KR101216606B1 - Device for collecting washing solution and method to remove bubble - Google Patents

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나선복
박종필
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Abstract

본 발명은 세정액 저장장치 및 거품제거방법에 관한 것으로, 세정액을 이송하는 공급관과 소통연결되는 공급구가 형성되어 세정액이 유입저장되는 탱크와, 상기 탱크 내부의 일측벽과 마주보며 일정간격 이격되어 그 사이로 거품수용부를 형성하되 상기 공급구에서 유입되는 세정액을 상기 거품수용부로 이송하는 세정액이송기재와, 상기 거품수용부를 형성하는 상기 탱크의 측벽에 설치되어 상기 거품수용부의 거품이 유입되어 제거되는 오버플로우박스를 포함하는 세정액 저장장치 및 거품제거방법을 제공한다. 본 발명에 의하면, 탱크내의 거품을 제거 또는 최소화하여 탱크 파손을 방지하는 것 뿐만 아니라 수위감지센서의 정상작동을 보장하여 탱크 운영효율을 향상시키는 효과가 있다.The present invention relates to a cleaning liquid storage device and a method for removing bubbles, wherein a supply port is formed in communication with a supply pipe for transporting the cleaning liquid, and a tank into which the cleaning liquid is introduced is stored, and is spaced at regular intervals facing the one side wall of the tank. Overflow that forms a foam accommodating part, but is installed on the side wall of the tank forming the foam accommodating part and the cleaning liquid conveying material for transferring the cleaning liquid flowing from the supply port to the foam accommodating part; It provides a cleaning liquid storage device and a bubble removing method comprising a box. According to the present invention, by removing or minimizing the bubbles in the tank to prevent damage to the tank as well as ensuring the normal operation of the water level sensor has the effect of improving the tank operating efficiency.

세정액, 탱크, 거품, 세정액이송기재, 오버플로우박스 Cleaning liquid, tank, foam, cleaning liquid transfer material, overflow box

Description

세정액 저장장치 및 거품제거방법{Device for collecting washing solution and method to remove bubble}Device for collecting washing solution and method to remove bubble

도 1은 본 발명 세정액 저장장치의 일실시 사시도이다.1 is a perspective view of one embodiment of the cleaning solution storage device of the present invention.

도 2는 도 1에 도시된 세정액 저장장치의 작동상태를 나타낸 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating an operating state of the cleaning solution storage device illustrated in FIG. 1.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*Description of the Related Art [0002]

100 : 공급관 200 : 탱크100: supply pipe 200: tank

201a : 공급구 210 : 세정액이송기재201a: Supply port 210: Cleaning liquid transfer material

211 : 수평이송부 212 : 수직이송부211: horizontal transfer unit 212: vertical transfer unit

213 : 날개편 220 : 거품수용부213: wing section 220: bubble accommodation

300 : 오버플로우박스 310 : 드레인부300: overflow box 310: drain portion

320 : 박스배기부 330 : 분사부320: box exhaust 330: injection unit

400 : 덮개 401 : 탱크배기부400: cover 401: tank exhaust

S1 : 수위감지센서S1: water level sensor

본 발명은 세정액 저장장치 및 거품제거방법에 관한 것으로, 특히 탱크 내로 유입되는 세정액에 포함된 거품을 제거하는 세정액 저장장치 및 거품제거방법에 관한 것이다.The present invention relates to a cleaning liquid storage device and a method for removing bubbles, and more particularly, to a cleaning liquid storage device and a bubble removing method for removing bubbles contained in a cleaning liquid flowing into a tank.

일반적으로, 반도체 웨이퍼 또는 평판 디스플레이(FPD; flat panel display) 기판 등은 다양한 제조공정을 거쳐 제조되고, 이러한 제조공정 중 표면처리공정은 기판의 표면에 대하여 세정액, 에칭액 또는 현상액 등의 처리액을 처리하여 기판을 세정(cleaning), 에칭(etching), 현상(developing) 또는 스트립핑(stripping)하는 공정이다.In general, a semiconductor wafer or a flat panel display (FPD) substrate is manufactured through various manufacturing processes, and the surface treatment process of such a manufacturing process treats a processing liquid such as a cleaning liquid, an etching liquid or a developing solution on the surface of the substrate. Cleaning, etching, developing or stripping the substrate.

