JP2000003048A - Photosensitive material processing device - Google Patents

Photosensitive material processing device

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JP2000003048A
JP2000003048A JP16739698A JP16739698A JP2000003048A JP 2000003048 A JP2000003048 A JP 2000003048A JP 16739698 A JP16739698 A JP 16739698A JP 16739698 A JP16739698 A JP 16739698A JP 2000003048 A JP2000003048 A JP 2000003048A
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JP
Japan
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processing liquid
liquid
storage
photosensitive material
storage section
Prior art date
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Application number
JP16739698A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhito Yoshimi
康仁 美見
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently purify washing liquid by filtering a processing liquid in a 1st reservoir part which is contaminated due to contact with photosensitive material, and then collecting it in a 2nd reservoir part. SOLUTION: A developing device performs processing by spraying the washing liquid from the above part of a printing plate. The device is equipped with a carrying roller for carrying the printing plate, a washing shower pipe 29, the 1st reservoir part 25a, a circulation piping 55, the 2nd reservoir part 25b, a liquid feed piping 54 and a replenishing piping 55. The pipe 29 is positioned above the printing plate and discharges the washing liquid. The 1st reservoir part 25a is provided below the pipe 29 and receives the washing liquid flowing down. The piping 53 filters the washing liquid in the 1st reservoir part 25a. The filtered washing liquid is reservoired in the 2nd reservoir part 25b. Through the piping 54, the washing liquid in the 2nd reservoir part 25 is fed to the pipe 29. Through the piping 55, the 2nd reservoir part 25b is replenished with the new washing liquid.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、感光材料処理装
置、特に、搬送手段により搬送されている感光材料の上
方から処理液を散布して処理を行う感光材料処理装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus, and more particularly to a photosensitive material processing apparatus which performs processing by spraying a processing liquid from above a photosensitive material being conveyed by a conveying means.

【0002】[0002]

【従来の技術】感光材料処理装置として、例えば、感光
性印刷版(以下、刷版という。)を自動的に現像するた
めの現像装置が提供されている。この現像装置は、焼付
処理の施された刷版に対して現像を行う現像処理部と、
現像処理された刷版の水洗いを行う水洗処理部と、水洗
処理された刷版に対してガム液やリンス液を塗布する仕
上げ処理部と、処理された刷版を乾燥させる乾燥処理部
とを備えている。そして、刷版は、搬送ローラにより装
置内部に設けられた所定の搬送路に沿って搬送されなが
ら、前述の各処理が施される。
2. Description of the Related Art As a photosensitive material processing apparatus, for example, a developing apparatus for automatically developing a photosensitive printing plate (hereinafter, referred to as a printing plate) is provided. The development device includes a development processing unit that develops the printing plate on which the printing process has been performed;
A washing section for washing the developed printing plate with water, a finishing section for applying a gum solution or a rinsing liquid to the washed plate, and a drying section for drying the processed printing plate. Have. The printing plate is subjected to each of the above-described processes while being transported by a transport roller along a predetermined transport path provided inside the apparatus.

【0003】このうち、水洗処理部には、一般に、刷版
に洗浄液を散布する吐出部と、吐出部の下方において流
下した洗浄液を回収する貯留タンクとが備えられてお
り、貯留タンクによって回収された洗浄液は濾過されな
がら繰り返し使用される。図5に、従来の水洗処理部の
構成の一例を示す。ここでは、シャワーパイプ91のノ
ズル91aから刷版に散布された洗浄液が、刷版上のス
ラッジを洗い流して、貯留タンク92に流下する。貯留
タンク92内の洗浄液はポンプ93a及びフィルター9
3bを備えた濾過回路93を強制循環させられており、
洗浄液に含まれるスラッジが常時濾過されている。ま
た、シャワーパイプ91から刷版に洗浄液を散布すると
きには貯留タンク92からポンプ94aによって洗浄液
が供給されるが、この供給配管94にもフィルター94
bが設けられており、このフィルター94bで濾過され
た洗浄液をシャワーパイプ91に供給してノズル91a
が詰まる不具合を抑えている。なお、貯留タンク92に
は、蒸発したり刷版によって持ち出されてしまう洗浄液
を補充するための補充管95と、オーバーフロー管96
が取り付けられている。また、貯留タンク92内の供給
配管94との接合部分付近にはヒータ97が配置されて
おり、シャワーパイプ91に供給される洗浄液の温度を
調整している。
[0003] Among them, the washing section generally includes a discharge section for spraying the cleaning liquid onto the printing plate and a storage tank for collecting the cleaning liquid flowing down below the discharge section, and is collected by the storage tank. The used washing liquid is repeatedly used while being filtered. FIG. 5 shows an example of the configuration of a conventional water washing section. Here, the cleaning liquid sprayed on the printing plate from the nozzle 91 a of the shower pipe 91 flushes sludge on the printing plate and flows down to the storage tank 92. The cleaning liquid in the storage tank 92 is supplied to the pump 93a and the filter 9
3b is forcibly circulated through the filtration circuit 93,
Sludge contained in the washing liquid is constantly filtered. When the cleaning liquid is sprayed from the shower pipe 91 onto the printing plate, the cleaning liquid is supplied from the storage tank 92 by the pump 94a.
b is provided, and the cleaning liquid filtered by the filter 94b is supplied to the shower pipe 91 and the nozzle 91a
The problem of clogging is suppressed. The storage tank 92 is provided with a replenishing pipe 95 for replenishing a cleaning liquid which evaporates or is carried out by the printing plate, and an overflow pipe 96.
Is attached. In addition, a heater 97 is disposed near a joint portion of the storage tank 92 with the supply pipe 94 to adjust the temperature of the cleaning liquid supplied to the shower pipe 91.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記のような水洗処理
部の構成の場合、まずフィルターを2つ(フィルター9
3b,94b)設置しなければならない。また、フィル
ター94bが目詰まりを起こすと、期せずしてシャワー
パイプ91から刷版への洗浄液の吐出量が低下してしま
う。したがって、吐出量を安定させるためには刷版の処
理量に応じて適宜フィルター94bの清掃や交換が必要
となるが、手間がかかるとともに圧力計等の設置が必要
であってコストも高い。
In the case of the above-described structure of the water washing section, first, two filters (the filter 9) are used.
3b, 94b) must be installed. Further, when the filter 94b is clogged, the discharge amount of the cleaning liquid from the shower pipe 91 to the printing plate is reduced unexpectedly. Therefore, in order to stabilize the discharge amount, it is necessary to appropriately clean or replace the filter 94b in accordance with the processing amount of the printing plate. However, it is time-consuming and requires the installation of a pressure gauge and the like, which is expensive.

【0005】一方、図5のような水洗処理部の構成の場
合、シャワーパイプ91から吹き出されて流下する洗浄
液は、所定の高さから貯留タンク92の液面に落下する
ため、蒸発量も多く、また泡立ちの問題も生じている。
本発明の課題は、処理液の清浄化を効率的に行うことの
できる感光材料処理装置を提供することにあり、さらに
は、処理液の蒸発や泡立ちを抑えることにある。
On the other hand, in the case of the configuration of the water washing section as shown in FIG. 5, the washing liquid blown out from the shower pipe 91 and flowing down falls from a predetermined height onto the liquid surface of the storage tank 92, so that the evaporation amount is large. Also, there is a problem of foaming.
It is an object of the present invention to provide a photosensitive material processing apparatus capable of efficiently cleaning a processing liquid, and further to suppress evaporation and bubbling of the processing liquid.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る感光材料
処理装置は、搬送手段により搬送されている感光材料の
上方から処理液を散布して処理を行う装置であって、搬
送手段と、吐出部と、第1貯留部と、濾過手段と、第2
貯留部と、送液手段と、補充手段とを備えている。搬送
手段は、感光材料を搬送する。吐出部は、搬送手段によ
り搬送される感光材料の上方に位置しており、処理液を
吐出する。第1貯留部は、吐出部の下方に設けられてお
り、流下した処理液を受け取る。濾過手段は、第1貯留
部に貯留された処理液を濾過する。第2貯留部は、濾過
手段により濾過された処理液を貯留する。送液手段は、
第2貯留部の処理液を吐出部へ送液する。補充手段は、
第2貯留部へ新しい処理液を補充する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a photosensitive material processing apparatus which performs processing by spraying a processing liquid from above photosensitive material being conveyed by a conveying means. A discharge unit, a first storage unit, a filtration unit, and a second storage unit.
The storage device includes a storage unit, a liquid sending unit, and a replenishing unit. The transport unit transports the photosensitive material. The discharge unit is located above the photosensitive material conveyed by the conveyance unit, and discharges the processing liquid. The first storage unit is provided below the discharge unit, and receives the processing liquid that has flowed down. The filtering unit filters the processing liquid stored in the first storage unit. The second storage unit stores the processing liquid filtered by the filtering unit. The liquid sending means is
The processing liquid in the second storage section is sent to the discharge section. The replenishment means
A new processing solution is replenished to the second storage unit.

