JP2000017052A - Epoxy resin composition and electric parts device - Google Patents

Epoxy resin composition and electric parts device

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JP2000017052A
JP2000017052A JP10184028A JP18402898A JP2000017052A JP 2000017052 A JP2000017052 A JP 2000017052A JP 10184028 A JP10184028 A JP 10184028A JP 18402898 A JP18402898 A JP 18402898A JP 2000017052 A JP2000017052 A JP 2000017052A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an epoxy resin compsn. to give a semiconductor device being free from the occurrence of voids and having excellent curability, adhesiveness to a passivation membrane and moisture resistance on moisture absorption. SOLUTION: This compsn. contains as the essential components (A) an epoxy resin having two or more epoxy groups in the mol., (B) a phenol resin having two or more phenolic groups in the mol., and (C) a curing accelerator expressed by the formula (wherein R1 and R2 are each hydrogen, a 1-6C alkyl group, or a 1-6C alkoxyl group, and may be or different same except a case when the both are hydrogen, R3 is hydrogen or a 1-6C alkyl group; and (m) is 1 or 2).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、成形材料、積層板
用または接着剤の材料として好適なエポキシ樹脂組成物
及びその組成物により素子を封止して得られる電子部品
装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition suitable as a molding material, a laminate or an adhesive material, and an electronic component device obtained by sealing an element with the composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、成形材料、積層板用、接着剤
用材料として、エポキシ樹脂が広範囲に使用され、トラ
ンジスタ、IC等の電子部品の素子封止の分野ではエポ
キシ樹脂組成物が広く用いられている。この理由として
は、エポキシ樹脂が成形性、電気特性、耐湿性、耐熱
性、機械特性、インサート品との接着性等の諸特性にバ
ランスがとれているためである。特に、オルソクレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂とフェノールノボラック硬
化剤の組み合わせはこれらのバランスに優れており、I
C封止用成形材料のベース樹脂として主流になってい
る。また、硬化促進剤としては3級アミン、イミダゾー
ル等のアミン化合物、ホスフィン類、ホスホニウム等の
リン化合物が一般に使用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, epoxy resins have been widely used as materials for molding materials, laminates and adhesives, and epoxy resin compositions have been widely used in the field of device sealing of electronic parts such as transistors and ICs. Have been. The reason for this is that the epoxy resin is balanced in various properties such as moldability, electrical properties, moisture resistance, heat resistance, mechanical properties, and adhesiveness to insert products. In particular, the combination of an ortho-cresol novolak type epoxy resin and a phenol novolak curing agent is excellent in these balances.
It has become mainstream as a base resin for molding materials for C sealing. Further, amine compounds such as tertiary amine and imidazole, and phosphorus compounds such as phosphines and phosphonium are generally used as the curing accelerator.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】近年、電子部品のプリ
ント配線板への高密度実装化が進んでおり、これに伴い
電子部品は従来のピン挿入型のパッケージから、表面実
装型のパッケージが主流になりつつある。IC、LSI
などの表面実装型ICは、実装密度を高くするために素
子のパッケージに対する占有体積がしだいに大きくな
り、パッケージの肉厚は非常に薄くなってきた。さら
に、ピン挿入型パッケージは、ピンを配線板に挿入した
後に配線板裏面からはんだ付けが行われるためパッケー
ジが直接高温にさらされることがなかったのに対し、表
面実装型ICは配線板表面に仮止めを行った後、はんだ
バスやリフロー装置などで処理されるため、直接はんだ
付け温度にさらされる。この結果、ICパッケージが吸
湿した場合、はんだ付け時に吸湿水分が急激に膨張しパ
ッケージクラックに至り、これが大きな問題になってい
る。
In recent years, electronic components have been increasingly mounted on printed wiring boards at a high density. With this trend, electronic components have become more prevalent than conventional pin insertion type packages but surface mount type packages. It is becoming. IC, LSI
In such surface mount ICs, the occupied volume of the device in the package has been gradually increased in order to increase the packaging density, and the thickness of the package has become extremely thin. In addition, pin-insertion type packages are not exposed to high temperatures because the pins are inserted into the wiring board and then soldered from the back side of the wiring board. After the temporary fixing, the solder is processed by a solder bath or a reflow device, so that it is directly exposed to the soldering temperature. As a result, when the IC package absorbs moisture, the moisture absorbed rapidly expands during soldering, leading to a package crack, which is a major problem.

【0004】さらに近年、このリフロー時のパッケージ
クラック耐性、いわゆる耐リフロークラック性を改良す
るために、無機充填剤を多く含む樹脂組成物が提案され
ている。しかし無機充填剤量の増加は成形時流動性の低
下を招き、充填不良、ボイド発生等の成形上の障害やI
Cチップのボンディングワイヤーが断線し導通不良が発
生するなど成形品の性能低下を招くため無機充填剤の配
合量が限られ、結果として耐リフロークラック性の著し
い向上が望めないという問題があった。特にトリフェニ
ルホスフィン等のリン系硬化促進剤や1,8−ジアザビ
シクロ[5.4.0]ウンデセン−7等のアミン系硬化
促進剤を用いた場合、流動性が低く耐リフロークラック
性の著しい向上が望めないのが実情である。さらに、ホ
スフィン系硬化促進剤を使用した場合には、使用するエ
ポキシ樹脂/硬化剤の種類によってはボイドが多量に発
生するという問題がある。
In recent years, a resin composition containing a large amount of an inorganic filler has been proposed in order to improve the package crack resistance during reflow, that is, the so-called reflow crack resistance. However, an increase in the amount of the inorganic filler causes a decrease in fluidity during molding, and impairs the molding such as defective filling and voids, and the like.
Since the bonding wire of the C chip is broken and conduction failure occurs, the performance of the molded product is deteriorated, so that the compounding amount of the inorganic filler is limited. As a result, remarkable improvement in reflow crack resistance cannot be expected. In particular, when a phosphorus-based curing accelerator such as triphenylphosphine or an amine-based curing accelerator such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 is used, fluidity is low and reflow crack resistance is remarkably improved. The fact is that you cannot expect. Furthermore, when a phosphine-based curing accelerator is used, there is a problem that a large amount of voids are generated depending on the type of epoxy resin / curing agent used.

【0005】これらの問題を解決する方法として、特開
平7−228672号公報には電子供与性置換基を有す
るフェニル基を3つ有するホスフィンと無水マレイン酸
又はキノン類との付加反応物を硬化促進剤として使用す
る方法が開示されているが、半導体チップ上に形成され
たパッシベーション膜との密着性が低いために剥離によ
る耐湿信頼性の低下が問題となっている。
As a method for solving these problems, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-228672 discloses a method of accelerating the addition of a phosphine having three phenyl groups having an electron donating substituent with maleic anhydride or quinones. Although a method of using as an agent is disclosed, there is a problem in that the adhesion to a passivation film formed on a semiconductor chip is low, and the moisture resistance reliability is deteriorated due to peeling.

【0006】本発明は、このような状況に鑑みなされた
もので、ボイドの発生がなく、吸湿時の硬化性、パッシ
ベーション膜との接着性、耐湿性に優れるエポキシ樹脂
組成物、およびその組成物で封止した素子を備える電子
部品装置を提供しようとするものである。
The present invention has been made in view of such circumstances, and an epoxy resin composition which is free from voids, has excellent curability at the time of moisture absorption, excellent adhesion to a passivation film, and excellent moisture resistance, and a composition thereof. It is intended to provide an electronic component device provided with an element sealed with a.

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

【0007】発明者らは上記の課題を解決するために鋭
意検討を重ねた結果、特定のトリフェニルホスフィンと
キノン化合物との付加反応物を配合することにより、ボ
イドの発生がなく、吸湿時の硬化性、パッシベーション
膜との接着性に優れるエポキシ樹脂組成物を見い出し、
本発明を完成するに至った。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that by adding an addition reaction product of a specific triphenylphosphine and a quinone compound, no void is generated, and An epoxy resin composition with excellent curability and excellent adhesion to the passivation film was found,
The present invention has been completed.

