FR2674455A1 - Procede et dispositif pour soumettre des particules a un traitement sous vide dans un milieu liquide. - Google Patents
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Abstract
La description porte sur un procédé pour le traitement sous vide dans un milieu liquide d'une matière particulaire telle qu'un produit alimentaire. Le traitement sous vide est effectué, par lots, dans un réservoir à vide (1, 21); l'admission et l'évacuation de la matière ainsi que le transport dans le réservoir à vide (1, 21) sont tels que le traitement, bien que par lots, puisse suivre ou précéder un autre traitement continu ou être intercalé entre de tels traitements. La demande concerne également un dispositif pour l'exécution du procédé.
Description
Procédé et dispositif pour soumettre des particules à un
traitement sous vide dans un milieu liquide.
traitement sous vide dans un milieu liquide.
La présente invention concerne en premier lieu un procédé pour soumettre des particules d'une matière particulaire, en particulier un produit alimentaire, par lots, à un traitement sous vide dans un milieu liquide, suivant lequel la matière particulaire est introduite dans un réservoir à vide, le réservoir à vide est fermé, ce réservoir à vide est rempli de liquide de manière telle qu'une partie de ce réservoir à vide reste dépourvue de liquide tout en garantissant que toutes les particules de la matière particulaire à traiter soient entièrement enrobées de liquide, le réservoir à vide est amené sous une dépression (vide) souhaitée et cette dépression est maintenue pendant un temps sélectionné, le réservoir à vide est ramené à la pression atmosphérique et est ouvert, le liquide est éliminé et la matière particulaire traitée est évacuée du réservoir à vide.
Un tel procédé est généralement connu et est utilisé, par exemple, pour le traitement sous vide en milieu aqueux de champignons, afin de remplir d'eau les pores de ces champignons, ce qui est souhaitable pour des opérations à exécuter ultérieurement.
Le traitement sous vide peut être utilisé dans tous les cas dans lesquels le remplissage des pores d'une matière particulaire poreuse au moyen de liquide est souhaité, mais cette application n'est pas limitée aux produits alimentaires et le choix du liquide à utiliser n'est pas limité à l'eau. I1 est également possible d'utiliser des solutions aqueuses, des solvants organiques et des solutions semblables selon les besoins. Du fait que le procédé décrit ci-dessus est effectué par lots, son couplage avec des opérations se déroulant par ailleurs de façon continue suscite des difficultés et ne peut être réalisé que par la formation de réserves importantes de matières particulaires ayant subi le traitement sous vide, ce qui n'est pas favorable à la qualité.
La présente invention a pour but d'apporter une solution au problème en question et est, à cet effet, caractérisée par l'exécution d'un cycle d'opérations, dans lequel
- une première réserve tampon de matière particulaire est formée;
- de la matière particulaire est introduite depuis la première réserve tampon dans le réservoir à vide jusqu'à ce qu'une quantité prédéterminée soit atteinte;
- le traitement sous vide est effectué;
- après retour à la pression atmosphérique et ouverture du réservoir à vide, la matière particulaire en est évacuée et forme une seconde réserve tampon;;
- la matière particulaire est soustraite de la seconde réserve tampon à l'aide de moyens d'évacuation ayant un effet d'étalement, de manière telle qu'un flux uniforme dans le temps de matière particulaire soit obtenu et que les opérations de remplissage et de fermeture du réservoir à vide, de traitement sous vide, d'ouverture de réservoir à vide, d'évacuation de la matière particulaire pour former la seconde réserve tampon et de soustraction de matière particulaire de cette réserve soient mutuellement accordées pour que, à l'instant du cycle d'opérations auquel la dernière particule de la matière particulaire est soustraite de la seconde réserve tampon, l'évacuation de matière particulaire traitée hors du réservoir à vide commence pour former une nouvelle seconde réserve tampon et que le cycle d'opérations soit répété aussi longtemps qu'un flux uniforme de matière particulaire ayant subi le traitement sous vide est souhaité.
