FI81256B - Stabil antiplaquetandkraem och process foer dess framstaellning. - Google Patents

Description

1 81256

Stabiili plakkia estävä hammastahna ja menetelmä sen valmistamiseksi Tämä keksintö koskee plakkia estävän hammastahnan kokoonpanoa, jolla on parantunut vaahtoaminen, parantunut maku, liukoinen aktiivinen aineosa, parantunut fluoridistabiilisuus, kaikkien komponenttien parantunut yhteensopivuus, parantuneet pursotus-ominaisuudet erilaisista säiliöistä ja parantunut hintahyöty-suhde , sekä menetelmää sen valmistamiseksi.

Tähän saakka on vaikeaa muodostaa kosmeettisesti hyväksyttävää, plakkia estävää hammastahnaa, joka koostuu kvaternäärisestä ammoniumyhdisteestä ja pinta-aktiivisesta betaiinista kostutus-systeemin ollessa kokonaan glyseriiniä tai kokonaan sorbitolia. Lisäksi glyseriini/polyetyleeniglykoli- tai sorbitoli/polyetylee-niglykoliseosten käyttö, joissa glyseriiniä tai sorbitolia oli läsnä yli 10 p-% kokoonpanosta, osoitti marginaalista kosmeettista stabiilisuutta. Kuitenkin perusteellisten liukoisuus-testien jälkeen bentsetoniumkloridi(BTC)-hammastahnassa olevien komponenttien eri seoksilla löydettiin veden, BTC:n, betaiinin, suolojen ja glyseriinin yhteensopivia systeemi, joka riippui näiden komponenttien lisäysjärjestyksestä.

Näin ollen on havaittu, että käyttämällä spesifistä menetelmää plakkia estävän hammastahnan stabiileja kokoonpanoja, jotka sisältävät kvaternääristä ammoniumyhdistettä ja pinta-aktiivista betaiinia, voidaan valmistaa käyttäen glyseriiniä tai sorbitolia kostutusaineena. Tämän menetelmän olennaisena piirteenä on kahden erillisen faasin muodostus ja senjälkeen näiden kahden faasin yhdistäminen stabiilin systeemin muodostamiseksi. Toinen näistä faaseista sisältää aktiivista kvaternääristä aineosaa (bentseto-niumkloridia tai setyylipyridiniumkloridia) liuotettuna pinta-aktiiviseen betaiiniin (kookosamidopropyylibetaiini) ja maustetta ja joka määritellään öljygeelifaasiksi. Toinen faasi sisältää vettä, kostutusainetta ja ionitonta geelitysainetta, esim. hydroksi-etyyliselluloosaa ja valinnaisesti natriumsakkariinia ja fluoria sisältävää yhdistettä, esim. natriummonofluorifosfaattia ja se määritellään vesigeelifaasiksi. Hampaankiillotusaine voidaan 2 81256 lisätä yhdistettyihin faaseihin viimeisenä vaiheena tai se voidaan lisätä vesigeelifaasiin ennenkuin se yhdistetään öljygeelifaasiin. Lopullisella tuotteella on parantunut kemiallinen ja kosmeettinen stabiilisuus ja parantunut maku.

Tavanomainen menetelmä bakteereja tappavien hammastahnojen valmistamiseksi, jotka sisältävät kvaternääristä ammoniumyhdistet-tä aktiivisena materiaalina, selostetaan US-patenteissa n:ot 4 118 476 ja 4 188 372 ja siinä muodostetaan geeli, jossa on kostutusainetta (glyseriiniä, sorbitolia, polyetyleeniglykolia), paksunnosainetta (hydroksietyyliselluloosaa) ja makeutusainetta ja lisätään siihen kiillotusainetta, maustetta, bakteereja tappavaa ainetta, lisää vettä ja lopuksi tahranestoainetta (fosforiryhmän sisältävä yhdiste tai melliittihappoa sisältävä yhdiste) .

Alalla on aikaisemmin kuvattu myös menetelmiä hammastahnan stabiloimiseksi saostumista ja höytälöitymista vastaan, joka johtaa bakteereja tappavan aineen ja alkalimetallihydroksialkyy-liselluloosan yhteensopimattomuudesta, kuten on esitetty US-patenteissa n:ot 3 842 168 ja 3 843 779. Edellisessä patentissa käytetään vaiheita, joissa lisätään veteen liuotettua, bakteereja tappavaa ainetta karboksietyyliselluloosan, natriumsakkariinin ja kostutusaineen vedettömään seokseen ja lisätään sitten pinta-aktiivinen aine geelin muodostamiseksi, johon lisätään kiillo-tusmateriaali ja mauste viimeisessä vaiheessa. Jälkimmäisessä patentissa lisätään bakteereja tappava aine erikseen tai yhdessä pinta-aktiivisen aineen kanssa glyseriinin, veden, natriumsakkariinin, karboksimetyyliselluloosan ja pinta-aktiivisen aineen seokseen, minkä jälkeen lisätään kiillotusaine ja mauste. Pinta-aktiivisen aineen lisäyksen on tapahduttava ennen bakteereja tappavan aineen lisäystä tai samanaikaisesti sen kanssa, jotta estettäisiin saostuminen hammastahnassa.

Alalla ei ole kuitenkaan aikaisemmin kuvattu kosmeettista ja kemiallisesti stabiilia, plakkia estävää hammastahnaa, joka sisältää olennaisina aineosina plakkia estävää kvaternääristä ammoniumyhdistettä, kahtaisionista pinta-aktiivista betaiinia, li 3 81256 glyseriini- ja/tai sorbitolikostutusainetta ja ionitonta geelitysainetta, joka on valmistettu uudella menetelmällä, jossa käytetään määrättyä vaiheiden järjestystä, jossa muodostetaan kaksi erillistä geelifaasia, öljygeelifaasi, joka koostuu kvaternäärisestä ammoniumyhdisteestä, pinta-aktiivisesta betaiinista ja mausteesta; ja vesigeelifaasi, joka koostuu vedestä, kostutusaineesta ja geelitysaineesta; yhdistetään nämä kaksi geelifaasia yhdeksi perusgeeliksi ja lisätään ham-paanhankausainetta yhdistettyyn geelifaasiin viimeisenä vaiheena tai vesigeelifaasiin ennen öljygeelifaasin lisäystä.

Nyt on havaittu, että plakkia estävän hammastahnan stabiileja kokoonpanoja, jotka sisältävät kvaternääristä ammoniumyhdis-tettä ja pinta-aktiivista betaiinia, voidaan valmistaa käyttäen glyseriiniä tai sorbitolia kostutusaineena käyttämällä määrättyä vaiheiden järjestystä, jossa muodostetaan öljygeelifaasi kvaternäärisestä ammoniumyhdisteestä, betaiinista ja mausteesta, erillinen vesigeelifaasi kostutusaineesta, ionit-tomasta geelitysaineesta ja vedestä (joka voi oleellisesti sisältää suolat, ts. natriumsakkariinin ja natriummonofluori-fosfaatin tai muuta fluoridisuolaa), yhdistetään öljy- ja vesifaasit stabiilin perusgeelifaasin muodostamiseksi ja lisätään hampaanhankausainetta viimeisenä vaiheena. Tätä menetelmää voidaan vaihdella lisäämällä kiillotusaine vesigee-liin ja lisäämällä sitten öljygeeli vesigeelin ja hankausai-neen seokseen. Tämä hammastahna valmistetaan ympäristön lämpötilassa, ts. jokainen vaihe koko vaiheiden sarjassa suoritetaan ympäristön (huoneen-) lämpötilassa. Keksinnön oleelliset tunnusmerkit on esitetty oheisissa patenttivaatimuksissa.

Näin ollen tämän keksinnön päätarkoituksena on muodostaa stabiili plakkia estävä hammastahna, joka perustuu kvaternääri-siin aktiivisiin aineosiin ja pinta-aktiiviseen betaiiniin, jolla on kaikkien komponenttien parantunut yhteensopivuus, muodostamalla kaksi erillistä geelifaasia, jotka yhdistetään stabiilin kokonaisgeelisysteemin muodostamiseksi.

Toisena tämän keksinnön tarkoituksena on saada aikaan kosmeettisesta 4 81256 ja kemiallisesti stabiili plakkia estävä hammastahna, joka sisältää glyseriiniä ja/tai sorbitolia kostutusaineena, joka on yhteensopiva betaiini- ja kvaternäärisen aktiivisen aineosan kanssa.

Vielä muuna tämän keksinnön tarkoituksena on saada aikaan stabiili plakkia estävä hammastahna, joka sisältää ionitonta kumihartsia, kuten hydroksietyyliselluloosaa geelitysaineena betaiini-kvat-systeemin stabiloimiseksi ja kvaternäärisen aktiivisen aineosan deaktivoitumisen estämiseksi.

Muuna tämän keksinnön tarkoituksena on saada aikaan kosmeetti-sesti (fysikaalisesti) ja kemiallisesti stabiili plakkia estävä hammastahna, joka sisältää myös fluoridia aikaansaavaa yhdistettä, vaikuttamatta haitallisesti hammatahnan kosmeettiseen stabiilisuuteen.

Muut tämän keksinnön tarkoitukset, edut ja uudet piirteet esitetään osittain seuraavassa kuvauksessa ja osittain se käy alaan perehtyneille ilmi seuraavaa tutkimalla tai he voivat oppia ne keksintöä toteuttamalla. Keksinnön tarkoitukset ja edut voidaan toteuttaa ja saavuttaa liitteenä olevissa patenttivaatimuksissa erityisesti korostetuilla instrumenteilla ja yhdistelmillä.

Edellä olevien ja muiden tarkoitusten saavuttamiseksi ja tämän keksinnön mukaisesti, kuten tässä on ilmennetty ja laajasti kuvattu, tämän keksinnön uusi stabiili plakkia estävä hammastahna, joka sisältää plakkia estävää kvaternääristä ammonium-yhdistettä, kahtaisionista pinta-aktiivista betaiinia, maustetta ja kostutusainetta, joka on valittu ryhmästä, johon kuuluvat glyseriini, sorbitoli ja niiden seokset, ja ionitonta geelitys-ainetta, valmistetaan ympäristön lämpötilassa menetelmällä, jossa muodostetaan kaksi erillistä geelifaasia, öljygeelifaasi, joka koostuu plakkia estävästä kvaternäärisestä ammoniumyhdis-teestä, betaiinista ja mausteesta; ja vesigeelifaasi, joka koostuu vedestä, kostutusaineesta ja ionittomasta geelitys-aineesta; yhdistetään nämä kaksi geelifaasia yhden geelifaasin muodostamiseksi; lisätään hampaanhankausainetta sanottuun yhdis- 5 81256 tettyyn geelifaasiin. Lisäysjärjestystä voidaan vaihdella lisäämällä hampaanhankausaine vesigeelifaasiin ennen sen yhdistämistä öljygeelifaasiin. On kuitenkin välttämätöntä, että kaksi erillistä geelifaasia valmistetaan ennen lisäys-vaiheita. Suolojen, kuten fluoria sisältävän yhdisteen ja/tai natriumsakkariinin lisäys, jotka ovat edullisia yhdisteitä, tehdään liuottamalla kokoonpanon vesimäärään ennen veden sekoittamista kostutusaineeseen ja geelitysaineeseen vesigeelifaasin muodostuksessa.

Tarkemmin sanoen tämä keksintö koskee uutta menetelmää kosmeettisen ja kemiallisesti stabiilin, plakkia estävän hammastahnan valmistamiseksi, jossa menetelmässä muodostetaan kaksi faasia, öljygeelifaasi, ja vesigeelifaasi, ja joka koostuu seuraavasta vaiheiden järjestyksestä: a) dispergoidaan kokoonpanon määrä plakkia estävää kvater-nääristä ammoniumyhdistettä kokoonpanon määrään maustetta, b) sekoitetaan sanottu kvaternäärisen ammoniumyhdisteen ja mausteen dispersio kokoonpanon määrään pinta-aktiivista betaiinia öljygeelifaasin muodostamiseksi, c) dispergoidaan kokoonpanon määrä ionitonta geelitysainetta kokoonpanon määrään glyseriini- ja/tai sorbitolikostutusainetta, d) sekoitetaan sanottu geelitysaineen ja kostutusaineen dispersio kokoonpanon määrään vettä vesigeelifaasin muodostamiseksi , e) yhdistetään nämä kaksi geelifaasia stabiilin perusgeeli-faasin muodostamiseksi, f) lisätään hampaanhankausaine vesigeelifaasiin tai perusgeeli-faasiin sekoittaen ja g) otetaan stabiili, plakkia estävä hammastahna talteen.

Öljygeelifaasi on viskoosin, läpikuultavan geelin muodossa. Vesigeelifaasi on läpinäkyvä. Stabiili perusgeelifaasi muistuttaa emulgoitua systeemiä.

Tätä menetelmää voidaan modifioida lisäämällä ja sekoittamalla hampaanhankausaine vesigeelifaasin kanssa ja lisäämällä sitten öljygeelifaasi hampaanhankausaineen ja vesigeelifaasin seokseen.

6 81256

Natriumsakkariini ja/tai fluoria sisältävä yhdiste, jotka ovat ovat valinnaisesti edullisia lisäaineita, liuotetaan kokoonpanon määrään vettä ennen sen lisäämistä kostutusaineen ja geelitysaineen dispersioon ja vesigeelifaasin muodostusta.

Tämän keksinnön uusi muodostusmenetelmä, jossa käytetään vain glyseriini- ja/tai sorbitolikostutusainetta kvaternääri-betaiinisysteemissä, antaa hammastahnalle kemiallista ja kosmeettista stabiilisuutta samoin kuin parantuneen maun. Hakuominaisuudet bentsetoniumkloridi-(BTC) betaiinihammastfihnalla, joka sisältää 20 % glyseriini- tai sorbitolikostutusciinetta, ovat suuresti parantuneet verrattuna 20 % polyetyleeniglykolia (PEG 600) sisältävään BCT-hammastahnaan. Glyseriini- ja/tai sorbitolikostutusaineen aikaansaama stabiilisuus ei ulotu muihin kostutusaineisiin, kuten polyetyleeniglykoliin. BCT-hammastahnan 20 % PEG 600-kostutusainetta sisältävässä geelifaasissa on havaittu saostumista. Sakka analysoitiin käyttäen IR-spektrofotomerista menetelmää ja sen havaittiin koostuvan BTC:stä, sakkariinista ja betaiinista.

BTC-hammastahnalla suoritetut fluoridistabiilisuustutkimukset ovat varmistaneet, että suuri osa MFP-häviöstä johtuu hydrolyy-sistä pelkästään PEG 600-kostutusainetta sisältävässä systeemissä. Se voi olla syynä myös muihin ilmiöihin (ts. adsorptioon tai liukenemattomuuteen). Liukoisuusongelma on havaittu PEG 600:11a ja monofluorifosfaatilla (MFP). BTC-hammastahnassa olevan MFP:n stabiilisuustutkimukset osoittavat, että MFP:n hydrolyysiä tapahtuu suuressa määrin pelkästään PEG 600-kostutusainetta sisältävässä systeemissä. Kuitenkin pelkästään glyseriini-kostutusainetta sisältävä systeemi BTC-hammastahna osoittaa paljon vähemmän MFP:n häviötä. Itse asiassa pelkästään glyse-riinikostutusainetta sisältävä systeemi täyttää nykyisen vaatimuksen MFP:n varastointi-iän suhteen (yli 600 ppm liukoista fluoridia yhteensä, josta puolet on MFP:a), kun taas pelkästään PEG 600-kostutusainetta sisältävä systeemi ei sitä täytä (kts. taulukko I alla).

Il 7 81256

Taulukko I

MFP-stabiilisuus BTC-hammastahnassa käytettäessä 20 % PEG 600-kostutusainesysteemiä ja 20 % glyseriinikostutusainesysteemiä

Kostutus- PH Liukoinen F Ioni-F MFP F:na aine I 9w * I 3w 6w 9w * I 3w 6w 9w * I 3w 6w 9w * PEG 8,2 10,1 980 660 570 520 57 289 439 431 920 370 130 <100

Glyse- riini 7,8 8,3 980 870 790 7yu 26 55 85 106 950 810 700 680 *) w = viikkoa.

Tämä taulukko osoittaa selvästi MFP:n huonon stabiilisuuden pelkästään PEG 600-kostutusainetta sisältävässä ja erittäin hyvän MFP:n stabiilisuuden pelkästään glyseriiniä sisältävässä kokoonpanossa.

HPLC (korkeapainenestekromatografia)-analyysi suoritettiin sekä glyseriini- että sorbitoli-BTC-hammastahnakokoonpanolla alussa ja yhdeksän viikon kiihdytetyn vanhennuksen jälkeen 49°C:ssa. Kaksi BTC:n uuttomenetelmää (vesi ja asetoni) eivät osoita BTC:n talteenoton laskua kiihdytetyn vanhennuksen jälkeen (kts. taulukko II).

Taulukko II

Glyseriini- ja sorbitoli-BTC-hammastahnakokoonpanon HPLC-analyysi alussa ia 9 viikon kiihdytetyn vanhennuksen (49°C) jälkeen_

Analyysi alussa Analyysi vanh.jälkeen

Kostutusaine Vesiuutto Asetoniuutto Vesiuutto Asetoniuutto 20 % glyseriiniä 0,42 0,54 0,47 0,52 20 % sorbitolia 0,36 0,48 0,45 0,46 8 81256

Glyseriini- ja/tai sorbitolikostutusainesysteemi muodostaa n. 18-23 paino-% hammastahnaseoksesta.

Kationiset bakteereja tappavat materiaalit ovat alalla hyvin tunnettuja. Kts. esimerkiksi osa "Quaternary Ammonium and Related Compounds" artikkelissa aiheesta "Antiseptics and Disinfectants" teoksessa Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology, 2. painos (osa 2., sivut 632-635), joka liitetään viitteenä tähän esitykseen. Kationisia materiaaleja, joilla on bakteereja tappavaa aktiivisuutta (ts. jotka ovat mikro-organismeja tappavia) käytetään bakteereja vastaan ja niitä on käytetty oraalisissa seoksissa vastustamaan plakin muodostusta, jota bakteerit aiheuttavat suuontelossa.

Yleisimpiä näistä bakteereja tappavista, plakkia estävistä kvaternäärisistä ammoniumyhdisteistä on bentsetoniumkloridi, joka tunnetaan myös nimellä Hyamine 1622 tai di-isobutyyli-fenoksietoksietyylidimetyylibentsyyliammoniumkloridi ja setyyli-pyridiumkloridi. Oraalisessa seoksessa tämä materiaali on erittäin tehokas edistämään suun hygieniaa vähentämällä hammas-plakin ja -kiven muodostusta, mihin liittyy yleisesti hammasta ympäröivien tautien väheneminen. Muita tämän tyyppisiä kationisia bakteereja tappavia aineita ovat ne, jotka on mainittu esimerkiksi US-patenteissa 2 984 639, 3 325 402, 3 431 208 ja 3 703 583 ja GB-1 319 396.

Muita bakteereja tappavia, plakkia estäviä kvaternäärisiä ammo-niumyhdisteitä ovat ne, joissa yhdellä tai kahdella kvaternääri-sessä typessä olevista substituenteista hiiliketjun (tyypillisesti alkyyliryhmän) pituus on n. 8-20, tyypillisesti 10-18 hiiliatomia, kun taas muilla substituenteilla on pienempi hiiliatomien lukumäärä (tyypillisesti alkyyli- tai bentsyyliryhmä), kuten 1-7 hiiliatomia, ollen tyypillisesti metyyli- tai etyyliryhmiä. Dodekyylitrimetyyliammoniumbromidi, bentsyylidimetyylistearyyli-ammoniumkloridi, setyylipyridiumkloridi ja kvaternoitu 5-amino-1 ,3-bis (2-etyyliheksyyli)-5-metyyliheksahydropyrimid:.ini ovat tyypillisiä bakteereja tappavia kvaternäärisiä ammon:Lumyhdisteitä.

Tämän keksinnön hammastahnakokoonpano sisältää tehokkaan määrän

II

9 81256 plakkia estävää kvaternääristä ammoniumyhdistettä, edullisesti n. 0,1-1 paino-% seoksesta.

Kvaternääristen ammoniumyhdisteiden kyky estää hammasplakin muodostusta on hyvin tunnettu. Niitä deaktivoivat kuitenkin an-ioniset pinta-aktiiviset aineet, kuten natriumlauryylisulfaatti, jota käytetään tavanomaisesti hammastahnakokoonpanoissa. Anio-nisten pinta-aktiivisten aineiden korvaaminen ionittomilla pinta-aktiivisilla aineilla poistaa deaktivointiongelman, mutta johtaa tuotteisiin, joilla on huono vaahtoaminen. Kuitenkin pinta-aktiivisten betaiinien liittäminen plakkia estäviin hammas-valmisteisiin, jotka perustuvat kvaternäärisiin aktiivisiin aineosiin, parantaa odottamatta näiden kokoonpanojen vaahtoamis-ta deaktivoimatta kvaternäärisiä bakteereja tappavia aineita.

Kyseessä olevan hammastahnaseoksen betaiinikomponentilla on yleinen kaava: R2 f ^ R--N+-R -COO" 1 . 4 R3 jossa on alkyyliryhmä, jossa on 10 - n. 20 hiiliatomia, edullisesti 12-16 hiiliatomia, tai amidoradikaali:

O H

R-C-N-<CH„) - L· 3.

jossa R on alkyyliryhmä, jossa on n. 10-20 hiiliatomia ja a on kokonaisluku 1-3; R2 ja R^ ovat molemmat alkyyliryhmiä, joissa on 1-3 hiiltä ja edullisesti 1 hiili; R^ on alkyleeni- tai hyd-roksialkyleeniryhmä, jossa on 1-4 hiiliatomia ja valinnaisesti yksi hydroksyyliryhmä. Tyypillisiä alkyylidimetyylibetaiineja ovat desyylibetaiini tai 2-(N-dekyyli-N,N-dimetyyliammonio)ase-taatti, kookosbetaiini, tai 2-(N-kookos-N,N-dimetyyliammonio)ase-taatti, myristyylibetaiini, palmityylibetaiini, lauryylibetaiini, setyylibetaiini, stearyylibetaiini jne. Amidobetaiineihin kuuluvat samoinkookosamidoetyylibetaiini, kookosamidopropyyli-betaiini, lauramidopropyylibetaiini jne.

10 81256

Betaiinit, jotka ovat kahtaisionimateriaaleja, toimivat vaahdotusaineena kvaternääristä yhdistettä sisältävissä hammastahnaseoksissa. Ne toimivat kationisesti laajalla pH-alueella, mutta eivät deaktivoi kvaternääristä, mikrobeja tappavaa aktiivisuutta.

Häiriöttömyyden lisäksi, jota betaiinit osoittavat kvaternäärisen aktiivisuuden yhteydessä, laboratoriovaahtokokeet ovat osoittaneet, että kokoonpanot, jotka sisältävät sekä kvaternääristä ammoniumyhdistettä (kvat) että betaiinia, vaahtoavat 2-3 kertaa paremmin kuin ionittoman yhdisteen ja kvatin kokoonpanot.

Kahtaisioniset betaiinit ovat täysin yhteensopivia mikrobeja tappavien, plakkia estävien kvaternääristen aineiden kanssa ja antavat kvaternääristä yhdistettä sisältävälle hammastahna-seokselle puhdistus- ja parantuneita vaahtoamisominaisuuksia deaktivoimatta sen mikrobeja tappavia ominaisuuksia. Betaiinin määrä, joka on tehokas parantuneen vaahtoamisen aikaansaamisessa, voidaan vaihdella välillä n. 3-5 paino-% koko kokoonpanosta.

Kosmeettisia stabiilisuusongelmia esiintyy kaikilla kahtais-ionia sisältävillä hammastahnoilla, kuten aromin vuotamista saumasta. Aromia tihkuu ulos eikä se liukene kahtaisioniseen pinta-aktiiviseen aineeseen. Kuitenkin kyseessä olevien uusien plakkia estävien, glyseriini- ja/tai sorbitolikostutusainetta sisältävien hammastahnojen stabiilisuusarvostelut osoittavat tyydyttävää aromin stabiilisuutta yhdeksän viikon vanhennuksen ajan 49°C:ssa. Aromiaineosa, joka on olennainen aineosa hammastahnassa, muodostaa n. 0,5-2 paino-% siitä. Mitä tahansa sopivaa maustetta voidaan käyttää. Esimerkkejä sopivista mausteaineosista ovat mausteöljyt, kuten minttu-, piparminttu-, talvikki-, sassafras-, neilikka-, salvia-, eukalyptus-, meirami-, kaneli-, sitruuna- ja appelsiiniöljyt ja metyylisalisylaatti.

Makeutusainetta voidaan myös käyttää mausteainetta täydentävänä aineena. Sopivat makeutusaineet ovat vesiliukoisia ja niitä ovat sakkaroosi, laktoosi, maltoosi, sorbitoli, natriurnsyklamaatti ja sakkariini, määrän ollessa 0,01-0,5 paino-%.

Il 11 81256

Toinen olennainen aineosa kyseisessä hammastahnassa on geelitys-aine, joka on ioniton kumihartsi, jonka määrä on n. 0,8-1,5 paino-%. On havaittu, että suurilla orgaanisilla anionisilla molekyyleillä, kuten karboksimetyyliselluloosalla on mahdollisuus deakti-voida kvaternääristä bakteereja tappavaa aktiivisuutta.

Näin ollen hydroksietyyliselluloosa, joka on ioniton, pieni orgaaninen molekyyli aikaansaa stabiilin, limaisen geelin tämän keksinnön betaiini-kvatsysteemiin ja on edullinen geelitysaine. Muitakin ionittcmia geelitysaineita, kuten hydroksimetyylisellu-loosaa yms. voidaan käyttää.

Fluoridia aikaansaaville yhdisteille, jotka ovat edullisesti lisäaineosia kyseisessä hammastahnassa, on tunnusomaista niiden kyky vapauttaa fluoridi-ioneja veteeen ja se, etteivät ne reagoi hammastahnan muiden yhdisteiden kanssa. Näitä materiaaleja ovat epäorgaaniset fluoridisuolat, kuten liukoiset alkalimetalli-, maa-alkalimetalli- ja raskasmetallisuolat, esimerkiksi natriumfluoridi, kaliumfluoridi, ammoniumfluoridi, lyijyfluoridi, kuparifluoridi, kuten kuprofluoridi, sinkki-fluoridi, tinafluoridi, kuten stannifluoridi tai stannokloori-fluoridi, bariumfluoridi, natriumfluorisilikaatti, ammoniumfluori-silikaatti, natriumfluorizirkonaatti, natriummononofluorifosfaatti, alumiinimono- ja difluorifosfaatti ja fluorattu natriumkalsium-pyrofosfaatti. Alkalimetalli- ja tinafluoridit, kuten natrium-ja stannofluoridit, natriummonofluorifosfaatti ja niiden seokset ovat edullisia.

Fluoridia aikaansaavan yhdisteen määrä riippuu jossain määrin yhdisteen tyypistä, sen liukoisuudesta ja hammastahnasta, mutta sen on oltava myrkytön määrä. Kiinteässä oraalisessa valmisteessa kuten hammastahnassa tai -voiteessa sellaista yhdisteen määrää, joka vapauttaa korkeintaan 1 paino-%:n valmisteesta, pidetään tyydyttävänä. Mitä tahansa sopivaa minimimäärää tällaista yhdistettä voidaan käyttää, mutta on edullista käyttää riittävästi yhdistettä niin, että vapautuu 0,005-1 ja edullisesti n. 0,1 % fluoridi-ionia. Tyypillisesti kun kyseessä ovat alkalimetallifluoridit ja stannofluoridi, tätä komponenttia on läsnä korkeintaan 2 paino-%:n määrä lasket- 12 81 256 tuna valmisteen painosta. Kun kyseessä on natriummoriof luori-fosfaatti, yhdistettä voi olla läsnä korkeintaan 7,6 paino-%:n määrä, tyypillisesti 0,76 %.

Tämän keksinnön mukaisesti valmistettu hammastahna sisältää tavanomaisia veteen liukenemattomia kiillotusmateriaaleja tai hampaanhankausaineita n. 35-65 paino-%:n määrät koko seoksesta. Sopivia esimerkkejä hampaanhankausaineista tai kiillotusmateri-aaleista ovat natriummetafosfaatti, kaliummetafosfaatti, trikalsiumfosfaatti, dihydratoitu kalsiumfosfaatti, kidevedetön dikalsiumfosf aatti , kalsiumpyrofosf aatti , magnesiumortof osf aatti , trimagnesiumfosfaatti, kalsiumkarbonaatti, zirkoniumsilikaatit, piidioksidi, bentoniitti ja niiden seokset. Edullisia hankaus-aineita ovat alumiinioksidia sisältävät hankausaineet, kuten kalsinoitu alumiinioksidi ja hydratoitu alumiinioksidi ja näiden seokset. Hankausaine lisätään vesigeelifaasiin tai ainoaan geeliin öljygeeli- ja vesigeelifaasin yhdistämisen jälkeen.

Tämän keksinnön hammastahna voi sisältää myös tavanomaisia lisä-aineosia, kuten värjäys- ja valkaisuaineita, säilytysaineita ja ammonoituja materiaaleja, kuten monoammoniumglysyrritsinaattia. Näitä lisäaineosia voidaan kutakin lisätä hammastahnaan korkeintaan 5 paino-%:n minimaaliset määrät ja edullisesti korkeintaan 1 % edellyttäen, että ne eivät häiritse valmiin tuotteen vaahtoamis-, plakinesto- ja stabiilisuusominaisuuksia. Öljyfaasi muodostaa tyypillisesti n. 3,6-8 paino-% hammastahnasta.

Tämän keksinnön toteutuksessa suun hygienian edistämiseksi tämän keksinnön mukaista hammastahnaa levitetään säännöllisesti hammaskiilteelle harjaamalla hampaita 30-90 sekuntia ainakin kerran päivässä.

Seuraavat esimerkit kuvaavat tarkemmin tämän keksinnön luonnetta, mutta on ymmärrettävä, että keksintö ei rajoitu niihin. Seokset valmistetaan tavalliseen tapaan ja kaikki tässä ja liitteenä olevissa patenttivaatimuksissa mainitut pitoisuudet on laskettu painon mukaan, ellei toisin ole ilmoitettu.

li i3 81256

Esimerkki 1

Glyseriinikostutusainetta sisältävä/ plakkia estävä hammastahna Aineosat %

Vesi (ionivaihdettu) 19,34

Natriumsakkariini 0,30

Natriummonofluorifosfaatti 0,76

Hydroksietyyliselluloosa 1,10

Glyseriini 20,00

Bentsetoniumkloridi 0,50

Mauste 1 ,00

Kookosamidopropyylibetaiini 5,00

Kalsinoitu alumiinioksidi 10,00

Hydratoitu alumiinioksidi 42,00

Bentsetoniumkloridi dispergoidaan mausteeseen ja tämä dispersio sekoitetaan betaiiniin öljygeelin muodostamiseksi. Natriumsakkariini ja natriummonofluorifosfaatti (MFP) liuotetaan veteen. Hydroksietyyliselluloosa dispergoidaan glyseriiniin ja tämä seos lisätään vesi-sakkariini-MFP-liuokseen sekoittaen vesi-geelin muodostamiseksi, öljy- ja vesigeelit sekoitetaan yhteen stabiilin perusgeelin muodostamiseksi. Kalsinoitu alumiinioksidi ja hydratoitu alumiinioksidi sekoitetaan perusgeeliin lopullisen hammastahnan muodostamiseksi, joka on tehokas plakkiin liittyviä bakteereja vastaan samalla, kun sillä on erinomainen kemiallinen ja kosmeettinen stabiilisuus ja riittävät vaahtoamisominaisuudet. Tämä hammastahna valmistetaan huoneenlämpötilassa.

Esimerkki 2

Esimerkki 1 toistetaan paitsi, että 20 %:n glyseriinimäärä korvataan 20 %:lla sorbitolia. Saatu tuote on yhtä tehokas plakkiin liittyviä bakteereja vastaan ja sillä on myös erinomainen kemiallinen ja kosmeettinen stabiilisuus ja riittävät vaahtoamisominaisuudet .

MFP:n stabiilisuustutkimukset osoittavat, että molemmilla uusilla glyseriini- ja sorbitolihammastahnoilla on erinomainen MFP:n stabiilisuusprofiili. Esimerkissä 1 (20 % glyseriiniä) oli liukoisen fluoridin kokonaisarvo alussa 990 ppm ja MFP-arvo F:na 950 ppm. Esimerkissä 2 (20 % sorbitolia) oli liukoisen fluoridin kokonaisarvo 120 ppm ja MFP-arvo F:na 980 ppm (kts. taulukko III).

14 81 256

Taulukko III

Uuden pelkästään glyseriiniä sisältävän BTC-hammastahnan ja uuden pelkästään sorbitolia sisältävän BTC-hammastahnan MFP:n stabiilisuusprofiili__ (9 viikon (w) vanhennus 49°C:ssa)

Esim. Kostutusaine PH Liukoi- Ioni-F MFP F;na

nen F

I 9w I 9w I 9w I 9w 1 Pelkästään glyseriini 7,8 8,0 990 820 43 94 950 730 2 Pelkästään sorbitoli 7,6 7,7 1020 960 43 45 980 910

Kummankin kokoonpanon pH-profiilit osoittivat vain lievää kasvua 9 viikon vanhennuksen jälkeen 49°C:ssa. Kiihdytetyn vanhennuksen jälkeen liukoisen fluoridin kokonaisarvot ja MFP-arvot F:na olivat samassa järjestyksessä 820 ppm ja 730 ppm esimerkeissä 1 ja 960 ppm samassa järjestyksessä esimerkissä 2.

Yllä esitettyihin kokoonpanoihin voidaan tehdä muutoksia. Esimerkiksi kookosamidopropyylibetaiini voidaan esimerkeissä korvata muilla betaiineilla, kuten lauramidopropyylibetaiinilla, kookos-betaiinilla yms. Samoin esimerkeissä erityisesti mainitut hankaus-aineet voidaan korvata muilla hankausaineilla. Niinikään erikois-esimerkeissä käytetty natriummonofluorifosfaatti voidaan korvata muilla fluoria sisältävillä yhdisteillä, kuten natriumfluoridilla, kaliumfluoridilla jne. Niinikään bentsetoniumkloridi voidaan korvata setyylipyridiniumkloridilla tai muilla plakkia estävillä kvaternäärisillä ammoniumaineilla. Natriumsakkariini voidaan myös korvata natriumsyklamaatilla.

On ymmärrettävä, että edellä oleva yksityiskohtainen esitys on annettu pelkästään kuvaamisen vuoksi ja että siihen voidaan tehdä muutoksia poikkeamatta keksinnön hengestä. Yllä esitetyn "Tiivistelmän" tarkoituksena on pelkästään helpottaa tutkijoita eikä sille ole pantava painoa keksinnön suojapiirin suhteen.

Claims (15)

15 81 256

1. Kemiallisesti ja fysikaalisesti stabiili, plakkia estävä hammastahna, tunnettu siitä, että se sisältää noin 0,1-1 paino-% plakkia estävää kvaternääristä ammoniumyhdis-tettä, noin 3-5 paino-% pinta-aktiivista betaiinia, noin 0,5-2 paino-% maustetta, noin 18-23 paino-% glyseriinin ja/tai sorbitolin kostutusainesysteemin ja noin 0,8-1,5 paino-% ionitonta geelitysainetta, joka hammastahna on valmistettu menetelmällä, jossa valmistetaan kaksi erillistä geelifaasia, öljygeelifaasi, joka koostuu kvaternäärisestä ammoniumyhdisteestä, betaiinista ja mausteesta; ja vesigee-lifaasi, joka koostuu vedestä, kostutusaineesta ja ionitto-masta geelitysaineesta; yhdistetään sanotut geelifaasit yhdeksi geelifaasiksi, ja lisätään siihen 35-65 paino-% veteen liukenematonta hampaanhankausainetta viimeisenä vaiheena tai lisätään sanottu hankausaine vesigeelifaasiin ennen Ö1jygeelifaasin lisäystä.

2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen hammastahna, tunnettu siitä, että se lisäksi sisältää fluoridia tuottavaa yhdistettä, joka on liuotettu kokoonpanon vesimäärään ennen vesigeelifaasin muodostusta.

3. Patenttivaatimuksen 2 mukainen hammastahna, tunnettu siitä, että se sisältää vesiliukoisen makeutusaineen, joka on liuotettu kokoonpanon vesimäärään ennen vesigeelifaasin muodostusta.

4. Patenttivaatimuksen 3 mukainen hammastahna, tunnettu siitä, että sanottu makeutusaine on natriumsakkariini.

5. Patenttivaatimuksen 1 mukainen hammastahna, tunnettu siitä, että ioniton geelitysaine on hydroksietyyliselluloo-sa, jonka määrä on n. 0,8-1,5 paino-%.

6. Patenttivaatimuksen 1 mukainen hammastahna, tunnettu siitä, että hampaanhankausaine on alumiinioksidia sisältävä hankausaine. i6 81 256

7. Patenttivaatimuksen 2 mukainen hammastahna, tunnettu siitä, että fluoridia aikaansaavaa yhdistettä on läsnä riittävä määrä vapauttamaan n. 0,005-1 paino-% fluoridi-ionia hammastahnaan.

8. Patenttivaatimuksen 7 mukainen hammastahna, tunnettu siitä, että fluoridia aikaansaava yhdiste on natriurnmono-fluorifosfaatti.

9. Patenttivaatimuksen 1 mukainen hammastahna, tunnettu siitä, että betaiini on kokoosamidopropyylibetaiini.

10. Patenttivaatimuksen 6 mukainen hammastahna, tunnettu siitä, että hankausaine on hydrotoidun alumiinioksidin ja kalsinoidun alumiinioksidin seos.

11. Patenttivaatimuksen 4 mukainen hammastahna, tunnettu siitä, että natriumsakkariini muodostaa n. 0,01-0,5 paino-% siitä.

12. Menetelmä kosmeettisen ja kemiallisesti stabiilin plakkia estävän hammastahnan, joka sisältää tehokkaan määrän plakkia estävää kvaternääristä ammoniumyhdistettä, noin 3-5 paino-% pinta-aktiivista betaiinia, noin 0,5-2 paino-% maustetta, noin 18-23 paino-% glyseriini- ja/tai sorbitoli-kostutusainetta, noin 0,8-1,5 paino-% ionitonta geelitys-ainetta ja noin 35-65 paino-% veteen liukenematonta hampaan-hankausainetta, valmistamiseksi, joka menetelmä koostuu olennaisesti kahden erillisen faasin, öljygeelifaasin ja vesigeelifaasin muodostuksesta ennen kahden geelifaasin yhdistämistä yhdeksi geelifaasiksi, tunnettu siitä, että se käsittää seuraavan vaiheiden järjestyksen: a) dispergoidaan kokoonpanon määrä plakkia estävää kvaternääristä ammoniumainetta kokoonpanon maustemäärään; b) sekoitetaan sanottu kvaternäärisen ammoniumyhdisteen ja mausteen dispersio kokoonpanon määrän pinta-aktiivista betaiinia öljygeelifaasin muodostamiseksi; i7 81 256 c) dispergoidaan kokoonpanon määrä ionitonta geelityainetta kokoonpanon määrään glyseriini- ja/tai sorbitolikostutusai-netta; d) sekoitetaan sanottu geelitysaineen ja kostutusaineen dispersio kokoonpanon määrään vettä vesigeelifaasin muodostamiseksi; e) yhdistetään nämä kaksi geelifaasia stabiilin perusgeeli-faasin muodostamiseksi; f) lisätään hampaanhankausaine vesigeelifaasiin tai perus-geelifaasiin sekoittaen; ja g) otetaan stabiili plakkia estävä hammastahna talteen.

13. Patenttivaatimuksen 12 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että vesiliukoinen makeutusaine, fluoria sisältävä yhdiste tai molemmat liuotetaan kokoonpanon määrään vettä ennen sen lisäystä kostutusaineen ja geelitysaineen dispersioon vesigeelifaasin muodostuksessa.

14. Patenttivaatimuksen 13 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että makeutusaine on natriumsakkariini ja sanottu fluoria sisältävä yhdiste on natriummonofluorifosfaatti.

15. Patenttivaatimuksen 12 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että sanottu ioniton geelitysaine on hydroksietyy-liselluloosa.