JPH11345688A - Organic el display - Google Patents

Organic el display

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JPH11345688A
JPH11345688A JP16768598A JP16768598A JPH11345688A JP H11345688 A JPH11345688 A JP H11345688A JP 16768598 A JP16768598 A JP 16768598A JP 16768598 A JP16768598 A JP 16768598A JP H11345688 A JPH11345688 A JP H11345688A
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JP
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Patent type
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organic el
substrate
layer
electrode
display
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Application number
JP16768598A
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Japanese (ja)
Inventor
Munehiro Takaku
宗裕 高久
Original Assignee
Tdk Corp
ティーディーケイ株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL color display requiring no complicated structure, easy for manufacturing and a pasting work and the like, giving no damage to an organic structural body and having a low cost and an excellent contrast ratio. SOLUTION: A hole injected electrode and an electron injected electrode, and an organic EL structural body 2 having one or more kinds of organic layer participating in a luminescent function between these electrodes are formed as a film on a substrate 1 in this organic EL display. The substrate 1 forms a light outputting side, a supplementary substrate 5 is disposed on the opposite side to the film surface of the organic EL structural body 2 of the substrate 1, and in addition, this organic EL display has a color filter layer 4 or a black matrix layer on the surface of the supplementary substrate 5 facing the substrate 1.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、情報表示パネル、 BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to an information display panel,
各種計器パネル、動画・静止画を表示させるディスプレイ等、家電製品、自動車、二輪車電装品に使用され、有機化合物を用いて構成された有機ELディスプレイの構造に関する。 Various instrument panel, a display, etc. for displaying the video and still image, household appliances, automobiles, are used in the two-wheeled vehicle electrical component to a structure of an organic EL display which is constructed using an organic compound.

【0002】 [0002]

【従来の技術】近年、有機EL素子が盛んに研究され、 In recent years, the organic EL element has been actively studied,
実用化されつつある。 Practically used it is becoming. これは、錫ドープ酸化インジウム(ITO)などの透明電極(ホール注入電極)上にトリフェニルジアミン(TPD)などのホール輸送材料を蒸着により薄膜とし、さらにアルミキノリノール錯体(A This tin-doped indium oxide a hole transporting material such as (ITO) transparent electrodes (such as the hole injection electrode) triphenyldiamine on (TPD) into a thin film by vapor deposition, further aluminum-quinolinol complex (A
lq3 )などの蛍光物質を発光層として積層し、さらにMgなどの仕事関数の小さな金属電極(電子注入電極) LQ3) laminating a fluorescent substance such as a light emitting layer, smaller metal electrode work function, such as Mg (electron injection electrode)
を形成した基本構成を有する素子で、10V 前後の電圧で数100から数10000cd/m 2ときわめて高い輝度が得られることで、家電製品、自動車、二輪車電装品等のディスプレイとして注目されている。 With elements having the formed basic structure, that is very high luminance of several 100 to several 10000 cd / m 2 at 10V before and after the voltage obtained, appliances, automobiles, it has attracted attention as a motorcycle electrical Hinto display.

【0003】ところで、このような有機EL素子を用いたディスプレイとして、種々の応用例が考えられるが、 Meanwhile, as a display using such an organic EL device, various applications are conceivable,
中でもカラーディスプレイへの応用は重要な課題である。 Among these applications to a color display is an important problem. 発光体をカラーディスプレイとして応用する場合、 When applying the light emitting element as a color display,
例えば、発光体自体の発光色を変化させるか、あるいはカラーフィルターを用いて青、緑、赤の3元色を得るといった手法が一般的である。 For example, to change the emission color of the light emitter itself, or blue with a color filter, green, techniques such obtain ternary color red is common. 発光体自体の発光色を変化させる試みとしては、例えば SID 96 DIGEST・185 14. Attempts to change the emission color of the light emitter itself, for example, SID 96 DIGEST · 185 14.
2:Novel Transparent Organic Electroluminescent Dev 2: Novel Transparent Organic Electroluminescent Dev
ices G.Gu,V.BBulovic,PEBurrows,S.RForrest,METo ices G.Gu, V.BBulovic, PEBurrows, S.RForrest, METo
mpsonに記載されたカラー発光素子として、Ag・Mg As a color light-emitting element described in mpson, Ag · Mg
薄膜を陰電極に、ITOを陽電極に用いたものが知られている。 Thin film of negative electrode, those using ITO on the positive electrode is known. しかし、ここに記載されているカラー発光素子(heterostructure organic light emitting devices) However, the color light-emitting element described herein (heterostructure organic light emitting devices)
は、R,G,B各々に対応した発光層(Red ETL,Green Is, R, G, light emitting layers corresponding to B, respectively (Red ETL, Green
ETL,Blue ETL)を有する多層構造であり、各発光層毎に陰電極と陽電極を用意しなければならず、構造が複雑となり、製造コストも高くなるという問題がある。 ETL, a multilayer structure having a Blue ETL), it is necessary to prepare negative electrode and the positive electrode in each light emitting layer, the structure is complicated, there is a problem that manufacturing cost becomes high. また各色の寿命が異なるため、使用するにしたがい色バランスが崩れるという不都合もある。 Since the colors of life different, there is also a disadvantage that the color balance collapses according to use.

【0004】一方、単一の発光層とカラーフィルターとを組み合わせてマルチカラーディスプレイとする場合、 On the other hand, if a multi-color display by combining a single light emitting layer and a color filter,
通常、同一基板上にカラーフィルター層と有機EL構造体とを設けることとなる。 Usually, so that on the same substrate provided with a color filter layer and the organic EL structure. しかし、基板上にカラーフィルター層を成膜し、さらに有機EL構造体を設けることは、ホール注入電極であるITO薄膜中の応力や、カラーフィルター層との熱膨張係数の違いにによる剥離現象を生じたりして困難な作業が伴う。 However, forming a color filter layer on the substrate, further providing the organic EL structure, and stress in the ITO thin film is a hole injection electrode, a peeling phenomenon due to the thermal expansion coefficients of the color filter layer difference with or occur accompanied by a difficult task.

【0005】また、ディスプレイの特性である表示品質を向上させることも重要な課題である。 [0005] It is also an important issue to improve the display quality is a characteristic of the display. 表示品質を向上させるため、従来よりブラックマトリクスと称する可視光領域での透過性が低い層を、ディスプレイの表示面等に設けていた。 To improve display quality, the layer is low permeability in the visible light region termed conventionally the black matrix, has been provided on the display surface or the like of the display. このブラックマトリクスを設ける場合にも、やはり上記カラーフィルターと同様な理由により困難な作業が要求される。 Even in the case of providing the black matrix, a difficult task is required also by the same reason as the color filter. このため、より簡単な方法で表示品質を向上させうる手段が望まれている。 Therefore, means capable of improving display quality by a simpler method is desired.

【0006】 [0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、マルチカラータイプでも複雑な構造を必要とせず、製造や貼り合わせ等の作業が容易で、有機EL構造体へのダメージが少なく、低コストの有機ELディスプレイを実現することである。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention, without the need for a complex structure in a multi-color type, it is easy to work such as manufacturing and bonding, less damage to the organic EL structure, low cost it is to realize an organic EL display.

【0007】また、表示品質の良好な有機ELカラーディスプレイを提供することである。 [0007] Another object of the present invention is to provide a good organic EL color display of the display quality.

【0008】 [0008]

【課題を解決するための手段】上記目的は、下記の本発明により達成される。 SUMMARY OF THE INVENTION The above objects are achieved by the present invention described below. (1) ホール注入電極と電子注入電極と、これらの電極間に発光機能に関与する1種以上の有機層を有する有機EL構造体が基板上に成膜されている有機ELディスプレイであって、前記基板が光取り出し側であって、この基板の有機EL構造体成膜面と反対側には補助基板が配置され、かつこの補助基板の前記基板と対向する面にカラーフィルター層を有する有機ELディスプレイ。 (1) and the hole injection electrode and an electron injection electrode, an organic EL display in which an organic EL structure is formed on a substrate having one or more organic layers involved in light emission function between these electrodes, wherein a substrate is a light extraction side, the side opposite to the organic EL structure deposition surface of the substrate is disposed an auxiliary substrate, and an organic EL with a color filter layer on the substrate and the opposing surfaces of the auxiliary substrate display. (2) 前記補助基板は、さらに視野角を矯正するためのブラックマトリクス層を有し、前記有機EL構造体のホール注入電極は、補助電極層が形成されている領域にも成膜されている上記(1)の有機ELディスプレイ。 (2) the auxiliary substrate further includes a black matrix layer for correcting a viewing angle, hole injection electrode of the organic EL structure is also formed in a region where the auxiliary electrode layer is formed the organic EL display of the above (1). (3) ホール注入電極と電子注入電極と、これらの電極間に発光機能に関与する1種以上の有機層を有する有機EL構造体が基板上に成膜されている有機ELディスプレイであって、前記基板の有機EL構造体成膜面と反対側には補助基板が配置され、かつこの補助基板の前記基板と対向する面にブラックマトリクス層を有する有機ELディスプレイ。 (3) and the hole injection electrode and an electron injection electrode, an organic EL display in which an organic EL structure is formed on a substrate having one or more organic layers involved in light emission function between these electrodes, wherein the side opposite to the organic EL structure deposition surface of the substrate is disposed an auxiliary substrate, and an organic EL display having a black matrix layer on the substrate and the opposing surfaces of the auxiliary substrate. (4) 前記有機EL構造体のホール注入電極は、補助電極層が形成されている領域にも成膜されている上記(3)の有機ELディスプレイ。 (4) hole injection electrode of the organic EL structure, the organic EL display of the above (3) to the auxiliary electrode layer is also formed in a region that is formed. (5) 前記補助基板は、カラーフィルター層を有する上記(4)の有機ELディスプレイ。 (5) The auxiliary substrate, an organic EL display according to (4) having a color filter layer.

【0009】 [0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, will be described in detail specific configuration of the present invention. 本発明の有機ELカラーディスプレイは、ホール注入電極と電子注入電極と、これらの電極間に発光機能に関与する1種以上の有機層を有する有機EL構造体が基板上に成膜されている有機ELディスプレイであって、前記基板が光取り出し側であって、この基板の有機EL構造体成膜面と反対側には補助基板が配置され、かつこの補助基板の前記基板と対向する面にカラーフィルタ層を有するマルチカラータイプのディスプレイである。 The organic EL color display of the present invention, the organic EL structure having a hole injection electrode and an electron injection electrode, one or more organic layers involved in light emission function between these electrodes is formed on a substrate an organic a EL display, color the substrate is a light extraction side, the side opposite to the organic EL structure deposition surface of the substrate is disposed an auxiliary substrate, and the substrate and the opposing surfaces of the auxiliary substrate it is a multi-color display of the type having a filter layer.

【0010】このように、基板の有機EL構造体と反対の面に透明ないし半透明の補助基板を設け、この補助基板の基板と対向する面にカラーフィルター層を設けることにより、カラーフィルタと有機EL構造体との相互的なダメージを防止でき、取り扱いも容易となり、極めて簡単な構成でカラーフィルターを作製することができる。 [0010] Thus, the auxiliary substrate for transparent or semi-transparent surface opposite to the organic EL structure of the substrate is provided, by providing the color filter layer on the substrate and the opposing surfaces of the auxiliary substrate, a color filter and an organic prevents mutual damage to the EL structure, handling is facilitated, can be produced a color filter with an extremely simple configuration.

