FI123292B - Silaanimonomeerit ja niistä saatavat korkean taitekertoimen omaavat polymeerit - Google Patents
Silaanimonomeerit ja niistä saatavat korkean taitekertoimen omaavat polymeerit Download PDFInfo
- Publication number
- FI123292B FI123292B FI20115592A FI20115592A FI123292B FI 123292 B FI123292 B FI 123292B FI 20115592 A FI20115592 A FI 20115592A FI 20115592 A FI20115592 A FI 20115592A FI 123292 B FI123292 B FI 123292B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- polymer
- eller
- copolymer
- groups
- enligt
- Prior art date
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 85
- 239000000178 monomer Substances 0.000 title claims abstract description 45
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 23
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 32
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 34
- -1 methoxy, ethoxy, n-propoxy Chemical group 0.000 claims description 33
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 13
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 11
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 10
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 9
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 9
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 claims description 8
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 5
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 5
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 5
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 claims description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 4
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical group COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 4
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910020203 CeO Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 claims description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 claims description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 3
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 claims description 3
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical group II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001792 phenanthrenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C=CC12)* 0.000 claims description 3
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 claims description 3
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LAVARTIQQDZFNT-UHFFFAOYSA-N 1-(1-methoxypropan-2-yloxy)propan-2-yl acetate Chemical compound COCC(C)OCC(C)OC(C)=O LAVARTIQQDZFNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000001089 [(2R)-oxolan-2-yl]methanol Substances 0.000 claims description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 claims description 2
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 claims description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 claims description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 claims description 2
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 claims description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 2
- ILVGAIQLOCKNQA-UHFFFAOYSA-N propyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)O ILVGAIQLOCKNQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 claims 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims 3
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 claims 2
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 claims 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims 2
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 claims 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims 2
- LDARJLMWAOEEFG-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxypropoxy)propan-1-ol;methyl acetate Chemical compound COC(C)=O.CC(O)COC(C)CO LDARJLMWAOEEFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XBHQOMRKOUANQQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxypropanoic acid Chemical class CCOC(C)C(O)=O XBHQOMRKOUANQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RYXPMWYHEBGTRV-UHFFFAOYSA-N Omeprazole sodium Chemical compound [Na+].N=1C2=CC(OC)=CC=C2[N-]C=1S(=O)CC1=NC=C(C)C(OC)=C1C RYXPMWYHEBGTRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 240000004808 Saccharomyces cerevisiae Species 0.000 claims 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 claims 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims 1
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 claims 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 claims 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 claims 1
- 235000019788 craving Nutrition 0.000 claims 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 claims 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 1
- 230000030279 gene silencing Effects 0.000 claims 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- CZRKJHRIILZWRC-UHFFFAOYSA-N methyl acetate;propane-1,2-diol Chemical compound COC(C)=O.CC(O)CO CZRKJHRIILZWRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002071 nanotube Substances 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 1
- 230000002618 waking effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 229910000078 germane Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 abstract 1
- GVIJJXMXTUZIOD-UHFFFAOYSA-N thianthrene Chemical group C1=CC=C2SC3=CC=CC=C3SC2=C1 GVIJJXMXTUZIOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 4
- QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N trifluoroacetic anhydride Chemical compound FC(F)(F)C(=O)OC(=O)C(F)(F)F QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JEZFASCUIZYYEV-UHFFFAOYSA-N chloro(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](Cl)(OCC)OCC JEZFASCUIZYYEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- OCKGFTQIICXDQW-ZEQRLZLVSA-N 5-[(1r)-1-hydroxy-2-[4-[(2r)-2-hydroxy-2-(4-methyl-1-oxo-3h-2-benzofuran-5-yl)ethyl]piperazin-1-yl]ethyl]-4-methyl-3h-2-benzofuran-1-one Chemical compound C1=C2C(=O)OCC2=C(C)C([C@@H](O)CN2CCN(CC2)C[C@H](O)C2=CC=C3C(=O)OCC3=C2C)=C1 OCKGFTQIICXDQW-ZEQRLZLVSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RJSYPKWVIJGNLO-UHFFFAOYSA-N CCOClOC Chemical compound CCOClOC RJSYPKWVIJGNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000282326 Felis catus Species 0.000 description 2
- 238000001157 Fourier transform infrared spectrum Methods 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000011234 nano-particulate material Substances 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 2
- PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilicon Chemical group CO[Si](OC)OC PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- NQPJDJVGBDHCAD-UHFFFAOYSA-N 1,3-diazinan-2-one Chemical compound OC1=NCCCN1 NQPJDJVGBDHCAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSTXCZGEEVFJES-UHFFFAOYSA-N 1-cycloundecyl-1,5-diazacycloundec-5-ene Chemical compound C1CCCCCC(CCCC1)N1CCCCCC=NCCC1 VSTXCZGEEVFJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZZMTSNZRBFGGU-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-7-fluoroquinazolin-4-amine Chemical compound FC1=CC=C2C(N)=NC(Cl)=NC2=C1 FZZMTSNZRBFGGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxypropanoic acid Chemical compound CCOCCC(O)=O JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N Triiodomethane Natural products IC(I)I OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000031709 bromination Effects 0.000 description 1
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- LZKLAOYSENRNKR-LNTINUHCSA-N iron;(z)-4-oxoniumylidenepent-2-en-2-olate Chemical compound [Fe].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O LZKLAOYSENRNKR-LNTINUHCSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 125000001979 organolithium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- XHTWKNPMPDIELI-UHFFFAOYSA-N phenylmethoxysilane Chemical compound [SiH3]OCC1=CC=CC=C1 XHTWKNPMPDIELI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000005622 tetraalkylammonium hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001757 thermogravimetry curve Methods 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/30—Germanium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D339/00—Heterocyclic compounds containing rings having two sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D339/08—Six-membered rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
- C08G77/382—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
- C08G77/392—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/40—Organosilicon compounds, e.g. TIPS pentacene
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
- H10K85/657—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons
- H10K85/6576—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons comprising only sulfur in the heteroaromatic polycondensed ring system, e.g. benzothiophene
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Description
Silaanimonomeerit ja niistä saatavat korkean taitekertoimen omaavat polymeerit
Esillä oleva keksintö koskee silaanimonomeerejä ja niistä johdettuja polymeerejä. Erityisesti keksintö 5 koskee rikkipitoisia monomeerejä ja siloksaanipolymeerejä, joilla on suuri taitekerroin, menetelmiä uusien monomeerien valmistamiseksi ja niistä valmistettujen polymeerien käyttöä.
Elektroniikkateollisuudessa tarvitaan suuren taitekertoimen omaavia materiaaleja. Tällaisia materiaaleja käytetään yleisesti litteissä näytöissä, CCD-ja CMOS-kuvasensoreissa, esimerkiksi 10 kevyissä putkirakenteissa, mikrolinsseissä ja värisuodattimien päällysteinä, joissa erittäin voimakkaasti valoa taittavien materiaalien käyttö johtaa parempaan kulmavasteeseen ja parempaan kokonaiskvanttisaantoon. Yleensä näiden materiaalien taitekertoimen (Rl) täytyy olla yli 1,6, ja niiden täytyy olla tarpeeksi läpinäkyviä näkyvän aallonpituuden alueella (400 - 800 nm). Niillä pitää olla myös kunnolliset aukkoja täyttävät ja planarisoivat ominaisuudet, sekä hyvä terminen stabiilisuus. Jotta ne 15 kestäisivät tavanomaisia prosessointivaiheita, niiden pitäisi olla kovetettavissa liuotin kestäviksi kalvoiksi, jotka tarttuvat hyvin ympäröiviin materiaaleihin. Niiden pitäisi sopia myös kemiallis-mekaaniseen kiillottamiseen (CMP).
Yleisen käytännön mukaisesti näihin sovelluksiin on käytetty aromaattisia polymeerejä, jotka 20 sisältävät fenyyliryhmiä ja korkeampia aromaattisia rengassysteemejä kuten naftaleeni-, fenantreeni- ja antraseeniryhmiä. Niillä on suhteellisen suuri taitekerroin, jolloin mainitun kertoimen arvot ovat välillä 1,50 ja 1,65. Peukalosääntönä pätee, että mitä suurempi rengassysteemi, sitä suurempi on materiaalin Rl. Rengassysteemeillä, joissa on yli kolme fuusioitunutta aromaattista rengasta, on kuitenkin ongelma: ne rupeavat absorboimaan sinistä valoa. Koska sininen kanava on yleensä RGB c\j g 25 (red-green-blue) matriksin vähiten herkkä valokohta, materiaaleja ei voida käyttää erittäin
CvJ
voimakkaasti valoa taittavina optisina materiaaleina ilman että häiritään lisää CMOS-kuvasensorin ^ sinisen valon käyttäytymistä.
c\j x cc a- On olemassa eräitä rikkipitoisia polymeerejä, kuten tioeettereitä ja tiokarbonaatteja, joilla on suuri 30 taitekerroin (viite 1). Alifaattisten rikkipitoisten polymeerien terminen stabiilisuus on kuitenkin m !£ suhteellisen heikko. Toisaalta polyimidit, joilla on suuri taitekerroin, kuten polyimidit yleensäkin, tarvitsevat kovetuslämpötiloja yli 300 °C, tyypillisesti 350 °C, mikä joskus on liikaa CMOS-rakenteille.
