FR2979910A1 - Materiau photocatalytique et vitrage ou cellule photovoltaique comprenant ce materiau - Google Patents
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- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 title claims abstract description 48
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 31
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 70
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 31
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 28
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 23
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 14
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 8
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 29
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 11
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 7
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004630 atomic force microscopy Methods 0.000 description 4
- -1 for example Inorganic materials 0.000 description 4
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 229910021644 lanthanide ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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Abstract
L'invention a pour objet un matériau comprenant un substrat muni sur au moins une partie d'une de ses faces d'un revêtement photocatalytique à base d'oxyde de titane déposé sur une sous-couche à base de silice dont la rugosité Ra est comprise entre 4 et 30 nm, bornes comprises .
Description
MATERIAU PHOTOCATALYTIQUE ET VITRAGE OU CELLULE PHOTOVOLTAIQUE COMPRENANT CE MATERIAU L'invention se rapporte au domaine des matériaux comprenant un substrat en verre muni d'un revêtement photocatalytique. Les revêtements photocatalytiques, notamment ceux à base de dioxyde de titane, sont connus pour conférer des propriétés autonettoyantes et antisalissure aux substrats qui en sont munis. Deux propriétés sont à l'origine de ces caractéristiques avantageuses. L'oxyde de titane est tout d'abord photocatalytique, c'est-à-dire qu'il est capable sous un rayonnement adéquat, généralement un rayonnement ultraviolet, de catalyser les réactions de dégradation de composés organiques. Cette activité photocatalytique est initiée au sein de la couche par la création d'une paire électron-trou. En outre, le dioxyde de titane présente une hydrophilie extrêmement prononcée lorsqu'il est irradié par ce même type de rayonnement. Cette forte hydrophilie, parfois qualifiée de « super-hydrophilie », permet l'évacuation des salissures minérales sous ruissellement d'eau, par exemple d'eau de pluie. De tels matériaux, en particulier vitrages, sont décrits par exemple dans la demande EP-A-0 850 204. Le dioxyde de titane possède un fort indice de réfraction, qui entraîne des facteurs de réflexion lumineuse importants pour les substrats munis de revêtements photocatalytiques. Cela constitue un inconvénient dans le domaine des vitrages pour le bâtiment, et plus encore dans le domaine des cellules photovoltaïques, pour lesquelles il est nécessaire de maximiser la transmission vers le matériau photovoltaïque, et donc de minimiser toute absorption et réflexion du rayonnement solaire. Il existe pourtant un besoin de munir les cellules photovoltaïques d'un revêtement photocatalytique, car le dépôt de salissures est capable de réduire l'efficacité des cellules photovoltaïques d'environ 6% par mois. Ce chiffre est bien évidemment dépendant de la localisation géographique des cellules. Pour diminuer le facteur de réflexion lumineuse, il 10 est possible de réduire l'épaisseur des revêtements photocatalytiques, mais cela se fait au détriment de leur activité photocatalytique. L'invention a pour but de proposer des matériaux photocatalytiques à base d'oxyde de titane alliant à la 15 fois une forte activité photocatalytique et de faibles facteurs de réflexion lumineuse. A cet effet, l'invention a pour objet un matériau comprenant un substrat muni sur au moins une partie d'une de ses faces d'un revêtement photocatalytique à base 20 d'oxyde de titane déposé sur une sous-couche à base de silice dont la rugosité Ra est comprise entre 4 et 30 nm, bornes comprises. L'invention a également pour objet un procédé d'obtention d'un matériau selon l'invention. Ce procédé 25 préféré comprend les étapes suivantes : l'on dépose sur un substrat une sous-couche à base de silice à l'aide d'un procédé de dépôt chimique en phase vapeur par combustion, puis, l'on dépose sur ladite sous-couche à base de silice 30 un revêtement photocatalytique à base d'oxyde de titane, ladite sous-couche étant soumise à une température d'au moins 300°C préalablement au dépôt dudit revêtement photocatalytique et/ou pendant le dépôt dudit revêtement photocatalytique. Il s'est avéré que l'utilisation de sous-couches à base de silice particulièrement rugueuses était à même de diminuer de manière importante le facteur de réflexion lumineuse du matériau. De telles couches rugueuses peuvent avantageusement être obtenues par dépôt chimique en phase vapeur par combustion, comme expliqué plus en détail dans la suite du texte.
