos.
No. 258860 discloses an oblique vapor deposition technique of an organic substance and a metal using a partition group (see FIG. 8). In this method, a partition wall is formed in a direction intersecting with the anode pattern, and then an organic luminescent medium layer and a cathode are deposited in this order from an oblique direction. In this method, the lamination and patterning of the organic luminescent medium and the cathode material are simultaneously performed. However, there are various problems with this technology. It is necessary to uniformly control the direction of the deposition beam over a large area, the substrate cannot be rotated for uniformity, and the pattern shape is limited to a straight line.

【0008】前述の隔壁斜め蒸着法を改善したものが、
特開平8−315981号、特開平9−102393号
で開示されたオーバーハング隔壁法である。この方法に
は、逆テーパ隔壁(図9(a)参照)と、積層T字型隔
壁(図9(b)参照)が示されている。これらの方法に
よれば、隔壁上部にオーバーハング部を設けることによ
り、基板に垂直な蒸着ビームによってもパターニングが
可能になり、基板回転の使用も可能になった。しかし、
逆テーパ隔壁法では、テーパ角より小さい入射角の場合
に側壁に堆積が起こって短絡してしまうので、やはり大
面積化には向かない。一方、積層T字型隔壁では、工程
が複雑で歩留りが悪くなるという問題があった。
An improvement of the above-described barrier oblique deposition method is as follows.
This is the overhang partition method disclosed in JP-A-8-315981 and JP-A-9-102393. In this method, an inverted tapered partition (see FIG. 9A) and a laminated T-shaped partition (see FIG. 9B) are shown. According to these methods, by providing an overhang portion above the partition walls, patterning can be performed even by a deposition beam perpendicular to the substrate, and use of the substrate rotation is also possible. But,
In the case of the reverse taper partition method, when the incident angle is smaller than the taper angle, deposition occurs on the side wall and a short circuit occurs. On the other hand, the laminated T-shaped partition wall has a problem that the process is complicated and the yield is deteriorated.

【0009】また別の問題は、有機発光媒体層と第二電
極の蒸着ビーム方向の違いなどによって有機発光媒体層
を介さずに第二電極が第一電極と部分的に直接接触する
可能性である(図10参照)。これが生じると第二電極
と第一電極が短絡してしまい正常な動作が期待できな
い。また別の問題は、仮に短絡が無かったとしても、第
二電極端近傍の有機発光媒体が薄く積層された部分や第
二電極端の端縁部に電界が集中して絶縁破壊やジュール
熱による劣化が生じやすくなるということである。これ
らを防止する方法として隔壁の下に絶縁層を形成してお
く方法があるが、工程がより複雑になり好ましくない。
また別の問題は、第二電極/有機発光媒体層界面端部が
露出していることにより、端から劣化が起こり易いとい
う問題点があった。その抑制は封止層のみでは不十分で
あった。
Another problem is that the second electrode may be in direct contact with the first electrode without the organic light emitting medium layer due to a difference in the direction of the vapor deposition beam between the organic light emitting medium layer and the second electrode. (See FIG. 10). When this occurs, the second electrode and the first electrode are short-circuited and normal operation cannot be expected. Another problem is that even if there is no short circuit, an electric field concentrates on the thinly laminated organic luminescent medium near the second electrode end or on the edge of the second electrode end, causing dielectric breakdown or Joule heat. This means that deterioration is likely to occur. As a method of preventing these, there is a method of forming an insulating layer below the partition, but this is not preferable because the process becomes more complicated.
Another problem is that the end portion of the interface between the second electrode and the organic light emitting medium layer is exposed, so that the end portion easily deteriorates. The suppression was insufficient with only the sealing layer.

【0010】さらに別の問題は、隔壁と陰極電極の間に
隙間が存在するため、あるいは隔壁が光を透過するた
め、裏面からの光が隙間あるいは隔壁内を通って表示面
に出てしまい、表示の防げになることである(図11参
照)。
Another problem is that a gap exists between the partition and the cathode electrode, or that the partition transmits light, so that light from the back surface passes through the gap or inside the partition and exits to the display surface. This is to prevent the display (see FIG. 11).

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
隔壁構造においては、蒸着ビームの方向の制限が大き
く、基板回転や大面積化に向いていなかった。あるい
は、製造工程が複雑であった。また、短絡防止用絶縁層
が必要であった。また、劣化が起こり易かった。さらに
は表示部以外で外光が反射し、裏面からの光が透過する
のでコントラストが低下して見にくいという問題があっ
た。
As described above, in the conventional partition structure, the direction of the vapor deposition beam is largely restricted, and it is not suitable for the rotation of the substrate or the enlargement of the area. Alternatively, the manufacturing process was complicated. Further, a short-circuit preventing insulating layer was required. In addition, deterioration was easy to occur. Further, there is a problem that the outside light is reflected at a portion other than the display portion and the light from the back surface is transmitted, so that the contrast is lowered and it is difficult to see.

【0012】本発明はこれらの問題点を解決するために
なされたものであり、蒸着ビーム方向のばらつきに対す
る許容度が高く、基板回転に対しても問題なく、従って
大面積化に適し、かつ製造工程が簡単であり、短絡防止
用絶縁層を必要とせず、劣化を抑え、表示部以外での外
光反射及び光漏れを抑制し、見やすい有機EL表示素子
用基板及びその製造方法、並びに有機EL表示素子を提
供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve these problems, and has high tolerance to variations in the direction of a deposition beam, has no problem with substrate rotation, and is suitable for a large area. The process is simple, does not require an insulating layer for short circuit prevention, suppresses deterioration, suppresses external light reflection and light leakage at portions other than the display portion, and is easy to view, a substrate for an organic EL display element, a manufacturing method thereof, and an organic EL. A display element is provided.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明において上記課題
を解決するために、請求項1としては、少なくとも複数
の第一電極ラインと前記第一電極ラインと交差する方向
に延びる複数の隔壁を有する有機エレクトロルミネッセ
ンス表示素子用基板において、前記隔壁が上部にひさ
し、下部にすそを有することを特徴とする有機エレクト
ロルミネッセンス表示素子用基板である。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention has at least a plurality of first electrode lines and a plurality of partition walls extending in a direction intersecting the first electrode lines. An organic electroluminescent display element substrate, wherein the partition wall has an eave on an upper portion and a hem on a lower portion.