【0007】ここでは、処理液の貯留部を2つ設け、そ
れぞれにおける処理液の汚れ具合を分離することによっ
て処理液の清浄化の効率向上を図っている。吐出部から
吐出され感光材料に散布された処理液は第1貯留部に流
下する。感光材料に接触して汚染された第1貯留部の処
理液は、濾過手段によって濾過された後、第2貯留部に
貯留される。そして、この濾過された第2貯留部の処理
液が吐出部へ送液手段によって送液されるため、吐出部
が目詰まりを起こして吐出部からの処理液の吐出量が低
下するといった不具合が解消される。また、第2貯留部
には濾過された処理液が貯留されるため、第2貯留部か
ら吐出部に送液する際にフィルター等の濾過手段を使用
する必要が殆どなくなる。
Here, two storage sections for the processing liquid are provided, and the degree of contamination of the processing liquid in each of them is separated to improve the efficiency of cleaning the processing liquid. The processing liquid discharged from the discharge unit and sprayed on the photosensitive material flows down to the first storage unit. The processing liquid in the first storage unit that is contaminated by contact with the photosensitive material is filtered by the filtering unit and then stored in the second storage unit. Then, since the filtered processing liquid in the second storage unit is sent to the discharge unit by the liquid sending unit, the discharge unit is clogged and the discharge amount of the processing liquid from the discharge unit decreases. Will be resolved. In addition, since the filtered processing liquid is stored in the second storage section, it is almost unnecessary to use a filtering means such as a filter when the liquid is sent from the second storage section to the discharge section.

【0008】また、新しい処理液の補充は補充手段によ
って第2貯留部に対して行われるため、第1貯留部に補
充する場合に較べて、第2貯留部の清浄化の効率が向上
する。このように、本請求項に係る発明では処理液の貯
留部を2つ設けているため、処理液の清浄化が効率良く
行えるようになる。
In addition, since the replenishment of the new processing liquid is performed to the second storage section by the replenishment means, the efficiency of cleaning the second storage section is improved as compared with the case where the replenishment is performed to the first storage section. Thus, in the invention according to the present invention, since the two storage portions for the processing liquid are provided, the cleaning of the processing liquid can be performed efficiently.

【0009】請求項2に係る感光材料処理装置は、請求
項1に記載の装置において、濾過手段は、循環経路と、
循環手段及びフィルターとを有している。循環経路は、
第1貯留部と第2貯留部とを結ぶ経路であって、吸引口
を有している。循環経路の吸引口は、第1貯留部の高さ
位置が最も低い底部から所定距離だけ上方に離れたとこ
ろに配置される。循環手段及びフィルターは、循環経路
中に設けられる。
According to a second aspect of the present invention, in the apparatus for processing a photosensitive material according to the first aspect, the filtering means comprises: a circulation path;
It has a circulation means and a filter. The circulation path is
This is a path connecting the first storage section and the second storage section, and has a suction port. The suction port of the circulation path is disposed at a position separated from the bottom where the height of the first storage section is the lowest by a predetermined distance. The circulation means and the filter are provided in the circulation path.

【0010】ここでは、循環手段によって循環経路を介
して第1貯留部から第2貯留部へと処理液を流す。そし
て、循環経路を流れる処理液は、フィルターによって濾
過される。また、ここでは、循環経路の吸引口が、第1
貯留部の底部ではなく、底部から所定距離だけ上方に離
れたところ(例えば第1貯留部の液層の中央部付近や上
部付近)に配置されている。このため、第1貯留部内の
スラッジ等の沈殿し易い処理液の含有汚染物質が、循環
経路に流れ込みにくくなる。すなわち、吸引口をある程
度上方に配置することによって、第1貯留部内の比較的
清浄度の高い部分にある処理液を選択的に循環経路に吸
い込ませることとなり、循環経路のフィルターにかかる
負担が減って清掃や交換の手間が少なくなる。
Here, the processing liquid flows from the first storage section to the second storage section via the circulation path by the circulation means. Then, the processing liquid flowing through the circulation path is filtered by the filter. Here, the suction port of the circulation path is the first port.
It is arranged not at the bottom of the storage part but at a location separated from the bottom by a predetermined distance upward (for example, near the center or upper part of the liquid layer of the first storage part). For this reason, it becomes difficult for the contaminants contained in the processing liquid, such as sludge, in the first storage unit, which easily precipitate, to flow into the circulation path. That is, by arranging the suction port to some extent above, the processing liquid in the relatively high-purity portion in the first storage section is selectively sucked into the circulation path, and the load on the filter in the circulation path is reduced. Cleaning and replacement are reduced.

【0011】請求項3に係る感光材料処理装置は、請求
項1又は2に記載の装置において、処理液受け部材をさ
らに備えている。この装置では、第1貯留部及び第2貯
留部は、ともに吐出部の下方に配置されている。また、
処理液受け部材は、吐出部の下に設けられるものであっ
て、吐出部から流下した処理液を第1貯留部にのみ流下
させる。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the photosensitive material processing apparatus according to the first or second aspect, further comprising a processing liquid receiving member. In this device, the first storage unit and the second storage unit are both arranged below the discharge unit. Also,
The processing liquid receiving member is provided below the discharge unit, and causes the processing liquid flowing down from the discharge unit to flow only into the first storage unit.

【0012】ここでは、第1貯留部及び第2貯留部が吐
出部の下方に配置されているため、何も手当てをしなけ
れば、感光材料に接触して汚染された処理液が第1貯留
部のみならず第2貯留部にも流下してしまう。これで
は、第2貯留部内の処理液の清浄度が低下し、吐出部に
おける目詰まりがすぐに発生してしまう。しかし、本請
求項に係る装置では、吐出部の下に処理液受け部材を設
けて、吐出部から流下した処理液を第1貯留部にのみ流
下させるようにしている。したがって、感光材料に接触
して汚染された処理液が第2貯留部に流下することはな
く、第2貯留部の清浄度を確保することができる。
In this case, since the first storage section and the second storage section are arranged below the discharge section, if no treatment is performed, the processing liquid contaminated by contacting the photosensitive material may be stored in the first storage section. It flows down to the second storage part as well as the part. In this case, the cleanliness of the processing liquid in the second storage unit is reduced, and clogging in the discharge unit immediately occurs. However, in the apparatus according to the present invention, the processing liquid receiving member is provided below the discharge unit so that the processing liquid flowing down from the discharge unit flows down only to the first storage unit. Therefore, the processing liquid contaminated by contacting the photosensitive material does not flow down to the second storage section, and the cleanliness of the second storage section can be ensured.

【0013】また、処理液は、吐出部から直接第1貯留
部に流下するのではなく、吐出部から処理液受け部材を
介して第1貯留部に流下させられている。これにより、
処理液の蒸発や第1貯留部での泡立ちが抑えられる。請
求項4に係る感光材料処理装置は、請求項3に記載の装
置において、処理液受け部材は、上部が上方に開き下部
が収束している形状であって、上部の開口よりも下部の
開口のほうが開口面積が小さい。
The processing liquid does not flow directly from the discharge section to the first storage section, but flows from the discharge section to the first storage section via the processing liquid receiving member. This allows
Evaporation of the processing liquid and bubbling in the first storage section are suppressed. According to a fourth aspect of the present invention, in the apparatus for processing a photosensitive material according to the third aspect, the processing liquid receiving member has a shape in which an upper portion is opened upward and a lower portion is converged, and an opening lower than the upper opening. Has a smaller opening area.

