FI126927B - Mittalaitteen tiivistysjärjestely ja tiivistysmenetelmä - Google Patents

Mittalaitteen tiivistysjärjestely ja tiivistysmenetelmä Download PDF

Info

Publication number
FI126927B
FI126927B FI20165476A FI20165476A FI126927B FI 126927 B FI126927 B FI 126927B FI 20165476 A FI20165476 A FI 20165476A FI 20165476 A FI20165476 A FI 20165476A FI 126927 B FI126927 B FI 126927B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
fluid
measuring device
seal
measuring
sealing
Prior art date
Application number
FI20165476A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI20165476A (fi
Inventor
Harri Salo
Original Assignee
Janesko Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Janesko Oy filed Critical Janesko Oy
Priority to FI20165476A priority Critical patent/FI126927B/fi
Priority to JP2017095659A priority patent/JP6799495B2/ja
Priority to DE102017208581.9A priority patent/DE102017208581A1/de
Priority to US15/603,165 priority patent/US10288552B2/en
Application granted granted Critical
Publication of FI126927B publication Critical patent/FI126927B/fi
Publication of FI20165476A publication Critical patent/FI20165476A/fi

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N21/15—Preventing contamination of the components of the optical system or obstruction of the light path
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/41—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16J—PISTONS; CYLINDERS; SEALINGS
    • F16J15/00—Sealings
    • F16J15/02—Sealings between relatively-stationary surfaces
    • F16J15/06—Sealings between relatively-stationary surfaces with solid packing compressed between sealing surfaces
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F15/00—Details of, or accessories for, apparatus of groups G01F1/00 - G01F13/00 insofar as such details or appliances are not adapted to particular types of such apparatus
    • G01F15/12—Cleaning arrangements; Filters
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01K—MEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01K13/00—Thermometers specially adapted for specific purposes
    • G01K13/02—Thermometers specially adapted for specific purposes for measuring temperature of moving fluids or granular materials capable of flow
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N21/03—Cuvette constructions
    • G01N21/09—Cuvette constructions adapted to resist hostile environments or corrosive or abrasive materials
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/41—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
    • G01N21/4133—Refractometers, e.g. differential
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/85—Investigating moving fluids or granular solids
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01K—MEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01K13/00—Thermometers specially adapted for specific purposes
    • G01K13/02—Thermometers specially adapted for specific purposes for measuring temperature of moving fluids or granular materials capable of flow
    • G01K13/026—Thermometers specially adapted for specific purposes for measuring temperature of moving fluids or granular materials capable of flow of moving liquids
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N21/15—Preventing contamination of the components of the optical system or obstruction of the light path
    • G01N2021/151—Gas blown
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N21/03—Cuvette constructions
    • G01N21/05—Flow-through cuvettes

Landscapes

  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Examining Or Testing Airtightness (AREA)
  • Gasket Seals (AREA)
  • Measuring Volume Flow (AREA)