La rugosité Ra correspond à l'écart moyen arithmétique du profil de rugosité. Cette valeur est mesurée par microscopie à force atomique sur un carré de 1000 nm de côté, en mode non-contact et en utilisant une pointe en silicium dont le rayon de courbure est de 15 nm.
De préférence, le substrat est une feuille de verre ou de vitrocéramique. La feuille peut être plane ou bombée, et présenter tout type de dimensions, notamment supérieures à 1 mètre. Le verre est de préférence de type silico-sodocalcique, mais d'autres types de verres, comme les verres borosilicatés ou les aluminosilicates peuvent aussi être utilisés. Le verre peut être clair ou extra-clair, ou encore teinté, par exemple en bleu, vert, ambre, bronze ou gris. L'épaisseur de la feuille de verre est typiquement comprise entre 0,5 et 19 mm, notamment entre 2 et 12 mm, voire entre 4 et 8 mm. Dans le domaine des cellules photovoltaïques, le verre est de préférence extra-clair ; il comprend de préférence une teneur pondérale totale en oxyde de fer d'au plus 150 ppm, voire 100 ppm et même 90 ppm, voire un rédox d'au plus 0,2, notamment 0,1 et même un rédox nul. On entend par « rédox » le rapport entre la teneur pondérale en oxyde de fer ferreux (exprimé sous la forme FeO) et la teneur pondérale totale en oxyde de fer (exprimé sous la forme Fe2O3) .
Le revêtement photocatalytique à base d'oxyde de titane est de préférence constitué d'oxyde de titane, notamment cristallisé sous forme anatase, qui est la forme la plus active. Un mélange de phases anatase et rutile est 5 également concevable. L'oxyde de titane peut être pur ou dopé, par exemple par des métaux de transition (notamment W, Mo, V, Nb), des ions lanthanides ou des métaux nobles (tels que par exemple platine, palladium), ou encore par des atomes d'azote, de carbone ou de fluor. Ces différentes 10 formes de dopage permettent soit d'augmenter l'activité photocatalytique du matériau, soit de décaler le gap de l'oxyde de titane vers des longueurs d'onde proches du domaine du visible ou comprises dans ce domaine. Le revêtement photocatalytique est normalement la 15 dernière couche de l'empilement déposé sur le substrat, autrement dit la couche de l'empilement la plus éloignée du substrat. Il importe en effet que le revêtement photocatalytique soit en contact avec l'atmosphère et ses polluants. Il est toutefois possible de déposer sur la 20 couche photocatalytique une très fine couche, généralement discontinue ou poreuse. Il peut par exemple s'agir d'une couche à base de métaux nobles destinée à accroître l'activité photocatalytique du matériau. Il peut encore s'agir de fines couches hydrophiles, par exemple en silice, 25 tel qu'enseigné dans les demandes WO 2005/040058 ou WO 2007/045805. L'épaisseur du revêtement photocatalytique est de préférence comprise entre 1 et 20 nanomètres, notamment entre 2 et 15 nm, voire entre 3 et 10 nm, bornes comprises. 30 Une épaisseur élevée permet d'accroître l'activité photocatalytique de la couche mais au détriment de la réflexion lumineuse. Dans l'ensemble du présent texte, les épaisseurs sont des épaisseurs physiques.