즉, 상기 표면처리공정에서는 콘베이어 등의 이송수단에 의하여 일정한 속도로 수평이송되는 기판의 상면, 하면 또는 상하 양면에 상기 처리액을 처리하는 것으로 기판을 세정, 에칭, 현상 또는 스트립핑한다.That is, in the surface treatment step, the substrate is cleaned, etched, developed, or stripped by treating the treatment liquid on the upper, lower, or both upper and lower surfaces of the substrate horizontally transferred at a constant speed by a conveying means such as a conveyor.

그리고, 기판이 상기 표면처리공정을 포함하여 다양한 제조공정을 거치다 보면 그 표면이 파티클 및 오염물질에 의해 오염되므로 이를 제거하기 위하여 일부 제조공정의 전/후로 상기 세정공정이 수행된다.In addition, when the substrate undergoes various manufacturing processes including the surface treatment process, the surface is contaminated by particles and contaminants, and thus the cleaning process is performed before and after some manufacturing processes to remove the surface.

이와 같이, 세정공정은 기판 표면의 청정화를 위한 공정이고, 일례로 습식 세정공정의 경우 약액처리공정과 린스공정과 건조공정으로 이루어지며, 특히 상기 약액처리공정은 기판 표면의 파티클 및 오염물질의 제거를 위하여 베쓰(bath) 내부에서 일방향으로 이송되는 기판의 표면에 탈이온수(deionized water)나 케미칼(chemical) 등의 세정액을 처리하여 기판 표면의 이물질을 제거하는 공정이다.As such, the cleaning process is a process for cleaning the surface of the substrate. For example, the wet cleaning process includes a chemical treatment process, a rinse process, and a drying process. Particularly, the chemical treatment process removes particles and contaminants from the substrate surface. In order to remove the foreign substances on the surface of the substrate by treating the cleaning liquid, such as deionized water (chemical), such as deionized water (chemical) on the surface of the substrate transported in one direction in the bath (bath).

한편, 상기 습식 세정공정에서 기판 표면에 처리된 세정액 중 일부는 베쓰 하부에 마련된 탱크(tank)로 회수되어 재사용될 수 있지만, 기판 표면에 처리되었던 세정액은 기판 표면에서의 세정작용에 의해 다량의 거품(bubble)이 포함되어 탱크에 부하를 주기도 한다.On the other hand, some of the cleaning liquid treated on the surface of the substrate in the wet cleaning process can be recovered and reused in the tank (tank) provided under the bath, the cleaning liquid treated on the substrate surface is a large amount of foam by the cleaning action on the substrate surface A bubble is included to load the tank.

즉, 이러한 거품은 탱크내에서 자연적으로 소멸되지 않고 실제 수위보다 상부에 부유하므로 탱크 내에 설치되는 수위감지센서의 정확한 수위검출을 방해하는 단점과, 거품이 대폭 증가되면 탱크가 고압을 견디지 못하고 변형 또는 파손되는 문제점이 있었다.That is, since the foam does not naturally disappear in the tank and floats above the actual water level, it hinders the accurate level detection of the water level sensor installed in the tank. There was a problem that is broken.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은, 탱크 내로 유입되는 세정액에 포함된 거품을 제거 또는 최소화하는 세정액 저장장치 및 거품제거방법을 제공함에 그 목적이 있다.In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a cleaning liquid storage device and a foam removing method for removing or minimizing bubbles contained in a cleaning liquid flowing into a tank.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 세정액을 이송하는 공급관과 소통연결되는 공급구가 형성되어 세정액이 유입저장되는 탱크와, 상기 탱크 내부의 일측벽과 마주보며 일정간격 이격되어 그 사이로 거품수용부를 형성하되 상기 공급구에서 유입되는 세정액을 상기 거품수용부로 이송하는 세정액이송기재와, 상기 거품수용부를 형성하는 상기 탱크의 측벽에 설치되어 상기 거품수용부의 거품이 유입되어 제거되는 오버플로우박스를 포함한다.The present invention for achieving the above object, the supply port is formed in communication with the supply pipe for transporting the cleaning liquid and the tank in which the cleaning liquid is introduced and stored, facing one side wall inside the tank spaced at a predetermined interval spaced therebetween An overflow box formed on the side wall of the tank forming the foam accommodating part and a cleaning liquid conveying material for transferring the cleaning liquid flowing from the supply port to the foam accommodating part; Include.