【0008】すなわち、本発明は、(1)(A)1分子
中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、
(B)1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有す
るフェノール樹脂、(C)次式(I)で示される硬化促
進剤、
Specifically, the present invention provides (1) (A) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule,
(B) a phenolic resin having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, (C) a curing accelerator represented by the following formula (I),

【化4】 (ここで、R1、R2は、水素、炭素数1〜6のアルキル
基及び炭素数1〜6のアルコキシル基から選ばれ、両者
が水素の場合を除き同一でも、異なっていてもよい。R
3は水素または炭素数1〜6のアルキル基を示し、mは
1または2を示す。)を必須成分として含有することを
特徴とするエポキシ樹脂組成物、(2)組成物全体に対
して55体積%以上の無機充填剤(D)を含有すること
を特徴とする上記(1)記載のエポキシ樹脂組成物、
(3)エポキシ樹脂(A)のエポキシ基とフェノール樹
脂(B)のフェノール性水酸基との当量比((B)/
(A))が0.5〜2であることを特徴とする上記
(1)または(2)記載のエポキシ樹脂組成物、(4)
(A)成分が次式(II)及び/又は(III)のエポキシ
樹脂を含むことを特徴とする上記(1)〜(3)記載の
いずれかのエポキシ樹脂組成物、
Embedded image (Here, R 1 and R 2 are selected from hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms, and may be the same or different except when both are hydrogen. R
3 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and m represents 1 or 2. (2) an epoxy resin composition characterized in that it contains 55% by volume or more of an inorganic filler (D) based on the whole composition. Epoxy resin composition,
(3) The equivalent ratio of the epoxy group of the epoxy resin (A) to the phenolic hydroxyl group of the phenol resin (B) ((B) /
(A)) is 0.5 to 2, the epoxy resin composition according to the above (1) or (2), (4)
The epoxy resin composition according to any one of the above (1) to (3), wherein the component (A) contains an epoxy resin of the following formula (II) and / or (III):

【化5】 (ここで、式中各4個のR4、R5は全て同一でも異なっ
ていてもよく、水素またはメチル基を示す。)(5)
(B)成分が次式(IV)、次式(V)及び次式(VI)で
示されるフェノール樹脂の少なくともいずれかを含むこ
とを特徴とする上記(1)〜(4)記載のいずれかのエ
ポキシ樹脂組成物、
Embedded image (Here, each of the four R 4 and R 5 in the formula may be the same or different, and represents hydrogen or a methyl group.) (5)
(B) The component according to any one of the above (1) to (4), wherein the component contains at least one of the phenolic resins represented by the following formulas (IV), (V) and (VI). Epoxy resin composition,

【化6】 (ここで、X、Y、Zは0〜10を示す。)(6)上記
(1)〜(5)記載のいずれかのエポキシ樹脂組成物に
より封止された素子を備える電子部品装置、である。
Embedded image (Here, X, Y, and Z represent 0 to 10.) (6) An electronic component device including an element sealed with the epoxy resin composition according to any one of (1) to (5). is there.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明のエポキシ樹脂組成物に用
いられる(A)成分のエポキシ樹脂は、一般に使用され
ているもので特に限定はないが、例えば、ビスフェノー
ルA、ビスフェノールF、レゾルシノール、フェノール
ノボラック、クレゾールノボラック等のフェノール類の
グリシジルエーテル、ブタンジオ一ル、ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール等のアルコール類
のグリシジルエーテル、フタル酸、イソフタル酸、テト
ラヒドロフタル酸等のカルボン酸類のグリシジルエステ
ル、アニリン、イソシアヌール酸等の窒素原子に結合し
た活性水素をグリシジル基で置換したもの等のグリシジ
ル型またはメチルグリシジル型のエポキシ樹脂、分子内
のオレフィン結合をエポキシ化して得られるビニルシク
ロヘキセンジエポキシド、3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチル−3、4−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート、2−(3,4−エポキシ)シクロヘキシル−
5,5−スピロ(3,4−エポキシ)シクロヘキサン−
m−ジオキサン等の脂環型エポキシ樹脂、パラキシリレ
ン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテル、メタキシ
リレン・パラキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジ
ルエーテル、テルペン変性フェノール樹脂のグリシジル
エーテル、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂の
グリシジルエーテル、シクロペンタジエン変性フェノー
ル樹脂のグリシジルエーテル、多環芳香環変性フェノー
ル樹脂のグリシジルエーテル、ナフタレン環含有フェノ
ール樹脂のグリシジルエーテル、ビフェニル型エポキシ
樹脂、ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂
などが挙げられ、単独であるいは2種以上混合して用い
ることができる。これらのエポキシ樹脂の中で、下記一
般式(II)や(III)で示されるものが流動性及び耐リ
フロー性の点で好ましく、中でも、耐リフロー性の観点
からは4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)
−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニルが、成
形性や耐熱性の観点からは4,4’−ビス(2,3−エ
ポキシプロポキシ)ビフェニルがより好ましい。これら
式(II)、式(III)のエポキシ樹脂は、それぞれ単独
で用いても併用してもよいが、性能を発揮するために
は、(A)成分のエポキシ樹脂全量に対して、合わせて
60重量%以上使用することが好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The epoxy resin (A) used in the epoxy resin composition of the present invention is commonly used and is not particularly limited. Examples thereof include bisphenol A, bisphenol F, resorcinol, and phenol. Glycidyl ethers of phenols such as novolak and cresol novolak, glycidyl ethers of alcohols such as butanediol, polyethylene glycol and polypropylene glycol, glycidyl esters of carboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid and tetrahydrophthalic acid, aniline and isocyanuryl Glycidyl-type or methylglycidyl-type epoxy resins such as those obtained by replacing active hydrogen bonded to a nitrogen atom such as an acid with a glycidyl group, and vinylcyclohexene diepoxy obtained by epoxidizing an olefin bond in a molecule. Sid, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexane carboxylate, 2- (3,4-epoxy) cyclohexyl -
5,5-spiro (3,4-epoxy) cyclohexane-
Alicyclic epoxy resin such as m-dioxane, glycidyl ether of para-xylylene-modified phenol resin, glycidyl ether of meta-xylylene / para-xylylene-modified phenol resin, glycidyl ether of terpene-modified phenol resin, glycidyl ether of dicyclopentadiene-modified phenol resin, cyclopentadiene-modified Glycidyl ether of phenolic resin, glycidyl ether of polycyclic aromatic ring-modified phenolic resin, glycidyl ether of phenolic resin containing naphthalene ring, biphenyl type epoxy resin, halogenated phenol novolak type epoxy resin, etc., alone or in combination of two or more Can be used. Among these epoxy resins, those represented by the following general formulas (II) and (III) are preferable in terms of fluidity and reflow resistance, and among them, from the viewpoint of reflow resistance, 4,4′-bis ( 2,3-epoxypropoxy)
-3,3 ', 5,5'-Tetramethylbiphenyl is more preferable, and 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) biphenyl is more preferable from the viewpoint of moldability and heat resistance. These epoxy resins of the formulas (II) and (III) may be used alone or in combination. However, in order to exhibit the performance, the total amount of the epoxy resin of the component (A) is required. It is preferable to use 60% by weight or more.

【0010】[0010]

【化7】 (ここで、式中各4個のR4、R5は全て同一でも異なっ
ていてもよく、水素またはメチル基を示す。)
Embedded image (Here, each of the four R 4 and R 5 in the formula may be the same or different and represents hydrogen or a methyl group.)

