FR2696427A1 - Chambre et combinaison de chambres pour une installation sous vide, et procédé pour transférer au moins une pièce. - Google Patents

Chambre et combinaison de chambres pour une installation sous vide, et procédé pour transférer au moins une pièce. Download PDF

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Abstract

L'invention concerne une chambre (1) pour une installation sous vide, comportant au moins une ouverture (13a) pour le passage de pièces (40), notamment en forme de disques, lors de leur traitement, et un mécanisme de transport mobile (7) pour au moins une pièce. Dans cette chambre est prévu au moins un dispositif de transport pourvu d'une fixation (19) pour au moins une pièce dans un plan perpendiculaire à la surface de l'ouverture, et monté de façon pivotante pour que la fixation amenée par le mécanisme (7) dans la zone de l'ouverture puisse pivoter complètement par celle-ci. L'invention concerne aussi une combinaison formée de cette chambre et d'une seconde chambre (3), et un procédé pour transférer au moins une pièce par l'ouverture.

Description

-1 Chambre et combinaison de chambres pour une installation sous vide, et
procédé pour transférer au moins une pièce La présente invention concerne une chambre pour une installation sous vide, comportant au moins une ouverture pour le passage de pièces, notamment de pièces en forme de disques telles que des disques de mémoires lors de leur traitement, et un mécanisme de transport mobile pour au moins une pièce Elle concerne également une combinaison de chambres comprenant une chambre de ce type, ainsi qu'un procédé pour faire passer au moins une pièce en forme de disque dans une installation de traitement sous vide, par une ouverture et à partir d'une trajectoire de transport annulaire. Pour le traitement de pièces en forme de disques telles que des disques de mémoires comme par exemple des disques compacts, des disques de mémoires magnétiques ou magnétiques optiques, à l'intérieur d'une installation de traitement sous vide dans laquelle elles sont traitées par exemple grâce à des procédés non réactifs ou réactifs tels que la gravure et le revêtement physique ou chimique avec ou sans l'aide d'une décharge lumineuse, on connaît un moyen de transporter ces pièces dans une chambre à l'aide d'un dispositif de transport mobile, le long d'une trajectoire de
déplacement.
Habituellement, les pièces ainsi transportées par le dispositif de transport sont amenées sélectivement vers des ouvertures ménagées dans la chambre, grâce à une linéaire, puis elles sont amenées au cours de leur traitement dans
d'autres chambres et postes.
Pour une course souhaitée, la dépense de réalisation de commandes linéaires satisfaisant aux conditions des procédés sous vide est relativement grande Du point de vue des conditions de pureté à respecter, il faut faire très attention, en particulier, à la formation de particules due
par exemple à l'abrasion.
La présente invention s'est fixé pour but de créer une chambre du type spécifié en introduction, avec laquelle, pour une course souhaitée, la dépense nécessaire pour amener une pièce vers une ouverture de la chambre soit sensiblement réduite. Ce but est atteint, selon l'invention, avec une chambre qui se caractérise en ce qu'il est prévu, au niveau du mécanisme de transport, au moins un dispositif de transport qui est pourvu d'une fixation pour au moins une pièce dans un plan perpendiculaire à la surface de l'ouverture, et qui est monté de façon pivotante de telle sorte que la fixation amenée par le mécanisme de transport dans la zone de l'ouverture puisse pivoter complètement par l'ouverture Grâce au mécanisme de transport mentionné, il est possible de réaliser pour la pièce une trajectoire souhaitée dans la chambre Mais on obtient un avantage sensible en prévoyant en outre, au niveau du mécanisme de transport, un dispositif de transport monté de façon pivotante et pourvu de la fixation de pièce: un mécanisme d'entraînement peut suffire pour décrire une trajectoire de transport courbe présentant une course donnée, lequel mécanisme d'entraînement nécessite une dépense et un encombrement sensiblement inférieurs à ceux qui sont nécessaires lorsque la même course se fait linéairement Dans les cas extrêmes, on peut utiliser pour le mouvement pivotant un mécanisme d'entraînement rotatif Un entraînement linéaire transformé en mouvement pivotant nécessite lui aussi, pour réaliser la course nécessaire à l'amenée de la pièce vers l'ouverture, une course nettement plus courte que celle qui serait nécessaire à un entraînement linéaire pour alimenter
directement l'ouverture.
Selon un mode de réalisation préféré, la fixation est conçue en forme de pince et est de préférence apte à être
commandée pour saisir et libérer une pièce.
Cela présente plusieurs avantages Premièrement, la pièce reste dégagée au moins sur deux côtés ou pratiquement de tous les côtés même lorsqu'elle se trouve à l'intérieur de la fixation, et elle peut ainsi être traitée des deux côtés, voire de tous les côtés, lorsque l'ouverture de la chambre débouche dans un poste de traitement tel qu'un poste de gravure ou de revêtement Deuxièmement, cette configuration est simple, en particulier en ce qui concerne la commande
pour libérer et saisir les pièces.
De plus, l'espace nécessaire au pivotement de la pièce, au-delà de l'espace de toute façon qui est nécessaire à la pièce elle-même, est augmenté de façon non déterminante, ce qui permet d'adapter de façon optimale ladite ouverture
aux dimensions de la pièce à transporter.
Dans les chambres de transport d'installations de traitement sous vide, il est souvent prévu des mécanismes de transport qui permettent de rapprocher et d'éloigner au moins
linéairement la pièce des ouvertures à desservir.
D'une manière avantageuse, un palier de pivotement prévu pour le dispositif de transport est mobile linéairement, perpendiculairement à la surface de l'ouverture, et ce dispositif de transport peut pivoter grâce à l'entraînement linéaire de son palier de pivotement Il est ainsi possible, pour le mouvement pivotant mentionné du dispositif de transport pourvu de la fixation, d'utiliser un mécanisme d'entraînement linéaire déjà prévu De plus, il est facile de transformer une avance linéaire même faible en un mouvement pivotant suivant un angle élevé et, ainsi, en une
grande course décrite par ce mouvement pivotant.
Pour des pièces en forme de plaques, il est prévu d'une manière préférée que la fixation soit disposée par rapport au palier de pivotement de telle sorte que les surfaces d'une pièce retenue par la fixation se trouvent dans un plan de pivotement et que le diamètre de l'ouverture soit de préférence sensiblement plus long dans le plan de
pivotement que dans le plan de l'axe de pivotement.
On peut ainsi réaliser une ouverture légèrement plus large que l'épaisseur de la pièce en forme de plaque, ce qui offre des avantages sensibles, par exemple en ce qui concerne la séparation atmosphérique des chambres situées de part et
d'autre de ladite ouverture.
Un mode de réalisation préféré de l'invention prévoit que le mécanisme de transport comporte au moins un bras apte à être déployé linéairement vers l'ouverture et rétracté à partir de celle-ci, e t apte à pivoter dans une position située dans l'alignement de l'une des ouvertures, et il prévoit que le dispositif de transport soit monté à l'extrémité du bras située côté ouverture L'extrémité du bras située côté ouverture peut également former le mécanisme d'entraînement linéaire pour le palier de pivotement du dispositif de transport et, quand elle est déployée, obturer l'ouverture de préférence de façon étanche, et de préférence
étanche au vide.