- une première réserve tampon de matière particulaire est formée;
- de la matière particulaire est introduite depuis la première réserve tampon dans le réservoir à vide jusqu'à ce qu'une quantité prédéterminée soit atteinte;
- le traitement sous vide est effectué;
- après retour à la pression atmosphérique et ouverture du réservoir à vide, la matière particulaire en est évacuée et forme une seconde réserve tampon;;
- la matière particulaire est soustraite de la seconde réserve tampon à l'aide de moyens d'évacuation ayant un effet d'étalement, de manière telle qu'un flux uniforme dans le temps de matière particulaire soit obtenu et que les opérations de remplissage et de fermeture du réservoir à vide, de traitement sous vide, d'ouverture de réservoir à vide, d'évacuation de la matière particulaire pour former la seconde réserve tampon et de soustraction de matière particulaire de cette réserve soient mutuellement accordées pour que, à l'instant du cycle d'opérations auquel la dernière particule de la matière particulaire est soustraite de la seconde réserve tampon, l'évacuation de matière particulaire traitée hors du réservoir à vide commence pour former une nouvelle seconde réserve tampon et que le cycle d'opérations soit répété aussi longtemps qu'un flux uniforme de matière particulaire ayant subi le traitement sous vide est souhaité.
En travaillant avec une première réserve tampon à partir de laquelle le réservoir à vide est rempli et une seconde réserve tampon en aval du réservoir à vide, on peut, en accordant les opérations de remplissage du réservoir à vide, d'exécution du traitement sous vide et de formation de la seconde réserve tampon, obtenir que de la seconde réserve tampon soit soustrait un flux uniforme de matière particulaire qui peut être directement introduit dans un processus ultérieur exécuté de manière continue.
Par ailleurs, le procédé conforme à l'invention peut, du fait de la présence d'un réservoir pour recueillir la première réserve tampon, être disposé en aval d'un procédé préalable qui fournit un flux continu de matière particulaire.
Enfin, le procédé conforme à l'invention, suivant lequel un procédé opérant en principe par lots, est transformé en un procédé qui rend possible la réception d'un flux continu et fournit également la matière particulaire sous forme d'un flux continu, peut être appliqué à titre de maillon intermédiaire entre un procédé continu fournissant de la matière particulaire qui est soumise au traitement sous vide par le procédé conforme à l'invention et qui est ensuite évacuée sous forme d'un flux continu et, si on le souhaite, transférée à une opération ultérieure continue.
En particulier, la matière particulaire est répartie sur la surface de la section efficace du réservoir à vide, dans lequel le traitement sous vide est effectué, à l'aide de moyens de répartition et l'admission de matière particulaire à partir de la première réserve tampon est arrêtée lorsqu'une quantité, en substance uniforme, de la matière particulaire à traiter, est présente sur l'ensemble de la surface de la section efficace du réservoir à vide.
Ces moyens de répartition rendent possible l'obtention d'une répartition uniforme sur la surface de la section efficace du réservoir à vide; en outre, ils permettent une évacuation rapide de la matière particulaire hors du réservoir à vide après le traitement sous vide dans un milieu liquide. Comme expliqué ci-après, dans une forme de réalisation attrayante, les moyens de répartition sont constitués par une bande sans fin qui permet une répartition excellente sur la surface de la section et rend possible une évacuation rapide.
L'invention concerne également un dispositif pour soumettre, par lots, des particules d'une matière particulaire, en particulier d'un produit alimentaire, à un traitement sous vide dans un milieu liquide, comprenant un réservoir à vide résistant au vide comportant un ou plusieurs couvercles pouvant être fermés de manière étanche au vide, des moyens d'alimentation pour le remplissage du réservoir à vide au moyen de matière à traiter et de liquide et des moyens d'évacuation pour la vidange du réservoir à vide et raccordement au moyen duquel le réservoir à vide peut être raccordé à des moyens engendrant le vide.