【0011】本発明のエポキシ樹脂組成物に用いられる
(B)成分の1分子中にフェノール性水酸基を2個以上
有するフェノール樹脂は、特に制限はなく公知のフェノ
ール樹脂を広く使用することができる。例えば、フェノ
ール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコ
ール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノ
ール類又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロ
キシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアル
デヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド類とを酸性
触媒下で縮合又は共縮合させて得られる樹脂、パラキシ
リレン変性フェノール樹脂、メタキシリレン・パラキシ
リレン変性フェノール樹脂、メラミン変性フェノール樹
脂、テルペン変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエ
ン変性フェノール樹脂、シクロペンタジエン変性フェノ
ール樹脂、多環芳香環変性フェノール樹脂などが挙げら
れ、単独であるいは2種以上混合して用いることができ
る。これらのフェノール樹指は、分子量、軟化点、水酸
基当量などに制限なく使用することができる。中でも、
硬化性の点からは下記一般式(IV)、(V)、(VI)で
示されるものが好ましく、さらに低吸湿の観点から式
(V)の構造が好ましい。これら式(IV)、式(V)、
式(VI)のフェノール樹脂は、それぞれ単独で用いても
いずれか2種あるいは3種全てを併用してもよいが、性
能を発揮するためには、(B)成分のフェノール樹脂全
量に対して合わせて60重量%以上使用することが好ま
しい。
The phenolic resin having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule of the component (B) used in the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, and known phenolic resins can be widely used. For example, phenols such as phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F or naphthols such as α-naphthol, β-naphthol, dihydroxynaphthalene and formaldehyde;
Resins obtained by condensing or co-condensing aldehydes such as acetaldehyde, propionaldehyde, benzaldehyde, and salicylaldehyde under an acidic catalyst, para-xylylene-modified phenol resin, meta-xylylene / para-xylylene-modified phenol resin, melamine-modified phenol resin, and terpene-modified phenol resin And a dicyclopentadiene-modified phenol resin, a cyclopentadiene-modified phenol resin, a polycyclic aromatic ring-modified phenol resin, and the like, and these can be used alone or in combination of two or more. These phenolic resins can be used without limitation in molecular weight, softening point, hydroxyl equivalent, and the like. Among them,
From the viewpoint of curability, those represented by the following formulas (IV), (V), and (VI) are preferable, and the structure represented by formula (V) is more preferable from the viewpoint of low moisture absorption. These formulas (IV), (V),
The phenolic resin of the formula (VI) may be used alone or in combination of any two or all three types. It is preferable to use a total of 60% by weight or more.

【0012】[0012]

【化8】 上記式(IV)、式(V)、式(VI)中のX、Y、Zは0
〜10の数を示す。それぞれが10を越えた場合は
(B)成分の溶融粘度が高くなるため、エポキシ樹脂組
成物の溶融成形時の粘度も高くなり、未充填不良やボン
ディングワイヤ(素子とリードを接続する金線)の変形
を引き起こしやすくなる。したがって、X、Y、Zは0
〜10の範囲であることが必要であるが、1分子中の平
均で1〜4の範囲に設定されることがより好ましい。
Embedded image X, Y and Z in the above formulas (IV), (V) and (VI) are 0
The numbers from 10 to 10 are shown. If each exceeds 10, the melt viscosity of the component (B) will increase, so that the viscosity of the epoxy resin composition during melt molding will also increase, resulting in poor filling and bonding wires (gold wires connecting the element and the lead). Easily cause deformation. Therefore, X, Y and Z are 0
It is necessary to be in the range of 10 to 10, but it is more preferable to set the average in the range of 1 to 4 in one molecule.

【0013】本発明において(A)成分のエポキシ樹脂
と(B)成分のフェノール化合物との配合比率は、エポ
キシ樹脂のエポキシ当量に対するフェノール樹脂の水酸
基当量の比率が0.5〜2.0の範囲に設定されること
が好ましく、より好ましくは0.7〜1.5、さらに好
ましくは0.8〜1.3である。0.5未満ではエポキ
シ樹脂の硬化が不充分となり、硬化物の耐熱性、耐湿性
及び電気特性が劣りやすい。また、1.5を超えるとフ
ェノール樹脂成分が過剰になり硬化樹脂中に多量のフェ
ノール性水酸基が残るため、電気特性及び耐湿性が悪く
なりがちである。
In the present invention, the mixing ratio of the epoxy resin (A) to the phenol compound (B) is such that the ratio of the hydroxyl equivalent of the phenol resin to the epoxy equivalent of the epoxy resin is in the range of 0.5 to 2.0. It is preferably set to 0.7, more preferably 0.7 to 1.5, and still more preferably 0.8 to 1.3. If it is less than 0.5, the curing of the epoxy resin is insufficient, and the heat resistance, moisture resistance and electric properties of the cured product are likely to be inferior. On the other hand, if it exceeds 1.5, the phenolic resin component becomes excessive and a large amount of phenolic hydroxyl groups remain in the cured resin, so that the electrical properties and moisture resistance tend to deteriorate.

【0014】本発明のエポキシ樹脂組成物に用いられる
(C)成分の硬化促進剤は、次式(I)を満足していれ
ば特に制限されるものではない。
The curing accelerator of the component (C) used in the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited as long as the following formula (I) is satisfied.

【化9】 上記式(I)中のR1、R2は、水素、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
イソプロピル基、t−ブチル基等の炭素数1〜6のアル
キル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等の炭素
数1〜6のアルコキシル基から選ばれ、両者が水素の場
合を除き同一でも、異なっていてもよい。R3は水素ま
たは炭素数1〜6のアルキル基を示し、mは1または2
を示す。このような化合物としては例えば表1の化合物
等が挙げられ、これらは単独で用いても2種以上併用し
てもよい。これらの中でR3がHである例示化合物が硬
化性の点で好ましく、R2がHでありmが1である例示
化合物がPIQピール接着力の点で好ましく、さらにR
1がメチル基である例示化合物が良好な吸湿時硬化性を
示すので好ましい。これらの例示化合物は、特に製造方
法に制限はないが、有機ホスフィンとキノンとを有機溶
媒中で付加反応させて単離する方法等で得ることができ
る。また、有機ホスフィンとキノンとを(B)成分のフ
ェノール樹脂中で付加反応させた後に、単離せずにその
ままフェノール樹脂中に溶解した状態で用いることもで
きる。
Embedded image R 1 and R 2 in the above formula (I) represent hydrogen, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl,
It is selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as an isopropyl group and a t-butyl group, and an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group and a hexyloxy group. May be the same or different except when both are hydrogen. R 3 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and m represents 1 or 2
Is shown. Examples of such a compound include the compounds shown in Table 1, and these may be used alone or in combination of two or more. Among these, an exemplary compound in which R 3 is H is preferable in terms of curability, an exemplary compound in which R 2 is H and m is 1 is preferable in terms of PIQ peel adhesion,
Exemplary compounds in which 1 is a methyl group are preferable because they exhibit good moisture-curing properties. Although these exemplified compounds are not particularly limited in the production method, they can be obtained by a method in which an organic phosphine and quinone are subjected to an addition reaction in an organic solvent and isolated. Further, after an organic phosphine and a quinone are subjected to an addition reaction in the phenol resin of the component (B), the phosphine can be used as it is, without being isolated, dissolved in the phenol resin.

【0015】[0015]

【表1】 [Table 1]

