SU949855A1 - Устройство дл облучени электронами - Google Patents

Устройство дл облучени электронами Download PDF

Info

Publication number
SU949855A1
SU949855A1 SU782579452A SU2579452A SU949855A1 SU 949855 A1 SU949855 A1 SU 949855A1 SU 782579452 A SU782579452 A SU 782579452A SU 2579452 A SU2579452 A SU 2579452A SU 949855 A1 SU949855 A1 SU 949855A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
magnet
plane
electron
width
cathode
Prior art date
Application number
SU782579452A
Other languages
English (en)
Inventor
Станислав Петрович Дмитриев
Андрей Сергеевич Иванов
Михаил Павлович Свиньин
Михаил Тихонович Федотов
Original Assignee
Предприятие П/Я А-7904
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я А-7904 filed Critical Предприятие П/Я А-7904
Priority to SU782579452A priority Critical patent/SU949855A1/ru
Priority to DD22931281A priority patent/DD161019A3/de
Application granted granted Critical
Publication of SU949855A1 publication Critical patent/SU949855A1/ru

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Radiation-Therapy Devices (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)

Description

Изобретение относитс  к ускорител м электронов простого действи , в частности дл  радиационной технологии .
Подавл кнцее большинство выходных устройств ускорителей выполн етс  по принципу сканировани  сфокусиррванного электронного пучка системой катушек
Однако данные устройства такого типа имеют ограничение по ширине зоны облучени , так как при сканировании на большие углы возникает значительна  неравномерность облучени , прежде всего вследствие потерь в фольге выпускного окна по кра м зоны облучени .
Известно также устройство дл  облучени  электронами, содержащее О-образный отклон ющий магнит и электрон ный источник с накаливаемым 12.
Известное устройство обеспечивает наиболее прот женную зону облучени , .равную длине О-образного магнита. Однако это устройство с бегущим полем  вл етс  сложным, так как, во-первых, оказываетс  сложной схема питани  электромагнитного бегущего пол  и, во-вторых, работа на переменном поле
Вызывает дополнительное усложнение камеры развертки, поскольку необходимо принимать меры по устранению вли ни  стенок камеры на работу электромагнита в режиме переменного пол .
Цель изобретени  - упрощение устройства , достижение предельно возможной ширины пол  облучени  и возможность регулировани  ширины пол  облу10 чени .
Поставленна  цель достигаетс  тем, что магнит выполнен как магнит стационарного пол , ось электронного пучка от источника наклонена к вход15 ной плоскости магнита, а катод выполнен линейным и расположенным в средней плоскости магнита.
Кроме того, в устройство введен по крайней мере второй магнит стацио20 нарного пол , входна  плоскость которого наклонена к пучку первого магнита.
Причем магнит выполнен вращаемым вокруг оси, перпендикул рно средней
25 плоскости магнита и снабжен регул тором индукции в рабочем зазоре магнита .
На фиг. 1 схематически показано предлагаемое устройство, общий вид;

Claims (2)

