JP3052079B2 - 充填筒 - Google Patents
充填筒Info
- Publication number
- JP3052079B2 JP3052079B2 JP10330788A JP33078898A JP3052079B2 JP 3052079 B2 JP3052079 B2 JP 3052079B2 JP 10330788 A JP10330788 A JP 10330788A JP 33078898 A JP33078898 A JP 33078898A JP 3052079 B2 JP3052079 B2 JP 3052079B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- partition plate
- cylinder
- filler
- fluid
- filling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/24—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
- B01J8/34—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with stationary packing material in the fluidised bed, e.g. bricks, wire rings, baffles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
- B01J8/0242—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid flow within the bed being predominantly vertical
- B01J8/0257—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid flow within the bed being predominantly vertical in a cylindrical annular shaped bed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
- B01J8/0242—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid flow within the bed being predominantly vertical
- B01J8/0271—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid flow within the bed being predominantly vertical in a spiral shaped bed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
- B01J2208/02—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor with stationary particles
- B01J2208/021—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor with stationary particles comprising a plurality of beds with flow of reactants in parallel
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、充填筒に関し、詳
しくは、円筒体内に粒状の充填剤を充填して軸線方向に
被処理流体を流通し、被処理流体を充填剤に接触させて
各種処理を行うための充填筒に関する。
しくは、円筒体内に粒状の充填剤を充填して軸線方向に
被処理流体を流通し、被処理流体を充填剤に接触させて
各種処理を行うための充填筒に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】例え
ば、半導体製造プロセスから排出されるガス中の有害成
分を処理するため、各種の固体反応剤が用いられてい
る。このような固体反応剤は、通常、ペレット状や球状
のような粒状に成形され、円筒形の充填筒内に充填され
て用いられている。
ば、半導体製造プロセスから排出されるガス中の有害成
分を処理するため、各種の固体反応剤が用いられてい
る。このような固体反応剤は、通常、ペレット状や球状
のような粒状に成形され、円筒形の充填筒内に充填され
て用いられている。
【０００３】このような充填筒において、筒内を流れる
ガスの流量が多くなると、筒中心部よりも壁面に沿うよ
うにして流れるガスが多くなり、壁面近傍の反応剤の消