또한 본 발명은, 세정수가 유입저장되는 탱크 내의 거품을 제거하는 거품제 거방법에 있어서, 상기 탱크로 유입되는 세정수에 포함된 거품을 상기 탱크의 오버플로우박스가 설치되는 일측으로 격리수용하고, 격리수용된 거품을 상기 오버플로우박스로 유입하여 제거하는 것을 특징으로 한다.In another aspect, the present invention, in the foam removing method for removing the bubbles in the tank in which the washing water is stored inlet, the foam contained in the washing water flowing into the tank is isolated to one side where the overflow box of the tank is installed, It is characterized in that the contained foam is introduced into the overflow box and removed.

상기와 같이 구성되는 본 발명의 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.When described in detail with reference to the accompanying drawings an embodiment of the present invention configured as described above are as follows.

도 1은 본 발명 세정액 저장장치의 일실시 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 세정액 저장장치의 작동상태를 나타낸 단면도이다.1 is a perspective view of one embodiment of the cleaning liquid storage device of the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view showing an operating state of the cleaning liquid storage device shown in FIG.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 세정액 저장장치의 일실시예는 베쓰(미도시)에서 기판에 처리된 세정액을 이송하는 공급관(100)과, 상기 공급관(100)과 연결되는 공급구(201a)가 형성되어 기판에 처리된 세정액이 유입저장되는 한편 상기 공급구(201a)에서 유입되는 세정액에 포함된 거품이 그 내부의 별도 구획된 거품수용부(220)에 격리수용되는 탱크(200)와, 상기 탱크(200)의 설정수위를 초과하는 세정액을 유입하여 드레인하는 한편 상기 탱크(200)의 거품수용부(220)에 격리수용된 거품을 내부로 유입하여 제거하는 오버플로우박스(300)를 포함한다.1 and 2, an embodiment of a cleaning solution storage device according to the present invention includes a supply pipe 100 for transferring a cleaning solution processed to a substrate in a bath (not shown), and a supply connected to the supply pipe 100. The tank 201a is formed so that the cleaning solution processed on the substrate is introduced and stored, while the foam contained in the cleaning solution flowing from the supply port 201a is separately contained in the foam receiving part 220 therein. 200 and an overflow box 300 for introducing and draining a cleaning liquid exceeding a set water level of the tank 200 while introducing and removing the foam contained in the foam accommodating portion 220 of the tank 200 into the inside. ).

상기 탱크(200)는 습식 세정공정을 수행하는 상기 베쓰의 하부에 설치되어 기판 세정을 위해 사용된 세정액이 유입저장되는 것이고, 이렇게 저장된 세정액은 상기 베쓰측으로 공급되어 재사용될 수 있다.The tank 200 is installed under the bath to perform a wet cleaning process, and the cleaning liquid used for cleaning the substrate is introduced and stored. The cleaning liquid thus stored may be supplied to the bath and reused.

이를 위해, 탱크(200)는 일측에 공급관(100)과 연결소통되는 공급구(201a)가 형성되어 사용된 세정액을 공급받고, 탱크(200)로 유입된 세정액은 기판과의 세정 작용에 의해 다량의 거품이 포함되어 있으므로 이러한 거품의 제거를 위해 탱크(200) 내부에는 세정액이송기재(210)가 설치되어 거품을 탱크(200)내의 거품수용부(220)에 격리수용한다.To this end, the tank 200 is supplied with the cleaning liquid used to form a supply port 201a communicating with the supply pipe 100 on one side, and the cleaning liquid introduced into the tank 200 has a large amount by the cleaning action with the substrate. Since the foam is contained in the tank 200, the cleaning liquid transporting material 210 is installed in the tank 200 to remove the foam, the foam is contained in the foam receiving portion 220 in the tank 200.

또한, 탱크(200)는 내부에 저장된 세정액이 상기 베쓰측으로 재공급되도록 별도로 배관(미도시)설치할 수 있다.In addition, the tank 200 may be installed in a separate pipe (not shown) so that the cleaning liquid stored therein is supplied to the bath side again.