Description

Mittalaitteen tiivistysjärjestely ja tiivistysmenetelmä
Keksinnön tausta
Keksintö liittyy mittalaitteen tiivistysjärjestelyyn ja tiivistysmenetelmään.
Aggressiivisien kemikaalien mittaaminen ja kontrollointi automaattisilla in-line mittalaitteilla ja toimilaitteilla on perusteltua kemikaalien vaarallisuuden ja kalleuden vuoksi. Aggressiivisien kemikaalien mittalaitteissa haasteena on optisen tai muun mittauselementin liittäminen muuhun mekaniikkaan ja prosessiin tiiviisti, niin että mitattava neste tai kaasu pysyy mittausastiassa tai putkessa eikä pääse mittalaitteen sisälle. Aggressiivisien kemikaalien kuten esimerkiksi fluorivetyhapon ja rikkihapon tiivistäminen on hankalaa, jopa mahdotonta, koska kaasuuntuessaan kemikaalien pienet molekyylit pääsevät tunkeutumaan tiivisteaineen läpi.
Aggressiivisien kemikaalien yhteydessä käytetään tiivistemateriaa-leina tyypillisesti fluoroelastomeerejä ja perfluoroelastomeerejä, jotka kestävät hyvin aggressiivisia kemikaaleja vaurioitumatta. Agressiivisten kemikaalien mittaaminen tunnetaan esimerkiksi julkaisusta US 2002018200A.
Ongelmana yllä kuvatussa järjestelyssä on, että tiivistemateriaalit päästävät kaasuja läpi hitaasti aiheuttaen vaurioita mittalaitteen herkille optisille, mekaanisille ja elektronisille sisäosille.
Keksinnön lyhyt selostus
Keksinnön tavoitteena on kehittää järjestely ja menetelmä siten, että yllä mainitut ongelmat saadaan ratkaistua. Keksinnön tavoite saavutetaan järjestelyllä ja menetelmällä, joille on tunnusomaista se, mitä sanotaan itsenäisissä patenttivaatimuksissa. Keksinnön edulliset suoritusmuodot ovat epäitsenäisten patenttivaatimusten kohteena.
Keksintö perustuu mittalaitteen tiivistysjärjestelyyn. Mittalaite käsittää yhden tai useamman mittauselementin, jolla on mittavan fluidin kanssa kosketuksissa oleva pinta, fluidikammion mitattavalle fluidille ja tiivisteen fluidikam-mion ja mittauselementin välisen liitoksen tiivistämiseksi. Mittalaiteeseen on muodostettu virtauskanavia huuhtelufluidin johtamiseksi kosketuksiin tiivisteen kanssa.
Keksinnön mukaisessa mittalaitteen tiivistysmenetelmässä mittalaite käsittää yhden tai useamman mittauselementin, jolla on mittavan fluidin kanssa kosketuksissa oleva pinta, fluidikammion mitattavalle fluidille ja tiivisteen fluidi-kammion ja mittauselementin välisen liitoksen tiivistämiseksi. Mittalaitteeseen muodostetaan virtauskanavia, joissa johdetaan huuhtelufluidi kosketuksiin tiivisteen kanssa.
Keksinnön mukaisen järjestelyn ja menetelmän etuna on mahdollisuus käyttää tunnettuja ja hyväksi havaittuja tiivistemateriaaleja vaarantamatta mittalaitteen herkkiä optisia, mekaanisia ja elektronisia sisäosia.
Kuvioiden lyhyt selostus
Keksintöä selostetaan nyt lähemmin edullisten suoritusmuotojen yhteydessä, viitaten oheisiin piirroksiin, joista:
Kuvio 1 esittää mittalaitteen tiivistysjärjestelyä;
Kuvio 2 esittää toista mittalaitteen tiivistysjärjestelyä.
Keksinnön yksityiskohtainen selostus
Kuvio 1 esittää keksinnön ensimmäistä sovellusmuotoa mittalaitteen tiivistysjärjestelyksi. Mittalaite 1 käsittää mittauselementin 2, fluidikammion 3 ja tiivisteen 4a fluidikammion 3 ja mittauselementin 2 välisen liitoksen 5 tiivistämiseksi.