Un tel dispositif est généralement connu et est utilisé, par exemple, pour le traitement sous vide, dans un milieu liquide, de champignons ou d'autres légumes, en général des produits alimentaires.
Le dispositif peut cependant être utilisé, de manière générale, pour le traitement sous vide dans un milieu liquide, d'une manière particulaire afin d'en remplir les pores au moyen du liquide présent pour conférer à ces particules certaines propriétés qui sont en relation avec l'interaction entre les particules et le liquide en question.
Le dispositif envisagé fonctionne, en principe, par lots, de sorte que son installation en aval d'une opération continue ou en amont d'une opération continue suscite des difficultés.
La présente invention a pour but de procurer un dispositif du type précité qui puisse être installé sans difficulté en aval d'un dispositif fonctionnant de manière continue, qui puisse être raccordé à un dispositif fonctionnant de manière continue ou qui puisse être monté entre deux dispositifs fonctionnant de manière continue.
Conformément à l'invention, un tel dispositif est caractérisé par le fait que les moyens d'alimentation pour le remplissage du réservoir à vide au moyen de matière particulaire à traiter et les moyens d'évacuation pour la vidange de ce réservoir à vide peuvent coopérer avec des moyens de répartition pour la matière particulaire, qui sont présents dans le réservoir à vide, tandis que le réservoir à vide est suivi de moyens d'évacuation qui comportent au moins une partie de fonction tampon permettant d'obtenir un flux uniforme dans le temps de matière particulaire ayant subi le traitement sous vide et que des moyens de réglage sont présents pour accorder mutuellement le remplissage du réservoir à vide, l'opération de traitement sous vide, la vidange du réservoir à vide et l'évacuation de la matière particulaire.
Grâce à la combinaison de moyens d'alimentation, de moyens de répartition dans le réservoir à vide et de moyens d'évacuation à fonction tampon coopérants, le tout avec un réglage assuré par des moyens de réglage, on obtient de pouvoir prélever du dispositif pour le traitement sous vide dans un milieu liquide d'une matière particulaire, un flux uniforme de matière particulaire qui peut être introduit directement dans un dispositif fonctionnant de manière continue placé en aval.
Un tel dispositif peut être formé, par exemple dans le cas des champignons, par un dispositif dans lequel les champignons subissent un traitement thermique dans un milieu liquide, en l'occurrence un dispositif à blanchir.
En particulier, les moyens destinés à remplir le réservoir à vide sont, dans le dispositif conforme à l'invention, formés par un réservoir tampon qui peut être rempli d'un liquide contenant les particules de la matière particulaire et des moyens d'alimentation permettant d'amener une charge de matière particulaire depuis le réservoir tampon dans le réservoir à vide.
Les moyens d'alimentation décrits ci-dessus comportent au moins une bande sans fin, tandis que le réservoir tampon contient des moyens destinés à susciter une circulation de liquide qui est orientée vers la surface de transport de la bande sans fin.
Une telle bande sans fin est avantageusement pourvue d'éléments d'entraînement pour les particules, par exemple des séparations qui servent à entraîner les particules depuis un endroit situé en dessous de la surface du liquide dans le réservoir tampon pour les transporter jusqu'au-dessus du niveau d'équilibre du liquide et les lâcher ensuite dans le réservoir à vide. Si les particules ont un poids spécifique relativement faible, elles peuvent flotter ou être en suspension dans le liquide; afin d'accroître leur chance d'être entraînées par la bande sans fin, il est intéressant de prévoir une circulation de liquide orientée vers la surface transporteuse de la bande pour transporter les particules à l'intérieur du réservoir tampon vers la bande sans fin. Les moyens de répartition présents dans le réservoir à vide peuvent être de divers types.Il s'agit avantageusement d'une bande sans fin au moyen de laquelle la matière introduite dans le réservoir à vide est répartie sur l'ensemble de sa surface de section.
Les particules à traiter sont admises au début de la bande.