2
Edellä mainituista syistä tarvitaan jatkuvasti läpinäkyviä materiaaleja, joilla on suuri taitekerroin, ja joita voidaan kovettaa alle 250 °C:ssa, mutta jotka siitä huolimatta ovat kuitenkin termisesti stabiileja 450 °C:seen saakka.
5 Esillä olevan keksinnön tarkoituksena on eliminoida ainakin osa ongelmista, jotka liittyvät tunnetun tekniikan mukaisten polymeerien käyttöön materiaaleissa, joilla on suuri taitekerroin, sekä valmistettaessa monomeerejä, joita voidaan käyttää valmistettaessa polysiloksaanihartseja, joilla on suuri Rl ja hyvät mekaaniset ominaisuudet.
10 Esillä olevan keksinnön toisena tarkoituksena on saada aikaan uusia polymeerejä, joilla on suuri Rl ja joita voidaan käyttää voimakkaasti valoa taittavina optisina materiaaleina, esimerkiksi CCD-ja CMOS-kuvasensoreissa, ilman että häiritään CMOS-kuvasensorin sinisen valon käyttäytymistä.
Keksinnön tarkoituksena on myös saada aikaan uusi menetelmä rikkipitoisten monomeerien 15 valmistamiseksi suurella saannolla.
Keksinnön neljäntenä tarkoituksena on saada aikaan menetelmä uusien polymeerien valmistamiseksi, joilla on parempia ominaisuuksia ja jotka sopivat käytettäviksi erittäin voimakkaasti valoa taittavina optisina materiaaleina.
20
Esillä olevan keksinnön yhteydessä on havaittu, että polysiloksaanirenkaita sisältävät tiantreeniyksiköt ovat hyvin läpinäkyviä, termisesti stabiileja materiaaleja, joilla on suuri Rl, jopa tai yli 1,70. Niitä voidaan kovettaa 200...400 °C:ssa, jolloin saadaan liuotinkestävä kalvo.
25 Yllättävää kyllä tunnetussa tekniikassa ei mainita mitään silaanimonomeereistä tai vastaavista polymeereistä, jotka sisältävät tiantreeniryhmän tai -rangan. Tähän voi olla syynä se, että ei ole ^ olemassa sopivaa synteesimenetelmää sopivien monomeerien, kuten 2-bromattujen tiantreenien i valmistamiseksi, jotka - vuorostaan - olisivat käyttökelpoisia polymerointiprosessien lähtöaineina, x Tähän mennessä parhaat ilmoitetut saannot (32-47 %, viite 2, 2-bromitiantreenien tapauksessa ja 25 Q.
30 %, viite 3, 2,7-dibromitiantreenien tapauksessa) on saatu aikaan kuumentamalla tiantreeniä c\j S etikkahapossa bromin kanssa useita tunteja. Ilmoitetut alhaiset saannot johtavat lopputuotteen
LO
^ kohtuuttomaan korkeaan hintaan.
o c\j 3
Nyt on yllättävästi keksitty, että käyttämällä katalyyttinä jodin ja trifluorietikkahapon kombinaatiota saadaan korkeita saantoja halutuista tuotteista. Katalyyttisysteemi vähentää myös reaktiolämpötilaa ja tarvittavan bromin määrää, mikä johtaa lisäsäästöihin ja pienempään jätemäärään.
5 Uudet monomeerit ovat helposti polymeroitavissa. Uusien polymeerien valmistamiseksi silaanimonomeerejä sisältävä(t) tiantrenyyliryhmä(t) ja hydrolysoitavissa oleva(t) ryhmä tai ryhmät, kuten metoksi, etoksi, kloori tai bromi, polymeroidaan tai kopolymeroidaan hydrolyysin ja kondensaatiopolymerisoinnin avulla, edullisesti veden ja happo- tai emäskatalyytin läsnä ollessa, jolloin saadaan siloksaanipolymeerit.
10
Esillä olevan keksinnön mukaiset monomeerit kuvataan tarkemmin patenttivaatimuksen 1 tunnusmerkkiosassa.
Esillä olevan keksinnön mukaiset polymeerit kuvataan tarkemmin patenttivaatimuksen 7 15 tunnusmerkkiosassa.
Monomeerien valmistusmenetelmä kuvataan tarkemmin patenttivaatimuksen 4 tunnusmerkkiosassa ja polymeerien valmistusmenetelmä kuvataan tarkemmin patenttivaatimuksen 12 tunnusmerkkiosassa.
20
Uudet käyttösovellukset määritellään patenttivaatimuksissa 19-23.
Esillä oleva keksintö saa aikaan huomattavia etuja. Tiantreenirengassysteemilä on siten suuri taitekerroin johtuen sekä aromaattisuudesta että kahdesta rikkiatomista. Tiantreeni on myös erittäin ^ 25 läpinäkyvä, eikä absorboi valoa ennen UV-aluetta alle 300 nm. Aromaattisuudesta johtuen sillä on ^ hyvä terminen stabiilisuus. Polymeerit ovat käyttökelpoisia dielektrisinä kalvoina puolijohdeteollisuudessa ja optisissa sovelluksissa.
r-- c\j
X
DC
CL
C\1 O)
LO
LO
O
C\1 4
Seuraavassa keksintöä tutkitaan tarkemmin seikkaperäisen selityksen avulla viitaten mukaan liitettyihin kuvioihin, joissa
Kuvio 1 esittää esimerkissä 2B saadun kalvon FTIR-spektriä; 5 Kuvio 2 esittää esimerkissä 2B saadun kalvon transmittanssispektriä sen jälkeen, kun se on kovetettu olosuhteissa 400 °C/5 min;
Kuvio 3 esittää esimerkin 2B mukaisen kovetetun polymeerin TGA-kuviota. T(m-5 %) on 504 °C;
Kuvio 4 esittää esimerkin 2B mukaisen polymeerin täytetyn uran SEM:ää strukturoidulla piikiekolla; Kuvio 5 esittää esimerkin 2D mukaisen polymeerikalvo N & k -arvoja aallonpituuden funktionapa 10 Kuvio 6 esittää esimerkin 2E mukaisia, 75 %:sesti Ti02-nanohiukkaisia sisältävällä materiaalilla täytetyn uran SEM:ää strukturoidulla piikiekolla;
Kuvio 7 esittää 2-(trimetoksisilyyli)tiantreenin massaspektriä.
Edellä todetun mukaisesti esillä oleva keksintö saa aikaan siloksaanipolymeerejä, joilla on suuri 15 taitekerroin, ja jotka sisältävät tiantreeniryhmän kiinnitettynä piiatomiin.
Polymeereri valmistetaan edullisesti hydrolysoimalla ja polymerisoimalla tiantreeniä sisältäviä monomeerejä, erityisesti tiantreeniä sisältäviä silaanimonomeerejä. Esimerkkejä tällaisista monomeereistä ovat seuraavat silaanimonomeerit, joilla on kaavat I, II, III, IV, V ja VI, 20 i2 1’ R' .R2 i2 I1 R' .R2 R** i2 i1 R' .r2 A5 Ag ^6 A4 A5 A4 A5 5i ' " “ C\J R2 R5 R2 R2 t— A-| R-|—Si—R3 R4—Si—Re R-ι-Si—R3 A·) R-|—Si—R3 ; A4 A5 A3 A4 R@ Si R4 A4
S IV V Rs VI
m m ° joissa 5
Ai, A2, A3, A4, A5i A6/ A7 valitaan itsenäisesti joukosta vety, suora ketju iset tai haarautuneet alkyyliryhmät, erityisesti sellaiset, joissa on 1-6 hiiliatomia, kuten -CH3, ja -CH2CH3, aryyliryhmät, kuten fenyylija halogeeniryhmät, kuten kloori, bromi tai jodi,
Ri, R2, R3, R4, R5 ja R6 valitaan itsenäisesti joukosta vety, suoraketjuiset tai haarautuneet alkyyliryhmät, 5 suoraketjuiset tai haarautuneet alkoksiryhmät, halogeeniryhmät, asyylioksiryhmät ja alifaattiset tai aromaattiset sykliset ryhmät, sillä edellytyksellä, että ainakin yksi joukosta Rx, R2, R3, R4, R5 ja R6 on hydrolysoitavissa oleva ryhmä.
10 Hydrolysoitavissa olevat ryhmät merkityksissä Rx, R2, R3, R4, R5 ja R6 valitaan joukosta halogeeni, kuten kloori ja bromi, alkoksiryhmät, joissa on edullisesti 1-6 hiiliatomia, kuten metoksi, etoksi, n-propoksi ja isopropoksi, tai asyylioksiryhmät, joissa on 2-10 hiiliatomia, kuten asetoksi.