【0014】請求項2としては、前記隔壁下部のすそ
が、前記隔壁上部のひさしよりも基板に平行な方向に関
して長いことを特徴とする有機エレクトロルミネッセン
ス表示素子用基板である。即ち、図6(a)において、
すそ幅e>ひさし幅dということである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate for an organic electroluminescent display element, wherein a skirt at a lower portion of the partition is longer than an eave at an upper portion of the partition in a direction parallel to the substrate. That is, in FIG.
The skirt width e> the eave width d.

【0015】請求項3としては、前記隔壁下部のすそ
が、先端角が45゜以下のなだらかな順テーパ状になっ
ていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス
表示素子用基板である。即ち、図6(a)において、す
そ先端角θ≦45°ということである。ここに先端角と
は、すそ先端からすそ幅の半分だけ中心に近い部分のす
そ上側とすそ先端とを結ぶ直線と基板表面とのなす角で
ある。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a substrate for an organic electroluminescence display element, wherein a hem at a lower portion of the partition wall has a gentle forward taper having a tip angle of 45 ° or less. That is, in FIG. 6A, the skirt tip angle θ ≦ 45 °. Here, the tip angle is an angle formed by a straight line connecting the upper side of the hem and the hem tip of a portion close to the center by half the hem width from the hem tip and the substrate surface.

【0016】請求項4としては、前記隔壁の本体(図6
(b)中1参照)及びひさし(図6(b)中2参照)と
すそ(図6(b)中3参照)が、同一物質からなること
を特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示素子用
基板である。
A fourth aspect of the present invention relates to the main body of the partition (FIG. 6).
A substrate for an organic electroluminescent display element, wherein an eave (see 2 in FIG. 6B) and an eave (see 3 in FIG. 6B) are made of the same material. is there.

【0017】請求項5としては、前記隔壁下部のすその
幅が前記隔壁の高さの0.1〜10倍であることを特徴
とする有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板で
ある。即ち、図6(a)において、a/10≦e≦10
aということである。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a substrate for an organic electroluminescence display element, wherein a width of a bottom of the partition is 0.1 to 10 times a height of the partition. That is, in FIG. 6A, a / 10 ≦ e ≦ 10
a.

【0018】請求項6としては、前記隔壁が、UV吸収
材あるいは色材あるいはUV吸収材と色材両方を分散さ
せた感光性樹脂からなることを特徴とする有機エレクト
ロルミネッセンス表示素子用基板である。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a substrate for an organic electroluminescent display element, wherein the partition walls are made of a UV absorbing material, a coloring material, or a photosensitive resin in which both the UV absorbing material and the coloring material are dispersed. .

【0019】請求項7としては、前記UV吸収材あるい
は色材が、単独あるいは複数であることを特徴とする有
機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板である。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a substrate for an organic electroluminescent display device, wherein the UV absorbing material or the coloring material is single or plural.

【0020】請求項8としては、前記隔壁が透明あるい
は有色であることを特徴とする有機エレクトロルミネッ
センス表示素子用基板である。
According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a substrate for an organic electroluminescent display element, wherein the partition is transparent or colored.

【0021】請求項9としては、前記隔壁が黒く着色さ
れる時に、ブラックストライプを兼ねる吸光性隔壁にな
ることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示
素子用基板である。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a substrate for an organic electroluminescent display element, wherein when the partition is colored black, the partition becomes a light-absorbing partition also serving as a black stripe.

【0022】請求項10としては、前記有機エレクトロ
ルミネッセンス表示素子用基板上に発光用媒体と第二電
極ラインを設けたことを特徴とする有機エレクトロルミ
ネッセンス表示素子である。
According to a tenth aspect, there is provided an organic electroluminescent display device, wherein a light emitting medium and a second electrode line are provided on the substrate for an organic electroluminescent display device.

【0023】請求項11としては、発光媒体と第二電極
ラインの両側の端の部分が、前記隔壁下部のすその上ま
で伸びて第一電極ラインと非接触になっていることを特
徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示素子であ
る。
According to an eleventh aspect of the present invention, both ends of the luminescent medium and the second electrode line extend to the upper part of the lower part of the partition so as not to contact the first electrode line. It is an organic electroluminescence display element.

【0024】請求項12としては、第二電極ラインが発
光媒体の端よりも外側まで伸びて発光媒体を覆っている
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示素
子である。
According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided an organic electroluminescent display device, wherein the second electrode line extends to the outside of the end of the light emitting medium and covers the light emitting medium.

【0025】請求項13としては、少なくとも複数の第
一電極ラインと前記第一電極ラインと交差する方向に延
びる複数の隔壁を有する有機エレクトロルミネッセンス
表示素子用基板の製造方法において、前記隔壁をUV吸
収材あるいは色材両方を分散させたネガ型感光性樹脂を
塗布、露光、現像工程により形成後、電子線あるいはU
Vを照射してからポストベークを行うことを特徴とする
有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板の製造方
法である。
According to a thirteenth aspect, in a method of manufacturing a substrate for an organic electroluminescent display element having at least a plurality of first electrode lines and a plurality of partition walls extending in a direction intersecting with the first electrode lines, the partition walls may be made of a UV-absorbing material. Negative-type photosensitive resin in which both materials and coloring materials are dispersed is formed by coating, exposing and developing,
A method for manufacturing a substrate for an organic electroluminescent display element, comprising performing post-baking after irradiating V.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図1と図2を使い
製造工程に従って詳細に説明する。また、本発明におい
て隔壁形状を示す用語を図6(a)に示す。なお、以
下、エレクトロルミネッセンスをELと表記する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 6A shows terms indicating the shape of the partition wall in the present invention. Hereinafter, electroluminescence is described as EL.

【0027】まず、第一電極が陽極、第二電極が陰極の
場合について説明する。本発明のEL表示素子における
透光性絶縁基板1としては、石英基板、ガラス基板、プ
ラスチック基板等が使用できる。
First, the case where the first electrode is an anode and the second electrode is a cathode will be described. As the translucent insulating substrate 1 in the EL display element of the present invention, a quartz substrate, a glass substrate, a plastic substrate, or the like can be used.

【0028】次に、基板上に第一電極を成膜し、フォト
リソグラフィ等によって複数の第一電極ライン2を形成
する(図2(a)参照)。
Next, a first electrode is formed on the substrate, and a plurality of first electrode lines 2 are formed by photolithography or the like (see FIG. 2A).

【0029】本発明における陽極の材料としてはITO
(インジウムスズ複合酸化物)やインジウム亜鉛複合酸
化物、亜鉛アルミニウム複合酸化物等の透明電極材料が
使用できる。
In the present invention, the material of the anode is ITO.
Transparent electrode materials such as (indium tin composite oxide), indium zinc composite oxide, and zinc aluminum composite oxide can be used.