耗が速くなることがある。このような場合、充填筒にお
ける所定の性能を保証するためには、中心部に充填され
ている反応剤の能力が残存していても、反応剤の全量を
交換しなければならず、経済的に大きな負担となってい
た。このような充填筒における偏流の問題は、充填剤の
種類や流体の種類にかかわらず発生しており、その対策
が求められている。
ガスの流量が多くなると、筒中心部よりも壁面に沿うよ
うにして流れるガスが多くなり、壁面近傍の反応剤の消
耗が速くなることがある。このような場合、充填筒にお
ける所定の性能を保証するためには、中心部に充填され
ている反応剤の能力が残存していても、反応剤の全量を
交換しなければならず、経済的に大きな負担となってい
た。このような充填筒における偏流の問題は、充填剤の
種類や流体の種類にかかわらず発生しており、その対策
が求められている。
【０００４】そこで本発明は、筒内を流れる流体の流量
が多くなった場合でも、比較的簡便にその流れを均一化
することができ、充填した反応剤等の使用効率を向上さ
せることによって各種処理コストの低減を図ることがで
きる充填筒を提供することを目的としている。
が多くなった場合でも、比較的簡便にその流れを均一化
することができ、充填した反応剤等の使用効率を向上さ
せることによって各種処理コストの低減を図ることがで
きる充填筒を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、粒状充填剤を充填した円筒体内に軸線方
向に被処理流体を流通させて前記充填剤と被処理流体と
を接触させるための充填筒において、該充填筒内に、円
筒体からなる仕切板を前記充填筒と同軸に設置したこと
を特徴としている。
め、本発明は、粒状充填剤を充填した円筒体内に軸線方
向に被処理流体を流通させて前記充填剤と被処理流体と
を接触させるための充填筒において、該充填筒内に、円
筒体からなる仕切板を前記充填筒と同軸に設置したこと
を特徴としている。
【０００６】また、前記粒状充填剤の最大寸法をｄ、前
記充填筒の内半径をｒ（０）、前記仕切板の設置数を
ｍ、外側から数えてｎ番目の仕切板の外半径をＲ
（ｎ）、内半径をｒ（ｎ）としたとき、ｎがｍ未満の場
合は、 １５ｄ≧０．５（ｒ（ｎ−１）−Ｒ（ｎ））≧３ｄ ｎ＝ｍの場合は、 １５ｄ≧ｒ（ｎ）≧３ｄ を満たすようにして前記仕切板を設置することを特徴と
している。なお、前記ｎ，ｍは正の整数である。
記充填筒の内半径をｒ（０）、前記仕切板の設置数を
ｍ、外側から数えてｎ番目の仕切板の外半径をＲ
（ｎ）、内半径をｒ（ｎ）としたとき、ｎがｍ未満の場
合は、 １５ｄ≧０．５（ｒ（ｎ−１）−Ｒ（ｎ））≧３ｄ ｎ＝ｍの場合は、 １５ｄ≧ｒ（ｎ）≧３ｄ を満たすようにして前記仕切板を設置することを特徴と
している。なお、前記ｎ，ｍは正の整数である。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１は本発明の充填筒の一形態例
を示す縦断面図である。この充填筒１は、円筒状の筒体
２の上部中央にガス流入口３を、下部側方にガス流出口
４をそれぞれ設け、該ガス流出口４の上方に粒状の充填
剤５を保持するための充填剤支持部材６を、また、充填
剤５の上方に、ガス（被処理流体）流入口３から流入す
るガスの流れを整流するための整流板７を設けるととも
に、充填剤５を充填した部分に、ガスの流れ方向、即ち
充填筒１の軸線方向に平行な面を有する仕切板８を設け
たものである。
を示す縦断面図である。この充填筒１は、円筒状の筒体
２の上部中央にガス流入口３を、下部側方にガス流出口
４をそれぞれ設け、該ガス流出口４の上方に粒状の充填
剤５を保持するための充填剤支持部材６を、また、充填
剤５の上方に、ガス（被処理流体）流入口３から流入す
るガスの流れを整流するための整流板７を設けるととも
に、充填剤５を充填した部分に、ガスの流れ方向、即ち
充填筒１の軸線方向に平行な面を有する仕切板８を設け
たものである。
【０００８】上記仕切板８の形状は、充填筒１の大きさ
や充填剤５の粒子の大きさ、ガスの種類や流速等に応じ
て適宜に設定することができ、例えば、図２に横断面図
で示すような各種断面形状で形成することができる。す
なわち、図２（Ａ）に示すような円筒形の仕切板８ａ、
図２（Ｂ）に示すように、径が異なる円筒体８ｅ，８
ｆ，８ｇを同軸状にして複数個組合わせて設置してもよ
く、形状が異なるものを組合わせてもよい。
や充填剤５の粒子の大きさ、ガスの種類や流速等に応じ
て適宜に設定することができ、例えば、図２に横断面図
で示すような各種断面形状で形成することができる。す
なわち、図２（Ａ）に示すような円筒形の仕切板８ａ、
図２（Ｂ）に示すように、径が異なる円筒体８ｅ，８
ｆ，８ｇを同軸状にして複数個組合わせて設置してもよ
く、形状が異なるものを組合わせてもよい。
【０００９】また、仕切板８は、同一形状のものを複数
組合わせて分解可能に形成してもよく、ガス流れ方向に