L'entraînement pivotant pour le dispositif de transport peut alors être réalisé simplement, grâce au
mécanisme d'entraînement linéaire du mécanisme de transport.
On conserve par ailleurs l'avantage d'une course linéaire, même relativement faible, c'est-à-dire que l'ouverture desservie à chaque fois peut être obturée suivant
le degré voulu.
La chambre proposée peut être accouplée de façon modulaire à une ou plusieurs chambres de transport connues pourvues d'au moins deux ouvertures, ou bien à un ou plusieurs postes de traitement tels que des postes de gravure ou de revêtement, ou encore à des chambres formant respectivement sas d'entrée et sas de sortie ou à une chambre
formant sas d'entrée/sortie.
D'une manière avantageuse, il est prévu, au niveau de l'ouverture, un poste de traitement dans lequel une pièce amenée par pivotement par rapport à l'axe par le dispositif de transport est traitée, par exemple gravée ou recouverte,
des deux côtés ou de tous les côtés.
L'invention propose également une combinaison de chambres comprenant une chambre telle que décrite précédemment Cette combinaison de chambres se caractérise en ce qu'il est prévu, au niveau de son ouverture, une seconde chambre dans laquelle est prévu, monté en rotation, un second mécanisme de transport pour au moins une pièce, qui comporte un axe de rotation parallèle à l'axe de pivotement du
dispositif de transport.
Grâce au fait que l'axe de pivotement du dispositif de transport est monté parallèle à l'axe de rotation du second mécanisme de transport, dans la seconde chambre prévue dans la combinaison, il est possible de procéder au passage des pièces par l'ouverture de liaison sensiblement radialement par rapport à l'axe de pivotement prévu dans la
seconde chambre.
Grâce au fait que le second mécanisme de transport prévu dans la seconde chambre comporte par ailleurs une multiplicité de fixations pour les pièces qui sont aptes à tourner ensemble autour de l'axe de rotation, sensiblement dans le plan de pivotement du dispositif de transport, il est possible d'amener les unes après les autres des pièces vers le second mécanisme de transport, à partir de la première chambre, et de les ramener les unes après les autres par
l'ouverture mentionnée.
Selon un autre mode de réalisation préféré, le second mécanisme de transport comprend au moins un, et de préférence au moins deux bras qui sont disposés sur une surface cylindrique autour de l'axe de rotation et sont aptes à être déployés et rétractés axialement, et à l'extrémité desquels
est disposée une fixation pour au moins une pièce.
D'une manière avantageuse, au moins une ouverture ménagée dans la seconde chambre présente une normale superficielle parallèle à l'axe de rotation du dispositif de transport. Le second mécanisme de transport comporte au moins un plateau apte à être déployé et rétracté axialement et pourvu d'une fixation pour au moins une pièce, l'une au moins des ouvertures de la seconde chambre définit sensiblement une normale superficielle parallèle à l'axe de rotation du second mécanisme de transport, et le plateau peut être amené dans l'alignement de cette ouverture grâce à une rotation du second mécanisme de transport et, grâce à son déploiement, obture cette ouverture de f açon étanche, et de préférence
étanche au vide.
Dans un mode de réalisation préféré de l'invention, l'une au moins des ouvertures peut être obturée de façon étanche au vide à l'aide d'un obturateur extérieur à la chambre servant de soupape de sas, et définit, avec un plateau posé sur elle comme seconde soupape de sas, une chambre formant sas, étant précisé qu'un branchement de pompe est de préférence prévu au niveau de la chambre et/ou au niveau de l'ouverture, entre l'obturateur et le plateau déployé. D'une manière avantageuse, il est prévu, raccordée à l'une au moins des ouvertures de la seconde chambre, une chambre formant sas, une chambre de transport comportant au moins deux ouvertures ou une chambre de traitement pour les
pièces telle qu'une chambre de gravure ou de revêtement.
Un mode de réalisation de l'invention prévoit enfin que l'ouverture forme, avec la normale superficielle parallèle à l'axe de rotation, la liaison avec une chambre, et qu'il soit prévu, entre elles, une chambre agissant comme chambre formant sas et éventuellement pourvue d'un
branchement de pompe.
Comme il a été indiqué, on connaît un moyen de transporter sur une trajectoire de transport circulaire, à l'aide d'un mécanisme de transport, des pièces en forme de disques telles que des disques de mémoires, par exemple des disques compacts, des disques de mémoires magnétiques ou magnétiques optiques dans une installation sous vide On pourra se référer par exemple aux demandes US-PS-3 856 654, DE-PS-24 54 544, DE-OS-39 12 295, 40 09 603, 37 16 498 et EP-A-O 389 820 Par une ouverture opposée à la trajectoire de transport annulaire, ces pièces sont amenées par exemple en position de traitement en étant déplacées axialement par
rapport à ladite trajectoire de transport annulaire.
Mais lorsqu'il est prévu une chambre d'installation sous vide dans laquelle la trajectoire de transport des pièces en forme de disques est annulaire, comme il a été indiqué, et que les pièces passent axialement dans des positions angulaires prédéfinies de la trajectoire circulaire, à travers des ouvertures prévues, il existe une corrélation entre la profondeur d'une telle chambre mesurée axialement et la course possible suivant laquelle le passage
axial des pièces peut se faire.
En effet, si la chambre dans laquelle passera la trajectoire de transport annulaire et qui contient des agrégats supplémentaires disposés axialement, doit avoir une forme compacte et plate, la course axiale possible reste faible De la même manière, la hauteur totale augmente si des courses considérables doivent être parcourues; Il faut considérer à ce sujet que si les pièces sont disposées pour décrire une trajectoire de transport annulaire la hauteur de construction de la chambre correspondante, considérée dans le sens axial, n'a aucune incidence sur le nombre de pièces disposées le long de l'anneau, mais que ce nombre n'est déterminé que par l'extension radiale d'une telle chambre et, de ce fait, de la trajectoire de transport annulaire le long
de laquelle sont disposées d'autres pièces.
Un autre aspect de l'invention a pour but de créer un procédé du type spécifié en introduction qui remédie à ces inconvénients. Ce but est atteint, selon la présente invention, grâce à un procédé qui se caractérise en ce que la pièce passe radialement par rapport à la trajectoire de transport
annulaire.
Selon un mode d'exécution préféré de ce procédé, les surfaces de la pièce sont disposées dans des plans perpendiculaires à l'axe de rotation de la trajectoire de transport. Grâce au fait que les pièces en forme de disques passent par l'ouverture radialement par rapport à leur trajectoire de transport annulaire, l'extension radiale de celle-ci peut être utilisée pour la réalisation d'une course radiale nécessaire, et le périmètre de ladite trajectoire annulaire ou de la paroi de chambre correspondante est également apte à être utilisé pour la disposition d'ouvertures. Ce procédé conforme à l'invention peut être réalisé de nombreuses manières, par exemple grâce à des coulisseaux à action radiale qui se trouvent de façon fixe ou pivotante
dans l'alignement des ouvertures correspondantes.
Mais d'une manière préférée, ce procédé est exécuté grâce au dispositif de transport pivotant prévu au niveau de
la chambre conforme à l'invention indiquée plus haut.