【0011】補助基板に配置されるカラーフィルター層は、青色フィルター層と、緑色フィルター層と、赤色フィルター層の1種以上を用いることが好ましい。 [0011] The color filter layer disposed on the auxiliary substrate has a blue filter layer, a green filter layer, it is preferable to use one or more of the red filter layer. カラーフィルター層には、液晶ディスプレイ等で用いられているカラーフィルターを用いてもよいが、有機ELの発光する光に合わせてカラーフィルターの特性を調製し、取り出し効率・色純度を最適化すればよい。 The color filter layer may be a color filter as used in liquid crystal displays and the like, but in accordance with the light emission of the organic EL preparing the characteristics of the color filter, by optimizing the extraction efficiency and color purity good. また、EL素子材料や必要により設けられる蛍光変換層が光吸収するような短波長の光をカットできるカラーフィルターを用いることが好ましい。 Further, it is preferable to use a color filter that fluorescent conversion layer provided by EL device materials and requires capable of cutting light of short wavelength such as light absorption.

【0012】このようなカラーフィルターを用いてフルカラーのディスプレイを得ようとする場合、カラーフィルター通過後の色が、NTSC標準、あるいは現行のC [0012] In order to obtain a display of full color by using such a color filter, color after passing through the color filter, NTSC standard or the current C,
RTの色度座標に調整すればよい。 It may be adjusted to the chromaticity coordinates of RT. このような色度座標は、一般的な色度座標測定器、例えばトプコン社製のB Such chromaticity coordinates, general chromaticity coordinate measuring machine, for example, manufactured by Topcon Corporation of B
M−7、SR−1等を用いて測定できる。 Can be measured using the M-7, SR-1, and the like.

【0013】また、カラーフィルター層の厚さは、特に限定されるものではないが、通常、0.2〜20μm 程度とすればよい。 [0013] The thickness of the color filter layer is not particularly limited, may be about 0.2 to 20.

【0014】また、誘導体多層膜のような光学薄膜を用いてカラーフィルターの代わりにしてもよい。 Further, it may be used instead of the color filter of the optical thin film such as a derivative multilayered film.

【0015】カラーフィルター層は三原色表示によるフルカラーディスプレイでは、上記のような青、緑、赤色のものを用い、その他のキャラクター表示等に用いる場合には、必要な色彩のものを調整して用いればよい。 [0015] The color filter layer is a full-color display by the three primary colors display, blue, such as described above, the green, the red ones used, in the case of using other character display, etc., be used to adjust the things you need color good.

【0016】必要により設けられる蛍光変換層は、EL The fluorescent conversion layer provided by necessary, EL
発光を吸収し、蛍光変換層中の蛍光体から光を放出させることで発光色の色変換を行うものであるが、バインダー、蛍光材料、光吸収材料を用いて形成することができる。 Absorbs emission, but performs a color conversion of light emission color by causing light to be emitted from the phosphor of the fluorescent conversion layer, it can be formed using a binder, a fluorescent material, a light absorbing material.

【0017】蛍光材料は、基本的には蛍光量子収率が高いものを用いればよく、EL発光波長域に吸収が強いことが望ましい。 [0017] Fluorescent material used may basically have a high fluorescent quantum yield and desirably exhibits strong absorption in an EL light emission wavelength region. 具体的には蛍光スペクトルの発光極大波長λmax が580〜630nmであり、発光ピークの半値幅がいずれの場合にも10〜100nmである蛍光物質が好ましい。 More specifically a light emission maximum wavelength λmax of the fluorescence spectrum 580 to 630 nm, the fluorescent substance is preferably a half-value width of the emission peak is 10~100nm any case. 実際には、レーザー用色素などが適しており、ローダミン系化合物、ペリレン系化合物、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物(サブフタロシアニン等も含む)、ナフタロイミド系化合物、縮合環炭化水素系化合物、縮合複素環系化合物、スチリル系化合物等を用いればよい。 In practice, and such is suitable for laser dye, rhodamine compounds, perylene compounds, cyanine compounds, phthalocyanine compounds (sub phthalocyanine including also), naphthalimide compounds, fused ring hydrocarbon compounds, fused heterocyclic system compound, may be used styryl compound.

【0018】バインダーは基本的に蛍光を消光しないような材料を選べばよく、フォトリソグラフィー、印刷等で微細なパターニングができるようなものが好ましい。 [0018] The binder may be selected basically materials which do not cause extinction of fluorescence, photolithography, those which can be finely patterned by printing or the like.

【0019】光吸収材料は、蛍光材料の光吸収が足りない場合に用いるが、必要のない場合は用いなくてもよい。 The light absorbing material is used when the light absorption of the fluorescent material is short and may be omitted if unnecessary. また、光吸収材料は、蛍光材料の蛍光を消光しないような材料を選べばよい。 Further, the light-absorbing material may be selected from materials which do not cause extinction of fluorescence of the fluorescent material.

【0020】このような蛍光変換フィルターを用いることによって、CIE色度座標において好ましいx、y値が得られる。 [0020] By using such a fluorescence conversion filter, preferably x in the CIE chromaticity coordinate, y values ​​are obtained. また、蛍光変換層の厚さは、そのときの発光に応じて適宜調整すればよいが、通常、2〜50μm The thickness of the fluorescence conversion layer may be appropriately adjusted according to the light emission at that time, usually, 2 to 50 [mu] m
程度とすればよい。 It may be the degree.

【0021】カラーフィルターや蛍光フィルターの大きさは、ブラックマトリクスを有しない場合には、視野角が確保できる程度に画素の大きさよりも大きくすることが好ましい。 The color filter or fluorescence magnitude of the filter, if no black matrix is ​​preferably larger than the size of the pixel to the extent that viewing angle can be secured. ブラックマトリクスを有する場合には、必ずしも画素の大きさと等しい必要はなく、ブラックマトリクスの開口部を全てカバーするような大きさであれば、画素より大きくても、小さくてもよい。 If it has a black matrix is ​​not necessarily equal to the size of a pixel, if sized to cover all the openings of the black matrix, be greater than the pixel may be smaller. また、その厚みは、好ましくは0.5〜10μm 程度、より好ましくは1〜5μm 程度である。 Further, the thickness is preferably about 0.5 to 10 [mu] m, more preferably about 1 to 5 [mu] m.

【0022】カラーフィルター層を形成する方法としては、スクリーン法等の印刷や、顔料入りのフォトレジスト等により形成することができる。 [0022] As a method for forming a color filter layer, printing or a screen method or the like, it can be formed by a photoresist or the like pigmented. 顔料入りのフォトレジストにより形成する場合、基板上に所定の厚みの顔料入りのフォトレジストを塗布してスピンコート等により形成した後、必要によりプレベークを行う。 When forming a photoresist pigmented, it was formed by spin coating or the like by coating a photoresist pigmented with a predetermined thickness on the substrate, performing prebaking, if necessary. 次いで、フォトマスクのパターンを所定の位置に調整し、紫外線等を照射して露光し、現像してパターンを得る。 Then, adjust the pattern of the photomask to a predetermined position is irradiated with ultraviolet rays exposure, to obtain a pattern developed to. さらに、 further,
必要によりポストベークを行い所定パターンのフィルター層を得ることができる。 It is possible to obtain a filter layer having a predetermined pattern was post-baked as needed.

【0023】基板、補助基板の材料としては、どちらも光取り出し側となるため、光透過性を有する透明ないし半透明の材料を用いることが必要である。 [0023] substrate, the material of the auxiliary substrate, because both the light extraction side, it is necessary to use a transparent or translucent material having a light transmitting property. ここで光透過性とは、発光波長帯域、通常350〜800nm、特に可視光領域での光透過率が50%以上、好ましくは70% Here, the optical transparency, the emission wavelength band, typically 350 to 800 nm, in particular light transmittance in the visible light region of 50% or more, preferably 70%
以上、特に80%以上であることをいう。 Refers to or more, preferably 80% or more. 具体的には積層する有機EL構造体やフィルター層の材質等により適宜決めることができる。 Specifically, it can be suitably determined according to the material of the organic EL structure or a filter layer to be laminated. 例えば、ガラス、石英や樹脂等の透明ないし半透明材料、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂等を用いることができる。 For example, glass, transparent or translucent material such as quartz or resin, thermosetting resin such as phenolic resin, a thermoplastic resin such as polycarbonate.

【0024】基板の厚みとしては0.3〜3mm程度、特に0.5〜1.1mm程度、補助基板の厚みは0.3〜3 [0024] about 0.3~3mm A thickness of the substrate, in particular about 0.5~1.1Mm, the auxiliary substrate thickness from 0.3 to 3
mm程度、特に0.5〜1.1mm程度が好ましい。 About mm, particularly about 0.5~1.1mm is preferable.

【0025】フィルター層が形成された補助基板は、通常、基板上に有機EL構造体が積層され、封止板が設けられた後に、この基板の有機EL構造体成膜面と反対側の面にフィルター層と基板とが対向するようにして貼り合わされる。 The auxiliary substrate the filter layer is formed, typically, the organic EL structure stacked on a substrate, after the sealing plate is provided, the side opposite to the organic EL structure deposition surface of the substrate filter layer and the substrate are bonded so as to face the. 貼り合わせには接着剤が用いられる。 Adhesive is used for bonding.

【0026】接着剤としては、安定した接着強度が保て、フィルター層を浸食したり、透光性に影響を及ぼさないものが好ましい。 [0026] As the adhesive, maintain stable bond strength, or erode filter layer, it is preferable not to affect the transparency. このようなものであれば特に限定されるものではないが、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤や嫌気性の接着剤を用いることが好ましい。 It is not particularly limited as long as such a thing, it is preferable to use an ultraviolet curable cationic curing type epoxy resin adhesive or an anaerobic adhesive.

【0027】本発明の有機ELディスプレイは、補助基板の基板と対向する面にブラックマトリクスと称する黒色の層を有していてもよい。 The organic EL display of the present invention, the layer may have a black called black matrix on the substrate surface facing the auxiliary substrate.

【0028】ブラックマトリクス層を設けることにより、各画素間の光の干渉や外光の反射を防止してディスプレイの表示品質が向上し、視野角を適切に矯正することができる。 [0028] By providing the black matrix layer, it is possible to improve the display quality of the display to prevent reflection of light interference and external light between pixels, appropriately correct viewing angle.

【0029】ブラックマトリクス層は黒色の層であればその材質は特に規制されるものではないが、通常、カーボンブラック等の顔料分散型のレジストや、カラーフィルターの色重ね、クロム、低反射クロム等が使用される。 [0029] Although the material is not particularly restricted as long as the black matrix layer is a layer of black, usually and pigment dispersion type such as carbon black resist, overlapping of the color filter color, chromium, low-reflection chromium There will be used.

【0030】ブラックマトリクス層の形成方法も、上記フィルター層に準ずればよい。 The method of forming the black matrix layer as well, may be determined according to the above-mentioned filter layer. また、スパッタ法や蒸着法によっても形成できる。 It is also formed by sputtering or vapor deposition.

【0031】ブラックマトリクス層は、ディスプレイの非発光部分(画素以外の部分)に配置され、画素の周囲を黒色の層で覆うようにすることで画質を向上させる。 The black matrix layer is disposed in the non-light emitting portion of the display (the portion other than the pixel), to improve the image quality by so as to cover the periphery of the pixel with a layer of black.
ブラックマトリクス層で覆うことなく発光光を透過させる部分(以下窓部と称する)の大きさは必ずしも画素と同一である必要はなく、例えば図2に示すように画素2 Black size of a portion which transmits light emitted without covering a matrix layer (hereinafter referred to as the window) is not necessarily identical to the pixel, for example, the pixel 2 as shown in FIG. 2
に対して窓部7が狭くなるように配置してもよいし、図3に示すように画素2に対して窓部7が大きくなるように配置してもよい。 It may be disposed so as window 7 is narrowed relative, may be arranged such window 7 is increased for the pixel 2 as shown in FIG. これらの関係は、単にブラックマトリクスの窓部の大きさのみで規定されるものではなく、 These relationships are not merely be defined only by the size of the window portion of the black matrix,
画素部分の大きさとの相対的関係、視野角および基板の厚さとの関係等により決められる。 The relative relationship between the size of the pixel portion, is determined by the relationships of the viewing angle and the thickness of the substrate.