【0030】なお、抵抗を下げるために透明電極には
銅、クロム、アルミニウム、チタン等の金属もしくはこ
れらの積層物を補助電極として部分的に併設させること
ができる。また、第一電極上に短絡防止用絶縁層を形成
する必要はないが、絶縁層がないことに限定するもので
はない。
In order to reduce the resistance, a metal such as copper, chromium, aluminum and titanium or a laminate thereof can be partially provided as an auxiliary electrode on the transparent electrode. In addition, it is not necessary to form an insulating layer for preventing short circuit on the first electrode, but the invention is not limited to the absence of the insulating layer.

【0031】次に、第一電極ラインと交差するように複
数の第二電極ライン分離用隔壁7を形成する(図1及び
図2(b))。
Next, a plurality of second electrode line separating partitions 7 are formed so as to cross the first electrode lines (FIGS. 1 and 2B).

【0032】本発明の隔壁7では、ひさしとすそを有す
ることにより、蒸着物飛来方向の制限を大幅に緩めるこ
とができる。それによって、大面積基板の使用、基板の
回転が可能になる。また、直線構造のみでなく、曲線や
折れ線の隔壁や第二電極を形成できる。
Since the partition wall 7 of the present invention has the eaves and the skirt, the restriction on the direction in which the deposited material comes in can be greatly relaxed. This allows the use of a large-area substrate and the rotation of the substrate. In addition, not only a linear structure, but also a partition wall or a second electrode having a curved line or a broken line can be formed.

【0033】典型的な隔壁の断面形状を図6(a)に示
す。隔壁高さaは、好ましくは0.2μm〜100μm
であり、さらに好ましくは1μm〜30μmである。隔
壁幅bは、好ましくは0.05μm以上であり、さらに
好ましくは1μm以上である。ひさし厚さcは、好まし
くは0.05μm〜10μmであり、さらに好ましく
は、0.1μm〜5μmである。ひさし幅dは、好まし
くは0.05μm〜50μmであり、さらに好ましくは
0.5μm〜10μmである。すそ幅eは、好ましくは
0.1μm〜100μmであり、さらに好ましくは1μ
m〜30μmである。
FIG. 6A shows a cross section of a typical partition wall. Partition height a is preferably 0.2 μm to 100 μm
And more preferably 1 μm to 30 μm. The partition width b is preferably 0.05 μm or more, and more preferably 1 μm or more. The eave thickness c is preferably 0.05 μm to 10 μm, and more preferably 0.1 μm to 5 μm. The eave width d is preferably 0.05 μm to 50 μm, and more preferably 0.5 μm to 10 μm. The skirt width e is preferably 0.1 μm to 100 μm, and more preferably 1 μm.
m to 30 μm.

【0034】また、すそ幅eは隔壁高さaの0.1倍〜
10倍が好ましく、さらには0.5倍〜3倍が好まし
い。すそ幅eが隔壁高さaの10倍以上の場合、加工精
度が極端に悪くなり、好ましくない。
The skirt width e is 0.1 times or more of the partition height a.
It is preferably 10 times, more preferably 0.5 times to 3 times. When the skirt width e is 10 times or more the partition height a, the processing accuracy is extremely deteriorated, which is not preferable.

【0035】本発明の第二電極ライン分離用の隔壁の形
成原理を図3に基づいて説明する。UV吸収材あるいは
色材あるいはUV吸収材と色材両方を分散したネガ型レ
ジストを塗布乾燥し、適切なピッチのストライプ状のマ
スクを用いてUV露光を行う(図3(a)参照)。する
と、レジストの表面から一定の深さの部分までは感光す
るが、UV光が吸収されるために深部まで到達できず下
部は未露光のまま残る。この状態で現像を行うと、表面
層では露光部が溶解されずに残るが未露光部は除去され
る(図3(b)参照)。表面層より下部側は、すべて未
露光部であるためサイドから溶解が進行し、順テーパの
すそが形成される(図3(c)参照)。また、条件を選
べばひさしよりもすそを長くすることが可能である(図
3(d)参照)。実際に形成した隔壁の断面写真を図4
(a)と図4(b)に示す。ポジ型レジストは露光部が
溶解するので上述したネガレジストのような加工は不可
能である。更に、隔壁略全面に電子線またはUVを照射
してからポストベークを行うと、ポストベークにおける
変はほとんど見られなくなる。
The principle of forming the partition for separating the second electrode line according to the present invention will be described with reference to FIG. A UV-absorbing material, a coloring material, or a negative resist in which both the UV-absorbing material and the coloring material are dispersed is applied and dried, and UV exposure is performed using a stripe-shaped mask having an appropriate pitch (see FIG. 3A). Then, the resist is exposed up to a certain depth from the surface of the resist, but cannot reach the deep part because the UV light is absorbed, and the lower part remains unexposed. When development is performed in this state, the exposed portions of the surface layer remain without being dissolved, but the unexposed portions are removed (see FIG. 3B). Since the lower portion of the surface layer is an unexposed portion, the dissolution proceeds from the side to form a forward tapered skirt (see FIG. 3C). Further, if the conditions are selected, the skirt can be made longer than the eaves (see FIG. 3D). FIG. 4 is a cross-sectional photograph of the actually formed partition.
(A) and FIG. 4 (b). Since the exposed portion of the positive resist dissolves, processing like the above-described negative resist is impossible. Further, when post-baking is performed after irradiating the electron beam or UV to substantially the entire partition, almost no change is observed in the post-baking.

【0036】色材としては、ブラックストライプを兼ね
るためには黒色色材あるいはRGB3色の混合色材が望
ましいが、隔壁形成のためだけならば単色色材、複数の
色材、単独のUV吸収材、複数のUV吸収材、単独ある
いは複数の色材と複数のUV吸収材の組み合わせでもよ
い。UV吸収材としては、ベンゾフェノン系、フェニル
サリチル酸系、シアノアクリレート系、ベンゾトリアゾ
ール系、シュウ酸アニリド系、トリアジン系等の有機物
の他、カーボン、ガラス、酸化セリウム、酸化チタン、
酸化亜鉛、酸化鉄等の無機物の粉も使用できる。
As a color material, a black color material or a mixed color material of three colors of RGB is preferable to serve also as a black stripe. However, if it is only for forming a partition, a single color material, a plurality of color materials, and a single UV absorbing material are used. A plurality of UV absorbers, a single UV absorber, or a combination of a plurality of colorants and a plurality of UV absorbers may be used. UV absorbers include benzophenone-based, phenylsalicylic-acid-based, cyanoacrylate-based, benzotriazole-based, oxalic anilide-based, and triazine-based organic substances, as well as carbon, glass, cerium oxide, titanium oxide,
Inorganic powders such as zinc oxide and iron oxide can also be used.

