CN108604566A - 挡板 - Google Patents

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Abstract

一种安装到旋流形成体(1)的挡板(2)设置有：挡板主体(21)，该挡板主体被设置为能够安装到旋流形成体(1)以及从该旋流形成体(1)拆卸，挡板主体(21)允许由旋流形成体(1)所生成的负压吸入的流体穿过，并且防止被抽吸物体进入旋流形成体(1)的凹部(13)；支撑构件(22)，该支撑构件在支撑构件的一端处附装到流体流形成体(1)的主体(11)，并且在支撑构件的另一端处支撑挡板主体(21)，使得挡板主体(21)面向旋流形成体(1)的端面(12)，支撑构件(22)将挡板主体(21)支撑为使得保持端面(12)与挡板主体(21)之间的间隙，并且形成允许流出凹部(13)的流体流动的流路。

Description

挡板
技术领域
本发明涉及一种有待附接到通过使用伯努利(Bernoulli)定律向材料施加抽吸的装置的挡板。
背景技术
本领域中已知的是用于通过使用伯努利定律向诸如半导体晶片或玻璃衬底的板状构件施加抽吸的装置。例如，在专利文献1中，描述了一种抽吸装置，该抽吸装置包括旋流形成体，该旋流形成体在旋流形成体的凹部内形成旋流。在凹部内形成的旋流生成向构件施加抽吸的负压。抽吸装置还包括：挡板，该挡板用于防止构件进入凹部；和连接构件，这些连接构件用于在旋流形成体的端面与挡板之间形成允许流出凹部的流体流动的流路。该抽吸装置能够以稳定方式向构件施加抽吸。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：JP 2016-159405 A1
发明内容
本发明要解决的问题
鉴于上述技术而提出本发明，并且本发明的目的是提供一种包括挡板主体的挡板，该挡板主体以可移除的方式附接到形成旋流或径向流的流体流形成体，该旋流或径向流生成向构件施加抽吸的负压。
解决问题的手段
为了解决以上所描述的问题，本发明提供了一种有待附接到流体流形成体的挡板，流体流形成体包括：柱状主体；平坦端面，该平坦端面形成在主体处；凹部，该凹部形成在端面处；以及流体流形成装置，该流体流形成装置用于在凹部中形成流体旋流或通过将流体排放到凹部中形成径向流，流体旋流或径向流生成向构件施加抽吸的负压，挡板包括：挡板主体，该挡板主体能够附接到流体流形成体以及与其分离，并且在防止构件进入凹部的同时允许由负压施加了抽吸的流体穿过；和支撑构件，该支撑构件在该支撑构件的一端处附接到主体，并且在支撑构件的另一端处支撑挡板主体，使得挡板主体与端面相对，并且支撑构件将挡板主体支撑为使得保持端面与挡板主体之间的间隙，并且形成允许流出凹部的流体流动的流路。
在本发明的优选模式中，挡板还可以包括间隙保持部，该间隙保持部保持端面与挡板主体之间的间隙。
在本发明的另外优选模式中，支撑构件可以包括爪部，该爪部钩在主体的表面上，表面与端面相对，间隙保持部和爪部可以将主体保持在其间，并且间隙保持部可以形成流路。
在本发明的另外优选模式中，挡板主体可以包括：开口，该开口形成在挡板主体的中心部处，确定一部分已经进入开口的构件的位置；和孔，该孔形成在开口周围，使得附接到流体流形成体的挡板与凹部相对。
在本发明的另外优选模式中，支撑构件可以通过使用支撑构件的弹性力附接到主体。
本发明的有益效果
本发明提供一种包括挡板主体的挡板，该挡板主体以可移除的方式附接到形成旋流或径向流的流体流形成体，该旋流或径向流生成向构件施加抽吸的负压。
附图说明
图1是抽吸装置10的示例的立体图。
图2是如从不同角度看到的抽吸装置10的另一个立体图。
图3是抽吸装置10的分解立体图。
图4是沿着图1所示的线A-A的抽吸装置10的剖面图。
图5是图4所示的部分B的放大图。
图6是沿着图4所示的线C-C的抽吸装置10的剖面图。
图7是沿着图6所示的线D-D的抽吸装置10的剖面图。
图8是抽吸装置10A的示例的立体图。
图9是如从不同角度看到的抽吸装置10A的另一个立体图。
图10是抽吸装置10A的分解立体图。
图11是沿着图8所示的线E-E的抽吸装置10A的剖面图。
图12是图11所示的部分F的放大图。
图13是沿着图11所示的线G-G的抽吸装置10A的剖面图。
图14是沿着图13所示的线H-H的抽吸装置10A的剖面图。
图15是旋流形成体3的下表面的示例的立体图。
图16是旋流形成体3的上表面的示例的立体图。
图17是沿着图16所示的线I-I的旋流形成体3的剖面图。
图18是抽吸装置10B的示例的立体图。
图19是如从不同角度看到的抽吸装置10B的另一个立体图。
图20是挡板2C的示例的立体图。
图21是抽吸装置10C的示例的立体图。
图22是抽吸装置10C的侧视图。
图23是图22所示的部分J的放大图。
图24是台阶部223的示例的放大图。
图25是抽吸装置10D的示例的立体图。
附图标记的描述
