FI91812B - Valotettujen laakapainolevyjen käsittely - Google Patents
Valotettujen laakapainolevyjen käsittely Download PDFInfo
- Publication number
- FI91812B FI91812B FI894159A FI894159A FI91812B FI 91812 B FI91812 B FI 91812B FI 894159 A FI894159 A FI 894159A FI 894159 A FI894159 A FI 894159A FI 91812 B FI91812 B FI 91812B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- plate
- plates
- coated surface
- heating
- water bath
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Registering Or Overturning Sheets (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
Description
91812
Valotettujen laakapainolevyjen käsittely
Keksintö liittyy valotettujen laakapainolevyjen käsittelyyn.
5 On tunnettua, että laakapainolevyjä, joissa on tietty valonherkkä päällyste, kuten sellainen, joka käsittää ortokinoni diazidia, kuten GB-patentissamme 2 082 339 kuvataan, voidaan kääntökehittää prosessin aikana, jonka avulla alkuperäisen kuvan negatiivi voidaan tuottaa levyl-10 le perättäisten vaiheiden avulla kuvanomaisesti valottamalla levyjä, lämmittämällä niitä päällysteen muuttamiseksi valotetuilla alueilla alkalikehitteessä liukenemattomaan muotoon ja siten kokonaisuudessaan valottamalla levyjä, jonka avulla päällyste alueilla, joita ei aiemmin ole 15 valotettu, hajoitetaan em. kehitteessä liukenevaan muotoon. Valotuksen aikaansaama muutos ainakin erityisesimer-kin päällysteessä on ymmärretty olevan huonontava prosessi johtaen karboksyyliryhmien muodostumiseen.
On toivottavaa taloudelliselta näkökannalta katso-20 en, että kääntökehitysmenetelmä toteutetaan suurella nopeudella ja edullisemmin kuljettamalla levyt lämmitys- ja kokonaisvalotusvaiheiden kautta integroidussa käsittely-koneessa, mutta vaikka päällysteen lämpömuuttaminen ku-. van suhteen valotetuilla levyn alueilla voi helposti ta- ’ 25 pahtua suurilla nopeuksilla, vaikeuksia on koettu suori tettaessa kääntökehitysmenetelmää samalla tuotantonopeu-della.
On ilmeistä, että on edullista jäähdyttää levyjä lämmityksen ja kokonaisvalotusvaiheiden välillä, mutta ; . 30 jäähdytysvaiheen hankinnan on havaittu olevan riittämätön varmistamaan täysin tyydyttävä tulos valotusvaiheessa, ja tämän keksinnön eräs kohde onkin siksi tuottaa lisäparannusta valotusvaiheeseen.
Tämän keksinnön erään näkökannan mukaisesti tuote-35 taan sellaisten litografisten painolevyjen kääntökehitys- 2 91812 menetelmä, joissa on valonherkkä päällyste toisella pinnallaan, käsittäen seuraavat vaiheet: (i) päällystetyn pinnan osan valottaminen kuvakohtaisesti osan saamiseksi liukenevaksi kehitteeseen; 5 (ii) levyn lämmittäminen kuvakohtaisesti valotetun osan saamiseksi suhteellisen liukenemattomaksi kehitteeseen; (iii) päällystetyn pinnan säteilyttäminen kokonaisuudessaan levyn lämmittämisen jälkeen aiemmin valottamat- 10 toman päällystetyn pinnan osan tekemiseksi liukenevaksi; ja (iv) levyn kehittäminen liuottamalla päällystetyn pinnan aiemmin valottamatonta osaa. Keksinnön mukaisessa menetelmässä on uutta ja tunnusomaista se, että säteily 15 kohdistetaan levyn päällystetylle pinnalle levyä ympäröivän runsaasti vettä sisältävän ympäristön kautta.
Menetelmä voi käsittää lisävaiheen, jossa levyä jäähdytetään kuumennuksen jälkeen.