【0037】その後、有機発光媒体及び第二電極を蒸着
する。有機発光媒体及び第二電極は、ひさしによって分
離蒸着され、自動的にパターニングされる。その第二電
極/発光媒体ラインの大部分は第一電極上に直接形成さ
れるが、第二電極端部は隔壁下部のすそ上に伸びており
第一電極から離れた位置に形成される。これにより、絶
縁破壊を抑制できる。これは、すそが先端角が45゜以
下のなだらかな順テーパとすることによって可能となっ
た。また、すそがひさしよりも長いことにより、垂直蒸
着によっても形成可能となった。
Thereafter, an organic luminescent medium and a second electrode are deposited. The organic luminescent medium and the second electrode are separately deposited by eaves and are automatically patterned. Most of the second electrode / luminous medium line is formed directly on the first electrode, but the end of the second electrode extends above the bottom of the partition and is formed at a position distant from the first electrode. Thereby, dielectric breakdown can be suppressed. This was made possible by making the hem a gentle forward taper having a tip angle of 45 ° or less. Further, since the skirt is longer than the eaves, it can be formed by vertical vapor deposition.

【0038】第二電極蒸着条件を工夫することにより、
第二電極が発光媒体の端よりも外側まで伸びて発光媒体
を完全に覆った構造にできる。これにより、陰極/発光
媒体界面の露出を防ぎ、劣化を抑制できた(図2(c)
参照)。
By devising the second electrode deposition conditions,
The structure in which the second electrode extends beyond the end of the light emitting medium to completely cover the light emitting medium can be obtained. As a result, exposure of the cathode / luminous medium interface was prevented, and deterioration was suppressed (FIG. 2C).
reference).

【0039】本発明における有機発光媒体は、蛍光物質
を含む単層膜、あるいは多層膜で形成することができ
る。
The organic luminescent medium of the present invention can be formed of a single-layer film containing a fluorescent substance or a multilayer film.

【0040】多層膜で形成する場合の発光媒体構成例は
正孔注入輸送層、電子輸送性発光層または正孔輸送性発
光層、電子輸送層からなる2層構成や正孔注入輸送層、
発光層、電子輸送層からなる3層構成等がある。さらに
より多層で形成することも可能であり、各層を基板上に
順に成膜する。
When the light-emitting medium is formed of a multilayer film, examples of the structure of the light-emitting medium include a hole injection / transport layer, an electron-transport light-emitting layer or a hole-transport light-emitting layer, and a two-layer structure including an electron transport layer.
There is a three-layer structure including a light emitting layer and an electron transport layer. Further, it is also possible to form a multi-layer, and each layer is sequentially formed on a substrate.

【0041】正孔注入輸送材料の例としては銅フタロシ
アニン、テトラ(t−ブチル)銅フタロシアニン等の金
属フタロシアニン類及び無金属フタロシアニン類、キナ
クリドン化合物、1,1−ビス(4−ジ−p−トリルア
ミノフェニル)シクロヘキサン、N,N’−ジフェニル
−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−1,1’−
ビフェニル−4,4’−ジアミン、N,N’−ジ(1−
ナフチル)−N,N’−ジフェニル−1,1’−ビフェ
ニル−4,4’−ジアミン等の芳香族アミン系低分子正
孔注入輸送材料やポリ(パラ−フェニレンビニレン)、
ポリアニリン等の高分子正孔輸送材料、ポリチオフェン
オリゴマー材料、その他既存の正孔輸送材料の中から選
ぶことができる。
Examples of the hole injecting and transporting material include metal phthalocyanines such as copper phthalocyanine and tetra (t-butyl) copper phthalocyanine, and metal-free phthalocyanines, quinacridone compounds, 1,1-bis (4-di-p-tolyl). Aminophenyl) cyclohexane, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl) -1,1′-
Biphenyl-4,4'-diamine, N, N'-di (1-
Naphthyl) -N, N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine and other aromatic amine-based low-molecular-weight hole injection / transport materials, poly (para-phenylenevinylene),
It can be selected from polymeric hole transport materials such as polyaniline, polythiophene oligomer materials, and other existing hole transport materials.

【0042】発光材料の例としては、9,10−ジアリ
ールアントラセン誘導体、ピレン、コロネン、ペリレ
ン、ルブレン、1,1,4,4−テトラフェニルブタジ
エン、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム錯
体、トリス(4−メチル−8−キノリノラート)アルミ
ニウム錯体、ビス(8−キノリノラート)亜鉛錯体、ト
リス(4−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノ
リノラート)アルミニウム錯体、トリス(4−メチル−
5−シアノ−8−キノリノラート)アルミニウム錯体、
ビス(2−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノ
リノラート)[4−(4−シアノフェニル)フェノラー
ト]アルミニウム錯体、ビス(2−メチル−5−シアノ
−8−キノリノラート)[4−(4−シアノフェニル)
フェノラート]アルミニウム錯体、トリス(8−キノリ
ノラート)スカンジウム錯体、ビス〔8−(パラ−トシ
ル)アミノキノリン〕亜鉛錯体及びカドミウム錯体、
1,2,3,4−テトラフェニルシクロペンタジエン、
ペンタフェニルシクロペンタジエン、ポリ−2,5−ジ
ヘプチルオキシ−パラ−フェニレンビニレン、クマリン
系蛍光体、ペリレン系蛍光体、ピラン系蛍光体、アンス
ロン系蛍光体、ポルフィリン系蛍光体、キナクリドン系
蛍光体、N,N’−ジアルキル置換キナクリドン系蛍光
体、ナフタルイミド系蛍光体、N,N’−ジアリール置
換ピロロピロール系蛍光体等が挙げられ、これらを単
独、または他の低分子材料や高分子材料と混合して用い
ることができる。
Examples of the light emitting material include 9,10-diarylanthracene derivatives, pyrene, coronene, perylene, rubrene, 1,1,4,4-tetraphenylbutadiene, tris (8-quinolinolato) aluminum complex, tris (4 -Methyl-8-quinolinolate) aluminum complex, bis (8-quinolinolate) zinc complex, tris (4-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolate) aluminum complex, tris (4-methyl-
5-cyano-8-quinolinolate) aluminum complex,
Bis (2-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolate) [4- (4-cyanophenyl) phenolate] aluminum complex, bis (2-methyl-5-cyano-8-quinolinolate) [4- (4- Cyanophenyl)
Phenolate] aluminum complex, tris (8-quinolinolate) scandium complex, bis [8- (para-tosyl) aminoquinoline] zinc complex and cadmium complex,
1,2,3,4-tetraphenylcyclopentadiene,
Pentaphenylcyclopentadiene, poly-2,5-diheptyloxy-para-phenylenevinylene, coumarin-based phosphor, perylene-based phosphor, pyran-based phosphor, anthrone-based phosphor, porphyrin-based phosphor, quinacridone-based phosphor, N, N'-dialkyl-substituted quinacridone-based phosphors, naphthalimide-based phosphors, N, N'-diaryl-substituted pyrrolopyrrole-based phosphors, and the like can be used alone or in combination with other low molecular weight materials or polymer materials. They can be used in combination.