1、1A、3...：旋流形成体，2、2A、2B、2C、2D、2E...：挡板，10、10A、10B、10C、10D...：抽吸装置，11...：主体，12...：端面，13...：凹部，14...：喷出口，15...：倾斜面，16...：供应口，17...：环形通路，18...：连通通路，19...：供应路径，21、21A...：挡板主体，22、22A、22B、22C...：支撑构件，31...：主体，32...：通孔，33...：第一端面，34...：第二端面，35...：喷出口，36...：供应口，37...：流体通路，38...：盖，39、2111...：间隔件，111...：内周侧面，112...：槽部，211、211A、211B...：外环形板，212...：内环形板，221、221A、221B、221C...：爪部，222...：r部，223...：台阶部，311...：内周，312...：外周，2112...：引导部，2121...：开口，2122：孔
具体实施方式
以下参照附图说明用于进行本发明的模式。
1.第一实施方式
图1是根据第一实施方式的抽吸装置10的立体图。图2是如从不同角度看到的抽吸装置10的另一个立体图。图3是抽吸装置10的分解立体图。图4是沿着图1所示的线A-A的抽吸装置10的剖面图。图5是图4所示的部分B的放大图。图6是沿着图4所示的线C-C的抽吸装置10的剖面图。图7是沿着图6所示的线D-D的抽吸装置10的剖面图。抽吸装置10是用于向诸如草莓的食品施加抽吸使得可以保持并运送食品的装置。抽吸装置10例如附接到机械臂的端部。
抽吸装置10包括旋流形成体1和能够以可移除的方式附接到旋流形成体1的挡板2。旋流形成体1是用于形成通过使用伯努利定律向构件施加抽吸的旋流的装置。旋流形成体1是根据本发明的“流体流形成体”的示例。挡板2是用于防止由旋流形成体1施加了抽吸的构件进入凹部13(稍后描述)的构件。为了附接到旋流形成体1，挡板2包括支撑构件22(稍后描述)，该支撑构件可以被推开，以容纳并保持旋流形成体1。
旋流形成体1包括主体11、端面12、凹部13、两个喷出口14以及倾斜面15。主体11由铝合金制成且具有柱状形状。端面12在主体11的表面中的一个(具体地为处理要运送的构件的表面)(下文中被称为“底面”)上形成为平坦形状。凹部13是柱状有底孔，并且形成在端面13上。凹部13形成在与主体11相同的轴线上。两个喷出口14形成在主体11的、面向凹部13的内周侧面111上。两个喷出口14被设置为相对于内周侧面111的轴向上的中心更靠近端面12，并且被设置为使得它们与彼此相互对置。具体地，喷出口14被设置为关于主体11或凹部13的中心轴的轴向中心点对称。喷出口14允许被供应到旋流形成体1的流体排放到凹部13中。流体在此是指诸如压缩空气的气体或诸如纯水或碳酸水的液体。倾斜面15形成在主体11的开口端上。
旋流形成体1还包括供应口16、环形通路17、连通通路18以及两个供应路径19。供应口16具有盘形状，并且设置在主体11的顶面(即，与底面相反的表面)的中心中。供应口16例如经由管连接到未例示的流体供应泵。经由供应口16向主体11内供应流体。环形通路17具有圆柱形状，并且形成在主体11的内部，以便包围凹部13。环形通路17形成在与凹部13相同的轴线上。环形通路17将从连通通路18供应的流体供应给供应路径19。连通通路18设置在主体11内部，并且以直线沿主体11的底面或顶面的径向方向延伸。连通通路18在其两端处与环形通路17连通。连通通路18将经由供应口16供应到主体11中的流体供应给环形通路17。两个供应路径19被形成为使得它们近似平行于端面12，沿与凹部13的外周正切的方向延伸，并且平行于彼此而延伸。各个供应路径19在其一端处与环形通路17连通，并且在其另一端处与喷出口14连通。各个供应路径19在凹部13内形成流体旋流。各个供应路径19是根据本发明的“流体流形成装置”的一个示例。
挡板2包括挡板主体21和四个支撑构件22。挡板主体21是构件，该构件能够以可移除的方式附接到旋流形成体1，并且在防止施加了抽吸的构件进入凹部13的同时允许由旋流形成体1施加了抽吸的流体穿过。挡板主体21具有环形形状。各个支撑构件22在其一端处固定在主体11上，使得该一端可以从主体11拆卸，并且在其另一端处支撑挡板主体21，使得挡板主体21与端面12对置。支撑构件22将挡板主体21支撑为使得在端面12与挡板主体21之间保持间隙，并且形成允许流出凹部13的流体流动的流路。同样，支撑构件22将挡板主体21支撑为使得挡板主体21覆盖凹部13的一部分。挡板主体21和支撑构件22一体形成。