La sous-couche à base de silice est de préférence en silice, c'est-à-dire constituée de silice. Il est entendu que la silice peut être dopée, ou ne pas être stoechiométrique. La silice peut par exemple être dopée par des atomes de bore ou de phosphore, ou encore par des atomes de carbone ou d'azote. La sous-couche à base de silice est de préférence déposée en contact avec le substrat. La rugosité Ra de la sous-couche à base de silice 10 est avantageusement comprise entre 5 et 20 nm, bornes comprises, notamment entre 8 et 15 nm. L'épaisseur de la sous-couche à base de silice est de préférence comprise entre 20 et 100 nm, bornes comprises, notamment entre 20 et 80 nm, voire entre 20 et 15 50 nm, et même entre 20 et 30 nm. Une épaisseur suffisante permet à la sous-couche de jouer un rôle de couche barrière à la migration des ions alcalins provenant du substrat lorsque ce dernier en contient (par exemple s'il s'agit d'un substrat en verre silico-sodo-calcique). 20 La sous-couche à base de silice est de préférence non-poreuse, notamment au sens où l'on n'observe pas de pores par des techniques microscopiques, telles que la microscopie électronique en transmission (MET). La soumission de la sous-couche à une température d'au moins 25 300°C utilisée dans le procédé préféré selon l'invention, préalablement au dépôt et/ou pendant le dépôt du revêtement photocatalytique, a pour effet de densifier la sous-couche. Le matériau selon l'invention présente de préférence un facteur de transmission lumineuse (au sens de la norme 30 ISO 9050 :2003) d'au moins 85%, voire 88% et même 90% ou 91% et/ou un facteur de réflexion lumineuse (au sens de la norme ISO 9050 :2003) d'au plus 10%, notamment 9% ou 8%.
La sous-couche à base de silice est avantageusement déposée par dépôt chimique en phase vapeur par combustion. Cette technique, également connue sous son acronyme anglais CCVD (pour « Combustion CVD »), consiste à faire réagir ou décomposer au moins un précurseur de la couche à déposer (généralement un composé organométallique, un sel métallique ou un halogénure) au sein d'une flamme placée à proximité du substrat. Le procédé est normalement mis en oeuvre à la pression atmosphérique. Le précurseur, pur ou dissous dans un solvant, se décompose sous l'effet de la chaleur et vient se déposer sur le substrat. Dans un procédé continu, la flamme est typiquement issue d'un brûleur linéaire fixe s'étendant sur toute la largeur du substrat, ce dernier venant défiler en regard du brûleur.
La flamme résulte de la réaction entre un combustible (typiquement le propane ou le butane, et dans ce cas le solvant est préférentiellement non combustible, ou encore le solvant lorsqu'il est combustible) et un comburant (typiquement l'air, l'air enrichi en oxygène ou l'oxygène).
Le précurseur de silice est typiquement un composé organométallique du silicium ou un sel organique, tel qu'un silane ou un siloxane. L'hexamethyldisiloxane (HDMSO) et le tétraéthylorthosilicate (TEOS) sont particulièrement adaptés. Le précurseur de silice peut également être un composé halogéné, tel que par exemple SiC14. Le solvant peut être combustible, comme un solvant organique, ou de préférence non combustible, typiquement de l'eau. Il s'est avéré qu'un tel procédé permettait d'obtenir des couches de silice particulièrement rugueuses, notamment en comparaison avec d'autres techniques, telles que la CVD. Sans vouloir être liés par une quelconque théorie scientifique, il semblerait que la décomposition du précurseur au sein de la flamme forme des nanoparticules de silice qui se déposent ensuite sur la couche en formant des amas, conférant de ce fait une rugosité importante. Le chauffage ultérieur de la sous-couche permet de la densifier et de la fixer au substrat, mais sans amoindrir notablement sa rugosité. La sous-couche à base de silice est de préférence soumise à une température d'au moins 400°C, voire 500°C préalablement au dépôt dudit revêtement photocatalytique et/ou pendant le dépôt dudit revêtement photocatalytique.
Le dépôt du revêtement photocatalytique est de préférence réalisé par dépôt chimique en phase vapeur. Le dépôt chimique en phase vapeur, généralement désigné sous son acronyme anglais CVD, est un procédé de pyrolyse utilisant des précurseurs gazeux qui se décomposent sous l'effet de la chaleur du substrat. Dans le cas de l'oxyde de titane, les précurseurs peuvent être à titre d'exemple du tétrachlorure de titane, du tétraisopropoxyde de titane ou du tétraorthobutoxyde de titane.