Välittömän ympäristön vesisisältö voi olla pelkäs- 20 tään kaasumainen. Edullisemmin, kuitenkin, ympäristössä on nestemäistä vettä. Vesi voi olla jatkuvana kerroksena.
Valonherkkä päällyste voi käsittää aromaattista kinonidiazidia ja voi lisäksi käsittää resolia tai novo-«. lakkahartsia.
25 Valotus voi tapahtua UV-lampulla.
Keksinnön toisen lisänäkökannan mukaisesti tuotetaan laite laakapainolevyjen kääntökehitysmenetelmää varten, levyn toisella pinnalla ollessa valonherkkä päällyste, jonka osa on kuvakohtaisesti altistettu valokemial- 30 liselle säteilylle osan saattamiseksi liukenevaksi kehit teeseen, ja joka laite käsittää: (i) laitteet levyn lämmittämiseksi kuvakohtaisesti valotetun osan saamiseksi suhteellisen liukenemattomaksi kehitteeseen; ja 35 (ii) laitteet päällystetyn pinnan säteilyttäminen li 91812 3 kokonaisuudessaan levyn lämmittämisen jälkeen aiemmin va-lottamattoman päällystetyn pinnan osan tekemiseksi liukenevaksi siten, että aiemmin valottamaton osa on poistettavissa tulevassa kehitysvaiheessa. Uutta ja tunnusomaista 5 keksinnön mukaiselle laitteelle on kotelotila, jonka läpi levy kuljetetaan säteilyn vastaanottamista varten, ja joka kotelotila on järjestetty rajaamaan levyä ympäröivän runsaasti vettä sisältävän ympäristön, ja johon säteilytys-laitteet on asennettu säteilyttämään levyä runsaasti vettä 10 sisältävän ympäristön kautta.
Laite voi käsittää laitteet levyn lisäjäähdy-tystä varten laitteiden (i) ja (ii) välillä.
Laitteessa voi olla lisäksi kuljetuslaitteet mainitun levyn kuljettamiseksi perättäisesti mainittujen 15 laitteiden (i) - (iii) tehokkaaseen vaikutusalueeseen ja jos mainittua jäähdytyslaitetta käytetään, koskien myös sitä. Kuljetuslaitteet voivat käsittää erilleen sijoitettuja ketjuja.
Laitteet välittömän ympäristön korkean vesipitoi-20 suuden tuottamiseksi voivat sisältää vesiliuoksen. Lait teisto voi sisältää lisäksi jättötelat, jotka vievät levyt vesiliuokseen ja lisäjättötelat levyjen vetämiseksi pois vedestä.
. Keksinnön suoritusmuotoja kuvataan nyt esimerkin 25 avulla ja viitaten oheisiin kaavamaisiin piirustuksiin, joissa:
Kuvio 1 esittää levyn käsittelykoneen erästä suoritusmuotoa pitkittäisenä leikkauksena;
Kuvio 2 esittää toista suoritusmuotoa samanlaisena 30 leikkauksena.
Kuten kuviosta 1 nähdään, laakapainolevyjen käsittely-yksikkö käsittää uunin 2, jäähdytysyksikön 4 ja valo-• tusyksikön 6, joiden kaikkien kautta levyt 8-20 kulkevat jatkuvasti, niiden valoherkkien pintojen ollessa ylimpänä 35 ja niiden ollessa tuettu tavanomaisella tavalla useiden 4 91812 päättymättömien ketjujen 22 päälle, jotka on sijoitettu poikittain yksikköihin nähden niin, että levyt on tuettu niiden koko leveydeltä. Ketjuja viedään käsittely-yksikön läpi nuolen 32 suuntaisesti ketjupyörän 54 avulla no-5 peudella 1 m/min tai nopeammin ja joita laipalliset hihna-pyörät 56 rajoittavat niin, että ylempi levyjä tukeva kantomatka on tiukalla ja alempi paluumatka (ei kuvassa) on heikosti kiristetty.
