JPS63115435U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63115435U JPS63115435U JP677687U JP677687U JPS63115435U JP S63115435 U JPS63115435 U JP S63115435U JP 677687 U JP677687 U JP 677687U JP 677687 U JP677687 U JP 677687U JP S63115435 U JPS63115435 U JP S63115435U
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- JP
- Japan
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- particles
- fluidized
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- Pending
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- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
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- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 3
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- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Description
第1図は本考案の流動ガス分散装置の一実施の
態様を備えた流動反応炉を示す図で、同図イはそ
の正断面図、同図ロは同図イのAA矢視断面図で
ある。第2図は本考案の流動ガス分散装置の他の
実施の態様を備えた流動反応炉を示す図であり、
同図イはその正断面図、同図ロは同図イのAA矢
視断面図である。第3図は従来の流動ガス分散装
置を備えた流動反応炉であつて、同図イはその正
断面図、同図ロは同図イのAA矢視断面図、同図
ハ,ニはガスの流れ等を示す模式図である。 1……流動反応炉、2……ガス導入口、3……
分散板、4……小孔、5……ハロゲン難反応性粒
子、51……分散層、6……仕切壁、61……仕
切壁、7……原料鉱石、71……流動層、8……
流動ガス分散装置、81……流動ガス分散装置。
態様を備えた流動反応炉を示す図で、同図イはそ
の正断面図、同図ロは同図イのAA矢視断面図で
ある。第2図は本考案の流動ガス分散装置の他の
実施の態様を備えた流動反応炉を示す図であり、
同図イはその正断面図、同図ロは同図イのAA矢
視断面図である。第3図は従来の流動ガス分散装
置を備えた流動反応炉であつて、同図イはその正
断面図、同図ロは同図イのAA矢視断面図、同図
ハ,ニはガスの流れ等を示す模式図である。 1……流動反応炉、2……ガス導入口、3……
分散板、4……小孔、5……ハロゲン難反応性粒
子、51……分散層、6……仕切壁、61……仕
切壁、7……原料鉱石、71……流動層、8……
流動ガス分散装置、81……流動ガス分散装置。
Claims (1)
- ハロゲン難反応性の多数の粒子と、該多数の粒
子の層を載上する底板とからなり、該底板に前記
粒子を通過せしめず、ハロゲンガスを通過せしめ
る多数の小孔を穿設するとともに、該多数の小孔
を複数個の群に分画する仕切壁を設けてなる流動
ガス分散装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP677687U JPS63115435U (ja) | 1987-01-19 | 1987-01-19 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP677687U JPS63115435U (ja) | 1987-01-19 | 1987-01-19 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63115435U true JPS63115435U (ja) | 1988-07-25 |
Family
ID=30789609
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP677687U Pending JPS63115435U (ja) | 1987-01-19 | 1987-01-19 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63115435U (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000153146A (ja) * | 1998-11-20 | 2000-06-06 | Nippon Sanso Corp | 充填筒 |
WO2005080272A1 (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-01 | Toho Titanium Co., Ltd. | 金属塩化物の製造装置 |
JP2014210689A (ja) * | 2013-04-22 | 2014-11-13 | 株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ | 分散盤およびこれを備えた流動塩化炉 |
JP2019058859A (ja) * | 2017-09-26 | 2019-04-18 | 東レエンジニアリング株式会社 | リアクタ |
-
1987
- 1987-01-19 JP JP677687U patent/JPS63115435U/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000153146A (ja) * | 1998-11-20 | 2000-06-06 | Nippon Sanso Corp | 充填筒 |
WO2005080272A1 (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-01 | Toho Titanium Co., Ltd. | 金属塩化物の製造装置 |
JPWO2005080272A1 (ja) * | 2004-02-23 | 2007-10-25 | 東邦チタニウム株式会社 | 金属塩化物の製造装置 |
JP4904152B2 (ja) * | 2004-02-23 | 2012-03-28 | 東邦チタニウム株式会社 | 金属塩化物の製造装置 |
JP2014210689A (ja) * | 2013-04-22 | 2014-11-13 | 株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ | 分散盤およびこれを備えた流動塩化炉 |
JP2019058859A (ja) * | 2017-09-26 | 2019-04-18 | 東レエンジニアリング株式会社 | リアクタ |
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