이러한, 탱크(200)는 그 개방된 상면을 밀폐하는 장탈착 가능한 덮개(400)를 포함하는 것이 바람직하고, 상기 덮개(400)에는 탱크(200)내의 흄(fume)제거를 위한 탱크배기부(401)가 형성된다.Such, the tank 200 preferably includes a removable cover 400 for sealing the open upper surface, the cover 400, the tank exhaust for removing the fume (fume) in the tank (200) 401 is formed.

또한, 탱크(200)는 그 내부에 수위감지센서(S1)가 설치되어 그 내부의 수위가 감지된다.In addition, the tank 200 is provided with a water level sensor S1 therein to detect the water level therein.

상기 세정액이송기재(210)는 공급구(201a)를 통하여 유입되는 세정액이 탱크(200) 내부로 바로 낙하유입되면 물낙차에 의해 거품발생이 배가될 수 있으므로 세정액을 일정수위까지 낙하가이드하는 것이 바람직하다.When the cleaning liquid flowing through the supply port 201a is directly introduced into the tank 200, the cleaning liquid transporting material 210 may be bubbled by a drop of water so that the cleaning liquid may be guided down to a predetermined level. Do.

따라서, 세정액이송기재(210)는 탱크(200)의 공급구(201a)가 형성된 측벽(201)에서 공급구(201a)의 하측으로 결합하되 대향측 측벽(202)으로 수평방향 연장되어 공급구(201a)에서 유입되는 세정액을 수평이송하는 수평이송부(211)와, 상기 수평이송부(211)에서 하향절곡되어 세정액을 낙하가이드하되 상기 측벽(202)과 마주보며 일정간격 이격되어 그 사이로 거품수용부(220)를 형성하는 수직이송부(212)를 포함한다.Therefore, the cleaning liquid transfer material 210 is coupled to the lower side of the supply port 201a from the side wall 201 where the supply port 201a of the tank 200 is formed, and extends in the horizontal direction to the opposite side wall 202 so that the supply port ( Horizontal transfer part 211 for horizontally transporting the cleaning liquid flowing from the 201a), and bent downward in the horizontal transporting portion 211 to guide the cleaning liquid, but facing the side wall 202 and spaced apart at regular intervals to accommodate the foam And a vertical transfer part 212 forming the part 220.

또한, 세정액이송기재(210)는 수평이송부(211)의 좌우 양단에서 상향돌출되 어 덮개(400)의 저면에 접촉되고 수직이송부(212)의 좌우 양단에서 전방돌출되어 탱크(200)의 측벽(202)에 접촉되는 날개편(213)을 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the cleaning liquid transporting material 210 is projected upward from the left and right both ends of the horizontal conveying portion 211 is in contact with the bottom surface of the cover 400 and protrudes forward from both the left and right ends of the vertical conveying portion 212 of the tank 200 It is preferred to include a wing piece 213 in contact with the side wall 202.

따라서, 공급구(201a)로 유입된 세정액은 날개편(213)에 의해 좌우로 분산되지 않고 수평이송부(211)와 수직이송부(212)에 순차가이드되어 탱크(200) 내부로 이송유입되고, 특히 수직이송부(212)와 탱크(200)의 측벽(202) 사이 거품수용부(220)로 세정액에 포함된 거품이 격리수용된다.Therefore, the cleaning liquid introduced into the supply port 201a is sequentially guided to the horizontal conveying portion 211 and the vertical conveying portion 212 without being distributed from side to side by the wing piece 213, and is transferred into the tank 200. In particular, the foam contained in the cleaning solution is sequestered into the foam receiving portion 220 between the vertical transfer portion 212 and the side wall 202 of the tank 200.

더욱이, 세정액이송기재(210)에 의해 거품수용부(220)에 격리수용된 거품은 좌우 방향으로도 날개편(213)에 의해 유동이 방지되므로 지속적으로 거품수용부(220)에 잔류된다.In addition, since the foam contained in the foam accommodating part 220 by the cleaning liquid transporting material 210 is prevented from being flown by the wing piece 213 in the left and right directions, the foam is continuously remaining in the foam accommodating part 220.