Edellä olevissa kaavoissa ainakin yksi joukosta Ri, R2, R3, R4, R5 ja R6 on hydrolysoitavissa oleva ryhmä, 15 edullisesti yksi edellä mainittu, tyypillisesti ainakin kaksi joukosta Ri, R2, R3, R4, R5 ja R6 ovat hydrolysoitavissa olevia ryhmiä. Siinä tapauksessa, että on olemassa kaksi tai enemmän hydrolysoitavissa olevaa ryhmää merkityksissä Ri, R2, R3, R4, R5 ja R6, ne voivat olla samanlaisetta! erilaiset, esimerkiksi kaksi alkoksiryhmää, kaksi halogeeniryhmää tai yksi alkoksi-ja yksi halogeeniryhmä.
20
Erään edullisen suoritusmuodon mukaan kaikki substituentit Ai, A2, A3, A4, A5, A6, A7tarkoittavat vetyä.
Toisen suoritusmuodon mukaan ainakin yksi joukosta Ai, A2, A3, A4, A5, A6, A7 tarkoittaa alempaa ,-^j 25 alkyyliä, kuten metyyliä tai etyyliä tai n- tai isopropyyliä tai i-, n- tai t-butyyliä tai klooria tai bromia.
^ Siinä tapauksessa, että on olemassa ainakin yksi bromisubstituentti, monomeerissä jäljellä oleva ^ bromi voidaan alkyloida saattamalla se reagoimaan magnesiumin, jodimetaanin ja rauta katalyytin
Fe(acac)3 kanssa, x
DC
CL
30 Edullisen suoritusmuodon mukaan ainakin yksi, edullisesti useampi (2-6) symboleista Ri, R2, R3, R4, R5 c\i S Ja
LO
tarkoittaa metoksia tai etoksia. Kuitenkin toisen suoritusmuodon mukaan ainakin yksi joukosta Ri, R2, o R3, R4, R5 ja R6voi olla metyyli tai fenyyli esimerkiksi metyylitrimetoksi silaani tai fenyylimetoksisilaani.
6
Jos monomeerissä on yksi piiatomi, silloin ainakin yhden joukosta Ri, R2, R3, R4, Rs ja R6 tulisi olla hydrolysoitavissa oleva ryhmä.
5 Edellä todetun mukaisesti esillä olevan laatuisia silaanimonomeerejä ja vastaavia tiantreeniryhmiä sisältäviä siloksaanipolymeerejä ei kuvata tunnetussa tekniikassa, mikä voi johtua sopivien lähtöaineiden synteesiin liittyvistä tunnetun tekniikan mukaisista ongelmista. Olemme yllättävästi keksineet, että jodin ja trifluorietikkahapon kombinaatiota katalyyttinä käyttämällä saadaan korkeita saantoja halutuista tuotteista. Katalyyttisysteemi vähentää myös reaktiolämpötilaa ja tarvittavan 10 bromin määrää, mikä johtaa lisäsäästöihin ja pienempään jätemäärään.
Esillä olevan keksinnön mukainen parannettu menetelmä tiantreenin bromamiseksi käsittää siten alkuainebromin ja katalyyttisen jodimääärn ja trifluorietikkahapon käytön inertissä liuottimessa. Tiantreeniryhmän sisältävä modifioitu silaani voidaan siten valmistaa seuraavien vaiheiden avulla, 15 jolloin - bromataan tiantreeni käyttämällä alkuainebromia ja katalyyttistä määrää sekä jodia että trifluorietikkahappoa; - otetaan talteen näin saatu bromattu tiantreeni; ja - saatetaan bromattu tiantreeni reagoimaan silaanin kanssa.
20
Erityisesti on keksitty, että Grignard-reagenssit, jotka on valmistettu bromitiantreenien ja magnesiummetallin välisellä reaktiolla sopivassa liuottimessa kuten THF:ssä tai dietyylieetterissä, voidaan muuttaa tiantrenyylisilaaneiksi kytkemällä ne silaaniyhdisteiden kanssa, joissa on hydrolysoitavissa olevia ryhmiä, esimerkiksi ryhmiä joukosta halogeenit ja alkoksiryhmät, jolloin 25 saadaan kaavojen I, II, III, IV, V ja VI mukaisia monomeerejä. Sopivia silaaniyhdisteitä esitetään ^ jäljempänä kaavoilla VII - XII.
Alalla tiedetään, että 1-substituoituja tiantreenejä voidaan valmistaa 1-litioidun tiantreenin (vrt. viite x 4) kautta. Tiedetään, että samoin kuin Grignard-reagenssit, organolitiumreagenssit reagoivat Q.
30 kloorisilaanien kanssa, jolloin saadaan organosilaaneja (vrt. viite 5). Viitteissä ei kuitenkaan mainita C\J
S mitään tiantreenitähteen sisältävien siloksaanimonomeerien käyttömahdollisuuksista, m δ
C\J
7 Lähtien uusista tiantreenisilaaneista voidaan saada siloksaanipolymeereri, jolla on suuri taitekerroin, ja joka sisältää tiantreeniryhmiä kiinnitettyinä polymeeri silaani- tai siloksaanirangan piiatomeihin.
Keksinnön mukaisia polymeerejä kuvataan skemaattisilla kaavoilla XIII ja XIV
HO
K > Si^n
fr Y*)bH ’ Ή'-ίζΧ TD
XIII XIV
Ax = -H, -CH3, CH2CH3, phenyl, -Cl, -Sr or -I ^ n = 3..,30,000
Olisi huomattava, että kaavojen alla esitetyt kuvatekstit esittävät ainoastaan edullisten suoritusmuotojen esimerkkejä, eikä niitä pidä tulkita rajoittavasti.
10 Tiantreenipitoisen polysiloksaanin massakeskimääräinen molekyylipaino (Mw) on edullisesti välillä 500...10000000 g/mol.
Tiantreenirengassysteemillä on suuri taitekerroin, mikä johtuu sekä aromaattisuudesta että kahdesta rikkiatomista.Tiantreeni on myös erittäin läpinäkyvä, eikä absorboi valoa ennen UV-aluetta alle 300 15 nm. Koska se on aromaattinen, sillä on hyvä terminen stabiilisuus.
Polymeereri valmistetaan tyypillisesti hydrolysoimalla ja polymerisoimalla tiantreeniä sisältäviä silaanimonomeerejä. Haluttaessa valmistetaan kopolymeeri kohydrolysoimalla ja polymerisoimalla tiantreenipitoisia silaanimonomeerejä yhden tai useamman muun silaanimonomeerin kanssa.
CM
o 20
CM
Termi "siloksaanipolymeeri" on tulkittava siten, että se käsittää esillä olevan laatuisten monomeerien ^ homopolymeerit sekä esillä olevan laatuisten silaanimonomeerien muodostamat kopolymeerit, ^ esimerkiksi kaavojen I - VI mukaiset, kohydrolysoituina yhden tai useamman muun x o- silaanimonomeerin kanssa. Esimerkkejä viimeksi mainitun laatuisesta komonomeeristä esitetään 25 kaavojen VII-XII avulla.
LO
LO
δ
CM
8
X X X Υ X Υ TT
X-Si-X Y-Si-X Y-Si-X Y-Si-X X-Si-B-Si-X X-Si-B-Si-X
I I I I II II
X X Y Y XX XX,
VII Vili IX X XI XII
jossa 5 kukin X voi olla samanlainen tai erilainen ja kukin X on itsenäisesti hydrolysoitavissa oleva ryhmä; kukin Y voi olla samanlainen tai erilainen ja kukin Y valitaan itsenäisesti joukosta H, metyyli-, etyyli-, merkaptopropyyli-, vinyyli-, allyyli-, fenyyli-, styryyli-, bentsyyli-, naftyyli-, fenantrenyyli-, antrasenyyli-, glysidyylioksipropyyli-, akryylioksipropyyli-, metakryylioksipropyyli- tai tiantrenyyliryhmät; ja B on siltaryhmä valittuna joukosta kaksiarvoiset hydrokarbyylitähteet kuten suoraketjuinen ja 10 haarautunut alkyleeniryhmä, alkenyleeniryhmä, alkynyleeniryhmä, kaksiarvoiset alisykliset ryhmät, kaksiarvoiset polysykliset ryhmät ja kaksiarvoiset aromaattisia ryhmät (aryleeniyhmät), esimerkiksi -CH2-, CH2CH2-, CH2CH2CH2-, aryleeni-ja -C6H4-ja -Ci0H6-ryhmät.
Kaavojen VII -XII mukainen hydrolysoitavissa oleva ryhmä X voidaan valita itsenäisesti joukosta 15 halogeeni kuten kloori ja bromi, alkoksiryhmät kuten metoksi, etoksi, n-propoksi, isopropoksi, ja asyylioksiryhmät, kuten asetoksi. Erityisesti X on -OMe, -OEt, -OCOCH3, -Cl tai -Br.