【0032】すなわち、図2の場合、画素(有機EL素子)2部分が比較的大きく、ブラックマトリクスの窓部7をこの画素2部分より小さくしたものである。 [0032] That is, in the case of FIG. 2, the pixel (organic EL element) 2 portions is relatively large, it is a window portion 7 of the black matrix that smaller than the pixel 2 portions. この場合の視野角は、それぞれ画素の端部からの対角線上にある窓部により規制される。 The viewing angle of the case, is regulated by a window portion located diagonally from each end of the pixel. また、図3の場合、画素(有機EL素子)2部分が比較的小さく、ブラックマトリクスの窓部7をこの画素部分より大きくしたものである。 In addition, in the case of FIG. 3, the pixel (organic EL element) 2 moiety is relatively small, it is a window portion 7 of the black matrix that larger than the pixel portion.
この場合の視野角は、それぞれ画素の端部からの放射線上にある窓部7の端部により規制される。 The viewing angle of the case, is regulated by the end of the window portion 7 located on the radiation from each end of the pixel.

【0033】これらの位置関係は、ディスプレイの仕様等により最適なものとなるように画素毎に適宜調整すればよい。 [0033] These positional relation may be appropriately adjusted for each pixel so that the optimum by the display specifications such. 図2の場合には、ブラックマトリクスによりくっきりとした画素パターンが得られるが、大画面であるが故に画素同士が近接してしまい、高密度、高精細画面を得難くなり、電極の配線、駆動回路等内部構造に制約を生じやすくなる。 In the case of Figure 2, but crisp pixel pattern by the black matrix is ​​obtained, will be is a large screen because adjacent pixels with each other, dense, hard to obtain a high-definition screen, the electrode wiring, the drive It tends to occur constrained to the internal structure such as a circuit. 従って、比較的接近したものが少ないセグメントタイプの表示等に適しているといえる。 Therefore, it can be said to be suitable for relatively those approaching the small segment type display and the like.

【0034】図3の場合には視野角を確保しやすく、窓部7が大きい分発光光の取り出し効率がよく、ディスプレイ設計も容易である。 [0034] In the case of FIG. 3 is easily ensured viewing angle, good extraction efficiency of the window portion 7 is larger min emitting light, a display design is easy. しかしながら、ブラックマトリクス6の投影部分、つまりブラックマトリクス6により隠される部分と、発光領域となる有機EL構造体2との間には所定の領域(隙間)gを有することとなる。 However, the projection portion of the black matrix 6, i.e. a portion to be concealed by the black matrix 6, it will have a predetermined area (gap) g between the organic EL structure 2 comprising a light emitting region. つまり、この領域gでは非発光部分に形成されている補助電極8等が外部光に曝される。 That is, the auxiliary electrode 8 and the like which are formed in the region g in the non-light emitting portion is exposed to outside light.

【0035】補助電極8は、ITO透明電極21よりも低抵抗なため、発光領域の近傍に位置することによって、ITO透明電極21を電気的に接続し、発光部までの電圧降下による輝度ムラを防ぐ効果がある。 The auxiliary electrode 8, since than ITO transparent electrode 21 a low resistance, by positioning in the vicinity of the light-emitting region, the ITO transparent electrode 21 are electrically connected, the luminance unevenness caused by voltage drop to the light-emitting portion there is an effect to prevent. また、駆動電圧の低下により、リークによる不良が抑制され、信頼性の高い有機EL表示装置を製造できる。 Further, the reduction in driving voltage, defects due to leakage is suppressed can be produced a highly reliable organic EL display device.

【0036】ところが、この補助電極8は、通常、低抵抗化のために、Al等の金属により形成されている。 [0036] However, the auxiliary electrode 8 is typically for low resistance, are formed of a metal such as Al. このため、反射率が高く、発光部の近傍が外光の反射を受けて、全体の表示品質が落ちてしまう場合がある。 Therefore, high reflectance, near the light emitting section receives the reflection of external light, there is a case where the entire display quality falls.

【0037】そこで、例えば図5、図6に示すように、 [0037] Therefore, for example, as shown in FIGS. 5 and 6,
ITO透明電極21と補助電極8とが一部重なるようにして積層するとよい。 The ITO transparent electrode 21 and the auxiliary electrode 8 may be stacked so as to overlap partially. この例では、図4に示すように補助電極8は、ITO透明電極21と一部重なって、これを取り囲むようにして形成されている。 In this example, the auxiliary electrode 8 as shown in Figure 4, partially overlapped with the ITO transparent electrode 21, are formed so as to surround it. この重なった部分は前記所定の領域gに相当するか、これより僅かに広い領域となっている。 It is this overlapped portion corresponds to the predetermined area g, and has a This slightly wider region. このようにすることにより、基板1側(表示側)から見たとき、ITO透明電極21が外光からの反射防止膜の役目を果たすため、表示品質が向上する。 By doing so, when viewed from the substrate 1 side (display side), ITO transparent electrode 21 is to fulfill the role of the anti-reflection film from external light, thereby improving the display quality. つまり、低抵抗化のために設けた補助電極から反射した外光9をそのすぐ下(表示面から見て上)のI That, I of the external light 9 reflected from the auxiliary electrodes provided for reducing the resistance of the immediately lower (upper as viewed from the display surface)
TO透明電極内で干渉させることにより、反射率を低減させ、表示品質を向上させている。 By interfering with the TO transparent electrodes reduces the reflectance, thereby improving the display quality. この積層構造により、外光9の反射が低下し、ある程度の表示品質が保てることとなる。 This layered structure, reflection of external light 9 decreases, so that the keep a certain amount of display quality. なお、この場合にはブラックマトリクス層を省略してもよい。 It is also possible to omit the black matrix layer is in this case.

【0038】なお、図6において、ITO透明電極21 [0038] Note that in FIG. 6, ITO transparent electrode 21
の周囲には、さらにパッシベイション層22が形成された後、有機層等が積層されて行く。 Around the, after further passivation layer 22 is formed, the organic layer or the like is gradually laminated. なお、この場合も、 It should be noted that, even in this case,
ITO透明電極21と補助電極8との間に耐食性の高い窒化チタン等のバリア層を設けることがある。 It may be a barrier layer, such as a high corrosion resistance titanium nitride between the ITO transparent electrode 21 and the auxiliary electrode 8. このような構造は、比較的密集した画素が並ぶドットマトリクスタイプのディスプレイ等に適している。 Such structure is suitable for dot matrix type display such as a relatively dense pixels are aligned.

【0039】補助電極層の材質としては、Al、Au等の金属、あるいはAlとSi、またはSc,Nb,Z [0039] As the material of the auxiliary electrode layer, Al, a metal such as Au or Al and Si, or Sc,, Nb, Z
r,Hf,Nd,Ta,Cu,Cr,Mo,Mn,N r, Hf, Nd, Ta, Cu, Cr, Mo, Mn, N
i,Pd,PtおよびW等の遷移元素との合金が挙げられるが、中でもAlおよびAl合金が好ましい。 i, Pd, there may be mentioned an alloy of transition elements such as Pt and W, among others Al and Al alloy are preferable. Al合金を用いる場合、Alと遷移元素の1種以上との合金が好ましく、その際Alは90at%以上、特に95at%以上であることが好ましい。 When using an Al alloy, alloy preferably with one or more Al and a transition element, where Al is 90 at% or more, and particularly preferably more than 95 at%.

【0040】補助電極層は、シート抵抗が1Ω/□以下、特に0.5Ω/□以下が好ましい。 The auxiliary electrode layer has a sheet resistance of 1 [Omega / □ or less, particularly 0.5 .OMEGA / □ or less. その下限は特に規制されるものではないが、通常0.1Ω/□程度である。 Its lower limit is not particularly restricted, it is usually 0.1 [Omega / □ extent.

【0041】補助電極層とITO透明電極(ホール注入電極)との積層部分を設けた非発光部の可視光域の光に対する反射率は80%以下、特に30%以下であることが好ましい。 [0041] 80% reflectance to light in the visible light region of the non-light emitting portion provided with a stacked portion of the auxiliary electrode layer and the ITO transparent electrode (hole injection electrode) or less, particularly preferably 30% or less.

【0042】補助電極層の膜厚は、特に制限されないが、好ましくは10〜2000nm、特に20〜1000 The thickness of the auxiliary electrode layer is not particularly limited, preferably 10 to 2000 nm, particularly 20 to 1000
nm、さらには100〜500nm程度が好ましい。 nm, and even more about 100~500nm is preferable.

【0043】このように、基板の有機EL構造体と反対の面に補助基板を設け、この補助基板の基板と対向する面にブラックマトリクス層を設けることにより、取り扱いが容易となり、極めて簡単な構成で表示品質を向上させることができる。 [0043] Thus, the auxiliary substrate to the surface opposite to the organic EL structure of the substrate is provided, by providing the black matrix layer on the substrate and the opposing surfaces of the auxiliary substrate, it is easy to handle and extremely simple structure in it is possible to improve the display quality.

【0044】なお、図6の例では、有機EL構造体2をITO透明電極21と、パッシベイション層22と、ホール注入輸送層23と、発光層24と、電子注入輸送層25と、電子注入電極26とを有する構造物として記載しているが、このような構造に限定されるものではなく、例えばホール注入輸送層22や電子注入輸送層24 [0044] In the example of FIG. 6, the organic EL structure 2 and the ITO transparent electrode 21, a passivation layer 22, a hole injection transport layer 23, a light-emitting layer 24, an electron injection transport layer 25, an electron has been described as a structure having an injection electrode 26, is not limited to such a structure, for example hole injection transport layer 22 and electron injection transport layer 24
等を省略してもよいし、発光層との混合層等としてもよい。 It may be omitted or the like may be mixed layer such as the light-emitting layer. 図において、封止板等は省略している。 In the figure, the sealing plate or the like is omitted. また、その他の構成は図1〜3と同様である。 Further, other configuration is the same as FIGS.

【0045】本発明の有機EL素子は、ホール注入電極と補助電極との間に、窒化チタン(TiN)等のバリア層を設けてもよい。 The organic EL device of the present invention, between a hole injection electrode and the auxiliary electrode may be provided a barrier layer such as titanium nitride (TiN). バリア層としては、補助電極のエッチャントに対し、十分な耐エッチング性を有することが好ましく、クロム、窒化チタン、窒化モリブデン、窒化タンタル、窒化クロム等の窒化物、コバルトシリサイド、クロムシリサイド、モリブデンシリサイド、タングステンシリサイド、チタンシリサイド等のシリサイド化合物、チタンカーバイド、ドープト炭化シリコン等を好ましく挙げることができる。 As the barrier layer with respect to the etchant of the auxiliary electrode preferably has a sufficient etching resistance, chromium, titanium nitride, molybdenum nitride, tantalum nitride, nitrides such as chromium nitride, cobalt silicide, chromium silicide, molybdenum silicide, tungsten silicide, silicide compound such as titanium silicide, titanium carbide, can be preferably exemplified a doped silicon carbide or the like. これらの中でも、窒化チタン、クロムが耐腐食性が高く、好ましい。 Among these, titanium nitride, chromium has high corrosion resistance, preferably. 窒化チタンの窒化率は5〜55%でよい。 Nitride of the titanium nitride may 5 to 55%.

【0046】また、バリア層の膜厚は、5〜200nm、 [0046] In addition, the barrier layer thickness, 5~200nm,
特に30〜100nmが好ましい。 Especially 30~100nm is preferable.