또한, 덮개(400)에 형성된 탱크배기부(401)는 거품수용부(220)의 상부에 위치하고 있으므로 본래 목적인 탱크(200) 내부의 흄제거 뿐만 아니라 거품수용부(220)의 거품을 신속히 제거하는 작용도 하게 된다.In addition, the tank exhaust portion 401 formed on the cover 400 is located above the foam accommodating portion 220, so as to quickly remove the foam in the foam accommodating portion 220 as well as removing the fume inside the tank 200, which is originally intended. It also works.

그리고, 세정액이송기재(210; 211, 212, 213)와 덮개(400)와 탱크(200)의 측벽(201, 202)에 의해 형성되는 공간은 밀폐되어 있으므로 거품이 지속적으로 수용되면 압력이 과도하게 높아질 수 있으므로, 이를 방지하도록 날개편(213)이 탱크(200)의 덮개(400) 또는 측벽(201, 202))과 접촉하는 부위에 배기를 위한 절단홈(213a)이 형성된다.In addition, since the space formed by the cleaning liquid transfer material 210 (211, 212, 213), the cover 400, and the side walls 201, 202 of the tank 200 is sealed, if the foam is continuously received, the pressure is excessively increased. Since the blade piece 213 is in contact with the cover 400 or the side walls 201 and 202 of the tank 200, a cutting groove 213a for evacuation may be formed to prevent this.

상기 오버플로우박스(300)는 거품수용부(220)를 형성하는 탱크(200)의 측벽(202) 외면에 설치되고, 그 내부의 흄을 배기하는 박스배기부(320)가 형성된다.The overflow box 300 is installed on the outer surface of the side wall 202 of the tank 200 forming the foam accommodating part 220, and a box exhaust part 320 for exhausting the fume therein is formed.

이에, 오버플로우박스(300)의 박스배기부(320)는 본래 목적인 오버플로우박 스(300) 내부의 흄제거 뿐만 아니라 거품수용부(220)에 격리수용되는 거품을 오버플로우박스(300)측으로 원활하게 강제유입 및 오버플로우박스(300) 내부로 유입된 거품을 신속하게 제거하는 작용도 하게 된다.Thus, the box exhaust portion 320 of the overflow box 300 is not only to remove the fume inside the overflow box 300, which is originally intended, but also to the bubble box 220 to contain the foam contained in the foam accommodating portion 220 toward the overflow box 300. The smooth inlet and overflow box 300 also serves to quickly remove the bubbles introduced into the inside.

상기의 구성에서, 오버플로우박스(300)는 그 내부로 유입되는 거품에 대하여 탈이온수(deionized water)를 분사하여 신속하게 거품을 제거하는 분사부(330)를 더 포함하는 것이 더욱 바람직하다.In the above configuration, the overflow box 300 may further include a spraying unit 330 for rapidly removing bubbles by spraying deionized water on the bubbles flowing into the inside.

따라서, 오버플로우박스(300)로 유입되는 거품은 오버플로우박스 내에서 지체되지 않고 탈이온수에 의해 신속하게 제거되어 탈이온수와 함께 드레인부(310)를 통하여 배출되고, 이 때 발생되는 흄은 박스배기부(320)를 통하여 배기된다.Therefore, the bubbles flowing into the overflow box 300 are quickly removed by the deionized water without being delayed in the overflow box and discharged through the drain portion 310 together with the deionized water. It is exhausted through the exhaust part 320.

상기 탈이온수는 세정액에 화학변화를 일으키지 않기 위한 것으로, 동일한 작용효과를 가지는 대체물을 사용할 수 있음은 물론이다.The deionized water is intended not to cause a chemical change in the cleaning solution, of course, it is possible to use a substitute having the same effect.

이와 같이 오버플로우박스(300) 내에서 거품제거된 세정액은 드레인부(310)를 통하여 재활용되거나, 세정액이 충분한 경우 정화처리하여 폐기할 수 있다.In this way, the cleaning liquid defoamed in the overflow box 300 may be recycled through the drain portion 310 or may be disposed of by purifying the cleaning liquid if the cleaning liquid is sufficient.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.The present invention has been illustrated and described with reference to certain preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above-described embodiments and has ordinary skill in the art to which the present invention pertains without departing from the concept of the present invention. Various changes and modifications are possible by the user.