Kuvioiden 1 ja 2 mittauselementti 2 on optinen, sähköinen tai jokin muu mittauselementti 2, jolla on mittavan fluidin 6 kanssa kosketuksissa oleva pinta 7. Mittauselementti 2 voi olla esimerkiksi lämpötilan mittauselementti. Edelleen, on mahdollista, että mittalaite 1 käsittää useita mittauselementtejä 2.
Mitattava fluidi 6 on sijoitettu fluidikammioon 3. Kuvioissa fluidikam-mio 3 on virtausputki, jossa mitattava fluidi 6, esimerkiksi prosessineste- tai kaasu virtaa paineenalaisena. Fluidikammio 3 voi olla myös esimerkiksi säiliö, joka sisältää mitattavaa fluidia 6. Kuvioissa mittauselementin 2 fluidin 6 kanssa kosketuksissa oleva pinta 7 muodostaa fluidikammion 3 seinämän osan.
Mitattava fluidi 6 on esimerkiksi aggressiivinen kemikaali kuten fluo-rivetyhappo, ammoniumhydroksidi, fosforihappo tai rikkihappo. Fluidin 6 kaasuuntuessa kemikaalien pienet molekyylit pääsevät tunkeutumaan tiivisteaineen läpi.
Fluidikammion 3 ja mittauselementin 2 välinen liitos 5 on tiivistetty tiivisteellä 4a. Tiiviste 4a on sijoitettu pois fluidikammion 3 virtaustilasta, jotta virtaustilaan ei muodostu ulokkeita, jotka häiritsisivät virtauksen laminaarisuutta ja vaikeuttaisivat mittaamista. Tiiviste 4a sijoitetaan fluidikammion 3 ja mittaus- elementin 2 liitospinnan 7 välittömään läheisyyteen. Kuvioissa tiiviste 4a on sijoitettu uraan 8a, joka on muodostettu mittauselementtiä 2 ympäröivään runko-osaan 9. Tiiviste 4a voidaan sijoittaa myös uraan, joka on muodostettu fluidi-kammion 3 ulkoseinämään.
Mittalaiteeseen 1 on muodostettu virtauskanavia 10a-d huuhtelu-fluidin 11 johtamiseksi kosketuksiin tiivisteen 4a kanssa. Huuhtelufluidin 11 virtaus on kuvattu kuvioissa nuolilla. Huuhtelufluidi 11 virtaa sisään mittalaitteeseen sisäänvirtauskanavaa 10a pitkin. Ensimmäisessä sovellusmuodossa huuhtelufluidin 11 virtauskanava tai -kanavat 10a-d ovat virtausyhteydessä mittalaitteen 1 sisätilaan 12 huuhtelufluidin 11 johtamiseksi myös sisätilaan 12. Huuhtelufluidi 11 virtaa sekä mittalaiteen sisätilassa 12 että tiivisteen 4a ympärillä. Ensimmäisessä sovellusmuodossa huuhtelufluidi 11 on edullisesti huuhte-lukaasua.
Huuhtelufluidin 11 virtauskanava 10b tiivisteelle 4a ja virtauskanava 10c tiivisteeltä 4a pois on muodostettu mittauselementin 2 ja mittauselementtiä 2 ympäröivän runko-osan 9 väliin. Sisäänvirtauskanava 10a ja ulosvirtauska-nava 10d on järjestetty tiivisteen 4a mittauselementin 2 puoleiselle mittalaitteen 1 osalle. Fluidikammiosta 3 tiivisteen 4a läpi tunkeutunut vuotokaasu 13 sekoittuu huuhtelufluidiin 11 ja poistuu huuhtelufluidin 11 mukana tiivisteen 4a ympäristöstä.
Huuhtelufluidi 11 virtaa ulos mittalaitteesta 1 ulosvirtauskanavaa 10d pitkin. Mittalaitteen 1 sisätilaan 12 johdettu huuhtelufluidi 11 suojelee sisätilassa 12 kulloinkin olevia optisia, mekaanisia ja elektronisia komponentteja sekoittaen mukaansa sisätilaan mahdollisesti vuotaneen vuotokaasun. Kuvioissa mittalaitteen sisätilassa on mittauskomponentteja 14 ja - elektroniikkaa 15.