挡板主体21包括外环形板211和内环形板212。外环形板211由板簧材料制成并具有环形形状。外环形板211的外径与端面12的外径在长度上大致相同，并且外环形板211的内径与端面12的内径(换言之，凹部13的开口的直径)在长度上大致相同。外环形板211包括四个间隔件2111。间隔件2111被设置为使得它们在端面12与挡板主体21之间保持间隙。间隔件2111和支撑构件22的爪部221(稍后描述)将主体11保持在其间。间隔件2111形成允许流出凹部13的流体流动的流路。各个间隔件2111是根据本发明的“间隙保持部”的一个示例。间隔件2111以规则间隔形成在外环形板211的外边缘处。间隔件2111通过压印形成为使得它们具有圆形形状且它们具有大致相同的高度。间隔件2111的高度限定了端面12与挡板主体21之间的间隙，该高度基于从流体供应泵供应到抽吸装置10的流体的流量来确定。例如，高度被确定为使得流出凹部13的流体穿过在端面12与挡板主体21之间由间隔件2111形成的流路，而不穿过内环形板212的开口2121(稍后描述)。高度优选地尽可能小，以保持抽吸装置10的抽吸力。
内环形板212由诸如橡胶材料或高度弹性树脂的弹性构件制成，并且具有环形形状。内环形板212可以根据板已经接触的构件的形状来变形。内环形板212的外径大于外环形板211的开口的直径，并且小于外环形板211的外径。内环形板212通过使用粘合剂或螺钉在与外环形板211相同的轴线上附接到外环形板211。内环形板212包括开口2121和四个孔2122。具有圆形形状的开口2121形成在内环形板212的中心处(换言之，挡板主体21的中心处)。开口2121确定一部分已经进入开口的构件的位置。开口2121的直径小于凹部13的开口的直径。具有圆形形状的孔2122以规则间隔形成在开口2121周围，使得附接到旋流形成体1的挡板2与凹部13对置。孔2122的直径小于开口2121的直径。
支撑构件22通过沿与挡板主体21大致垂直的方向折叠以规则间隔从挡板主体21的边缘延伸的长形板簧材料来形成。板簧材料长于主体11在轴向上的长度。板簧材料以以下角度来折叠，该角度使得挡板2附接到的旋流形成体1的主体11在其侧面处由于支撑构件22的恢复力(或弹性力)而被挤压，使得主体11被保持在支撑构件22之间。各个支撑构件22在其端部处包括爪部221，该爪部要钩在并固定在主体11的顶面的外边缘上。爪部221通过沿如下方向向内折叠板簧材料的一端来形成，该方向与板簧材料延伸的方向大致垂直。板簧材料以以下角度来折叠，该角度使得挡板2附接到的旋流形成体1的主体11在其顶面和底面处由于爪部221的恢复力(或弹性力)而被挤压，使得主体11被保持在爪部221与间隔件2111之间。爪部221被弯曲成V形，使得在旋流形成体1设置有挡板2时，爪部221朝向主体11的顶面凸出。
现在，以下描述抽吸装置10的抽吸操作。在经由供应口16从流体供应泵向旋流形成体1供应流体时，流体穿过连通通路18、环形通路17以及供应通路19，以从喷出口14排放到凹部13中。被排放到凹部13中的流体在凹部13内产生旋流，随后从凹部13的开口流出。此时，如果草莓存在于与挡板主体21相对的位置中，则限制外部流体向凹部13的流入，并且旋流中心中的每单位体积的流体分子的密度由于旋流的离心力和夹带效应而减小；换言之，在凹部13内生成负压。因此，围绕抽吸装置10的流体开始经由挡板2的开口2121和孔2122流入凹部13中，使得由周围的流体向草莓施加压力，以朝向抽吸装置10吸引草莓。在草莓的末端进入挡板2的开口2121时，确定草莓的位置。另一方面，从凹部13流出的流体穿过在挡板主体21与端面12之间形成的流路，以从抽吸装置10排出，而不穿过挡板2的开口2121和孔2122。
如在前面所描述的，抽吸装置10包括用于防止构件进入凹部13的挡板2，使得防止构件与旋流形成体1的倾斜面15接触并被划伤。同样，从凹部13流出的流体的大部分被排出抽吸装置10之外，而不穿过挡板2的开口2121和孔2122，使得防止流体与构件碰撞。因此，控制材料的起伏和旋转；换言之，可以以稳定方式向构件施加抽吸。同样，挡板2附接到旋流形成体1，使得挡板2可以在不使用工具的情况下从旋流形成体1拆卸，使得容易去除已经卡在旋流形成体1与挡板2之间的不想要物质，或者容易与旋流形成体1分离地清洁挡板2。同样，挡板2通过使用支撑构件22的弹性力附接到旋流形成体1，使得与支撑构件22不由板簧材料制成的情况相比，挡板2不太可能从旋流形成体1掉落。同样，在构件的一部分已经进入并堵塞开口2121的情况下，孔2122允许周围流体流入凹部13中，使得防止周围流体被迫地流过开口2121与构件之间的间隙。因此，控制内环形板212的振动噪声。同样，抽吸装置10将所有被抽吸的流体排出抽吸装置10之外，并且没有被抽吸的流体进入凹部13或喷出口14，借此，控制流体供应路径的污染。
2.第二实施方式
图8是根据第二实施方式的抽吸装置10A的立体图。图9是如从不同角度看到的抽吸装置10A的另一个立体图。图10是抽吸装置10A的分解立体图。图11是沿着图8所示的线E-E的抽吸装置10A的剖面图。图12是图11所示的部分F的放大图。图13是沿着图11所示的线G-G的抽吸装置10A的剖面图。图14是沿着图13所示的线H-H的抽吸装置10A的剖面图。抽吸装置10A与根据第一实施方式的抽吸装置10的不同在于挡板的支撑构件固定在旋流形成体的主体的侧面上，并且在于抽吸装置10A没有间隔件。以下仅详细描述这些不同。