Si le mécanisme de transport prévu au niveau de la chambre mentionnée est conçu pour que les pièces soient amenées sur une trajectoire circulaire prévue dans la chambre, une pièce est extraite de l'ouverture ou ramenée par cette ouverture radialement par rapport à l'axe de rotation du mécanisme de transport, à l'aide du dispositif de transport pivotant prévu sur ce dernier lorsque celui-ci se
trouve dans l'alignement d'une ouverture.
L'invention va maintenant être décrite plus en détail, à titre d'exemple, en référence aux figures: la figure 1 est une vue schématique partiellement en coupe d'une installation de traitement sous vide dans laquelle, d'une manière préférée, sont placées la chambre et la combinaison conformes à l'invention, et dans laquelle est appliqué le procédé conforme à l'invention, la figure 2 montre un détail agrandi d'un dispositif de transfert prévu sur l'installation de la figure 1, la figure 2 a montre de façon schématique des conditions optimisées au niveau d'un dispositif de transfert selon la figure 2, la figure 3 est une représentation schématique, partiellement en coupe et vue de dessus, d'une partie de l'installation de la figure 1, la figure 3 a représente schématiquement une coupe réalisée selon la figure 3 d'une chambre de gravure disposée dans l'installation des figures 1 à 3 et destinée à la gravure par crépitement des deux côtés de pièces en forme de disques, la figure 4 représente schématiquement, à l'aide d'une coupe longitudinale partielle, une chambre de transport à carrousel comportant des ouvertures desservies radialement, la figure 5 montre, à l'aide d'une représentation analogue à celle de la figure 4, un autre mode de réalisation d'une chambre à carrousel comportant des ouvertures desservies radialement, la figure 6 montre, à l'aide d'une représentation analogue à celle de la figure 4, une chambre à carrousel comportant des ouvertures desservies axialement, la figure 7 montre une autre variante de réalisation de la chambre de la figure 6, et les figures 8 a à 8 f montrent des combinaisons de chambres de types différents suivant une configuration minimale, en vue de la construction d'installations de
traitement sous vide compactes.
Les figures 1 à 3 représentent schématiquement une
installation préférée dans laquelle est intégrée l'invention.
Cette installation comprend une chambre 1 et une chambre 3 ainsi qu'une chambre intermédiaire 3 a reliant les chambres 1 et 3. Dans la chambre 1 est prévu un transporteur en étoile 7 qui est monté mobile en rotation de façon centrée, qui est entraîné par un moteur 5 et comporte six bras 9, comme il est représenté à titre d'exemple Le transporteur en étoile est mobile en rotation autour de l'axe A 7 La paroi extérieure 11 de la chambre 1 qui est parallèle à l'axe A 7 comporte au moins deux ouvertures 13 a et 13 b dans l'alignement desquelles on amène l'axe A de l'un des bras 9 en faisant tourner l'étoile 7 Les bras 9 peuvent être déployés et rétractés linéairement, radialement dans le sens de leurs axes A, à l'aide de mécanismes d'entraînement (non représentés) intégrés au transporteur en étoile 7 Le mécanisme d'entraînement linéaire est enveloppé de façon étanche au vide à l'aide de soufflets 15 A l'extrémité des bras 9, c' est-à-dire des parties de bras mobiles radialement par rapport à l'axe A 7, est monté un manchon de transport 17 qui est représenté schématiquement plus en détail sur la figure 2 et qui, comme il ressort de la comparaison entre les figures 1 et 3, est sensiblement plus large dans le sens parallèle à l'axe A 7 que dans le sens transversal par rapport
à celui-ci, c'est-à-dire dans le sens azimutal.
Les ouvertures 13 a et 13 b sont conçues en conséquence
en forme de fentes.
Si on considère le sens de l'axe A 7, un dispositif de transport 18 comportant une pince de transport 19 et conçu par exemple comme sur la figure 2, est monté pivotant autour d'un axe Al, dans chaque manchon 7 Cette pince de transport comprend deux bras de pince 19 a, 19 b qui sont montés sur un élément de support 21 pour pouvoir tourner autour d'axes de pivotement 23 a, 23 b, qui sont en prise mutuelle par l'intermédiaire de galets 24 et qui sont précontraints de façon élastique (non représentée) dans la position fermée représentée sur la figure 2 Au niveau du bras de pince 19 b est également prévu un galet d'actionnement 25 destiné au
déclenchement de la pince pour l'ouverture et la fermeture.
Comme il a été indiqué, le dispositif de transport 18 formé par la pince 19 et l'élément de support 21 est monté sur le manchon 17 pour pouvoir pivoter Au niveau d'un élément d'entraînement 26 solidaire en rotation du dispositif de transport 18 est disposé, également solidaire en rotation, un premier levier 28 qui est monté mobile en rotation au niveau d'un second levier 30, dans un palier 32 L'extrémité du levier 30 opposée à ce palier 32 est elle-même montée, par l'intermédiaire d'une plaque de montage 34, sur la partie radialement fixe du bras 9, en étant mobile en rotation au
niveau d'un palier 36.
Le dispositif décrit jusqu'à présent fonctionne de la
façon suivante.
A partir de la position de pivotement du dispositif de transport 18 représentée sur la figure 2, c'est-à-dire lorsque la pince est en position fermée et qu'elle contient par exemple un disque 40, le transporteur en étoile 7 peut il pivoter sur son axe A 7 vers n'importe quelle position Les manchons 17 sont alors rétractés vers l'axe A 7 à l'aide des
mécanismes d'entraînement radial spécifiques des bras.
Si, comme le montre la figure 2, l'une des ouvertures, par exemple 13 x, doit être desservie, l'axe A. d'un bras 9, et donc le plan de pivotement de la pince 19 sont alignés sur l'ouverture 13 x en forme de fente Le manchon 17 est alors avancé en direction de l'ouverture 13 x à l'aide du mécanisme d'entraînement associé au bras 9 considéré En raison du mouvement linéaire ainsi produit pour l'axe A 19 comportant l'élément d'entraînement 26, le premier levier 28 pivote autour du palier 32, et étant donné que le levier 28 est solidaire en rotation de l'élément 26 et que celui-ci est également solidaire en rotation au niveau du dispositif de transport 18, ledit dispositif de transport 18 traverse l'ouverture 13 x, comme le montre la figure 2 grâce à un trait discontinu, en se déplaçant linéairement en même temps que le manchon 17 Le manchon 17 repose contre la paroi extérieure 11 de la chambre 1 et obture l'ouverture 13 x de préférence de f açon étanche, et éventuellement étanche au vide, en fonction des exigences concernant la séparation des
deux chambres 1 et 3.
Comme il apparaît sur la figure 2, le manchon 17 reste dans la chambre, tandis que la fixation de pièce formée par la pince 19 pivote pour traverser l'ouverture 13 x et
entrer complètement dans la chambre 3 ou 3 a.
La figure 2 montre une course linéaire du manchon 17 qui est inutilement longue pour le mouvement pivotant nécessaire du dispositif de transport 18 Mais comme l'homme de l'art le verra très bien en considérant également la représentation de la figure 2 a, il est possible, en réduisant la longueur du levier 28 entre l'axe A 19 et le palier d'articulation 32, de réaliser le même mouvement pivotant de l'élément de support 21, et donc du dispositif de transport
18, avec une course linéaire H sensiblement inférieure.
