JPS5852690B2 - 固定床式触媒反応器 - Google Patents
固定床式触媒反応器Info
- Publication number
- JPS5852690B2 JPS5852690B2 JP51005870A JP587076A JPS5852690B2 JP S5852690 B2 JPS5852690 B2 JP S5852690B2 JP 51005870 A JP51005870 A JP 51005870A JP 587076 A JP587076 A JP 587076A JP S5852690 B2 JPS5852690 B2 JP S5852690B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst layer
- fixed bed
- catalytic reactor
- bed catalytic
- reactor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Incineration Of Waste (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は固定床式触媒反応器に関するものである。
第１図は従来の固定床式触媒反応器を示す断面図である
。
。
図に釦いて１は反応器、２は反応器１の人口と接続され
た反応器入口ダクト、３は反応器１の出口と接続された
反応器出口ダクト、４は反応器１に固定されたロスドル
、５はロスドル４上に敷かれた触媒支持網、６は支持網
５上に設けられた触媒層、７は反応器１に取付けられた
触媒飛散防止網である。
た反応器入口ダクト、３は反応器１の出口と接続された
反応器出口ダクト、４は反応器１に固定されたロスドル
、５はロスドル４上に敷かれた触媒支持網、６は支持網
５上に設けられた触媒層、７は反応器１に取付けられた
触媒飛散防止網である。
この固定床式触媒反応器は、ダクト２から送られた処理
すべき排ガスを触媒層６で反応させ、その反応したガス
をダクト３から排出する。
すべき排ガスを触媒層６で反応させ、その反応したガス
をダクト３から排出する。
ところで、このような運転を続けると、排ガス中の煤塵
が触媒層６中に付着堆積し、時間の経過に伴って触媒層
６の圧力損失が増大し、しかもこの煤塵の堆積分布が不
均等であるとガス偏流を誘発し、性能を低下させる。
が触媒層６中に付着堆積し、時間の経過に伴って触媒層
６の圧力損失が増大し、しかもこの煤塵の堆積分布が不
均等であるとガス偏流を誘発し、性能を低下させる。
筐た、さらに運転を継続すると正常な運転が不可能にな
る。
る。
このような煤塵を含む排ガス処理に釦いては、煤塵を除
去する前処理を行なうことが一般的であるが、反応器自
体を工夫することによって煤塵の堆積の進行を防止でき
れば、経済的に非常に有利である。
去する前処理を行なうことが一般的であるが、反応器自
体を工夫することによって煤塵の堆積の進行を防止でき
れば、経済的に非常に有利である。
この緩点から、反応器１内の排ガス処理量を一時的に増
加させて、触媒層６を流動化させ、触媒層６に堆積した
煤塵を除去する方式が案出され、注目をあびている。
加させて、触媒層６を流動化させ、触媒層６に堆積した
煤塵を除去する方式が案出され、注目をあびている。
しかし、触媒層６を流動化した場合には、触媒層６の表
面が傾斜して、触媒層６の高さが場所によって異なって
くる。
面が傾斜して、触媒層６の高さが場所によって異なって
くる。
この傾斜角の最大値は触媒の安息角であるが、この安息
角が大きかったり、触媒層６の面積が大きい場合には、
触媒が全くない場所が生じることがある。
角が大きかったり、触媒層６の面積が大きい場合には、
触媒が全くない場所が生じることがある。
このように、触媒層６の表面が傾斜して触媒層６の層高
が場所によって異なる場合には、処理すべきガスの反応
の程度がガスが通過する場所によって異なる。
が場所によって異なる場合には、処理すべきガスの反応
の程度がガスが通過する場所によって異なる。
このため、ガスを均一に処理することができないという
問題点がある。
問題点がある。
この発明は上述の問題点を解決するためになされたもの
Ｃ１触媒層を流動化した場合にも触媒層の層高の変化が
大きくなることのない固定床式触媒反応器を提供するこ
とを目的とする。
Ｃ１触媒層を流動化した場合にも触媒層の層高の変化が
大きくなることのない固定床式触媒反応器を提供するこ
とを目的とする。
第２図はこの発明の実施例に係る固定床式触媒反応器の
触媒層部を示す平面図、第３図は同じく正断面図である
。
触媒層部を示す平面図、第３図は同じく正断面図である
。
図に示すように、この固定床式触媒反応器にむいては、
触媒層６が処理すべきガスの流れ方向とほぼ平行な仕切
壁８で仕切られている。
触媒層６が処理すべきガスの流れ方向とほぼ平行な仕切
壁８で仕切られている。
ところで、触媒層６の傾斜角θの最大値は触媒の安息角
であり、触媒層６の層高変化、（ｈ、すなわち触媒層６
の平均層高と触媒層６の最大または最小層高との差は、
触媒層６の幅ｌに比例する。
であり、触媒層６の層高変化、（ｈ、すなわち触媒層６
の平均層高と触媒層６の最大または最小層高との差は、
触媒層６の幅ｌに比例する。
たとえは、触媒層６の幅がｌＸｌの場合、層高変化Ｊｈ
は触媒層６の対角線上で起こり、次式７式％ したがって、触媒層６の幅ｌが小さければ小さいほど触
媒層高変化Ｊｈが小さくなる。
は触媒層６の対角線上で起こり、次式７式％ したがって、触媒層６の幅ｌが小さければ小さいほど触
媒層高変化Ｊｈが小さくなる。
このため、触媒層６を多数に仕切れば、触媒層高変化Ｊ
ｈが小さくなる。
ｈが小さくなる。
第４図はこの発明に係る他の固定床式触媒反応器を示す