De préférence, le dépôt de la sous-couche et le dépôt du revêtement photocatalytique sont réalisés successivement, sur la ligne de production du verre par le procédé de flottage (aussi appelée procédé « float »). Dans ce procédé continu, un ruban de verre est obtenu en coulant le verre à environ 1100°C sur un bain d'étain en fusion au sein d'une enceinte appelée enceinte de flottage. A la sortie de cette enceinte, la température du verre est de l'ordre de 500 à 600°C, et le ruban de verre passe ensuite dans une enceinte appelée étenderie, où le verre est refroidi de manière contrôlée afin d'éliminer toutes contraintes mécaniques résiduelles en son sein. De préférence, le dépôt de la sous-couche et le dépôt du revêtement photocatalytique sont mis en oeuvre successivement, entre la sortie de l'enceinte de flottage et l'entrée de l'étenderie. Le brûleur utilisé pour le dépôt chimique en phase vapeur par combustion et la buse de dépôt chimique en phase vapeur sont donc de préférence installés entre la sortie de l'enceinte de flottage et l'entrée de l'étenderie. Typiquement, la température du verre lors de la mise en oeuvre du dépôt de la sous-couche à base de silice est comprise entre 480 et 600°C, notamment entre 500 et 550°C, et la température du verre lors de la mise en oeuvre du dépôt du revêtement photocatalytique est comprise entre 430 et 550°C, notamment entre 450 et 500°C. De la sorte, la sous-couche à base de silice est naturellement soumise à une température d'au moins 300°C préalablement au dépôt et pendant le dépôt du revêtement photocatalytique, et donc densifiée et fixée au substrat, sans avoir à apporter d'énergie supplémentaire, par exemple en plaçant le substrat dans un four. L'invention a également pour objet un vitrage ou une 20 cellule photovoltaïque comprenant au moins un matériau selon l'invention. Le vitrage peut être simple ou multiple (notamment double ou triple), au sens où il peut comprendre plusieurs feuilles de verre ménageant un espace rempli de gaz. Le 25 vitrage peut également être feuilleté et/ou trempé et/ou durci et/ou bombé. L'autre face du matériau selon l'invention, ou le cas échéant une face d'un autre substrat du vitrage multiple, peut être revêtue d'une autre couche 30 fonctionnelle ou d'un empilement de couches fonctionnelles. Il peut notamment s'agir d'une autre couche photocatalytique. Il peut aussi s'agir de couches ou d'empilements à fonction thermique, notamment antisolaires ou bas-émissifs, par exemple des empilements comprenant une couche d'argent protégée par des couches diélectriques. Il peut encore s'agir d'une couche miroir, notamment à base d'argent. Il peut enfin s'agir d'une laque ou d'un émail destinée à opacifier le vitrage pour en faire un panneau de parement de façade appelé allège. L'allège est disposée sur la façade aux côtés des vitrages non opacifiés et permet d'obtenir des façades entièrement vitrées et homogènes du point de vue esthétique.
Dans la cellule photovoltaïque selon l'invention, le matériau selon l'invention est de préférence le substrat de face avant de la cellule, c'est-à-dire celui qui est le premier traversé par le rayonnement solaire. Le revêtement photocatalytique est alors positionné vers l'extérieur, afin que l'effet autonettoyant puisse se manifester utilement. Pour les applications en tant que cellules photovoltaïques, et afin de maximiser le rendement énergétique de la cellule, plusieurs améliorations peuvent 20 être apportées, cumulativement ou alternativement : La feuille de verre peut avantageusement être revêtue, sur la face opposée à la face munie du revêtement selon l'invention, d'au moins une couche mince transparente et électroconductrice, par 25 exemple à base de Sn02:F, Sn02:Sb, ZnO:Al, ZnO:Ga. Ces couches peuvent être déposées sur le substrat par différents procédés de dépôt, tels que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ou le dépôt par pulvérisation cathodique, notamment assisté par 30 champ magnétique (procédé magnétron). Dans le procédé CVD, des précurseurs halogénures ou organométalliques sont vaporisés et transportés par un gaz vecteur jusqu'à la surface du verre chaud, où ils se décomposent sous l'effet de la chaleur pour former la couche mince. L'avantage du procédé CVD est