Le mouvement pivotant souhaité peut ainsi être réalisé avec pratiquement n'importe quelle course linéaire H réduite et moyennant une minimalisation correspondante des organes d'entraînement et d'étanchéité à prévoir à cet effet, et la course souhaitée est ainsi possible, à travers l'ouverture 13 x, grâce au rayon de pivotement de la pièce 40 autour de l'axe A 19. Dans la chambre 3 ou 3 a est prévu, comme le montre schématiquement la figure 2, un coulisseau 42 dont le galet d'extrémité 43, commandé grâce à une action exercée sur le galet 25 prévu sur la pince 19, ouvre celle-ci pour libérer
la pièce 40.
Dans le mode de réalisation préféré représenté sur les figures 1 à 3, il est prévu, entre la chambre 1 et la chambre 3, une chambre intermédiaire formant sas 3 a Son
fonctionnement ressortira clairement de la description
suivante, qui porte sur la chambre 3.
Comme il apparaît en particulier sur la figure 3, la chambre 3 comprend un transporteur en étoile 43 formé de bras radiaux 45 qui sont entraînés en rotation autour de l'axe A 43 à l'aide d'un moteur 47 et sur lesquels sont prévus,
parallèlement à l'axe A 43, par exemple quatre bras axiaux 49.
A leur extrémité, les bras 49 portent des plateaux de transport 51 pourvus de fixations par exemple mécaniques, pneumatiques ou magnétiques (non représentées) pour les pièces si l'axe A 43 n'est pas vertical Ces plateaux 51 sont aptes à être déployés et rétractés linéairement et parallèlement à l'axe A 43, avec les bras 49, à l'aide de mécanismes d'entraînement enveloppés par des soufflets 53 associés. La chambre 3 comporte par exemple deux ouvertures 55 a et 55 b qui se trouvent dans l'alignement de la couronne décrite par les plateaux 51 lors de leur rotation autour de l'axe A 43 Les plateaux 51 sont conçus pour obturer de façon étanche ou étanche au vide l'ouverture à l'aide d'organes d'étanchéité (non représentés) lorsqu'ils sont déployés vers une ouverture 55 Comme on l'a vu précédemment au niveau des manchons 17, par rapport à la paroi 11 de la chambre 1, des joints à labyrinthe peuvent être suffisants si une obturation étanche au vide n'est pas nécessaire De plus, les plateaux 51 dépassent axialement de la chambre 3 au niveau des parties de bordure 56 de l'ouverture 55, contre lesquelles lesdits plateaux 51 sont appliqués, à l'état déployé, en fermant ladite ouverture 55. Considérons tout d'abord l'ouverture 55 a qui communique avec l'ouverture 13 a par l'intermédiaire de la chambre formant sas 3 a Quand, selon la figure 3, une pièce en forme de disque 40 a été amenée par pivotement dans la position représentée en trait discontinu sur la figure 2 à l'aide du dispositif de transport 18, le manchon 17 vient s'appliquer suivant le degré voulu et de façon étanche contre le bord de l'ouverture 13 a, du côté de la chambre 1 Grâce à un déploiement axial commandé du bras 49 alors associé à l'ouverture 55 a, dans la chambre 3, le plateau 51 vient s'appliquer de façon étanche selon le degré voulu contre le bord d'ouverture 56 et y prend, par exemple par voie magnétique, pneumatique ou mécanique ou par gravité, la pièce qui est libérée de la pince 19 grâce à l'actionnement du coulisseau 42 selon la figure 2 Le bras 49 considéré peut
alors être rétracté.
Comme il est représenté schématiquement en 57, la chambre 3 a peut faire l'objet d'un pompage séparé, de même
que la chambre 1 et/ou 3.
Le transport de pièce dans la chambre formant sas 3 a se fait de la manière suivante: suivant les proportions voulues, obturation étanche de l'ouverture 13 a par le manchon 17, pince 19 vide; pivotement d'un bras 49 contenant une pièce, au niveau du plateau 51, dans la zone ouverte de l'ouverture 55 a; avancée axiale du plateau 51 contenant la pièce 40 et, dans des proportions voulues, obturation étanche de l'ouverture 55 a par le plateau 51; éventuellement évacuation par pompage de la chambre formant sas 3 a; pièce prise par la pince 19; retour par pivotement du dispositif de transport 18 et détachement simultané du manchon 17 du bord de l'ouverture 13 x; ou le plateau 51 vide obture de façon étanche l'ouverture 55 a, dans des proportions voulues; pivotement d'un bras 9, avec le manchon 17 et la pièce 40, au niveau de la pince 19, par l'ouverture 13 a; déploiement de la pince 19 contenant la pièce moyennant l'obturation étanche simultanée, dans des proportions voulues, de l'ouverture 13 a par le manchon 17; pièce prise par voie magnétique, pneumatique, mécanique ou par gravité, par le plateau 51 dans l'ouverture 55 a; évacuation par pompage de la chambre formant sas 3 a à l'aide de la pompe 57; rétraction du plateau 51 et nouvelle rotation du
transporteur en étoile 43.
Il ressort clairement de cette description que la
chambre 3 a peut agir comme chambre formant sas pouvant être évacuée par pompage séparément ou qui garantit, grâce à son volume très faible, une séparation atmosphérique suffisante entre les chambres 1 et 3 Si une chambre formant sas 3 a ne doit pas être prévue, la pièce peut être prise directement dans la chambre 3, de la manière représentée, sans que les plateaux 51 remplissent une fonction d'étanchéité au niveau de l'ouverture de transfert Dans l'exemple de réalisation représenté, le plateau 51 agit comme une première soupape de sas tandis que le manchon 17 agit comme une seconde soupape
de sas, au niveau de la liaison de transfert 13 a, 55 a.
Dans l'exemple de réalisation préféré représenté, l'ouverture 55 b est parailleurs conçue comme sas d'entrée/sortie Il est prévu à cet effet, comme première soupape de sas, un couvercle 57 a apte à être fermé de façon étanche au vide, par exemple à l'encontre de l'atmosphère normale, et le plateau 51 qui se trouve momentanément dans l'alignement de l'ouverture 55 b agit comme seconde soupape de
sas.
Bien que cette chambre formant sas présente elle-aussi un volume extrêmement faible, une pompe 57 peut éventuellement être raccordée, là aussi, en vue du pompage
séparé de cette chambre formant sas.
Comme il a déjà été mentionné et comme le montre la figure 1, l'ouverture 13 b de la chambre 1 est desservie de la même manière, par le manchon 17 et le dispositif de transport 18, que l'ouverture 13 a de ladite chambre 1 qui a été décrite précédemment. A l'extérieur de la chambre 1 est disposée, au niveau de cette ouverture 13 b, par exemple une chambre de traitement telle qu'une chambre de gravure ou de revêtement 52 Grâce au fait que la pièce 40 est tenue et amenée par pivotement dans la chambre de traitement 52 par la pince 19 en restant découverte pratiquement de tous les côtés, il est possible de traiter la pièce de tous les côtés, et notamment de traiter les deux surfaces de disque simultanément dans un tel poste de traitement 52, en disposant par exemple des deux côtés des électrodes en vue de la gravure au plasma des deux surfaces et/ou des sources de pulvérisation à magnétron pour le
revêtement de ces surfaces.