抽吸装置10A包括旋流形成体1A和能够以可移除的方式附接到旋流形成体1A的挡板2A。旋流形成体1A是用于形成通过使用伯努利定律向构件施加抽吸的旋流的装置。旋流形成体1A是根据本发明的“流体流形成体”的示例。挡板2A是用于防止由旋流形成体1A施加了抽吸的构件进入凹部13的构件。为了附接到旋流形成体1A，挡板2A包括支撑构件22A(稍后描述)，该支撑构件可以被推开，以容纳并保持旋流形成体1A。
旋流形成体1除了包括主体11、端面12、凹部13、两个喷出口14以及倾斜面15之外，还包括四个槽部112。除了槽部112之外的部件与第一实施方式共享；因此，省略共享部件的描述。槽部112以规则间隔形成在主体11的侧面上。槽部112被设置为相对于主体11的侧面的轴向上的中心更靠近顶面。槽部112在周向上短于端面12的外周的圆的四分之一。各个槽部112包括沿周向延伸并沿轴向排列的三个V形槽(换言之，狭槽)。挡板2A的爪部221A(稍后描述)与各个槽部112啮合。
旋流形成体1A还包括供应口16、环形通路17、连通通路18以及两个供应路径19。部件与第一实施方式共享；因此，省略其描述。
挡板2A包括挡板主体21和四个支撑构件22A。挡板主体21与第一实施方式共享；因此，省略其描述。各个支撑构件22A在其一端处固定在主体11上，使得该一端可以从与主体11拆卸，并且在其另一端处支撑挡板主体21，使得挡板主体21与端面12对置。支撑构件22A将挡板主体21支撑为使得在端面12与挡板主体21之间保持间隙，并且形成允许流出凹部13的流体流动的流路。同样，支撑构件22A将挡板主体21支撑为使得挡板主体21覆盖凹部13的一部分。挡板主体21和支撑构件22A一体形成。
支撑构件22A通过沿与挡板主体21大致垂直的方向折叠以规则间隔从挡板主体21的边缘延伸的长形板簧材料来形成。板簧材料长于主体11在轴向上的长度的一半，并且短于主体11在轴向上的长度。板簧材料以以下角度来折叠，该角度使得挡板2附接到的旋流形成体1A的主体11在其侧面处由于支撑构件22A的恢复力(或弹性力)而被挤压，使得主体11被保持在支撑构件22A之间。各个支撑构件22A在其端部处包括爪部221A，该爪部将由于支撑构件22A的恢复力(或弹性力)而与主体11的槽部112接合并固定在其上，使得确定挡板2A相对于旋流形成体1A的竖直位置。爪部221A通过以下方式来形成：将板簧材料的一端弯折成V形，使得在旋流形成体1A设置有挡板2A时，爪部221A朝向主体11的顶面凸出。
现在，以下描述抽吸装置10A的抽吸操作。在经由供应口16从流体供应泵向旋流形成体1A供应流体时，流体穿过连通通路18、环形通路17以及供应通路19，以从喷出口14排放到凹部13中。被排放到凹部13中的流体在凹部13内产生旋流，随后从凹部13的开口流出。此时，如果草莓存在于与挡板主体21相对的位置中，则限制外部流体向凹部13的流入，并且旋流中心中的每单位体积的流体分子的密度由于旋流的离心力和夹带效应而减小；换言之，在凹部13内生成负压。因此，围绕抽吸装置10A的流体开始经由挡板2A的开口2121和孔2122流入凹部13中，使得由周围的流体向草莓施加压力，以朝向抽吸装置10A吸引草莓。在草莓的末端进入挡板2A的开口2121时，确定草莓的位置。另一方面，从凹部13流出的流体穿过在挡板主体21与端面12之间形成的流路，以从抽吸装置10A排出，而不穿过挡板2A的开口2121和孔2122。
前面所描述的抽吸装置10A除了具有第一实施方式的优点之外，还具有不需要形成间隔件的优点。这是因为挡板2A的爪部221A与旋流形成体1A的槽部112接合，使得确定挡板2A相对于旋流形成体1A的竖直位置；因此，在端面12与挡板主体21之间保持间隙。同样，抽吸装置10A具有以下的另一个优点：可以通过改变挡板2A所接合的主体11的槽来调节端面12与挡板主体21之间的间隙。
3.修改例
可以如以下所描述的修改以上所描述的实施方式。值得注意的是，可以组合以下修改例。
3-1.修改例1
旋流形成体1或1A的主体11和凹部13的形状不限于为柱状，并且可以为正方形或椭圆柱形状。面向凹部12的主体11的内周侧面111可以为锥形，使得凹部13的直径朝向开口增大。旋流形成体1或1A可以设置有凸部，该凸部形成在凹部13内，使得在凸部的外周侧面与主体11的内周侧面111之间形成流体流路(例如，参照所公布的未审查专利申请第2016-159405号的图13)。设置在旋流形成体1或1A中的喷出口14和供应路径19的数量不限于两个，并且可以更少或可以更多。喷出口14可以设置在内周侧面111的轴向上的上侧中、中心处或下侧中。可以不是必须形成倾斜面15。供应口16的形状不限于圆形，并且可以为矩形或椭圆形。供应口16可以形成在主体11的侧面上，而不是形成在顶面上。供应路径19可以不是必须与彼此平行。