qu'il est possible de le mettre en oeuvre au sein du procédé de formage de la feuille de verre, notamment lorsqu'il s'agit d'un procédé de flottage. Il est ainsi possible de déposer la couche au moment où la feuille de verre est sur le bain d'étain, à la sortie du bain d'étain, ou encore dans l'étenderie, c'est-à-dire au moment où la feuille de verre est recuite afin d'éliminer les contraintes mécaniques. La feuille de verre revêtue d'une couche transparente et électroconductrice peut être à son tour revêtue d'un semi-conducteur à base de silicium amorphe ou polycristallin, de chalcopyrites (notamment du type CIS - CuInSe2 ou CIGS - CuInGaSe2) ou de CdTe pour former une cellule photovoltaïque. Dans ce cas, un autre avantage du procédé CVD réside en l'obtention d'une rugosité plus forte, qui génère un phénomène de piégeage de la lumière, lequel augmente la quantité de photons absorbée par le semi-conducteur. La présence selon l'invention d'une sous-couche à base de silice rugueuse aide également à amplifier ce phénomène de piégeage de la lumière. la surface de la feuille de verre peut être texturée, par exemple présenter des motifs (notamment en pyramide), tel que décrit dans les demandes WO 03/046617, WO 2006/134300, WO 2006/134301 ou encore WO 2007/015017. Ces texturations sont en général obtenues à l'aide d'un formage du verre par laminage. L'invention sera mieux comprise à la lumière des exemples non limitatifs qui suivent, illustrés par les Figures 1 et 2.
EXEMPLE 1 Sur un substrat de verre on dépose une sous-couche 5 de silice de 30 nm d'épaisseur par dépôt chimique en phase vapeur par combustion (CCVD). Pour ce faire, une flamme obtenue par combustion de propane (débit de 6 L/min) avec de l'air (débit de 150 L/min) est disposée à 15 mm de la surface à revêtir. Le substrat défile à une vitesse de 10 2 m/min sous la flamme, tandis qu'un précurseur HDMSO (hexamethyldisiloxane) est introduit dans la flamme avec un débit de 0,5 L/min. Après dépôt de la sous-couche, un revêtement photocatalytique d'oxyde de titane d'environ 10 nm 15 d'épaisseur est déposé sur la sous-couche par une technique CVD. Pour ce faire, le substrat muni de la sous-couche est chauffé à environ 530°C, et un précurseur d'oxyde de titane, le tétraisopropoxyde de titane, dissous dans un gaz porteur (azote) est amené en contact avec la surface du 20 substrat. EXEMPLE 2 Cet exemple est réalisé de la même manière que 25 l'exemple 1, la seule différence tenant en ce que la sous-couche en silice est plus épaisse (60 nm), grâce à un deuxième passage. Lors du deuxième passage, le débit de propane est de 10 L/min, le débit d'air de 250 L/min, et le débit de précurseur est de 1 L/min. La distance entre la 30 flamme et le substrat est de 30 mm.
EXEMPLES COMPARATIFS Dans l'exemple comparatif 1, le revêtement photocatalytique est obtenu de la même manière que dans le cas de l'exemple 1 selon l'invention. En revanche, la sous-couche est une couche d'oxycarbure de silicium déposée par CVD (et non par CCVD), par conséquent beaucoup moins rugueuse. Dans l'exemple comparatif 2, la sous-couche est une couche de silice déposée par pulvérisation cathodique magnétron, également beaucoup moins rugueuse. Le revêtement photocatalytique est le même que dans le cas de l'exemple comparatif 1. La Figure 1 est un cliché obtenu en microscopie à 15 force atomique (AFM) de la surface de l'exemple 1, permettant d'observer la forte rugosité impartie par la sous-couche de silice. La Figure 2 regroupe les spectres en transmission des quatre exemples. 20 Le tableau 1 ci-après récapitule les résultats des essais. Il indique pour chaque exemple les grandeurs suivantes : la rugosité Ra, exprimée en nm, l'activité photocatalytique Kb, exprimée en pg.1- 25 1. min-1 ^ le facteur de réflexion lumineuse RL, le facteur de transmission lumineuse TL et le facteur de transmission énergétique TE, au sens de la norme ISO 9050 :2003, le facteur de transmission « TSQE », correspondant 30 au produit de convolution du spectre de transmission du ^ ^ ^ matériau et de la courbe d'efficacité quantique du silicium amorphe. Ce facteur permet d'évaluer la transmission du matériau dans les longueurs d'onde pertinentes pour les cellules photovoltaïques utilisant du silicium amorphe.