La figure 3 a est une représentation schématique, vue en coupe et de dessus, d'un mode de réalisation de la chambre 52 contenant deux sources de crépitement indépendantes 53 a et 53 b et des tôles de protection 55 La pièce en forme de disque 40 est introduite entre les sources 53 a et 53 b, et
elle est traitée des deux côtés par ces sources 53 a, 53 b.
Dans une chambre de ce type, on peut également procéder par exemple à un revêtement bilatéral simultané de pièces tel qu'il est connu d'après la demande DE-PS-39 31 713. Nous allons considérer dans ce qui suit des types de chambres basés sur des principes différents et avec lesquels toutes les pièces transportées tournent autour d'un axe de rotation qui est décalé par rapport auxdites pièces Il faut par ailleurs faire une distinction pour savoir si les pièces prévues en supplément dans le sens radial, dans le sens axial, ou dans les deux sens combinés, peuvent être déplacées
dans le sens radial et axial.
1 Chambre de transport rotatif dans laquelle les pièces sont transportées individuellement de façon rotative
et déplacées radialement par rapport à l'axe de rotation.
Une chambre de ce type forme une chambre 1 selon la figure 1, dans laquelle les pièces 40 sont déplacées individuellement, radialement vers les ouvertures 13, notamment grâce au mécanisme d'entraînement linéaire des bras 9. 2 Chambres de transport rotatif dans lesquelles toutes les pièces sont disposées sur un carrousel et sont déplacées individuellement, radialement par rapport à l'axe
de rotation du carrousel.
Une chambre de ce type est représentée schématiquement sur les figures 4 et 5 Dans une chambre 120 est disposé un carrousel 124 qui est monté mobile en rotation autour d'un axe A 124, suivant oe 1, et sur lequel sont montées, dans des fixations 125, des pièces comme par exemple des
pièces en forme de disques 126 du type mentionné plus haut.
Coaxialement par rapport à l'axe A 124 est prévu, monté solidaire en rotation de la chambre 120, au moins un coulisseau 128 qui se trouve dans l'alignement d'une ouverture 122 de la chambre 120, qui est mobile radialement par rapport à l'axe A 124, et à l'aide duquel une pièce 126 amenée par le carrousel dans l'alignement de l'une des ouvertures 122 à desservir, est sortie par l'ouverture 122 ou ramenée vers le carrousel 124 par cette ouverture 122 Le ou les coulisseaux 128 mobiles radialement comme l'indique 2 a peuvent éventuellement être entraînés en rotation indépendamment du carrousel 124, à l'aide d'un mécanisme d'entraînement rotatif distinct 124 m indiqué par un trait discontinu. Avec la variante de réalisation représentée schématiquement sur la figure 5, le carrousel 124 porte les pièces en forme de disques 126 de telle sorte que les surfaces de disques soient transportées de façon rotative dans des plans perpendiculaires à l'axe de rotation A 124 Les coulisseaux 128 sont conçus en conséquence, et comme dans les modes de réalisation correspondant à la figure 4, ils sont montés dans la chambre 120 en étant solidaires en rotation ou en étant entraînés en rotation indépendamment du carrousel 124 Ils desservent alors radialement des ouvertures en forme de fentes 122 a de la chambre 120 L'entraînement du carrousel 124 peut se faire par exemple, dans ce cas, de façon périphérique au bord du carrousel 124, comme il est représenté schématiquement en P. 3 Chambres de transport rotatif dans lesquelles les pièces sont d'une part transportées de façon rotative autour d'un axe qui est décalé par rapport aux pièces, et d'autre part déplacées individuellement dans un sens
parallèle à l'axe de rotation.
Une chambre de ce type est formée par la chambre 3 de la figure 1 Dans cette chambre, les pièces sont déplacées axialement, parallèlement à l'axe de rotation A 43, à l'aide
des bras 49 aptes à être déployés et rétractés axialement.
4 Chambres de transport rotatif dans lesquelles a lieu, là aussi, un déplacement de pièces axial comme dans les chambres du type 3, mais dans lesquelles le nombre de pièces transportées de façon rotative sur un carrousel est sensiblement supérieur au nombre d'organes de déplacement
axial prévus pour les pièces.
Selon les figures 6 et 7, une telle chambre 60 comporte un carrousel 124 qui est monté mobile en rotation par rapport à l'axe de rotation A 124, et sur lequel sont placées des pièces 126, par exemple en forme de disques, dont les faces se trouvent dans le plan de rotation autour de l'axe A 124 Un coulisseau 128 situé dans l'alignement d'une ou plusieurs ouvertures 122 de la chambre 60 et apte à être déployé et rétracté parallèlement à l'axe A 124 est solidaire du carter de la chambre 60, il pénètre, lorsque la pièce 126 est amenée par rotation dans l'alignement de l'ouverture 122, dans une ouverture de desserte 130 ménagée dans le carrousel 124, et il soulève, axialement par rapport à l'axe A 124, la pièce 126 en direction de l'ouverture 122 ou il la ramène sur
le carrousel 124 à partir de cette ouverture 122.
Alors que sur la figure 6, comme il a été indiqué, le ou les coulisseaux 128 sont solidaires du carter de la chambre 60, sur la figure 7, par analogie à la variante de réalisation de la figure 4, ils peuvent tourner par rapport à l'axe A 124 à l'aide d'un mécanisme rotatif distinct 124 m, indépendamment du mouvement rotatif du carrousel 124 autour du même axe Avec une autre variante de ce type de chambre, la course axiale peut être réalisée par le carrousel lui-même. 5 Chambres de transport rotatif dans lesquelles les pièces sont déplacées en rotation autour d'un axe, déplacées axialement, individuellement, par rapport à cet axe, et également déplacées radialement, toujours individuellement, par rapport à l'axe indiqué Une telle chambre est formée par une chambre 1 selon les figures 1 et 3, avec le dispositif de transport 18 Les pièces tournent d'une part autour de l'axe A 43, mais elles sont d'autre part déplacées axialement par le mécanisme d'entraînement linéaire axial des bras 49, et également déplacées radialement par rapport à l'axe A 43, grâce à l'action du dispositif de transport 18 En particulier avec la chambre citée en dernier, dans laquelle les pièces sont déplacées non seulement axialement mais aussi radialement par rapport à l'axe de rotation indiqué, c'est-à-dire dans un plan qui contient l'axe de rotation tel que A 124, il est tout à fait indiqué de prévoir un dispositif de transport pivotant comme celui qui est formé par le dispositif de transport 18 dans le
mode de réalisation des figures 1 à 3.
Il est bien évident que la réalisation d'un transport de pièces radial et axial par rapport à l'axe de rotation mentionné est également possible sur une construction de carrousel, même si elle entraîne une plus grande dépense de construction. Ce qui suit explique, en référence à la figure 8, la manière dont des chambres de ce type peuvent être réunies en combinaisons de chambres contenant au moins deux chambres, pour montrer que ces chambres peuvent être réunies de manière flexible pour construire des installations entières de traitement sous vide Aux types de chambres cités plus haut, dont le point commun est que les pièces sont transportées de façon rotative autour d'un axe de rotation, dans la chambre, viennent éventuellement s'ajouter, pour la construction
d'installations entières, d'autres types de chambres.