在抽吸装置10或10A中，可以采用是用于形成通过使用伯努利定律向构件施加抽吸的径向流的装置的径向流形成体，而不是旋流形成体1或1A(例如，参照所公布的未审查专利申请第2016-159405号的图12)。径向流形成体是根据本发明的“流体流形成体”的示例。径向流形成体包括：柱状主体；平坦端面，该平坦端面形成在主体处；凹部，该凹部形成在端面处；以及径向流形成装置，该径向流形成装置用于通过将流体排放到凹部中形成径向流，径向流生成向构件施加抽吸的负压。
另选地，在抽吸装置10或10A中，可以采用是用于形成通过使用伯努利定律向构件施加抽吸的旋流的装置的、使用电扇的非接触卡盘，而不是旋流形成体1或1A(例如，参照所公布的未审查专利申请第2011-138948号)。非接触卡盘是根据本发明的“流体流形成体”的示例。非接触卡盘包括：柱状主体；平坦端面，该平坦端面形成在主体处；凹部，该凹部形成在端面处；以及旋流形成装置，该旋流形成装置用于在凹部中形成流体旋流，流体旋流生成向构件施加抽吸的负压。
另选地，在抽吸装置10或10A中，可以采用以下所描述的旋流形成体3，而不是旋流形成体1或1A。
图15是旋流形成体3的下表面的示例的立体图。图16是旋流形成体3的上表面的示例的立体图。图17是沿着图16所示的线I-I的旋流形成体3的剖面图。旋流形成体3是用于形成通过使用伯努利定律向构件施加抽吸的旋流的装置。旋流形成体3是根据本发明的“流体流形成体”的示例。旋流形成体3包括：主体31，该主体是包括通孔32的大致圆柱体，该通孔是根据本发明的“凹部”的示例，形成在圆柱体的中心处且具有圆形横截面；平坦的第一端面33，该平坦的第一端面形成在主体31的下表面上，使得第一端面33与构件对置；平坦的第二端面34，该第二端面形成在主体31的上表面上；两个喷出口35，该两个喷出口形成在面向通孔32的主体31的内周311上；两个供应口36，该两个供应口形成在主体31的外周312上；两个笔直的流体通路37，该两个笔直的流体通路连接喷出口35和供应口36；盖38，该盖具有大致盘形状；以及四个间隔件39，该四个间隔件是用于将盖38保持为使得盖38与第二端面34对置并平行的构件。
与中心轴大致垂直的、主体31的横截面的外周具有圆的形状，该圆的一部分用直线代替。主体31的内周311为锥形，使得主体31的、与中心轴大致垂直的内周311的横截面从第一端面33的开口朝向第二端面34的开口逐渐增大。内周311沿远离构件的方向引导从喷出口35排放的流体，以从通孔32排放。具体地，内周311朝向第二端面34的开口引导流体，以从通孔32排放。
通孔32被形成为沿主体31的中心轴的方向笔直延伸。通孔32在第一端面33和第二端面34上开口。
第一端面33和第二端面34被形成为与主体31的中心轴大致垂直。
喷出口35形成在内周311在主体31的中心轴方向上的中心中。喷出口35被设置为关于主体31的中心轴成点对称。供应口36形成在外周312在主体31的中心轴方向上的中心中。供应口36被设置为关于主体31的中心轴成点对称。各个供应口36例如经由管连接到未例示的流体供应泵。
流体通路37被形成为与主体31的中心轴大致垂直地延伸，并且沿与主体31的内周正切的方向延伸。流体通路37彼此平行地延伸。流体通路37的直径仅在喷出口35之前减小。流体通路37将流体从喷出口35排放到通孔32中。被排放到通孔32中的流体由于柯恩达(Coanda)效应而沿着主体31的内周流动，使得在通孔32内形成旋流。旋流所包括的大部分流体分子流出通孔32之外，然后向已经排放了流体分子的流体通路37延伸的方向以近似45度的角沿着第二端面34流动。在通孔32内形成的旋流带走仍然残留在通孔32的中心中的流体，使得在通孔32的中心中生成负压。所生成的负压向与第一端面33对置的构件施加抽吸。应注意的是，上述近似45度的角仅是示例。流体分子流出通孔32且然后沿着第二端面34流动的角度由通孔的直径或深度以及流体的流速来确定。
盖38具有与和中心轴大致垂直的、主体31的横截面的外周类似的形状。盖38覆盖通孔32，以控制外部流体(具体地，气体或液体)向通孔32的流入。
间隔件39具有柱形状。间隔件39以规则间隔沿着第二端面34的外边缘来设置，使得间隔件39沿大致垂直方向朝向盖38延伸，以联接主体31和盖38。间隔件39通过使用例如螺钉而固定在主体31和盖38上。间隔件39在第二端面34与盖38之间形成流路，该流路允许流出通孔32的流体流动，以从旋流形成体3排出。间隔件39的高度(即，第二端面34与盖38之间的间隙)基于从流体供应泵向旋流形成体3供应的流体的流量来确定。间隔件39优选地设置在第二端面34上，以便不妨碍从通孔32流出的流体的流路。这是为了防止湍流由于从通孔32流出的流体与间隔件39的碰撞而发生。流出通孔32的流体的流路由通孔32的直径或深度以及流体的流速来确定。例如，间隔件39优选地不设置在相对于流体通路37延伸的方向成近似45度的线上。
当经由管向在前面描述的旋流形成体3供应流体时，流体穿过供应口36和流体通路37，以从喷出口35排放到通孔32中。被排放到通孔32中的流体在通孔32内产生旋流。旋流所包括的大部分流体分子由内周311引导以流出通孔32之外，然后沿着第二端面34流动。此时，如果构件存在于与第一端面33相对的位置中，则限制外部流体(具体地，气体或液体)向通孔32的流入，并且旋流中心中的每单位体积的流体分子的密度由于旋流的离心力和夹带效应而减小；即，在旋流的中心中生成负压。因此，由周围流体向构件施加压力，以朝向第一端面33吸引构件。
