FR3122033B1 - Procédé de fabrication d’un groupe de motifs inclinés - Google Patents
Procédé de fabrication d’un groupe de motifs inclinés Download PDFInfo
- Publication number
- FR3122033B1 FR3122033B1 FR2104053A FR2104053A FR3122033B1 FR 3122033 B1 FR3122033 B1 FR 3122033B1 FR 2104053 A FR2104053 A FR 2104053A FR 2104053 A FR2104053 A FR 2104053A FR 3122033 B1 FR3122033 B1 FR 3122033B1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- slices
- patterns
- lower level
- pattern
- making
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1861—Reflection gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1866—Transmission gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN GROUPE DE MOTIFS INCLINÉS Un aspect de l’invention concerne un procédé de fabrication d’un groupe de motifs inclinés, les motifs étant disposés sur un substrat (10) et espacés les uns des autres, le procédé comprenant les étapes suivantes : former des tranches de motif, dites tranches de niveau inférieur (201), sur le substrat (10) ; former une couche de remplissage (202) en dehors des tranches de niveau inférieur (201) ; former (S13) des tranches de motif additionnelles, dites tranches de niveau supérieur (203), sur les tranches de niveau inférieur (201), chaque tranche de niveau supérieur (203) d’un motif (20) présentant un désalignement (d) par rapport à la tranche de niveau inférieur (201) dudit motif, de sorte que la tranche de niveau supérieur (203) repose en partie sur la couche de remplissage (202) ; libérer les motifs en gravant la couche de remplissage (202) sélectivement par rapport aux tranches de niveau inférieur (201) et aux tranches de niveau supérieur (203). Figure à publier avec l’abrégé : Figure 2C
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR2104053A FR3122033B1 (fr) | 2021-04-19 | 2021-04-19 | Procédé de fabrication d’un groupe de motifs inclinés |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR2104053 | 2021-04-19 | ||
FR2104053A FR3122033B1 (fr) | 2021-04-19 | 2021-04-19 | Procédé de fabrication d’un groupe de motifs inclinés |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR3122033A1 FR3122033A1 (fr) | 2022-10-21 |
FR3122033B1 true FR3122033B1 (fr) | 2023-04-14 |
Family
ID=76034841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR2104053A Active FR3122033B1 (fr) | 2021-04-19 | 2021-04-19 | Procédé de fabrication d’un groupe de motifs inclinés |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
FR (1) | FR3122033B1 (fr) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06201907A (ja) * | 1992-12-29 | 1994-07-22 | Olympus Optical Co Ltd | ブレーズ格子製造方法 |
US6905618B2 (en) * | 2002-07-30 | 2005-06-14 | Agilent Technologies, Inc. | Diffractive optical elements and methods of making the same |
CN106457871B (zh) * | 2014-05-16 | 2018-06-01 | Ccl证券私人有限公司 | 用于安全证件或标记的混合安全装置 |
-
2021
- 2021-04-19 FR FR2104053A patent/FR3122033B1/fr active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR3122033A1 (fr) | 2022-10-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6619606B2 (ja) | 成膜装置 | |
TWI694486B (zh) | 減少通孔至格柵圖案化中之覆蓋誤差的方法 | |
KR20110120909A (ko) | 집적회로 필드들의 임계 치수 또는 오버레이 변화 결정 | |
FR3122033B1 (fr) | Procédé de fabrication d’un groupe de motifs inclinés | |
CN101770162B (zh) | 背侧相栅掩模及其制造方法 | |
KR20190056030A (ko) | 상부 샤워 헤드 및 하부 샤워 헤드를 포함하는 증착 장치 | |
KR20130069314A (ko) | 트랙 스핀 웨이퍼 척 | |
KR100898220B1 (ko) | 반도체 소자 및 그 제조방법 | |
KR20070115058A (ko) | 그라운드링을 구비한 베벨 식각 장치 | |
TWI781597B (zh) | 具有晶圓抗滑與抗旋轉特徵物之晶圓支持底座 | |
FR3090615B1 (fr) | Procédé de fabrication d’un dispositif comprenant une membrane surplombant une cavité | |
CN113325672A (zh) | 基于一次曝光的光刻方法 | |
KR20070046400A (ko) | 정렬 마크 및 그의 형성 방법 | |
Maury et al. | Sub-micron imaging on high-topography wafers using spray coating and projection lithography | |
KR100744121B1 (ko) | 반도체 기판의 처리 방법 | |
FR3134477B1 (fr) | Substrat comprenant des vias et procédés de fabrication associés | |
CN101355023B (zh) | 半导体器件的制造方法 | |
FR3120623B1 (fr) | Procede de gravure d’un trou et procede de fabrication d’une microaiguille utilisant un tel trou | |
FR3061357B1 (fr) | Procede de realisation d’un dispositif optoelectronique comportant une etape de gravure de la face arriere du substrat de croissance | |
WO2024027332A9 (fr) | Procédé de préparation pour une structure semi-conductrice et structure semi-conductrice | |
KR100802221B1 (ko) | 반도체 소자의 형성 방법 | |
KR20090086330A (ko) | 반도체 장치의 제조 방법 | |
KR20220128543A (ko) | 리프트 핀 및 이를 갖는 반도체 소자 제조 장치 | |
KR101076778B1 (ko) | 이온 주입용 배리어 웨이퍼 및 이를 이용한 이온 주입 방법 | |
KR20230040828A (ko) | 디퓨져 및 디퓨져 미세홀의 가공 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PLFP | Fee payment |
Year of fee payment: 2 |
|
PLSC | Publication of the preliminary search report |
Effective date: 20221021 |
|
PLFP | Fee payment |
Year of fee payment: 3 |