Pour se référer rapidement, dans ce qui suit, aux différents types de chambres, on utilisera les définitions suivantes O a) EASK: chambres formant sas dans lesquelles les
pièces passent dans les deux sens.
b) ESK: chambres formant sas dans lesquelles les
pièces ne passent que dans un sens.
c) BEAK: chambres de traitement dans lesquelles les pièces subissent un traitement de surface et
sont par exemple gravées ou recouvertes.
d) RADK: chambres à étoile rotative à desserte radiale du type 1 tel qu'il est représenté sur
les figures 1 à 3 par la chambre 1.
O e) RAKAK: chambres à carrousel à desserte radiale du type 2 tel qu'il est représenté
schématiquement sur les figures 4 et 5.
f) AXDK: chambres à étoile rotative à desserte axiale du type 3 tel qu'il est représenté sur les figures 1 à 3 par la chambre 3. g) AXKAK: chambres à carrousel à desserte axiale du type 4 tel qu'il est représenté
schématiquement sur les figures 6 et 7.
h) AXRADK: chambres à étoile rotative qui 0 permettent aussi bien une desserte axiale qu'une desserte radiale, du type 5 tel qu'il est représenté sur les figures 1 à 3 par la chambre
3 comportant un dispositif de transport.
i) TR: autres chambres de transport comportant deux ouvertures entre lesquelles les pièces sont transportées d'une manière quelconque, par
exemple d'une manière connue.
Sur la figure 8 a sont combinées deux chambres RADK 62 comportant chacune une étoile rotative 63 entraînée en rotation, formée d'au moins un bras et à desserte radiale, ce qui permet d'amener des pièces 67 d'une part dans l'ouverture de liaison 65 entre les deux chambres 62, et d'autre part dans d'autres ouvertures 69 au niveau desquelles d'autres chambres quelconques des types a) à i) peuvent être disposées. Avec cette configuration, les axes de rotation des étoiles de transport 63 sont parallèles et le transport se fait, par rapport aux deux chambres 62 représentées essentiellement dans un plan perpendiculaire aux axes de
rotation mentionnés.
Grâce aux bras mobiles radialement de l'étoile rotative, les ouvertures 65 et 69 qu'ils desservent peuvent être obturées de façon étanche ou étanche au vide suivant les besoins. Selon la figure 8 b, une chambre à étoile rotative RADK 62 à desserte radiale coopère avec une chambre à carrousel RAKAK 72 à desserte radiale Celle-ci comporte un carrousel 71 entraîné en rotation autour d'un axe et pourvu de logements 73 pour les pièces 67, et elle dessert d'un côté l'ouverture commune 65, et de l'autre côté au moins une autre ouverture 69 Dans la chambre RAKAK 72 sont prévus des coulisseaux 75 solidaires en rotation et mobiles radialement, dans l'exemple représenté, qui amènent les pièces 67 des logements 73 prévus sur le carrousel vers les ouvertures correspondantes 65, 69 ou les ramènent de celles-ci Là aussi, les pièces sont transportées dans un plan perpendiculaire aux axes de rotation de l'étoile rotative 63 et du carrousel 71 Les ouvertures 69 et 65 sont obturées de façon étanche ou étanche au vide, suivant les besoins, grâce à l'action des bras de l'étoile rotative 63 et à celle des coulisseaux 75 D'autres chambres des types a) à i) peuvent
être disposées, là aussi, au niveau des ouvertures 69.
On peut voir clairement qu'une chambre à étoile rotative 62 selon la figure 8 b peut être remplacée par une seconde chambre à carrousel RAKAK 72 à desserte radiale, ce qui forme une combinaison de deux chambres RAKAK analogue à la configuration représentée sur la figure 8 a pour des
chambres à étoile rotative.
Sur la figure 8 c, une chambre à étoile rotative RADK 62 à desserte radiale est combinée avec une chambre à étoile rotative AXDK 80 à desserte axiale Celle-ci comporte une étoile rotative 81 sur laquelle sont disposés des coulisseaux 82 mobiles axialement Les bras mobiles radialement de l'étoile rotative 63 et les coulisseaux 82 mobiles axialement prévus sur l'étoile rotative 81 permettent la desserte de l'ouverture de chambre 65, et les étoiles rotatives correspondantes 63 et 81 permettent la desserte d'autres ouvertures 69 ménagées dans les chambres 80 et 62 et au niveau desquelles d'autres chambres des types a) à i) peuvent être installées Comme on peut le voir, un transport de pièces est réalisé ici dans deux plans perpendiculaires Les bras de l'étoile rotative 63 et les coulisseaux de l'étoile rotative 81 peuvent obturer de façon étanche, et éventuellement étanche au vide, suivant les exigences,
l'ouverture 65 et les ouvertures 69.
Il est bien évident que sur la figure 8 c, on peut disposer à la place d'une chambre à étoile rotative RADK 62 à action radiale une chambre à carrousel RAKAK 72 à action
identique.
Au lieu de la chambre à étoile rotative AXDK 80 à action axiale de la figure 8 c, une chambre à carrousel AXKAK à action axiale est prévue sur la figure 8 d Elle comprend un carrousel 87 par exemple en forme de disque et comportant des logements de pièces 89 Des coulisseaux 88 mobiles axialement et situés dans l'alignement de l'ouverture 65 ou des ouvertures 69 soulèvent du carrousel des pièces contenues dans les fixations de pièces 89 pour les amener vers les ouvertures, ou les ramènent dans ces fixations 89 Là aussi, le transport des pièces se fait dans deux plans perpendiculaires Suivant les besoins, les bras de l'étoile rotative 63 et les coulisseaux 88 peuvent obturer de façon étanche ou étanche au vide les ouvertures 65 et 69 De même, d'autres chambres des types a) à i) peuvent être raccordées
aux ouvertures 69.
La figure 8 d montre clairement que la chambre à étoile rotative RADK 62 à action radiale peut être remplacée par une chambre à carrousel RAKAK 72 à action radiale selon
la figure 8 b.
La figure 8 e montre une configuration formée d'une chambre à étoile rotative RADK 62 à action radiale et d'une chambre à étoile rotative AXRADK 90 à action axiale et radiale Cette dernière comporte une étoile rotative 91 formée de bras 93 qui sont aptes à être déployés radialement unilatéralement et sur lesquels sont montés des coulisseaux
aptes à être déployés et rétractés axialement.
Si on compare ce mode de réalisation à celui de la figure 8 c, dans lequel il est prévu des coulisseaux 82 mobiles uniquement axialement, il se dégage un avantage sensible de la configuration selon la figure 8 e En effet, alors que le diamètre de la chambre 80 de la figure 8 c doit être dimensionné, par rapport à l'axe de rotation de l'étoile 81, pour que l'ouverture 65 puisse être desservie par un déplacement axial des coulisseaux 82, il est possible, dans le mode de réalisation de la figure 8 e, de ne choisir pour la chambre 90 par rapport à l'axe de rotation de l'étoile 91 qu'un diamètre permettant la desserte des ouvertures 69 Il n'y a que dans une position de rotation de l'étoile rotative 91, par exemple, que le bras 93 correspondant peut être déployé radialement pour desservir l'ouverture 65 grâce à un déplacement axial consécutif Il devient ainsi possible, comme il est indiqué en 97 par un trait discontinu, de desservir l'ouverture 65 par l'intermédiaire d'une chambre intermédiaire grâce à laquelle le diamètre de la chambre 90 par rapport à l'axe de rotation de l'étoile 91 ne dépasse que
dans une position angulaire, comme il a été indiqué.
