FI70347B - Foerfarande och anordning foer aostadkommande av en av intensitetfoerdelning justerbar elektronridao - Google Patents

Foerfarande och anordning foer aostadkommande av en av intensitetfoerdelning justerbar elektronridao Download PDF

Info

Publication number
FI70347B
FI70347B FI831524A FI831524A FI70347B FI 70347 B FI70347 B FI 70347B FI 831524 A FI831524 A FI 831524A FI 831524 A FI831524 A FI 831524A FI 70347 B FI70347 B FI 70347B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
electrons
chamber
magnets
electron
window
Prior art date
Application number
FI831524A
Other languages
English (en)
Finnish (fi)
Other versions
FI831524L (fi
FI831524A0 (fi
FI70347C (fi
Inventor
Pertti Puulalainen
Rauno Rantanen
Pertti Sikanen
Original Assignee
Enso Gutzeit Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Enso Gutzeit Oy filed Critical Enso Gutzeit Oy
Priority to FI831524A priority Critical patent/FI70347C/fi
Publication of FI831524A0 publication Critical patent/FI831524A0/fi
Priority to DE19843416198 priority patent/DE3416198A1/de
Priority to US06/606,719 priority patent/US4543487A/en
Priority to GB08411346A priority patent/GB2139416B/en
Priority to JP59088582A priority patent/JPS6035447A/ja
Publication of FI831524L publication Critical patent/FI831524L/fi
Publication of FI70347B publication Critical patent/FI70347B/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI70347C publication Critical patent/FI70347C/fi

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J33/00Discharge tubes with provision for emergence of electrons or ions from the vessel; Lenard tubes

Landscapes

  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)

Claims (8)

1. Förfarande för astadkommande av en till sin intensitets— fördelning reglerbar elektronridä (5), i vilket förfarande med en i en kammare (1) placerad avlang trad (2) alstras fria elektroner i ett utrymme (6) som omger träden, elektro-ner accelereras i nämnda utrymme med elektrodkonstruktionen (3) som avgränsar det, och en elektronridä bestäende av de accelererade elektronerna styrs ut frän kammaren genom ett vid dess vägg beläget fönster (4) som är genomträngbart för elektroner, kännetecknat därav, att regleringen av elektronridans (5) intensitetsfördelning sker genom att använda ett avlängt, av mjukt magnetiskt material bestäende stycke (9) samt en magnetrad bestäende av bredvidliggande magneter (10), av vilka den ena är placerad väsentligen i trädens (2) riktning sett frän kammarens (1) fönster (4) tili omrädet bakom träden och den andra är placerad utanför kammarens fönster framför elektronridän, varvid som grund för den med magneterna ästadkomna regleringen är de frän träden emitterade e 1ektronernas av magnetfältets styrka beroende absorbtion vid elektrodkonstruktionen (3).
2. Förfarande enligt patentkravet 1, kännetecknat därav, att regleringen sker genom att reglera de inbördes avständen mellan radens olika magneter (10) och det av mjukt magnetiskt material varande stycket (9).
3. Förfarande enligt patentkravet 1, kännetecknat därav, att som magneter (10) används elektromagneter och att regleringen sker genom att reglera strömstyrkorna i radens olika magneter.
4. Anordning för ästadkommande av en till sin intensitetsfördelning reglerbar elektronridä (5) medelst förfarandet enligt nägot av patentkraven 1-3 vilken anordning omfattar en avläng träd (2) som emitterar elektroner, en elektrod-konstruktion (3) som avgränsar utrymmet (6) som omger träden för accelerering av elektronerna, samt en kammare (1) i
FI831524A 1983-05-03 1983-05-03 Foerfarande och anordning foer aostadkommande av en av intensitetfoerdelning justerbar elektronridao FI70347C (fi)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI831524A FI70347C (fi) 1983-05-03 1983-05-03 Foerfarande och anordning foer aostadkommande av en av intensitetfoerdelning justerbar elektronridao
DE19843416198 DE3416198A1 (de) 1983-05-03 1984-05-02 Verfahren und vorrichtung zum erzeugen eines elektronenvorhangs mit regulierbarer intensitaetsverteilung
US06/606,719 US4543487A (en) 1983-05-03 1984-05-03 Procedure and means for creating an electron curtain with adjustable intensity distribution
GB08411346A GB2139416B (en) 1983-05-03 1984-05-03 Procedure and means for creating an electron curtain with adjustable intensity distribution
JP59088582A JPS6035447A (ja) 1983-05-03 1984-05-04 電子流生成方法及び装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI831524A FI70347C (fi) 1983-05-03 1983-05-03 Foerfarande och anordning foer aostadkommande av en av intensitetfoerdelning justerbar elektronridao
FI831524 1983-05-03