Silaanimonomeerejä sisältävä(t) tiantrenyyliryhmä(t) ja hydrolysoitavissa oleva(t) ryhmä tai ryhmät kuten metoksi, etoksi, kloori tai bromi, voidaan polymerisoida edullisesti veden ja happo- tai 20 emäskatalyytin läsnä ollessa, jolloin saadaan siloksaanipolymeerit.
Happo voi olla mikä tahansa happo, joka on tarpeeksi voimakas aiheuttamaan hydrolysoitavissa olevien ryhmien hydrolyysin. Esimerkkejä tällaisista hapoista ovat kloorivetyhappo, typpihappo, trifluorietikkahappo, rikkihappo, fosforihappo. o ™ 25 V Emäskatalyytti voi olla tetra-alkyyliammoniumhydroksidi, aIkalimetallihydroksidi tai voimakas ^ amiiniemäs kuten, näihin kuitenkaan rajoittumatta, l,8-diatsabisykloundek-7-eeni (DBU).
x
X
O.
c\J Polymerisointi- tai kopolymerisointireaktio voidaan suorittaa laimentamattomana, mutta voidaan m m 30 lisätä liuottimia kuten, näihin kuitenkaan rajoittumatta, THF, asetoni, metanoli, etanoli tai o isopropanoli, kunnollisen sekoittumisen edesauttamiseksi. Reaktio voidaan suorittaa lämpötiloissa - 20...200 °C.
9
Yleensä reaktio suoritetaan joko huoneenlämpötilassa tai korotetussa lämpötilassa reiluksoimaHa reaktioliuos.
5 Reaktioaika voi vaihdella muutamasta minuutista viikkoon, riippuen reaktio-olosuhteista ja käytetystä monomeeristä.
Hydrolyysireaktion jälkeen polymeerin molekyylipainoa voidaan edelleen kasvattaa kontrolloidulla emäskatalysoidulla kondensaatioreaktiolla kuten refluksoimalla THFrssä käyttämällä 1% 10 trietyyliamiinia emäskatalyyttinä. Vaihtoehtoisesti molekyylipainoa voidaan lisätä myös refluksoimalla korkealla kiehuvassa liuottimessa kuten, näihin kuitenkaan rajoittumatta, propyleeniglykolimetyylieetteriasetaattissa, kunnes on saavutettu haluttu molekyylipaino.
Polymeeri voidaan saada polymeeriliuoksen muodossa; tällaisen liuoksen saaminen on 15 mielenkiintoista, koska polymeeriliuoksesta voidaan valmistaa helposti polymeerikalvo.
Polymeeriliuos sisältää edullisesti polymeeriä, liotinta, mahdollisesti pinta-aktiivista ainetta, mahdollisesti fotohappogeneraattoria (PAG), fotoemäsgeneraattoria (PBG) tai fotoradikaaligeneraattoria (PRG) ja mahdollisesti nanohiukkasia, jotka koostuvat 20 metallioksidinanohiukkasista, sulfidinanohiukkasista, nanotimanteista, hiilinanoputkista, amorfisista piinanohiukkasista tai mistä tahansa niiden seoksesta.
Metallioksidi- tai metallisulfidinanohiukkaset valitaan edullisesti joukosta Zr02, Ti02, Hf02, Si02, Sn02, Al203, Ce02, Y203, ZnO, BaTi03, Nb2Os, Ge02, Sb203, Ta203, La203, W03, Bi203, PbO, ZnS, CdS, PbS.
c\j 25 ^ Liuotin voidaan valita joukosta propyleeniglykolimetyylieetteriasetaatti, dipropyleeniglykolimetyylieetteriasetaatti, n-metyyli-2-pyrrolidoni, anisoli, bentsyylialkoholi, tolueeni, i etyylibentseeni, ksyleeni, mesityleeni, dimetyyliasetamidi, dimetyyliformamidi, l,3-dimetyyli-3,4,5,6- x tetrahydro-2(lH)-pyrimidinoni, heksametyylifosforiamidi, propyleeniglykolimetyylieetteri, cc
CL
30 propyleeniglykolietyylieetteri, propyleeniglykolipropyylieetteri, metyylilaktaatti, etyylilaktaatti, c\j S propyylilaktaatti, etyyliasetaatti, propyyliasetaatti, butyyliasetaatti, syklopentanoni, sykloheksanoni, io ^ dimetyylisulfoksidi, metyyli-isobutyyli ketoni, metyylietyyli ketoni, metyylipropyyliketoni, 2- o heptanoni, gamma-butyrolaktoni, etyyli-3-etoksipropionaatti, etyyli-3-metoksipropionaatti.
10 etyylipyruvaatti, etyylisellosolveasetaatti, tetrahydrofurfuryylialkoholi, isopropanoli, butanoli tai mikä tahansa näiden seos.
Polymeeriliuoksen mahdollinen pinta-aktiivinen aine valitaan joukosta fluoripitoiset pinta-aktiiviset 5 aineet, siloksaanipitoiset pinta-aktiiviset aineet ja alkyylifenolietoksylaattipitoiset pinta-aktiiviset aineet.
Esillä olevia polymeerejä voidaan käyttää CMOS-ja CCD-kuvasensoreissa suuren taitekertoimen omaavana materiaalina. Muita sovelluksia ovat käyttö 10 - puolijohdeteollisuudessa dielektrisena materiaalina; - erilaisissa optisissa kojeissa suuren taitekertoimen omaavana materiaalina; - valoa emittoivissa diodeissa suuren taitekertoimen omaavana materiaalina; ja - litteissä näytöissä suuren taitekertoimen omaavana materiaalina.
15 Keksintöä tarkastellaan nyt tarkemmin muutamien ei-rajoittavien esimerkkien avulla.
ESIMERKIT Esimerkki 1 20
Tiantreeniä (21 g, VWR International) laitettiin 250 ml:n pyörökolviin yhdessä dikloorimetaanin (DCM, 150 ml) ja trifluorietikkahapon (TFAA, 6 ml) kanssa. Pieni määrä jodia (0,4 g) lisättiin, ja bromia (19 g) mitattiin liuokseen. Reaktiota jatkettiin 24 tuntia +23 °C:ssa. Reaktioseos laitettiin rotavaporiin ja DCM poistettiin 45 °C:ssa/ 40 mbanssa ja kierrätettiin (yli 90 %) uutta panosta varten saannon c\j >- 25 vähentymättä. Liisättiin tolueenia (100 ml), ja haihdutusta jatkettiin, kunnes höyryjä ei enää poistunut c\i , 60 °C:ssa/15 mbanssa. Jäljelle jäi vaaleanpunainen jäykkäjuoksuinen materiaali, joka rupesi kiteytymään jäähtyessään. cm x cc
CL
C\l O) m m δ
CM
Esimerkki 2A
11
Et°x .OB
(XXXs-
Molecular Weight: 378.581 5
Esimerkin 1 mukainen materiaali liuotettiin kuivaan THF:ään (150 ml) ja lisättiin klooritrietoksisilaania (21 g) ja magnesiumlastuja (4 g). Kolvi kuumennettiin refluksointilämpötilaan, kunnes reaktio alkoi. Kahden tunnin kuluttua GC/MS mitattiin reaktioliuoksesta, mikä osoitti, että oli muodostunut 2,3 % tiantreeniä, 86,0 % 2-trietoksisilyylitiantreeniä ja 3,5 % 2,8-ja 2,7-bis(trietoksisilyyli)tiantreeniä.
10 Heksaania (100 ml) lisättiin liuokseen magnesiumsuolojen saostamiseksi. Neste siirrettiin rotavaporiin ja haihtuvat aineet poistettiin 60 °C:ssa/20 mbanssa. Tuote 2-trietoksisilyylitiantreeni tislattiin vakuumissa, kp. 190 °C/0,1 mbar, saanto 12,4 g (puhtaus 98,6 % GC/MS:n perusteella Värittömänä nesteenä, joka kiteytyi hitaasti seistessään yön yli.
15 Esimerkki 2B
EtO nc. DIW o OXfC Ξ- COX» S Acetone
2h 65 °C
2-Trietoksisilyylitiantreeniä (5 g) esimerkistä 2A liuotettiin asetoniin (2,5 ml). Lisättiin tippa trifluorietikkahappoa ja kaksi tippaa 0,5 %:ista HCliää. DIW:tä (1,5 g) lisättiin hitaasti tipoittain. Liuosta kuumennettiin 65 °C:ssa kaksi tuntia. DIW:tä (10 ml) ja metyyli-t-butyylieetteriä (30 ml) lisättiin.
^ 20 Orgaaninen faasi erotettiin ja vakuumikuivattiin rotavaporissa (60 °C/15 mbar). Syntynyt valkoinen 0 ^ kiinteä polymeeri (4,5 g, Mw/Mn = 1,221/1,033 GPC:n perusteella) liuotettiin MEK:hon (21 g), pinta- V aktiivista ainetta (45 mg, BYK®306 valmistaja BYK Chemie GmbH) lisättiin, ja seos suodatettiin 0,2 μ:η ^ PTFE-suodattimen läpi. Liuos rotaatiopäällystettiin piikiekolle 1000 rpnrllä, minkä jälkeen sitä x o- kypsytettiin matalassa lämmössä olosuhteissa 150 °C/5 min ja kovetettiin 200 - 240 °C:ssa 10 01 25 minuuttia typen alla. Saatiin 752 nm:n halkeamista ja virheistä vapaa kalvo, jonka Rl = 1,72. Kalvoa m !£! liotettiin asetonissa (30 min, 23 °C) sen paksuuden, Rl:n tai muiden ominaisuuksien muuttumatta.