Kuvioissa huuhtelufluidi 11 siirtyy virtauskanavassa 10a-d painovoiman vaikutuksesta tai paineistettuna esimerkiksi puhaltimen tai kompressorin avulla. Huuhtelufluidin 11 pieni paineistus on edullista, koska se vähentää myös kaasuvuotoa tiivisteen 4a läpi, koska paine-ero tiivisteen 4a eri puolilla on pienempi. Huuhtelufluidin 11 kierto voi olla avoin tai suljettu riippuen mittalaitetta 1 ympäröivästä tilasta. Mikäli mittalaite 1 on sijoitettu esimerkiksi puhdastilaan, jossa ympäristö on hyvin tuuletettu ja ilma kuivaa, voidaan käyttää avointa kiertoa, jossa huuhtelufluidi 11 poistuu mittalaitteesta vapaasti ympäröivään ilmaan. Huuhtelufluidina 11 voidaan käyttää esimerkiksi inerttiä kaasua, ilmaa tai fluidin ollessa kaasu jotain fluidia absorboivaa kaasua, tai nestettä. Huuhtelufluidin 11 tehtävä on puhdistaa tiivisteen ympäristö fluidikammiosta 3 vuotaneesta vuoto-kaasusta 13.
Kuvio 2 esittää keksinnön toista sovellusmuotoa.
Kuviossa 2 on vastaavissa kohdissa käytetty samoja viitenumerolta ja viitemerkkejä kuin kuviossa 1. Mittalaite 1 käsittää mittauselementin 2, fluidi-kammion 3 ja tiivisteen 4a fluidikammion 3 ja mittauselementin 2 välisen liitoksen 5 tiivistämiseksi.
Toisessa sovellusmuodossa käytetään kahta erillistä tiivistettä 4a-b, joiden väliseen tilaan johdetaan huuhtelufluidia 11 vuotokaasun 13 poistamiseksi. Kuviossa 1 esitetyn tiivisteen 4a lisäksi, tiivistysjärjestelyssä käytetään toista tiivistettä 4b, joka on sijoitettu etäisyyden s päähän enimmäisestä tiivisteestä 4a. Tiivisteet 4a-b on sijoitettu peräkkäin siten, että toinen tiiviste 4b on kauempana fluidikammiosta 3 kuin ensimmäinen tiiviste 4a. Huuhtelufluidi 11 johdetaan kosketuksiin molempien tiivisteiden 4a-b kanssa molempien tiivisteiden 4a-b ympäristön puhdistamiseksi vuotokaasusta 13.
Toisessa sovellusmuodossa huuhtelufluidi 11 on edullisesti huuhte-lukaasua tai huuhtelunestettä, kuten esimerkiksi vettä. Huuhteluneste toimii vuotokaasun 13 kuljettajana ja voi toimia lisäksi jäähdytysnesteenä, joka jäähdyttää mittalaitetta 1. Tällöin huuhtelunesteen lämpötila ja virtausmäärä on sovitettu tuottamaan jäähdytystehoa mittalaitteelle 1. Kun huuhteluneste virtaa mittauslaitteessa 1 mittauslaitteen 1 ollessa korkeammassa lämpötilassa kuin sen läpi virtaava huuhteluneste, siirtyy lämpöä läpivirtaavaan huuhtelunesteeseen. Huuhtelunesteen toimiessa myös jäähdytysnesteenä se virtaa edullisesti paineistettuna, ja huuhtelunesteen virtausmäärää voidaan säätää painetta tuottavalla laitteella. Mittalaitteen 1 jäähdytys on tarpeen esimerkiksi kuumissa prosesseissa.
Kuviossa 2 toinen tiiviste 4b on sijoitettu uraan 8b, joka on muodostettu mittauselementtiä 2 ympäröivään runko-osaan 9. Toinen tiiviste 4b voidaan sijoittaa myös uraan, joka on muodostettu fluidikammion 3 ulkoseinämään vir-taustilan ulkopuolelle.
Huuhtelufluidin 11 virtauskanava- tai kanavat 10b tiivisteille 4a-b ja virtauskanava- tai kanavat tiivisteiltä 4a-b 10c on järjestetty ensimmäisen tiivisteen 4a ja toisen tiivisteen 4b väliin. Virtauskanavat tiivisteille 10b ja tiivisteiltä 10c voidaan myös järjestää myös peräkkäin esimerkiksi toisen tiivisteen 4b siltä puolelta, joka ei ole vastapäätä ensimmäistä tiivistettä 4a.
