ITTO950595A1 - Pannello di vetratura rivestito per pirolisi. - Google Patents

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Michel Hannotiau
Philippe Legrand
Robert Terneu
Karel Vandiest
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Description

D E S C R I Z I O N E
dell'invenzione industriale avente per titolo
"PANNELLO DI VETRATURA RIVESTITO PER PIROLISI"
La presente invenzione riguarda pannelli di vetratura trasparenti per controllare la luce solare. In particolare, l'invenzione riguarda un pannello di vetratura rivestito per pirolisi comprendente un substrato, uno strato di rivestimento inferiore comprendente un nitruro e uno strato di rivestimento superiore trasparente esposto, adiacente a detto strato di rivestimento inferiore e comprendente un ossido metallico.
Generalmente la pirolisi ha il vantaggio di produrre un rivestimento resistente, che elimina la necessità di uno strato di protezione. I rivestimenti formati per pirolisi hanno proprietà durevoli di resistenza all'abrasione e alla corrosione. Si crede che ciò sia dovuto in particolare al fatto che il procedimento comporta il deposito di materiale di rivestimento su un substrato che è caldo. La pirolisi generalmente è anche pia economica eli procedimeliti di rivestimento alternativo quale nebulizzazione catodica (sputtering), in particolare in termini di investimento in impianti. Il deposito di rivestimenti con altri procedimenti, per esempio mediante nebulizzazione catodica, porta a prodotti con proprietà molto diverse, in particolare una resistenza all'abrasione inferiore ed occasionalmente un diverso indice di rifrazione.
Pannelli di vetratura riflettenti e trasparenti per il controllo della luce solare sono diventati un materiale utile per gli architetti, da usare per le facciate esterne di edifici. Detti pannelli hanno proprietà estetiche per il fatto di riflettere l'ambiente circostante e, essendo disponibili in un certo numero di colori, di fornire opportunità di decorazione. Detti pannelli hanno anche vantaggi tecnici fornendo agli abitanti di un edificio la protezione contro la radiazione solare mediante riflessione e/o assorbimento ed eliminando effetti d.i aubagiramento dovuti a luca solare intensa, dando uno schermo efficace contro il riverbero, aumentando il conforto visivo e riducendo lo sforzo dell'occhio. Esiste un certo numero di documenti che descrivono pannelli di ve tiratura aventi un rivestimento che fornisce protezione contro la radiazione solare. Così, in EP-A-239230 (Gordon) vengono descritte lastre di vetro trasparenti comprendenti su di esse nitruro di titanio spesso almeno 30 nm come strato di schermatura solare principale per ridurre la trasmissione nel vicino infrarosso, e su questo uno strato di ossido di stagno spesso da circa 30 ad 30 nm . L'ossido di stagno serve a proteggere il nitruro di titanio dall'ossidazione e aumenta la resistenza all 'abrasione.
E' noto ciie, cambiando gli spessori relativi degli strati di rivestimento, si hanno cambiamenti nelle proprietà ottiche. Così, per ottimizzare le proprietà ottiche, è desiderabile usare spessori relativi particolari degli strati di rivestimento. Tuttavia, ci si aspetta generalmente che, per una data scelta di materiali di rivestimento, cambiamenti nello spessore del rivestimento provochino cambiamenti nella lunghezza d'onda dominante (cioè nel colore) della luce riflessa. Per esempio, in un pannello di vetratura per controllo della luce solare comprendente un primo rivestimento di nitruro di titanio ed uno strato di ossidi di ferro, di cobalto e di cromo, si è trovato eli e quando si cambia lo spessore dello strato di ossido, si ha una variazione nel colore della luce riflessa. Cosi, si è trovato che la misura dalle proprietà di campioni di detti pannelli che portano rivestimenti formati per deposizione chimica di valore su un vetro di 4mm dà i risaltati riportati nella seguente Tabella I,
TABELLA I
= come .misurato dal lato non rive;tito
3 - miscela di ossidi di ferro, cobalto .e cromo nelle proporzioni in peso di 26 : 61 : 13.
Lo scopo della presente invenzione à di fornire pannelli di vetratura rivestiti per pirolisi, in cui il colore riflesso rimane sostanzialmente costante quando vengono apportate modifiche agli spessori relativi degli strati di rivestimento allo scopo di ottimizzare le proprietà ottiche.
Ora abbiamo sorprendentemente scoperto che tale scopo si può raggiungere par materiali di rivestimento specifici applicati con uno spessore totale di rivestimento specifico.