【0014】ここでは、吐出部から流下した処理液は、
処理受け部材の上部の開口から処理液受け部材内に入
り、収束している形状の下部に集められて、下部の開口
から第1貯留部に流下する。このように、処理液受け部
材が上部の開口で処理液を受け入れて開口面積の小さい
下部の開口から第1貯留部に処理液を流下させるため、
第1貯留部の処理液が流下する部分が限定されて泡立ち
がより小さくなる。
Here, the processing liquid flowing down from the discharge unit is
The liquid enters the processing liquid receiving member through the upper opening of the processing receiving member, is collected at the lower part of the converging shape, and flows down to the first storage part from the lower opening. In this manner, the processing liquid receiving member receives the processing liquid at the upper opening and allows the processing liquid to flow down from the lower opening having a smaller opening area to the first storage unit.
The portion of the first storage section where the treatment liquid flows down is limited, and bubbling is further reduced.

【0015】また、処理液は処理液受け部材内において
下部に収束する形状に沿って流れるため、処理液受け部
材内でも蒸発や泡立ちが抑えられる請求項5に係る感光
材料処理装置は、請求項4に記載の装置において、処理
液受け部材は、下部の開口が第1貯留部の処理液の液面
よりも下方にあるか、あるいは下部の開口が第1貯留部
の処理液の液面に近接する高さ位置にある。
Further, since the processing liquid flows along a shape converging downward in the processing liquid receiving member, evaporation and bubbling are suppressed even in the processing liquid receiving member. In the apparatus described in Item 4, the processing liquid receiving member may be configured such that the lower opening is below the liquid level of the processing liquid in the first storage section, or the lower opening is in the liquid level of the processing liquid in the first storage section. It is at an adjacent height.

【0016】ここでは、処理液受け部材の下部の開口を
第1貯留部の処理液の液面よりも下方に配置して、下部
の開口から流下する処理液と第1貯留部の液面との衝突
を回避することで泡立ちをより抑えるか、あるいは下部
の開口を第1貯留部の液面に近接する高さ位置に配置し
て、下部の開口から流下する処理液と第1貯留部の液面
との衝突時の衝撃を小さくすることで泡立ちをより抑え
る。どちらを選択することもできるが、第1貯留部の液
面の高さの変動によって、ある時間帯では処理液受け部
材の下部の開口が第1貯留部の処理液の液面よりも下方
に位置し、ある時間帯では下部の開口が第1貯留部の液
面に近接する高さに位置することもあり得る。
In this case, the lower opening of the processing liquid receiving member is disposed below the liquid level of the processing liquid in the first storage section, and the processing liquid flowing down from the lower opening and the liquid level of the first storage section are arranged. To prevent foaming by avoiding the collision of the first storage part, or by disposing the lower opening at a height position close to the liquid level of the first storage part, the processing liquid flowing down from the lower opening and the first storage part Foaming is further suppressed by reducing the impact at the time of collision with the liquid surface. Either of them can be selected, but due to fluctuations in the liquid level of the first storage section, the opening at the lower part of the processing liquid receiving member is lower than the processing liquid level of the first storage section in a certain time zone. The lower opening may be located at a height close to the liquid level of the first storage part in a certain time zone.

【0017】請求項6に係る感光材料処理装置は、請求
項5に記載の装置において、第1貯留部における循環経
路の吸引口の高さ位置が、処理液受け部材の下部の開口
の高さ位置よりも高く設定されている。ここでは、処理
液受け部材の下部の開口よりも循環経路の吸引口のほう
が高い位置に配置されているため、下部の開口から第1
貯留部に流下した汚染物質を含んだ処理液は、第1貯留
部内を上昇しないと吸引口に吸い込まれることはない。
しかしながら、沈殿しやすい汚染物質は、下部の開口よ
りも高い位置にある吸引口に吸い込まれることは少な
く、第2貯留部へと続く循環経路に流れ込みにくい。こ
れにより、循環経路のフィルターにかかる負担が減って
清掃や交換の手間が少なくなる。
According to a sixth aspect of the present invention, in the apparatus of the fifth aspect, the height position of the suction port of the circulation path in the first storage section is the height of the lower opening of the processing liquid receiving member. It is set higher than the position. Here, since the suction port of the circulation path is arranged at a position higher than the opening of the lower part of the processing liquid receiving member, the first opening from the lower opening.
The processing liquid containing the contaminant that has flowed down to the storage section is not sucked into the suction port unless it rises in the first storage section.
However, contaminants that tend to precipitate are less likely to be sucked into the suction port located at a position higher than the lower opening, and are less likely to flow into the circulation path leading to the second storage unit. As a result, the burden on the filter in the circulation path is reduced, and cleaning and replacement are reduced.

【0018】請求項7に係る感光材料処理装置は、請求
項4又は5に記載の装置において、第1貯留部にはフロ
ー誘導壁が設けられている。フロー誘導壁は、循環経路
の吸引口と処理液受け部材の下部の開口との間に設けら
れるものであって、循環経路の吸引口から処理液受け部
材の下部の開口への処理液の流れが第1貯留部の底部付
近を通るようにする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the photosensitive material processing apparatus according to the fourth or fifth aspect, a flow guiding wall is provided in the first storage section. The flow guiding wall is provided between the suction port of the circulation path and the lower opening of the processing liquid receiving member. The flow of the processing liquid from the suction port of the circulation path to the lower opening of the processing liquid receiving member is provided. Pass through the vicinity of the bottom of the first storage section.

【0019】ここでは、循環経路の吸引口と処理液受け
部材の下部の開口との間にフロー誘導壁が設けられてい
るため、下部の開口から第1貯留部に流下した汚染物質
を含んだ処理液は、一旦第1貯留部の底部付近を通らな
ければ吸引口付近に流れていかない。そして、第1貯留
部の底部付近を通って吸引口付近に上昇する処理液は、
含有している沈殿しやすい汚染物質の大半を底部付近に
取り残していく。したがって、汚染物質が吸引口に吸い
込まれることは少なく、汚染物質が第2貯留部へと続く
循環経路に流れ込みにくい。これにより、循環経路のフ
ィルターにかかる負担が減って清掃や交換の手間が少な
くなる。
In this case, since the flow guide wall is provided between the suction port of the circulation path and the lower opening of the processing liquid receiving member, contaminants flowing down from the lower opening to the first storage section are contained. The processing liquid does not flow to the vicinity of the suction port unless it passes near the bottom of the first storage part. And the processing liquid which rises near the suction port through the vicinity of the bottom of the first storage section,
Most of the contaminants that easily precipitate are contained near the bottom. Therefore, the contaminants are less likely to be sucked into the suction port, and the contaminants are less likely to flow into the circulation path leading to the second storage unit. As a result, the burden on the filter in the circulation path is reduced, and cleaning and replacement are reduced.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】[第1実施形態] (構成)本発明の一実施形態における現像装置(感光材
料処理装置)を、図1に示す。この現像装置は、主とし
て、現像装置本体1と、現像装置本体1の一方側に設け
られた挿入トレイ2と、現像装置本体1の他方側に設け
られた版受け台3とを有している。また現像装置本体1
の上部において挿入トレイ2側には、途中挿入部4が設
けられている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First Embodiment (Structure) FIG. 1 shows a developing device (photosensitive material processing device) according to an embodiment of the present invention. The developing device mainly includes a developing device main body 1, an insertion tray 2 provided on one side of the developing device main body 1, and a plate receiving table 3 provided on the other side of the developing device main body 1. . Developing device body 1
A middle insertion portion 4 is provided on the upper side of the insertion tray 2.

