JP2000005591A - 充填筒 - Google Patents

充填筒

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JP2000005591A
JP2000005591A JP17692798A JP17692798A JP2000005591A JP 2000005591 A JP2000005591 A JP 2000005591A JP 17692798 A JP17692798 A JP 17692798A JP 17692798 A JP17692798 A JP 17692798A JP 2000005591 A JP2000005591 A JP 2000005591A
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JP
Japan
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gas
cylinder
gas flow
filler
columnar body
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Pending
Application number
JP17692798A
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English (en)
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Akihiko Nitta
昭彦 新田
Yoshiaki Sugimori
由章 杉森
Kazuhiro Miyazawa
和浩 宮澤
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Japan Oxygen Co Ltd
Nippon Sanso Corp
Original Assignee
Japan Oxygen Co Ltd
Nippon Sanso Corp
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Publication date
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  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 筒内のガスの流れを均一化して反応剤等の充
填剤の使用効率を向上させることにより、各種処理コス
トの低減を図れる充填筒を提供する。 【解決手段】 粒状充填剤5を充填した充填筒1の壁内
面に、筒内外方向に所定幅を有し、中央部に流体流路と
なる開口8を有するリング状の整流部(整流板8)を設
ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、充填筒に関し、詳
しくは、筒体内に粒状の充填剤を充填して軸線方向に流
体を流通し、流体を充填剤に接触させて各種処理を行う
ための充填筒に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】半導体
製造プロセスから排出されるガス中の有害成分を処理す
るため、各種の固体反応剤が用いられている。このよう
な固体反応剤は、通常、ペレット状や球状のような粒状
に成形され、円筒形の充填筒内に充填されて用いられて
いる。
【0003】このような充填筒において、筒内を流れる
ガスの流量が多くなると、筒中心部よりも壁面に沿うよ
うにして流れるガスが多くなり、壁面近傍の反応剤の消
耗が速くなることがある。このような場合、充填筒にお
ける所定の性能を保証するためには、中心部に充填され
ている反応剤の能力が残存していても、反応剤の全量を
交換しなければならず、経済的に大きな負担となってい
た。このような充填筒における偏流の問題は、充填剤の
種類や流体の種類にかかわらず発生しており、その対策
が求められている。
【0004】そこで本発明は、筒内を流れる流体の流量
が多くなった場合でも、その流れを均一化することがで
き、充填した反応剤等の使用効率を向上させることによ
って各種処理コストの低減が図れる充填筒を提供するこ
とを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の充填筒は、粒状充填剤を充填した充填筒内
に軸線方向に被処理流体を流通させて前記充填剤と被処
理流体とを接触させる充填筒において、該充填筒の壁内
面に、筒内外方向に所定幅を有し、中央部に流体流路を
有するリング状の整流部を設けたことを特徴とし、特
に、整流部の内外方向の幅を、充填剤の粒径の8〜15
倍にしたことを特徴としている。さらに、整流部を複数
設ける場合は、充填筒の軸線方向に、充填剤の粒径の3