Secondo un primo aspetto dell’invenzione viene fornito un pannello di vetratura rivestito per pirolisi comprendente un substrato,,uno strato di rivestimento inferiore .comprendente un nitruro scelto fra nitruri di titanio, zirconio, niobio e miscela di due o più di questi nitruri ed uno strato dii rivestimento superiore trasparente esposto, adiacente a detto strato di rivestimento inferiore e comprendente un ossido, caratterizzato dal fatto che lo spessore geometrico totale degli strati di rivestimento inferiore e superiore è compreso tra 20 nm e 55 nm.
Il substrato è preferibilmente sotto forma di un nastro di materiale vetroso come vetro o un altro materiale trasparente rigido. Considerando la proporzione di radiazione solare incidente che è assorbita dal pannello di vetratura, specialmente in ambienti in cui il pannello è esposto a radiazione solare forte o per lunghi periodi, risulta un effetto di riscaldamento sul pannello di vetro che può richiedere di sottoporre di conseguenza il substrato di vetro ad un processo di indurimento. Tuttavia la durevolezza del rivestimento permette di montare il pannello di vetratura con la superficie rivestita rivolta verso l'esterno, riducendo così l'effetto di riscaldamento.
Preferibilmente il substrato è vetro chiaro, anche se l'invenzione si estende anche all'utilizzo di vetro colorato come substrato.
Preferibilmente lo spessore geometrico dello strato di rivestimento inferiore è compreso tra 10 nm e 50 nm. Questa gamma di spessori è particolarmente adatta per la fabbricazione industriale e consente di ottenere un'efficace azione contro la luce solare mentre si mantiene un livello sufficiente di trasmissione luminosa del pannello.
Preferibilmente lo spessore geometrico dello strato di rivestimento superiore è compreso fra 9 nm e 35 nm, preferibilmente fra 15 a 35 nm. L'indice di rifrazione dello strato di rivestimento superiore è preferibilmente compreso tra 1,8 e 2,7. Il materiale dello strato di rivestimento superiore trasparente comprende materiali che hanno un "indice di rifrazione" n (λ) che è maggiore, preferibilmente sostanzialmente maggiore, del valore dell* "indice di assorbimento spettrale" le(λ ) su tutto lo spettro visibile (da 380 a 780 nm). Si possono trovare definizioni dell’indice di rifrazione e dell'indice di assorbimento spettrale in International Lighting Vocabulary, pubblicato dalla Commissione Internazionale sull'Illuminazione (CIE) nel 1987, pagine 127, 133 e 139. In particolare, abbiamo trovato vantaggi nello scegliere un materiale il cui indice di rifrazione n(λ) è superiore a 10 volte l'indice di assorbimento spettrale k;( λ) nella gamma di lunghezza d'onda da 330 a 730 nm. Lo strato di rivestimento superiore è preferibilmente uno strato di ossido. Il materiale trasparente dello strato di rivestimento superiore può essere scelto indipendentemente tra ossidi di alluminio, bismuto, magnesio, niobio, silicio (sia Si0x che SiO2), stagno, titanio (sia rutilo che anatasio), zinco,e miscele di due o più di tali ossidi. La tabella seguente riporta l'indice di rifrazione n(λ ) e l'indice di assorbimento spettrale k(λ) di un certo numero di materiali trasparenti adatti nella gamma da 380 a 780 mn. ;TABELLA II ;; ;; Nota: ;r = sotto forma di rutilo ;a = sotto forma di anatasio ;0* significa meno di 10<-3>
Si preferisce particolarmente che il materiale dello strato di rivestimento trasparente sia ossido di titanio e/o ossido stannico. Lo strato di rivestimento trasparente è uno strato esterno e per questa ragione l’ossido stannico è vantaggioso se è richiesta una resistenza maggiore all'abrasione, come nel caso in cui il pannello è posto con la superficie rivestita rivolta verso l'esterno.
In forme di realizzazione preferite dell'invenzione il nitruro dello strato di rivestimento inferiore comprende nitruro di titanio e l'ossido dello strato di rivestimento superiore comprende ossido di stagno.
Si deve notare che negli strati di materiale a base di ossido o di nitruro, non è indispensabile che il metallo e l'ossigeno o l'azoto siano presenti in proporzioni stechiometriche.