【0016】また本発明の樹脂組成物には、(C)成分
以外に、エポキシ樹脂とフェノール性水酸基を有する化
合物の硬化反応を促進する硬化促進剤として一般に用い
られているものを1種以上併用することができる。これ
らの硬化促進剤としては、例えば、1,5−ジアザビシ
クロ[4.3.0]ノネン−5、1,8−ジアザビシク
ロ[5.4.0]ウンデセン−7等のジアザビシクロア
ルケンまたはその誘導体、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]ウンデセン−7等のジアザビシクロアル
ケンまたはその誘導体のフェノールノボラック塩、トリ
エチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタ
ノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジ
メチルアミノメチル)フェノール等の三級アミン類、2
−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2
−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシ
ルイミダゾール等のイミダゾール類、テトラフェニルホ
スホニウム・テトラフェニルボレート等のテトラ置換ホ
スホニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メ
チルイミダゾール・テトラフェニルボレート、N−メチ
ルモルホリン・テトラフェニルボレート等のテトラフェ
ニルボロン塩、トリフェニルホスフィン、トリフェニル
ホスフィンとp−ベンゾキノンのベタイン型付加生成
物、ジフェニル(p−トリル)ホスフィン、トリス(ア
ルキルフェニル)ホスフィン、トリス(アルコキシフェ
ニル)ホスフィン、トリス(アルキル・アルコキシフェ
ニル)ホスフィン、トリス(ジアルキルフェニル)ホス
フィン、トリス(トリアルキルフェニル)ホスフィン、
トリス(テトラアルキルフェニル)ホスフィン、トリス
(ジアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(トリア
ルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルコ
キシフェニル)ホスフィン等の有機ホスフィン類、また
はこれら有機ホスフィンと有機ボロン類との錯体などが
挙げられる。
The resin composition of the present invention may contain, in addition to the component (C), at least one compound generally used as a curing accelerator for accelerating the curing reaction between an epoxy resin and a compound having a phenolic hydroxyl group. can do. Examples of these curing accelerators include diazabicycloalkenes such as 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5 and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 or derivatives thereof. Phenol novolak salts of diazabicycloalkenes and derivatives thereof, such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl ) Tertiary amines such as phenol, 2
-Methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2
Imidazoles such as -phenyl-4-methylimidazole and 2-heptadecylimidazole; tetra-substituted phosphonium-tetra-substituted borates such as tetraphenylphosphonium-tetraphenylborate; 2-ethyl-4-methylimidazole-tetraphenylborate; N- Tetraphenylboron salts such as methylmorpholine / tetraphenylborate, triphenylphosphine, betaine-type addition products of triphenylphosphine and p-benzoquinone, diphenyl (p-tolyl) phosphine, tris (alkylphenyl) phosphine, tris (alkoxyphenyl) ) Phosphine, tris (alkylalkoxyphenyl) phosphine, tris (dialkylphenyl) phosphine, tris (trialkylphenyl) phosphine,
Organic phosphines such as tris (tetraalkylphenyl) phosphine, tris (dialkoxyphenyl) phosphine, tris (trialkoxyphenyl) phosphine, tris (tetraalkoxyphenyl) phosphine, or complexes of these organic phosphines with organic borons. No.

【0017】これらの硬化促進剤を併用する場合、
(C)成分の配合量は、全硬化促進剤量に対して30重
量%以上が好ましく、より好ましくは50重量%以上で
ある。(C)成分の配合量が30重量%未満であるとボ
イドの発生、吸湿時硬度の低下、パッシベーション膜と
の接着性の低下等が生じやすく本発明の効果が少なくな
る。(C)成分を含む全硬化促進剤の合計配合量は、ボ
イドの減少、吸湿時硬化性の向上、パッシベーション膜
との接着性向上、流動性の向上が達成される量であれば
特に限定されるものではないが、(A)成分のエポキシ
樹脂と(B)成分のフェノール樹脂の合計量100重量
部に対して0.1〜10重量部が好ましく、より好まし
くは1〜7.0重量部である。0.1重量部未満では短
時間で硬化させることが困難で、10重量部を超えると
硬化速度が早すぎて良好な成形品が得られない場合が生
じる。
When these curing accelerators are used in combination,
The compounding amount of the component (C) is preferably at least 30% by weight, more preferably at least 50% by weight, based on the total amount of the curing accelerator. When the amount of the component (C) is less than 30% by weight, voids are generated, the hardness at the time of moisture absorption is reduced, the adhesion to the passivation film is reduced, and the effects of the present invention are reduced. The total blending amount of all the curing accelerators including the component (C) is not particularly limited as long as the amount can reduce the voids, improve the curability during moisture absorption, improve the adhesion to the passivation film, and improve the fluidity. However, the amount is preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 1 to 7.0 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the epoxy resin (A) and the phenol resin (B). It is. If the amount is less than 0.1 part by weight, it is difficult to cure in a short time, and if it exceeds 10 parts by weight, the curing speed is too fast to obtain a good molded product.

【0018】本発明の樹脂組成物に配合される無機充填
剤(D)としては特に限定はないが、例えば、溶融シリ
カ、結晶シリカ、ガラス、アルミナ、炭酸カルシウム、
ケイ酸ジルコニウム、ケイ酸カルシウム、窒化珪素、窒
化アルミ、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコ
ン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライ
ト、チタニア、タルク、クレー、マイカ等の微粉未、ま
たはこれらを球形化したビーズなどが挙げられる。さら
に、難燃効果のある無機充填剤としては水酸化アルミニ
ウム、水酸化マグネシウム、硼酸亜鉛などが挙げられ、
これらを単独で用いても併用してもよい。上記の無機充
填剤の中で、線膨張係数低減の観点からは溶融シリカ
が、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましい。
The inorganic filler (D) to be blended in the resin composition of the present invention is not particularly limited. Examples thereof include fused silica, crystalline silica, glass, alumina, calcium carbonate,
Fine powder of zirconium silicate, calcium silicate, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, beryllia, zirconia, zircon, fosterite, steatite, spinel, mullite, titania, talc, clay, mica, etc. Beads and the like. Further, as the inorganic filler having a flame retardant effect, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, zinc borate, and the like,
These may be used alone or in combination. Among the above-mentioned inorganic fillers, fused silica is preferred from the viewpoint of reducing the linear expansion coefficient, and alumina is preferred from the viewpoint of high thermal conductivity.

【0019】(D)成分の無機充填剤の配合量は、樹脂
組成物全体に対して55〜90体積%の範囲であること
が好ましい。これら無機充填剤は硬化物の熱膨張係数や
熱伝導率、弾性率などの改良を目的に添加するものであ
り、配合量が55体積%未満ではこれらの特性を充分に
改良できず、90体積%を超えると樹脂組成物の粘度が
著しく上昇し流動性が低下して成形が困難になりがちで
ある。また、無機充填剤(D)の平均粒径は1〜50μ
mの範囲が好ましく、10〜30μmがより好ましい。
1μm未満では樹脂組成物の粘度が上昇しやすく、50
μmを超えると樹脂成分と充墳剤とが分離しやすくな
り、硬化物が不均一になったりあるいは硬化物特性がば
らついたり、更には狭い隙間への充填性が低下しがちで
ある。流動性の観点からは、(D)成分の無機充填剤の
粒子形状は角形より球形が好ましく、且つ粒度分布が広
範囲に分布したものが望ましい。例えば、充填剤を75
体積%以上配合する場合、その70重量%以上を球状粒
子とし、0.1〜80μmという広範囲に分布したもの
が望ましい。このような充填剤は最密充填構造をとりや
すいため配合量を増しても材料の粘度上昇が少なく、流
動性の優れた組成物を得ることができる。
The amount of the inorganic filler (D) is preferably in the range of 55 to 90% by volume based on the whole resin composition. These inorganic fillers are added for the purpose of improving the thermal expansion coefficient, thermal conductivity, elastic modulus, etc. of the cured product. If the amount is less than 55% by volume, these properties cannot be sufficiently improved. %, The viscosity of the resin composition significantly increases, the fluidity decreases, and molding tends to be difficult. The average particle size of the inorganic filler (D) is 1 to 50 μm.
m is preferable, and 10 to 30 μm is more preferable.
If it is less than 1 μm, the viscosity of the resin composition tends to increase, and
When the average particle size exceeds μm, the resin component and the filler tend to separate from each other, and the cured product tends to be non-uniform, the characteristics of the cured product vary, and the filling property into narrow gaps tends to decrease. From the viewpoint of fluidity, the inorganic filler of the component (D) preferably has a spherical shape rather than a square shape, and preferably has a wide particle size distribution. For example, if the filler is 75
When blended by volume or more, it is desirable that 70% by weight or more of the particles be spherical particles, which are distributed over a wide range of 0.1 to 80 μm. Since such a filler tends to have a close-packed structure, even if the amount is increased, the viscosity of the material does not increase so much that a composition having excellent fluidity can be obtained.