【0047】次に、本発明の有機ELディスプレイを構成する有機EL構造体について説明する。 Next, a description will be given of the organic EL structure of the organic EL display of the present invention.

【0048】ホール注入電極は、通常基板側から発光した光を取り出す構成であるため、透明ないし半透明な電極が好ましい。 The hole injecting electrode are the configuration in which emitted light is taken out of the normal substrate, transparent or translucent electrode is preferable. 透明電極としては、ITO(錫ドープ酸化インジウム)、IZO(亜鉛ドープ酸化インジウム)、ZnO、SnO 2 、In 23等が挙げられるが、好ましくはITO(錫ドープ酸化インジウム)、I The transparent electrode, ITO (tin-doped indium oxide), IZO (zinc-doped indium oxide), ZnO, but like SnO 2, In 2 O 3 and the like, preferably ITO (tin-doped indium oxide), I
ZO(亜鉛ドープ酸化インジウム)が好ましい。 ZO (zinc-doped indium oxide) are preferred. ITO ITO
は、通常In 23とSnOとを化学量論組成で含有するが、O量は多少これから偏倚していてもよい。 Is generally contains In 2 O 3 and SnO in stoichiometric composition, O amount may deviate somewhat therefrom.

【0049】ホール注入電極は、発光波長帯域、通常3 The hole injecting electrode, an emission wavelength band, typically 3
50〜800nm、特に各発光光に対する光透過率が80 50 to 800 nm, the light transmittance is particularly for the emitted light 80
%以上、特に90%以上であることが好ましい。 % Or more, and particularly preferably 90% or more. 発光光はホール注入電極を通って取り出されるため、その透過率が低くなると、発光層からの発光自体が減衰され、発光素子として必要な輝度が得られなくなる傾向がある。 Since the light-emitting light is taken out through the hole injecting electrode, the transmittance thereof is lowered, the light emission itself is attenuated from the light-emitting layer tends to be not obtained the required brightness as the light-emitting element.
ただし、一方のみから発光光を取り出すときには、取り出し側と反対側の発光光に対し80%以上であればよい。 However, when the only one emitted light only has to be 80% or more with respect to the opposite side of the light-emitting light take-out side. 両側から取り出すときには、各発光光に対し80% When taken out from the both sides, 80% for each emitted light
以上であればよい。 And it may be greater than or equal to.

【0050】ホール注入電極の厚さは、ホール注入を十分行える一定以上の厚さを有すれば良く、好ましくは1 [0050] The thickness of the hole injecting electrode may if it has a certain level of thickness that enables sufficient hole injection, preferably 1
0〜500nm、さらには30〜300nmの範囲が好ましい。 0 to 500 nm, further a range of 30~300nm is preferred. また、その上限は特に制限はないが、あまり厚いと剥離、加工性の悪化、応力による障害、光透過性の低下や、表面の粗さによるリーク等の問題が生じてくる。 Further, the upper limit is not particularly limited, too thick, peeling, deterioration of workability, disorders caused by stress, and decrease in optical transparency, problems such as leakage is arise due surface roughness. 逆に厚さが薄すぎると、製造時の膜強度やホール輸送能力、抵抗値の点で問題がある。 Conversely, if the thickness is too thin, manufacturing time of film strength or a hole transport capability, there is a problem in terms of resistance.

【0051】このホール注入電極層は蒸着法等によっても形成できるが、好ましくはスパッタ法により形成することが好ましい。 [0051] Although this hole injecting electrode layer may formed by an evaporation method, or the like, it preferably formed by sputtering.

【0052】電子注入電極としては、低仕事関数の物質が好ましく、例えば、K、Li、Na、Mg、La、C [0052] As the electron injecting electrode is preferably material of a low work function, e.g., K, Li, Na, Mg, La, C
e、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Z e, Ca, Sr, Ba, Al, Ag, In, Sn, Z
n、Zr等の金属元素単体、または安定性を向上させるためにそれらを含む2成分、3成分の合金系を用いることが好ましい。 n, a single metal element such as Zr or stability 2 component comprising them in order to improve, it is preferable to use an alloy system of the three components. 合金系としては、例えばAg・Mg(A As an alloy-based, for example, Ag · Mg (A
g:0.1〜50at%)、Al・Li(Li:0.01 g: 0.1~50at%), Al · Li (Li: 0.01
〜12at%)、In・Mg(Mg:50〜80at%)、 ~12at%), In · Mg (Mg: 50~80at%),
Al・Ca(Ca:0.01〜20at%)等が挙げられる。 Al · Ca (Ca: 0.01~20at%), and the like. なお、電子注入電極は蒸着法やスパッタ法でも形成することが可能である。 The electron injecting electrode may be also formed by vapor deposition or sputtering.

【0053】電子注入電極薄膜の厚さは、電子注入を十分行える一定以上の厚さとすれば良く、0.5nm以上、 [0053] The thickness of the electron injection electrode thin film may be a certain level of thickness that enables sufficient electron injection, 0.5 nm or more,
好ましくは1nm以上とすればよい。 And preferably at least 1 nm. また、その上限値には特に制限はないが、通常膜厚は1〜500nm程度とすればよい。 No particular limitation is imposed on the upper limit, usually the film thickness may be about 1 to 500 nm. 電子注入電極の上には、さらに保護電極を設けてもよい。 On the electron injecting electrode may be further provided a protective electrode.

【0054】保護電極の厚さは、電子注入効率を確保し、水分や酸素あるいは有機溶媒の進入を防止するため、一定以上の厚さとすればよく、好ましくは50nm以上、さらには100nm以上、特に100〜1000nmの範囲が好ましい。 [0054] The thickness of the protective electrode is to ensure electron injection efficiency and prevent entrance of moisture, oxygen or organic solvents may be above a certain level of thickness, preferably 50nm or more, further 100nm or more, in particular range of 100~1000nm is preferred. 保護電極層が薄すぎると、その効果が得られず、また、保護電極層の段差被覆性が低くなってしまい、端子電極との接続が十分ではなくなる。 When the protective electrode layer is too thin, its effect can not be obtained, also to cover steps becomes low resistance of the protective electrode layer, the connection to the terminal electrode is not sufficient. 一方、 on the other hand
保護電極層が厚すぎると、保護電極層の応力が大きくなるため、ダークスポットの成長速度が速くなってしまう。 When the protective electrode layer is excessively thick, the stress of the protective electrode layer is large, the growth rate of dark spots becomes faster.

【0055】電子注入電極と保護電極とを併せた全体の厚さとしては、特に制限はないが、通常100〜100 [0055] As the whole of the combination of the electron injection electrode and protective electrode thickness is not particularly limited, usually 100 to 100
0nm程度とすればよい。 It may be about 0nm.

【0056】電極成膜後に、前記保護電極に加えて、S [0056] After the electrode film formation, in addition to the protective electrode, S
iO X等の無機材料、テフロン、塩素を含むフッ化炭素重合体等の有機材料等を用いた保護膜を形成してもよい。 inorganic materials iO X such as Teflon, a protective film may be formed using an organic material such as fluorocarbon polymers containing chlorine. 保護膜は透明でも不透明であってもよく、保護膜の厚さは50〜1200nm程度とする。 Protective film may be transparent or opaque, the thickness of the protective layer is about 50 to 1,200 nm. 保護膜は、前記の反応性スパッタ法の他に、一般的なスパッタ法、蒸着法、PECVD法等により形成すればよい。 Protective film, in addition to the reactive sputtering, a general sputtering method, an evaporation method, may be formed by a PECVD method or the like.

【0057】さらに、素子の有機層や電極の酸化を防ぐために、素子上に封止層を形成することが好ましい。 [0057] Further, in order to prevent oxidation of the organic layers and electrodes of the element, it is preferable to form a sealing layer on the device. 封止層は、湿気の侵入を防ぐために、接着性樹脂層を用いて、封止板を接着し密封する。 Sealing layer to prevent moisture penetration, using an adhesive resin layer, to adhere the sealing plate sealing. 封止ガスは、Ar、H Sealing gas, Ar, H
e、N 2等の不活性ガス等が好ましい。 e, an inert gas such as N 2 is preferable. また、この封止ガスの水分含有量は、100ppm 以下、より好ましくは10ppm 以下、特には1ppm 以下であることが好ましい。 The water content of the sealing gas, 100 ppm or less, more preferably 10ppm or less, and particularly preferably at 1ppm or less. この水分含有量に下限値は特にないが、通常0.1 The lower limit is not particularly this water content is generally 0.1
ppm 程度である。 It is on the order of ppm.

【0058】封止板の材料としては、好ましくは平板状であって、ガラスや石英、樹脂等の透明ないし半透明材料が挙げられるが、特にガラスが好ましい。 [0058] As the material of the sealing plate, preferably a plate-like, glass, quartz, of transparent or translucent material such as resins, particularly glass is preferred. このようなガラス材として、コストの面からアルカリガラスが好ましいが、この他、ソーダ石灰ガラス、鉛アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、シリカガラス等のガラス組成のものも好ましい。 As such glass material, although alkali glass in terms of cost is preferred, In addition, soda-lime glass, lead alkali glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, also preferred glass composition of the silica glass. 特に、ソーダガラスで、表面処理の無いガラス材が安価に使用でき、 In particular, soda glass, glass material can be used at low cost without surface treatment,
好ましい。 preferable. 封止板としては、ガラス板以外にも、金属板、プラスチック板等を用いることもできる。 The sealing plate, in addition to a glass plate, a metal plate, it is also possible to use a plastic plate or the like.

【0059】封止板は、スペーサーを用いて高さを調整し、所望の高さに保持してもよい。 [0059] sealing plate, using a spacer for height adjustment, may be held at a desired height. スペーサーの材料としては、樹脂ビーズ、シリカビーズ、ガラスビーズ、ガラスファイバー等が挙げられ、特にガラスビーズ等が好ましい。 The spacer material may be resin beads, silica beads, glass beads, glass fibers and the like, particularly glass beads are preferable. スペーサーは、通常、粒径の揃った粒状物であるが、その形状は特に限定されるものではなく、スペーサーとしての機能に支障のないものであれば種々の形状であってもよい。 The spacer is usually a uniform granulate particle diameters, the shape is not limited in particular, it may be of various shapes as long as not interfering with the function as a spacer. その大きさとしては、円換算の直径が1〜20μm 、より好ましくは1〜10μm 、特に2〜 As the size of the diameter of the equivalent circle is 1 to 20 [mu] m, more preferably 1 to 10 [mu] m, in particular 2 to
8μm が好ましい。 8μm is preferable. このような直径のものは、粒長10 Those of such a diameter, grain length 10
0μm 以下程度であることが好ましく、その下限は特に規制されるものではないが、通常1μm程度である。 Preferably 0μm a degree or less, although the lower limit not particularly restricted, it is usually about 1 [mu] m.

【0060】なお、封止板に凹部を形成した場合には、 [0060] Incidentally, in the case of forming a recess in the sealing plate,
スペーサーは使用しても、使用しなくてもよい。 Spacer be used, may not be used. 使用する場合の好ましい大きさとしては、前記範囲でよいが、 Preferred size when used, may but said range,
特に2〜8μm の範囲が好ましい。 In particular in the range of 2~8μm it is preferred.

【0061】スペーサーは、予め封止用接着剤中に混入されていても、接着時に混入してもよい。 [0061] spacer be incorporated in advance encapsulation adhesive may be mixed at the time of bonding. 封止用接着剤中におけるスペーサーの含有量は、好ましくは0.01 The content of the spacer in the sealing adhesive is preferably 0.01
〜30wt%、より好ましくは0.1〜5wt%である。 30 wt%, more preferably 0.1-5 wt%.