La rugosité Ra est mesurée à l'aide d'un microscope à force atomique (AFM) Nanoscope IIIa sur un carré de 1000 nm de côté, en mode non-contact et en utilisant une pointe en silicium dont le rayon de courbure est de 15 nm. L'activité photocatalytique est évaluée grâce à une mesure de vitesse de dégradation de bleu de méthylène en présence de rayonnement ultraviolet. Une solution aqueuse de bleu de méthylène est placée en contact dans une cellule étanche avec le substrat revêtu (ce dernier formant le fond de la cellule). Après exposition à un rayonnement ultraviolet pendant 30 minutes, la concentration de bleu de méthylène est évaluée par une mesure de transmission lumineuse. La valeur d'activité photocatalytique (notée Kb et exprimée en pg.1-1.min-1), correspond à la diminution de la concentration en bleu de méthylène par unité de temps d'exposition. Exemple Ra Kb RL TL TE TSQE (nm) (pg.1- (%) (%) (%) (%) 1. min-1) 1 10,4 41 9 89 84 88 2 12,0 42 8 90 85 89 Comparatif 1 1,5 40 12 86 81 85 Comparatif 2 0,6 38 12 86 81 84 Tableau 1 Ces résultats démontrent que l'utilisation d'une sous-couche rugueuse (ici obtenue par CCVD) permet de réduire de manière importante la réflexion du matériau, jusqu'à atteindre des réflexions de l'ordre de celle du verre nu. Il en résulte des transmissions lumineuses et énergétiques bien plus élevées, de 3 à 4 points, sans pour autant dégrader l'activité photocatalytique. Une analyse par spectrométrie Raman montre la présence d'anatase pour tous les échantillons.
L'observation des matériaux par microscopie électronique en transmission réalisée sur la tranche montre que la couche de silice est dense, exempte de toute porosité.
Claims (12)
- REVENDICATIONS1. Matériau comprenant un substrat muni sur au moins une partie d'une de ses faces d'un revêtement photocatalytique à base d'oxyde de titane déposé sur une sous-couche à base de silice dont la rugosité Ra est comprise entre 4 et 30 nm, bornes comprises.
- 2. Matériau selon la revendication précédente, tel que le substrat est une feuille de verre ou de vitrocéramique.
- 3. Matériau selon l'une des revendications précédentes, tel que le revêtement photocatalytique est en 15 oxyde de titane, notamment cristallisé sous la forme anatase.
- 4. Matériau selon l'une des revendications précédentes, tel que la sous-couche à base de silice est en silice. 20
- 5. Matériau selon l'une des revendications précédentes, tel que la sous-couche est déposée en contact avec le substrat.
- 6. Matériau selon l'une des revendications précédentes, tel que la rugosité Ra de la sous-couche est 25 comprise entre 5 et 20 nm, bornes comprises.
- 7. Matériau selon l'une des revendications précédentes, tel que la sous-couche à base de silice est déposée par dépôt chimique en phase vapeur par combustion.
- 8. Matériau selon l'une des revendications 30 précédentes, tel que l'épaisseur du revêtementphotocatalytique est comprise entre 1 et 20 nm, bornes comprises.
- 9. Matériau selon l'une des revendications précédentes, présentant un facteur de transmission lumineuse au sens de la norme ISO 9050 :2003 d'au moins 80%, notamment 90% et un facteur de réflexion lumineuse au sens de la norme ISO 9050 :2003 d'au plus 10%, notamment 9%.
- 10. Vitrage ou cellule photovoltaïque comprenant au 10 moins un matériau selon l'une des revendications précédentes.