如在前面所描述的，在旋流形成体3中，从通孔32流出的大部分流体分子沿着第二端面34流动，以被排放，并且少量(若有的话)流体分子沿着第一端面33流动，以被排放，使得防止流体与板状构件碰撞。因此，如与流体不在第二端面34侧处排放的情况相比，板状构件的起伏和旋转得以控制；换言之，可以以稳定方式保持并运送板状构件。同样，因起伏而产生的板状构件的褶皱的发生、变形或损坏得以控制。旋流形成体3使得可以独立使用在通孔32内形成的旋流的抽吸力。
3-2.修改例2
外环形板211和内环形板212的形状不限于圆形环形状，并且可以为矩形或椭圆形环形状。外环形板211的材料不限于板簧材料，并且可以为另一种弹性材料。另选地，材料可以为不弹性变形的材料。外环形板211的外径可以不是必须与端面12的外径在长度上相同，并且外环形板211的内径可以不是必须与端面12的内径在长度上相同。在外环形板211的内径被设计为短于端面12的内径的情况下，内环形板212可以不附接到外环形板211，并且外环形板211可以包括形成在外环形板211的开口周围的四个孔。外环形板211所包括的间隔件2111的数量不限于四个，并且可以更少或可以更多。间隔件2111可以设置在外环形板211的径向上的内侧中、中心处或外侧中。间隔件2111可以不是必须等间隔设置。间隔件2111的形状不限于圆形，并且可以为矩形或椭圆形。用于形成间隔件2111的方法不限于压印，并且间隔件2111例如可以通过将小柱状件附接到外环形板211的表面来形成。内环形板212所包括的孔2122的数量不限于四个，并且可以更少或可以更多。孔2122可以被设置为使得它们与凹部13或端面12对置。孔2122可以不是必须等间隔设置。孔2122的形状不限于圆形，并且可以为矩形或椭圆形。
外环形板211可以设置有以下所描述的引导部2112。
图18是抽吸装置10B的立体图。图19是如从不同角度看到的抽吸装置10B的另一个立体图。抽吸装置10B与根据第一实施方式的抽吸装置10的不同在于外环形板211A包括引导部2112。引导部2112具有圆柱形状，使得在旋流形成体1设置有挡板2B时，引导部2112包围主体11的外周(换言之，凹部13的开口)，并且引导部2112的内周保持与主体11的外周接触。在附图所示的示例中，引导部2112在轴向上的长度短于主体11的一半在轴向上的长度；然而，引导部2112在轴向上的长度可以更长。引导部2112控制从旋流形成体1的凹部13流出且然后沿着端面12流动的流体的流动，使得流体沿远离构件位置(具体地，在开始抽吸之前被构件占据的位置)的方向流动。引导部2112特别控制从凹部13流出且然后沿着端面12流动的流体的、具有径向分量的流动，使得流体沿具有抽吸材料的方向的分量的方向流动。具体地，引导部2112沿着引导部2112的内周沿附图的上方向引导从凹部13流出的流体。
外环形板211可以设置有网或多孔材料，而不是内环形板212(例如，参照所公布的未审查专利申请第2016-159405号的图6)。另选地，外环形板211可以设置有在其中心包括圆锥形或半球形凹部的网部(例如，参照所公布的未审查专利申请第2016-159405号的图7和图8)。凹部确定一部分或整体已经进入凹部的构件的位置。另选地，外环形板211可以设置有通过使外环形板211的开口端经受半径弯曲使得开口端朝向凹部13凸出而形成的调节部(例如，参照所公布的未审查专利申请第2016-159405号的图9)。
3-3.修改例3
支撑构件22或22A的材料不限于板簧材料，并且可以为另一种弹性材料。板簧材料被折叠以形成支撑构件22或22A的角度可以不垂直于挡板主体21，这取决于主体11的形状。支撑构件22或22A的数量不限于四个，并且可以更少或可以更多。各个支撑构件22或22A的一部分(该部分可以不是必须为端部)可以与外环形板211的表面联接，而不是与外环形板211的边缘联接。支撑构件22或22A可以不是必须等间隔设置。支撑构件22A可以不是必须短于主体11在轴向上的长度。支撑构件22的爪部221或支撑构件22A的爪部221A可以不是必须形成在支撑构件的端部处。爪部221可以钩在主体11顶面的径向上的外边缘上、中心处或内侧处。爪部221的形状不限于V形，并且可以为平坦或波形。各个爪部221A可以不通过将板簧材料的端部弯折成V形来形成，而是通过沿与板簧材料延伸的方向大致垂直的方向向内折叠板簧材料的一端来形成。图20是包括使用这种形成方法形成的爪部221B的挡板2C的立体图。爪部221A的形状可以为波形。爪部221A可以通过使用螺钉固定在主体11的侧面上。
根据第二实施方式的挡板2A不仅可以包括四个支撑构件22A，还可以包括根据第一实施方式的一个或更多个支撑构件22。该修改使得挡板2A不太可能从旋流形成体1A掉落。