【0020】本発明のエポキシ樹脂組成物を封止用成形
材料として用いる場合、封止される素子を備える電子部
品装置の耐湿性を向上させる観点からは、陰イオン交換
体を添加することが好ましい。ここで問題とする耐湿性
とはICパッケージ等の電子部品装置の耐湿信頼性であ
り、特にバイアス型高温高湿試験、HAST(HighlyAc
celerated Humidity and Stress Test)などの電圧印加
下での耐湿性試験が対象である。これらの耐湿性試験で
発生する不良モードは殆どがICの素子上に形成されて
いるアルミ配線の腐食による断線であるが、本発明の
(A)成分のエポキシ樹脂、(B)成分のフェノール樹
脂、(C)成分の硬化促進剤及び(D)成分の特定配合
量の無機充填剤の組合せからなるエポキシ樹脂組成物を
使用することで良好な耐湿信頼性を得ることができる。
しかし、更に優れた電圧印加型の耐湿性を得るためには
陰イオン交換体の添加が有効である。電圧印加型耐湿試
験の場合は陽極側のアルミ配線が特に腐食しやすく、こ
の原因としては以下の現象が考えられる。陽極側の配線
またはボンディングパッドは水分が存在する場合、水の
電気分解により発生する酸素により陽極酸化を受け、表
面に安定な酸化アルミの皮膜が形成されるためアルミ腐
食は進行しないはずである。しかし、微量でも塩素など
のハロゲンイオンが存在すると酸化アルミ膜を可溶化す
るため、下地のアルミが溶解する孔食腐食となる。この
陽極側の孔食腐食は陰極側の粒界腐食と比較し進行が速
いため、電圧印加型耐湿試験では陽極側のアルミ配線腐
食が先に進行し不良となる。そこで、陽極側の腐食を防
止するためには微量のハロゲンイオンを捕捉できる陰イ
オン交換体の添加が有効になる。
When the epoxy resin composition of the present invention is used as a molding material for sealing, it is preferable to add an anion exchanger from the viewpoint of improving the moisture resistance of an electronic component device having an element to be sealed. . The moisture resistance to be considered here refers to the humidity resistance of an electronic component device such as an IC package, and in particular, a bias-type high-temperature high-humidity test, HAST (HighlyAcid
The target is a moisture resistance test under voltage application such as a celerated humidity and stress test. Most of the failure modes generated in these moisture resistance tests are disconnections due to corrosion of aluminum wiring formed on IC elements. The epoxy resin of component (A) and the phenol resin of component (B) of the present invention Good moisture resistance reliability can be obtained by using an epoxy resin composition comprising a combination of a curing accelerator of component (C) and a specific amount of inorganic filler of component (D).
However, the addition of an anion exchanger is effective for obtaining more excellent voltage application type moisture resistance. In the case of the voltage application type moisture resistance test, the aluminum wiring on the anode side is particularly susceptible to corrosion, and the following phenomena can be considered as the cause. When water is present, the wiring or bonding pad on the anode side is subjected to anodic oxidation by oxygen generated by the electrolysis of water, and a stable aluminum oxide film is formed on the surface, so that aluminum corrosion should not proceed. However, the presence of a small amount of halogen ions such as chlorine solubilizes the aluminum oxide film, resulting in pitting corrosion in which the underlying aluminum is dissolved. Since the pitting corrosion on the anode side progresses faster than the grain boundary corrosion on the cathode side, in the voltage application type moisture resistance test, the corrosion of the aluminum wiring on the anode side proceeds first and becomes defective. Therefore, in order to prevent corrosion on the anode side, it is effective to add an anion exchanger capable of capturing a trace amount of halogen ions.

【0021】本発明において用いることのできる陰イオ
ン交換体としては特に制限はないが、次式(VII)で示
されるハイドロタルサイト類や、
The anion exchanger that can be used in the present invention is not particularly limited, but hydrotalcites represented by the following formula (VII),

【化10】 Mg1-xAlx(OH)2(CO3x/2・mH2O ……(VII) (0<x≦0.5、nは正数) マグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、
ビスマスから選ばれる元素の含水酸化物が好ましく、こ
れらを単独で用いても2種以上併用してもよい。
Embedded image Mg 1-x Al x (OH) 2 (CO 3 ) x / 2 · mH 2 O (VII) (0 <x ≦ 0.5, n is a positive number) Magnesium, aluminum, titanium, zirconium,
A hydrated oxide of an element selected from bismuth is preferred, and these may be used alone or in combination of two or more.

【0022】ハイドロタルサイト類は、ハロゲンイオン
などの陰イオンを構造中のCO3と置換することで捕捉
し、結晶構造の中に組み込まれたハロゲンイオンは約3
50℃以上で結晶構造が破壊するまで脱離しない性質を
持つ化合物である。この様な性質を持つハイドロタルサ
イト類を例示すれば、天然物として産出されるMg6
2(OH)16CO3・4H2Oや合成品としてMg4.3
2(OH)12.6CO3・mH2Oなどが挙げられる。ま
た、本発明のエポキシ樹脂組成物は(B)成分のフェノ
ール樹脂の影響で、純水を使用した硬化物の抽出液がp
H値3〜5と酸性を示す。したがって、両性金属である
アルミに対しては腐食しやすい環境となるが、ハイドロ
タルサイト類は酸を吸着する作用も持つことから抽出液
を中性に近づける作用もあり、この作用効果もハイドロ
タルサイト類添加がアルミ腐食防止に対し有効に働く要
因であると推察できる。
Hydrotalcites are trapped by replacing an anion such as a halogen ion with CO 3 in the structure, and the halogen ion incorporated in the crystal structure is about 3
It is a compound that has the property of not desorbing at 50 ° C. or higher until the crystal structure is broken. An example of hydrotalcites having such properties is Mg 6 A produced as a natural product.
l 2 (OH) 16 CO 3 · 4H 2 O or Mg 4.3 A as a synthetic product
l 2 (OH) 12.6 CO 3 · mH 2 O and the like. In addition, the epoxy resin composition of the present invention has an effect that the extract of the cured product using pure water is p
H value of 3 to 5 and acidity. Therefore, although the environment is susceptible to corrosion for aluminum, which is an amphoteric metal, hydrotalcites also have the effect of adsorbing acids, and therefore have the effect of bringing the extract closer to neutrality. It can be inferred that the addition of sites is a factor that works effectively to prevent aluminum corrosion.

【0023】マグネシウム、アルミニウム、チタン、ジ
ルコニウム、ビスマス、アンチモンから選ばれる元素の
含水酸化物も、ハロゲンイオンを水酸イオンと置換する
ことで捕捉でき、さらにこれらのイオン交換体は酸性側
で優れたイオン交換能を示す。本発明の封止用エポキシ
樹脂成形材料については、前述のように抽出液が酸性側
となることから、これらの含水酸化物もアルミ腐食防止
に対し特に有効である。これらを例示すればMgOnH
2O、Al23nH2O、TiO2nH2O、ZrO2nH2
O、Bi23nH2O、Sb25nH2Oなどの含水酸化
物が挙げられる。
Hydrous oxides of elements selected from magnesium, aluminum, titanium, zirconium, bismuth, and antimony can also be captured by replacing halogen ions with hydroxide ions, and these ion exchangers are excellent on the acidic side. Shows ion exchange capacity. As for the sealing epoxy resin molding material of the present invention, since the extract is on the acidic side as described above, these hydrated oxides are also particularly effective in preventing aluminum corrosion. For example, MgOnH
2 O, Al 2 O 3 nH 2 O, TiO 2 nH 2 O, ZrO 2 nH 2
O, Bi 2 O 3 nH 2 O, and hydrated oxides such as Sb 2 O 5 nH 2 O are exemplified.

【0024】これらの陰イオン交換体の配合量は、ハロ
ゲンイオンなどの陰イオンを捕捉できる十分量であれば
特に限定されるものではないが、(A)成分のエポキシ
樹脂100重量部対して、0.1〜30重量部の範囲に
設定されることが好ましく、より好ましくは1〜5重量
部である。
The blending amount of these anion exchangers is not particularly limited as long as it is a sufficient amount to capture anions such as halogen ions. It is preferably set in the range of 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 1 to 5 parts by weight.

【0025】本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に
応じて樹脂成分と充項剤との接着性を高めるためのカッ
プリング剤として、エポキシシラン、メルカプトシラ
ン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、
ビニルシラン等の各種シラン系化合物、チタン系化合
物、アルミニウムキレート類、アルミニウム/ジルコニ
ウム系化合物等の公知の添加剤を用いることができる。
また、カーボンブラック、有機染料、有機顔料、酸化チ
タン、鉛丹、ベンガラ等の公知の着色剤を添加しても良
い。
The epoxy resin composition of the present invention may contain epoxy silane, mercapto silane, amino silane, alkyl silane, ureido silane, as a coupling agent for enhancing the adhesiveness between the resin component and the filler as required.
Known additives such as various silane compounds such as vinyl silane, titanium compounds, aluminum chelates, and aluminum / zirconium compounds can be used.
Further, a known coloring agent such as carbon black, an organic dye, an organic pigment, titanium oxide, lead red, and red iron oxide may be added.