【0021】現像装置本体1の一方側には、挿入トレイ
2から刷版(感光材料)を装置本体内部に導入するため
の挿入口1aが設けられており、また他方側には処理済
みの刷版を版受け台3に排出するための排出口1bが設
けられている。さらに現像装置本体1の途中挿入部4に
は、刷版を途中挿入するための途中挿入口1cが設けら
れている。現像装置本体1の内部においては、挿入口1
a側から順に、導入部10、現像処理部11、水洗処理
部12、ガム液処理またはリンス液処理を行う仕上げ処
理部13、及び乾燥処理部14が設けられている。
On one side of the developing device main body 1, there is provided an insertion opening 1a for introducing a printing plate (photosensitive material) from the insertion tray 2 into the device main body, and on the other side, a processed printing plate. A discharge port 1b for discharging the plate to the plate receiver 3 is provided. Further, the intermediate insertion portion 4 of the developing device main body 1 is provided with an intermediate insertion port 1c for inserting a printing plate halfway. The inside of the developing device main body 1 has an insertion port 1
In order from the a side, an introduction unit 10, a development processing unit 11, a rinsing processing unit 12, a finishing processing unit 13 for performing a gum solution processing or a rinsing liquid processing, and a drying processing unit 14 are provided.

【0022】<導入部>導入部10には、挿入トレイ2
から挿入口1aを介して挿入される刷版を装置内部に搬
入するための1対の搬送ローラ15が設けられている。 <現像処理部>現像処理部11は、画像が焼き付けられ
た刷版を現像処理する部分であり、現像液を貯留する現
像槽16を有している。現像槽16内には、刷版の搬送
をガイドするための下方に湾曲したガイド板17と、ガ
イド板17の上方に配置されたローラ18とが設けられ
ている。また、現像槽16内の現像液を覆うように浮き
蓋19が現像液面に浮かべられている。この浮き蓋19
は、現像液の蒸発及び酸化を抑制するためのものであ
る。現像処理部11の刷版搬送方向の下流側端にはロー
ラ20が設けられている。
<Introduction Section> The introduction section 10 includes the insertion tray 2
A pair of transport rollers 15 for carrying a printing plate inserted through the insertion opening 1a into the apparatus is provided. <Development Processing Unit> The development processing unit 11 is a part for developing a printing plate on which an image is printed, and has a developing tank 16 for storing a developing solution. In the developing tank 16, there are provided a guide plate 17 that curves downward to guide the transport of the printing plate, and a roller 18 that is disposed above the guide plate 17. A floating lid 19 is floated on the surface of the developing solution so as to cover the developing solution in the developing tank 16. This floating lid 19
Is for suppressing evaporation and oxidation of the developer. A roller 20 is provided at a downstream end of the development processing unit 11 in the plate transport direction.

【0023】なお、図示していないが、現像槽16に
は、現像液供給パイプ、現像液排出パイプ、冷却水用の
パイプ及びヒータ等が設けられている。 <水洗処理部>水洗処理部12には、水洗槽25と、搬
送上流側の搬送ローラ26と、搬送下流側の搬送ローラ
27とが設けられている。また上流側搬送ローラ26と
下流側搬送ローラ27との間には、刷版表面の感材除去
を促進するためのスクラブローラ28aと、このスクラ
ブローラ28aに圧接する圧接ローラ28bとが設けら
れている。スクラブローラ28aは、表面がフェルトで
覆われており、刷版の搬送速度よりも速い周速で回転さ
せられる。このため、刷版表面はスクラブローラ28a
によって擦られる。そして、上流側搬送ローラ26とス
クラブローラ28aとの間及びスクラブローラ28aと
下流側搬送ローラ27との間には、刷版を水洗処理する
ための水洗シャワーパイプ29が設けられている。この
水洗シャワーパイプ29からは、刷版に対して洗浄液が
散布され、この洗浄液は水洗槽25内に溜められるとと
もに後述する送液ポンプ54aにより再び水洗シャワー
パイプ29へ循環される。さらには、各水洗シャワーパ
イプ29と水洗槽25との間に、後述するトレー(処理
液受け部材)61が設けられている。
Although not shown, the developing tank 16 is provided with a developing solution supply pipe, a developing solution discharge pipe, a pipe for cooling water, a heater, and the like. <Washing Unit> The washing unit 12 is provided with a washing tank 25, a transport roller 26 on the upstream side of the transport, and a transport roller 27 on the downstream side of the transport. A scrub roller 28a for facilitating removal of the photosensitive material from the surface of the printing plate and a pressing roller 28b for pressing against the scrub roller 28a are provided between the upstream conveying roller 26 and the downstream conveying roller 27. I have. The surface of the scrub roller 28a is covered with felt, and is rotated at a peripheral speed higher than the printing plate transport speed. For this reason, the printing plate surface has a scrub roller 28a.
Rubbed by A flush shower pipe 29 is provided between the upstream transport roller 26 and the scrub roller 28a and between the scrub roller 28a and the downstream transport roller 27 to rinse the printing plate with water. From the washing shower pipe 29, a washing liquid is sprayed on the printing plate, and the washing liquid is stored in the washing tank 25 and circulated to the washing shower pipe 29 again by a liquid sending pump 54a described later. Further, a tray (treatment liquid receiving member) 61 described later is provided between each washing shower pipe 29 and the washing tank 25.

【0024】水洗処理部12の正面図である図2に示す
ように、水洗槽25は、分離壁62によって、第1貯留
部25aと第2貯留部25bとに分けられている。第1
貯留部25aは、さらに、隔壁63,64によって、3
つの空間(第1空間41,第2空間42,第3空間4
3)に分けられている。これらの3つの空間41,4
2,43は、隔壁63,64の下で連通している。ま
た、第2貯留部25bは、隔壁65によって2つの空間
(第4空間44,第5空間45)に分けられている。隔
壁65は、第2貯留部25bの底面から上方に延びる垂
直部65aと、垂直部65aの上端から水平方向に延び
複数の開口が形成された水平部65bとから構成されて
いる。第5空間45は、隔壁65と第2貯留部25bの
底面及び側面とにより囲まれた空間であり、第4空間4
4はそれ以外の第2貯留部25bの空間である。
As shown in FIG. 2, which is a front view of the rinsing section 12, the rinsing tank 25 is divided by a separating wall 62 into a first storage section 25a and a second storage section 25b. First
The storage part 25a is further divided into three by partition walls 63 and 64.
Space (first space 41, second space 42, third space 4)
It is divided into 3). These three spaces 41,4
2 and 43 communicate under the partition walls 63 and 64. The second storage section 25b is divided into two spaces (a fourth space 44 and a fifth space 45) by a partition wall 65. The partition wall 65 includes a vertical portion 65a extending upward from the bottom surface of the second storage portion 25b, and a horizontal portion 65b extending horizontally from an upper end of the vertical portion 65a and having a plurality of openings formed therein. The fifth space 45 is a space surrounded by the partition wall 65 and the bottom and side surfaces of the second storage section 25b.
Reference numeral 4 denotes a space of the other second storage section 25b.

【0025】この水洗槽25には、以下に記載する各種
の配管が装着されている。循環配管53は、第1貯留部
25aから第2貯留部25bへとスラッジ等の汚染物質
を含まない洗浄液を送るための配管である。この循環配
管53には、ポンプ(循環手段)53a及びフィルター
53bが設けられている。このポンプ53aを作動させ
ることによって第1貯留部25aから第2貯留部25b
へと洗浄液が流れ、流れる洗浄液からはフィルター53
bによってスラッジ等が取り除かれる。循環配管53の
第1貯留部25a側の開口である吸引口53cは、第1
貯留部25aの第2空間42の上部に配置される。すな
わち、吸引口53cは、第1貯留部25aの底面から所
定距離だけ上方に離れている。また、循環配管53の第
2貯留部25b側の開口は、第2貯留部25bの第5空
間45の底部に開放されている(図2参照)。
Various pipes described below are attached to the washing tank 25. The circulation pipe 53 is a pipe for sending a cleaning liquid containing no pollutants such as sludge from the first storage section 25a to the second storage section 25b. The circulation pipe 53 is provided with a pump (circulation means) 53a and a filter 53b. By operating the pump 53a, the first storage unit 25a is switched to the second storage unit 25b.
The cleaning liquid flows from the cleaning liquid to the filter 53.
Sludge and the like are removed by b. The suction port 53c, which is an opening on the first storage section 25a side of the circulation pipe 53,
It is arranged above the second space 42 of the storage section 25a. That is, the suction port 53c is separated upward by a predetermined distance from the bottom surface of the first storage section 25a. The opening of the circulation pipe 53 on the side of the second storage section 25b is open to the bottom of the fifth space 45 of the second storage section 25b (see FIG. 2).