La bande commence à avancer et s'arrête lorsque les particules admises en premier lieu ont atteint la fin d'un réservoir à vide qui est, par exemple, oblong.
En fait, le réservoir à vide ne doit pas nécessairement être oblong; à condition de prévoir des moyens de répartition appropriés, on peut également utiliser, si on le souhaite, un réservoir à vide d'une autre forme. Dans le dispositif conforme à l'invention, la bande sans fin s'étend avantageusement sur toute la surface de section efficace du réservoir à vide et des moyens d'entraînement pour la bande sans fin sont présents, de même que des moyens de réglage pour ceux-ci qui permettent une répartition de la matière particulaire, en fonction de l'admission de matière particulaire à partir du réservoir tampon.En général, la bande sans fin se déplacera à vitesse uniforme dès la première admission de particules à traiter et elle s'arrêtera lorsque les particules admises en premier lieu auront atteint la fin du trajet parcouru par la bande pour une épaisseur de couche prédéfinie de la matière particulaire sur la bande.
Les moyens d'évacuation, qui sont présents pour transporter les particules après leur traitement sous vide et leur évacuation hors du réservoir à vide, comportent au moins une partie assurant une fonction tampon et, en particulier, une cuve à remplir de liquide qui fait suite au réservoir à vide et dans laquelle les particules de la matière particulaire ayant subi le traitement sous vide peuvent être reçues, des moyens de transport étant prévus dans la cuve pour répartir une réserve tampon de matière particulaire qui est évacuée hors du réservoir à vide. Les moyens de transport comportent avantageusement une ou plusieurs bandes sans fin et plus avantageusement deux bandes sans fin qui peuvent être entraînées à des vitesses différentes telles que la bande la plus éloignée du côté d'évacuation du réservoir à vidé ait la vitesse la plus élevée.
En utilisant deux bandes sans fin qui transportent à des vitesses différentes, il est acquis que la première bande soustrait des particules à la seconde réserve tampon, tandis que la seconde bande qui se déplace à vitesse plus grande assure un étalement supplémentaire dans le temps pour donner effectivement un flux d'évacuation en substance continu de particules ayant subi le traitement sous vide.
Si les particules ont acquis un poids spécifique supérieur sous l'effet du traitement sous vide dans le liquide, il peut arriver que ces particules descendent dans le liquide contenu dans la cuve, de sorte qu'elles sont aisément entraînées par la ou les bandes sans fin.
Il est avantageux de créer encore dans la cuve une circulation de liquide qui est dirigée à partir du côté d'évacuation du réservoir à vide pour donner, de cette façon, également un effet de transport dans la cuve.
Les moyens de réglage associés au dispositif conforme à l'invention sont, de préférence, des unités de réglage logiques programmables (PLC) pour commander le fonctionnement des divers éléments du dispositif, conformément à un programme de travail prédéterminé.
L'invention sera davantage expliquée avec référence aux dessins annexés, dans lesquels
la Fig. 1 est une vue schématique en élévation de côté d'un dispositif conforme à l'invention, et
la Fig. 2 est une vue en plan du dessus du dispositif de la Fig. 1.
la Fig. 1 est une vue schématique en élévation de côté d'un dispositif conforme à l'invention, et
la Fig. 2 est une vue en plan du dessus du dispositif de la Fig. 1.
Le réservoir à vide faisant partie du dispositif conforme à l'invention est indiqué en 1, tandis que par 2 et 3 sont indiqués des couvercles prévus, respectivement, pour le remplissage et la vidange du réservoir à vide. Le réservoir à vide est, dans ce cas, un réservoir à vide oblong; les couvercles sont montés aux deux extrémités.
En 4 est indiqué un dispositif à faire le vide, qui est raccordé par la conduite 5 à l'intérieur du réservoir à vide 1.
Le couvercle 2 recouvre, dans ce cas, le réservoir à vide. Lorsque le couvercle pivote autour d'une charnière montée à sa partie inférieure, ce couvercle adopte une position oblique qui permet de guider la matière particulaire, transportée à l'aide de la bande sans fin 7 décrite plus loin jusqu'à l'intérieur du réservoir à vide.