一部切断平面図、第５図は同じく一部切る仕切壁で、仕
切壁９は反応器１に固定されている。
一部切断平面図、第５図は同じく一部切る仕切壁で、仕
切壁９は反応器１に固定されている。
１０は仕切壁９に取付けられた仕切網、１１は仕切壁９
の上部に取付けられた角錐ホッパ、１２はホッパ１１に
取付けられたガス量調整用ダンパ １３はダンパ１２に
設けられたダンパシャフト、１４はダンパ１２を開閉す
るためのエアシリンダである。
の上部に取付けられた角錐ホッパ、１２はホッパ１１に
取付けられたガス量調整用ダンパ １３はダンパ１２に
設けられたダンパシャフト、１４はダンパ１２を開閉す
るためのエアシリンダである。
この固定床式触媒反応器においては、触媒層６が仕切壁
９によって仕切られており、それぞれの仕切壁９にはホ
ッパ１１．ダンパ１２が設けられているから、処理すべ
きガス中に煤塵（カーボン、灰分等）が金塗れており、
触媒層６に煤塵が堆積した場合にも、エアシリンダ１４
を操作して、ダンパ１２を開閉し、触媒層６を流動化す
ることにより、触媒層６に堆積した煤塵を除去すること
ができる。
９によって仕切られており、それぞれの仕切壁９にはホ
ッパ１１．ダンパ１２が設けられているから、処理すべ
きガス中に煤塵（カーボン、灰分等）が金塗れており、
触媒層６に煤塵が堆積した場合にも、エアシリンダ１４
を操作して、ダンパ１２を開閉し、触媒層６を流動化す
ることにより、触媒層６に堆積した煤塵を除去すること
ができる。
すた、触媒層６が仕切壁９および仕切網１０によって仕
切られているから、触媒層６を流動化した場合にも、触
媒層６の層高変化Ｊｈは小さい。
切られているから、触媒層６を流動化した場合にも、触
媒層６の層高変化Ｊｈは小さい。
以上説明したように、この発明に係る固定床式触媒反応
器においては、触媒層を流動化した場合にも、触媒層高
変化Ｊｈが小さいから、処理すべきガスが通過する場所
によって反応の程度が異なることはなく、ガスを均一に
処理することができる。
器においては、触媒層を流動化した場合にも、触媒層高
変化Ｊｈが小さいから、処理すべきガスが通過する場所
によって反応の程度が異なることはなく、ガスを均一に
処理することができる。
このように、この発明の効果は顕著である。
第１図は従来の固定床式触媒反応器を示す断面図、第２
図はこの発明の実施例に係る固定床式触媒反応器の触媒
層部を示す平面図、第３図は同じく正断面図、第４図は
この発明に係る他の固定床式触媒反応器を示す一部切断
平面図、第５図は同じく一部切断正面図である。 １・・・・・・反応器、４・・・・・・ロスドル、５・
・・・・・触媒支持網、６・・・・・・触媒層、７・・
・・・・触媒飛散防止網、８・・・・・・仕切壁、９・
・・・・・仕切壁、１０・・・・・・仕切網。
図はこの発明の実施例に係る固定床式触媒反応器の触媒
層部を示す平面図、第３図は同じく正断面図、第４図は
この発明に係る他の固定床式触媒反応器を示す一部切断
平面図、第５図は同じく一部切断正面図である。 １・・・・・・反応器、４・・・・・・ロスドル、５・
・・・・・触媒支持網、６・・・・・・触媒層、７・・
・・・・触媒飛散防止網、８・・・・・・仕切壁、９・
・・・・・仕切壁、１０・・・・・・仕切網。
Claims (1)
- １ 処理すべきガスの流れ方向とほぼ平行な仕切りで、
触媒層を複数に仕切ったことを特徴とする固定床式触媒
反応器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51005870A JPS5852690B2 (ja) | 1976-01-23 | 1976-01-23 | 固定床式触媒反応器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51005870A JPS5852690B2 (ja) | 1976-01-23 | 1976-01-23 | 固定床式触媒反応器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5289558A JPS5289558A (en) | 1977-07-27 |
| JPS5852690B2 true JPS5852690B2 (ja) | 1983-11-24 |
Family
ID=11622962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51005870A Expired JPS5852690B2 (ja) | 1976-01-23 | 1976-01-23 | 固定床式触媒反応器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5852690B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3052079B2 (ja) * | 1998-11-20 | 2000-06-12 | 日本酸素株式会社 | 充填筒 |
| JP5137280B2 (ja) * | 2001-06-12 | 2013-02-06 | バブコック日立株式会社 | 排ガス脱硝装置用反応器およびそれを形成する方法 |
| JP4936144B2 (ja) * | 2008-06-11 | 2012-05-23 | 日本ファスナー工業株式会社 | ボルト |
-
1976
- 1976-01-23 JP JP51005870A patent/JPS5852690B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5289558A (en) | 1977-07-27 |
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