【0026】送液配管54は、第2貯留部25bから水
洗シャワーパイプ29へと洗浄液を送り出す配管であ
る。この送液配管54には送液ポンプ54aが設けられ
ており、この送液ポンプ54aを作動させることによっ
て第2貯留部25bから水洗シャワーパイプ29へと洗
浄液が送られる。送液配管54は、第2貯留部25bの
側壁付近の第5空間45の底部から洗浄液を吸い込ん
で、水洗シャワーパイプ29へと洗浄液を送る。
The liquid sending pipe 54 is a pipe for sending the washing liquid from the second storage section 25b to the washing shower pipe 29. The liquid sending pipe 54 is provided with a liquid sending pump 54a, and the washing liquid is sent from the second storage section 25b to the washing shower pipe 29 by operating the liquid sending pump 54a. The liquid feed pipe 54 sucks the cleaning liquid from the bottom of the fifth space 45 near the side wall of the second storage part 25 b and sends the cleaning liquid to the washing shower pipe 29.

【0027】補充配管55は、図示しない洗浄液供給源
から送られてくる新しい洗浄液を、第2貯留部25bの
上方から流下する。オーバーフロー配管56は、第1貯
留部25aの第3空間43に隣接する側壁上部に接続さ
れている(図2参照)。このオーバーフロー配管56か
らオーバーフローされる洗浄液の高さ位置は、隔壁64
の上端の高さ位置よりも低く設定されている。したがっ
て、第1貯留部25a内の洗浄液は、必ず第3空間43
を通ってオーバーフローされる。
The replenishment pipe 55 allows a new cleaning liquid sent from a cleaning liquid supply source (not shown) to flow down from above the second storage section 25b. The overflow pipe 56 is connected to the upper part of the side wall adjacent to the third space 43 of the first storage part 25a (see FIG. 2). The height position of the cleaning solution overflowing from the overflow pipe 56 is determined by the partition 64
Is set lower than the height position of the upper end of. Therefore, the cleaning liquid in the first storage section 25a always flows into the third space 43.
Overflows through.

【0028】第2貯留部25bの第5空間45には、ヒ
ーター57が配備されている。このヒーター57は、第
5空間45にある洗浄液、特に送液配管54との接続部
付近の洗浄液を温め、水洗シャワーパイプ29から刷版
Pに対して散布される洗浄液の温度を調整する。また、
第5空間45の洗浄液の温度は温度センサー57aによ
ってフィードバックされ、ヒーター57の出力がコント
ロールされる。
A heater 57 is provided in the fifth space 45 of the second storage section 25b. The heater 57 warms the cleaning liquid in the fifth space 45, particularly the cleaning liquid near the connection with the liquid feed pipe 54, and adjusts the temperature of the cleaning liquid sprayed on the printing plate P from the washing shower pipe 29. Also,
The temperature of the cleaning liquid in the fifth space 45 is fed back by the temperature sensor 57a, and the output of the heater 57 is controlled.

【0029】ドレン配管58は、第1貯留部25aの底
部から下方に延びており、第1貯留部25aの底部に溜
まったスラッジ等の沈殿物を排出する。通常はドレン配
管58に設けられたドレンバルブ58aは閉められてお
り、ドレン排出作業を行うときにだけドレンバルブ58
aが開けられる。また、図1及び図2に示すように、水
洗シャワーパイプ29と水洗槽25との間にはトレー6
1が設けられている。トレー61は、図2に示すよう
に、上部が上方に開き下部が収束している形状であっ
て、上部の開口61aよりも下部の開口61bのほうが
開口面積が小さくなっている。トレー61の上部の開口
61aは、水洗槽25の平面的形状とほぼ同じ形状であ
る。トレー61の下部の開口61bは、高さレベルとし
てはオーバーフローしている第1貯留部25aの液面の
少し上に位置し、平面的には分離壁62と隔壁63との
間に位置している。したがって、水洗シャワーパイプ2
9から刷版Pに散布された洗浄液が流下してトレー61
に入ると、この洗浄液は収束した形状のトレー61の下
部に集められて、全て第1貯留部25aの第1空間41
に流下する。
The drain pipe 58 extends downward from the bottom of the first storage section 25a, and discharges sludge and other deposits collected at the bottom of the first storage section 25a. Normally, the drain valve 58a provided in the drain pipe 58 is closed, and the drain valve 58a is used only when draining work is performed.
a can be opened. As shown in FIGS. 1 and 2, the tray 6 is provided between the washing shower pipe 29 and the washing tank 25.
1 is provided. As shown in FIG. 2, the tray 61 has a shape in which an upper portion is opened upward and a lower portion is converged, and the opening area of the lower opening 61b is smaller than that of the upper opening 61a. The upper opening 61a of the tray 61 has substantially the same shape as the planar shape of the washing tank 25. The opening 61b at the lower part of the tray 61 is located slightly above the liquid level of the first storage part 25a which overflows as a height level, and is located between the separation wall 62 and the partition 63 in plan view. I have. Therefore, the flush shower pipe 2
The washing liquid sprayed on the printing plate P flows down from
When the cleaning liquid enters, the cleaning liquid is collected at the lower part of the tray 61 having the converged shape, and all of the cleaning liquid is collected in the first space 41 of the first storage section 25a.
Flow down to

【0030】<仕上げ処理部>仕上げ処理部13には、
ガム/リンス槽30と、刷版にガム/リンス液を吹き付
けるためのガム/リンス液シャワーパイプ31とが設け
られている。この仕上げ処理部13の後部には、刷版の
表面に付着しているガム液あるいはリンス液を絞りとる
1対の絞りローラ32が設けられている。
<Finishing Processing Unit> The finishing processing unit 13
A gum / rinse tank 30 and a gum / rinse liquid shower pipe 31 for spraying a gum / rinse liquid on the printing plate are provided. A pair of squeezing rollers 32 for squeezing the gum solution or the rinsing solution adhered to the surface of the printing plate is provided at the rear of the finishing unit 13.

【0031】<乾燥処理部>乾燥処理部14には乾燥室
35が設けられており、この乾燥室35内には、ガイド
コロ36と、上下の温風吹き出し部37と、刷版を版受
け台3側に排出するための排出ローラ38とが設けられ
ている。 (動作)次に、現像装置全体の動作を説明する。
<Drying Processing Unit> The drying processing unit 14 is provided with a drying chamber 35. In the drying chamber 35, a guide roller 36, upper and lower hot air blowing units 37, and a printing plate are received. A discharge roller 38 for discharging to the table 3 is provided. (Operation) Next, the operation of the entire developing device will be described.

【0032】図示しない焼付装置で画像が焼き付けられ
た刷版は、挿入トレイ2に搬送されてくる。または作業
者がこの挿入トレイ2から刷版を挿入する。挿入トレイ
2に載置されて挿入口1aから挿入された刷版は、搬送
ローラ15によって現像処理部11に送られる。刷版
は、ガイド板17及びローラ18によって現像槽16内
を搬送され、現像液に浸漬させられる。現像処理の終わ
った刷版は水洗処理部12に送られる。
The printing plate on which an image is printed by a printing device (not shown) is conveyed to the insertion tray 2. Alternatively, an operator inserts a printing plate from the insertion tray 2. The printing plate placed on the insertion tray 2 and inserted from the insertion opening 1 a is sent to the developing unit 11 by the transport roller 15. The printing plate is transported in the developing tank 16 by the guide plate 17 and the roller 18 and is immersed in the developing solution. The printing plate on which the development processing has been completed is sent to the rinsing processing section 12.

【0033】水洗処理部12では、刷版は搬送ローラ2
6,27によって搬送されながら水洗シャワーパイプ2
9からの洗浄液の噴射によって水洗される。またこの水
洗処理部12では、スクラブローラ28aによって刷版
表面の感材の除去が促進される。水洗処理の終了した刷
版は仕上げ処理部13に送られ、表面にガム液あるいは
リンス液が塗布される。
In the rinsing section 12, the printing plate is transported by the transport roller 2.
Wash shower pipe 2 while being transported by 6, 27
Washing is carried out by spraying the washing liquid from 9. In the water washing section 12, removal of the photosensitive material on the plate surface is promoted by the scrub roller 28a. The printing plate that has been subjected to the water washing process is sent to the finishing unit 13, where a gum solution or a rinsing solution is applied to the surface.