【0062】接着剤としては、安定した接着強度が保て、気密性が良好なものであれば特に限定されるものではないが、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を用いることが好ましい。 [0062] As adhesives, maintain stable bond strength, but is not limited particularly as long as good airtightness, it is preferable to use a cation curing type ultraviolet curing epoxy resin adhesive .

【0063】次に、有機EL素子に設けられる有機物層について述べる。 Next, described organic layer provided on the organic EL element.

【0064】発光層は、ホール(正孔)および電子の注入機能、それらの輸送機能、ホールと電子の再結合により励起子を生成させる機能を有する。 [0064] emitting layer has holes and electrons in the injection function, a function of their transport function, to create excitons recombining holes and electrons. 発光層には、比較的電子的にニュートラルな化合物を用いることで、電子とホールを容易かつバランス良く注入・輸送することができる。 The light-emitting layer, relatively electronically by using a neutral compounds can be injected and transported easily and with good balance electrons and holes.

【0065】ホール注入輸送層は、ホール注入電極からのホールの注入を容易にする機能、ホールを安定に輸送する機能および電子を妨げる機能を有するものであり、 [0065] hole injecting and transporting layer has functions of facilitating injection of holes from the hole injecting electrode, those having a function of preventing function and the electron transporting them stably Hall,
電子注入輸送層は、電子注入電極からの電子の注入を容易にする機能、電子を安定に輸送する機能およびホールを妨げる機能を有するものである。 Electron injecting and transporting layer has functions of facilitating injection of electrons from the electron injecting electrode has a function to stably transport electrons and function blocking holes. これらの層は、発光層に注入されるホールや電子を増大・閉じこめさせ、再結合領域を最適化させ、発光効率を改善する。 These layers are effective for increasing the holes and electrons injected into the light emitting layer and confining therein for optimizing the recombination region to improve light emission efficiency.

【0066】発光層の厚さ、ホール注入輸送層の厚さおよび電子注入輸送層の厚さは、特に制限されるものではなく、形成方法によっても異なるが、通常5〜500nm [0066] thickness of the light emitting layer, the thickness of the thickness and the electron injecting and transporting layer of the hole injecting and transporting layer is not particularly limited, varies depending on forming method, usually 5~500nm
程度、特に10〜300nmとすることが好ましい。 Extent, it is preferable that the particular 10 to 300 nm.

【0067】ホール注入輸送層の厚さおよび電子注入輸送層の厚さは、再結合・発光領域の設計によるが、発光層の厚さと同程度または1/10〜10倍程度とすればよい。 [0067] The thickness of the thickness of the hole injecting and transporting layer and the electron injecting and transporting layer, depending on the recombination-emission region of the design may be the same degree as the thickness of the light-emitting layer or a 1 / 10-10 times. ホールまたは電子の各々の注入層と輸送層とを分ける場合は、注入層は1nm以上、輸送層は1nm以上とするのが好ましい。 If separating the the injection layer of each of the hole or electron transport layer, injection layer is 1nm or more and the transporting layer is preferably not less than 1nm. このときの注入層、輸送層の厚さの上限は、通常、注入層で500nm程度、輸送層で500nm Injection layer of this time, the upper limit of the thickness of the transport layer is generally, 500 nm approximately at injection layer, 500 nm in transport layer
程度である。 It is the degree. このような膜厚については、注入輸送層を2層設けるときも同じである。 For such a film thickness, it is also the same when providing two injecting and transporting layers.

【0068】有機EL素子の発光層には、発光機能を有する化合物である蛍光性物質を含有させる。 [0068] The light emitting layer of the organic EL element, contains a fluorescent material that is a compound capable of emitting light. このような蛍光性物質としては、例えば、特開昭63−26469 Examples of such a fluorescent substance, for example, JP 63-26469
2号公報に開示されているような化合物、例えばキナクリドン、ルブレン、スチリル系色素等の化合物から選択される少なくとも1種が挙げられる。 Compounds as disclosed in 2 JP, for example quinacridone, rubrene, at least one can be cited are selected from compounds such as styryl dyes. また、トリス(8 In addition, tris (8
−キノリノラト)アルミニウム等の8−キノリノールまたはその誘導体を配位子とする金属錯体色素などのキノリン誘導体、テトラフェニルブタジエン、アントラセン、ペリレン、コロネン、12−フタロペリノン誘導体等が挙げられる。 - quinolinolato) quinoline derivatives of 8-quinolinol or a derivative thereof, such as aluminum and metal complex dyes as ligands, tetraphenyl butadiene, anthracene, perylene, coronene, and 12-phthaloperinone derivatives. さらには、特願平6−110569号のフェニルアントラセン誘導体、特願平6−11445 Furthermore, phenyl anthracene derivative of Japanese Patent Application No. Hei 6-110569, Hei 6-11445
6号のテトラアリールエテン誘導体等を用いることができる。 Tetraarylethene derivatives of No. 6 can be used.

【0069】また、それ自体で発光が可能なホスト物質と組み合わせて使用することが好ましく、ドーパントとしての使用が好ましい。 [0069] Further, it is preferable to use in combination with light emission by itself, that can host material, used as a dopant is preferable. このような場合の発光層における化合物の含有量は0.01〜20wt% 、さらには0. Content 0.01 to 20% of the compound in the light emitting layer in such a case, further 0.
1〜15wt% であることが好ましい。 It is preferable that the 1~15wt%. ホスト物質と組み合わせて使用することによって、ホスト物質の発光波長特性を変化させることができ、長波長に移行した発光が可能になるとともに、素子の発光効率や安定性が向上する。 By using in combination with the host material, it is possible to change the light emission wavelength of the host material, allowing light emission to be shifted to a longer wavelength and improving the luminous efficiency and stability of the device.

【0070】ホスト物質としては、キノリノラト錯体が好ましく、さらには8−キノリノールまたはその誘導体を配位子とするアルミニウム錯体が好ましい。 [0070] As the host material, preferably quinolinolato complexes, and aluminum complexes containing a ligand of 8-quinolinol or a derivative thereof. このようなアルミニウム錯体としては、特開昭63−26469 Such aluminum complexes, JP 63-26469
2号、特開平3−255190号、特開平5−7073 No. 2, JP-A-3-255190, JP-A 5-7073
3号、特開平5−258859号、特開平6−2158 No. 3, JP-A-5-258859, JP-A 6-2158
74号等に開示されているものを挙げることができる。 It may be mentioned those disclosed in 74 No. like.

【0071】具体的には、まず、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム、ビス(8−キノリノラト)マグネシウム、ビス(ベンゾ{f}−8−キノリノラト)亜鉛、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウムオキシド、トリス(8−キノリノラト)インジウム、 [0071] Specifically, first, tris (8-quinolinolato) aluminum, bis (8-quinolinolato) magnesium, bis (benzo {f} -8-quinolinolato) zinc, bis (2-methyl-8-quinolinolato) aluminum oxide, tris (8-quinolinolato) indium,
トリス(5−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム、8−キノリノラトリチウム、トリス(5−クロロ− Tris (5-methyl-8-quinolinolato) aluminum, 8-quinolinolato tritium, tris (5-chloro -
8−キノリノラト)ガリウム、ビス(5−クロロ−8− 8-quinolinolato) gallium, bis (5-chloro-8
キノリノラト)カルシウム、5,7−ジクロル−8−キノリノラトアルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ− Quinolinolato) calcium, 5,7-dichloro-8-quinolinolato aluminum, tris (5,7-dibromo -
8−ヒドロキシキノリノラト)アルミニウム、ポリ[亜鉛(II)−ビス(8−ヒドロキシ−5−キノリニル)メタン]等がある。 8-hydroxy-quinolinolato) aluminum, poly [zinc (II) - bis (8-hydroxy-5-quinolinyl) methane], and the like.

【0072】また、8−キノリノールまたはその誘導体のほかに他の配位子を有するアルミニウム錯体であってもよく、このようなものとしては、ビス(2−メチル− [0072] Further, it may be an aluminum complex having other ligands in addition to 8-quinolinol or its derivatives, as such may, bis (2-methyl -
8−キノリノラト)(フェノラト)アルミニウム(III) 8-quinolinolato) (phenolato) aluminum (III)
、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(オルト− , Bis (2-methyl-8-quinolinolato) (ortho -
クレゾラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル− Kurezorato) aluminum (III), bis (2-methyl -
8−キノリノラト)(メタークレゾラト)アルミニウム 8-quinolinolato) (Metakurezorato) aluminum
(III) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(パラ−クレゾラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(オルト−フェニルフェノラト) (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (para - Kurezorato) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (ortho - phenylphenolato)
アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(メタ−フェニルフェノラト)アルミニウム(II Aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (meta - phenylphenolato) aluminum (II
I) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(パラ− I), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (para -
フェニルフェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2− Phenylphenolato) aluminum (III), bis (2-
メチル−8−キノリノラト)(2,3−ジメチルフェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(2,6−ジメチルフェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト) Methyl-8-quinolinolato) (2,3-dimethyl phenol Ratn) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2,6-dimethyl phenol Ratn) aluminum (III), bis (2-methyl - 8-quinolinolato)
(3,4−ジメチルフェノラト)アルミニウム(III) 、 (3,4-dimethyl phenol Ratn) aluminum (III),
ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(3,5−ジメチルフェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(3,5−ジ−tert−ブチルフェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−8 Bis (2-methyl-8-quinolinolato) (3,5-dimethyl phenol Ratn) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (3,5-di -tert- butyl phenolate Ratn) aluminum (III ), bis (2-methyl-8
−キノリノラト)(2,6−ジフェニルフェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(2,4,6−トリフェニルフェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト) - quinolinolato) (2,6-diphenyl-phenol Ratn) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2,4,6-phenylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl - 8-quinolinolato)
(2,3,6−トリメチルフェノラト)アルミニウム(I (2,3,6-trimethyl phenol Ratn) aluminum (I
II) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(2, II), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2,
3,5,6−テトラメチルフェノラト)アルミニウム(I 3,5,6-tetramethyl-phenolate Ratn) aluminum (I
II) 、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(1−ナフトラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−8 II), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (1-Nafutorato) aluminum (III), bis (2-methyl-8
−キノリノラト)(2−ナフトラト)アルミニウム(II - quinolinolato) (2-Nafutorato) aluminum (II
I) 、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラト) I), bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato)
(オルト−フェニルフェノラト)アルミニウム(III) 、 (Ortho - phenylphenolato) aluminum (III),
ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラト)(パラ− Bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) (para -
フェニルフェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2, Phenylphenolato) aluminum (III), bis (2,
4−ジメチル−8−キノリノラト)(メタ−フェニルフェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラト)(3,5−ジメチルフェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2,4−ジメチル−8 4-dimethyl-8-quinolinolato) (meta - phenylphenolato) aluminum (III), bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) (3,5-dimethyl phenol Ratn) aluminum (III), bis (2, 4- dimethyl -8
−キノリノラト)(3,5−ジ−tert−ブチルフェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−4−エチル−8−キノリノラト)(パラ−クレゾラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−4−メトキシ−8−キノリノラト)(パラ−フェニルフェノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−5−シアノ−8−キノリノラト)(オルト−クレゾラト)アルミニウム(III) 、 - quinolinolato) (3,5-di -tert- butyl phenolate Ratn) aluminum (III), bis (2-methyl-4-ethyl-8-quinolinolato) (para - Kurezorato) aluminum (III), bis (2-methyl -4-methoxy-8-quinolinolato) (para - phenylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-5-cyano-8-quinolinolato) (ortho - Kurezorato) aluminum (III),
ビス(2−メチル−6−トリフルオロメチル−8−キノリノラト)(2−ナフトラト)アルミニウム(III) 等がある。 Bis (2-methyl-6-trifluoromethyl-8-quinolinolato) (2-Nafutorato) is aluminum (III) and the like.