おける仕切板８の断面形状や配置状態が異なっていても
よい。
組合わせて分解可能に形成してもよく、ガス流れ方向に
おける仕切板８の断面形状や配置状態が異なっていても
よい。
【００１０】さらに、仕切板８の長さは、充填剤５の充
填部全体にわたる長さ以上であることが好ましいが、ガ
ス流れの上流端や下流端に僅かな隙間があってもよく、
仕切板８の中間部に、温度測定用のセンサーやガス分析
用のセンサーを挿入するための通孔や隙間を設けてもよ
い。ただし、この通孔等の大きさは最小限にすべきであ
り、例えば、仕切板８の面積の３０％を超えるような通
孔や隙間を設けると、仕切板８の効果が損なわれること
がある。
填部全体にわたる長さ以上であることが好ましいが、ガ
ス流れの上流端や下流端に僅かな隙間があってもよく、
仕切板８の中間部に、温度測定用のセンサーやガス分析
用のセンサーを挿入するための通孔や隙間を設けてもよ
い。ただし、この通孔等の大きさは最小限にすべきであ
り、例えば、仕切板８の面積の３０％を超えるような通
孔や隙間を設けると、仕切板８の効果が損なわれること
がある。
【００１１】また、仕切板８の厚さは、必要以上に厚く
すると、筒体２の内容積に占める仕切板８の体積が大き
くなり、充填剤５の充填量が減少してしまうので、使用
の際に変形しない程度の強度を得られる範囲でできるだ
け薄くすることが好ましい。なお、必要に応じて軸線方
向（被処理流体の流れ方向）あるいはこれに直交する方
向に補強リブやフランジを設けてもよい。
すると、筒体２の内容積に占める仕切板８の体積が大き
くなり、充填剤５の充填量が減少してしまうので、使用
の際に変形しない程度の強度を得られる範囲でできるだ
け薄くすることが好ましい。なお、必要に応じて軸線方
向（被処理流体の流れ方向）あるいはこれに直交する方
向に補強リブやフランジを設けてもよい。
【００１２】さらに、仕切板８の材質は、充填剤５や被
処理流体であるガスとの接触によって反応したり、変質
したりしなければ、各種金属，セラミックス，樹脂等、
任意のものを使用することができる。また、仕切板８
は、筒体２や充填剤支持部材６に直接あるいはステー等
を介して固定しておいてもよいが、充填筒１から取外せ
るように形成しておくことにより、充填剤５の取出しや
筒体内部の清掃等を容易に行うことができる。
処理流体であるガスとの接触によって反応したり、変質
したりしなければ、各種金属，セラミックス，樹脂等、
任意のものを使用することができる。また、仕切板８
は、筒体２や充填剤支持部材６に直接あるいはステー等
を介して固定しておいてもよいが、充填筒１から取外せ
るように形成しておくことにより、充填剤５の取出しや
筒体内部の清掃等を容易に行うことができる。
【００１３】ここで、仕切板８を設置するに際しては、
筒体２内に充填された全ての充填剤において、各充填剤
から最も近い位置にある仕切板８あるいは筒体２の内壁
までの距離の内、最大の値となるものが、充填剤の最大
寸法（充填剤が球形の場合は直径）の３倍以上、１５倍
以下になるように仕切板８を設置することにより、筒内
に充填した充填剤５の全体を被処理流体と効率よく接触
させることができる。この距離を３倍未満にすると、仕
切板８の設置数が多くなって充填剤の充填量が減少した
り、ガス（被処理流体）の流れの抵抗となったりするた
め、充填筒としての能力が損なわれることがある。ま
た、１５倍を超える寸法にすると、仕切板８を設けた効
果が十分に得られなくなる。
筒体２内に充填された全ての充填剤において、各充填剤
から最も近い位置にある仕切板８あるいは筒体２の内壁
までの距離の内、最大の値となるものが、充填剤の最大
寸法（充填剤が球形の場合は直径）の３倍以上、１５倍
以下になるように仕切板８を設置することにより、筒内
に充填した充填剤５の全体を被処理流体と効率よく接触
させることができる。この距離を３倍未満にすると、仕
切板８の設置数が多くなって充填剤の充填量が減少した
り、ガス（被処理流体）の流れの抵抗となったりするた
め、充填筒としての能力が損なわれることがある。ま
た、１５倍を超える寸法にすると、仕切板８を設けた効
果が十分に得られなくなる。
【００１４】例えば、図２（Ａ）あるいは図２（Ｂ）に
示すように、円筒形の筒体２内に円筒形の仕切板を同軸
に、同心円状にして配置する場合、充填剤５の最大寸法
をｄ、充填筒１における筒体２の内半径をｒ（０）、円
筒形の仕切板の設置数をｍ、外側から数えてｎ番目の仕
切板の外半径をＲ（ｎ）、内半径をｒ（ｎ）としたと
き、ｎがｍ未満の場合は、 １５ｄ≧０．５（ｒ（ｎ−１）−Ｒ（ｎ））≧３ｄ ｎ＝ｍの場合は、 １５ｄ≧ｒ（ｎ）≧３ｄ を満たすようにして仕切板を設置することが好ましい。
示すように、円筒形の筒体２内に円筒形の仕切板を同軸
に、同心円状にして配置する場合、充填剤５の最大寸法
をｄ、充填筒１における筒体２の内半径をｒ（０）、円
筒形の仕切板の設置数をｍ、外側から数えてｎ番目の仕