Kuvioissa esitetyt virtauskanavat 10a-d voivat olla myös mittalaitteen 1 runko-osaan 9 muodostettuja reikiä, jolloin huuhtelufluidin 11 virtaus tapahtuu painovoimaisesti. Tällöin mittalaite 1 on sijoitettu tilaan, jossa ympäristö on hyvin tuuletettuja huuhtelufluidina 11 toimivan ilman kosteus on hallittavissa.
Virtauskanavat 10a-d toimivat myös fluidikammion 3 vuodonilmai-simina. Jos fluidikammion 3 ja mittauselementin 2 välinen tiiviste 4a-b vaurioituu ja fluidia 6 pääsee tihkumaan tiivisteen ohi 4a-b, tihkunut fluidi 6 kertyy virtaus-kanaviin 10a-d, joista se huuhtoutuu ainakin osin pois huuhtelufluidin 11 mukana.
Esitetty mittalaitteen tiivistysjärjestely sopii esimerkiksi prosessin seurantalaitteena käytettävän mittalaitteeseen 1, joka on kytketty prosessilin-jaan prosessifluidin ominaisuuksien mittaamiseksi ja/tai kontrolloimiseksi.
Kuvioissa esitetty mittalaite 1 voi olla esimerkiksi refraktometri. Esimerkki tunnetun tekniikan mukaisesta mittalaitteesta 1, johon keksintöä voi soveltaa, on Semicon process refractometer PR-33-S. Refraktometri on fluidin tai-tekertoimen mittaamiseen käytettävä optinen mittalaite. Prosessin seurantalaitteena refraktometri mittaa prosessinesteen liuenneiden aineiden pitoisuutta määrittämällä mittauskomponenttiin, prismaan, kontaktissa olevan fluidin taite-kerrointa. Refraktometrin mittauselementti on esimerkiksi mittaikkuna ja/tai lämpötila-anturi. Refraktometri käsittää lisäksi usein sisätilassaan mittauskom-ponentteja ja mittauselektroniikkaa. Mittauskomponentti on esimerkiksi valonlähde. Valolähteenä voidaan käyttää sopivaa monokromaattista valonlähdettä, joka voi olla esimerkiksi laserdiodi. Mittauselektronikkaa voivat olla esimerkiksi CCD-elementti tai kamera, kuva-analysaattori ja mittalaitteen kalibrointielektro-niikka.
Mittalaitteen tiivistysmenetelmässä mittalaite 1 käsittää yhden tai useamman mittauselementin 2, tiivisteen 4a-b ja fluidikammion 3. Menetelmässä fluidikammioon 3 järjestetään mitattava fluidi 6 ja mittalaitteen 1 yksi tai useampi mittauselementti 2 saatetaan kosketuksiin mitattavan fluidin 6 kanssa mittauselementin 2 pinnan 7 kautta. Fluidikammion 3 ja mittauselementin 2 välinen liitos 5 tiivistetään ainakin yhdellä tiivisteellä 4a-b, jotta fluidi 6 ei pääse vuotamaan fluidikammiosta 3. Mittalaitteeseen 1 muodostetaan virtauskanavia 10a-d, joilla johdetaan huuhtelufluidi 11 kosketuksiin tiivisteen 4a-b kanssa. Menetelmässä fluidikammiosta 3 tiivisteen 4a-b läpi tunkeutunut vuotokaasu 13 sekoittuu huuhtelufluidiin 11 ja poistuu huuhtelufluidin 11 mukana tiivisteen 4a-b ympäristöstä ja mittalaitteesta 1.
Alan ammattilaiselle on ilmeistä, että tekniikan kehittyessä keksinnön perusajatus voidaan toteuttaa monin eri tavoin. Keksintöjä sen suoritusmuodot eivät siten rajoitu yllä kuvattuihin esimerkkeihin vaan ne voivat vaihdella patenttivaatimusten puitteissa.
Osaluettelo:1 mittalaite, 2 mittauselementti, 3 fluidikammio, 4a-b tiiviste, 5 liitos, 6 fluidi, 7 pinta, 8a-b ura, 9 runko-osa, 10a-d virtauskanava, 11 huuhtelufluidi, 12 sisätila, 13 vuotokaasu, 14 mittauskomponentti, 15 mittaus-elektroniikka. s etäisyys.