【0026】本発明のエポキシ樹脂組成物には、成形時
に金型との良好な離型性を持たせるため離型剤を添加し
てもよい。この離型剤としては、酸化型または非酸化型
のポリオレフィンを(A)成分のエポキシ樹脂100重
量部に対して0.01〜10重量部添加することが好ま
しく、より好ましい添加量は0.1〜5重量部である。
0.01重量部未満では十分な離型性を得ることができ
ず、10重量部を超えると接着性が阻害されるおそれが
ある。この酸化型または非酸化型のポリオレフィンとし
ては、ヘキスト社製H4やPE、PEDシリーズ等の数
平均分子量が500〜10000程度の低分子量ポリエ
チレンなどが挙げられる。また、これ以外の離型剤とし
ては、例えばカルナバワックス、モンタン酸工ステル、
モンタン酸、ステアリン酸などが挙げられ、単独で用い
ても2種以上併用してもよい。酸化型または非酸化型の
ポリオレフィンに加えてこれら他の離型剤を併用する場
合、その配合割合は(A)成分のエポキシ樹脂100重
量部に対して通常0.l〜10重量部が好ましく、より
好ましくは0.5〜3重量部である。
A release agent may be added to the epoxy resin composition of the present invention in order to have good releasability from a mold during molding. As the release agent, it is preferable to add 0.01 to 10 parts by weight of an oxidized or non-oxidized polyolefin to 100 parts by weight of the epoxy resin (A), more preferably 0.1 to 10 parts by weight. -5 parts by weight.
If the amount is less than 0.01 parts by weight, sufficient releasability cannot be obtained, and if it exceeds 10 parts by weight, the adhesiveness may be impaired. Examples of the oxidized or non-oxidized polyolefin include low molecular weight polyethylene having a number average molecular weight of about 500 to 10,000 such as H4, PE, and PED series manufactured by Hoechst. Further, as other release agents, for example, carnauba wax, montanic acid ester,
Examples thereof include montanic acid and stearic acid, which may be used alone or in combination of two or more. When these other release agents are used in addition to the oxidized or non-oxidized polyolefin, the mixing ratio thereof is usually 0.1 to 100 parts by weight of the epoxy resin (A). The amount is preferably 1 to 10 parts by weight, more preferably 0.5 to 3 parts by weight.

【0027】本発明のエポキシ樹脂組成物には、電子部
品装置に難燃性を付与するために難燃剤を添加してもよ
い。この難燃剤としては、ハロゲン原子、アンチモン原
子、窒素原子又はリン原子を含む公知の有機若しくは無
機の化合物、金属水酸化物などが挙げられ、中でも、臭
素化エポキシ樹脂、三酸化アンチモンなどが好ましい。
これらの難燃剤は(A)成分のエポキシ樹脂100重量
部に対して1〜30重量部配合されることが好ましく、
より好ましくは2〜15重量部である。さらに、その他
の添加剤として、シリコーンオイルやシリコーンゴム粉
末等の応力緩和剤などを必要に応じて配合することがで
きる。
A flame retardant may be added to the epoxy resin composition of the present invention in order to impart flame retardancy to the electronic component device. Examples of the flame retardant include known organic or inorganic compounds containing a halogen atom, an antimony atom, a nitrogen atom or a phosphorus atom, and metal hydroxides. Among them, a brominated epoxy resin and antimony trioxide are preferable.
These flame retardants are preferably blended in an amount of 1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin (A).
More preferably, it is 2 to 15 parts by weight. Further, as other additives, a stress relieving agent such as silicone oil or silicone rubber powder can be blended as required.

【0028】本発明の樹脂組成物は、各種成分を均一に
分散混合できるのであれば、いかなる手法を用いても調
製できるが、一般的な手法として、所定の配合量の成分
をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロー
ル、押出機等によって溶融混練した後、冷却、粉砕する
方法を挙げることができる。例えば、上述した成分の所
定量を均一に撹拌、混合し、予め70〜140℃に加熱
してあるニーダー、ロール、エクストルーダーなどで混
練、冷却し、粉砕するなどの方法で得ることができる。
成形条件に合うような寸法及び重量でタブレット化する
と使いやすい。
The resin composition of the present invention can be prepared by any method as long as the various components can be uniformly dispersed and mixed. As a general method, a predetermined amount of components is sufficiently mixed with a mixer or the like. After mixing, melt-kneading with a mixing roll, an extruder or the like, then cooling and pulverizing may be mentioned. For example, a predetermined amount of the above-described components can be uniformly stirred and mixed, kneaded with a kneader, roll, extruder, or the like that has been previously heated to 70 to 140 ° C., cooled, and pulverized.
It is easy to use if it is tableted with dimensions and weight that match the molding conditions.

【0029】本発明で得られるエポキシ樹脂組成物によ
り素子を封止して得られる電子部品装置としては、リー
ドフレーム上に半導体素子を固定し、素子の端子部(ボ
ンディングパッドなど)とリード部をワイヤボンディン
グやバンプなどで接続した後、エポキシ樹脂組成物を用
いてトランスファ成形などにより封止してなる、一般的
な樹脂封止型ICパッケージ等が挙げられる。これを例
示すればDIP(DualInline Package)、PLCC(Pl
astic Leaded Chip Carrier)、QFP(QuadFlat Pack
age)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Sm
all OutlineJ-lead package)、TSOP(Thin Small
Outline Package)、TQFP(ThinQuad Flat Packag
e)などが挙げられ、特に表面実装法により配線板に実
装される電子部品装置に適用した場合、優れた信頼性を
発揮できる。また、上記に示したリード(外部接続端
子)を有する樹脂封止型パッケージの形態であれば、封
止される素子はトランジスタ、サイリスタ、IC、LS
I、ダイオードなどの半導体素子ばかりでなく、抵抗
体、抵抗アレイ、コンデンサ、ポリスイッチなどのスイ
ッチ類なども対象となり、本発明のエポキシ樹脂組成物
はこれらの素子に対しても優れた信頼性を提供できると
ともに、各種素子や電子部品をセラミック基板に搭載し
た後に全体を封止してなるハイブリットICについても
優れた信頼性を得ることができる。さらには、裏面に配
線板接続用の端子を形成した有機基板の表面に素子を搭
載し、バンプまたはワイヤボンディングにより素子と有
機基板に形成された配線を接続した後、エポキシ樹脂組
成物を用いて素子を封止してなる、BGA(Ball Grid
Array)やCSP(Chip Size Package)などの電子部品
装置についても優れた信頼性を得ることができる。プリ
ント回路板の製造などにも有効に使用できる。本発明で
得られる樹脂組成物を用いて、電子部品装置を封止する
方法としては、低圧トランスファー成形法が最も一般的
であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法等を用
いてもよい。
As an electronic component device obtained by encapsulating the device with the epoxy resin composition obtained by the present invention, a semiconductor device is fixed on a lead frame, and terminal portions (bonding pads, etc.) and a lead portion of the device are connected. A common resin-sealed IC package or the like, which is connected by wire bonding or bumps and then sealed by transfer molding or the like using an epoxy resin composition, may be mentioned. For example, DIP (Dual Inline Package), PLCC (Pl
astic Leaded Chip Carrier), QFP (QuadFlat Pack)
age), SOP (Small Outline Package), SOJ (Sm
all Outline J-lead package), TSOP (Thin Small)
Outline Package), TQFP (ThinQuad Flat Packag)
e) and the like, and particularly when applied to an electronic component device mounted on a wiring board by a surface mounting method, excellent reliability can be exhibited. In the case of the above-described resin-sealed package having leads (external connection terminals), the elements to be sealed are transistors, thyristors, ICs, and LSs.
Not only semiconductor devices such as I and diodes, but also resistors, resistor arrays, capacitors, switches such as polyswitches, etc., and the epoxy resin composition of the present invention has excellent reliability for these devices. In addition to the above, it is possible to obtain excellent reliability for a hybrid IC in which various elements and electronic components are mounted on a ceramic substrate and then entirely sealed. Furthermore, after mounting the element on the surface of the organic substrate on which the terminals for wiring board connection are formed on the back surface and connecting the element and the wiring formed on the organic substrate by bump or wire bonding, using an epoxy resin composition BGA (Ball Grid) with elements sealed
Excellent reliability can also be obtained for electronic component devices such as an Array) and a CSP (Chip Size Package). It can also be used effectively for manufacturing printed circuit boards. As a method for sealing an electronic component device using the resin composition obtained by the present invention, a low-pressure transfer molding method is the most common, but an injection molding method, a compression molding method, or the like may be used.