切板の外半径をＲ（ｎ）、内半径をｒ（ｎ）としたと
き、ｎがｍ未満の場合は、 １５ｄ≧０．５（ｒ（ｎ−１）−Ｒ（ｎ））≧３ｄ ｎ＝ｍの場合は、 １５ｄ≧ｒ（ｎ）≧３ｄ を満たすようにして仕切板を設置することが好ましい。
【００１５】例えば、充填剤５が球形で直径ｄが３ｍ
ｍ、充填筒１の内径が３１２ｍｍ（内半径ｒ（０）＝１
５６ｍｍ）で、円筒形の仕切板を３個設置する場合、最
外周の１番目、即ち、ｎ＝１の仕切板については、前記
式中におけるｒ（ｎ−１）が、ｒ（１−１）＝ｒ（０）
＝１５６ｍｍであるから、１５×３≧０．５（１５６−
Ｒ（１））≧３×３により、１３８≧Ｒ（１）≧６６と
いう解が得られる。これにより、１番目の仕切板の外半
径は、６６ｍｍ以上、１３８ｍｍ以下にすべきであるこ
と、即ち外周の直径（外径）を１３２〜２７６ｍｍにす
べきことが分かる。以下、２番目以降の仕切板は、その
外周側の仕切板の内半径に応じて設定すればよく、最後
（ｍ番目）の仕切板における内半径が、１５×３≧ｒ
（ｎ）≧３×３の範囲になるようにすればよい。
ｍ、充填筒１の内径が３１２ｍｍ（内半径ｒ（０）＝１
５６ｍｍ）で、円筒形の仕切板を３個設置する場合、最
外周の１番目、即ち、ｎ＝１の仕切板については、前記
式中におけるｒ（ｎ−１）が、ｒ（１−１）＝ｒ（０）
＝１５６ｍｍであるから、１５×３≧０．５（１５６−
Ｒ（１））≧３×３により、１３８≧Ｒ（１）≧６６と
いう解が得られる。これにより、１番目の仕切板の外半
径は、６６ｍｍ以上、１３８ｍｍ以下にすべきであるこ
と、即ち外周の直径（外径）を１３２〜２７６ｍｍにす
べきことが分かる。以下、２番目以降の仕切板は、その
外周側の仕切板の内半径に応じて設定すればよく、最後
（ｍ番目）の仕切板における内半径が、１５×３≧ｒ
（ｎ）≧３×３の範囲になるようにすればよい。
【００１６】一方、上述のような仕切板８を筒内に設置
することにより、充填筒１の内部は、軸線方向に平行な
複数の区画に分割された状態になるため、充填筒１の大
きさや仕切板８の配置状態、被処理流体（ガス）流入口
３の位置や径、被処理流体の流速や圧力等の条件によっ
ては、特定の区画に被処理流体が偏って多く流れるおそ
れがある。したがって、図１に示すように、ガス流入口
３と充填剤充填部との間の適当な位置にガス通路７ａを
設けた整流板７を設け、ガス流入口３から筒内に流入す
る被処理流体を分散させて特定の区画内に直接流入する
ことを防止し、各区画に均等に被処理流体を流入させる
ように形成することが望ましい。
することにより、充填筒１の内部は、軸線方向に平行な
複数の区画に分割された状態になるため、充填筒１の大
きさや仕切板８の配置状態、被処理流体（ガス）流入口
３の位置や径、被処理流体の流速や圧力等の条件によっ
ては、特定の区画に被処理流体が偏って多く流れるおそ
れがある。したがって、図１に示すように、ガス流入口
３と充填剤充填部との間の適当な位置にガス通路７ａを
設けた整流板７を設け、ガス流入口３から筒内に流入す
る被処理流体を分散させて特定の区画内に直接流入する
ことを防止し、各区画に均等に被処理流体を流入させる
ように形成することが望ましい。
【００１７】また、流入する被処理流体を各区画に均等
に流入させるための均等流入手段としては、図３に示す
ように、ガス流入口３を分岐し、適当な位置に適当な大
きさの複数のガス流入口３ａ，３ｂを設けることによ
り、被処理流体を筒体２内に分散状態で流入させて各区
画に均等にガスが流入するようにしてもよく、図４に示
すように、筒体２の軸線に対して直交する方向にガス流
入口３を設け、特定の区画内に直接被処理流体が流入し
ないようにしてもよい。
に流入させるための均等流入手段としては、図３に示す
ように、ガス流入口３を分岐し、適当な位置に適当な大
きさの複数のガス流入口３ａ，３ｂを設けることによ
り、被処理流体を筒体２内に分散状態で流入させて各区
画に均等にガスが流入するようにしてもよく、図４に示
すように、筒体２の軸線に対して直交する方向にガス流
入口３を設け、特定の区画内に直接被処理流体が流入し
ないようにしてもよい。
【００１８】これらの整流板等は、充填筒１の大きさな
どの前述の各種条件に応じて適宜選択して用いることが
でき、例えば、整流板７のガス通路７ａの位置や開口径
は、充填筒１の大きさや仕切板８の配置状態、被処理流
体（ガス）流入口３の位置や径、被処理流体の流速や圧
力等の条件によって適宜に決定することができ、これら
の均等流入手段を組合わせて用いることもできる。
どの前述の各種条件に応じて適宜選択して用いることが
でき、例えば、整流板７のガス通路７ａの位置や開口径
は、充填筒１の大きさや仕切板８の配置状態、被処理流
体（ガス）流入口３の位置や径、被処理流体の流速や圧
力等の条件によって適宜に決定することができ、これら
の均等流入手段を組合わせて用いることもできる。
【００１９】
【実施例】実施例 内径３１２ｍｍの円筒体からなるステンレス鋼製充填筒