Claims (11)

1. Mittalaitteen tiivistysjärjestely, joka mittalaite (1) käsittää yhden tai useamman mittauselementin (2), jolla on mitattavan fluidin (6) kanssa kosketuksissa oleva pinta (7), fluidikammion (3) mitattavalle fluidille (6) ja tiivisteen (4a- b) fluidikammion (3) ja mittauselementin (2) välisen liitoksen (5) tiivistämiseksi, tunnettu siitä, että mittalaiteeseen (1) on muodostettu virtauskanavia (10a-d) huuhtelufluidin johtamiseksi kosketuksiin tiivisteen (4a-b) kanssa.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen tiivistysjärjestely, tunnettu siitä, että virtauskanavat (10a-d) käsittävät yhden tai useamman sisäänvirtaus-kanavan (10a) ja ulosvirtauskanavan (1 Od), ja sisäänvirtauskanava (10a) ja ulosvirtauskanava (1 Od) on järjestetty tiivisteen (4a-b) mittauselementin (2) puoleiselle mittalaitteen (1) osalle.
3. Jonkin patenttivaatimuksen 1-2 mukainen tiivistysjärjestely, tunnettu siitä, että järjestely käsittää toisen tiivisteen (4b), joka on etäisyyden (s) päässä tiivisteestä (4a) ja huuhtelufluidi (11) johdetaan kosketuksiin myös toisen tiivisteen (4b) kanssa.
4. Patenttivaatimuksen 3 mukainen tiivistysjärjestely, tunnettu siitä, että virtauskanavat tiivisteille (10b) ja virtauskanavat tiivisteiltä (10c) on järjestetty tiivisteen (4a) ja toisen tiivisteen (4b) väliin.
5. Jonkin patenttivaatimuksen 1-4 mukainen tiivistysjärjestely, tunnettu siitä, että huuhtelufluidi (11) siirtyy virtauskanavassa (1 Oa-d) painovoiman vaikutuksesta tai paineistettuna.
6. Jonkin patenttivaatimuksen 1-5 mukainen tiivistysjärjestely, tunnettu siitä, että virtauskanava (10a-d) on virtausyhteydessä mittalaitteen (1) sisätilaan (12) huuhtelufluidin (11) johtamiseksi sisätilaan (12).
7. Jonkin patenttivaatimuksen 1-6 mukainen tiivistysjärjestely, tunnettu siitä, että mittauselementti (2) on mittaikkuna ja/tai lämpötila-anturi.
8. Jonkin edellisen patenttivaatimuksen 1-7 mukainen tiivistysjärjestely, tunnettu siitä, että mittalaite (1) on prosessinseurantalaite proses-sifluidin ominaisuuksien mittaamiseen ja/tai kontrolloimiseen.
9. Jonkin edellisen patenttivaatimuksen 1-8 mukainen tiivistysjärjestely, tunnettu siitä, että mittalaite (1) on refraktometri.
10. Mittalaitteen tiivistysmenetelmä, jossa menetelmässä mittalaite (1) käsittää yhden tai useamman mittauselementin (2), jolla on mitattavan fluidin (6) kanssa kosketuksissa oleva pinta (7), fluidikammion (3) mitattavalle fluidille (6) ja tiivisteen (4a-b) fluidikammion (3) ja mittauselementin (2) välisen liitoksen (5) tiivistämiseksi, tunnettu siitä, että mittalaitteeseen (1) muodostetaan vir-tauskanavia (10a-d), joissa johdetaan huuhtelufluidi (11) kosketuksiin tiivisteen (4a-b) kanssa.
11. Patenttivaatimuksen 10 mukainen mittalaitteen tiivistysmenetelmä, tunnettu siitä, että huuhtelufluidi (11) on huuhtelunestettä, ja huuhtelunesteen lämpötila ja virtausmäärä sovitetaan tuottamaan jäähdytystehoa mittalaitteelle (1). Patentkrav
FI20165476A 2016-06-09 2016-06-09 Mittalaitteen tiivistysjärjestely ja tiivistysmenetelmä FI126927B (fi)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20165476A FI126927B (fi) 2016-06-09 2016-06-09 Mittalaitteen tiivistysjärjestely ja tiivistysmenetelmä
JP2017095659A JP6799495B2 (ja) 2016-06-09 2017-05-12 計測装置のシール構成およびシール方法
DE102017208581.9A DE102017208581A1 (de) 2016-06-09 2017-05-22 Dichtungsanordnung und Dichtungsverfahren einer Messvorrichtung
US15/603,165 US10288552B2 (en) 2016-06-09 2017-05-23 Sealing arrangement and sealing method of a measuring device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20165476A FI126927B (fi) 2016-06-09 2016-06-09 Mittalaitteen tiivistysjärjestely ja tiivistysmenetelmä