【0073】このほか、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III) −μ−オキソ−ビス(2− [0073] In addition, bis (2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III)-.mu.-oxo - bis (2-
メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラト)アルミニウム Methyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) aluminum
(III) −μ−オキソ−ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III) 、ビス(4−エチル− (III)-.mu.-oxo - bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (4-ethyl -
2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III) − 2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III) -
μ−オキソ−ビス(4−エチル−2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−4 μ- oxo - bis (4-ethyl-2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (2-methyl-4
−メトキシキノリノラト)アルミニウム(III) −μ−オキソ−ビス(2−メチル−4−メトキシキノリノラト) - methoxy quinolinolato) aluminum (III)-.mu.-oxo - bis (2-methyl-4-methoxy-quinolinolato)
アルミニウム(III) 、ビス(5−シアノ−2−メチル− Aluminum (III), bis (5-cyano-2-methyl -
8−キノリノラト)アルミニウム(III) −μ−オキソ− 8-quinolinolato) aluminum (III)-.mu.-oxo -
ビス(5−シアノ−2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III) 、ビス(2−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III) −μ Bis (5-cyano-2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (8-2-methyl-5-trifluoromethyl-quinolinolato) aluminum (III) - [mu]
−オキソ−ビス(2−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III) 等であってもよい。 - oxo - bis (8-2-methyl-5-trifluoromethyl-quinolinolato) may be an aluminum (III) and the like.

【0074】このほかのホスト物質としては、特願平6 [0074] As the other host materials, Japanese Patent Application No. 6
−110569号に記載のフェニルアントラセン誘導体や特願平6−114456号に記載のテトラアリールエテン誘導体なども好ましい。 Preferred such tetraarylethene derivatives described phenyl anthracene derivative and Japanese Patent Application No. 6-114456 described in JP -110569.

【0075】発光層は電子注入輸送層を兼ねたものであってもよく、このような場合はトリス(8−キノリノラト)アルミニウム等を使用することが好ましい。 [0075] The light-emitting layer may also serve as an electron injecting and transporting layer, it is preferable this case to use tris (8-quinolinolato) aluminum or the like. これらの蛍光性物質を蒸着すればよい。 These fluorescent materials may be evaporated.

【0076】また、発光層は、必要に応じて、少なくとも1種のホール注入輸送性化合物と少なくとも1種の電子注入輸送性化合物との混合層とすることも好ましく、 [0076] The light-emitting layer, if necessary, it is also preferable to mix layers of at least one hole injecting and transporting compound and at least one electron injecting and transporting compound,
さらにはこの混合層中にドーパントを含有させることが好ましい。 Further it is preferable to incorporate a dopant into the mixed layer. このような混合層における化合物の含有量は、0.01〜20wt% 、さらには0.1〜15wt% とすることが好ましい。 The content of the dopant compound in the mixed layer, 0.01 to 20%, more preferably in a 0.1 to 15%.

【0077】混合層では、キャリアのホッピング伝導パスができるため、各キャリアは極性的に有利な物質中を移動し、逆の極性のキャリア注入は起こりにくくなるため、有機化合物がダメージを受けにくくなり、素子寿命がのびるという利点がある。 [0077] In the mixed layer with a hopping conduction path available for carriers, each carrier migrates in the polar favorable materials, it becomes difficult to occur carrier injection of a reverse polarity, the organic compound becomes less susceptible to damage , there is an advantage that extend the device life. また、前述のドーパントをこのような混合層に含有させることにより、混合層自体のもつ発光波長特性を変化させることができ、発光波長を長波長に移行させることができるとともに、発光強度を高め、素子の安定性を向上させることもできる。 In addition, by incorporating into such a mixed layer of the aforementioned dopant, it is possible to change the emission wavelength the mix layer itself possesses, with the emission wavelength can be shifted to a longer wavelength, increasing the luminous intensity, it is also possible to improve the stability of the device.

【0078】混合層に用いられるホール注入輸送性化合物および電子注入輸送性化合物は、各々、後述のホール注入輸送層用の化合物および電子注入輸送層用の化合物の中から選択すればよい。 [0078] hole injecting and transporting compound used in the mixed layer and the electron injecting and transporting compound, respectively, may be selected from compounds and compounds for the electron injection transport layer for the hole injecting and transporting layer to be described later. なかでも、ホール注入輸送層用の化合物としては、強い蛍光を持ったアミン誘導体、 Among them, as the compounds for the injection and transportation of holes, amine derivatives having strong fluorescence,
例えばホール輸送材料であるトリフェニルジアミン誘導体、さらにはスチリルアミン誘導体、芳香族縮合環を持つアミン誘導体を用いるのが好ましい。 Triphenyl diamine derivative such as hole transport material, further styrylamine derivative is preferable to use amine derivatives having an aromatic fused ring.

【0079】電子注入輸送性の化合物としては、キノリン誘導体、さらには8−キノリノールないしその誘導体を配位子とする金属錯体、特にトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq 3 )を用いることが好ましい。 [0079] As the compounds capable of injecting and transporting electrons include quinoline derivatives, more metal complexes having a ligand of 8-quinolinol or a derivative thereof, it is particularly preferable to use tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq 3). また、上記のフェニルアントラセン誘導体、テトラアリールエテン誘導体を用いるのも好ましい。 The aforementioned phenylanthracene derivatives, also to use a tetraarylethene derivatives.

【0080】ホール注入輸送層用の化合物としては、強い蛍光を持ったアミン誘導体、例えば上記のホール輸送材料であるトリフェニルジアミン誘導体、さらにはスチリルアミン誘導体、芳香族縮合環を持つアミン誘導体を用いるのが好ましい。 [0080] As compounds for the injection and transportation of holes is used amine derivatives having strong fluorescence, for example triphenyl diamine derivative which is above hole transport material, further styrylamine derivatives, and amine derivatives having an aromatic fused ring preference is.

【0081】この場合の混合比は、それぞれのキャリア移動度とキャリア濃度によるが、一般的には、ホール注入輸送性化合物の化合物/電子注入輸送機能を有する化合物の重量比が、1/99〜99/1、さらに好ましくは10/90〜90/10、特に好ましくは20/80 [0081] The mixing ratio in this case will depend on the respective carrier mobility and carrier concentration, in general, the weight ratio of the compound having the compound / electron injection transport function of the hole injecting and transporting compound is 1/99 to 99/1, more preferably 10 / 90-90 / 10, particularly preferably 20/80
〜80/20程度となるようにすることが好ましい。 It is preferable to be about 80/20.

【0082】また、混合層の厚さは、分子層一層に相当する厚み以上で、有機化合物層の膜厚未満とすることが好ましい。 [0082] The thickness of the mixed layer above thickness corresponding to more molecular layers, is preferably less than the thickness of the organic compound layer. 具体的には1〜85nmとすることが好ましく、さらには5〜60nm、特には5〜50nmとすることが好ましい。 Preferably to 1~85nm Specifically, further 5 to 60 nm, particularly it is preferable that the 5 to 50 nm.

【0083】また、混合層の形成方法としては、異なる蒸着源より蒸発させる共蒸着が好ましいが、蒸気圧(蒸発温度)が同程度あるいは非常に近い場合には、予め同じ蒸着ボード内で混合させておき、蒸着することもできる。 [0083] Further, the mixed layer is formed by co-evaporation where the selected compounds are evaporated from different evaporation sources. If the vapor pressure (evaporation temperature) is approximately equal or very close, are mixed in advance in the same evaporation boat leave, it can also be deposited. 混合層は化合物同士が均一に混合している方が好ましいが、場合によっては、化合物が島状に存在するものであってもよい。 Mixed layer is preferably Write compounds are uniformly mixed together, in some cases, may be one compound is present in an island shape. 発光層は、一般的には、有機蛍光物質を蒸着するか、あるいは、樹脂バインダー中に分散させてコーティングすることにより、発光層を所定の厚さに形成する。 Emitting layer is generally either evaporating an organic fluorescent material or by coating a dispersion thereof in a resin binder, forming the light emitting layer to a predetermined thickness.

【0084】ホール注入輸送層には、例えば、特開昭6 [0084] The hole injecting and transporting layer, for example, JP 6
3−295695号公報、特開平2−191694号公報、特開平3−792号公報、特開平5−234681 3-295695, JP-A No. 2-191694, JP-A No. 3-792, JP-A No. 5-234681
号公報、特開平5−239455号公報、特開平5−2 JP, Hei 5-239455, JP-A No. 5-2
99174号公報、特開平7−126225号公報、特開平7−126226号公報、特開平8−100172 99174, JP-A No. 7-126225, JP-A No. 7-126226, JP-A No. 8-100172
号公報、EP0650955A1等に記載されている各種有機化合物を用いることができる。 JP, can be used various organic compounds described in EP0650955A1, and the like. 例えば、テトラアリールベンジシン化合物(トリアリールジアミンないしトリフェニルジアミン:TPD)、芳香族三級アミン、 Examples are tetraarylbenzidine compounds (triaryldiamine or triphenyl-diamine: TPD), aromatic tertiary amine,
ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、アミノ基を有するオキサジアゾール誘導体、ポリチオフェン等である。 Hydrazone derivatives, carbazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, oxadiazole derivatives having an amino group, and polythiophenes. これらの化合物は、1種のみを用いても、2種以上を併用してもよい。 These compounds may be used alone or in combination of two or more thereof. 2種以上を併用するときは、別層にして積層したり、混合したりすればよい。 When used in combination of two or more kinds, or stacked as separate layers, it may be or mixed.

【0085】ホール注入輸送層をホール注入層とホール輸送層とに分けて設層する場合は、ホール注入輸送層用の化合物のなかから好ましい組合せを選択して用いることができる。 [0085] When the hole injecting and transporting layer double-layered structure divided into a hole injecting layer and the hole transport layer may be selected and used in a proper combination from the compounds for the injection and transportation of holes. このとき、ホール注入電極(ITO等)側からイオン化ポテンシャルの小さい化合物の順に積層することが好ましい。 In this case, it is preferable to laminate the hole injecting electrode (ITO, etc.) side in the order of a compound having a lower ionization potential. また、ホール注入電極表面には薄膜性の良好な化合物を用いることが好ましい。 Further, the hole injecting electrode surface it is preferable to use a compound having good thin film forming ability. このような積層順については、ホール注入輸送層を2層以上設けるときも同様である。 This order of lamination holds for the provision of the hole injecting and transporting layers. このような積層順とすることによって、駆動電圧が低下し、電流リークの発生やダークスポットの発生・成長を防ぐことができる。 With such a stacking order, a driving voltage is reduced, it is possible to prevent the development and growth of dark spots of the current leakage. また、素子化する場合、蒸着を用いているので1〜10nm程度の薄い膜も均一かつピンホールフリーとすることができるため、 Also, when a device is produced, it is possible to thin films of about 1~10nm also a uniform and pinhole-free because of the use of vapor deposition,
ホール注入層にイオン化ポテンシャルが小さく、可視部に吸収をもつような化合物を用いても、発光色の色調変化や再吸収による効率の低下を防ぐことができる。 Low ionization potential in the hole injection layer, be a compound such as having an absorption in the visible part, it is possible to prevent a decrease in efficiency due tone change and re-absorption of emission color. ホール注入輸送層は、発光層等と同様に上記の化合物を蒸着することにより形成することができる。 Hole injection transport layer can be formed by depositing the above compound in the same way as the light emitting layer or the like.