En 6 est indiqué un réservoir tampon qui peut être rempli de liquide et dans lequel est installée une bande sans fin 7 présentant une surface 9 et des séparations d'entraînement 8 qui assurent le transport de la matière particulaire à traiter jusqu'au-dessus de la surface du liquide dans le réservoir 6. En 14 sont indiqués des moyens de pompage qui aspirent du liquide au dos de la surface de bande poreuse 9 et le transportent dans le sens indiqué par les flèches pour créer à l'intérieur du réservoir tampon 6 une circulation dans le sens des flèches 17, donc dirigée vers la surface transporteuse 9 de la bande sans fin 7. Les particules entraînées par la bande 7 à l'aide des séparations 8, qui sont par exemple des champignons, tombent, lorsqu'elles ont quitté la bande, sur le couvercle 2, dans sa position oblique, et pénètrent dans le réservoir à vide 1.
Dans le réservoir à vide 1 est présente une bande sans fin, qui est indiquée en 10, une petite partie de la paroi étant arrachée à cet effet. La bande sans fin 10 transporte les particules introduites, dans le sens indiqué par la flèche. Le transport s'arrête lorsque les premières particules introduites en 2 ont atteint l'extrémité située en 3 du réservoir à vide 1 et forment sur la bande une épaisseur de couche déterminée.
Les couvercles 2 et 3 sont alors fermés et du liquide est introduit à l'intérieur du réservoir à vide 1 jusqu'à ce qu'un certain niveau prédéterminé soit atteint.
Ce niveau est choisi tel qu'un petit espace à l'intérieur du réservoir à vide reste exempt de liquide; en outre le niveau sera situé au-dessus d'une plaque filtrante présente dans le réservoir à vide 1, qui est destinée à assurer que des particules flottant éventuellement sur le liquide soient en tout cas entièrement enrobées de liquide.
Lorsqu'un niveau présélectionné de liquide a été atteint, les moyens engendrant le vide 4 sont mis en fonctionnement et le réservoir à vide est amené sous une certaine dépression par l'intermédiaire de la conduite 5.
Sous l'effet de cette dépression, l'air présent dans les pores des particules sera éliminé et sera remplacé par du liquide à ce moment ou lors du retour du réservoir à la pression atmosphérique.
Lorsque les particules ont subi le traitement sous vide, le liquide est éliminé du réservoir à vide et au moins le couvercle 3 est ouvert pour permettre l'évacuation des particules ayant subi le traitement sous vide vers la cuve 11. Dans la partie d'extrémité de la cuve 11 située près du couvercle 3, les particules forment une seconde réserve tampon dont sont soustraites, à l'aide de la bande sans fin 12, des particules qui sont ensuite reprises par une bande 13 se déplaçant à vitesse plus élevée qui décharge les particules dans la goulotte d'évacuation 16 qui peut, par exemple, être raccordée à un dispositif fonctionnant de manière continue, monté en aval du dispositif à vide, par exemple à un dispositif à blanchir des légumes tels que des champignons.
Dans la cuve 11 se trouve un liquide qui peut être le même que le liquide du réservoir; il est avantageux de susciter, dans la cuve, une circulation de liquide qui favorise le transport des particules traitées en direction de la goulotte d'évacuation 16.
En 15 est indiquée une unité de réglage logique programmable qui assure la commande et le réglage des moyens engendrant le vide 4, des moyens d'actionnement 18 et 19 prévus respectivement pour les couvercles 2 et 3, des moyens de commande des bandes sans fin 12 et 13, des moyens de commande de la bande sans fin 10, des moyens de commande de la bande sans fin 7 dans le réservoir tampon 6, etc.