° Kalvoa kypsytettiin myös olosuhteissa 400 °C/ 5 min/argonin alla, jollin havaittiin ainoastaan 2,8 %:n paksuuden vähenemistä ilma vaikutusta Rhhen tai transmittanssiin, joka oli >95 % näkyvän 12 aallonpituuden alueella. Scotch-tape -testin läpäisy viittaa hyvään polymeerin ja piikiekon väliseen tarttuvuuteen.
Kuvio 1 esittää näin saadun kalvon FTIR-spektriä; kalvon transmittanssi-spektri esitetään 5 (aallonpituuden funktiona) kuviossa 2. Viimeksi mainitun kuvion arvot mitattiin sen jälkeen, kun kalvoa oli kovetettu 5 minuuttia 400 °C:ssa.
Materiaalilla oli myös erinomainen terminen stabiilisuus TGA:n perusteella, jolloin 95 % näytteen massasta pysyi jopa 504 °C:seen inertissä ilmakehässä. Tämä osoittaa, että tiantreeni-perustaiset 10 siloksaanit voivat saada aikaan suuren taitekertoimen omaavia, värittömiä ja erittäin termisesti stabiileja kalvoja, jotka sopivat optisiin sovelluksiin. Kalvolle mitattu dielektrinen vakio k = 3,52. Kuvio 3 esittää kovetetun polymeerin TGA:n käyrää; T (m-5 %) on 504 °C.
Kuvio 4 esittää esillä olevan keksinnön mukaisella polymeerillä täytetyn uran SEM:ää 15 strukturoidulla piikiekolla.
Esimerkki 2C
Kiinteätä polymeeriä (1 g) esimerkistä 2B liuotettiin MEK:hon (1 g) ja liuosta refluksoitiin 100 °C:ssa 20 viisi tuntia. Molekyylipainoa voitiin tällä tavalla lisätä arvoon Mw/Mn = 3,171/2,090.
Esimerkki 2D
Polymeeri esimerkistä 2B (1 osa) liuotettiin dietyyliketoniin (10 osaa) ja Zr02-nanohiukkasia (1 osa, δ 25 tavanomaista Zr02-dispersiota, Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.) lisättiin, ja liuos haihdutettiin noin c\j A 10 %:n kiintoainepitoisuuteen. Liuos suodatettiin 0,2 pm:n PTFE-suodattimen läpi ja ^ rotaatiopäällystettiin piikiekolle, minkä jälkeen sitä kovetettiin kuumalla levyllä 200 - 240 °C:ssa 10
C\J
x minuuttia typen alla. Saatiin 262 nm:n paksuinen kalvo, jonka Rl = 1,809 630 nm:ssä. Kalvolla ei cc esiintynyt absorptiota välillä 400...800 nm, mikä käy ilmi kuviosta 5, jossa esitetään C\1 S 30 polymeerikalvon N-ja k-arvot aallonpituuden funktiona.
LO
δ C\1
Esimerkki 2E
13
Polymeeri esimerkistä 2B (1 osa) liuotettiin MEK:hon (6 osaa) ja lisättiin Ti02-nanohiukkasia (3 osaa, 5 NanoGram nSol-101-20B), ja liuos haihdutettiin noin 16 %:n kiintoainepitoisuteen. Liuos suodatettiin 0,2 pm:n PTFE-suodattimen läpi ja rotaatiopäällystettiin piikiekolle ja lasilevylle, minkä jälkeen se kovetettiin kuumalla levyllä olosuhteissa 250 °C/5 min/N2. Saatiin 626 nm:n paksuinen, väritön ja kirkas kalvo, jonka Rl = 1,915 630 nm:ssä. Kuvio 6 esittää 75 %:sesti Ti02-nanohiukkaisia sisältävällä materiaalilla täytetyn uran SEM:ää strukturoidulla piikiekolla.
10
Esimerkki 3A
Tiantreeniä (103,1 g) liuotettiin DCM:ään (690 g) ja trifluorietikkahappoon (21 g). Jodia (0,4 g) lisättiin yhdessä bromin (95,5 g, 1,25 ekv) kanssa. Reaktion annettiin jatkua 1 päivän 23 °C:ssa,ja sen jälkeen 15 1 päivän 4 °C:ssä. Liuos laitettiin rotavaporiin ja haihtuvat aineet poistettiin olosuhteissa 40 °C/20 mbar. Lisättiin tolueeniä (100 ml) ja haihduttamista jatkettiin 1 tunti olosuhteissa 5 mbar/60 °C. GC/MS viittasi seuraavaan koostumukseen: Tiantreeniä (2,14%), 2-bromitiantreeniä (83,75%) ja dibromitiantreeniä (14,11 %, 2,7-ja 2,8-isomeerit yhteensä). Tummanpunainen materiaali liuotettiin kuivaan THFiään (50 ml) seuraavaa reaktiovaihetta varten.
20
Esimerkki 3B
3 l:n kolmikaulakolviin laitettiin magnesiumlastuja (20 g), THF:ää (650 g) ja klooritrietoksisilaania (146 g) ja seos kuumennettiin refluksointilämpötilaan. Esimerkin 3A mukaista bromotiantreeniä lisättiin 25 kolviin pieninä annoksina. Grignard-reaktio alkoi välittömästi. Reaktion annettiin jatkua 1 tunnin, c\i q minkä jälkeen magnesiumsuolat saostettiin heksaanilla (500 ml). Liuos suodatettiin, minkä jälkeen
CM
haihtuvat aineet haihdutettiin rotavaporissa. Materiaali tislattiin kahdesti olosuhteissa 190...200 °C /< ^ 1 mbar, jolloin saatiin väritöntä 2-trietoksisilyylitiantreeniä (125,9 g, 69,8 %:n kokonaissaanto
CM
tiantreenin perusteella, puhtaus >99 % GC/MS:n perusteella).
cc 30
CM
σ> m m δ
CM
Esimerkki 4A
14 oöo —-—- cxsiyr + Br4f^sDfyBr l2 (cat).TFAA (cat)
DCM, 9d 4...23°C
91% 6% 5 Tiantreeniä (200 g) liuotettiin DCM:ään (1000 g) ja trifluorietikkahappoon (25 g), jodia (1 g) lisättiin yhdessä bromin (161,30 g) kanssa. Reaktion annettiin jatkua 1 päivän 23 °C:ssa, ja sen jälkeen 9 päivää 4 °C:ssa. GC/MS viittasi seuraavaan koostumukseen: Tiantreeniä (2,34 %), 2-bromitiantreeniä (90,49 %) ja dibromitiantreeniä (7,17 %, 2,7- ja 2,8-isomeerit yhteensä). Tämä vastaa monobromatun tuotteen 91 %:n teoreettista saantoa. Liuos laitettiin rotavaporiin ja haihtuvat aineet poistettiin 10 olosuhteissa 40 °C/20 mbar. Tolueeniä (2 x 100 ml) lisättiin ja haihduttamista jatkettiin 1 tunti olosuhteissa 5 mbar/60 °C. Materiaali kiteytyi rotavaporissa keltaiseksi kiintoaineeksi. Se liuotettiin kuivaan THF:ään (300 ml) seuraavaa reaktiovaihetta varten.
Esimerkki 4B 15 3 l:n kolmikaulakolviin laitettiin magnesiumlastuja (35 g), THF:ää (600 g) ja klooritrietoksisilaania (278 g) ja seos kuumennettiin refluksointilämpötilaan. Esimerkin 4A mukaista bromotiantreeniliuosta lisättiin kolviin pieninä annoksina. Grignard-reaktio alkoi välittömästi. Reaktion annettiin jatkua 1 tunnin, minkä jälkeen magnesiumsuolat saostettiin heptaanilla (500 ml). Liuos suodatettiin, minkä 20 jälkeen haihtuvat aineet haihdutettiin rotavaporissa. Materiaali tislattiin kahdesti olosuhteissa < 1 mbarssa, jolloin saatiin väritöntä 2-trietoksisilyylitiantreeniä (kp. 175...200 °C, 234,2g, 66,9 %:n kokonaissaanto tiantreenin perusteella, puhtaus 99,5% GC/MS:n perusteella) ja bis(trietoksisilyyli)tiantreeniä (kp. 200...225 °C, 26,7 g, puhtaus 94,6 % GC/MS:n perusteella, 2,7-ja o ^ 2,8-isomeerien seosta, saanto 5,3 % GC/MS:n perusteella).