【0086】電子注入輸送層には、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq 3 )等の8−キノリノールまたはその誘導体を配位子とする有機金属錯体などのキノリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオレン誘導体等を用いることができる。 [0086] For the electron injecting and transporting layer, tris (8-quinolinolato) aluminum quinoline derivatives such as organic metal complexes of 8-quinolinol or a derivative thereof (Alq 3) or the like as a ligand, oxadiazole derivatives, perylene derivatives , pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, quinoxaline derivatives, diphenylquinone derivatives, can be used nitro-substituted fluorene derivatives. 電子注入輸送層は発光層を兼ねたものであってもよく、このような場合はトリス(8−キノリノラト)アルミニウム等を使用することが好ましい。 Electron injecting and transporting layer may also serve as a light emitting layer, in such a case it is preferable to use tris (8-quinolinolato) aluminum or the like. 電子注入輸送層の形成は、発光層と同様に、蒸着等によればよい。 Forming the electron injection transport layer, like the light-emitting layer may according to the vapor deposition or the like.

【0087】電子注入輸送層を電子注入層と電子輸送層とに分けて積層する場合には、電子注入輸送層用の化合物の中から好ましい組み合わせを選択して用いることができる。 [0087] When the electron injecting and transporting layer is formed separately as an electron injecting layer and the electron transport layer may be selected and used in a proper combination from the compounds for the electron injection transport layer. このとき、電子注入電極側から電子親和力の値の大きい化合物の順に積層することが好ましい。 In this case, it is preferable to laminate an electron injection electrode side in the order of a compound having a greater electron affinity. このような積層順については、電子注入輸送層を2層以上設けるときも同様である。 This order of lamination also applies where a plurality of electron injecting and transporting layers.

【0088】ホール注入輸送層、発光層および電子注入輸送層の形成には、均質な薄膜が形成できることから、 [0088] hole injecting and transporting layer, since the formation of the light-emitting layer and the electron injecting and transporting layer, a homogeneous thin films are available,
真空蒸着法を用いることが好ましい。 Vacuum deposition method is preferably used. 真空蒸着法を用いた場合、アモルファス状態または結晶粒径が0.1μm By utilizing vacuum evaporation, it is amorphous or has a crystal grain size is 0.1μm
以下の均質な薄膜が得られる。 Following uniform thin film can be obtained. 結晶粒径が0.1μm を超えていると、不均一な発光となり、素子の駆動電圧を高くしなければならなくなり、ホールの注入効率も著しく低下する。 When the grain size is more than 0.1 [mu] m, uneven light emission would have to increase the driving voltage of the device, also significantly reduced injection efficiency of the hole.

【0089】真空蒸着の条件は特に限定されないが、1 [0089] conditions of vacuum deposition is not particularly limited, 1
-4 Pa以下の真空度とし、蒸着速度は0.01〜1nm/ 0 -4 and a degree of vacuum below Pa, the deposition rate 0.01 to 1 /
sec 程度とすることが好ましい。 It is preferable that the order of sec. また、真空中で連続して各層を形成することが好ましい。 Further, it is preferable to form the layers continuously in a vacuum. 真空中で連続して形成すれば、各層の界面に不純物が吸着することを防げるため、高特性が得られる。 Be formed continuously in a vacuum, since the impurities in the interface between the layers can be prevented from being adsorbed, high characteristics are obtained. また、素子の駆動電圧を低くしたり、ダークスポットの発生・成長を抑制したりすることができる。 It can also lower the driving voltage of the device, or can suppress the occurrence and growth of dark spots.

【0090】これら各層の形成に真空蒸着法を用いる場合において、1層に複数の化合物を含有させる場合、化合物を入れた各ボートを個別に温度制御して共蒸着することが好ましい。 [0090] In the case of using the vacuum evaporation method for the formation of these layers, if to contain two or more compounds in one layer, it is preferable that co-evaporation with each boat containing compound individually temperature controlled.

【0091】有機EL素子は、直流駆動やパルス駆動され、印加電圧は、通常、2〜30V程度である。 [0091] The organic EL element, a direct current drive and is pulsed, the applied voltage is usually about 2~30V.

【0092】 [0092]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。 EXAMPLES Hereinafter, it shows a specific embodiment of the present invention, a more detailed explanation of the present invention. <実施例1>補助基板として、厚さ1.1mmのガラス板(セントラル硝子社製:ソーダライムガラス)上に、液晶ディスプレイのカラー化手法として、最も一般的な顔料分散型のカラーフィルター塗布工程を施した。 <Example 1> As the auxiliary substrate, a glass plate having a thickness of 1.1 mm (manufactured by Central Glass Co., Ltd. soda lime glass) on, as colorization method of a liquid crystal display, the most common pigment-dispersed color filter coating step It was applied. 各色1.5〜2.0μm のフィルター膜厚となるように塗布し、パターニングした。 The coating is a filter thickness of each color 1.5-2.0, and patterned. カラーフィルターの塗布工程は、赤を例に説明すると次のように行った。 The color filter of the coating process was carried out as follows: To explain the red as an example. 赤色用カラーフィルター液を1000rpm で5秒間スピンコートし、100℃で3分間プリベークした。 A red color filter was 5 seconds spin-coated at 1000 rpm, and prebaked for 3 minutes at 100 ° C.. 露光機で20m 20m in the exposure machine
Wの紫外線を30秒照射した後に、約0.1%濃度のT The W ultraviolet after irradiation for 30 seconds, from about 0.1% strength T
MAH水溶液で現像した。 It was developed with MAH aqueous solution. 現像時間は約1分間であった。 Development time was about 1 minute. その後、塗布する別のカラーフィルター液に溶解しないように、220℃で1時間キュアし、所定の赤色カラーフィルターパターンを完成した。 Thereafter, so as not to dissolve into another color filter liquid to be applied, and 1 hour curing at 220 ° C., to complete the predetermined red color filter pattern.

【0093】他の色(緑、青)は、材料(顔料)が異なるために、上記の赤色カラーフィルター形成条件とは、 [0093] the other colors (green, blue), in order to material (pigment) is different, and the red color filter forming conditions of the above,
その詳細において異なるものの、ほぼ同様の工程となる。 Although different in their details, the substantially same process. なお、この例では製造が比較的容易であるため、カラーフィルターのみを用いているが、蛍光変換フィルターを用いて緑、赤は色変換を行うことで出力させ、より高輝度発光の構成とすることも可能であるし、カラーフィルターと蛍光変換フィルターとを積層し、輝度低下の防止と色純度の向上を両立させるような構成とすることも可能である。 Since preparation in this example is relatively easy, but using only the color filter, green with a fluorescent conversion filter, red is output by performing the color conversion, a higher-luminance emission structure it it is also possible, by laminating the color filter and the fluorescence conversion filter, it can be configured so as to balance the improvement of prevention and color purity of the brightness reduction.

【0094】別途ガラス基板上に、ITO透明電極(ホール注入電極)をスパッタ法にて100nm成膜した。 [0094] on a separate glass substrate, ITO transparent electrode (hole injection electrode) and 100nm formed by sputtering. 得られたITO薄膜を、フォトリソグラフィーの手法によりパターニング、エッチング処理し、所定のホール注入電極パターンとした。 The resulting ITO film, patterning by photolithography techniques, and etched, and a predetermined hole injection electrode pattern. さらに、補助電極としてAlおよびTiNをパターニングした。 Further, the patterning of the Al and TiN as an auxiliary electrode. その後、絶縁膜としてポリイミドを300nmの厚さに塗布し、パターニングしてホール注入電極、補助電極および絶縁膜のパターンを得た。 Thereafter, the polyimide was coated in a thickness of 300nm as an insulating film to obtain a pattern of hole injecting electrode, an auxiliary electrode and the insulating film is patterned. このとき、カラーフィルター層とITO透明電極の画素となる部分との関係は、画素部分に対してカラーフィルター層の面積が、大きくなるようにし、視野角45 At this time, the relationship between the portion becomes a pixel of the color filter layer and the ITO transparent electrode, the area of ​​the color filter layer for the pixel portion is set to be larger, the viewing angle 45
°が確保できるようにした。 ° is to be ensured.

【0095】次いで、表面をUV/O 3洗浄した後、真空蒸着装置の基板ホルダーに固定して、槽内を1×10 [0095] Then, after washing UV / O 3 surface, and fixed to a substrate holder of a vacuum deposition apparatus, the inside of the tank 1 × 10
-4 Pa以下まで減圧した。 -4 Pa pressure was reduced to below. 4,4',4”−トリス(−N 4,4 ', 4 "- tris (-N
−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ)トリフェニルアミン(以下、m−MTDATA)を蒸着速度0.2nm/sec.で40nmの厚さに蒸着し、ホール注入層とし、次いで減圧状態を保ったまま、N,N'−ジフェニル−N,N'−m−トリル−4,4'−ジアミノ− -. (3-methylphenyl) -N- phenylamino) triphenylamine (hereinafter, m-MTDATA) was deposited to a thickness deposition rate 0.2 nm / sec at 40 nm, and the hole injection layer, then a reduced pressure keeping, N, N'-diphenyl -N, N'-m-tolyl-4,4'-diamino -
1,1'−ビフェニル(以下、TPD)を蒸着速度0. 1,1'-biphenyl (hereinafter, TPD) the deposition rate of 0.
2nm/sec.で35nmの厚さに蒸着し、ホール輸送層とした。 2 nm / sec. In. To a thickness of 35 nm, and a hole transport layer. さらに、減圧を保ったまま、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(以下、Alq3 )を蒸着速度0. Further, the vacuum kept, tris (8-quinolinolato) aluminum (hereinafter, Alq3) the deposition rate 0.
2nm/sec.で50nmの厚さに蒸着して、電子注入輸送・ 2 nm / sec. In was deposited to a thickness of 50 nm, the electron injection transport &
発光層とした。 And a light-emitting layer. 次いで減圧を保ったまま、このEL素子構造体基板を真空蒸着装置からスパッタ装置に移し、スパッタ圧力1.0PaにてAlLi電子注入電極(Li濃度:7.2at%)を50nmの厚さに成膜した。 Then the vacuum kept, transferred to the EL element structure board to a sputtering apparatus from the vacuum deposition apparatus, AlLi electron injecting electrode at sputtering pressure 1.0 Pa (Li concentration: 7.2at%) formed to a thickness of 50nm and film. その際スパッタガスにはArを用い、投入電力は100W、ターゲットの大きさは4インチ径、基板とターゲットの距離は90mmとした。 At that time using Ar as the sputtering gas, input power 100W, the size of the target 4 inch diameter, the distance between the substrate and the target was set to 90 mm. さらに、減圧を保ったまま、このEL In addition, the vacuum kept, the EL
素子基板を他のスパッタ装置に移し、Alターゲットを用いたDCスパッタ法により、スパッタ圧力0.3PaにてAl保護電極を200nmの厚さに成膜した。 Transfer the element substrate to another sputtering apparatus, by a DC sputtering method using an Al target, Al was formed into a protective electrode to a thickness of 200nm by sputtering pressure 0.3 Pa. この時スパッタガスにはArを用い、投入電力は500W、ターゲットの大きさは4インチ径、基板とターゲットの距離は90mmとした。 Ar was used in this case the sputtering gas, input power is 500 W, the size of the target 4 inch diameter, the distance between the substrate and the target was set to 90 mm.

【0096】得られた有機EL構造体が形成された基板面に、ガラスビーズスペーサを混入した封止用接着剤を用い、ガラス封止板を貼り合わせた。 [0096] to the substrate surface where the organic EL structure is formed obtained, using the adhesive for sealing was mixed with glass bead spacers were bonded to glass sealing plate. 最後に、上記で得られた補助基板を、ITOの画素部分に一致するようにマーキングを合わせ、かつカラーフィルター層形成面が基板側となるようにして、接着剤を用いて貼り合わせた。 Finally, an auxiliary substrate obtained above, to match the pixel portion of the ITO combined marking, and color filter layer forming surface so as to become the substrate side was bonded with an adhesive. このカラー化のための作業(補助基板の貼り合わせの作業を含む)は、従来の手法に比べ極めて簡単に行うことができることがわかった。 Working for the colorization (including working attachment of the auxiliary substrate) were found to be able to carry out very simply compared with the conventional method.