La Fig. 2 est une vue en plan du dessus du dispositif de la Fig. 1. Le réservoir à vide est indiqué en 21, les couvercles en 22 et 23, les moyens engendrant le vide en 24 et la conduite de vide en 25. Le réservoir tampon destiné à la première réserve tampon de matière particulaire est indiqué en 26, la bande sans fin en 27 et les séparations prévues sur cette bande en 28. En 29 est indiquée une cuve qui peut, à l'aide de moyens de pompage 30, susciter une circulation de liquide dans la cuve 31 dans laquelle se trouvent les bandes sans fin mentionnées à propos de la Fig. 1.
En 33 est indiquée schématiquement l'unité de réglage logique programmable qui assure la commande et le réglage du fonctionnement des divers éléments qui font partie du dispositif, tandis que la boîte de commande électrique de l'ensemble du dispositif est indiquée en 34.
La goulotte d'évacuation, par laquelle le flux continu de particules traitées est évacué hors du dispositif, est indiquée en 32.
On trouvera ci-après quelques données concernant un dispositif conforme à l'invention permettant de traiter des champignons sous vide dans un milieu aqueux. Le dispositif est, par exemple, pourvu d'un réservoir tampon d'une capacité de 1000 à 4000 litres qui présente un fond incliné suivi à son point le plus bas d'une bande sans fin présentant des séparations d'entraînement destinées à transporter les champignons vers le réservoir à vide. La vitesse de la bande sans fin est, par exemple, de 10 à 40 mètres par minute.En partant d'un réservoir à vide dans lequel se trouve une charge de champignons traités, les opérations sont les suivantes
- les couvercles sont ouverts;
- la bande servant à décharger le réservoir à vide est mise en route; après peu de temps, la bande du réservoir tampon commence à se déplacer, de sorte que l'entraînement de champignons à traiter vers le réservoir à vide débute. Lorsque les champignons nouvellement introduits ont atteint, en une certaine épaisseur de couche, l'extrémité du réservoir à vide, les couvercles sont fermés;
- la pompe à eau servant à l'admission d'eau est mise en route et le clapet d'admission est ouvert;
- lorsqu'un niveau prédéterminé a été atteint, le clapet d'admission d'eau est fermé et la pompe à vide est mise en route pour faire le vide dans l'espace libre surjacent au liquide.Le vide est maintenu pendant un certain temps (par exemple, P = 5 à 50 torrs; T = 3 à 15 minutes);
- au terme du temps de maintien du vide, le vide est supprimé;
- la pompe à eau évacue l'eau du réservoir à vide.
- les couvercles sont ouverts;
- la bande servant à décharger le réservoir à vide est mise en route; après peu de temps, la bande du réservoir tampon commence à se déplacer, de sorte que l'entraînement de champignons à traiter vers le réservoir à vide débute. Lorsque les champignons nouvellement introduits ont atteint, en une certaine épaisseur de couche, l'extrémité du réservoir à vide, les couvercles sont fermés;
- la pompe à eau servant à l'admission d'eau est mise en route et le clapet d'admission est ouvert;
- lorsqu'un niveau prédéterminé a été atteint, le clapet d'admission d'eau est fermé et la pompe à vide est mise en route pour faire le vide dans l'espace libre surjacent au liquide.Le vide est maintenu pendant un certain temps (par exemple, P = 5 à 50 torrs; T = 3 à 15 minutes);
- au terme du temps de maintien du vide, le vide est supprimé;
- la pompe à eau évacue l'eau du réservoir à vide.
Le programme recommence au premier des points cités.
En fonction du temps de cycle total, on obtient une capacité du dispositif; des capacités comprises entre 1000 et 5000 kg par heure se sont révélées possibles, notamment en fonction du temps de cycle.
Dans la cuve qui sert pour partie à recevoir la seconde réserve tampon se trouvent deux bandes sans fin; la première bande a approximativement une vitesse égale au double de celle de la bande installée dans le réservoir à vide et la seconde bande de la cuve a une vitesse qui est supérieure d'environ 20 à 70% à la vitesse de la première bande dans la cuve. Pour créer une circulation dans la cuve, une citerne d'environ 1000 à 3000 litres est prévue, à partir de laquelle de l'eau est introduite dans la cuve.