【0030】[0030]

【実施例】次に本発明の実施例を示すが、本発明の範囲
はこれらの実施例に限定されるものではない。 実施例1〜12、比較例1〜13 エポキシ樹脂としてはエポキシ当量196、融点106
℃のビフェニル骨格型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂1:
油化シェルエポキシ(株)製、YX-4000H)、エポキシ当
量192、融点79℃のジフェニルメタン骨格型エポキ
シ樹脂(エポキシ樹脂2:新日鐡化学(株)製、ESLV-8
0XY)、エポキシ当量192、軟化点80℃、臭素含有
量48重量%の臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(臭素化エポキシ1)、エポキシ当量393、軟化点8
0℃、臭素含有量48重量%の臭素化ビスフェノールA
型エポキシ樹脂(臭素化エポキシ2)、硬化剤としては
水酸基当量176、軟化点70℃のフェノール・アラル
キル樹脂(硬化剤1:三井化学(株)製、ミレックスXL
-225)、水酸基当量199、軟化点89℃のビフェニル
骨格型フェノールノボラック樹脂(硬化剤2:明和化成
(株)製、MEH-7851)、水酸基当量197、軟化点79
℃のナフトールフェノールノボラック樹脂(硬化剤3:
新日本製鐵化学(株)製、SN-180)、実施例の硬化促進
剤としては前記表1の例示化合物No.1、3、5、
7、10、14、20、22、比較例の硬化促進剤とし
てはトリフェニルホスフィン(促進剤A)、トリフェニ
ルホスフィンとpーベンゾキノンとの付加反応物(促進
剤B)、トリ(p−トリル)ホスフィンとpーベンゾキ
ノンとの付加反応物(促進剤C)、1,8−ジアザビシ
クロ[5.4.0]ウンデセン−7のフェノールノボラ
ック塩(サンアプロ(株)製、U-CAT SA-841)(促進剤
D)、無機充填剤としては溶融石英粉を用い、その他の
添加成分としてはカップリング剤としてγ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン、カルナバワックス、三
酸化アンチモン、カーボンブラックを用い、表2、表3
に示す重量比で配合し、混練温度80〜90℃、混練時
間15分の条件でロール混練を行い、実施例1〜12、
比較例1〜13のエポキシ樹脂組成物を得た。
EXAMPLES Next, examples of the present invention will be described, but the scope of the present invention is not limited to these examples. Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 13 Epoxy equivalents of 196 and melting point of 106 were used as epoxy resins.
Biphenyl skeleton type epoxy resin (epoxy resin 1:
Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., YX-4000H), diphenylmethane skeleton type epoxy resin having an epoxy equivalent of 192 and a melting point of 79 ° C. (Epoxy resin 2: Nippon Steel Chemical Co., Ltd., ESLV-8)
0XY), an epoxy equivalent of 192, a softening point of 80 ° C., a brominated bisphenol A type epoxy resin having a bromine content of 48% by weight (brominated epoxy 1), an epoxy equivalent of 393, and a softening point of 8
Brominated bisphenol A with 0 ° C and bromine content of 48% by weight
Type epoxy resin (brominated epoxy 2), phenol aralkyl resin having a hydroxyl equivalent of 176 and a softening point of 70 ° C. as a curing agent (curing agent 1: manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., Millex XL)
-225), a biphenyl skeleton phenol novolak resin having a hydroxyl equivalent of 199 and a softening point of 89 ° C (curing agent 2: MEH-7851 manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.), a hydroxyl equivalent of 197, and a softening point of 79
Naphthol phenol novolak resin (curing agent 3:
(Nippon Steel Chemical Co., Ltd., SN-180). 1, 3, 5,
7, 10, 14, 20, 22, and triphenylphosphine (accelerator A), an addition reaction product of triphenylphosphine with p-benzoquinone (accelerator B), and tri (p-tolyl) as a curing accelerator in Comparative Examples. Addition product of phosphine and p-benzoquinone (promoter C), phenol novolak salt of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (U-CAT SA-841 manufactured by San Apro Co., Ltd.) (promoted) Agent D), fused silica powder was used as an inorganic filler, and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, carnauba wax, antimony trioxide, and carbon black were used as coupling agents as other additives. Table 3
Roll kneading was performed under the conditions of a kneading temperature of 80 to 90 ° C. and a kneading time of 15 minutes.
Epoxy resin compositions of Comparative Examples 1 to 13 were obtained.

【0031】[0031]

【表2】 [Table 2]

【0032】[0032]

【表3】 [Table 3]

【0033】実施例、比較例で得られたエポキシ樹脂組
成物について、次の(1)〜(6)の各種特性試験を行
った。結果を表4及び表5に示す。 (1)スパイラルフロー EEMI1−66に準じて、180℃、7Mpa、90
秒の条件で成形したときの流動長さ(インチ)を測定し
た。 (2)熱時硬度(ショアD) 180℃、7Mpa、90秒の条件で成形したときの試
験片(50mmφ×3mmt)のショアD硬度を測定し
た。 (3)吸湿時熱時硬度(ショアD) 25℃/50%RHの条件で72時間放置後の樹脂組成
物を用いて上記(2)と同様に熱時硬度を測定した。 (4)PIQピール接着力(N/m) 10μmのPIQ層が形成された幅10mm、厚さ5μ
mのアルミニウム箔を用いて、PIQ層上に180℃、
7Mpaの条件で3mmtの板状試験片を形成し、90
°方向、50mm/分の速度でピール強度を測定。 (5)耐湿性 線幅10μm、厚さ1μmのアルミ配線を施したTEG
チップを用いて作製したSOPパッケージ(18.3×
8.4×2.6mm、28ピン、42アロイリードフレ
ーム)を、175℃で5時間アフタキュア後、85℃/
85%RHで72時間加湿した。次いで215℃/90
秒VPSリフロー処理を行い、所定時間2気圧PCT処
理を行いアルミ配線腐食による断線の有無を評価した。 (6)内部ボイド発生数 180℃、7Mpa、90秒の条件で成形した8×10
(mm)の素子を搭載した80ピン、外形14×20×
2t(mm)のQFPパッケージ(シリコンチップとリ
ードフレームを繋ぐ金線の平均長さは6mm)を軟X線
透視装置で観察して0.1mmφ以上の大きさのボイド
数をカウントした。
The epoxy resin compositions obtained in Examples and Comparative Examples were subjected to the following various property tests (1) to (6). The results are shown in Tables 4 and 5. (1) Spiral flow 180 ° C., 7 Mpa, 90 according to EEMI1-66
The flow length (in inches) when molded under the condition of seconds was measured. (2) Hot Hardness (Shore D) The Shore D hardness of a test piece (50 mmφ × 3 mmt) when molded under the conditions of 180 ° C., 7 MPa, and 90 seconds was measured. (3) Hot Hardness During Moisture Absorption (Shore D) The hot hardness was measured in the same manner as in (2) above, using the resin composition left for 72 hours at 25 ° C./50% RH. (4) PIQ peel adhesive strength (N / m): width 10 mm, thickness 5 μ with 10 μm PIQ layer formed
180 ° C. on the PIQ layer using
A plate test piece of 3 mmt was formed under the condition of 7 Mpa,
The peel strength was measured at a speed of 50 mm / min in the ° direction. (5) Moisture resistance TEG with aluminum wiring of 10 μm line width and 1 μm thickness
SOP package (18.3 ×
8.4 × 2.6 mm, 28 pins, 42 alloy lead frame) was after-cured at 175 ° C. for 5 hours, and then heated at 85 ° C. /
Humidified at 85% RH for 72 hours. Then 215 ° C / 90
A second VPS reflow process was performed, and a 2 atm PCT process was performed for a predetermined time to evaluate the presence or absence of disconnection due to aluminum wiring corrosion. (6) Number of internal voids generated 8 × 10 molded under the conditions of 180 ° C., 7 MPa, and 90 seconds.
(Mm) 80-pin, 14 × 20 ×
A 2t (mm) QFP package (the average length of the gold wire connecting the silicon chip and the lead frame was 6 mm) was observed with a soft X-ray fluoroscope, and the number of voids having a size of 0.1 mmφ or more was counted.