【0034】そして、仕上げ処理部13でガム液あるい
はリンス液が塗布された刷版は、両絞りローラ32間を
通って乾燥処理部14に送られる。乾燥処理部14で
は、刷版は乾燥室35内を搬送されながら温風吹き出し
部37から吹き出される温風によって乾燥処理される。
そして、乾燥処理の施された刷版は排出口1bから版受
け台3に排出される。
The printing plate to which the gum solution or the rinsing solution has been applied in the finishing section 13 is sent to the drying section 14 between the two squeezing rollers 32. In the drying processing unit 14, the printing plate is dried by hot air blown from the hot air blowing unit 37 while being transported in the drying chamber 35.
The printing plate subjected to the drying process is discharged from the discharge port 1b to the plate receiving table 3.

【0035】次に、水洗処理部12における洗浄液の流
れについて図2を参照して説明する。水洗シャワーパイ
プ29のノズル29aから刷版Pに散布された洗浄液
は、刷版P上のスラッジを洗い流して、トレー61の開
口61aからトレー61に流下する。トレー61の内側
の斜面に沿って流れ落ちる洗浄液は、トレー61の下部
に集められて、そこから開口61bを通って第1貯留部
25aの第1空間41に流下する。
Next, the flow of the cleaning liquid in the water washing section 12 will be described with reference to FIG. The cleaning liquid sprayed on the printing plate P from the nozzle 29a of the washing shower pipe 29 rinses sludge on the printing plate P and flows down from the opening 61a of the tray 61 to the tray 61. The cleaning liquid flowing down along the inner slope of the tray 61 is collected at the lower portion of the tray 61, and flows down from there through the opening 61b into the first space 41 of the first storage portion 25a.

【0036】この洗浄液は隔壁63,64の下を通って
第2,第3空間42,43に流れるが、洗浄液に含まれ
るスラッジ等の汚染物質は、沈殿しやすいため第1貯留
部25aの底部付近に溜まりがちとなる。但し、オーバ
ーフロー配管56から常時オーバーフローさせているた
め、第1貯留部25a内では、第1空間41を下って底
部付近を第3空間43のほうへと流れ第3空間43を上
昇するという流れが生じる。このため、沈殿しやすいス
ラッジ等も、ある程度オーバーフロー配管56から外部
へと排出される。また、スラッジ等のドレンが溜まる
と、点検時等にドレンバルブ58aが開けられてドレン
配管58からこれらが排出される。
This cleaning liquid flows under the partition walls 63 and 64 into the second and third spaces 42 and 43. However, pollutants such as sludge contained in the cleaning liquid are liable to settle, so that the bottom of the first storage section 25a is formed. It tends to accumulate in the vicinity. However, since the water is always overflowed from the overflow pipe 56, in the first storage portion 25a, there is a flow of flowing down the first space 41, flowing near the bottom toward the third space 43, and ascending the third space 43. Occurs. Therefore, sludge or the like that is likely to settle is discharged to the outside from the overflow pipe 56 to some extent. When drainage such as sludge accumulates, the drain valve 58a is opened at the time of inspection and the like, and these are discharged from the drain pipe 58.

【0037】一方、第1貯留部25a内の洗浄液は、循
環配管53の吸引口53cから吸い込まれて、ポンプ5
3aの作動によって第2貯留部25bの第5空間45に
送られる。このときに洗浄液に含まれるスラッジ等が第
2貯留部25bに入り込まないように、フィルター53
bによって洗浄液が濾過される。また、第2貯留部25
bには補充配管55から新しい補充液が随時補充され
る。
On the other hand, the cleaning liquid in the first storage section 25a is sucked through the suction port 53c of the circulation pipe 53, and
It is sent to the fifth space 45 of the second storage part 25b by the operation of 3a. At this time, the filter 53 is used to prevent sludge and the like contained in the cleaning liquid from entering the second storage section 25b.
The washing liquid is filtered by b. In addition, the second storage unit 25
b is replenished with a new replenisher from the replenishment pipe 55 as needed.

【0038】第5空間45は、隔壁65によって囲まれ
ており、洗浄液がヒーター57によって温度調整され
る。この温度調整された洗浄液は、送液ポンプ54aに
作動によって送液配管54から水洗シャワーパイプ29
に送られる。そして、水洗シャワーパイプ29のノズル
29aから刷版Pに散布される。上記のように、洗浄液
は、水洗シャワーパイプ29、第1貯留部25a、及び
第2貯留部25bの間を循環している。なお、ここでは
循環配管53によってのみ第1貯留部25aと第2貯留
部25bとの間で洗浄液を移動させているが、第2貯留
部25bから第1貯留部25aへと分離壁62を乗り越
えて洗浄液がオーバーフローするように設定しても良
い。
The fifth space 45 is surrounded by a partition wall 65, and the temperature of the cleaning liquid is adjusted by a heater 57. The temperature-adjusted cleaning liquid is supplied from the liquid supply pipe 54 to the washing shower pipe 29 by the operation of the liquid supply pump 54a.
Sent to Then, the water is sprayed on the printing plate P from the nozzle 29a of the washing shower pipe 29. As described above, the cleaning liquid is circulating between the washing shower pipe 29, the first storage section 25a, and the second storage section 25b. Although the cleaning liquid is moved between the first storage part 25a and the second storage part 25b only by the circulation pipe 53 here, the cleaning liquid passes over the separation wall 62 from the second storage part 25b to the first storage part 25a. May be set so that the cleaning liquid overflows.

【0039】(特徴)次に、本実施形態の水洗処理部1
2の特徴を説明する。第1に、ここでは、水洗槽25を
2つの貯留部(第1貯留部25a,第2貯留部25b)
に分け、それぞれにおける洗浄液の汚れ具合を分離する
ことによって洗浄液の清浄化の効率向上を図っている。
分離壁62及びフィルター53bによって第2貯留部の
洗浄液が清浄なものとなり、水洗シャワーパイプ29の
ノズル29aが目詰まりを起こして刷版Pに吐出する洗
浄液の吐出量が低下するといった不具合が解消されてい
る。
(Characteristics) Next, the washing section 1 of the present embodiment.
The second feature will be described. First, here, the washing tank 25 is divided into two storage units (a first storage unit 25a and a second storage unit 25b).
The cleaning efficiency of the cleaning liquid is improved by separating the degree of contamination of the cleaning liquid in each case.
The separation wall 62 and the filter 53b clean the cleaning liquid in the second storage section, thereby eliminating the problem that the nozzle 29a of the washing shower pipe 29 is clogged and the discharge amount of the cleaning liquid discharged to the printing plate P is reduced. ing.

【0040】第2に、ここでは、循環配管53の吸引口
53cが、第1貯留部25aの底部ではなく、底部から
所定距離だけ上方に離れた第1貯留部25aの液層の上
部付近に配置されている。このため、第1貯留部25a
内のスラッジ等の沈殿し易い汚染物質が循環配管53に
流れ込みにくくなっている。すなわち、吸引口53cを
ある程度上方に配置することによって、第1貯留部25
a内の比較的清浄度の高い部分にある洗浄液を選択的に
循環配管53に吸い込ませている。したがって、フィル
ター53bにかかる負担が減ってフィルター53bの清
掃や交換の手間が少ない。
Second, here, the suction port 53c of the circulation pipe 53 is not located at the bottom of the first storage section 25a but near the upper part of the liquid layer of the first storage section 25a which is separated from the bottom by a predetermined distance upward. Are located. Therefore, the first storage unit 25a
Contaminants, such as sludge, which are likely to settle inside, are less likely to flow into the circulation pipe 53. That is, by disposing the suction port 53c somewhat upward, the first storage section 25
The cleaning liquid in the relatively high cleanliness portion in the area a is selectively sucked into the circulation pipe 53. Therefore, the burden on the filter 53b is reduced, and the labor for cleaning and replacing the filter 53b is reduced.