0〜80倍の間隔で設置することを特徴としている。
【0006】
【発明の実施の形態】図1乃至図3は、本発明の充填筒
の一形態例を示すもので、図1は断面図、図2は本形態
例で用いた整流板の平面図、図3は要部の断面斜視図で
ある。
【0007】この充填筒1は、円筒状の筒体2の上部中
央にガス流入口3を、下部中央にガス流出口4をそれぞ
れ設け、筒体2の上下に、粒状充填剤5を保持するため
の充填剤支持部材6,7を設けるとともに、筒体2の内
壁に、整流部となる整流板8をガス流れ方向に3段設置
したものである。
【0008】整流板8は、中央部にガス流路となる円形
の開口9を有するリング状のものであって、その外周が
筒体2の壁内面に気密に取り付けられている。この整流
板8は、図1に矢印で示すように、壁面に沿うようにし
て流れるガスを中心部に集めるようにするものであっ
て、筒体2内を流れるガスは、整流板8部分で壁面側か
ら中心部に集められるとともに、流路断面積が縮小する
ことによって流速が上昇し、結果的に、筒中心部を流下
するガス量が増加することになる。一方、壁面側では、
整流板8が抵抗として作用するため、整流板8の筒内外
方向の幅W(図2参照)を適当に設定することにより、
筒中心部を流れるガス量と、壁面近傍を流れるガス量と
を均一化することができ、粒状充填剤5とガスとの気固
接触を平均化することができる。
【0009】前記整流板8の筒内外方向の幅Wや上下の
整流板8同士の間隔Hは、筒体2の径やガス流量、粒状
充填剤5の形状や粒径等によっても異なるが、幅Wは、
通常の使用条件では、前記粒状充填剤5の粒径の8〜1
5倍に設定することが好ましい。幅Wが粒径の8倍未満
だと、整流作用が十分に得られないことがあり、15倍
を超えると流路抵抗が大きくなるとともに、整流板8の
下流側にガスが十分に流通しない部分を生じるため、粒
状充填剤5の使用効率が低下する。
【0010】一方、上下の整流板8同士の間隔Hは、粒
状充填剤5の粒径の30〜80倍が適当である。30倍
未満だと整流板8の枚数が増加してコストが上昇すると
ともに、流路抵抗も増加することがあり、80倍を超え
ると、整流作用が不十分になることがある。この整流板
8の幅Wや間隔Hは、一つの充填筒において同一として
もよく、設置位置に応じて異なった寸法を設定してもよ
い。
【0011】なお、本形態例で示す整流板8は、全体を
金属やガラス等の適宜な材質でリング状に一体成形し、
その外周縁を筒体2の壁面に溶接や接着等で固定するよ
うにしているが、図4に示すように、整流板8の外周に
シリコンゴム等の可撓性材料10を設け、該可撓性材料
10の弾発力を利用して筒体2の壁面に気密に取り付け
ることもできる。また、筒体2内に充填した粒状充填剤
5によって整流板8を所定位置に保持できる場合は、整
流板8を筒体2の壁面に固定しなくてもよく、上下複数
の整流板8を適宜な連結部材で連結しておいてもよい。
【0012】さらに、整流板8を設けることなく、筒体
2の周壁自体に整流部となる縮径部分を形成することも
可能である。また、整流部は、上記整流板8のような平
板状のものに限らず、断面が三角形状等の多角形状や内
周縁が円弧状となったものなど、適宜な形状で形成する
ことができ、その材質も、処理流体の性状や処理温度等
に応じて任意に選択することができる。
【0013】また、整流部の設置位置は、通常、充填層
上端部分は不要であり、1段目は、充填層上端から充填
剤の粒径の30〜80倍の位置が適当である。また、充
填層下端部分は、充填剤支持部材7の形状等により異な
るが、下端部分にも整流部を設けておくことにより、そ
の上方のガスの流れを整流することができる。
【0014】
【実施例】比較例 内径208mmの円筒体からなるステンレス製充填筒内
に、水酸化銅(Cu(OH))を直径2mmのシリカ
ゲルに担持させた反応剤を高さ400mmに充填し、シ
ラン1%を含む窒素ガスを毎分44リットルで流した。
なお、前記水酸化銅は、シランと反応してシランをガス
中から除去する性質を有するものであり、シランとの反
応によって青色から黒色に変色する。
【0015】筒出口でシランの流出を検知した時点でガ
スの流通を停止し、空気により筒内を十分にパージした
後、充填筒を分解して筒内の様子を観察した。その結
果、図5に示すように、充填層上端(ガス流れ上流側)
から70mmまでの部分Aの反応剤は、全て黒色に変色
していたが、70mmの地点で中心部に青色の未反応の
反応剤が確認され、充填層の中部Bから下部Cになるに
従って未変色の領域が広がっていき、充填層上端から2
50mmより下方では、周壁に接触している反応剤と、
その内側の約3層程度が変色しているのみであった。こ
れは、図5の矢印に示すように、ガスの多くが、壁面に
沿って流れたことを示している。
【0016】実施例1 比較例と同じ充填筒内に、外径が208mmで径方向の
