FR2369016A1 - Procede d - Google Patents
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- FR2369016A1 FR2369016A1 FR7632217A FR7632217A FR2369016A1 FR 2369016 A1 FR2369016 A1 FR 2369016A1 FR 7632217 A FR7632217 A FR 7632217A FR 7632217 A FR7632217 A FR 7632217A FR 2369016 A1 FR2369016 A1 FR 2369016A1
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- schmidt
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
- C23C14/044—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks using masks to redistribute rather than totally prevent coating, e.g. producing thickness gradient
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
Procédé d'exposition selon lequel on effectue une occultation périodique d'un substrat, de manière à l'isoler périodiquement de l'émission d'une source. On réalise un mouvement relatif de translation alternatif notamment rectiligne, entre le substrat 2 et la source 3, suivant une direction transversale par rapport à celle joignant le centre de la source 3 au centre du substrat 2; l'occultation, réalisée avec un cache rotatif 20, et le mouvement de translation sont combinés de manière telle qu'on obtienne, sur le substrat, des courbes d'égale exposition ayant une forme déterminée, notamment elliptique. Application à la réalisation d'une lame de Schmidt destinée à travailler en réflexion et dont la surface réfléchissante asphérique, sans symétrie de révolution, est formée par un dépôt obtenu par évaporation sous vide.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7632217A FR2369016A1 (fr) | 1976-10-26 | 1976-10-26 | Procede d |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7632217A FR2369016A1 (fr) | 1976-10-26 | 1976-10-26 | Procede d |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR2369016A1 true FR2369016A1 (fr) | 1978-05-26 |
FR2369016B1 FR2369016B1 (fr) | 1980-03-28 |
Family
ID=9179209
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR7632217A Granted FR2369016A1 (fr) | 1976-10-26 | 1976-10-26 | Procede d |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
FR (1) | FR2369016A1 (fr) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0023149A1 (fr) * | 1979-07-19 | 1981-01-28 | Optical & Electrical Coatings Limited | Procédé et appareil pour l'obtention d'un revêtement d'épaisseur ou de densité non uniforme par évaporation sous vide |
EP0118576A1 (fr) * | 1983-03-11 | 1984-09-19 | Hitachi, Ltd. | Procédé pour l'obtention de films minces |
FR2581793A1 (fr) * | 1985-05-07 | 1986-11-14 | Duruy Nicolas | Procede et dispositif de fabrication de composants electroniques ou optoelectroniques avec depot par evaporation sous vide |
FR2619226A1 (fr) * | 1987-08-07 | 1989-02-10 | Matra | Procede de realisation d'une surface aspherique sur un element optique et composant optique composite obtenu par mise en oeuvre du procede. |
-
1976
- 1976-10-26 FR FR7632217A patent/FR2369016A1/fr active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0023149A1 (fr) * | 1979-07-19 | 1981-01-28 | Optical & Electrical Coatings Limited | Procédé et appareil pour l'obtention d'un revêtement d'épaisseur ou de densité non uniforme par évaporation sous vide |
EP0118576A1 (fr) * | 1983-03-11 | 1984-09-19 | Hitachi, Ltd. | Procédé pour l'obtention de films minces |
FR2581793A1 (fr) * | 1985-05-07 | 1986-11-14 | Duruy Nicolas | Procede et dispositif de fabrication de composants electroniques ou optoelectroniques avec depot par evaporation sous vide |
FR2619226A1 (fr) * | 1987-08-07 | 1989-02-10 | Matra | Procede de realisation d'une surface aspherique sur un element optique et composant optique composite obtenu par mise en oeuvre du procede. |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2369016B1 (fr) | 1980-03-28 |
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