【0034】[0034]

【表5】 [Table 5]

【0035】[0035]

【表6】 [Table 6]

【0036】実施例1〜8に示すように、本発明の樹脂
組成物は、約40インチのスパイラルフロー、約80の
熱時硬度、70以上の吸湿時熱時硬度を示し、PIQピ
ール接着力、耐湿信頼性及びボイド発生数の点で優れて
いた。これに対して、本発明の硬化促進剤を含まない比
較例では、比較例1の樹脂組成物では流動性が低く、ボ
イドの発生が極めて多かった。また比較例2の樹脂組成
物では吸湿時熱時硬度が劣り、比較例3の樹脂組成物で
は流動性及びPIQピール接着力が劣り、比較例4の樹
脂組成物では流動性、吸湿時熱時硬度及びボイド数が劣
っていた。さらに比較例5の樹脂組成物はPIQピール
接着力及び耐湿信頼性が劣っていた。また、異なる樹脂
組成について検討を行った実施例、比較例から、実施例
9〜12の本発明の樹脂組成物は、比較例6〜9の樹脂
組成物に比較して熱時硬度及び吸湿時熱時硬度が優れ、
比較例10〜13の樹脂組成物に比較して、PIQピー
ル接着力、耐湿信頼性及びボイド発生数の点で優れてい
た。
As shown in Examples 1 to 8, the resin composition of the present invention exhibited a spiral flow of about 40 inches, a hot hardness of about 80, a hot hardness of 70 or more, and a PIQ peel adhesive strength. , Moisture resistance reliability and the number of voids generated. On the other hand, in the comparative example not including the curing accelerator of the present invention, the resin composition of Comparative Example 1 had low fluidity and extremely generated voids. In addition, the resin composition of Comparative Example 2 was inferior in heat hardness at the time of moisture absorption, the resin composition of Comparative Example 3 was inferior in fluidity and PIQ peel adhesion, and the resin composition of Comparative Example 4 was excellent in fluidity and heat at moisture absorption. The hardness and the number of voids were inferior. Furthermore, the resin composition of Comparative Example 5 was inferior in PIQ peel adhesion and moisture resistance reliability. Further, from Examples and Comparative Examples in which different resin compositions were examined, the resin compositions of Examples 9 to 12 according to the present invention were compared with the resin compositions of Comparative Examples 6 to 9 in terms of hot hardness and moisture absorption. Excellent hot hardness,
Compared with the resin compositions of Comparative Examples 10 to 13, they were superior in terms of PIQ peel adhesion, moisture resistance reliability, and the number of voids generated.

【0037】[0037]

【発明の効果】実施例で示したように、本発明のエポキ
シ樹脂組成物は、ボイドの発生がなく、吸湿時の硬化
性、パッシベーション膜との接着性、及び耐湿性に優れ
ることから特に半導体の封止用途に好適に用いられ、そ
の工業的価値は大きい。
As shown in the examples, the epoxy resin composition of the present invention is particularly suitable for semiconductors because it has no voids, and is excellent in curability when absorbing moisture, adhesion to a passivation film, and moisture resistance. It is suitably used for sealing applications, and its industrial value is great.

フロントページの続き Fターム(参考) 4J002 CC042 CC062 CC282 CD011 CD021 CD041 CD051 CD061 CD101 CD131 CD141 CD171 CE002 DE078 DE098 DE138 DE148 DE238 DF018 DJ008 DJ018 DJ038 DJ048 DJ058 DK008 DL008 EN047 EN107 EN127 EU117 EW146 EW147 EY017 FD018 FD157 GQ05 4J036 AB01 AC05 AD07 AD08 AE05 AF05 AF06 AF10 AG06 AG07 AH07 DD07 FB07 FB08 4M109 AA01 BA01 BA03 CA21 EA03 EA06 EB03 EB04 EB06 EB07 EB08 EB09 EB12 EB16 EB19 EC03 EC05 Continued on the front page F-term (reference) 4J002 CC042 CC062 CC282 CD011 CD021 CD041 CD051 CD061 CD101 CD131 CD141 CD171 CE002 DE078 DE098 DE138 DE148 DE238 DF018 DJ008 DJ018 DJ038 DJ048 DJ058 DK008 DL008 EN047 EN107 EN127 EU117 EW146 EW147 017 017 017 017 017 AD08 AE05 AF05 AF06 AF10 AG06 AG07 AH07 DD07 FB07 FB08 4M109 AA01 BA01 BA03 CA21 EA03 EA06 EB03 EB04 EB06 EB07 EB08 EB09 EB12 EB16 EB19 EC03 EC05

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(A)1分子中に2個以上のエポキシ基を
有するエポキシ樹脂、(B)1分子中に2個以上のフェ
ノール性水酸基を有するフェノール樹脂、(C)次式
(I)で示される硬化促進剤、 【化1】 (ここで、R1、R2は、水素、炭素数1〜6のアルキル
基及び炭素数1〜6のアルコキシル基から選ばれ、両者
が水素の場合を除き同一でも、異なっていてもよい。R
3は水素または炭素数1〜6のアルキル基を示し、mは
1または2を示す。)を必須成分として含有することを
特徴とするエポキシ樹脂組成物。
1. An epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, (B) a phenolic resin having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, (C) a phenolic resin having the following formula (I): A curing accelerator represented by the formula: (Here, R 1 and R 2 are selected from hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms, and may be the same or different except when both are hydrogen. R
3 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and m represents 1 or 2. ) As an essential component.
【請求項2】組成物全体に対して55体積%以上の無機
充填剤(D)を含有することを特徴とする請求項1記載
のエポキシ樹脂組成物。
2. The epoxy resin composition according to claim 1, which contains 55% by volume or more of an inorganic filler (D) based on the whole composition.
【請求項3】エポキシ樹脂(A)のエポキシ基とフェノ
ール樹脂(B)のフェノール性水酸基との当量比
((B)/(A))が0.5〜2であることを特徴とす
る請求項1または請求項2記載のエポキシ樹脂組成物。
3. An equivalent ratio ((B) / (A)) of an epoxy group of the epoxy resin (A) to a phenolic hydroxyl group of the phenol resin (B) is from 0.5 to 2. Item 3. The epoxy resin composition according to item 1 or 2.
【請求項4】(A)成分が次式(II)及び/又は次式
(III)のエポキシ樹脂を含むことを特徴とする請求項
1〜3各項記載のいずれかのエポキシ樹脂組成物。 【化2】 (ここで、式中各4個のR4、R5は全て同一でも異なっ
ていてもよく、水素またはメチル基を示す。)
4. The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the component (A) contains an epoxy resin represented by the following formula (II) and / or (III). Embedded image (Here, each of the four R 4 and R 5 in the formula may be the same or different and represents hydrogen or a methyl group.)
【請求項5】(B)成分が次式(IV)、次式(V)及び
次式(VI)で示されるフェノール樹脂の少なくともいず
れかを含むことを特徴とする請求項1〜4各項記載のい
ずれかのエポキシ樹脂組成物。 【化3】 (ここで、X、Y、Zは0〜10を示す。)
5. The composition according to claim 1, wherein the component (B) contains at least one of the phenolic resins represented by the following formulas (IV), (V) and (VI). An epoxy resin composition according to any of the preceding claims. Embedded image (Here, X, Y, and Z show 0-10.)
【請求項6】請求項1〜5各項記載のいずれかのエポキ
シ樹脂組成物により封止された素子を備える電子部品装
置。
6. An electronic component device comprising an element sealed with the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 5.
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