V 25
^ Esimerkki 4C
x cc
CL
Eto 2.5 ekv DIW HOx >* OEt^. .S. .Si TFAA (cat.) 'n g OEt^^ S 1 h 65°C s 15 2,7- ja 2,8-bis(trietoksisilyyli)tiantreenien seosta esimerkistä 4B (6 g) liuotettiin asetoniin (6 g). Kolme tippaa trifluorietikkahappo ja DIW:tä (3 g) lisättiin hitaasti samalla sekoittaen. Saatiin kirkas läpinäkyvä liuos. Sitä kuumennettiin 65 °C:ssa tunnin ajan, minkä jälkeen lisättiin PGMEAita (60 g).
5 Liuos haihdutettiin rotavaporissa kunnes saatiin 27 g liuosta, jonka kiintoainepitoisuus oli 13,97 %. GPC (THF:ssä) antoi molekyylipainoksi Mw/Mn=27,353/4,838. Liuos rotaatiopäällystettiin piikiekolle nopeudella 2000 rpm ja sitä kypsytettiin olosuhteissa 250 °C/5 min/N2, minkä jälkeen sitä kovetettiin olosuhteissa 400 °C/5 min/N2. Kovetettu kalvo oli väritön ja virheetön, ja sen paksuus oli 499 nm ja Rl = 1,665. Kutistuminen kypsyttämisen ja kovettumisen välillä oli 2 prosenttia.
10
Esimerkki 5
MeO
v .OMe CT + MeO-Si-OMe -jC J °Me
OMe THF
1 l:n kolmikaulakolviin laitettiin magnesiumlastuja (5 g), THF:ää (200 g) ja tetrametoksisilaania (50 g) 15 ja seos kuumennettiin refluksointilämpötilaan. 2-Bromotiantreeniä (40 g), valmistettu analogisesti esimerkin 3A mukaisesti, lisättiin kolvin 10 g:n annoksina. Grignard-reaktio alkoi 10 minuutissa. Reaktion annettiin jäähtyä 1 tunnin ajan, minkä jälkeen magnesiumsuolat saostettiin heksaanilla (200 ml). Liuoksen GC/MS osoitti, että saatiin jonkin verran tiantreeniä ja 2-(trimetoksisilyyli)tiantreeniä noin 60 %:n saannolla (kuvio 7).
20
Esillä olevilla polymeereillä on suuri taitekerroin, hyvä läpinäkyvyys ja erinomainen terminen stabiilisuus. Ne ovat käyttökelpoisia dielektrisinä kalvoina puolijohdeteollisuudessa ja optisissa cvi sovelluksissa, mukaan lukien CMOS-kuvasensoreiden materiaaleissa, joissa on suuri RL
δ
CM
^ 25 N-
<M
X
IX
Q.
<M
σ> m m δ
(M
16
Viiteluettelo 1. Ueda, M., et ai., J. Mater. Chem., 2009, 19, 8907-8919 5 2. H. Gilman et ai., J. Am. Chem. Soc., 77, 5944-8 (1955) 3. D-Y Lee et ai., Korean J. Chem. Eng., 19(4), 645-652 (2002) 4. Joule, J. A., et ai., J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1,1996, 2391-2395 5. Weyenberg, D. R., et ai., J. Org. Chem., 1965, 30 (7), ss. 2436-2440 c\j δ c\j i 1^ C\l
X
cc
CL
CM
O) m m δ
CM
Claims (5)
10 Ai, A2, A3, A4, A5, A6, A7 valitaan itsenäisesti joukosta vety, suoraketjuiset tai haarautuneet alkyyliryhmät, aryyliryhmät ja halogeeniryhmät, ja Ri, R2, R3, R4, Rs ja R6 valitaan itsenäisesti joukosta vety, suoraketjuiset tai haarautuneet alkyyliryhmät, suoraketjuiset tai haarautuneet alkoksiryhmät, halogeeniryhmät, asyylioksiryhmät ja alifaattisettai aromaattiset sykliset ryhmät, 15 sillä edellytyksellä, että ^ ainakin yksi joukosta Ri, R2, R3, R4, R5 ja R6 on hydrolysoitavissa oleva ryhmä, o (M V Patenttivaatimus
2. Patenttivaatimuksen 1 mukaiset monomeerit, joissa Ai, A2, A3, A4, A5, A6, A7 r-- ^ valitaan itsenäisesti joukosta vety, suoraketjuiset tai haarautuneet alkyyliryhmät, joissa on 1-6 x £ 20 hiiliatomia, kuten cvj -CH3 ja -CH2CH3, aryyliryhmät, kuten fenyyli ja halogeeniryhmät, kuten kloori, bromi tai jodi, O) in m ryhmät valitaan joukosta halogeeniryhmät, kuten kloori tai bromi, alkoksiryhmät, kuten δ Patenttivaatimus
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukaiset monomeerit, joissa hydrolysoitavissa olevat CM alkoksiryhmät, joissa on 1-6 hiiliatomia, esimerkiksi metoksi, etoksi, n-propoksi ja isopropoksi ja asyylioksiryhmät kuten asetoksi. Patenttivaatimus
4. Menetelmä jonkin patenttivaatimuksen 1-3 mukaisen monomeerin 5 valmistamiseksi, joka käsittää vaiheet, jolloin - bromataan tiantreeni käyttämällä alkuainebromia ja katalyyttinen määrä sekä jodia että trifluorietikkahappoa inertissä liuottimessa; - otetaan talteen näin saatu bromattu tiantreeni; ja - saatetaan bromattu tiantreeni reagoimaan silaanin kanssa, jolloin saadaan modifioitu silaani, 10 joka sisältää tiantreeniryhmän. Patenttivaatimus 5. Patenttivaatimuksen 4 mukainen menetelmä, jossa - bromitiantreenit saatetaan reagoimaan magnesiummetallin kanssa liuottimessa, jolloin muodostuu Grignard-reagenssi, ja 15. näin saatu Grignard-reagenssi saatetaan reagoimaan silaaniyhdisteen kanssa, jossa on hydrolysoitavissa olevia ryhmiä, jolloin muodostuu tiantrenyylisilaaneja, joilla on kaavat I, II, III, IV, V ja VI. Patenttivaatimus 6. Patenttivaatimuksen 4 tai 5 mukainen menetelmä, jossa bromattu 20 tiantreenimonomeeri saatetaan reagoimaan jonkin kaavan VII - XII mukaisen silaaniyhdisteen kanssa X X X Y XY YY X-Si-X Y-Si-X Y-Si-X Y-Si-X X-Si-B-Si-X X-Si-B-Si-X I I I I II II X X Y Y XX XX, C\J o VII Vili IX X XI XII " 25 T jossa i^ ^ - kukin X voi olla samanlainen tai erilainen ja kukin X on itsenäisesti hydrolysoitavissa oleva x £ ryhmä; c\J kukin Y voi olla samanlainen tai erilainen ja kukin Y valitaan itsenäisesti joukosta H, metyyli-, LO m 30 etyyli-, merkaptopropyyli-, vinyyli-, allyyli-, fenyyli-, styryyli-, bentsyyli-, naftyyli-, o fenantrenyyli-, antrasenyyli-, glysidyylioksipropyyli-, akryylioksipropyyli-, metakryylioksipropyyli tai tiantrenyyliryhmä; ja - B on siltaryhmä valittuna joukosta kaksiarvoiset hydrokarbyylitähteet kuten suoraketjuiset ja haarautuneet alkyleeniryhmät, alkenyleeniryhmät, alkynyleeniryhmät, kaksiarvoiset alisykliset ryhmät, kaksiarvoiset polysykliset ryhmät ja kaksiarvoiset aromaattiset ryhmät (aryleeniyhmät), esimerkiksi -CH2-, CH2CH2-, CH2CH2CH2-, aryleeni-ja -C6H4-ja -Ci0H6-ryhmät. 5 Patenttivaatimus 7. Suuren taitekertoimen siloksaanipolymeeri, joka sisältää tiantreeniryhmiä kiinnitettyinä piiatomiin. Patenttivaatimus 8. Polymeeri, joka valmistetaan hydrolysoimalla ja polymeeroimalla jonkin 10 patenttivaatimuksen 1-3 mukaisia tiantreeniä sisältäviä silaanimonomeerejä. Patenttivaatimus 9. Kopolymeeri, joka saadaan kohydrolysoimalla ja polymeeroimalla jonkin patenttivaatimuksen 1-3 mukaisia silaanimonomeerejä yhden tai useamman muun silaanimonomeerin kanssa. 15 Patenttivaatimus 10. Patenttivaatimuksen 9 mukainen kopolymeeri, jossa muutsilaanikomonomeerit valitaan joukosta VII - XII mukaiset silaanimonomeerit Patenttivaatimus 11. Jonkin patenttivaatimuksen 8-10 mukainen polymeeri tai kopolymeeri, jolla on 20 kaava XIII tai XIV HC> V /C cX >*" ς ν0Χη , rv bH ’ xj o XIII XIV CvJ + Ax = -H, -CH3, CH2CH3, phenyl, -Cl, -Br or -I 7 n = 3...30,000 CvJ x o- Patenttivaatimus 12. Menetelmä jonkin patenttivaatimuksen 8-11 mukaisen polymeerin tai 25 kopolymeerin valmistamiseksi, jolloin hydrolysoidaan jonkin patenttivaatimuksen 1-3 mukaiset m ^ monomeerit ja polymerisoidaan mainitut monomeerit veden ja happo- tai emäskatalyytin läsnä ° ollessa, jolloin saadaan siloksaanipolymeerit. Patenttivaatimus 13. Patenttivaatimuksen 12 mukainen menetelmä, jossa polymeerin molekyylipainoa kasvatetaan edelleen suorittamalla emäskatalysoitu kondensaatioreaktio tai refluksoimalla korkealla kiehuvassa liuottimessa.