内に、外径が２１６ｍｍ，１１４ｍｍ，４９ｍｍの３種
の円筒形の仕切板（肉厚３ｍｍ）を、図２（Ｅ）に示す
ように同軸上に設置した。また、筒体上部には、直径３
１２ｍｍのステンレス鋼製円板に、中心から８０ｍｍの
距離に中心を持つ直径９０ｍｍの円形の開口部を等間隔
に４箇所設けた整流板を設置した。
内に、外径が２１６ｍｍ，１１４ｍｍ，４９ｍｍの３種
の円筒形の仕切板（肉厚３ｍｍ）を、図２（Ｅ）に示す
ように同軸上に設置した。また、筒体上部には、直径３
１２ｍｍのステンレス鋼製円板に、中心から８０ｍｍの
距離に中心を持つ直径９０ｍｍの円形の開口部を等間隔
に４箇所設けた整流板を設置した。
【００２０】この充填筒内に、水酸化第二銅を反応主成
分とする直径３ｍｍの球状の反応剤を高さ５００ｍｍに
充填し、シラン０．２％を含む窒素ガスを毎分２５０リ
ットルで流した。なお、前記水酸化第二銅は、シランと
反応してシランをガス中から除去する性質を有するもの
であり、シランとの反応によって青色から黒色に変色す
る。
分とする直径３ｍｍの球状の反応剤を高さ５００ｍｍに
充填し、シラン０．２％を含む窒素ガスを毎分２５０リ
ットルで流した。なお、前記水酸化第二銅は、シランと
反応してシランをガス中から除去する性質を有するもの
であり、シランとの反応によって青色から黒色に変色す
る。
【００２１】充填筒の出口から排出されたガスのシラン
濃度をガス検知器（バイオニクス社製ＴＧ４０００−Ｔ
Ａ）で測定し、シランの濃度が５ｐｐｍ以上となった時
点でガスの流通を停止し、窒素により筒内を十分にパー
ジし、さらに空気によって同様にパージした後、充填筒
を分解して筒内の反応剤の反応状態を観察した。
濃度をガス検知器（バイオニクス社製ＴＧ４０００−Ｔ
Ａ）で測定し、シランの濃度が５ｐｐｍ以上となった時
点でガスの流通を停止し、窒素により筒内を十分にパー
ジし、さらに空気によって同様にパージした後、充填筒
を分解して筒内の反応剤の反応状態を観察した。
【００２２】その結果、シランの濃度が５ｐｐｍ以上と
なるまでの時間は８１１分であり、筒内の反応剤は、ガ
ス流入側から４００ｍｍの位置までは、その全量が反応
して黒色となっており、５００ｍｍの位置（最底部）で
は、充填筒内壁及び仕切板の両側１０ｍｍ以内の部分の
みが反応した状態になっていた。
なるまでの時間は８１１分であり、筒内の反応剤は、ガ
ス流入側から４００ｍｍの位置までは、その全量が反応
して黒色となっており、５００ｍｍの位置（最底部）で
は、充填筒内壁及び仕切板の両側１０ｍｍ以内の部分の
みが反応した状態になっていた。
【００２３】比較例 仕切板を取除いた以外は、実施例と同じ条件の充填筒を
用いて同様にシランの除去試験を行った。その結果、シ
ランの濃度が５ｐｐｍ以上となるまでの時間は６１２分
であり、筒内の反応剤は、ガス流入側から１００ｍｍの
位置までは、その全量が反応して黒色となっていたが、
２００ｍｍの位置では充填筒内壁から８０ｍｍ以内の反
応剤だけが反応しており、３００ｍｍの位置では充填筒
内壁から５０ｍｍ以内、４００ｍｍの位置では同じく１
０ｍｍ以内、５００ｍｍの位置でも同じく１０ｍｍ以内
の反応剤のみが反応した状態であり、これら以外の筒中
心部の反応剤は未反応のまま残っていた。
用いて同様にシランの除去試験を行った。その結果、シ
ランの濃度が５ｐｐｍ以上となるまでの時間は６１２分
であり、筒内の反応剤は、ガス流入側から１００ｍｍの
位置までは、その全量が反応して黒色となっていたが、
２００ｍｍの位置では充填筒内壁から８０ｍｍ以内の反
応剤だけが反応しており、３００ｍｍの位置では充填筒
内壁から５０ｍｍ以内、４００ｍｍの位置では同じく１
０ｍｍ以内、５００ｍｍの位置でも同じく１０ｍｍ以内
の反応剤のみが反応した状態であり、これら以外の筒中
心部の反応剤は未反応のまま残っていた。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の充填筒に
よれば、円筒内に同軸上に設けた円筒体からなる仕切板
によって充填剤と被処理流体との接触を効果的に行うこ
とができるので、充填剤の使用効率を大幅に向上させる
ことができる。これにより、充填剤の交換頻度が低減
し、ランニングコストの削減が図れる。また、仕切板等
の製作や設置も比較的容易に行うことができるので、製
作コストの上昇を最小限に抑えることができ、既存の充
填筒への適用も容易である。
よれば、円筒内に同軸上に設けた円筒体からなる仕切板
によって充填剤と被処理流体との接触を効果的に行うこ
とができるので、充填剤の使用効率を大幅に向上させる
ことができる。これにより、充填剤の交換頻度が低減
し、ランニングコストの削減が図れる。また、仕切板等
の製作や設置も比較的容易に行うことができるので、製
作コストの上昇を最小限に抑えることができ、既存の充
填筒への適用も容易である。
【図１】 本発明の充填筒の一形態例を示す縦断面図で
ある。
ある。