- 11. Procédé d'obtention d'un matériau selon l'une des revendications 1 à 9, comprenant les étapes suivantes : l'on dépose sur un substrat une sous-couche à base 15 de silice à l'aide d'un procédé de dépôt chimique en phase vapeur par combustion, puis, l'on dépose sur ladite sous-couche à base de silice un revêtement photocatalytique à base d'oxyde de titane, ladite sous-couche étant soumise à une température d'au 20 moins 300°C préalablement au dépôt dudit revêtement photocatalytique et/ou pendant le dépôt dudit revêtement photocatalytique.
- 12. Procédé selon la revendication précédente, tel que le dépôt du revêtement photocatalytique est réalisé par 25 dépôt chimique en phase vapeur.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1158120A FR2979910B1 (fr) | 2011-09-13 | 2011-09-13 | Materiau photocatalytique et vitrage ou cellule photovoltaique comprenant ce materiau |
PCT/FR2012/052035 WO2013038104A1 (fr) | 2011-09-13 | 2012-09-12 | Materiau photocatalytique et vitrage ou cellule photovoltaique comprenant ce materiau |
CN201280044525.4A CN103781738A (zh) | 2011-09-13 | 2012-09-12 | 光催化材料和包含这种材料的窗玻璃或者光电池 |
JP2014530293A JP2014534143A (ja) | 2011-09-13 | 2012-09-12 | 光触媒材料及び前記材料を含む板ガラス又は光起電力セル |
EP12773023.2A EP2755927A1 (fr) | 2011-09-13 | 2012-09-12 | Materiau photocatalytique et vitrage ou cellule photovoltaique comprenant ce materiau |
KR1020147006344A KR20140063682A (ko) | 2011-09-13 | 2012-09-12 | 광촉매 재료 및 그러한 재료를 포함하는 글레이징 또는 광전지 |
US14/344,558 US20140338749A1 (en) | 2011-09-13 | 2012-09-12 | Photocatalytic material and glazing or photovoltaic cell comprising said material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1158120A FR2979910B1 (fr) | 2011-09-13 | 2011-09-13 | Materiau photocatalytique et vitrage ou cellule photovoltaique comprenant ce materiau |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR2979910A1 true FR2979910A1 (fr) | 2013-03-15 |
FR2979910B1 FR2979910B1 (fr) | 2014-01-03 |
Family
ID=47022957
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR1158120A Expired - Fee Related FR2979910B1 (fr) | 2011-09-13 | 2011-09-13 | Materiau photocatalytique et vitrage ou cellule photovoltaique comprenant ce materiau |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140338749A1 (fr) |
EP (1) | EP2755927A1 (fr) |
JP (1) | JP2014534143A (fr) |
KR (1) | KR20140063682A (fr) |
CN (1) | CN103781738A (fr) |
FR (1) | FR2979910B1 (fr) |
WO (1) | WO2013038104A1 (fr) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3431455A1 (fr) * | 2017-07-20 | 2019-01-23 | AGC Glass Europe | Verre à entretien facilité |
WO2021123618A1 (fr) * | 2019-12-18 | 2021-06-24 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage photocatalytique comprenant une couche a base de nitrure de titane |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105669044B (zh) * | 2015-12-31 | 2018-05-29 | 株洲醴陵旗滨玻璃有限公司 | 一种在线易洁镀膜玻璃及其制备方法 |
FR3083228B1 (fr) * | 2018-06-27 | 2020-06-26 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage muni d'un empilement de couches minces agissant sur le rayonnement solaire et d'une couche barriere |
CN114551606B (zh) | 2021-09-16 | 2024-10-15 | 晶科能源股份有限公司 | 一种太阳能电池、光伏组件 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040043260A1 (en) * | 2000-09-20 | 2004-03-04 | Nicolas Nadaud | Substrate with photocatalytic coating |
US20050175852A1 (en) * | 2002-03-19 | 2005-08-11 | Hiroki Okudera | Thin silica film and silica-titania composite film, and method for preparing them |
US20050221098A1 (en) * | 2002-04-17 | 2005-10-06 | Saint-Gobain Glass France | Substrate with a self-cleaning coating |