【0043】有機電子輸送材料の例としては、2−(4
−ビフィニルイル)−5−(4−t−ブチルフェニル)
−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(1−
ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、および浜
田らの合成したオキサジアゾール誘導体(日本化学会
誌、1540頁、1991年)やビス(10−ヒドロキ
シベンゾ[h]キノリノラート)ベリリウム錯体、特開
平7−90260号で述べられているトリアゾール化合
物等が挙げられる。
Examples of the organic electron transporting material include 2- (4
-Bifinylyl) -5- (4-t-butylphenyl)
-1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (1-
Naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, oxadiazole derivatives synthesized by Hamada et al. (Journal of the Chemical Society of Japan, p. 1540, 1991) and bis (10-hydroxybenzo [h] quinolinolato) beryllium complex, The triazole compounds described in Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 7-90260 are exemplified.

【0044】成膜法は真空蒸着法により形成することが
できる。発光媒体の膜厚は、単層または積層により形成
する場合においても1μm以下であり、好ましくは50
〜150nmである。
The film can be formed by a vacuum evaporation method. The thickness of the luminescent medium is 1 μm or less even when it is formed by a single layer or a laminate,
150150 nm.

【0045】陰極材料としては電子注入効率の高い物質
を用いる。具体的にはMg,Al,Yb等の金属単体を
用いたり、発光媒体と接する界面にLiや酸化Li,L
iF等の化合物を1nm程度挟んで、安定性・導電性の
高いAlやCuを積層して用いる。
As the cathode material, a substance having a high electron injection efficiency is used. Specifically, a single metal such as Mg, Al, or Yb may be used, or Li or oxidized Li, L
Al and Cu having high stability and conductivity are stacked and used with a compound such as iF sandwiched by about 1 nm.

【0046】または電子注入効率と安定性を両立させる
ため、低仕事関数なLi,Mg,Ca,Sr,La,C
e,Er,Eu,Sc,Y,Yb等の金属1種以上と、
安定なAg,Al,Cu等の金属元素との合金系が用い
られる。具体的にはMgAg,AlLi,CuLi等の
合金が使用できる。
Alternatively, in order to achieve both electron injection efficiency and stability, low work functions of Li, Mg, Ca, Sr, La, C
one or more metals such as e, Er, Eu, Sc, Y, Yb;
An alloy system with a stable metal element such as Ag, Al, or Cu is used. Specifically, alloys such as MgAg, AlLi, and CuLi can be used.

【0047】陰極の形成方法は、材料に応じて、抵抗加
熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプ
レーティング法、スパッタリング法を用いることができ
る。陰極の厚さは、10nm〜1μm程度が望ましい。
As a method for forming the cathode, a resistance heating evaporation method, an electron beam evaporation method, a reactive evaporation method, an ion plating method, and a sputtering method can be used depending on the material. The thickness of the cathode is desirably about 10 nm to 1 μm.

【0048】また一般的には、最後に封止層を形成し、
水分や酸素による陰極や発光媒体の劣化を防止する(図
2(d)参照)。
Also, generally, a sealing layer is formed last,
The cathode and the luminescent medium are prevented from being deteriorated by moisture or oxygen (see FIG. 2D).

【0049】RGBのカラーフィルタ層を透明電極の下
部に形成しておき、白色発光の発光媒体を用いるとカラ
ーディスプレイとなる。同じことだが透明電極の下部に
赤、緑蛍光変換膜を形成し青色の発光媒体を用いてもフ
ルカラー化ができる。隔壁群が形成されているので、マ
スク蒸着法を用いて各色の発光媒体を完全に区分けして
積層できる。マスクと有機発光媒体層が接触せずまた発
光媒体が拡散することもないからである。
A color display is obtained by forming an RGB color filter layer below a transparent electrode and using a white light emitting medium. In the same manner, full color can be achieved by forming a red and green fluorescence conversion film below the transparent electrode and using a blue light emitting medium. Since the partition group is formed, the light emitting media of each color can be completely separated and stacked by using the mask vapor deposition method. This is because the mask does not come into contact with the organic light emitting medium layer and the light emitting medium does not diffuse.

【0050】第一電極を陰極、第二電極を陽極とした場
合も同様に作製できることは言うまでもない。
It is needless to say that the same process can be performed when the first electrode is a cathode and the second electrode is an anode.

【0051】[0051]

【実施例】[実施例1]まず、ガラス基板1上にスパッ
タリングで第一電極としてITO層を形成した。さら
に、透明性と導電性を向上させるために、空気中で加熱
処理を行いITOを結晶化した。
[Example 1] First, an ITO layer was formed as a first electrode on a glass substrate 1 by sputtering. Further, in order to improve transparency and conductivity, a heat treatment was performed in air to crystallize the ITO.

【0052】次に、フォトリソグラフィ及びウェットエ
ッチングによってITOをパターニングし、第一電極ラ
イン2を形成した(図2(a)参照)。
Next, the first electrode line 2 was formed by patterning the ITO by photolithography and wet etching (see FIG. 2A).