En ce qui concerne l'obturation étanche des ouvertures 69 et 65, les explications relatives aux figures 8 a à d sont également valables Il faut par ailleurs souligner le fait que les déplacements de transport axiaux et radiaux au niveau de la chambre 90 peuvent se faire suivant différentes variantes, par exemple grâce à l'insertion de moyens de transport supplémentaires comme par exemple, et de préférence, le dispositif de transport pivotant 18 dans le
mode de réalisation des figures 1 à 3.
Il apparaît clairement que dans le mode de réalisation de la figure 8 e, on peut prévoir au lieu d'une chambre à couronne rotative RADK 62 à action radiale, une chambre à carrousel RAKAK 72 à action radiale selon la figure 8 b. La figure 8 f représente la combinaison de deux chambres à étoile rotative AXDK 80 à desserte axiale Le fonctionnement apparaît clairement Cette figure montre par ailleurs, à l'aide de traits discontinus, que des coulisseaux 82 mobiles axialement peuvent être disposés par paires 82 a et 82 b, de sorte que des ouvertures 69 disposées des deux côtés du plan de rotation peuvent être desservies par de tels coulisseaux et avec la même étoile rotative La même technique peut bien évidemment être appliquée également selon la figure 8 e pour des étoiles rotatives AXRADK à avance
radiale et axiale.
Comme on peut le voir clairement, il est tout à fait possible, avec l'agencement de la figure 8 f, de prévoir à la place de l'une des chambres AXDK 80, une chambre AXKAK 85 selon la figure 8 d On peut voir également qu'il est tout à fait possible d'accoupler deux chambres AXKAK comme la chambre 85 de la figure 8 d On peut aussi prévoir une chambre AXRADK 90 selon la figure 8 e avec une chambre AXDK 80 selon la figure 8 c, par exemple Une autre possibilité consiste à combiner une chambre AXKAK 85 selon la figure 8 d avec une
chambre AXRADK 90 selon la figure 8 e.
Si, dans le cas des combinaisons de chambres mentionnées et décrites, les différentes chambres doivent faire l'objet d'un conditionnement distinct, il va de soi que des branchements de pompe et éventuellement des orifices
d'admission de gaz sont prévus vers les différentes chambres.
Les combinaisons de chambres décrites permettent d'assembler de f açon modulaire des installations entières extrêmement compactes dont la faible distance de transport et
les cycles de transport courts sont optimaux.
Le procédé et les installations décrits conviennent en particulier pour le traitement de disques de mémoires magnétiques comme par exemple des disques compacts ou des
disques durs.

Claims (17)

REVENDICATIONS
1 Chambre pour une installation sous vide, comportant au moins une ouverture ( 13 x) pour le passage de pièces ( 40), notamment de pièces en forme de disques telles que des disques de mémoires, lors de leur traitement, et un mécanisme de transport mobile ( 7) pour au moins une pièce, caractérisée en ce qu'il est prévu, au niveau du mécanisme de transport ( 7), au moins un dispositif de transport ( 18) qui est pourvu d'une fixation ( 19) pour au moins une pièce ( 40) dans un plan perpendiculaire à la surface de l'ouverture ( 13 x), et qui est monté de façon pivotante de telle sorte que la fixation ( 19) amenée par le mécanisme de transport ( 7) dans la zone de l'ouverture ( 13 x) puisse pivoter complètement
par l'ouverture ( 13 x).
2 Chambre selon la revendication 1, caractérisée en ce que la fixation ( 19) est conçue en forme de pince et est de préférence apte à être commandée ( 42, 43) pour saisir
et libérer une pièce.
3 Chambre selon l'une quelconque des
revendications 1 ou 2, caractérisée en ce qu'un palier de
pivotement ( 26) prévu pour le dispositif de transport ( 18) est mobile linéairement, perpendiculairement à la surface de
l'ouverture ( 13 x).
4 Chambre selon la revendication 3, caractérisée en ce que le dispositif de transport ( 18) pivote grâce à
l'entraînement linéaire de son palier de pivotement.
Chambre selon l'une quelconque des
revendications 1 à 4, pour des pièces en forme de plaques,
caractérisée en ce que la fixation est disposée par rapport au palier de pivotement (A 19) de telle sorte que les surfaces d'une pièce ( 40) retenue par la fixation ( 19) se trouvent dans un plan de pivotement et que le diamètre de l'ouverture soit de préférence sensiblement plus long dans le plan de
pivotement que dans le sens de l'axe de pivotement (A 19).
6 Chambre selon l'une quelconque des
revendications 1 à 5, caractérisée en ce que le mécanisme de
transport ( 7) comporte au moins un bras ( 9) apte à être déployé linéairement vers 1 'ouverture et rétracté à partir de celle-ci, et apte à pivoter dans une position située dans l'alignement de l'une des ouvertures ( 13 a, b), et en ce que le dispositif de transport ( 18) est monté à l'extrémité du
bras située côté ouverture.
7 Chambre selon la revendication 6, caractérisée en ce que l'extrémité du bras ( 9) située côté ouverture forme le mécanisme d'entraînement linéaire pour le palier de pivotement du dispositif de transport ( 18) et, quand elle est déployée, obture de préférence de façon étanche, et de
préférence étanche au vide, l'ouverture ( 13 a, b).
8 Chambre selon l'une quelconque des
revendications 1 à 7, caractérisée en ce qu'une chambre
formant sas, une chambre de transport ou un poste de traitement pour les pièces est disposé au niveau de l'une au
moins des ouvertures de la chambre.
9 Chambre selon l'une quelconque des
revendications 1 à 8, caractérisée en ce qu'il est prévu, au
niveau de l'ouverture ( 13 b), un poste de traitement dans lequel une pièce ( 40) amenée par pivotement par rapport à l'axe (A 19) par le dispositif de transport ( 18) est traitée, par exemple gravée ou recouverte, des deux côtés ou de tous
les côtés.
10 Combinaison de chambres comprenant une chambre
selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, caractérisée
en ce qu'il est prévu, au niveau de l'ouverture de cette chambre, une seconde chambre ( 3) dans laquelle est prévu, monté en rotation, un second mécanisme de transport ( 43) pour au moins une pièce ( 40), qui comporte un axe de rotation (A 43) parallèle à l'axe de pivotement (A 19) du dispositif de
transport ( 18).
11 Combinaison selon la revendication 10, caractérisée en ce que le second mécanisme de transport ( 43) comporte une multiplicité de fixations ( 51) pour les pièces ( 40) qui sont aptes à tourner ensemble autour de l'axe de rotation (A 43), sensiblement dans le plan de pivotement du
dispositif de transport ( 18).
12 Combinaison selon l'une quelconque des
revendications 10 ou 11, caractérisée en ce que le second
mécanisme de transport ( 43) comprend au moins un, et de préférence au moins deux bras ( 49) qui sont disposés sur une surface cylindrique autour de l'axe de rotation (A 43) et sont aptes à être déployés et rétractés axialement, et à l'extrémité desquels est disposée une fixation ( 51) pour au
moins une pièce ( 40).
