JPS63115435U - - Google Patents

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JPS63115435U
JPS63115435U JP677687U JP677687U JPS63115435U JP S63115435 U JPS63115435 U JP S63115435U JP 677687 U JP677687 U JP 677687U JP 677687 U JP677687 U JP 677687U JP S63115435 U JPS63115435 U JP S63115435U
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JP677687U
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  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の流動ガス分散装置の一実施の
態様を備えた流動反応炉を示す図で、同図イはそ
の正断面図、同図ロは同図イのAA矢視断面図で
ある。第2図は本考案の流動ガス分散装置の他の
実施の態様を備えた流動反応炉を示す図であり、
同図イはその正断面図、同図ロは同図イのAA矢
視断面図である。第3図は従来の流動ガス分散装
置を備えた流動反応炉であつて、同図イはその正
断面図、同図ロは同図イのAA矢視断面図、同図
ハ,ニはガスの流れ等を示す模式図である。 1……流動反応炉、2……ガス導入口、3……
分散板、4……小孔、5……ハロゲン難反応性粒
子、51……分散層、6……仕切壁、61……仕
切壁、7……原料鉱石、71……流動層、8……
流動ガス分散装置、81……流動ガス分散装置。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ハロゲン難反応性の多数の粒子と、該多数の粒
    子の層を載上する底板とからなり、該底板に前記
    粒子を通過せしめず、ハロゲンガスを通過せしめ
    る多数の小孔を穿設するとともに、該多数の小孔
    を複数個の群に分画する仕切壁を設けてなる流動
    ガス分散装置。
JP677687U 1987-01-19 1987-01-19 Pending JPS63115435U (ja)

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JP677687U JPS63115435U (ja) 1987-01-19 1987-01-19

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JP677687U JPS63115435U (ja) 1987-01-19 1987-01-19

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JPS63115435U true JPS63115435U (ja) 1988-07-25

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JP677687U Pending JPS63115435U (ja) 1987-01-19 1987-01-19

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000153146A (ja) * 1998-11-20 2000-06-06 Nippon Sanso Corp 充填筒
WO2005080272A1 (ja) * 2004-02-23 2005-09-01 Toho Titanium Co., Ltd. 金属塩化物の製造装置
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JP2019058859A (ja) * 2017-09-26 2019-04-18 東レエンジニアリング株式会社 リアクタ

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