상기한 바와 같이 본 발명은, 탱크내의 거품을 제거 또는 최소화하여 탱크 파손을 방지하는 것 뿐만 아니라 수위감지센서의 정상작동을 보장하여 탱크 운영효율을 향상시키는 효과가 있다.As described above, the present invention has the effect of improving the tank operating efficiency by ensuring the normal operation of the water level sensor as well as preventing or minimizing bubbles in the tank by removing or minimizing bubbles.

또한 본 발명은, 종래 세정액 저장장치의 외관에 대한 설계변경없이 제작할 수 있어 제작비용을 절감할 수 있다는 효과가 있다.In addition, the present invention can be produced without changing the design of the conventional cleaning solution storage device has the effect that can reduce the manufacturing cost.

Claims (11)

세정액을 이송하는 공급관과 소통연결되는 공급구가 형성되어 세정액이 유입저장되는 탱크;A tank through which a supply port communicating with a supply pipe for transporting the cleaning liquid is formed and the cleaning liquid is introduced and stored; 상기 탱크 내부의 일측벽과 마주보며 일정간격 이격되어 그 사이로 거품수용부를 형성하되, 상기 공급구에서 유입되는 세정액을 상기 거품수용부로 이송하는 세정액이송기재; 및A cleaning liquid transporting material facing the one side wall inside the tank and spaced apart at a predetermined interval to form a foam accommodating part therebetween, and transferring the cleaning liquid flowing from the supply port to the foam accommodating part; And 상기 거품수용부를 형성하는 상기 탱크의 측벽에 연통되도록 설치되어 상기 거품수용부의 거품이 유입되어 제거되는 오버플로우박스를 포함하되, It includes an overflow box is installed so as to communicate with the side wall of the tank forming the foam accommodating portion flows in and removes the foam accommodating portion, 상기 탱크는 그 개방된 상면을 밀폐하는 장탈착 가능한 덮개를 포함하고, 상기 덮개는 상기 거품수용부의 상측으로 그 내부의 흄을 배기하는 탱크배기부를 포함하며,The tank includes a long removable cover for sealing the open upper surface, the cover includes a tank exhaust for exhausting the fume therein to the upper side of the foam containing portion, 상기 세정액이송기재는 상기 공급구에서 유입되는 세정액을 상기 탱크의 일측벽측으로 수평이송하여 상기 거품수용부 측으로 유도하는 수평이송부 및 상기 수평이송부에서 하향절곡되어 세정액을 낙하이송하고, 상기 탱크의 일측벽과 마주보며 일정간격 이격되어 그 사이로 상기 거품수용부를 형성하는 수직이송부를 포함하고,The cleaning liquid transporting material is horizontally bent in the horizontal conveying part and the horizontal conveying part which guides the cleaning liquid flowing from the supply port to the side wall side of the tank to the bubble accommodating part, and transfers the cleaning liquid to the dropping liquid. It includes a vertical transfer portion facing the one side wall and spaced apart at regular intervals to form the bubble receiving portion therebetween, 상기 오버플로우박스는 그 내부로 유입되는 거품에 탈이온수를 분사하는 분사부와, 그 내부의 흄을 배기하는 박스배기부를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정액 저장장치.The overflow box is a cleaning liquid storage device, characterized in that it comprises an injection unit for injecting deionized water to the foam flowing into the inside, and a box exhaust for exhausting the fume therein. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 세정액이송기재는 상기 수평이송부의 좌우 양단에서 상향돌출되어 상기 덮개의 저면에 접촉되고 상기 수직이송부의 좌우 양단에서 전방돌출되어 상기 탱크의 일측벽 내면에 접촉되는 날개편을 포함하는 세정액 저장장치.The cleaning liquid transporting material is upwardly projected from both left and right ends of the horizontal conveying part to contact the bottom surface of the cover and forwardly projecting from both the left and right ends of the vertical conveying part, the cleaning liquid storage comprising a wing piece contacting the inner surface of one wall of the tank Device. 제4항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 날개편은 상기 탱크의 덮개 또는 상기 탱크의 일측벽과 접촉하는 부위에 배기를 위한 절단홈을 포함하는 세정액 저장장치.The wing piece is a cleaning liquid storage device including a cutting groove for exhausting the portion of the tank in contact with the cover or one side wall of the tank. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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