US20090117273A1 (en) * | 2007-11-05 | 2009-05-07 | Guardian Industries Corp., | Combustion deposition using aqueous precursor solutions to deposit titanium dioxide coatings |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2738813B1 (fr) | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
JP3700358B2 (ja) * | 1996-12-18 | 2005-09-28 | 日本板硝子株式会社 | 防曇防汚ガラス物品 |
FR2832811B1 (fr) | 2001-11-28 | 2004-01-30 | Saint Gobain | Plaque transparente texturee a forte transmission de lumiere |
DE102005027799B4 (de) | 2005-06-16 | 2007-09-27 | Saint-Gobain Glass Deutschland Gmbh | Verfahren zum Herstellen einer transparenten Scheibe mit einer Oberflächenstruktur und Vorrichtung zum Durchführen des Verfahrens |
DE102005027737B4 (de) | 2005-06-16 | 2013-03-28 | Saint-Gobain Glass Deutschland Gmbh | Verwendung einer transparenten Scheibe mit einer dreidimensionalen Oberflächenstruktur als Deckscheibe für Bauelemente zur Nutzung des Sonnenlichts |
FR2889525A1 (fr) | 2005-08-04 | 2007-02-09 | Palumed Sa | Nouveaux derives de polyquinoleines et leur utilisation therapeutique. |
US20070113881A1 (en) * | 2005-11-22 | 2007-05-24 | Guardian Industries Corp. | Method of making solar cell with antireflective coating using combustion chemical vapor deposition (CCVD) and corresponding product |
US20100203287A1 (en) * | 2009-02-10 | 2010-08-12 | Ngimat Co. | Hypertransparent Nanostructured Superhydrophobic and Surface Modification Coatings |
JP2011119626A (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Central Glass Co Ltd | 低反射膜で被覆してなる太陽電池パネル用カバーガラス及びその製法 |
-
2011
- 2011-09-13 FR FR1158120A patent/FR2979910B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-09-12 KR KR1020147006344A patent/KR20140063682A/ko not_active Application Discontinuation
- 2012-09-12 US US14/344,558 patent/US20140338749A1/en not_active Abandoned
- 2012-09-12 EP EP12773023.2A patent/EP2755927A1/fr not_active Withdrawn
- 2012-09-12 WO PCT/FR2012/052035 patent/WO2013038104A1/fr active Application Filing
- 2012-09-12 CN CN201280044525.4A patent/CN103781738A/zh active Pending
- 2012-09-12 JP JP2014530293A patent/JP2014534143A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040043260A1 (en) * | 2000-09-20 | 2004-03-04 | Nicolas Nadaud | Substrate with photocatalytic coating |
US20050175852A1 (en) * | 2002-03-19 | 2005-08-11 | Hiroki Okudera | Thin silica film and silica-titania composite film, and method for preparing them |
US20050221098A1 (en) * | 2002-04-17 | 2005-10-06 | Saint-Gobain Glass France | Substrate with a self-cleaning coating |
US20090117273A1 (en) * | 2007-11-05 | 2009-05-07 | Guardian Industries Corp., | Combustion deposition using aqueous precursor solutions to deposit titanium dioxide coatings |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3431455A1 (fr) * | 2017-07-20 | 2019-01-23 | AGC Glass Europe | Verre à entretien facilité |
WO2019016176A1 (fr) * | 2017-07-20 | 2019-01-24 | Agc Glass Europe | Verre à entretien facilité |
WO2021123618A1 (fr) * | 2019-12-18 | 2021-06-24 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage photocatalytique comprenant une couche a base de nitrure de titane |
FR3105211A1 (fr) * | 2019-12-18 | 2021-06-25 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage photocatalytique comprenant une couche à base de nitrure de titane |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2979910B1 (fr) | 2014-01-03 |
WO2013038104A1 (fr) | 2013-03-21 |
JP2014534143A (ja) | 2014-12-18 |
EP2755927A1 (fr) | 2014-07-23 |
US20140338749A1 (en) | 2014-11-20 |
KR20140063682A (ko) | 2014-05-27 |
CN103781738A (zh) | 2014-05-07 |
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PLFP | Fee payment |
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