Da un punto di vista tecnico, si desidera che il pannello di vetratura non lasci passare una proporzione eccessiva -di radiazione solare incidente totale affinchè l'interno dell'edificio non si surriscaldi in condizioni di tempo soleggiato. La trasmissione di radiazione solare incidente totale può essere espressa in termini di "fattore solare". Come viene qui impiegato, il termine "fattore solare" significa la somma dell'energia totale trasmessa direttamente e dell'energia che è assorbita e nuovamente irradiata dal lato opposto alla fonte di energia, come percentuale dell'energia radiante incidente totale del vetro rivestito. I pannelli di vetratura secondo l'invenzione hanno un fattore solare (FS) inferiore al 70 %, preferibilmente inferiore al 60 %.
Si desidera anche che il pannello di vetratura trasmetta anche una proporzione ragionevole di luce visibile allo scopo di consentire l'illuminazione naturale dell'interno dell'edificio ed allo scopo di permettere ai suoi abitanti di vedere fuori. La trasmisisone di luce visibile può essere espressa in termini di "fattore di trasmissione", come una percentuale della luce incidente che cada sul substrato rivestito. E' così desiderabile aumentare la selettività del rivestimento, cioè aumentare il rapporto tra il fattore di trasmissione ed il fattore solare. Preferibilmente il fattore di trasmissione luminosa (TL) del pannello secondo l'invenzione è compreso tra il 30 % ad il 55 %.
Preferibilmente il pannello ha una bassa trasmissione media dell'ultravioletto (TUV ), nello spettro ultravioletto (da 230 nm a 330 nm), inferiore o uguale al 45 %, più preferibilmente inferiore o uguale al 20 %, il che può essere vantaggioso per ridurre danni ai materiali sensibili alla luce all'interno dell'edificio.
Noi preferiamo che la composizione e lo spessore dello strato di rivestimento inferiore ≤ dello strato di rivestimento superiore siano tali che la lunghezza d'onda dominante riflessa dal lato non rivestito del pannello nella regione del visibile si trovi nella gamma da 470 a 490 nm (blu). Da un punto di vista estetico, si preferisce fornire pannelli di vetratura con un colore blu in riflessione. Nei luoghi in cui gli edifici hanno un'area vetrata relativamente ampia e anche quando si tratta di edifici alti, un colore riflesso blu fornisce un aspetto meno ingombrante all'osservatore. In altre forme di realizzazione, vengono realizzati pannelli di vetratura con un aspetto neutro.
La ciflettività d.i luce visibile (RT ) dal lato non rivestito è preferibilmente dal 10 % al 30 %. Preferibilmente la purezza del colore riflesso da detto lato non rivestito è superiore al 5 %, preferibilmente almeno l'8 %, più preferibilmente almeno il 15 %, per esempio tra il 19 % e il 22 %. La purezza di un colore è definita secondo una scala lineare in cui una sorgente di luce bianca definita lia una purezza zero ed il colore puro ha una purezza del 100 %. Con il termine "purezza di colore" come viene qui impiegato, noi intendiamo la purezza di eccitazione media misurata con l'illuminante C, come definito nell' International Lighting Vocabulacy, pubblicato dalla Commissione Internazionale sull'Illuminazione (CIE) nel 1907, pagine 87 e 89.
Lo strato di rivestimento superiore può essere scelto in modo da apportare miglioramenti alla purezza del colore riflesso dal lato non rivestito del pannello, rispetto ad un pannello simile che non è fornito dello strato di rivestimento superiore di ossido. Cosi, per esempio, un pannello di vetratura fornito di un rivestimento spesso 40 nm di nitruro di titanio ha un colore grigio-blu (purezza = 5 %) in riflessione dal lato non ‘rivestito, mentre quando sul pannello è applicato uno strato di rivestimento superiore spesso 10 nm di ossido di stagno, il pannello assume un aspetto blu dal lato non rivestito e la purezza del colore sale all'8 %. Nel caso di un rivestimento di TiN spesso 20 nm, uno strato di rivestimento superiore di 20 nm di Sn02 aumenta la purezza di colore dal 15 % al 21 %.
In una forma di realizzazione dell'invenzione non saranno presenti altri strati di rivestimento.. Cosi, il primo strato è applicato direttamente sul substrato. Tuttavia, in una forma di realizzazione alternativa dell'invenzione, il pannello può inoltre comprendere un ulteriore strato di rivestimento posto tra detto strato di rivestimento inferiore e detto substrato. In particolare, allo scopo di ridurre l'interazione tra i reagenti ed il substrato durante la formazione dello strato di nitruro, può essere applicato uno strato di rivestimento di ossido di silicio, come descritto nelle descrizioni di brevetto britannico GB 2234264 e GB 2247631 (Glaverbel ). Lo spessore geometrico di detto strato ulteriore può essere compreso tra 50 e 100 n»n.
