JP2000009573A - 静電容量式圧力センサ - Google Patents

静電容量式圧力センサ

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JP2000009573A
JP2000009573A JP10177342A JP17734298A JP2000009573A JP 2000009573 A JP2000009573 A JP 2000009573A JP 10177342 A JP10177342 A JP 10177342A JP 17734298 A JP17734298 A JP 17734298A JP 2000009573 A JP2000009573 A JP 2000009573A
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JP
Japan
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pressure sensor
diaphragm
silicon chip
movable electrode
fixed electrode
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JP10177342A
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English (en)
Inventor
Takayoshi Awai
崇善 粟井
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 温度が変化してもシリコンチップに歪みが生
じない感度温度特性が良好な静電容量式圧力センサを提
供する。 【解決手段】 ダイアフラム構造を有するシリコンチッ
プ1と、シリコンチップ1に接合される上部台座8及び
下部台座9とで構成され、ダイアフラム11には可動電
極5を設け、上部台座8には固定電極4を設け、可動電
極5と固定電極4とを対向配置し、両者間の静電容量の
変化により圧力を測定する静電容量式圧力センサにおい
て、上部台座8及び下部台座9をシリコンで形成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ダイアフラム構造
を有するシリコンチップのダイアフラムに設けられた可
動電極と上部台座に設けられた固定電極を対向配置し、
両者間の静電容量の変化により圧力を測定する静電容量
式圧力センサに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の静電容量式圧力センサに
は、特開平3−158731号や特開平7−30610
7号に記載されたものがあり、図5に示すように、ダイ
アフラム構造を有するシリコンチップ1の上部にガラス
製の上部台座2が陽極接合され、シリコンチップ1の下
部にはガラス製の下部台座3が陽極接合されてなる。
【0003】上部台座2には凹部21が形成され、この
凹部21の底部に固定電極4が設けられている。シリコ
ンチップ1のダイアフラム11の上面には可動電極5が
設けられ、可動電極5と固定電極4とが対向配置される
ようになっている。また、下部台座3には、圧力をダイ
アフラム11に導入するための圧力導入孔31が形成さ
れている。さらに、下部台座3はパッケージ6に固定さ
れる。また、シリコンチップ1上には集積回路7が形成
されており、回路一体化チップとなっている。
【0004】このような静電容量式圧力センサにおい
て、圧力によるダイアフラム11の歪みを可動電極5と
固定電極4との間の静電容量の変化として検出すること
により、圧力が検出されるのである。
【0005】下部台座3は、温度変化によりパッケージ
6が伸縮した時に、シリコンチップ1に歪みが発生する
のを抑えるために設けられている。この下部台座3の材
料としては、ガラスの中では比較的シリコンの線膨張係
数に近い線膨張係数を有するパイレックスガラス(コー
ニング社製、品番♯7740)等が用いられる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような静電容量式圧力センサにあっては、下部台座3と
して用いられるパイレックスガラスは線膨張係数がシリ
コンと比較的近いといっても差があり、この差により、
なお、シリコンチップ1に歪みが発生するという問題が
あった。
【0007】本発明は、上記の点に鑑みてなしたもので
あり、その目的とするところは、温度が変化してもシリ
コンチップに歪みが生じない感度温度特性が良好な静電
容量式圧力センサを提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
ダイアフラム構造を有するシリコンチップと、該シリコ
ンチップに接合される上部台座及び下部台座とで構成さ
れ、ダイアフラムには可動電極を設け、前記上部台座に
は固定電極を設け、可動電極と固定電極とを対向配置
し、両者間の静電容量の変化により圧力を測定する静電
容量式圧力センサにおいて、前記上部台座及び下部台座
をシリコンで形成したことを特徴とするものである。
【0009】請求項2記載の発明は、請求項1記載の発
明において、前記ダイアフラムの表面に可動電極を設
け、上部台座に凹部を形成し、該凹部の底部に固定電極
を設け、該固定電極と前記可動電極とを対向配置させる
ようにしたことを特徴とするものである。
【0010】請求項3記載の発明は、請求項1記載の発
明において、シリコン基板を両面からエッチングするこ
とによりダイアフラムを形成し、該ダイアフラムの表面
に可動電極を設け、上部台座の下面に固定電極を設ける
ようにしたことを特徴とするものである。
【0011】請求項4記載の発明は、請求項1記載の発
明において、ダイアフラムの裏面に可動電極を設け、シ
リコンチップを上下逆向きにし、上部台座に凸部を形成
し、該凸部に固定電極を設け、該固定電極と前記可動電
極とを対向配置させるようにしたことを特徴とするもの
である。
【0012】請求項5記載の発明は、請求項1乃至請求
項4記載の発明において、上部台座に集積回路を形成し
たことを特徴とするものである。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の一例
を図面に基づき説明する。図1は、本発明の第1の実施
形態に係る静電容量式圧力センサの概略構成を示す断面
の模式図である。本実施形態の静電容量式圧力センサ
は、図5で示した従来のものに対して、上部台座及び下
部台座をシリコンチップ1と同じシリコンにより形成し
たものである。他の基本的構成は図5の静電容量式圧力
センサと同等であるので、同一個所には同一符号を付し
て説明を省略する。
【0014】本実施形態において、8は上部台座であ
り、シリコン基板をエッチングすることにより凹部81
が形成され、この凹部81の底部に固定電極4が設けら
れている。また、9は下部台座であり、シリコン基板を
エッチング等により圧力導入孔91を形成してなる。シ
リコンチップ1とシリコン製の上部台座8、下部台座9
との接合は、各接合面を原子サイズレベルまで平坦にな
るように研磨し、10-7Torr以上の真空度のチャン
バー内で、圧力を印加しながら接合面を直接貼り合わせ
ることにより行うことができる。
【0015】本実施形態によれば、下部台座9がシリコ
ンチップ1と同じシリコンにより形成されており、温度
変化により、パッケージ6が熱収縮しても、シリコンチ
ップ1と下部台座9の線膨張係数が同じ値であるので、
シリコンチップ1に影響が及ぼされることがなくなり、
良好な感度温度特性が得られる。
【0016】図2は本発明の第2の実施形態に係る静電
容量式圧力センサの概略構成を示す断面の模式図であ
る。本実施形態は、第1の実施形態の静電容量式圧力セ
ンサにおいて、上部台座8の上面に集積回路7が形成さ
れたものである。上部台座8がシリコン製であるので、
従来の静電容量式圧力センサのように、シリコンチップ
1上に形成する替りに、上部台座8上に形成することが
できるのである。
【0017】本実施形態によれば、集積回路7が上部台
座8上に形成されるので、より小型化が実現できるので
ある。
【0018】図3は、本発明の第3の実施形態に係る静
電容量式圧力センサの概略構成を示す断面の模式図であ
り、上述の実施形態では、上部台座8に凹部81を形成
し、凹部81の底部に固定電極4を設けることにより、
固定電極4と可動電極5間の距離を確保しているが、本
実施形態では、上部台座8は平板形状とし、シリコンチ
ップ1の方を上下両方からエッチングしてダイアフラム
12を形成し、上部台座8の下面に固定電極4を設け、
ダイアフラム12の上面に可動電極5を設けることによ
り、固定電極4と可動電極5間の距離を確保するように
している。
【0019】図4は、本発明の第4の実施形態に係る静
電容量式圧力センサの概略構成を示す断面の模式図であ
り、本実施形態では、シリコンチップ1の上下を逆にし
ダイアフラム11の裏面側に可動電極5を設けるととも
に、上部台座8に凸部82を形成し、この凸部82の前
面に固定電極4を設けることにより、固定電極4と可動
電極5間の距離を確保するようにしたものである。
【0020】
【発明の効果】以上のように、請求項1乃至請求項4記
載の発明によれば、ダイアフラム構造を有するシリコン
チップと、該シリコンチップに接合される上部台座及び
下部台座とで構成され、ダイアフラムには可動電極を設
け、前記上部台座には固定電極を設け、可動電極と固定
電極とを対向配置し、両者間の静電容量の変化により圧
力を測定する静電容量式圧力センサにおいて、前記上部
台座及び下部台座をシリコンで形成したので、下部台座
がシリコンチップと同じシリコンにより形成されてお
り、温度変化により、下部台座が接合されるパッケージ
が熱収縮しても、シリコンチップと下部台座の線膨張係
数が同じ値であり、シリコンチップに影響が及ぼされる
ことがなくなり、良好な感度温度特性の静電容量式圧力
センサが得られた。
【0021】請求項5記載の発明によれば、上部台座に
集積回路を形成するようにすれば、より小型化が実現で
きるのである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る静電容量式圧力
センサの概略構成を示す断面の模式図である。
【図2】本発明の第2の実施形態に係る静電容量式圧力
センサの概略構成を示す断面の模式図である。
【図3】本発明の第3の実施形態に係る静電容量式圧力
センサの概略構成を示す断面の模式図である。
【図4】本発明の第4の実施形態に係る静電容量式圧力
センサの概略構成を示す断面の模式図である。
【図5】従来例に係る静電容量式圧力センサの概略構成
を示す断面の模式図である。
【符号の説明】
1 シリコンチップ 4 固定電極 5 可動電極 6 パッケージ 7 集積回路 8 上部台座 9 下部台座 11 ダイアフラム 12 ダイアフラム 81 凹部 82 凸部 91 圧力導入孔91