【図２】 仕切板の断面形状例を示す横断面図である。
【図３】 被処理流体を各区画に均等に流入させるため
の一手段を示す要部の縦断面図である。
の一手段を示す要部の縦断面図である。
【図４】 同じく他の均等流入手段を示す要部の縦断面
図である。
図である。
【符号の説明】 １…充填筒、２…筒体、３…ガス流入口、４…ガス流出
口、５…充填剤、６…充填剤支持部材、７…整流板、８
…仕切板
口、５…充填剤、６…充填剤支持部材、７…整流板、８
…仕切板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中島 晶子 東京都港区西新橋１−16−７ 日本酸素 株式会社内 (56)参考文献 特開 昭52−89558（ＪＰ，Ａ) 実開 昭63−115435（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01J 8/00 - 8/46
Claims (2)
- 【請求項１】 粒状充填剤を充填した円筒体内に軸線方
向に被処理流体を流通させて前記充填剤と被処理流体と
を接触させるための充填筒において、該充填筒内に、円
筒体からなる仕切板を前記充填筒と同軸に設置したこと
を特徴とする充填筒。 - 【請求項２】 前記粒状充填剤の最大寸法をｄ、前記充
填筒の内半径をｒ（０）、前記仕切板の設置数をｍ、外
側から数えてｎ番目の仕切板の外半径をＲ（ｎ）、内半
径をｒ（ｎ）としたとき、 ｎがｍ未満の場合は、 １５ｄ≧０．５（ｒ（ｎ−１）−Ｒ（ｎ））≧３ｄ ｎ＝ｍの場合は、 １５ｄ≧ｒ（ｎ）≧３ｄ を満たすようにして前記仕切板を設置する ことを特徴と
する請求項１記載の充填筒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10330788A JP3052079B2 (ja) | 1998-11-20 | 1998-11-20 | 充填筒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10330788A JP3052079B2 (ja) | 1998-11-20 | 1998-11-20 | 充填筒 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000153146A JP2000153146A (ja) | 2000-06-06 |
| JP3052079B2 true JP3052079B2 (ja) | 2000-06-12 |
Family
ID=18236563
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10330788A Expired - Lifetime JP3052079B2 (ja) | 1998-11-20 | 1998-11-20 | 充填筒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3052079B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108114672A (zh) * | 2017-12-25 | 2018-06-05 | 青岛科技大学 | 一种气固催化反应的均热式螺旋板固定床反应器 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5657403B2 (ja) * | 2011-01-17 | 2015-01-21 | Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 | 脱硫器 |
| CN102247781B (zh) * | 2011-06-28 | 2013-05-01 | 周瑞 | 用于列管反应器的颗粒物料装填机 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5852690B2 (ja) * | 1976-01-23 | 1983-11-24 | バブコツク日立株式会社 | 固定床式触媒反応器 |
| JPS63115435U (ja) * | 1987-01-19 | 1988-07-25 |
-
1998
- 1998-11-20 JP JP10330788A patent/JP3052079B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108114672A (zh) * | 2017-12-25 | 2018-06-05 | 青岛科技大学 | 一种气固催化反应的均热式螺旋板固定床反应器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000153146A (ja) | 2000-06-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6123323A (en) | Gas-liquid dispersion devices provided with partitioning members, gas-liquid contact apparatus, and wastewater treatment systems provided with the same | |