5 Patenttivaatimus 14. Patenttivaatimuksen 12 tai 13 mukainen menetelmä, jossa saadun tiantreenipitoisen polysilaanin tai polysiloksaanin massakeskimääräinen molekyylipaino (Mw) on välillä 500...10000000 g/mol. Patenttivaatimus 15. Polymeeriliuos, joka käsittää 10 - jonkin patenttivaatimuksen 8-11 mukaisen polymeerin tai kopolymeerin tai jonkin patenttivaatimuksen 12-14 mukaisesti valmistetun polymeerin tai kopolymeerin; - liuotimen; - mahdollisen pinta-aktiivisen aineen; - mahdollisen fotohappogeneraattorin (PAG), fotoemäsgeneraattorin (PBG) tai 15 fotoradikaaligeneraattorin (PRG);ja - mahdolliset nanohiukkaset, jotka koostuvat metallioksidinanohiukkasista, sulfidinanohiukkasista, nanotimanteista, hiilinanoputkista, amorfisista piinanohiukkasista tai mistä tahansa näiden seoksesta.
20 Patenttivaatimus 16. Patenttivaatimuksen 15 mukainen polymeeriliuos, jossa metallioksidi- tai metallisulfidinanohiukkaset valitaan joukosta Zr02, Ti02, Hf02, Si02, Sn02, Al203, Ce02, Y203, ZnO, BaTi03, Nb205, Ge02, Sb203, Ta203, La203, W03, Bi203, PbO, ZnS, CdS, PbS. Patenttivaatimus 17. Patenttivaatimuksen 15 tai 16 mukainen polymeeriliuos, jossa liuotin valitaan 25 joukosta propyleeniglykolimetyylieetteriasetaatti, dipropyleeniglykolimetyylieetteriasetaatti, n- ^ metyyli-2-pyrrolidoni, anisoli, bentsyylialkoholi, tolueeni, etyylibentseeni, ksyleeni, mesityleeni, ^ dimetyyliasetamidi, dimetyyliformamidi, l,3-dimetyyli-3,4,5,6-tetrahydro-2(lH)-pyrimidinoni, heksametyylifosforiamidi, propyleeniglykolimetyylieetteri, propyleeniglykolietyylieetteri, x propyleeniglykolipropyylieetteri, metyylilaktaatti, etyylilaktaatti, propyylilaktaatti, etyyliasetaatti, Q. 30 propyyliasetaatti, butyyliasetaatti, syklopentanoni, sykloheksanoni, dimetyylisulfoksidi, metyyli- C\J S isobutyyliketoni, metyylietyyliketoni, metyylipropyyliketoni, 2-heptanoni, gamma-butyrolaktoni, m ^ etyyli-3-etoksipropionaatti, etyyli-3-metoksipropionaatti, etyylipyruvaatti, etyylisellosolveasetaatti, o tetrahydrofurfuryylialkoholi, isopropanoli, butanoli tai mitkä tahansa näiden seokset Patenttivaatimus 18. Jonkin patenttivaatimuksen 15-16 mukainen polymeeriliuos, jossa mahdollinen pinta-aktiivinen aine on fluoripitoinen pinta-aktiivinen aine, siloksaanipitoinen pinta-aktiivinen aine tai alkyylifenolietoksylaattipitoinen pinta-aktiivinen aine. 5 Patenttivaatimus 19. Polymeerikalvo, joka on valmistettu jonkin patenttivaatimuksen 15-18 mukaisesta polymeeriliuoksesta. Patenttivaatimus 20. Jonkin patenttivaatimuksen 8-11 mukaisen polymeerin tai kopolymeerin tai 10 jonkin patenttivaatimuksen 12-14 mukaisesti valmistetun polymeerin tai kopolymeerin käyttö CMOS-ja CCD-kuvasensoreissa materiaalina, jolla on suuri taitekerroin. Patenttivaatimus 21. Jonkin patenttivaatimuksen 8-11 mukaisen polymeerin tai kopolymeerin tai jonkin patenttivaatimuksen 12-14 mukaisesti valmistetun polymeerin tai kopolymeerin käyttö 15 puolijohdeteollisuudessa dielektrisenä materiaalina. Patenttivaatimus 22. Jonkin patenttivaatimuksen 8-11 mukaisen polymeerin tai kopolymeerin tai jonkin patenttivaatimuksen 12-14 mukaisesti valmistetun polymeerin tai kopolymeerin käyttö optisissa kojeissa materiaalina, jolla on suuri taitekerroin. 20 Patenttivaatimus 23. Jonkin patenttivaatimuksen 8-11 mukaisen polymeerin tai kopolymeerin tai jonkin patenttivaatimuksen 12-14 mukaisesti valmistetun polymeerin tai kopolymeerin käyttö valoa emittoivissa diodeissa materiaalina, jolla on suuri taitekerroin.
25 Patenttivaatimus 24. Jonkin patenttivaatimuksen 8-11 mukaisen polymeerin tai kopolymeerin tai ^ jonkin patenttivaatimuksen 12-14 mukaisesti valmistetun polymeerin tai kopolymeerin käyttö litteissä *“ näytöissä materiaalina, jolla on suuri taitekerroin. i 1^ C\l X cc CL CM O) m m δ CM Patentkrav 1. Tiantreninnehällande silanmonomerer enligt följande formler I, II, III, IV, V och VI, 5 At2 f< R< ,r2 Ϋ f’ R' ,r2 r5„ .r4 t R1 ,r2 Αβ Αρ A4 A5 A4 A5 I II III r2 R5 R2 R2 Ai Ri_S1-R3 R4—Si-Rg Ri—Si-R3 Ai R-|—S1-R3 WX IWC ίφΟφζ A4 Ag A3 A4 Rg Si R4 A4 IV V Rs vi där
10 Ai, A2, A3, A4, A5i A6, A7 väljs oberoende ur gruppen omfattande väte, linjära eller förgrenade alkylgrupper, arylgrupper och halogengrupper, och Ri, R2, Rb, R4, R5 ja R6 väljs oberoende ur gruppen omfattande väte, linjära eller förgrenade alkylgrupper, linjära eller förgrenade alkoxigrupper, halogengrupper, acyloxigrupper och alifatiska eller aromatiska cykliska grupper, 15 under förutsättning att ^ ätminstone en ur gruppen Ri, R2, R3, R4, R5 ja R6 utgörs av en hydrolyserbar grupp. Patentkrav 2. Monomerer enligt patentkrav 1, där Ai, A2, A3, A4, A5, A6, A7 väljs oberoende ur gruppen omfattande väte, linjära eller förgrenade alkylgrupper med 1-6 kolatomer, säsom CL
20 -CH3 och -CH2CH3, arylgrupper, säsom fenyl, och halogengrupper, säsom klor, brom eller jod. σ> LO LO ^ Patentkrav 3. Monomerer enligt patentkrav 1 eller 2, där de hydrolyserbara grupperna väljs ur C\1 gruppen omfattande halogengrupper, säsom klor eller brom, alkoxigrupper, säsom alkoxigrupper med 1-6 kolatomer, t.ex. metoxi, etoxi, n-propoxy och isopropoxy och acyloxigrupper, säsom 25 acetoxi. Patentkrav 4. Förfarande för tillverkning av en monomer enligt nägot av patentkraven 1-3, vilket förfarande omfattar följande steg, varvid - tiantren bromeras genom användning av elementärt brom och en katalytisk mängd bäde jod och trifluorättiksyra i en inert lösning; 5. det pä sä sätt erhällna bromerade tiantrenet tas tillvara; och - det bromerade tiantrenet bringas att reagera med en siian, varvid en modifierad siian er-hälls, som innehäller en tiantrengrupp. Patentkrav 5. Förfarande enligt patentkrav 4, där 10. bromtiantrenerna bringas att reagera med magnesiummetall i en lösning, varvid en Grignard-reagens bildas, och - den pä sä sätt erhällna Grignard-reagensen bringas att reagera med en silanförening med hydrolyserbara grupper, varvid tiantrenylsilaner enligt formlerna I, II, III, IV, V och VI bildas. 15 Patentkrav 6. Förfarande enligt patentkrav 4 eller 5, varvid den bromerade tiantrenmonomeren bringas att reagera med en silanförening enligt nägon av formlerna VII - XII X X X Y XY YY X-Si-X Y-Si-X Y-Si-X Y-Si-X X-Si-B-Si-X X-Si-B-Si-X I I I I II II
20. X Y Y XX XX, VII Vili IX X XI där c\j ^ - vart och ett X kan vara likadant eller olikt och vart och ett X utgör oberoende en CM 25 hydrolyserbar grupp; 1 vart och ett Y kan vara likadant eller olikt och vart och ett Y väljs oberoende ur gruppen av CM H, metyl-, etyl-, merkaptopropyl-, vinyl-, allyl-, fenyl-, styryl-, bensyl-, naftyl-, fenantrenyl-, x cc antrasenyl-, glycidyloxipropyl-, acryloxipropyl-, metakryloxipropyl- och tiantrenylgrupp; cm , O) och m
30. B utgör en tvärbindningsgrupp vald ur gruppen omfattande tvävärdiga hydrokarbylrester, ^ säsom linjära och förgrenade alkylengrupper, alkenylengrupper, alkynylengrupper, tvä värdiga alicykliska grupper, tvävärdiga polycykliska grupper och tvävärdiga aromatiska grupper (arylengrupper), t.ex. -CH2-, CH2CH2-, CH2CH2CH2-, arylen- och -C6H4-ja -Ci0H6-grupper. Patentkrav 7. Siloxanpolymer med hög böjningskoefficient innehallande tiantrengrupper fästa vid 5 en kiselatom. Patentkrav 8. Polymer, som framställs medelst hydrolysering och polymerisation avtiantreninne-hällande silanmonomerer enligt nägot av patentkraven 1-3.