根据第一实施方式的抽吸装置10可以设置有以下所描述的四个支撑构件22B，而不是设置有四个支撑构件22。
图21是抽吸装置10C的立体图。图22是抽吸装置10C的侧视图。图23是图22所示的部分J的放大图。抽吸装置10C与抽吸装置10的不同在于支撑构件22B包括R部222且外环形板211A没有间隔件。R部222是用于在旋流形成体1的端面12与挡板主体21A之间保持间隙的弯曲段。R部222通过在旋流形成体1的端面12的外边缘处支撑旋流形成体1来保持间隙；因此，抽吸装置10C不需要包括间隔件。R部222是根据本发明的“间隙保持部”的一个示例。支撑构件22B通过使以规则间隔从挡板主体21A的边缘延伸的长形板簧材料经受径向弯曲使得板簧材料沿与挡板主体21A大致垂直的方向延伸来形成。板簧材料长于主体11在轴向上的长度。在折叠板簧材料时，曲率使得挡板2D附接到的旋流形成体1的主体11在其侧面处由于支撑构件22B的恢复力(或弹性力)而被挤压，使得主体11被保持在支撑构件22B之间。支撑构件22B在其端部处包括爪部221。因为爪部221与第一实施方式共享，所以省略爪部221的描述。
在抽吸装置10C所包括的支撑构件22B中，R部222可以用图24所示的台阶部223代替，台阶部是用于在旋流形成体1的端面12与挡板主体21A之间保持间隙的段。具体地，台阶部223通过在旋流形成体1的端面12的外边缘处支撑旋流形成体1来保持间隙。台阶部223是根据本发明的“间隙保持部”的一个示例。
根据第一实施方式的抽吸装置10可以设置有以下所描述的四个支撑构件22C，而不是设置有四个支撑构件22。
图25是抽吸装置10D的立体图，该抽吸装置与抽吸装置10的不同在于支撑构件22C的爪部221C通过使用螺钉固定在旋流形成体1的主体11的顶面上，挡板2E附接到旋流形成体1，使得挡板2E可以通过使用工具从旋流形成体1拆卸，并且外环形板211B没有间隔件。爪部221C与根据第一实施方式的爪部221的不同仅在于爪部221C被形成为平坦形状。因为爪部221C通过使用螺钉固定在主体11的顶面上，所以确定挡板2E相对于旋流形成体1A的竖直位置。因此，保持端面12与挡板主体21之间的间隙。由于这些原因，抽吸装置10D不需要包括间隔件。
在抽吸装置10D中，爪部221C可以通过使用磁力或摩擦力(而不是使用螺钉)固定在主体11的顶面上。
在抽吸装置10D中，支撑构件22C和挡板主体21可以一体形成或单独形成。在支撑构件22C和挡板主体21单独形成的情况下，仅挡板主体21能够从旋流形成体1拆卸。例如，支撑构件22C可以焊接到旋流形成体1的主体11的顶面上，而挡板主体21可以通过使用螺钉固定到支撑构件22C，使得挡板主体21可以通过使用工具从支撑构件22C拆卸。
另选地，在抽吸装置10D中，支撑构件22C可以焊接到旋流形成体1的主体11的顶面上，使得挡板2E无法从旋流形成体1拆卸。
3-4.修改例4
槽部112的数量不限于四个，并且可以更少或可以更多。槽部112可以被设置为更靠近在主体11侧面的轴向上的顶面、中心处或更靠近端面12。槽部112可以不是必须等间隔设置。槽部112可以不是必须在周向方向上短于端面12的外周的圆的四分之一。各个槽部112所包括的槽的数量不限于三个，并且可以更少或可以更多。槽的形状不限于V形，并且可以为U形。
3-5.修改例5
抽吸装置10或10A可以用于将抽吸施加于、保持并运送诸如半导体晶片或玻璃衬底的板状或片状构件，而不是食品。取决于构件的尺寸，可以使用附接到板状框架的多个抽吸装置10或10A(例如，参照所公开的未审查专利申请第2016-159405号的图10和图11)。

Claims (5)

1.一种待附接到流体流形成体的挡板，所述流体流形成体包括：
柱状主体；
平坦端面，该平坦端面形成在所述主体处；
凹部，该凹部形成在所述端面处；以及
流体流形成装置，该流体流形成装置用于在所述凹部中形成流体旋流或通过将流体排放到所述凹部中形成径向流，所述流体旋流或所述径向流生成对构件实施抽吸的负压，
所述挡板包括：
挡板主体，该挡板主体能够附接到所述流体流形成体并且能够从所述流体流形成体拆卸，并且在防止所述构件进入所述凹部的同时允许由所述负压实施了抽吸的流体穿过；和
支撑构件，该支撑构件在所述支撑构件的一端处附接到所述主体，并且在所述支撑构件的另一端处支撑所述挡板主体，使得所述挡板主体与所述端面对置，并且所述支撑构件支撑所述挡板主体从而保持所述端面与所述挡板主体之间的间隙，并且形成了允许流出所述凹部的流体流动的流路。
2.根据权利要求1所述的挡板，所述挡板还包括间隙保持部，该间隙保持部保持所述端面与所述挡板主体之间的所述间隙。
3.根据权利要求2所述的挡板，其中，
所述支撑构件包括爪部，该爪部钩在所述主体的与所述端面相反的表面上；
所述间隙保持部和所述爪部将所述主体保持在其间；并且
所述间隙保持部形成所述流路。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的挡板，其中，所述挡板主体包括：