13 Combinaison selon l'une quelconque des
revendications 10 à 12, caractérisée en ce qu'au moins une
ouverture ( 55) ménagée dans la seconde chambre ( 3) présente une normale superficielle parallèle à l'axe de rotation (A 43)
du mécanisme de transport ( 43).
14 Combinaison selon l'une quelconque des
revendications 10 à 13, caractérisée en ce que le second
mécanisme de transport ( 43) comporte au moins un plateau ( 51) apte à être déployé et rétracté axialement et pourvu d'une fixation pour au moins une pièce ( 40), en ce que l'une au moins des ouvertures ( 55) de la seconde chambre ( 3) définit une normale superficielle sensiblement parallèle à l'axe de rotation (A 43) du second mécanisme de transport ( 43), et en ce que le plateau ( 51) peut être amené dans l'alignement de cette ouverture ( 55) grâce à une rotation du second mécanisme de transport ( 43) et, grâce à son déploiement, obture cette ouverture de préférence de façon étanche, et de préférence
étanche au vide.
Combinaison selon la revendication 14, caractérisée en ce que l'une ( 55 b) au moins des ouvertures peut être obturée de façon étanche au vide à l'aide d'un obturateur ( 57 a) extérieur à la chambre servant de soupape de sas, et définit, avec un plateau ( 51) posé sur elle comme seconde soupape de sas, une chambre formant sas, étant précisé qu'un branchement de pompe est de préférence prévu au niveau de la chambre ( 3) et/ou au niveau de l'ouverture
( 55 b), entre l'obturateur ( 57 a) et le plateau ( 51) déployé.
16 Combinaison selon l'une quelconque des
revendications 10 à 15, caractérisée en ce qu'il est prévu,
raccordée à l'une au moins des ouvertures de la seconde chambre, une chambre formant sas, une chambre de transport comportant au moins deux ouvertures ou une chambre de traitement pour les pièces telle qu'une chambre de gravure ou
de revêtement.
17 Combinaison selon la revendication 13, caractérisée en ce que l'ouverture forme, avec la normale superficielle parallèle à l'axe de rotation, la liaison avec une chambre ( 1) et qu'il est prévu, entre elles, une chambre ( 3 a) agissant comme chambre intermédiaire formant sas et
éventuellement pourvue d'un branchement de pompe.
18 Procédé pour transférer au moins une pièce en forme de plaque par une ouverture, à l'intérieur d'une installation de traitement sous vide, à partir d'une trajectoire de transport annulaire fixe, caractérisé en ce que la pièce passe radialement par rapport à la trajectoire
de transport annulaire.
19 Procédé selon la revendication 18, caractérisé en ce que les surfaces de la pièce sont disposées dans des plans perpendiculaires à l'axe de rotation de la trajectoire
de transport.
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2644912B2 (ja) * 1990-08-29 1997-08-25 株式会社日立製作所 真空処理装置及びその運転方法
DE4117969C2 (de) * 1991-05-31 2000-11-09 Balzers Ag Liechtenstein Vakuumkammer
CH691377A5 (de) * 1992-10-06 2001-07-13 Unaxis Balzers Ag Kammeranordnung für den Transport von Werkstücken und deren Verwendung.
JP4653263B2 (ja) * 1996-12-23 2011-03-16 オー・ツェー・エリコン・バルザース・アクチェンゲゼルシャフト 真空処理装置
US6413381B1 (en) 2000-04-12 2002-07-02 Steag Hamatech Ag Horizontal sputtering system
US6264804B1 (en) 2000-04-12 2001-07-24 Ske Technology Corp. System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system
TW201134971A (en) * 2010-04-14 2011-10-16 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Sputtering bracket and sputtering machine
US9920418B1 (en) * 2010-09-27 2018-03-20 James Stabile Physical vapor deposition apparatus having a tapered chamber

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2143494A (en) * 1981-02-13 1985-02-13 Lam Res Corp Improvements in or relating to workpiece transfer means for loadlocks
DE3912295A1 (de) * 1989-04-14 1990-10-18 Leybold Ag Katodenzerstaeubungsanlage
DE4110490A1 (de) * 1991-03-30 1992-10-01 Leybold Ag Kathodenzerstaeubungsanlage

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3968885A (en) * 1973-06-29 1976-07-13 International Business Machines Corporation Method and apparatus for handling workpieces
JPS5350224Y2 (fr) * 1973-09-25 1978-12-01
US4047624A (en) * 1975-10-21 1977-09-13 Airco, Inc. Workpiece handling system for vacuum processing
US4187051A (en) * 1978-05-26 1980-02-05 Jerry Kirsch Rotary video article centering, orienting and transfer device for computerized electronic operating systems
GB2054345B (en) * 1979-06-19 1984-02-22 Peanuts Ltd Q Fluidised bed
JPS605509A (ja) * 1983-06-24 1985-01-12 Hitachi Ltd 分子線エピタキシ装置
US4620359A (en) * 1983-11-14 1986-11-04 Charlton Associates Apparatus for manufacturing rigid computer memory disc substrates
US4915564A (en) * 1986-04-04 1990-04-10 Materials Research Corporation Method and apparatus for handling and processing wafer-like materials
EP0246453A3 (fr) * 1986-04-18 1989-09-06 General Signal Corporation Système de gravure par plasma à traitement multiple et sans contamination
US4670126A (en) * 1986-04-28 1987-06-02 Varian Associates, Inc. Sputter module for modular wafer processing system
GB8709064D0 (en) * 1986-04-28 1987-05-20 Varian Associates Wafer handling arm
JPH0687777B2 (ja) * 1986-07-08 1994-11-09 第一化学薬品株式会社 ３α―ヒドロキシステロイドオキシダーゼ組成物及びこれを用いる３α―ヒドロキシステロイドの定量法
US4886412A (en) * 1986-10-28 1989-12-12 Tetron, Inc. Method and system for loading wafers
US4778332A (en) * 1987-02-09 1988-10-18 The Perkin-Elmer Corporation Wafer flip apparatus
DE3716498C2 (de) * 1987-05-16 1994-08-04 Leybold Ag Vorrichtung zum Ein- und Ausschleusen von Werkstücken in eine Beschichtungskammer
US5310410A (en) * 1990-04-06 1994-05-10 Sputtered Films, Inc. Method for processing semi-conductor wafers in a multiple vacuum and non-vacuum chamber apparatus
JP2986121B2 (ja) * 1991-03-26 1999-12-06 東京エレクトロン株式会社 ロードロック装置及び真空処理装置
US5482607A (en) * 1992-09-21 1996-01-09 Nissin Electric Co., Ltd. Film forming apparatus

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2143494A (en) * 1981-02-13 1985-02-13 Lam Res Corp Improvements in or relating to workpiece transfer means for loadlocks
DE3912295A1 (de) * 1989-04-14 1990-10-18 Leybold Ag Katodenzerstaeubungsanlage
DE4110490A1 (de) * 1991-03-30 1992-10-01 Leybold Ag Kathodenzerstaeubungsanlage

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GB2271542A (en) 1994-04-20
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GB2271542B (en) 1996-05-22
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GB9320451D0 (en) 1993-11-24

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