【0053】その上に微粒子グラファイト黒色材を分散
したネガ型感光性樹脂6を塗布・プリベークし、露光・
現像・ポストベークによってひさしとすそを有する隔壁
7を形成し(図2(b)参照)、本発明の有機EL表示
素子用基板が完成した。隔壁の実際の形状は図4(a)
に示す。
A negative photosensitive resin 6 in which fine graphite black particles are dispersed is coated and pre-baked thereon,
A partition 7 having an eave and a skirt was formed by development and post-baking (see FIG. 2B), and the substrate for an organic EL display element of the present invention was completed. The actual shape of the partition is shown in FIG.
Shown in

【0054】最後に、有機発光媒体層8として銅フタロ
シアニン、N,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−
ジフェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミ
ン、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム錯体を
順に、20nm、60nm、70nmの膜厚で真空蒸着
し、次に第二電極9としてAlを基板回転しながら真空
蒸着した後(図2(c)参照)、酸化Geを1μmイオ
ンプレーティングし封止層10を形成して本発明の有機
EL表示素子を形成した(図2(d)参照)。
Finally, copper phthalocyanine, N, N'-di (1-naphthyl) -N, N'-
Diphenyl-1,1′-biphenyl-4,4′-diamine and tris (8-quinolinolato) aluminum complex are sequentially vacuum-deposited in a thickness of 20 nm, 60 nm and 70 nm, and then Al is used as a second electrode 9 on a substrate. After vacuum evaporation while rotating (see FIG. 2 (c)), 1 μm of Ge oxide was ion-plated to form a sealing layer 10 to form the organic EL display element of the present invention (see FIG. 2 (d)). .

【0055】本発明の隔壁を用いて発光媒体と第二電極
層の蒸着を行った後の写真を、図5に示す。発光媒体と
第二電極層が隔壁間のストライプにパターニングされ、
また第二電極ラインの両側の端の部分が吸光性隔壁の下
部のすその上まで伸びており、かつ発光媒体を完全に覆
っている。得られた有機EL表示素子は第二電極ライン
が完全に分離され第二電極間の短絡は無かった。また、
駆動電圧を10V以上にあげても第二電極ライン端での
素子短絡は観察されなかった。
FIG. 5 shows a photograph after the luminous medium and the second electrode layer were deposited using the partition walls of the present invention. The luminescent medium and the second electrode layer are patterned into stripes between the partition walls,
Further, both end portions of the second electrode line extend to the lower part of the bottom of the light-absorbing partition wall and completely cover the luminescent medium. In the obtained organic EL display element, the second electrode line was completely separated, and there was no short circuit between the second electrodes. Also,
Even when the driving voltage was increased to 10 V or more, no element short circuit at the end of the second electrode line was observed.

【0056】[実施例2]実施例1と同じ工程で第一電
極ライン2を形成した(図2(a)参照)。
Example 2 A first electrode line 2 was formed in the same process as in Example 1 (see FIG. 2A).

【0057】その上にトリアジン系UV吸収材を分散し
たネガ型感光性樹脂6を塗布・プリベークし、露光・現
像・ポストベークによってひさしとすそを有する隔壁7
を形成し(図2(b)参照)、本発明の有機EL表示素
子用基板が完成した。隔壁の実際の形状は図4(b)に
示す。
A negative photosensitive resin 6 in which a triazine-based UV absorbing material is dispersed is applied thereon, prebaked, and exposed, developed and postbaked to form a partition 7 having an eaves and a skirt.
Was formed (see FIG. 2B), and the substrate for an organic EL display element of the present invention was completed. The actual shape of the partition is shown in FIG.

【0058】最後に、実施例1と同じ工程で有機発光媒
体層8、第二電極9、封止層10を形成して本発明の有
機EL表示素子を形成した(図2(c)、(d)参
照)。
Finally, the organic light-emitting medium layer 8, the second electrode 9, and the sealing layer 10 were formed in the same steps as in Example 1 to form the organic EL display element of the present invention (FIGS. 2C and 2C). d)).

【0059】[実施例3]実施例1と同じ工程で第一電
極ライン2を形成した(図2(a)参照)。
Example 3 A first electrode line 2 was formed in the same process as in Example 1 (see FIG. 2A).

【0060】その上にアントラキノ系の赤、銅フタロシ
アニン系の緑と青の3色の混合色材を分散したネガ型感
光性樹脂6を塗布・プリベークし、露光・現像・ポスト
ベークによってひさしとすそを有する隔壁7を形成し
(図2(b)参照)、本発明の有機EL表示素子用基板
が完成した。
A negative photosensitive resin 6 in which a mixed colorant of anthraquino-based red and copper phthalocyanine-based green and blue three colors is dispersed is applied thereon, prebaked, and exposed, developed and postbaked to eaves. Was formed (see FIG. 2B), and the substrate for an organic EL display element of the present invention was completed.

【0061】最後に、実施例1と同じ工程で有機発光媒
体層8、第二電極9、封止層10を形成して本発明の有
機EL表示素子を形成した(図2(c)、(d)参
照)。
Finally, the organic light emitting medium layer 8, the second electrode 9, and the sealing layer 10 were formed in the same steps as in Example 1 to form the organic EL display element of the present invention (FIGS. 2C and 2C). d)).

【0062】[実施例4]実施例1と同様な工程で作製
した隔壁7の略全面に電子線あるいはUVを照射後、1
50〜300℃、10〜120分のポストベークを行
い、本発明の有機EL表示素子用基板が完成した。ま
た、実施例1と同様な工程で、本発明の有機EL表示素
子を形成した。得られた有機EL表示素子は第二電極ラ
インが完全に分離され第二電極間の短絡は無かった。ま
た、駆動電圧を10V以上にあげても第二電極ライン端
での素子短絡は観察されなかった。
[Embodiment 4] An electron beam or UV was applied to almost the entire surface of the partition wall 7 manufactured in the same process as in Embodiment 1,
Post-baking was performed at 50 to 300 ° C. for 10 to 120 minutes to complete the organic EL display element substrate of the present invention. Further, an organic EL display element of the present invention was formed in the same steps as in Example 1. In the obtained organic EL display element, the second electrode line was completely separated, and there was no short circuit between the second electrodes. Also, even when the driving voltage was increased to 10 V or more, no element short circuit at the end of the second electrode line was observed.

【0063】[比較例]実施例1と同様に第一電極ライ
ン2を形成した後、UV吸収材あるいは色材を分散して
いないネガ型感光性樹脂を用いて隔壁を形成した以外は
実施例1と同様に有機EL表示素子を形成した。この有
機EL表示素子の隔壁はすその先端角45°以上であ
り、また上部はひさしの無い形状を有していた(図7参
照)。隔壁側部への蒸着物付着によって第二電極ライン
間の一部で短絡があり、また、駆動電圧を10V以上に
あげると第二電極ライン端が第一電極ラインと短絡し
た。
[Comparative Example] The same procedure as in Example 1 was repeated except that the first electrode line 2 was formed, and then the partition was formed using a negative photosensitive resin in which no UV absorbing material or coloring material was dispersed. An organic EL display element was formed in the same manner as in Example 1. The partition wall of this organic EL display element had a tip angle of 45 ° or more, and the upper portion had a shape without eaves (see FIG. 7). There was a short circuit in a part between the second electrode lines due to deposition of the deposit on the side wall of the partition, and when the driving voltage was increased to 10 V or more, the second electrode line end was short-circuited with the first electrode line.