L'évacuation de l'eau est assurée par un trop-plein.
Claims (13)
1.- Procédé pour soumettre des particules d'une matière particulaire, en particulier un produit alimentaire, par lots, à un traitement sous vide dans un milieu liquide, suivant lequel la matière particulaire est introduite dans un réservoir à vide (1, 21), le réservoir à vide (1, 21) est fermé, le réservoir à vide (1, 21) est rempli de liquide de manière telle qu'une partie de ce réservoir à vide (1, 21) reste dépourvue de liquide tout en garantissant que toutes les particules de la matière particulaire à traiter soient entièrement enrobées de liquide, le réservoir à vide (1, 21) est amené sous une dépression (vide) souhaitée et cette dépression est maintenue pendant un temps sélectionné, le réservoir à vide (1, 21) est ramené à la pression atmosphérique et est ouvert, le liquide est éliminé et la matière particulaire traitée est évacuée du réservoir à vide (1, 21), caractérisé par l'exécution d'un cycle d'opérations, dans lequel
- une première réserve tampon de matière particulaire est formée;
- de la matière particulaire est introduite depuis la première réserve tampon dans le réservoir à vide (1, 21) jusqu'à ce qu'une quantité prédéterminée soit atteinte;
- le traitement sous vide est effectué;
- après retour à la pression atmosphérique du réservoir à vide (1, 21) et ouverture de celui ci, la matière particulaire est évacuée du réservoir à vide (1, 21) et forme une seconde réserve tampon;;
- la matière particulaire est soustraite de la seconde réserve tampon à l'aide de moyens d'évacuation ayant un effet d'étalement, de manière telle qu'un flux uniforme dans le temps de matière particulaire soit obtenu et que les opérations de remplissage et de fermeture du réservoir à vide (1, 21), de traitement sous vide, d'ouverture de réservoir à vide (1, 21), d'évacuation de la matière particulaire pour former la seconde réserve tampon et de soustraction de matière particulaire de cette réserve soient mutuellement accordées pour que, à l'instant du cycle d'opérations auquel la dernière particule de la matière particulaire est soustraite de la seconde réserve tampon, l'évacuation de matière particulaire traitée hors du réservoir à vide (1, 21) commence pour former une nouvelle seconde réserve tampon et que le cycle d'opérations soit répété aussi longtemps qu'un flux uniforme de matière particulaire ayant subi le traitement sous vide est souhaité.
2.- Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce que dans le réservoir à vide (1, 21), la matière particulaire est répartie sur la surface de la section efficace du réservoir à vide à l'aide de moyens de répartition et l'admission de matière particulaire à partir de la première réserve tampon est arrêtée lorsqu'une quantité, en substance uniforme, de la matière particulaire à traiter, est présente sur l'ensemble de la surface de la section efficace du réservoir à vide (1, 21).
3.- Dispositif pour soumettre, par lots, des particules d'une matière particulaire, en particulier d'un produit alimentaire, à un traitement sous vide dans un milieu liquide, comprenant un réservoir à vide (1, 21) résistant au vide comportant un ou plusieurs couvercles (2, 3, 23, 24) pouvant être fermés de manière étanche au vide, des moyens d'alimentation pour le remplissage du réservoir à vide (1, 21) au moyen de matière à traiter et de liquide et des moyens d'évacuation pour la vidange du réservoir à vide (1, 21) et un raccordement (5, 25) au moyen duquel le réservoir à vide (1, 21) peut être raccordé à des moyens engendrant le vide (4, 24), caractérisé par le fait que les moyens d'alimentation pour le remplissage du réservoir à vide (1, 21) au moyen de matière particulaire à traiter et les moyens d'évacuation pour la vidange de ce réservoir à vide (1, 21) peuvent coopérer avec des moyens de répartition pour la matière particulaire, qui sont présents dans le réservoir à vide (1, 21), tandis que le réservoir à vide (1, 21) est suivi de moyens d'évacuation qui comportent au moins une partie de fonction tampon permettant d'obtenir un flux uniforme dans le temps de matière particulaire ayant subi le traitement sous vide et que des moyens de réglage sont présents pour accorder mutuellement le remplissage du réservoir à vide (1, 21), l'opération de traitement sous vide, la vidange du réservoir à vide et l'évacuation de la matière particulaire.