【0041】第3に、ここでは、第1貯留部25a及び
第2貯留部25bが水洗シャワーパイプ29の下方に配
置されているが、水洗シャワーパイプ29の直下にトレ
ー61を設けて、水洗シャワーパイプ29から流下した
洗浄液を第1貯留部25aにのみ流下させるようにして
いる。したがって、刷版Pに接触してスラッジ等を含む
ようになった洗浄液が第2貯留部25bに流下すること
はなく、第2貯留部25bの清浄度が確保されている。
Third, here, the first storage section 25a and the second storage section 25b are arranged below the flush shower pipe 29, but the tray 61 is provided directly below the flush shower pipe 29, and the flush shower pipe 29 is provided. The cleaning liquid flowing down from the pipe 29 flows down only to the first storage section 25a. Therefore, the cleaning liquid that comes into contact with the printing plate P and contains sludge does not flow down to the second storage part 25b, and the cleanliness of the second storage part 25b is ensured.

【0042】第4に、ここでは、洗浄液は、水洗シャワ
ーパイプ29から直接第1貯留部25aに流下するので
はなく、トレー61を介して第1貯留部25aに流下さ
せられている。これにより、水洗シャワーパイプ29か
ら第1貯留部25aに流下している途中において発生す
る洗浄液の蒸発や、第1貯留部25aの液面付近での洗
浄液の泡立ちが少なくなっている。
Fourth, here, the cleaning liquid is not caused to flow directly from the washing shower pipe 29 to the first storage part 25a, but to the first storage part 25a via the tray 61. Accordingly, evaporation of the cleaning liquid generated during the flow from the washing shower pipe 29 to the first storage section 25a and bubbling of the cleaning liquid near the liquid surface of the first storage section 25a are reduced.

【0043】第5に、ここでは、水洗シャワーパイプ2
9から流下した洗浄液は、トレー61の上部の開口61
aからトレー61内に入り、収束している形状の下部に
集められて、下部の開口61bから第1貯留部25aに
流下する。このように、トレー61が上部の開口61a
で洗浄液を受け入れて開口面積の小さい下部の開口61
bから第1貯留部25aに洗浄液を流下させているた
め、洗浄液が流下する第1貯留部25aの部分(面積)
が限定されて泡立ちがより小さくなっている。また、処
理液はトレー61内において下部に収束する形状に沿っ
て流れるため、トレー61内においても洗浄液の蒸発や
泡立ちが抑えられている第6に、ここでは、トレー61
の下部の開口61bを第1貯留部25aの液面に近接す
る高さ位置に配置して、下部の開口61bから流下する
洗浄液と第1貯留部25aの液面との衝突時の衝撃を小
さくすることで泡立ちをより抑えている。
Fifth, here, the flush shower pipe 2
The washing liquid flowing down from the tray 9 is supplied to the opening 61 at the top of the tray 61.
a into the tray 61, collected at the lower part of the converged shape, and flows down from the lower opening 61b to the first storage part 25a. As described above, the tray 61 has the upper opening 61a.
And a lower opening 61 having a small opening area.
Since the cleaning liquid flows down from b to the first storage section 25a, the portion (area) of the first storage section 25a where the cleaning liquid flows down
Is limited and foaming is smaller. Further, since the processing liquid flows along the shape converging downward in the tray 61, the evaporation and bubbling of the cleaning liquid are also suppressed in the tray 61.
The lower opening 61b is disposed at a height position close to the liquid level of the first storage section 25a to reduce the impact at the time of collision between the cleaning liquid flowing down from the lower opening 61b and the liquid level of the first storage section 25a. By doing so, foaming is further suppressed.

【0044】第7に、ここでは、循環配管53の吸引口
53cとトレー61の下部の開口61bとの間に隔壁
(フロー誘導壁)63を設けているため、下部の開口6
1bから第1貯留部25aに流下したスラッジ等を含ん
だ洗浄液は、一旦第1貯留部25aの底部付近を通らな
ければ吸引口53c付近に流れていかない。そして、第
1貯留部25aの底部付近を通って第2空間42を上昇
することで吸引口付近にたどり着く洗浄液は、含有して
いる沈殿しやすいスラッジ等の汚染物質の大半を第1貯
留部25aの底部付近に取り残していく。したがって、
吸引口53cから循環配管53に吸い込まれるスラッジ
等の量は少なくなっている。これにより、フィルター5
3bにかかる負担が減ってフィルター53bの清掃や交
換の手間が少なくなっている。
Seventh, since the partition (flow guide wall) 63 is provided between the suction port 53c of the circulation pipe 53 and the lower opening 61b of the tray 61, the lower opening 6 is formed.
The cleaning liquid containing sludge or the like that has flowed down from 1b to the first storage section 25a does not flow to the vicinity of the suction port 53c unless it once passes near the bottom of the first storage section 25a. The cleaning liquid that reaches the vicinity of the suction port by ascending in the second space 42 near the bottom of the first storage unit 25a removes most of the contaminants such as sludge that easily precipitates from the first storage unit 25a. Left near the bottom of the. Therefore,
The amount of sludge and the like sucked into the circulation pipe 53 from the suction port 53c is reduced. Thereby, the filter 5
The burden on the filter 3b is reduced, and the labor for cleaning and replacing the filter 53b is reduced.

【0045】[第2実施形態]上記第1実施形態におい
ては、図1に示す縦断面及び図2に示す横断面を持った
トレー61を用いているが、図3に示す縦断面を持った
トレー81を用いればより洗浄液の蒸発量を削減するこ
とが可能である。図3に示すトレー81は、縦断面に谷
部81a,81c,81eと山部81b,81dとを有
し、横断面は図2に示すトレー61のものと同様であ
る。谷部81a,81c,81eは、それぞれ上流側搬
送ローラ26,圧接ローラ28b,下流側搬送ローラ2
7との接触を回避するように形成されている。山部81
b,81dは、各ローラ26,28b,27に接触しな
いように、かつ水洗シャワーパイプ29にできるだけ近
づくように形成されている。 このようなトレー81を
採用することにより、水洗シャワーパイプ29あるいは
刷版Pからトレー81までの垂直方向の距離が短くな
り、ここを流下する洗浄液の蒸発量が削減される。
[Second Embodiment] In the first embodiment, the tray 61 having the vertical section shown in FIG. 1 and the horizontal section shown in FIG. 2 is used, but the vertical section shown in FIG. If the tray 81 is used, the amount of evaporation of the cleaning liquid can be further reduced. The tray 81 shown in FIG. 3 has troughs 81a, 81c, 81e and peaks 81b, 81d in a vertical section, and a cross section is the same as that of the tray 61 shown in FIG. The valleys 81a, 81c, and 81e are respectively formed by the upstream transport roller 26, the pressure roller 28b, and the downstream transport roller 2.
7 is formed so as to avoid contact therewith. Yamabe 81
The b and 81d are formed so as not to contact the rollers 26, 28b and 27, and as close as possible to the flush shower pipe 29. By employing such a tray 81, the vertical distance from the washing shower pipe 29 or the printing plate P to the tray 81 is reduced, and the amount of evaporation of the cleaning liquid flowing down the tray 81 is reduced.

【0046】[第3実施形態]上記第1実施形態におい
ては、隔壁63を設けて吸引口53cから循環配管53
に吸い込まれるスラッジ等の量を抑えているが、図4に
示すようにトレー61の下部の開口61bを第1貯留部
25a内に突っ込んで吸引口53cよりも下方に配置す
ることもできる。
[Third Embodiment] In the first embodiment, the partition 63 is provided and the circulation pipe 53 is connected to the suction port 53c.
Although the amount of sludge or the like sucked into the tray 61 is suppressed, the opening 61b at the lower part of the tray 61 can be inserted into the first storage part 25a and disposed below the suction port 53c as shown in FIG.

【0047】本実施形態の水洗槽25の構造は、図4に
示すように、第1実施形態のものから隔壁63をなく
し、代わりにトレー61の下部を下方に延ばして下部の
開口61bを第1貯留部25aの液層の中央部分まで突
っ込ませたものである。したがって、吸引口53cの高
さ位置は、トレー61の下部の開口61bの高さ位置よ
りも高くなっている。
As shown in FIG. 4, the structure of the washing tank 25 of this embodiment is different from that of the first embodiment in that the partition 63 is eliminated and the lower portion of the tray 61 is extended downward to form the lower opening 61b. It is one that is pushed into the central part of the liquid layer of the one storage part 25a. Therefore, the height position of the suction port 53c is higher than the height position of the opening 61b at the lower part of the tray 61.