Publications (2)

Publication Number Publication Date
FI126927B true FI126927B (fi) 2017-08-15
FI20165476A FI20165476A (fi) 2017-08-15

Family

ID=59562361

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI20165476A FI126927B (fi) 2016-06-09 2016-06-09 Mittalaitteen tiivistysjärjestely ja tiivistysmenetelmä

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10288552B2 (fi)
JP (1) JP6799495B2 (fi)
DE (1) DE102017208581A1 (fi)
FI (1) FI126927B (fi)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109900637A (zh) * 2017-12-07 2019-06-18 詹尼斯柯有限公司 光学测量设备、折射计和用于光学测量的布置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102023104708A1 (de) 2023-02-27 2024-08-29 Endress+Hauser Conducta Gmbh+Co. Kg Armatur und Verfahren zum Verwenden der Armatur

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5090871A (en) * 1991-02-12 1992-02-25 Systems Chemistry, Inc. Junction assembly with leak detection means
US5562406A (en) * 1995-01-11 1996-10-08 Ansimag Inc. Seal assembly for fluid pumps and method for detecting leaks in fluid pumps or fluid containment devices
US7405818B2 (en) * 1998-06-03 2008-07-29 Ralph Heinzen Self monitoring static seal with optical sensor
FI113566B (fi) * 2000-08-01 2004-05-14 Janesko Oy Refraktometri
JP2002202248A (ja) * 2000-12-28 2002-07-19 Anritsu Corp ガス検出装置
US6592126B2 (en) * 2001-07-20 2003-07-15 Flowserve Management Company Mechanical seal leak detector
DE10241834A1 (de) 2002-09-09 2004-03-25 Mettler-Toledo Gmbh Spülvorrichtung für einen Sensor
JP2008536095A (ja) * 2005-02-11 2008-09-04 スワゲロック カンパニー 流体濃度感知配置
EP1963814A2 (en) 2005-12-21 2008-09-03 Aeromatic-Fielder AG Measuring device comprising a probe body adapted for connection with a process vessel or conduit and measuring method
WO2009060756A1 (ja) * 2007-11-06 2009-05-14 Tohoku University プラズマ処理装置及び外気遮断容器
US8528399B2 (en) 2010-05-21 2013-09-10 The Mercury Iron and Steel Co. Methods and apparatuses for measuring properties of a substance in a process stream
US10369600B2 (en) * 2013-07-03 2019-08-06 Wyatt Technology Corporation Method and apparatus to control sample carryover in analytical instruments

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109900637A (zh) * 2017-12-07 2019-06-18 詹尼斯柯有限公司 光学测量设备、折射计和用于光学测量的布置
CN109900637B (zh) * 2017-12-07 2021-07-30 芬兰维萨拉有限责任公司 光学测量设备、折射计和用于光学测量的布置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2017219197A (ja) 2017-12-14
FI20165476A (fi) 2017-08-15
JP6799495B2 (ja) 2020-12-16
US20170356840A1 (en) 2017-12-14
US10288552B2 (en) 2019-05-14
DE102017208581A1 (de) 2017-12-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20140004619A1 (en) Systems, Methods And Apparatus For Analysis of Multiphase Fluid Mixture In Pipelines
WO2007118822A3 (de) Verfahren und vorrichtung zur bestimmung der dichtigkeit eines prüfobjekts
FI126927B (fi) Mittalaitteen tiivistysjärjestely ja tiivistysmenetelmä
JP5885699B2 (ja) 脆性破壊性光透過窓板の固定構造及びこれを用いた脆性破壊性光透過窓板の固定方法
JP2017090155A (ja) 弁座漏れ検査装置と検査方法
CN106662498B (zh) 薄膜腔中的气体密度增加的测量
US10928289B2 (en) Assembly for measuring the viscosity of fluids using microchannels
WO2015033219A3 (en) Systems, devices, media, and methods for measuring analytes in biological fluids
US20180221867A1 (en) Method and apparatus for characterizing inorganic scale formation conditions employing a microfludic device
JP4364218B2 (ja) 洩れ検査方法及び洩れ検査装置
JP2006500597A (ja) スニフティング漏れ探査器のための試験漏れ装置
US20160061742A1 (en) Measuring device and measuring method
CN103900988B (zh) 红外气体传感器气室及其红外气体传感器
JP5734109B2 (ja) 測定装置および測定方法
JP5132211B2 (ja) リークテスターおよびリークテスト法
JP2011095046A (ja) 透気性中詰め材の透気性確認試験方法及び透気性確認試験装置
US9933404B2 (en) Measuring device and measuring method
US20180045699A1 (en) Device for determining a concentration of an analyte in a gaseous medium
KR102697592B1 (ko) 광결정 기반 색변화 센서의 감지능 평가용 투명 챔버 및 이를 포함하는 검사 장치
ATE487127T1 (de) Tragbare messvorrichtung
JP2009236549A (ja) リーク検査方法およびリーク検査装置
JP6770388B2 (ja) 漏れ素子の評価装置及び評価方法
RU2402003C1 (ru) Диффузионная течь
RU187415U1 (ru) Стенд для статических испытаний струйного датчика температуры
GB2562925A (en) Device for detecting gas in fluids

Legal Events

Date Code Title Description
FG Patent granted

Ref document number: 126927

Country of ref document: FI

Kind code of ref document: B

PC Transfer of assignment of patent

Owner name: VAISALA OYJ

MM Patent lapsed