4.- Dispositif suivant la revendication 3, caractérisé en ce que les moyens destinés à remplir le réservoir à vide (1, 21) comportent un réservoir tampon (6, 26) qui peut être rempli d'un liquide dans lequel les particules de la matière particulaire sont reçues et des moyens d'alimentation pour pouvoir introduire une charge de matière particulaire à partir des réservoirs tampons (6, 26) dans le réservoir à vide (1, 21).
5.- Dispositif suivant la revendication 4, caractérisé en ce que les moyens d'alimentation comportent au moins une bande sans fin (7, 27), tandis que le réservoir tampon (6, 26) contient des moyens destinés à susciter une circulation de liquide qui est orientée vers la surface de transport (9) de la bande sans fin (7, 27).
6.- Dispositif suivant la revendication 3, caractérisé en ce que les moyens de répartition présents dans le réservoir à vide (1, 21) sont propres à répartir les particules uniformément sur la surface de section disponible du réservoir à vide (1, 21).
7.- Dispositif suivant la revendication 6, caractérisé en ce que les moyens de répartition comprennent une bande sans fin (10) qui s'étend sur l'ensemble de la surface de section efficace du réservoir à vide (1, 21) et des moyens d'entraînement pour cette bande sans fin (10), de même que des moyens de réglage prévus à cet effet qui permettent une répartition de matière particulaire conformément à l'admission de matière particulaire à partir de réservoirs tampons (6, 26).
8.- Dispositif suivant la revendication 3, caractérisé en ce que des moyens d'évacuation sont présents pour transporter les particules de matière particulaire, après leur traitement sous vide et leur évacuation hors du réservoir à vide (1, 21), à partir d'une réserve tampon ainsi formée, en un flux uniforme, et éventuellement pour les amener à un dispositif de traitement prévu en aval.
9.- Dispositif suivant la revendication 8, caractérisé en ce que les moyens d'évacuation comprennent une cuve (11, 31) à remplir d'un liquide qui fait suite aux réservoirs à vide (1, 21) et dans laquelle les particules de la matière particulaire ayant subi le traitement sous vide peuvent être reçues, dans la cuve (11, 31) sont présents des moyens de transport destinés à répartir une réserve tampon de matière particulaire qui est évacuée hors du réservoir à vide (1, 21).
10.- Dispositif suivant la revendication 9, caractérisé en ce que les moyens de transport sont formés par une ou plusieurs bandes sans fin (12, 13).
11.- Dispositif suivant les revendications 9, 10, caractérisé en ce que les moyens de transport comportent deux bandes sans fin (12, 13) qui peuvent être entraînées à des vitesses différentes telles que la bande sans fin (13) la plus éloignée du côté d'évacuation du réservoir à vide (1, 21) ait la vitesse la plus élevée.
12.- Dispositif suivant la revendication 9, caractérisé en ce que la cuve (11, 31) est suivie de moyens (29, 30) destinés à susciter dans la cuve (11, 31) une circulation de liquide qui est orientée à partir du côté d'évacuation (23) pour la matière ayant subi le traitement sous vide du réservoir (1, 21).
13.- Dispositif suivant une ou plusieurs des revendications 3 à 12, caractérisé en ce qu'il comporte une ou plusieurs unités de réglage logiques programmables (15, 33) (PLC) pour la commande du fonctionnement des divers éléments du dispositif en conformité avec un programme de travail prédéfini.
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1991
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1992
- 1992-03-04 FR FR9202603A patent/FR2674455B1/fr not_active Expired - Fee Related
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