  1. 30 на фиг. 2 - траектории электронов от источника до обрабатываемой поверхности; на фиг. 3 - вариант Выполнени О-образного электромагнита, показанного со стороны входной плоскости} на фиг. 4 - вариант выполнени  предлагаемого устройства с двум  отклони ющими магнитами. Электронный источник с линейным катодом 1 формирует с помощью фокуси рующего 2 и ускор ющего электродов 3 ленточный пучок 4. Пучок направлен наклонно к входной плоскости магнита и находитс  в ее средней плоскости между полюсами 5 и б. После отклонени  пучок направл етс  на обрабатывающийобъект 7, например рулонный материал, перемещаемый в направлении показанном стрелкой. В варианте с двум  отклон ющими магнитами (Фиг.4) пучок из первого направл етс  наклон но к плоскости второго магнита с пол сами 5,б и далее на обрабатываемый 1атериал. Ленточный пучЬк 4 рассматривают ка совокупность линейных пучков (фиг.2) которые пересекают входную плоскость магнита под одним и тем же углом. Между полюсами магнита кажды. пучок движетс  по окружности с радиусом кривизны Р f CH). где Е - энерги  электронов; Н - напр женность магнитного Подбором индукции в зазоре, например изменением тока возбуждени  электромагнита при заданной энергии частиц и ширине его полюсов, обеспечивают траектории электронов на выходе, перпендикул рные выходной Плоскости электромагнита, поверхнос ти фольги и поверхности обрабатываемого объекта. Одинаковый угол вхождени  частиц ленточного пучка в магнит обеспечивает автоматически равномерное расширение пучка на длину L l/sinoL, где 1 - длина катода; оС- угол входа. Отклон ющий магнит может быть выполнен простой формы в виде 0-обр ного электромагнита (фиг. 3) с обмо кой посто нного тока 8 (лобовые час обмотки не показаны). Такие магниты широко примен ютс  в ускорительной технике и их конструирование не пред ставл ет принципиальных трудностей. Поскольку дл  стационарного режима магнитопровод может быть выполнен из стальных блоков, он может выполн ть функции части биологической защиты радиационной установки. Кроме того, с переходом на ускор ющую систему с пучком, наклоненным под малым углом к горизонту, сокращаетс  вертикальный размер радиационной установки , что также приводит к уменьшению размеров и веса защиты, а также веса опорных конструкционных элементов, Во врем  эксплуатации радиационной установки возникает необходимость облучени  материалов разной ширины, при этом необходимо соответствующее изменение ширины пол  облучени . Предлагаемое устройство осуществл ет указанную регулировку простым поворотом магнита в плоскости ленточного пучка с изменением угла входа, при этом перпендикул рное траектории электронов к плоскости фольги обеспечиваетс  регулировкой индукции в рабочем зазоре магнита, например регулировкой тока возбуждени  обмотки. Формула изобретени  1.Устройство дл  облучени  электронами , содержащее О-образный отклон ющий магнит и электронный источник с накаливаемым катодом, отличающеес  тем, что, с целью упрощени  устройства, магнит выполнен как магнит стационарного пол , ось электронного пучка от источника наклонена к входной плоскости магнита, а катод выполнен линейным и расположенным в средней плоскости магнита. 2.Устройство по П.1, о т л и чающеес  тем, что, с целью Достижени  предельно возможной ширины пол  облучени , в устройство введен по крайней мере второй магнит стационарного пол , входна  плоскость которого наклонена к пучку первого магнита. 3.Устройство по П.1, отличающеес  тем, что, с целью возможности регулировани  ширины пол  облучени , магнит выполнен вращаемым вокруг оси, перпендикул рной средней плоскости магнита, и снабжен регул тором индукции в рабочем зазоре магнита. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1.Патент США №3469139,кп.313-74. опублик. 1969.
  2. 2.Авторское свидетельство СССР № 516329, кл, Н 05 Н, 1975 (прототип ) .
SU782579452A 1978-02-24 1978-02-24 Устройство дл облучени электронами SU949855A1 (ru)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782579452A SU949855A1 (ru) 1978-02-24 1978-02-24 Устройство дл облучени электронами
DD22931281A DD161019A3 (de) 1978-02-24 1981-04-16 Vorrichtung fuer die bestrahlung mittels elektronen

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782579452A SU949855A1 (ru) 1978-02-24 1978-02-24 Устройство дл облучени электронами

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU949855A1 true SU949855A1 (ru) 1982-08-07

Family

ID=20748800

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU782579452A SU949855A1 (ru) 1978-02-24 1978-02-24 Устройство дл облучени электронами

Country Status (2)

Country Link
DD (1) DD161019A3 (ru)
SU (1) SU949855A1 (ru)

Also Published As

Publication number Publication date
DD161019A3 (de) 1984-08-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0473097B1 (en) System for irradiating a surface with atomic and molecular ions using two dimensional magnetic scanning
US4767930A (en) Method and apparatus for enlarging a charged particle beam
JP3475253B2 (ja) 原子及び分子イオンで表面を照射するために有用な振動磁場をワーキング・ギャップにおいて生成するためのシステム及び方法
US4367411A (en) Unitary electromagnet for double deflection scanning of charged particle beam
US3193717A (en) Beam scanning method and apparatus
WO2008103747A1 (en) Compact scanned electron-beam x-ray source
WO2006134677A1 (ja) 照射野形成装置
US4063098A (en) Beam scanning system
US4845370A (en) Magnetic field former for charged particle beams
TW463534B (en) Method and system of reducing axial beam focusing
US4281251A (en) Scanning beam deflection system and method
US3351731A (en) Method and apparatus for treating material with a charged beam
US2941077A (en) Method of enlarging and shaping charged particle beams
JP2001326100A (ja) 直流電子ビーム加速装置およびその直流電子ビーム加速方法
US4075496A (en) Charged particle irradiation apparatus
SU949855A1 (ru) Устройство дл облучени электронами
JP4650382B2 (ja) 荷電粒子ビーム加速器及びその荷電粒子ビーム加速器を用いた粒子線照射システム
US3459988A (en) Cyclotron having charged particle and electron beams
US3120609A (en) Enlargement of charged particle beams
Curtis et al. Linac H-beam operation and uses at Fermilab
US4019088A (en) Electrovacuum SHF apparatus
US2904720A (en) Ion accelerator
US4737726A (en) Charged particle beam storage and circulation apparatus
US10850132B2 (en) Particle therapy system
US4893058A (en) Array electron accelerator