开口，该开口形成在所述挡板主体的中心部处，以确定一部分已经进入所述开口的所述构件的位置；和
孔，该孔形成在所述开口的周围，使得附接到所述流体流形成体的所述挡板与所述凹部对置。
5.根据权利要求1至4中任意一项所述的挡板，其中，所述支撑构件借助所述支撑构件的弹性力被附接到所述主体。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6924488B2 (ja) * 2018-04-12 2021-08-25 株式会社ハーモテック 旋回流形成体
JP7219426B2 (ja) 2020-02-19 2023-02-08 Smc株式会社 非接触搬送装置
IT202000005893A1 (it) * 2020-03-19 2021-09-19 Quarrata Forniture S R L Dispositivo di presa di elementi lastriformi
JP2023056639A (ja) * 2021-10-08 2023-04-20 Smc株式会社 リフト装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002286189A (ja) * 2001-03-22 2002-10-03 Mitsubishi Rayon Co Ltd 配管から分岐されたノズル内の液の滞留防止方法
TWM476189U (en) * 2013-12-18 2014-04-11 Fivetech Technology Inc Fastening type connector
CN105792997A (zh) * 2013-12-03 2016-07-20 哈莫技术股份有限公司 传送设备
CN105981153A (zh) * 2013-12-03 2016-09-28 哈莫技术股份有限公司 保持装置
EP3081349A1 (en) * 2015-03-03 2016-10-19 Harmotec Co., Ltd. Suction device

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3438668A (en) * 1965-08-26 1969-04-15 Gen Electric Contactless lifter
JP4342331B2 (ja) * 2004-02-09 2009-10-14 株式会社コガネイ 非接触搬送装置
EP2585393A4 (en) * 2010-06-22 2015-06-24 J L Souser & Associates Inc METHOD AND SYSTEM FOR RE-POSITIONING A FLEXIBLE SUBSTRATE
KR101056705B1 (ko) * 2011-05-09 2011-08-12 한국뉴매틱(주) 진공 그리퍼 장치
DE102011111768A1 (de) * 2011-08-24 2013-02-28 Robert Bosch Gmbh Bernoulli-Greifer mit vollflächiger Werkstückanlage
JP5417467B2 (ja) * 2012-02-28 2014-02-12 エルジー シーエヌエス カンパニー リミテッド Ｌｅｄウェハーピッカー
US8904629B2 (en) * 2012-03-09 2014-12-09 LG CNS Co. Ltd. Light-emitting diode (LED) wafer picker
CN104626174B (zh) * 2013-11-13 2016-06-15 浙江大学 吸盘
JP6116629B2 (ja) * 2015-08-11 2017-04-19 株式会社ハーモテック 吸引装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002286189A (ja) * 2001-03-22 2002-10-03 Mitsubishi Rayon Co Ltd 配管から分岐されたノズル内の液の滞留防止方法
CN105792997A (zh) * 2013-12-03 2016-07-20 哈莫技术股份有限公司 传送设备
CN105981153A (zh) * 2013-12-03 2016-09-28 哈莫技术股份有限公司 保持装置
TWM476189U (en) * 2013-12-18 2014-04-11 Fivetech Technology Inc Fastening type connector
EP3081349A1 (en) * 2015-03-03 2016-10-19 Harmotec Co., Ltd. Suction device

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