FR2514558A1 - Procede de fabrication de thyristor asymetrique a diode de conduction inverse par diffusion au phosphure de gallium - Google Patents
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8119252A FR2514558A1 (fr) | 1981-10-13 | 1981-10-13 | Procede de fabrication de thyristor asymetrique a diode de conduction inverse par diffusion au phosphure de gallium |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8119252A FR2514558A1 (fr) | 1981-10-13 | 1981-10-13 | Procede de fabrication de thyristor asymetrique a diode de conduction inverse par diffusion au phosphure de gallium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FR2514558A1 true FR2514558A1 (fr) | 1983-04-15 |
| FR2514558B1 FR2514558B1 (enExample) | 1985-05-17 |
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ID=9262994
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FR8119252A Granted FR2514558A1 (fr) | 1981-10-13 | 1981-10-13 | Procede de fabrication de thyristor asymetrique a diode de conduction inverse par diffusion au phosphure de gallium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| FR (1) | FR2514558A1 (enExample) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0214485A3 (de) * | 1985-09-05 | 1988-03-09 | eupec Europäische Gesellschaft für Leistungshalbleiter mbH & Co. KG | Asymmetrischer Thyristor und Verfahren zu seiner Herstellung |
| CN114759087A (zh) * | 2022-04-21 | 2022-07-15 | 西安派瑞功率半导体变流技术股份有限公司 | 一种具有强穿通的非对称快速晶闸管 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2230749A1 (de) * | 1972-06-23 | 1974-01-10 | Licentia Gmbh | Verfahren zum herstellen von halbleiterbauelementen |
| FR2211758A1 (enExample) * | 1972-12-20 | 1974-07-19 | Int Rectifier Corp | |
| FR2253285A1 (enExample) * | 1973-12-03 | 1975-06-27 | Licentia Gmbh |
-
1981
- 1981-10-13 FR FR8119252A patent/FR2514558A1/fr active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2230749A1 (de) * | 1972-06-23 | 1974-01-10 | Licentia Gmbh | Verfahren zum herstellen von halbleiterbauelementen |
| FR2211758A1 (enExample) * | 1972-12-20 | 1974-07-19 | Int Rectifier Corp | |
| FR2253285A1 (enExample) * | 1973-12-03 | 1975-06-27 | Licentia Gmbh |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0214485A3 (de) * | 1985-09-05 | 1988-03-09 | eupec Europäische Gesellschaft für Leistungshalbleiter mbH & Co. KG | Asymmetrischer Thyristor und Verfahren zu seiner Herstellung |
| CN114759087A (zh) * | 2022-04-21 | 2022-07-15 | 西安派瑞功率半导体变流技术股份有限公司 | 一种具有强穿通的非对称快速晶闸管 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2514558B1 (enExample) | 1985-05-17 |
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