Secondo un secondo aspetto dell'invenzione, viene fornito un procedimento per, formare un pannello di vetratura rivestito, comprendente le operazioni di:
i) formare per pirolisi uno strato di rivestimento inferiore su un substrato, detto strato di rivestimento inferiore comprendendo un nitruro scelto tra nitruri di titanio, zirconio, niobio e miscele di due o più.di questi nitruri; e
ii) formare per pirolisi uno strato di rivestimento superiore trasparente esposto, adiacente a detto strato di rivestimento inferiore,, detto strato di rivestimento superiore comprendendo un ossido;
caratterizzato dal fatto die il rivestimento formato da detti strati di rivestimento inferiore e superiore è tale che il suo spessore geometrico totale è compreso tra 20 nm e 55 nrn.
I pannelli secondo l'invenzione possono essere installati in insiemi vetrati singoli o multipli. La superficie rivestita del pannello può essere la superficie interna del pannello di vetratura esterno. In questo modo la superficie rivestita non è esposta alle condizioni climatiche ambientali che potrebbero altrimenti diminuire più rapidamente la sua durata a causa di sporcizia, danni fisici e/o ossidazione. I rivestimenti prodotti per pirolisi hanno generalmente una resistenza meccanica superiore ai rivestimenti prodotti con altri procedimenti e possono essere esposti all'atmosfera. I pannelli secondo l'invenzione possono essere efficacemente impiagati in strutture di vetro la.ilinate, per esempio là dove la superficie rivestita è la superficie interna del laminato esterno
I pannelli di vetratura secondo l'invenzione possono essere fabbricati nel modo seguente. Ogni operazione di rivestimento per pirolisi può essere effettuata ad una temperatura da 550°C a 750°C.
I rivestimenti possono essere formati su una lastra di vetro che si muove in un forno a tunnel o su un nastro di vetro durante la formazione, mentre è ancora caldo. I rivestimenti possono essere formati all'interno del forno di ricottura che segue il dispositivo che forma il nastro di vetro o all'interno della vasca di galleggiamento sulla superficie superiora del nastro di vetro mentre quest'ultimo galleggia su un bagno di stagno fuso.
Gli strati di rivestimento sono preferibilmante applicati al substrato mediante deposizione chimica in fase vapore. La deposizione chimica in fase vapore è particolarmente preferita perchè tende a portare a rivestimenti di composizione e spessore regolari, l'uniformità del prodotto essendo particolarmente importante là dove i pannelli di vetratura devono essere utilizzati su ampie aree. Con l'uso di liquidi come materiali reagenti, non si può agire sul procedimento di vaporizzazione. Inoltre la deposizione c'nimica in fase vapore è più economica in termini di materie prime, portando ad un minore spreco.
Per formare ogni rivestimento, il substrato è portato a contatto, in una camera di rivestimento, con un mezzo gassoso comprendente una o più sostanze allo stato gassoso. La camera di rivestimento è alimentata con un gas reagente attraverso uno o più ugelli, la lunghezza de.i quali è almeno uguale alla larghezza che deve essere rivestita. A seconda del tipo di rivestimento che deve essere formato e della reattività delle sostanze usate, sa si devono usare diverse sostanze, queste vengono distribuite sotto forma di una miscela attraverso un singolo ugello di eiezione nella causerà di rivestimento, o separatamente attraverso diversi ugelli di eiezione.
Procedimenti a dispositivi per formare un tale rivestimento sono descritti per esempio nel brevetto fcancese il. 2 343 166 (BPG Glassgroup) o nella domanda di brevetto francese il. 2 648 453 Al (Slaverbel). Questi procedimenti e dispositivi portano alla formazione di rivestimenti particolarmente resistenti con proprietà ottiche vanta·'piose
Per formare rivestimenti di ossido di stagno Sn02 O di biossido di titanio TiO2, vendono utilizzati due ugelli consecutivi. Il reagente che trasporta il metallo (Sn o Ti), introdotto nel primo ugello, è un tetracloruro, liquido a temperatura ambiente, vaporizzato in una corrente di gas anidro di trasporto ad una temperatura elevata. La vaporizzazione è facilitata dall'atomizzazione di questi reagenti nel gas di trasporto. Per produrre l'ossido, le molecole di tetracloruro sono portate a contatto di vapore acqueo condotto al secondo ugello. Il valore acqueo è surriscaldato ed è quindi iniettato in un gas di trasporto. Sn02 può essere formato usando per esempio le proporzioni di SnCl4 e H2O fornite nella descrizione di brevetto britannico GB 2026454 (Glaverbel).