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ダイアフラム構造を有するシリコンチッ
    プと、該シリコンチップに接合される上部台座及び下部
    台座とで構成され、ダイアフラムには可動電極を設け、
    前記上部台座には固定電極を設け、可動電極と固定電極
    とを対向配置し、両者間の静電容量の変化により圧力を
    測定する静電容量式圧力センサにおいて、前記上部台座
    及び下部台座をシリコンで形成したことを特徴とする静
    電容量式圧力センサ。
  2. 【請求項2】 前記ダイアフラムの表面に可動電極を設
    け、上部台座に凹部を形成し、該凹部の底部に固定電極
    を設け、該固定電極と前記可動電極とを対向配置させる
    ようにしたことを特徴とする請求項1記載の静電容量式
    圧力センサ。
  3. 【請求項3】 シリコン基板を両面からエッチングする
    ことによりダイアフラムを形成し、該ダイアフラムの表
    面に可動電極を設け、上部台座の下面に固定電極を設け
    るようにしたことを特徴とする請求項1記載の静電容量
    式圧力センサ。
  4. 【請求項4】 ダイアフラムの裏面に可動電極を設け、
    シリコンチップを上下逆向きにし、上部台座に凸部を形
    成し、該凸部に固定電極を設け、該固定電極と前記可動
    電極とを対向配置させるようにしたことを特徴とする請
    求項1記載の静電容量式圧力センサ。
  5. 【請求項5】 上部台座に集積回路を形成したことを特
    徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の静電
    容量式圧力センサ。
JP10177342A 1998-06-24 1998-06-24 静電容量式圧力センサ Pending JP2000009573A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010032220A (ja) * 2008-07-24 2010-02-12 Panasonic Electric Works Co Ltd 半導体装置の電極取り出し構造
US20150090029A1 (en) * 2013-09-30 2015-04-02 Seiko Epson Corporation Physical quantity sensor, pressure sensor, altimeter, electronic apparatus, and moving object

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