【0064】[先端角の影響]次に、隔壁すそ先端角が
約30°、45°、60°の試料を作製してすそなしの
試料と比較した。30°及び45°の試料においては、
第一電極と第二電極の間に10Vを印加しても短絡は起
こらなかったが、60°においては4096個中の約5
%、すそなしにおいては約15%で短絡が発生した。
[Effects of Tip Angle] Next, samples having a septum tip angle of about 30 °, 45 °, and 60 ° were prepared and compared with a sample without a hem. For 30 ° and 45 ° samples,
No short circuit occurred when 10 V was applied between the first electrode and the second electrode.
%, And about 15% without a hem, a short circuit occurred.

【0065】[すそ幅と隔壁高さの影響]隔壁高さ2.
5μm、すそ幅0.3μmの試料では、10V印加で短
絡は起こらなかったが、すそ幅0.2μmの試料では4
096個中約5%で短絡が発生した。隔壁高さ10μ
m、すそ幅約50μmの試料では、すそ幅が30μm〜
100μmと大きなばらつきが発生した。10V印加で
短絡は起こらなかったが、画素形状にばらつきが見られ
た。すそ幅100μmを目標にした試料では、画素部に
残膜が生じた。
[Effects of Bottom Width and Partition Height] Partition height 2.
In the sample of 5 μm and the hem width of 0.3 μm, no short circuit occurred when 10 V was applied.
A short circuit occurred in about 5% of the 096 pieces. Partition height 10μ
m, the hem width of the sample is about 50 μm,
A large variation of 100 μm occurred. No short circuit occurred when 10 V was applied, but variation was observed in the pixel shape. In the sample aiming at the hem width of 100 μm, a residual film was formed in the pixel portion.

【0066】[実施例5]第一電極を陰極、第二電極を
陽極とした場合を説明する。ガラス基板上に第一電極と
してAlを成膜し、通常のフォトエッチング法によって
ストライプ状に加工した。次に、ガラス粉を分散させた
ネガ型レジストを用いて隔壁を形成した。そして、Li
Fを蒸着し、有機発光媒体層として、トリス(8−キノ
リノラート)アルミニウム、N,N’−ジ(1−ナフチ
ル)−N,N’ジフェニル−1,1’−ビフェニル−
4,4’−ジアミン、銅フタロシアニンを順に蒸着した
後、第二電極としてインジウム亜鉛複合酸化物を蒸着し
た。この場合、第二電極側に表示が行われる。10V印
加しても短絡はみられなかった。
[Embodiment 5] A case where the first electrode is a cathode and the second electrode is an anode will be described. An Al film was formed as a first electrode on a glass substrate, and processed into a stripe by a normal photoetching method. Next, partition walls were formed using a negative resist in which glass powder was dispersed. And Li
F, and tris (8-quinolinolato) aluminum, N, N′-di (1-naphthyl) -N, N′diphenyl-1,1′-biphenyl-
After 4,4′-diamine and copper phthalocyanine were sequentially deposited, an indium-zinc composite oxide was deposited as a second electrode. In this case, display is performed on the second electrode side. No short circuit was observed even when 10 V was applied.

【0067】[0067]

【発明の効果】請求項1〜9記載の発明によれば、蒸着
ビーム方向の制限が小さく大面積化で均一な蒸着に適
し、かつ、短絡防止用絶縁層を必要としない有機エレク
トロルミネッセンス表示素子用基板を提供することがで
きる。また、裏面からの透過光と外光反射を抑制する有
機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板を提供する
ことができる。さらに、請求項10〜12記載の発明に
よれば、絶縁破壊による短絡が起こりにくく、また劣化
しにくい有機エレクトロルミネッセンス表示素子を提供
することができる。更にまた、請求項13記載の発明に
よれば、そのような有機エレクトロルミネッセンス表示
素子用基板を容易に製造することができる。
According to the first to ninth aspects of the present invention, the organic electroluminescent display element has a small limitation on the direction of the vapor deposition beam, is suitable for uniform vapor deposition with a large area, and does not require an insulating layer for preventing short circuit. Substrate can be provided. Further, it is possible to provide a substrate for an organic electroluminescent display element which suppresses transmitted light from the back surface and reflection of external light. Further, according to the tenth to twelfth aspects of the present invention, it is possible to provide an organic electroluminescent display element in which a short circuit due to dielectric breakdown does not easily occur and is hardly deteriorated. Furthermore, according to the invention of claim 13, such a substrate for an organic electroluminescence display element can be easily manufactured.

【0068】[0068]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のEL表示素子の主要部の断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view of a main part of an EL display element of the present invention.

【図2】本発明のEL表示素子の製造工程を示す説明図
である。
FIG. 2 is an explanatory view showing a manufacturing process of the EL display element of the present invention.

【図3】本発明の隔壁形成原理を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory view showing the principle of forming a partition wall according to the present invention.

【図4】本発明の隔壁の断面SEM写真である。FIG. 4 is a cross-sectional SEM photograph of a partition wall of the present invention.

【図5】本発明の隔壁を用いて発光媒体と第二電極層を
蒸着した後の断面SEM写真である。
FIG. 5 is a cross-sectional SEM photograph after a light emitting medium and a second electrode layer are deposited using the barrier ribs of the present invention.

【図6】本発明での隔壁形状の用語を示す説明図であ
る。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing terms of a partition shape in the present invention.

【図7】比較例の隔壁付近断面を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing a cross section near a partition wall of a comparative example.

【図8】従来の隔壁ななめ蒸着法を示す説明図である。FIG. 8 is an explanatory view showing a conventional partition wall slick evaporation method.

【図9】従来の隔壁を示す説明図である。FIG. 9 is an explanatory view showing a conventional partition.

【図10】従来起こりやすい短絡現象の説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram of a short-circuit phenomenon that tends to occur in the related art.