Se si desidera, al vapore acqueo viene aggiunto un agente drogante come HF allo scopo di formare un rivestimento conduttivo di ossido di stagno.
Rivestimenti di ossido di silicio SIO2 o SiOx possono essere depositati da sila.no Si3⁄4 e ossigeno secondo le descrizioni dei brevetti britannici GB 2234264 2 GB 2247591 sopra menzionati.
L'invenzione verrà ora descritta più dettagliatamente con riferimento ai seguenti esempi non limitativi.
ESEMPIO 1
Un substrato consistente in una lastra spessa 4 mm di vetro calcio-sodico chiaro vanne rivestito per pirolisi nel modo seguente. Viene utilizzata un'apparecchiatura comprendente due ugelli consecutivi. Nel primo ugello viene introdotto un reagente comprendente TiCl4, vaporizzato in una corrente di azoto gassoso anidro a circa 600°C. La vaporizzazione è facilitata dall'atomizzazione di questi reagenti nel gas di trasporto. Al secondo ugello viene condotta ammoniaca gassosa. L'ammoniaca è riscaldata a circa 600°C ed è iniettata anch'essa in un gas di trasporto che è riscaldato ad aria a circa 600°C. La portata di gas (gas di trasporto reagente) in ogni ugello è 1 m<3>/cm di larghezza del substrato/ora, alla temperatura operativa.
Il procedimento di rivestimento venne continuato fino a che lo spessore geometrico del rivestimento disposto sul .substrato non fu di 11 nm. Il substrato venne poi sottoposto ad un secondo rivestimento. Nel primo ugello è introdotto un reagente consistente in cloruro stannico, vaporizzato in una corrente di azoto gassoso anidro a circa 600°C. Vapora acqueo viene condotto al secondo ugello. Il vapore acqueo è surriscaldato a circa 600°C ed è quindi iniettato in un gas di trasporto che è riscaldato ad aria a circa 600°C. La portata di gas (gas di trasporto reagente) in ogni ugello è 1 m<3>/cm di larghezza del substrato/ora , alla temperatura operativa.
Il secondo procedimento di rivestimento venne proseguito fino a che lo spessore geometrico del rivestimento di ossido di stagno, sovrapposto allo strato di rivestimento di nitruro, non fu di 30 nrn.
Come variante dell'esempio 1, uno strato di rivestimento di ossido di silicio è formato 3ul substrato prima della formazione dello strato di TiN. Ciò permette di ridurre l’interazione tra TiCl4 ed il substrato. Il vetro è rivestito in una stazione di rivestimento disposta in un punto lungo la camera di galleggiamento in cui il vetro è ad una temperatura di circa 700°C. La linea di alimentazione è alimentata con azoto ad in essa viene introdotto silano con una pressione parziale di 0,25 %, e viene introdotto ossigeno con una pressione parziale di 0,5 %. Lo strato formato è di biossido di silicio spesso circa 70 nm„
Il pannello di vetratura sopra descritto ha un colore blu intenso in riflessione dal lato non rivestito. Si sono misurate varie proprietà del pannello e si è trovato che sono quelle riportate nella Tabella III che segue.
ESEMPI DA 2 A 7
Vennero preparati altri campioni usando un procedimento simile a quello descritto nell'Esempio 1. Particolari dei rivestimenti e le proprietà dei pannelli così formati erano quelli riportati nella Tabella III che segue.
TABELLA III
a = sotto forma di anatasio
1 = come misurato dal lato non rivestito
- "purezza" significa la purezza del colore come misurata per riflessione dal lato non rivestito
Lo tolleranze indicate nella Tabella III sopra riportata sono le variazioni negli spessori del rivestimento che sono possibili senza avare un effetto percettibile nelle proprietà del prodotto finito.