【0097】得られた有機ELディスプレイを、大気中で直流電圧を印加し、10mA/cm 2の定電流密度で連続駆動させた。 [0097] The obtained organic EL display, a DC voltage is applied in air, was continuously driven at a constant current density of 10 mA / cm 2. このディスプレイについて視認性に関する試験を無作為に抽出した100人の被験者に対して行ったところ、79人が見やすいと回答し、21人がわからないと回答した。 Was subjected to a test for visibility on this display for the 100 subjects who were randomly selected, responded that 79 people is easy to see, the respondents do not know 21 people. また、見にくいと回答したものはいなかった。 Also, did not those who answered hard to see.

【0098】<実施例2>補助基板として、厚さ1.1 [0098] <Example 2> as an auxiliary substrate, thickness 1.1
mmのガラス板(セントラル硝子社製:ソーダライムガラス)上に、ブラックマトリクス層として、顔料分散型のレジストを塗布し、パターニングした。 mm glass plates (Central Glass Co., Ltd. soda lime glass) on, as a black matrix layer, a resist of pigment dispersion type is applied and patterned. ブラックマトリクス層の塗布工程は次のように行った。 The coating process of the black matrix layer was carried out as follows. 顔料分散型レジスト液を1000rpm で5秒間スピンコートし、100 The pigment-dispersed resist liquid was 5 seconds spin coating at 1000 rpm, 100
℃で3分間プリベークした。 It was pre-baked for 3 minutes at ℃. 露光機で20 mWの紫外線を60秒照射した後に、約0.1%濃度のTMAH水溶液で現像した。 After a 20 mW ultraviolet was irradiated for 60 seconds with an exposure apparatus, and developed with TMAH aqueous solution of about 0.1% concentration. 現像時間は約2分間であった。 Development time was about 2 minutes. その後、 after that,
塗布する別のカラーフィルター液に溶解しないように、 So as not to be dissolved in the different color filter liquid to be applied,
220℃で1時間キュアし、所定のブラックマトリクス層パターンを完成した。 1 hour curing at 220 ° C., to complete the predetermined black matrix layer pattern. また、比較サンプルとして、ブラックマトリクス層を設けない補助基板を用意した。 Further, as a comparative sample was prepared auxiliary substrate having no black matrix layer.

【0099】別途ガラス基板上に、実施例1と同様にして有機EL構造体を成膜した後、封止板を接着し、最後に上記で作製した補助基板を実施例1と同様の手法により貼り合わせ、有機ELディスプレイを得た。 [0099] on a separate glass substrate, after forming an organic EL structure in the same manner as in Example 1, and bonding the sealing plate, the end in the same manner an auxiliary substrate prepared as in Example 1 above bonding, to obtain an organic EL display. このブラックマトリクス層との一体化作業(補助基板の貼り合わせの作業を含む)は、従来の手法に比べ極めて簡単に行うことができることがわかった。 Integrated work with the black matrix layer (including the work of bonding the auxiliary substrate) were found to be able to perform very simply in comparison with the conventional technique.

【0100】得られた有機ELディスプレイを、大気中で直流電圧を印加し、10mA/cm 2の定電流密度で連続駆動させた。 [0100] The obtained organic EL display, a DC voltage is applied in air, was continuously driven at a constant current density of 10 mA / cm 2. 視認性に関する試験を無作為に抽出した1 Testing for visibility and randomly 1
00人の被験者に対して行ったところ、ブラックマトリクス層を形成しないサンプルと比較して、86人が見やすいと回答し、14人がわからないと回答した。 Was carried out for the 00 subjects, as compared with the sample which does not form a black matrix layer, responded that 86 people is easy to see, the respondents do not know the 14 people. また、 Also,
見にくいと回答したものはいなかった。 Hard to see those who responded did not.

【0101】<実施例3>実施例1において、カラーフィルター層が形成されない部分に実施例2のブラックマトリクス層パターンを形成した。 [0102] <Example 3> Example 1 to form a black matrix layer pattern of Example 2 in the portion where the color filter layer is not formed. このとき、カラーフィルタ層の面積は、画素部分の面積が大きくなるようにし、視野角45°を確保できるようにし、ブラックマトリクスと画素部分の関係が図3,4のようになるようにした。 At this time, the area of ​​the color filter layer, so the area of ​​the pixel portion is increased, so as to be secured to the viewing angle 45 °, the relationship of the black matrix and the pixel portion is set to be as shown in FIGS.

【0102】その他は実施例1と同様にして有機ELディスプレイを得た。 [0102] Other was obtained an organic EL display in the same manner as in Example 1. この場合のカラー化およびブラックマトリクス層形成の作業、および補助基板の貼り合わせの作業も、従来に比べ極めて簡単に行うことができた。 The colorization and the black working matrix layer formation in the case, and bonding operations of the auxiliary substrate also could be performed very easily as compared with the prior art.

【0103】得られた有機ELディスプレイを、乾燥アルゴン雰囲気中で直流電圧を印加し、10mA/cm 2の定電流密度で連続駆動させた。 [0103] The obtained organic EL display, a DC voltage is applied in a dry argon atmosphere was continuously driven at a constant current density of 10 mA / cm 2. 視認性に関する試験を無作為に抽出した100人の被験者に対して行ったところ、 Was subjected to a test for visibility for the 100 subjects who were randomly selected,
91人が比較サンプルに比べ見やすいと回答し、9人がわからないと回答した。 91 people answered that easy to see compared to the comparative sample, the respondents said 9 people do not know. また、見にくいと回答したものはいなかった。 Also, did not those who answered hard to see.

【0104】<実施例4>実施例3において、基板上の補助電極が形成される領域にもITO透明電極を形成し、図5のようになるようにした。 [0104] <Example 4> Example 3, also formed an ITO transparent electrode in a region where the auxiliary electrode is formed on the substrate, and as is shown in FIG. その他は実施例3と同様にして有機ELディスプレイを得た。 Others to obtain an organic EL display in the same manner as in Example 3.

【0105】得られた有機ELディスプレイを補助基板側から目視観察したところ、実施例3で作製したディスプレイと比較して銀色に輝く度合いが著しく減少し、全体が黒く見えるようになっていた。 [0105] When the obtained organic EL display was visually observed from the auxiliary substrate side, shiny degree significantly reduced silver as compared with the display produced in Example 3, was so whole appear black.

【0106】さらに、このディスプレイを大気気中で直流電圧を印加し、10mA/cm 2の定電流密度で連続駆動させた。 [0106] Further, the display by applying a DC voltage in air gas was continuously driven at a constant current density of 10 mA / cm 2. 視認性に関する試験を無作為に抽出した100 Testing for visibility randomly extracted 100
人の被験者に対して行ったところ、97人が実施例3のサンプルより見やすいと回答し、3人がわからないと回答した。 Was carried out against the people of the subjects, 97 people responded to the easy-to-read than the sample of Example 3, was answered that three people do not know. また、見にくいと回答したものはいなかった。 Also, did not those who answered hard to see.

【0107】 [0107]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、複雑な構造を必要とせず、製造や貼り合わせ等の作業が容易で、 According to the present invention as described above, according to the present invention, without requiring a complicated structure, it is easy to work such as preparation and bonding,
有機EL構造体へのダメージもないく、低コストでコントラスト比の良好な有機ELカラーディスプレイを提供できる。 No damage to the organic EL structure Ku, can provide good organic EL color display contrast ratio at a low cost.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の有機ELカラーディスプレイの構成例を示した断面図である。 1 is a cross-sectional view showing a configuration example of the organic EL color display of the present invention.

【図2】有機EL構造体とブラックマトリクス層との位置関係を概念的に示した断面図である。 2 is a cross-sectional view conceptually illustrating the positional relationship between the organic EL structure and the black matrix layer.

【図3】有機EL構造体とブラックマトリクス層との位置関係の他の例を概念的に示した断面図である。 3 is a cross-sectional view conceptually showing another example of the positional relationship between the organic EL structure and the black matrix layer.

【図4】有機EL構造体のITO透明電極層を補助電極層の下側にまで成膜した例を示す断面図である。 4 is a sectional view showing an example in which layers up to the lower side of the ITO transparent electrode layer of the organic EL structure auxiliary electrode layer.

【図5】図3において、有機EL構造体2のITO透明電極21を補助電極層8の下部にまで積層した例を示す断面図である。 In [5] 3 is a sectional view showing an example of laminating the ITO transparent electrode 21 of the organic EL structure 2 to the bottom of the auxiliary electrode layer 8.

【図6】有機EL構造体2のITO透明電極21を、補助電極層8の下部にまで積層した他の構成例を示す断面図である。 [6] The ITO transparent electrode 21 of the organic EL structure 2 is a sectional view showing another configuration example of the stacked up in the lower part of the auxiliary electrode layer 8.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 基板 2 有機EL構造体 3 封止板 4 カラーフィルター層 5 補助基板 6 ブラックマトリクス層 1 substrate 2 organic EL structure 3 the seal plate 4 color filter layer 5 auxiliary substrate 6 a black matrix layer

Claims (5)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 ホール注入電極と電子注入電極と、これらの電極間に発光機能に関与する1種以上の有機層を有する有機EL構造体が基板上に成膜されている有機EL 1. A hole injection electrode and an electron injection electrode, an organic EL organic EL structure is formed on a substrate having one or more organic layers involved in light emission function between these electrodes
    ディスプレイであって、 前記基板が光取り出し側であって、この基板の有機EL A display, wherein the substrate is a light extraction side, the organic EL of the substrate
    構造体成膜面と反対側には補助基板が配置され、かつこの補助基板の前記基板と対向する面にカラーフィルター層を有する有機ELディスプレイ。 The opposite side of the structure deposition surface is arranged an auxiliary substrate, and an organic EL display having a color filter layer on the substrate and the opposing surfaces of the auxiliary substrate.
  2. 【請求項2】 前記補助基板は、さらに視野角を矯正するためのブラックマトリクス層を有し、 前記有機EL構造体のホール注入電極は、補助電極層が形成されている領域にも成膜されている請求項1の有機ELディスプレイ。 Wherein said auxiliary substrate further includes a black matrix layer for correcting a viewing angle, hole injection electrode of the organic EL structure is also formed in a region where the auxiliary electrode layer is formed and that the organic EL display of claim 1.
  3. 【請求項3】 ホール注入電極と電子注入電極と、これらの電極間に発光機能に関与する1種以上の有機層を有する有機EL構造体が基板上に成膜されている有機EL 3. A hole injection electrode and an electron injection electrode, an organic EL organic EL structure is formed on a substrate having one or more organic layers involved in light emission function between these electrodes
    ディスプレイであって、 前記基板の有機EL構造体成膜面と反対側には補助基板が配置され、かつこの補助基板の前記基板と対向する面にブラックマトリクス層を有する有機ELディスプレイ。 A display, on the side opposite to the organic EL structure deposition surface of the substrate is disposed an auxiliary substrate, and an organic EL display having a black matrix layer on the substrate and the opposing surfaces of the auxiliary substrate.
  4. 【請求項4】 前記有機EL構造体のホール注入電極は、補助電極層が形成されている領域にも成膜されている請求項3の有機ELディスプレイ。 4. A hole injection electrode of the organic EL structure, the organic EL display of claim 3, the auxiliary electrode layer is also formed in a region that is formed.
  5. 【請求項5】 前記補助基板は、カラーフィルター層を有する請求項4の有機ELディスプレイ。 Wherein said auxiliary substrate, an organic EL display of claim 4 having a color filter layer.
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