【図11】従来起こる隔壁近傍での裏面光透過や隔壁部
での外光反射の説明図である。
FIG. 11 is an explanatory view of the backside light transmission near the partition and the external light reflection at the partition, which occur conventionally.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 第一電極ライン 3 露光光 4 フォトマスク 5 感光部 6 UV吸収材または色材を分散させたネガ型感光樹脂
層 7 隔壁 8 発光媒体 9 第二電極ライン 10 封止層 11 蒸着物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 1st electrode line 3 Exposure light 4 Photomask 5 Photosensitive part 6 Negative photosensitive resin layer in which UV absorbing material or coloring material was dispersed 7 Partition wall 8 Light emitting medium 9 Second electrode line 10 Sealing layer 11 Deposit

フロントページの続き (72)発明者 谷 瑞仁 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 (72)発明者 湊 孝夫 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 (72)発明者 伊藤 祐一 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 (72)発明者 甲斐 輝彦 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 (72)発明者 鈴木 克宏 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内Continuing from the front page (72) Inventor Mizunin Tani 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo Letterpress Printing Co., Ltd. (72) Inventor Takao Minato 1-5-1, Taito 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo Letterpress printing Inside (72) Inventor Yuichi Ito 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo Toppan Printing Co., Ltd. (72) Inventor Kai Teruhiko Kai 1-1-5, Taito, Taito-ku, Tokyo Toppan Printing Co., Ltd. (72) Inventor Katsuhiro Suzuki 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo Toppan Printing Co., Ltd.

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも複数の第一電極ラインと前記第
一電極ラインと交差する方向に延びる複数の隔壁を有す
る有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板におい
て、前記隔壁が上部にひさし、下部にすそを有すること
を特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示素子用
基板。
1. An organic electroluminescence display element substrate having at least a plurality of first electrode lines and a plurality of partition walls extending in a direction intersecting with the first electrode lines, wherein the partition walls have an upper eave and a lower hem. A substrate for an organic electroluminescent display element, characterized by comprising:
【請求項2】前記隔壁下部のすそが、前記隔壁上部のひ
さしよりも基板に平行な方向に関して長いことを特徴と
する請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス表
示素子用基板。
2. The substrate for an organic electroluminescent display device according to claim 1, wherein the skirt of the lower part of the partition is longer than the eaves of the upper part of the partition in a direction parallel to the substrate.
【請求項3】前記隔壁下部のすそが、先端角が45゜以
下のなだらかな順テーパ状になっていることを特徴とす
る請求項1から請求項2のいずれか一つに記載の有機エ
レクトロルミネッセンス表示素子用基板。
3. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the skirt of the lower part of the partition wall has a gentle forward tapered shape having a tip angle of 45 ° or less. Substrate for luminescence display element.
【請求項4】前記隔壁の本体及びひさしとすそが、同一
物質からなることを特徴とする請求項1から請求項3の
いずれか一つに記載の有機エレクトロルミネッセンス表
示素子用基板。
4. The substrate for an organic electroluminescent display device according to claim 1, wherein the main body, the eaves, and the skirt of the partition wall are made of the same material.
【請求項5】前記隔壁下部のすその幅が前記隔壁の高さ
の0.1倍〜10倍であることを特徴とする請求項1か
ら請求項4のいずれか一つに記載の有機エレクトロルミ
ネッセンス表示素子用基板。
5. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the width of the bottom of the partition is 0.1 to 10 times the height of the partition. Substrate for luminescence display element.
【請求項6】前記隔壁が、UV吸収材あるいは色材ある
いはUV吸収材と色材両方を分散させた感光性樹脂から
なることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか
一つに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用
基板。
6. The method according to claim 1, wherein the partition wall is made of a UV absorbing material, a coloring material, or a photosensitive resin in which both the UV absorbing material and the coloring material are dispersed. The substrate for an organic electroluminescence display element according to the above.
【請求項7】前記UV吸収材あるいは色材が、単独ある
いは複数であることを特徴とする請求項6に記載の有機
エレクトロルミネッセンス表示素子用基板。
7. The substrate for an organic electroluminescent display device according to claim 6, wherein said UV absorbing material or coloring material is used alone or in plural.
【請求項8】前記隔壁が透明あるいは有色であることを
特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一つに記載
の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板。
8. The substrate for an organic electroluminescent display device according to claim 1, wherein the partition is transparent or colored.
【請求項9】前記隔壁が黒く着色される時に、ブラック
ストライプを兼ねる吸光性隔壁になることを特徴とする
請求項1から請求項8のいずれか一つに記載の有機エレ
クトロルミネッセンス表示素子用基板。
9. The substrate for an organic electroluminescent display device according to claim 1, wherein when the partition is colored black, the partition becomes a light-absorbing partition also serving as a black stripe. .
【請求項10】請求項1から請求項9のいずれかに記載
の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板上に発
光用媒体と第二電極ラインを設けたことを特徴とする有
機エレクトロルミネッセンス表示素子。
10. An organic electroluminescent display device comprising a substrate for an organic electroluminescent display device according to claim 1 and a light emitting medium and a second electrode line provided on the substrate.
【請求項11】発光媒体と第二電極ラインの両側の端の
部分が、隔壁下部のすその上まで伸びて第一電極ライン
と非接触になっていることを特徴とする請求項10に記
載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子。
11. The device according to claim 10, wherein the end portions on both sides of the luminescent medium and the second electrode line extend above the bottom of the partition wall and are not in contact with the first electrode line. Organic electroluminescence display device.
【請求項12】第二電極ラインが発光媒体の端よりも外
側まで伸びて発光媒体を覆っていることを特徴とする請
求項10から請求項11のいずれか一つに記載の有機エ
レクトロルミネッセンス表示素子。
12. The organic electroluminescent display according to claim 10, wherein the second electrode line extends to the outside of the end of the luminous medium and covers the luminous medium. element.
【請求項13】少なくとも複数の第一電極ラインと前記
第一電極ラインと交差する方向に延びる複数の隔壁を有
する有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板の製
造方法において、前記隔壁をUV吸収材あるいは色材あ
るいはUV吸収材と色材両方を分散させたネガ型感光性
樹脂を塗布、露光、現像工程により形成後、電子線或い
はUVを照射してからポストベークを行うことを特徴と
する有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板の製
造方法。
13. A method of manufacturing a substrate for an organic electroluminescence display element having at least a plurality of first electrode lines and a plurality of partitions extending in a direction intersecting the first electrode lines, wherein the partition is made of a UV absorbing material or a coloring material. Alternatively, a negative photosensitive resin in which both a UV absorbing material and a coloring material are dispersed is formed by applying, exposing, and developing steps, and then irradiating with an electron beam or UV and then performing post-baking, wherein the organic electroluminescent display is characterized in that A method for manufacturing an element substrate.
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