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI831524A0 FI831524A0 (fi) 1983-05-03
FI831524L FI831524L (fi) 1984-11-04
FI70347B true FI70347B (fi) 1986-02-28
FI70347C FI70347C (fi) 1986-09-15

Family

ID=8517142

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI831524A FI70347C (fi) 1983-05-03 1983-05-03 Foerfarande och anordning foer aostadkommande av en av intensitetfoerdelning justerbar elektronridao

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4543487A (sv)
JP (1) JPS6035447A (sv)
DE (1) DE3416198A1 (sv)
FI (1) FI70347C (sv)
GB (1) GB2139416B (sv)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3529310A1 (de) * 1985-08-16 1987-03-05 Hoelter Heinz Verfahren zur reinigung von be- und entlueftungsschaechten in wohn- und krankenhaeusern, schulen, altenheimen usw.
US4763005A (en) * 1986-08-06 1988-08-09 Schumer Steven E Rotating field electron beam apparatus and method
FI84961C (sv) * 1989-02-02 1992-02-10 Tampella Oy Ab Förfarande för alstrande av högeffektelektronridåer med hög verkningsg rad
US5329129A (en) * 1991-03-13 1994-07-12 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Electron shower apparatus including filament current control
DE4432984C2 (de) * 1994-09-16 1996-08-14 Messer Griesheim Schweistechni Vorrichtung zum Bestrahlen von Oberflächen mit Elektronen
DE19844720A1 (de) * 1998-09-29 2000-04-06 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Dimmbare Entladungslampe für dielektrisch behinderte Entladungen
WO2007107211A1 (de) 2006-03-20 2007-09-27 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zur eigenschaftsänderung dreidimensionaler formteile mittels elektronen
KR101463483B1 (ko) * 2014-03-31 2014-11-27 우영산업(주) 원형 톱이 장착된 커팅 어셈블리의 중량 부여 타입 절삭 장치
CN115529710B (zh) * 2022-09-28 2024-02-20 中国原子能科学研究院 一种电子帘加速器

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3013154A (en) * 1958-11-14 1961-12-12 High Voltage Engineering Corp Method of and apparatus for irradiating matter with high energy electrons
US3144552A (en) * 1960-08-24 1964-08-11 Varian Associates Apparatus for the iradiation of materials with a pulsed strip beam of electrons

Also Published As

Publication number Publication date
GB2139416B (en) 1987-09-09
FI831524L (fi) 1984-11-04
FI831524A0 (fi) 1983-05-03
DE3416198A1 (de) 1984-11-22
GB8411346D0 (en) 1984-06-06
US4543487A (en) 1985-09-24
JPH0526539B2 (sv) 1993-04-16
GB2139416A (en) 1984-11-07
JPS6035447A (ja) 1985-02-23
FI70347C (fi) 1986-09-15
DE3416198C2 (sv) 1992-11-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1282400C (zh) 应用粒子束处理目标体积的方法和实施这种方法的装置
JP5409521B2 (ja) 粒子線治療装置
FI70347B (fi) Foerfarande och anordning foer aostadkommande av en av intensitetfoerdelning justerbar elektronridao
JP2005142034A (ja) 粒子線治療装置
JPS6486435A (en) Flood-gun device and method of neutralize charge on wafer
KR970030240A (ko) 중성 입자 비임 조사 장치
JPH02115800A (ja) 製品の両面照射装置
US20050189500A1 (en) Modulating ion beam current
KR101726560B1 (ko) 이온 주입에서 강화된 저 에너지 이온 빔 이송
US3013154A (en) Method of and apparatus for irradiating matter with high energy electrons
US2866902A (en) Method of and apparatus for irradiating matter with high energy electrons
FI70346C (fi) Anordning foer aostadkommande av en elektronridao
RU143673U1 (ru) Устройство развертки электронного пучка
JP2003156600A (ja) 電子線均一照射方法及び装置
JPS5652860A (en) Ion injection device
JPH07318698A (ja) 電子線照射装置
KR100933010B1 (ko) 펄스 반복률 변조를 이용한 빔 조사량 조절 장치 및 조절 방법
JP3873493B2 (ja) 荷電粒子ビーム出射装置及び荷電粒子ビーム照射方法
JP6486141B2 (ja) 粒子線治療装置および粒子線調整方法
JPH06290725A (ja) イオン源装置およびそのイオン源装置を備えたイオン打ち込み装置
Nariyama Current saturation in free-air ionization chambers with chopped synchrotron radiation
JPS6297241A (ja) X線発生装置
RU1797392C (ru) Устройство для облучения пучком частиц
SU949855A1 (ru) Устройство дл облучени электронами
JPH02112140A (ja) 低速イオン銃

Legal Events

Date Code Title Description
MM Patent lapsed
MM Patent lapsed

Owner name: OY TAMPELLA AB