Levy 8 esitetään saapuvaksi uuniin 2 ja levy 10 10 esitetään uunin sisällä olevaksi, jonka lämpötila levyjen kuumentamiseksi on asetettu, sanotaan 120° - 140 °C asteeseen. Korkeilla tuotantonopeuksilla tavanomainen uuni ei tuota tarpeeksi voimaa levyjen lämpötilan nostamiseksi vaadittavaan tasoon sinä aikana kun levyt ovat uunissa, 15 ja voi olla tarpeellista lisätä kuumennusta infrapunaesi-lämmittimellä 52.
Uskotaan, että kuumennetut levyt tarvitsee jäähdyttää säteilytoiminnan parantamiseksi, ja jäähdytysyksikkö 4 on järjestetty alentamaan levyjen lämpötilaa noin alle 20 50°C. Jäähdytysyksikkö käsittää lämmönvaihtimen 24, johon syötetään kylmää vesijohtovettä syöttöputken 26 kautta ja ympäröivä ilma pakotetaan sen läpi juoksupyörän 28 avulla. Jäähdytetty ilma törmää täten levyihin niiden kulkiessa ,t jäähdyttimen läpi, josta on esimerkkinä levy 12, ja kulkee 25 säteilytysyksikköön 6.
Jäähdytysyksikön toisella puolella levyjen kulkusuunnassa on matala allas 34, joka on noin 600 mm pitkä ja joka on samanlevyinen kuin uuni. Vesi syötetään altaaseen lämmönvaihtimesta putken 36 avulla, samalla kun liika ,· 30 vesi virtaa ylisyöksyn 58 yli, jonka ylempi reuna, joka määrittää veden pinnan 42, on juuri ketjujen 22 alapuolella, ja poistuu poistoputken 38 kautta.
Ketjut, ohitettuaan polypropyleeniohjaimen 60 altaan suulla, on taivutettu jyrkästi alaspäin veteen ei-35 pyörivän poikittaisen tangon 40 avulla, mistä ne sitten li 91812 5 kallistuvat vähitellen ylöspäin kulkien altaasta pois toisen polypropyleeniohjaimen 62 yli. Samalla kun levyjen takareunat, jotka ovat jäykkiä, on tuettu ohjaimeen 60 johtavan ketjun osan avulla, etureunat työntyvät eteenpäin 5 altaassa olevan veden pinnan yli, kunnes ne tulevat kosketukseen pyörivän harjatelan 44 kanssa, joka sijaitsee alaspäin taipuvan ketjun osan yläpuolella ja siitä eteenpäin, joka painaa levyjen etureunat, kuten levyn 14 etu-reunan, ja ohjaa ne veteen ja uudelleen kiinni ketjuun, 10 kun ne nousevat kohti ohjainta 62.
Kotelo 46 on sijoitettu altaan yläpuolelle ja se sulkee sisäänsä suurteho-UV-lampun 48 (5 kW), joka on sijoitettu poikittain levyjen kulkusuuntaan nähden. Kotelo 46 tuuletetaan jäähdytysyksiköstä saatavalla ilmalla, joka 15 sitten ilmataan ilmakehään, poistopuhaltimen 50 avulla.
Tämä myös poistaa lampun 48 tuottaman otsonin, joka on mahdollinen terveysuhka.
Samalla kun levyt ovat esimerkiksi 30 mm altaassa olevan veden pinnan alapuolella, kuten levy 16, niitä sä-20 teilytetään ultraviolettilampulla 48 lasirasterin 64 läpi. Valotus veden läpi on havaittu tehokkaammaksi lyhyellä aikavälillä niiden kulkiessa säteilytysyksikön kautta, kuin jos levyjen herkät pinnat olisivat kontaktissa kuivaan ilmaan.
25 Vesi, joka valuu ketjuista 22 ja levyistä, kuten levystä 18, niiden kohotessa altaasta ohjaimen 62 yli, kerätään tippakaukaloon 30, samalla kun toinen tippakau-kalo 66 kerää vettä, joka valuu ketjuista niiden kääntyessä ketjupyörän 54 ympäri.
30 Kuvio 2 esittää levynkäsittelykoneen toista suori- tusmuotoa, joka voi olla vaihtoehtoista leveyttä käsiteltävien levyjen koon mukaisesti.
Tässä suoritusmuodossa, yksityiskohtiin, joilla on vastine kuvion 1 suoritusmuodossa, viitataan yleisesti 35 samoin viittein ja täten käsittelykone käsittää uunin 2, 6 91 8 '1 2 joka on 600 mm pitkä ja joka on sijoitettu useiden päättymättömien ketjujen 22 muodostaman ylemmän kantomatkan alapuolelle ja jota pitkin levyt 8-20 kulkevat syöttö-asemasta 3 pääteasemaan 5. Ketjut on vedetty koneen läpi 5 ketjupyörien 49 avulla altaan 34 alapuolelta ja laipalli-set hihnapyörät 51 rajoittavat koneen molemmissa päissä, joiden avulla ylempi kantamatka 7 on kireä ja alempi matka 9 on kiristetty heikosti.
Uunin alapuolella levyt, kuten levy 12, kulkevat 10 jäähdytysvyöhykkeelle, missä puhallin 28 ajaa ilmaa levyille lämmönvaihtimen 24 kautta, johon syötetään kylmää ves i j ohtovettä.
Jäähdytysvyöhykkeen jätettyään, ketjut 22 taipuvat pitkin alaspäin kulkevaa reittiä 11, jonka avulla perät-15 täisten levyjen etureunat, esimerkiksi levyn 14, työntyvät suorakulmaiseen vesialtaaseen 34.
Altaan 34, joka on leveydeltään ja pituudeltaan samanlainen kuin uuni, syötetään lämmönvaihtimesta 24 vettä, jonka pinta pidetään vakiotasolla tavanomaisin keinoin 20 (ei kuvassa).
Pari poikittaisia syöttöteloja 13 on sijoitettu vesialtaan 34 yläpuolelle telojen välisen kosketuspinnan ollessa hieman veden pinnan alapuolella, kun taas toinen telapari 15 on sijoitettu altaan toiseen päähän telojen 25 kosketuspinnan ollessa juuri veden pinnan yläpuolella.
Reiitetty polypropyleenialusta 17 on sijoitettu altaan sisälle poikittain ja se on hieman kovera pituussuunnassaan telaparien 13 ja 15 välillä.
Telat 13 pyörivät niin, että niiden vierekkäiset ·. 30 pinnat liikkuvat eteenpäin samalla nopeudella kuin ketjut 22 niin, että ne vastaanottavat perättäisten levyjen etu-reunat ja vievät ne veteen altaaseen, kun ketjut 22 suuntautuvat alaspäin aiheuttamatta takareunojen liukumista ketjujen yli. Parin 13 ylempi tela on sijoitettu hieman 35 toista edemmäksi levyjen kulkusuunnassa niin, että kun 11 91812 7 levyt sukeltavat eteenpäin telaparin välistä, ja koska ne luonnostaan ovat hieman taipuisia, levyt työntyvät hieman alaspäin kulmassa veteen, kunnes ne koskettavat alustaa 17. Vielä telaparin 13 väliin puristuneena kukin perättäi-5 nen levy sitten ohjautuu alustan 17 avulla ja vihdoin se ohjataan ylöspäin ja lopuksi pois vedestä nippiin telojen 15 väliin, joista ylempi tela on hieman taaempana kuin alempi.
Telaparien 13 ja 15 välinen etäisyys on sellainen, 10 että lyhin koneessa käsiteltäväksi aiottu levy on etureunastaan telaparin 15 otteessa ennenkuin takareuna jättää telaparin 13 nipin. Parin 15 telat on synkronoitu telojen 13 kanssa niin, että luistoa ei esiinny levyn ja kummankaan telaparin välillä siinä tapauksessa, että pidempää 15 levyä pidetään lyhyen ajan molemmissa nipeissä. Telojen 15 välisen nipin ollessa altaan veden pinnan tason yläpuolella, telat toimivat vedenpuristustelojen tavoin kun ne vetävät levyt altaasta.
Ylempi ketjujen 22 jonon muodostama kantomatka 7 20 kääntyessään alaspäin osan 11 yli, ohjataan vesialtaan 34 alitse ja on taivutettu ylöspäin ja eteenpäin altaasta, osan 21 yli ollakseen asemassa vastaanottamassa levyjä, jotka tulevat telojen 15 nipistä ja kuljettavat niitä t. eteenpäin, kuten levyä 18, kohti pääteasemaa 5.
25 UV-lamppu 48 on sijoitettu koneeseen nähden poikit tain vesialtaan 34 yläpuolelle, ja vaakasuora lasirasteri 64 on sijoitettu lampun 48 ja altaan 34 väliin. Kuten ensimmäisen suoritusmuodon yhteydessä kuvataan, levy, kuten levy 16, on sijoitettu valotettavaksi kauttaaltaan lampun • 30 48 avulla, samalla kun se kulkee veden alla altaassa 34, jonka avulla levyn päällysteen sellaiset osat,jotka eivät ole altistuneet valokemialliselle säteilylle ennen uunissa 2 lämmittämistä, tehdään nyt alkaaliliukenevaksi lampun 48 säteilyn vaikutuksesta.
35 Lamppu 48 on sijoitettu kotelon 47 sisään, johon 91812 δ on liitetty poistopuhallin 50,jonka avulla lampun 48 ympärille muodostuva otsoni saadaan pois ja ilmataan ilmakehään. Poistopuhallin toimii myös vetäen ilmaa infrapuna esilämmitinelementin 52 läheisyydestä, joka on sijoitettu 5 ennen uunia 2 ja ilmaten sen ilmakehään.
Samalla kun on edullista, että vesipitoinen ympäristö levyjen ympärillä, samallakun ne saavat säteilyä on varustettu jatkuvalla nestemäisen veden kerroksella, on keksinnön piirissä mahdollista korvata vesikylpy kammiol-10 la, jossa oleva kosteus on suurempi kuin ympäröivän ilmakehän, joka on saatu aikaan ja jota pidetään yllä sumutus-suihkeen avulla tai muulla sopivalla ja tavanomaisella tavalla.
1:
Claims (12)
1. Menetelmä laakapainolevyjen kääntökehitystä varten, joissa levyissä on valonherkkä päällyste toisella 5 pinnallaan, käsittäen seuraavat vaiheet: (i) päällystetyn pinnan osan valottaminen kuvakohtaisesti osan saamiseksi liukenevaksi kehitteeseen; (ii) levyn lämmittäminen kuvakohtaisesti valotetun osan saamiseksi suhteellisen liukenemattomaksi kehittee- 10 seen; (iii) päällystetyn pinnan säteilyttäminen kokonaisuudessaan levyn lämmittämisen jälkeen aiemmin valottamat-toman päällystetyn pinnan osan tekemiseksi liukenevaksi; ja 15 (iv) levyn kehittäminen liuottamalla päällystetyn pinnan aiemmin valottamatonta osaa; tunnettu siitä, että säteily kohdistetaan levyn päällystetylle pinnalle levyä ympäröivän runsaasti vettä sisältävän ympäristön kautta.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että runsaasti vettä sisältävä ympäristö aikaansaadaan kammiolla, jossa on vesisuihkuja, jotka muodostavat ympäröivän ilmatilan, jossa on korkea . kosteusaste. “ 25
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että runsaasti vettä sisältävä ympäristö aikaansaadaan muodostamalla vesikerros levyn päällystetylle pinnalle.
4. Patenttivaatimuksen 3 mukainen menetelmä, 30 tunnettu siitä, että levy kulkee vesikylvyn kautta.
5. Jonkin patenttivaatimuksen 1-4 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että levyä jäähdytetään lämmitysvaiheen ja säteilytysvaiheen välillä. 918ί2
6. Minkä tahansa edelläolevan patenttivaatimuksen mukainen 1-5 menetelmä, tunnettu siitä, että valoherkkä päällyste sisältää aromaattista kinoni diazi-diä.
7. Patenttivaatimuksen 6 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että valonherkkä päällyste käsittää lisäksi joko resolia tai novolakkahartsia.
8. Laite laakapainolevyjen kääntökehitysmenetelmää varten, levyn toisella pinnalla ollessa valonherkkä pääl- 10 lyste, jonka osa on kuvakohtaisesti altistettu valokemial-liselle säteilylle osan saattamiseksi liukenevaksi kehitteeseen; joka laite käsittää: (i) laitteet (2) levyn (8-20) lämmittämiseksi kuvakohtaisesti valotetun osan saamiseksi suhteellisen liu- 15 kenemattomaksi kehitteeseen; ja (ii) laitteet (48) päällystetyn pinnan säteilyttä-minen kokonaisuudessaan levyn lämmittämisen jälkeen aiemmin valottamattoman päällystetyn pinnan osan tekemiseksi liukenevaksi siten, että aiemmin valottamaton osa on pois- 20 tettavissa tulevassa kehitysvaiheessa; tunnettu kotelotilasta (34, 46), jonka läpi levy kuljetetaan säteilyn vastaanottamista varten, ja joka ko-telotila on järjestetty rajaamaan levyä ympäröivän runsaasti vettä sisältävän ympäristön, ja johon säteilytys- 25 laitteet (48) on asennettu säteilyttämään levyä runsaasti vettä sisältävän ympäristön kautta.
9. Patenttivaatimuksen 8 mukainen laite, tunnettu siitä, että kotelotila muodostuu vesikylvystä (34). • #« 30
10. Patenttivaatimuksen 9 mukainen laite, tun nettu siitä, että se käsittää kuljetuslaitteet (22) levyjonon (8-20) kuljettamiseksi lämmityslaitteiden (2) ja vesikylvyn (34) kautta. li 91812
11. Patenttivaatimuksen 10 mukainen laite, tunnettu siitä, että laite käsittää ensimmäiset nippite-lat (13) levyjen viemiseksi vesikylpyyn (34) ja toiset nippitelat (15) levyjen vetämiseksi pois vesikylvystä.
12. Jonkin patenttivaatimuksen 8 -11 mukainen lai te, tunnettu siitä, että se käsittää jäähdytys-laitteen (4) sijoitettuna lämmityslaitteen (2) ja vesikyl-vyn (34) väliin. t « 91 812
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/GB1987/000213 WO1988007705A1 (en) | 1987-03-27 | 1987-03-27 | Processing of exposed lithographic printing plates |
GB8700213 | 1987-03-27 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI894159A0 FI894159A0 (fi) | 1989-09-04 |
FI91812B true FI91812B (fi) | 1994-04-29 |
FI91812C FI91812C (fi) | 1994-08-10 |
Family
ID=10610329
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI894159A FI91812C (fi) | 1987-03-27 | 1989-09-04 | Valotettujen laakapainolevyjen käsittely |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0308400B1 (fi) |
AT (1) | ATE65332T1 (fi) |
AU (1) | AU610064B2 (fi) |
DE (1) | DE3771501D1 (fi) |
DK (1) | DK163188A (fi) |
FI (1) | FI91812C (fi) |
NO (1) | NO173845C (fi) |
WO (1) | WO1988007705A1 (fi) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3940911A1 (de) * | 1989-12-12 | 1991-06-13 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung negativer kopien |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE620660A (fi) * | 1961-07-28 | |||
US3723120A (en) * | 1971-08-30 | 1973-03-27 | Du Pont | Process for hardening photohardenable images |
US4148934A (en) * | 1977-12-02 | 1979-04-10 | W. R. Grace Ltd. | Secondary photocuring of photocured printing plate, apparatus and method |
DE3137430A1 (de) * | 1981-09-19 | 1983-03-31 | Severin & Hackenberg GmbH, 5650 Solingen | Im horizontal-durchlaufverfahren arbeitende offset-druckplatten-einbrennmaschine |
NL8203521A (nl) * | 1982-09-10 | 1984-04-02 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een inrichting. |
GB2171530B (en) * | 1985-02-27 | 1989-06-28 | Imtec Products Inc | Method of producing reversed photoresist images by vapour diffusion |
-
1987
- 1987-03-27 WO PCT/GB1987/000213 patent/WO1988007705A1/en active IP Right Grant
- 1987-03-27 EP EP87902126A patent/EP0308400B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-27 AU AU72044/87A patent/AU610064B2/en not_active Ceased
- 1987-03-27 DE DE8787902126T patent/DE3771501D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-27 AT AT87902126T patent/ATE65332T1/de not_active IP Right Cessation
-
1988
- 1988-02-08 NO NO880525A patent/NO173845C/no unknown
- 1988-03-24 DK DK163188A patent/DK163188A/da not_active IP Right Cessation
-
1989
- 1989-09-04 FI FI894159A patent/FI91812C/fi not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NO173845C (no) | 1994-02-09 |
EP0308400A1 (en) | 1989-03-29 |
NO173845B (no) | 1993-11-01 |
FI894159A0 (fi) | 1989-09-04 |
DK163188A (da) | 1988-10-06 |
AU7204487A (en) | 1988-11-02 |
NO880525L (no) | 1988-10-06 |
FI91812C (fi) | 1994-08-10 |
NO880525D0 (no) | 1988-02-08 |
WO1988007705A1 (en) | 1988-10-06 |
AU610064B2 (en) | 1991-05-16 |
ATE65332T1 (de) | 1991-08-15 |
EP0308400B1 (en) | 1991-07-17 |
DE3771501D1 (de) | 1991-08-22 |
DK163188D0 (da) | 1988-03-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4927741A (en) | Processing of exposed lithographic printing plates by conducting second exposure under water | |
US4142194A (en) | Web processor | |
US3071866A (en) | High speed photographic print drying machine | |
US8409785B2 (en) | Apparatus and method for treating imaging materials | |
US3726023A (en) | Web drier | |
FI91812B (fi) | Valotettujen laakapainolevyjen käsittely | |
CA2016362A1 (en) | Method and apparatus for continuously drying boards coated on both sides | |
US3635144A (en) | Floating film photographic developing apparatus | |
JP2568447B2 (ja) | 印刷原板を処理するための装置及び方法 | |
GB2188448A (en) | Processing of lithographic printing plates | |
US4363176A (en) | Antibuckling apparatus for lithographic printing plates | |
JP2598059B2 (ja) | 露光式石版の製造方法 | |
US4316664A (en) | Conveyance system incorporated in photographic treatment apparatus for long length photosensitive material | |
US4466737A (en) | Apparatus and method for exposing a sensitized base | |
US3638605A (en) | Fabrication of printed circuits | |
JP3405860B2 (ja) | エッチング製品の製造方法および製造装置 | |
PT84641B (pt) | Metodo e aparelho para o processamento de reversao de placas litograficas de impressao | |
US3538834A (en) | Drying and piling device for wet developed sensitized papers | |
US1516663A (en) | Apparatus for drying sheets of edible gelatin | |
JPH05265169A (ja) | 写真材料のための液体ワイパー | |
JPH0253227B2 (fi) | ||
JP2000181081A (ja) | 加熱装置 | |
JP2006251016A (ja) | 基板露光方法および基板加熱装置ならびに基板露光装置 | |
JPH03131852A (ja) | 感光材料乾燥方法 | |
JP2007033912A (ja) | 写真処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BB | Publication of examined application | ||
MM | Patent lapsed |
Owner name: HORSELL GRAPHIC INDUSTRIES LIMITED |