幅が25mm、厚さが1mmのステンレス製整流板を図
1に示すような状態で100mm間隔で3段設置し、比
較例と同様のシランの処理を行った。その結果、筒出口
でシランの流出が検知されるまでの時間が比較例に対し
て約4倍となり、筒内の反応剤は、下部の一部を除いて
ほとんどが黒色に変色していた。これは、図1の矢印に
示すように、整流板の整流作用でガスの偏流が抑えら
れ、流れが均一化されたことを示している。
【0017】実施例2 内径450mmの円筒体からなるステンレス製充填筒の
最下端に整流板を設置した後、水酸化銅を直径3mmの
シリカゲルに担持させた反応剤を充填しながら、充填高
さ150mm毎に整流板を3枚挿入して全体の充填高さ
を600mmとした(整流板は全部で4枚)。使用した
整流板は、外周縁にシリコンゴムを加工した外径452
mm,幅39mm,厚さ1mmのものである。
【0018】この充填筒に、シラン1%を含む窒素ガス
を毎分200リットルで流し、筒出口でシランの流出を
検知した時点でガスの流通を停止して筒内の様子を観察
した。その結果、実施例1と同様に、筒内の反応剤は、
下部の一部を除いてほとんどが黒色に変色しており、ガ
スの偏流が抑制されたことを示していた。
【0019】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の充填筒に
よれば、筒内のガスの流れを均一化することができるの
で、反応剤等の充填剤の使用効率を大幅に向上させるこ
とができ、充填剤の交換頻度が低減し、ランニングコス
トの削減が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の充填筒の一形態例を示す断面図であ
る。
【図2】 整流板の平面図である。
【図3】 要部の断面斜視図である。
【図4】 整流板の他の形態例を示す要部の断面斜視図
である。
【図5】 比較例における反応剤の変色状況を示す断面
図である。
【符号の説明】
1…充填筒、2…筒体、3…ガス流入口、4…ガス流出
口、5…粒状充填剤、6,7…充填剤支持部材、8…整
流板、9…開口、10…可撓性材料
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮澤 和浩 東京都港区西新橋1−16−7 日本酸素株 式会社内 Fターム(参考) 4G070 AA01 BB08 CA06 CA09 CA15 CA16 CA17 CB18 CB19 DA22

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粒状充填剤を充填した充填筒内に軸線方
    向に被処理流体を流通させて前記充填剤と被処理流体と
    を接触させる充填筒において、該充填筒の壁内面に、筒
    内外方向に所定幅を有し、中央部に流体流路を有するリ
    ング状の整流部を設けたことを特徴とする充填筒。
  2. 【請求項2】 前記整流部の内外方向の幅は、前記充填
    剤の粒径の8〜15倍であることを特徴とする請求項1
    記載の充填筒。
  3. 【請求項3】 前記整流部を、充填筒の軸線方向に、前
    記充填剤の粒径の30〜80倍の間隔で複数段設置した
    ことを特徴とする請求項1記載の充填筒。
JP17692798A 1998-06-24 1998-06-24 充填筒 Pending JP2000005591A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007160152A (ja) * 2005-12-09 2007-06-28 Tomoko Suenaga 気体浄化装置及びこの気体浄化装置に用いる気密シート
JP2014531378A (ja) * 2011-06-20 2014-11-27 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド Nh3酸化器のガス分配器
JP2015147182A (ja) * 2014-02-06 2015-08-20 東京瓦斯株式会社 浄化器

Cited By (3)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007160152A (ja) * 2005-12-09 2007-06-28 Tomoko Suenaga 気体浄化装置及びこの気体浄化装置に用いる気密シート
JP2014531378A (ja) * 2011-06-20 2014-11-27 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド Nh3酸化器のガス分配器
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