| US7749467B2 (en) | Optimizer hydraulic enhancement using milled plate | |
| US9095830B2 (en) | Louver front faced inlet ducts | |
| JPS58122028A (ja) | 温度調整可能な静止混合機および反応機 | |
| WO2009109379A1 (en) | Catalytic reactor | |
| JPH10146523A (ja) | 気液分散装置及び気液接触装置並びに廃水処理装置 | |
| JP3052079B2 (ja) | 充填筒 | |
| WO2013183350A1 (ja) | マイクロリアクタ | |
| CN108014730B (zh) | 一种微反应器及化工生产系统 | |
| KR20220119361A (ko) | 플로우 리액터 | |
| US10384181B2 (en) | Tapered conduits for reactors | |
| WO1994022568A1 (en) | Flow distributor for a fluidized bed reactor | |
| JP2021536351A (ja) | 構造化充填物 | |
| JP6813233B1 (ja) | 熱交換器 | |
| CN108854862B (zh) | 一种颗粒物床层支撑格栅和径向流反应器 | |
| CN111215009A (zh) | 流体分布器及径向反应器 | |
| CN219314712U (zh) | 斜板式臭氧催化氧化塔 | |
| JP2000005591A (ja) | 充填筒 | |
| CN108854857B (zh) | 一种用于反应器催化剂床层的导流式支撑格栅和流动床反应器 | |
| SU993985A1 (ru) | Контактный аппарат | |
| US20220280904A1 (en) | Multiple-bed catalytic reactor comprising a mixing device | |
| CN117663848A (zh) | 一种真空换热器及其使用方法和相关应用 | |
| RU1777946C (ru) | Радиальный химический реактор | |
| JPH08299974A (ja) | 二重管型オゾン接触反応槽 | |
| FI66539B (fi) | Kontaktanordning foer fast material och stroemmande material foersedd med roerlig baedd och radialstroemning |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080407 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090407 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090407 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100407 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100407 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100407 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110407 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110407 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120407 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130407 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130407 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140407 Year of fee payment: 14 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |