FI96990B - Fotonsskanningstunnelmikroskopi - Google Patents

Fotonsskanningstunnelmikroskopi Download PDF

Info

Publication number
FI96990B
FI96990B FI911922A FI911922A FI96990B FI 96990 B FI96990 B FI 96990B FI 911922 A FI911922 A FI 911922A FI 911922 A FI911922 A FI 911922A FI 96990 B FI96990 B FI 96990B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
probe
field
light
sample
adjacent
Prior art date
Application number
FI911922A
Other languages
English (en)
Finnish (fi)
Other versions
FI911922A0 (sv
FI96990C (sv
Inventor
Thomas L Ferrell
Robert J Warmack
Robin C Reddick
Original Assignee
Spiral Rech & Dev
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Spiral Rech & Dev filed Critical Spiral Rech & Dev
Publication of FI911922A0 publication Critical patent/FI911922A0/sv
Publication of FI96990B publication Critical patent/FI96990B/sv
Application granted granted Critical
Publication of FI96990C publication Critical patent/FI96990C/sv

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00—Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/18—SNOM [Scanning Near-Field Optical Microscopy] or apparatus therefor, e.g. SNOM probes
    • G01Q60/22—Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y35/00—Methods or apparatus for measurement or analysis of nanostructures
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/04—Measuring microscopes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10—Scanning systems
    • G02B26/103—Scanning systems having movable or deformable optical fibres, light guides or waveguides as scanning elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24—Coupling light guides
    • G02B6/26—Optical coupling means
    • G02B6/262—Optical details of coupling light into, or out of, or between fibre ends, e.g. special fibre end shapes or associated optical elements
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00—Nanotechnology
    • Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/849—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
    • Y10S977/86—Scanning probe structure
    • Y10S977/862—Near-field probe

Claims (4)

1. Förfarande för optisk närfältssvepmikroskopi in-vid ett provomräde (21) pä en yta (16), innefattande äs-5 tadkommandet av en ljussträle (14) för alstring av ett närfält av ljus Invid ytan, placering av ett prov (20) pä provomrädet (21), sampling av närfältet med en sond (26), detektering av ljuset som mottages av sonden (26), ästad-konunandet av en utsignal som är en funktion av den av son-10 den (26) mottagna ljusintensiteten, svepning invid provomrädet (21) med sonden (26) i ätminstone en riktning, och bearbetning av utsignalen i en datorenhet (34) för att ästadkomma utinformation medan sonden förflyttas, k ä n -netecknat av att förfarandet är ett fotonsveptun-15 nelförfarande som dessutom innefattar: ledandet av ljus-strälen (14) in i en kropp (12) av ett transparent material med ätminstone en yta som har en in- och en utsida, ästadkommandet av ett flyktigt fält (18) invid ytans (16) utsida genom riktning av strälen (14) inuti den transpa-20 renta kroppen (12) sä att den träffar ytans (16) insida med en vinkel (θ£), som är lika med eller större än en kri-tisk vinkel, vid vilken total inre reflektion av strälen (14) ästadkommes, och uppsamling av fotoner med sonden .·. : (26), vilka fotoner tunnlar mellan ytan (16) och sonden ,·, : 25 (26), varvid antalet fotoner som tunnlar mellan ytan och sonden stär i relation till intensiteten av det flyktiga • · · * . fältet vid sondens position.
] 2. Förfarande enligt patentkrav 1, k ä n n e - tecknatav att steget att alstra det flyktiga fäl- ··1 * 30 tet innefattar anordnandet av ett första (12) och ett and- ra ämne, som har olika brytningsindex, ästadkommandet av ::: en gränsyta mellan det första och det andra ämnet, vilken gränsyta utgör ytan (16), och riktandet av ljussträlen (14) genom det första ämnet (1) för att skära gränsytan 35 med en infallsvinkel (Oj), som är tillräckligt stor för att · 96990 20 ästadkomma total inre reflektion, varvid närfältet (18) ästadkommes invid gränsytan i det andra ämnet.
3. Förfarande enligt patentkrav 1 eller 2, k ä n -netecknat av att det dessutom innefattar: svep- 5 ning med sonden (26) i ett avsökningsmönster invid provom-rädet (21) medan sonden hälles ρΔ ett väsentligen konstant avständ frän ytan (16), övervakandet av sondens (26) position och mängden ljus som mottages av sonden när sonden sveper genom avsökningsmönstret, och utmatandet av data 10 avseende sondens (26) position och avseende mängden ljus som mottages av sonden vid varje position när den förflyt-tas genom avsökningsmönstret.
4. Förfarande enligt patentkrav 1 eller 2, k ä n -netecknat av att det dessutom innefattar: svep- 15 ning med sonden (26) i ett avsökningsmönster invid provet, styrning av sondens (26) position i närfältet genom för-flyttning av sonden i en riktning som är väsentligen normal mot ytan (16) när sonden sveper genom avsökningsmönstret, sä att sonden mottager väsentligen samma mängd ljus 20 under svepningen, och övervakning av sondpositionen samt utmatning av information avseende avständet mellan sonden (26) och ytan (16) när sondspetsen (22) sveper genom avsökningsmönstret .
5. Förfarande enligt nägot av patentkraven 1-4, 25 kännetecknat av att positioneringssteget in- nefattar: anordnandet av en sond, som enbart bestär av ett • t » ljusledande ämne (24) och som har en sondspets (22), och • · , positionering av sondspetsen (22) i närfältet och invid provomrädet (21) för att kopplas tili närfältet och motta-*.* ’ 30 ga ljus frän detta.
6. Optiskt närfätssvepmikroskop, innefattande en yta (16), pä vilken ett provomräde har definierats, ett ljusorgan (36) för alstring av en ljussträle (14) som alstrar ett närfält av ljus invid ytan (16), en sond (26) 35 för att sampla närfältet, en detektor (30) för att detek- 4 4 < 4 4 « 4 4 4 4 4 4 * • 4 « · · 96990 21 terä ljuset som mottages av sonden (26) och för att ästad-komma en utsignal i beroende av den av sonden mottagna ljusintensiteten, organ (28) för att förflytta sonden (26) och för att svepa sonden i ett mönster i närfältet invid 5 provomrädet, och organ (34) för att bearbeta utsignalen när sonden (26) förflyttas i mönstret och för att ästad-komma data motsvarande ljusintensiteten som mottages av sonden (26), kännetecknat av att mikroskopet (10) är ett fotonsveptunnelmikroskop, i vilket organen för 10 alstring av ett närfält dessutom innefattar organ för alstring av ett flyktigt fält, vilka organ innefattar: en kropp (12) av transparent material med ätminstone en pian yta (16), som bildar ytan pä vilken provomrädet är defini-erat, och organ för att leda och rikta strälen (14) inuti 15 kroppen (12) sä att strälen träffar insidan av ytan (16) i syfte att ästadkomma total inre reflektion av strälen (14), vilken reflektion ästadkommer det flyktiga fältet (18) invid ytans (16) utsida, varvid sonden (26) samplar det flyktiga fältet genom uppsamling av fotoner, som tunn-20 lar mellan ytan (16) och sonden.
7. Mikroskop enligt patentkrav 6, kännetecknat av att det dessutom innefattar organ (32) för att bibehälla sondens (26) position pä ett väsentligen konstant avständ i normalriktningen mot ytan (16) medan « « . ·. 25 sonden sveper provomrädet (21). * « .···. 8. Mikroskop enligt patentkrav 6, k ä n n e - * ♦ * ' , tecknat av att det dessutom innefattar organ (32) • t , för att reagera pä utsignalen för att hälla sonden (26) pä • · · · · en position med konstant ljusintensitet, varvid sondens ♦ · « *·* * 30 (26) avständ frän ytan (16) utgör en funktion av ljusin- tensitetsfördelningen invid provomrädet (21).
9. Mikroskop enligt nägot av patentkraven 6-8, »M kännetecknat av att kroppen av transparent material (12) är ett kvartsprisma. 35 96990 22
10. Mikroskop enligt ndgot av patentkraven 6-9, kännetecknat av att sonden (26) bestär av en-dast ett ljusledande ämne (24).
11. Mikroskop enligt nägot av patentkraven 6 - 10, 5 kännetecknat av att ljuskällan (36) är en laser och ljussträlen (14) är en lasersträle.
12. Mikroskop enligt nägot av patentkraven 6-11, kännetecknat av att det dessutom innefattar: organ för att bestämma avständen mellan sonden (26) och 10 ytan (16) under avsökning av ytan och för att alstra en avständssignal som är representativ för nämnda avständ, organ för att bestämma avsökningspositioner för sonden (26) i ett pian invid ytan (16) under avsökning av ytan och för att ästadkomma en positionssignal som är represen-15 tativ för positionen, och organ (44) för att visa av-ständssignalen säsom funktion av positionssignalen. • t « i ·
4. I 4 I ··· • · · • · · • · • · • * • · · • · · • · · • · · ··» • · · • I I 4 4 4 4 4 4
FI911922A 1988-10-21 1991-04-19 Fotonsskanningstunnelmikroskopi FI96990C (sv)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US26092688 1988-10-21
US07/260,926 US5018865A (en) 1988-10-21 1988-10-21 Photon scanning tunneling microscopy
US8904725 1989-10-20
PCT/US1989/004725 WO1990004753A1 (en) 1988-10-21 1989-10-20 Photon scanning tunneling microscopy

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI911922A0 FI911922A0 (sv) 1991-04-19
FI96990B true FI96990B (sv) 1996-06-14
FI96990C FI96990C (sv) 1996-09-25

Family

ID=22991232

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI911922A FI96990C (sv) 1988-10-21 1991-04-19 Fotonsskanningstunnelmikroskopi

Country Status (12)

Country Link
US (1) US5018865A (sv)
EP (1) EP0439534B1 (sv)
JP (1) JP3095226B2 (sv)
AT (1) ATE118087T1 (sv)
AU (1) AU623703B2 (sv)
BR (1) BR8907735A (sv)
DE (1) DE68921008T2 (sv)
DK (1) DK170596B1 (sv)
FI (1) FI96990C (sv)
NO (1) NO303247B1 (sv)
RU (2) RU94028284A (sv)
WO (1) WO1990004753A1 (sv)

Families Citing this family (81)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5177351A (en) * 1988-08-23 1993-01-05 Lagowski Jacek J Method and apparatus for determining the minority carrier diffusion length from linear constant photon flux photovoltage measurements
EP0437170B1 (en) * 1990-01-09 1996-04-24 International Business Machines Corporation Magneto-optic method and system for recording and retrieving high-density digital data
JPH0432704A (ja) * 1990-05-29 1992-02-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd ギャップ測定装置および表面形状測定装置
EP0459392B1 (en) * 1990-05-30 1999-08-18 Hitachi, Ltd. Method and apparatus for processing a minute portion of a specimen
JP2744339B2 (ja) * 1990-08-03 1998-04-28 キヤノン株式会社 情報処理装置及び情報処理方法
US5144833A (en) * 1990-09-27 1992-09-08 International Business Machines Corporation Atomic force microscopy
US5288999A (en) * 1990-11-19 1994-02-22 At&T Bell Laboratories Manufacturing method including near-field optical microscopic examination of a semiconductor wafer
US5288997A (en) * 1990-11-19 1994-02-22 At&T Bell Laboratories Manufacturing method, including near-field optical microscopic examination of a magnetic bit pattern
US5286970A (en) * 1990-11-19 1994-02-15 At&T Bell Laboratories Near field optical microscopic examination of a biological specimen
US5288998A (en) * 1990-11-19 1994-02-22 At&T Bell Laboratories Manufacturing method including photoresist processing using a near-field optical probe
US5272330A (en) * 1990-11-19 1993-12-21 At&T Bell Laboratories Near field scanning optical microscope having a tapered waveguide
IL97362A0 (en) * 1991-02-26 1992-08-18 Aaron Lewis Method for external excitation of subwavelength light sources that is integrated into feedback methodologies
US5239183A (en) * 1991-04-30 1993-08-24 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Optical gap measuring device using frustrated internal reflection
US5155361A (en) * 1991-07-26 1992-10-13 The Arizona Board Of Regents, A Body Corporate Acting For And On Behalf Of Arizona State University Potentiostatic preparation of molecular adsorbates for scanning probe microscopy
JP3074357B2 (ja) * 1991-10-03 2000-08-07 セイコーインスツルメンツ株式会社 微細表面観察装置
JP3268797B2 (ja) * 1991-10-09 2002-03-25 オリンパス光学工業株式会社 光導入装置
JP2802868B2 (ja) * 1992-12-22 1998-09-24 大日本スクリーン製造株式会社 半導体ウエハの非接触電気測定用センサおよびその製造方法、並びに、そのセンサを用いた測定方法
US5394268A (en) * 1993-02-05 1995-02-28 Carnegie Mellon University Field synthesis and optical subsectioning for standing wave microscopy
US5442443A (en) * 1993-04-08 1995-08-15 Polaroid Corporation Stereoscopic photon tunneling microscope
JP2704601B2 (ja) * 1993-04-12 1998-01-26 セイコーインスツルメンツ株式会社 走査型近視野原子間力顕微鏡、及びその顕微鏡に使用されるプローブ、及びそのプローブの製造方法
US5426302A (en) * 1993-04-28 1995-06-20 Board Of Regents, University Of Texas Optically guided macroscopic-scan-range/nanometer resolution probing system
JPH06349920A (ja) * 1993-06-08 1994-12-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 半導体ウェハの電荷量測定方法
US5570441A (en) * 1993-07-15 1996-10-29 At&T Corp. Cylindrical fiber probes and methods of making them
US5531343A (en) * 1993-07-15 1996-07-02 At&T Corp. Cylindrical fiber probe devices and methods of making them
KR100262878B1 (ko) * 1993-10-04 2000-08-01 포만 제프리 엘 근접시야 광학현미경 및 그 측정방법
US5394500A (en) * 1993-12-22 1995-02-28 At&T Corp. Fiber probe device having multiple diameters
US5480046A (en) * 1993-12-22 1996-01-02 At&T Corp. Fiber probe fabrication having a tip with concave sidewalls
US5395741A (en) * 1993-12-22 1995-03-07 At&T Corp. Method of making fiber probe devices using patterned reactive ion etching
US5440920A (en) * 1994-02-03 1995-08-15 Molecular Imaging Systems Scanning force microscope with beam tracking lens
US5548113A (en) * 1994-03-24 1996-08-20 Trustees Of Boston University Co-axial detection and illumination with shear force dithering in a near-field scanning optical microscope
US5753814A (en) * 1994-05-19 1998-05-19 Molecular Imaging Corporation Magnetically-oscillated probe microscope for operation in liquids
US5515719A (en) * 1994-05-19 1996-05-14 Molecular Imaging Corporation Controlled force microscope for operation in liquids
US5513518A (en) * 1994-05-19 1996-05-07 Molecular Imaging Corporation Magnetic modulation of force sensor for AC detection in an atomic force microscope
US5866805A (en) * 1994-05-19 1999-02-02 Molecular Imaging Corporation Arizona Board Of Regents Cantilevers for a magnetically driven atomic force microscope
US6339217B1 (en) * 1995-07-28 2002-01-15 General Nanotechnology Llc Scanning probe microscope assembly and method for making spectrophotometric, near-field, and scanning probe measurements
US5751683A (en) * 1995-07-24 1998-05-12 General Nanotechnology, L.L.C. Nanometer scale data storage device and associated positioning system
US6337479B1 (en) * 1994-07-28 2002-01-08 Victor B. Kley Object inspection and/or modification system and method
JPH10506457A (ja) 1994-07-28 1998-06-23 ジェネラル ナノテクノロジー エルエルシー 走査型プローブ顕微鏡装置
US6265711B1 (en) * 1994-07-28 2001-07-24 General Nanotechnology L.L.C. Scanning probe microscope assembly and method for making spectrophotometric near-field optical and scanning measurements
US5485536A (en) * 1994-10-13 1996-01-16 Accuphotonics, Inc. Fiber optic probe for near field optical microscopy
US5664036A (en) * 1994-10-13 1997-09-02 Accuphotonics, Inc. High resolution fiber optic probe for near field optical microscopy and method of making same
US5557452A (en) * 1995-02-06 1996-09-17 University Of Hawaii Confocal microscope system
US5495109A (en) * 1995-02-10 1996-02-27 Molecular Imaging Corporation Electrochemical identification of molecules in a scanning probe microscope
WO1996028837A1 (en) * 1995-03-10 1996-09-19 Molecular Imaging Corporation Hybrid control system for scanning probe microscopes
US5874726A (en) * 1995-10-10 1999-02-23 Iowa State University Research Foundation Probe-type near-field confocal having feedback for adjusting probe distance
US5796909A (en) * 1996-02-14 1998-08-18 Islam; Mohammed N. All-fiber, high-sensitivity, near-field optical microscopy instrument employing guided wave light collector and specimen support
JP3290586B2 (ja) * 1996-03-13 2002-06-10 セイコーインスツルメンツ株式会社 走査型近視野光学顕微鏡
JP3260619B2 (ja) * 1996-03-19 2002-02-25 セイコーインスツルメンツ株式会社 光導波路プロ−ブおよび光システム
US5774221A (en) * 1996-08-21 1998-06-30 Polaroid Corporation Apparatus and methods for providing phase controlled evanescent illumination
US5910940A (en) * 1996-10-08 1999-06-08 Polaroid Corporation Storage medium having a layer of micro-optical lenses each lens generating an evanescent field
US5939709A (en) * 1997-06-19 1999-08-17 Ghislain; Lucien P. Scanning probe optical microscope using a solid immersion lens
DE19741122C2 (de) * 1997-09-12 2003-09-25 Forschungsverbund Berlin Ev Anordnung zur Vermessung und Strukturierung (Nahfeldanordnung)
US6923044B1 (en) 2001-03-08 2005-08-02 General Nanotechnology Llc Active cantilever for nanomachining and metrology
US6802646B1 (en) * 2001-04-30 2004-10-12 General Nanotechnology Llc Low-friction moving interfaces in micromachines and nanomachines
US6752008B1 (en) 2001-03-08 2004-06-22 General Nanotechnology Llc Method and apparatus for scanning in scanning probe microscopy and presenting results
US7196328B1 (en) 2001-03-08 2007-03-27 General Nanotechnology Llc Nanomachining method and apparatus
US6787768B1 (en) 2001-03-08 2004-09-07 General Nanotechnology Llc Method and apparatus for tool and tip design for nanomachining and measurement
IL124838A0 (en) 1998-06-10 1999-01-26 Yeda Res & Dev Near-field optical inspection apparatus
US6831886B1 (en) * 1998-11-27 2004-12-14 Minolta Co., Ltd. Optical head and optical head device
US6633660B1 (en) * 1999-02-05 2003-10-14 John Carl Schotland Near-field tomography
AU6061100A (en) * 1999-07-01 2001-01-22 General Nanotechnology, Llc Object inspection and/or modification system and method
EP1311824A4 (en) * 2000-06-25 2010-12-08 Affymetrix Inc OPTICALLY ACTIVE SUBSTRATES
US6931710B2 (en) * 2001-01-30 2005-08-23 General Nanotechnology Llc Manufacturing of micro-objects such as miniature diamond tool tips
US7253407B1 (en) 2001-03-08 2007-08-07 General Nanotechnology Llc Active cantilever for nanomachining and metrology
US7053369B1 (en) 2001-10-19 2006-05-30 Rave Llc Scan data collection for better overall data accuracy
US6813937B2 (en) 2001-11-28 2004-11-09 General Nanotechnology Llc Method and apparatus for micromachines, microstructures, nanomachines and nanostructures
US6858436B2 (en) * 2002-04-30 2005-02-22 Motorola, Inc. Near-field transform spectroscopy
US6897436B2 (en) * 2002-06-06 2005-05-24 University Of Maryland System and method for optical processing based on light-controlled photon tunneling
US20030232427A1 (en) * 2002-06-18 2003-12-18 Montagu Jean I. Optically active substrates for examination of biological materials
JP3760196B2 (ja) * 2002-06-27 2006-03-29 独立行政法人科学技術振興機構 赤外光集光装置
JP2005538855A (ja) 2002-09-09 2005-12-22 ジェネラル ナノテクノロジー エルエルシー 走査型プローブ顕微鏡の流体送達
DE10258283B4 (de) * 2002-12-13 2011-02-17 Carl Mahr Holding Gmbh Tasteinrichtung zur Werkstückvermessung
US6831747B2 (en) * 2003-01-08 2004-12-14 Ut-Battelle, Llc Spectrometry and filtering with high rejection of stray light
US7280078B2 (en) * 2004-11-20 2007-10-09 Scenterra, Inc. Sensor for detecting high frequency signals
EP1825560A4 (en) * 2004-11-20 2010-09-15 Kenneth E Salsman DEVICE FOR EMISSION OF HIGH FREQUENCY SIGNALS
WO2007129325A2 (en) * 2006-05-09 2007-11-15 Xceed Imaging Ltd. Optical sub wavelength super resolution imaging system and method
US8173965B2 (en) * 2006-09-12 2012-05-08 International Business Machines Corporation Thermally excited near-field source
WO2009083879A1 (en) * 2008-01-03 2009-07-09 Koninklijke Philips Electronics N.V. Evanescent field modulation in a biosensor
DE102010004774A1 (de) * 2010-01-14 2011-07-28 IMM Photonics GmbH, 85716 Verfahren und Einrichtung zum sicheren Emittieren einer Anregungsstrahlung
KR102554867B1 (ko) * 2015-09-09 2023-07-14 삼성전자주식회사 기판 검사 장치
US10436813B1 (en) 2018-05-09 2019-10-08 Institute for Electronics and Information Technology in Tianjin Tsinghua University Surface plasmon scanning-tunneling chemical mapping (SPSTM) system

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3975084A (en) * 1973-09-27 1976-08-17 Block Engineering, Inc. Particle detecting system
EP0112401B1 (en) * 1982-12-27 1987-04-22 International Business Machines Corporation Optical near-field scanning microscope
US4662747A (en) * 1983-08-03 1987-05-05 Cornell Research Foundation, Inc. Method and apparatus for production and use of nanometer scale light beams
EP0185782B1 (en) * 1984-12-28 1989-03-15 International Business Machines Corporation Waveguide for an optical near-field microscope
US4917462A (en) * 1988-06-15 1990-04-17 Cornell Research Foundation, Inc. Near field scanning optical microscopy

Also Published As

Publication number Publication date
BR8907735A (pt) 1991-08-20
AU623703B2 (en) 1992-05-21
DK170596B1 (da) 1995-11-06
JP3095226B2 (ja) 2000-10-03
FI911922A0 (sv) 1991-04-19
NO911563L (no) 1991-06-19
DE68921008T2 (de) 1995-07-20
RU2049327C1 (ru) 1995-11-27
ATE118087T1 (de) 1995-02-15
EP0439534A1 (en) 1991-08-07
EP0439534B1 (en) 1995-02-01
WO1990004753A1 (en) 1990-05-03
RU94028284A (ru) 1996-04-10
JPH04505653A (ja) 1992-10-01
US5018865A (en) 1991-05-28
NO303247B1 (no) 1998-06-15
EP0439534A4 (en) 1993-05-12
DK73491D0 (da) 1991-04-22
FI96990C (sv) 1996-09-25
DK73491A (da) 1991-06-12
AU4493089A (en) 1990-05-14
DE68921008D1 (de) 1995-03-16
NO911563D0 (no) 1991-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI96990B (sv) Fotonsskanningstunnelmikroskopi
US7091476B2 (en) Scanning probe microscope assembly
US6281491B1 (en) Scanning probe microscope assembly and method for making confocal, spectrophotometric, near-field, and scanning probe measurements and associated images
CA2145018C (en) Scanning near-field optic/atomic force microscope
CA2075855C (en) Scanning microscope comprising force-sensing means
US5894122A (en) Scanning near field optical microscope
EP0507628B1 (en) Near field scanning optical microscope
JP4009197B2 (ja) 走査型近接場光学顕微鏡
JP3196945B2 (ja) 走査型光学顕微装置
Betzig et al. Super-resolution imaging with near-field scanning optical microscopy (NSOM)
JP3032967B2 (ja) サンプルの平滑面を検査するための装置と方法
US6507017B1 (en) Near-field optical inspection apparatus
De Fornel et al. Recent Experimental Results with the PSTM:-Observation of a Step on a Quartz Surface.-Spatial Spectroscopy of Microwaveguides
JPH06249863A (ja) 表面構造を画像化するセンサ
JP3143884B2 (ja) 発光走査型トンネル顕微鏡
US10436813B1 (en) Surface plasmon scanning-tunneling chemical mapping (SPSTM) system
JP3242787B2 (ja) フォトン走査トンネル顕微鏡
KR100636011B1 (ko) 결함 검출장치
Rosenberger et al. Topographic cross talk in reflection mode near-field optical microscopy on patterned structures
JP2001165844A (ja) 走査型プローブ顕微鏡
JPH08101217A (ja) 走査型プローブ顕微鏡

Legal Events

Date Code Title Description
BB Publication of examined application