Gli esempi da 1 a 6 sopra riportati dimostrano che, per uno spessore totale sostanzialmente costante del rivestimento, si possono ottenere delle modifiche nelle proprietà ottiche variando gli spessori relativi dagli strati di nitruro e di ossido, mentre il colore riflesso rimane sostanzialmente costante. L'Esempio 7 illustra le proprietà che si possono ottenere quando l'ossido di stagno degli Esempi da 1 a 6 è sostituito da anatasio. Si possono ottenere risultati simili se il nitruro di titanio è sostituito dal nitruro di zirconio o dal nitruro di niobio.
ESEMPIO 8
In un ulteriore esempio viene formato un pannello di vetratura per il controllo della luce solare avente un aspetto neutro. Gli strati di rivestimento sono gli stessi dell'Esempio 1, ma il pannello di vetratura è visto dal lato rivestito invece che dal lato non rivestito. La proprietà misurate erano:
La lunghezza d'onda dominante in riflessione dal lato rivestito era di 491 nm, con una purezza del 3,9 % (aspetto neutro).

Claims (1)

  1. R I V E N D I C A Z I O N I 1.- Pannallo di vetratura rivestito per pirolisi comprendente un substrato, un strato di rivestimento inferiore comprendente un nitruro scelto fra nitruri di titanio, zirconio, niobio e miscele di due o più di questi nitruri ed uno strato di rivestimento superiore trasparente esposto, adiacente a detto strato di rivestimento inferiore e comprendente un ossido, caratterizzato dal fatto che lo spessore geometrico totale degli strati di rivestimento inferiore e superiore è compreso tra 20 nm e 55 nm. 2.- Pannello di vetratura secondo la rivendicazione 1, in cui lo spessore geometrico dello strato di rivestimento inferiore è compreso tra 10 nm e 50 nm. 3.- Pannello di vetratura secondo le rivendicazioni 1 o 2, in cui lo spessore geometrico dello strato di rivestimento superiore è compreso tra 9 nm e 35 nm, preferibilmente tra 15 a 35 nm. 4.- Pannallo di vetratura secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, in cui l'indice di rifrazione dello strato di rivestimento superiore è compreso fra 1,8 e 2,7. 5.- Pannello di vetratura secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, in cui l'ossido dello strato di rivastimento superiore & scelto fra ossidi di alluminio, silicio, magnesio, stagno, zinco, zirconio, titanio, bismuto, niobio e miscele di due o più di questi ossidi. 6.- Pannello di vetratura secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, in cui lo strato di rivestimento superiore è scelto per apportare un miglioramento alla purezza del colore riflesso dal lato non rivestito del pannello. 7.- Pannello di vetratura secondo la rivendicazione 6, in cui il nitruro dello strato di rivestimento inferiore comprende nitruro di titanio e l'ossido dello strato di rivestimento superiore comprende ossido di stagno. 8.- Pannello di vetratura secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, in cui la composizione e lo spessore degli strati di rivestimento inferiore e superiore sono tali che la lunghezza d'onda dominante riflessa dal lato non rivestito del pannello nella regione del visibile si trova nella gamma da 470 a 490 nm, 9.- Pannello di vetratura secondo la rivendicazione S, in cui la purezza del colore riflesso da detto lato non rivestito è superiore al 5 % 10.- Pannello di vetratura secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, comprendente inoltre un ulteriore strato di rivestimento posto tra detto strato di rivestimento inferiore e detto substrato. 11.- Pannello di vetratura secondo la rivendicazione 10, in cui lo spessore geometrico di detto strato ulteriore è compreso tra 50 e 100 nm. 12.- Pannello di vetratura secondo le rivendicazioni 10 o 11, in cui detto 3trato ulteriore è costituito da un ossido. 13.- Pannello di vetratura secondo la rivendicazione 12, in cui detto strato ulteriore è costituito da ossido di silicio. 14.- Procedimento per la formazione di un pannello di vetratura rivestito comprendente le operazioni di: i) formare per pirolisi uno strato di rivestimento inferiore sopra un substrato, detto strato di rivestimento inferiore comprendendo un nitruro scelto tra nitruri di titanio, zirconio,, niobio e miscele di due o più di questi nitruri; ii) formare per pirolisi uno strato di rivestimento superiore trasparente esposto adiacente a detto strato di rivestimento inferiore, detto strato di rivestimento superiore essendo costituito da un ossido; caratterizzato dal fatto che il rivestimento formato da detti strati di rivestimento inferiore e superiore è tale che il suo spessore geometrico totale è compreso tra 20 nm e 55 nm,
IT95TO000595A 1994-07-25 1995-07-14 Pannello di vetratura rivestito per pirolisi. IT1276499B1 (it)

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