【0048】ここでは、下部の開口61bから第1貯留
部25aに流下したスラッジ等を含んだ洗浄液は、第1
貯留部25a内を上昇しない限り吸引口53cから循環
配管53に吸い込まれることはない。しかしながら、沈
殿しやすいスラッジ等は、その大半が第1貯留部25a
の底部付近に沈殿し、下部の開口61bよりも高い位置
にある吸引口53cから吸い込まれることは少ない。こ
れにより、循環配管53に流れ込むスラッジ等の汚染物
質が減り、フィルター53bにかかる負担が減ってフィ
ルター53bの清掃や交換の手間が少なくなる。
Here, the cleaning liquid containing sludge and the like flowing down from the lower opening 61b to the first storage section 25a is supplied to the first storage section 25a.
The air is not sucked into the circulation pipe 53 from the suction port 53c unless it rises in the storage section 25a. However, most of the sludge or the like that is likely to settle is in the first storage section 25a.
Is settled near the bottom of the base and is rarely sucked from the suction port 53c located at a position higher than the lower opening 61b. Thereby, contaminants such as sludge flowing into the circulation pipe 53 are reduced, the burden on the filter 53b is reduced, and the labor for cleaning and replacing the filter 53b is reduced.

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明では、感光材料に接触して汚染さ
れた第1貯留部の処理液を濾過手段によって濾過した後
に第2貯留部に貯留するため、吐出部が目詰まりを起こ
すといった不具合が解消され、第2貯留部から吐出部に
送液する際にフィルター等の濾過手段を使用する必要が
殆どなくなる。
According to the present invention, since the processing liquid in the first storage section, which is contaminated by contact with the photosensitive material, is filtered and filtered and stored in the second storage section, the discharge section is clogged. Is eliminated, and it becomes almost unnecessary to use a filtering means such as a filter when the liquid is sent from the second storage section to the discharge section.

【0050】また、別の本発明では、処理液受け部材を
設けているため、処理液の蒸発や泡立ちが抑えられてい
る。
In another aspect of the present invention, since the processing liquid receiving member is provided, evaporation and bubbling of the processing liquid are suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態における現像装置の概略縦
断面構成図。
FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional configuration diagram of a developing device according to an embodiment of the present invention.

【図2】水洗処理部の横断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of a washing section.

【図3】第2実施形態のトレーの縦断面図。FIG. 3 is a longitudinal sectional view of a tray according to a second embodiment.

【図4】第3実施形態の横断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view of the third embodiment.

【図5】従来の水洗処理部の横断面図。FIG. 5 is a cross-sectional view of a conventional washing section.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

25a 第1貯留部 25b 第2貯留部 26,27 搬送ローラ(搬送手段) 29 水洗シャワーパイプ(吐出部) 54 循環配管(循環経路) 54a ポンプ(循環手段) 53b フィルター 53c 吸引口 54 送液配管(送液手段) 54a 送液ポンプ(送液手段) 55 補充配管(補充手段) 61 トレー(処理液受け部材) 61a 上部の開口 61b 下部の開口 63 隔壁(フロー誘導壁) 25a First storage section 25b Second storage section 26, 27 Transport roller (transport means) 29 Rinse shower pipe (discharge section) 54 Circulation pipe (circulation path) 54a Pump (circulation means) 53b Filter 53c Suction port 54 Liquid supply pipe ( Liquid supply means) 54a Liquid supply pump (liquid supply means) 55 Replenishment pipe (replenishment means) 61 Tray (treatment liquid receiving member) 61a Upper opening 61b Lower opening 63 Partition wall (flow guide wall)

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】搬送手段により搬送されている感光材料の
上方から処理液を散布して処理を行う感光材料処理装置
であって、 感光材料を搬送する搬送手段と、 前記搬送手段により搬送される感光材料の上方に位置
し、処理液を吐出する吐出部と、 前記吐出部の下方に設けられ、流下した処理液を受け取
る第1貯留部と、 前記第1貯留部に貯留された処理液を濾過する濾過手段
と、 前記濾過手段により濾過された処理液を貯留する第2貯
留部と、 第2貯留部の処理液を前記吐出部へ送液する送液手段
と、 前記第2貯留部へ新しい処理液を補充する補充手段と、
を備えた感光材料処理装置。
1. A photosensitive material processing apparatus for performing processing by spraying a processing liquid from above a photosensitive material being transported by a transporting means, comprising: transporting means for transporting the photosensitive material; and transporting by the transporting means. A discharge unit that is located above the photosensitive material and discharges the processing liquid; a first storage unit that is provided below the discharge unit and receives the processing liquid that flows down; and a processing liquid that is stored in the first storage unit. A filtration unit for filtering, a second storage unit for storing the processing liquid filtered by the filtration unit, a liquid sending unit for sending the processing liquid in the second storage unit to the discharge unit, and a second storage unit. Replenishing means for replenishing a new processing solution,
Photosensitive material processing apparatus comprising:
【請求項2】前記濾過手段は、第1貯留部の高さ位置が
最も低い底部から所定距離だけ上方に離れたところに吸
引口を有し前記第1貯留部と前記第2貯留部とを結ぶ循
環経路と、前記循環経路中に設けられた循環手段及びフ
ィルターとを有している、請求項1に記載の感光材料処
理装置。
2. The filter according to claim 1, wherein the filtering means has a suction port at a position separated from the bottom where the height of the first storage part is the lowest by a predetermined distance, and connects the first storage part and the second storage part. The photosensitive material processing apparatus according to claim 1, further comprising a circulating path connecting the circulating path, and a circulating unit and a filter provided in the circulating path.
【請求項3】前記第1貯留部及び前記第2貯留部は、と
もに前記吐出部の下方に配置され、 前記吐出部から流下した処理液が前記第1貯留部にのみ
流下するように前記吐出部の下に設けられた処理液受け
部材をさらに備えた、請求項1又は2に記載の感光材料
処理装置。
3. The first storage section and the second storage section are both arranged below the discharge section, and the discharge is performed such that the processing liquid flowing down from the discharge section flows down only to the first storage section. The photosensitive material processing apparatus according to claim 1, further comprising a processing liquid receiving member provided below the section.
【請求項4】前記処理液受け部材は、上部が上方に開き
下部が収束している形状であって、上部の開口よりも下
部の開口のほうが開口面積が小さい、請求項3に記載の
感光材料処理装置。
4. The photosensitive member according to claim 3, wherein the processing liquid receiving member has a shape in which an upper portion is opened upward and a lower portion is converged, and an opening area of a lower opening is smaller than that of an upper opening. Material processing equipment.
【請求項5】前記処理液受け部材は、下部の開口が前記
第1貯留部の処理液の液面よりも下方にある、あるいは
下部の開口が前記第1貯留部の処理液の液面に近接する
高さ位置にある、請求項4に記載の感光材料処理装置。
5. The processing liquid receiving member, wherein the lower opening is below the liquid level of the processing liquid in the first storage section, or the lower opening is in the liquid level of the processing liquid in the first storage section. The photosensitive material processing apparatus according to claim 4, wherein the photosensitive material processing apparatus is located at an adjacent height position.
【請求項6】前記第1貯留部において、前記循環経路の
吸引口の高さ位置は、前記処理液受け部材の下部の開口
の高さ位置よりも高い、請求項4に記載の感光材料処理
装置。
6. The photosensitive material processing according to claim 4, wherein in the first storage section, a height position of a suction port of the circulation path is higher than a height position of a lower opening of the processing liquid receiving member. apparatus.
【請求項7】前記第1貯留部には、前記循環経路の吸引
口から前記処理液受け部材の下部の開口への処理液の流
れが前記第1貯留部の底部付近を通るように前記循環経
路の吸引口と前記処理液受け部材の下部の開口との間に
フロー誘導壁が設けられている、請求項4又は5に記載
の感光材料処理装置。
7. The first storage section includes a circulation port configured to circulate the processing liquid from a suction port of the circulation path to a lower opening of the processing liquid receiving member so as to pass near a bottom of the first storage section. The photosensitive material processing apparatus according to claim 4, wherein a flow guiding wall is provided between a suction port of the path and an opening at a lower portion of the processing liquid receiving member.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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