10 Patentkrav 9. Kopolymer, som erhälls medelst kohydrolisering och polymerisation av silanmonomerer enligt nägot av patentkraven 1-3 med en eller ett flertal silanmonomerer. Patentkrav 10. Kopolymer enligt patentkrav 9, där de andra silankomonomererna väljs ur gruppen omfattande silanmonomerer enligt formlerna VII - XII. 15 Patentkrav 11. Polymer eller kopolymer enligt nägot av patentkraven 8-10 enligt formeln XIII eller XIV HO > Γυ bH ’ XP 7x(a!P^sA^ XIII XIV Ax = -H, -CH3, CH2CH3, phenyl, -Cl, -Br or -/ n = 3...30,000 C\J 0 20 CM -1- Patentkrav 12. Förfarande för framställning av en polymer eller kopolymer enligt nägot av patentkraven 8-11, varvid monomererna enligt nägot av patentkraven 1-3 hydrolyseras och x nämnda monomerer polymeriseras i närvaro av vatten och syra- eller baskatalysator, varvid Q. siloxanpolymerer erhälls. CM σ> m 25 m ^ Patentkrav 13. Förfarande enligt patentkrav 12, där polymerens molekylvikt vidare ökas genom o CM att utföra en baskatalyserad kondensationsreaktion eller genom att refluxera i en vid hög temp-eratur kokande lösning. Patentkrav 14. Förfarande enligt patentkrav 12 eller 13, där den erhällna tiantrenhaltiga polysilanens eller polysiloxanens molekylvikts (Mw) massamedelvärde ligger i intervallet 500...10000000 g/mol.
5 Patentkrav 15. Polymerlösning, som omfattar - en polymer eller kopolymer enligt nägot av patentkraven 8-11 eller en polymer eller kopolymer framställd enligt nägot av patentkraven 12-14; - ett lösningsmedel; - ett valbartytaktivtämne; 10. en valbar fotosyragenerator (PAG), fotobasgenerator (PBG) eller fotoradikalgenerator (PRG); och - valbara nanopartiklar, som bestär av metalloxidnanopartiklar, sulfidnanopartiklar, nano-diamanter, kolnanorör, amorfa kiselnanopartiklar eller vilken som heist blandning därav.
15 Patentkrav 16. Polymerlösning enligt patentkrav 15, där metalloxid- eller metallsulfidnano- partiklar väljs ur gruppen omfattande Zr02, Ti02, Hf02, Si02, Sn02, Al203, Ce02, Y203, ZnO, BaTi03, Nb205, Ge02, Sb203, Ta203, La203, W03, Bi203, PbO, ZnS, CdS, PbS. Patentkrav 17. Polymerlösning enligt patentkrav 15 eller 16, där lösningsmedlet väljs ur gruppen 20 omfattande propylenglykolmetyleteracetat, dipropylenglykolmetyleteracetat, n-metyl-2-pyrro-lidon, anisol, benzylalkohol, toluen, etylbensen, xylen, mesitylen, dimetylacetamid, dimetylfor-mamid, l,3-dimetyl-3,4,5,6-tetrahydro-2(lH)-pyrimidinon, hexametylfosforamid, propylenglykol-metyleter, propylenglykoletyleter, propylenglykolpropyleter, metyllaktat, etyllaktat, propyllaktat, etylacetat, propylacetat, butylacetat, cyklopentanon, cyklohexanon, dimetylsulfoxid, metyl-c\j 25 isobutylketon, metyletylketon, metylpropylketon, 2-heptanon, gamma-butyrolakton, etyl-3- ° etoxipropionat, etyl-3-metoxipropionat, etylpyruvat, etylcellosolveacetat, tetrahydrofurfuryl- ^ alkohol, isopropanol, butanol eller vilken som heist blandning därav. c\j Er Patentkrav 18. Polymerlösning enligt nägot av patentkraven 15-16, där det valbara ytaktiva ämnet CL ^ 30 utgörs av ett fluorhaltigt ytaktivt ämne, ett siloxanhaltigt ytaktivt ämne eller ett alkylfenol- o etoxylathaltigt ytaktivt ämne. δ c\j Patentkrav 19. Polymerfilm, som är framställd frän en polymerlösning enligt nägot av patentkraven 15-18. 35 Patentkrav 20. Användningen av en polymer eller kopolymer enligt nägot av patentkraven 8-11 eller en polymer eller kopolymer framställd enligt nägot av patentkraven 12-14 i CMOS- och CCD-bildsensorer som material med hög brytningskoefficient.
5 Patentkrav 21. Användningen av en polymer eller kopolymer enligt nägot av patentkraven 8-11 eller en polymer eller kopolymer framställd enligt nägot av patentkraven 12-14 i halvledarin-dustrin som dielektriskt material. Patentkrav 22. Användningen av en polymer eller kopolymer enligt nägot av patentkraven 8-11 10 eller en polymer eller kopolymer framställd enligt nägot av patentkraven 12-14 i optiska anordn-ingar som material med hög brytningskoefficient. Patentkrav 23. Användningen av en polymer eller kopolymer enligt nägot av patentkraven 8-11 eller en polymer eller kopolymer framställd enligt nägot av patentkraven 12-14 i ljusemitterande 15 dioder som material med hög brytningskoefficient. Patentkrav 24. Användningen av en polymer eller kopolymer enligt nägot av patentkraven 8-11 eller en polymer eller kopolymer framställd enligt nägot av patentkraven 12-14 i platta bild-skärmarsom material med hög brytningskoefficient. 20 c\j δ CM 1^ CM X X Q. CM O m m δ CM
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI20115592A FI123292B (fi) | 2011-06-14 | 2011-06-14 | Silaanimonomeerit ja niistä saatavat korkean taitekertoimen omaavat polymeerit |
US14/126,447 US9190616B2 (en) | 2011-06-14 | 2012-06-14 | Organometallic monomers and high refractive index polymers derived therefrom |
PCT/FI2012/050602 WO2012172177A1 (en) | 2011-06-14 | 2012-06-14 | Organometallic monomers and high refractive index polymers derived therefrom |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI20115592A FI123292B (fi) | 2011-06-14 | 2011-06-14 | Silaanimonomeerit ja niistä saatavat korkean taitekertoimen omaavat polymeerit |
FI20115592 | 2011-06-14 |
Publications (4)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI20115592A0 FI20115592A0 (fi) | 2011-06-14 |
FI20115592L FI20115592L (fi) | 2012-12-15 |
FI20115592A FI20115592A (fi) | 2012-12-15 |
FI123292B true FI123292B (fi) | 2013-01-31 |
Family
ID=44206803
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI20115592A FI123292B (fi) | 2011-06-14 | 2011-06-14 | Silaanimonomeerit ja niistä saatavat korkean taitekertoimen omaavat polymeerit |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9190616B2 (fi) |
FI (1) | FI123292B (fi) |
WO (1) | WO2012172177A1 (fi) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5675581B2 (ja) | 2011-12-27 | 2015-02-25 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 有機珪素化合物の製造方法 |
CN103657628B (zh) * | 2013-12-13 | 2015-08-26 | 广西大学 | 一种SnO2-TiO2复合纳米光催化剂的制备方法 |
US10707526B2 (en) | 2015-03-27 | 2020-07-07 | New Dominion Enterprises Inc. | All-inorganic solvents for electrolytes |
EP3279223A1 (de) | 2016-08-05 | 2018-02-07 | Evonik Degussa GmbH | Verwendung thianthrenhaltiger polymere als ladungsspeicher |
TWI686415B (zh) | 2016-08-05 | 2020-03-01 | 德商贏創運營有限公司 | 含有噻嗯之聚合物作為電荷儲存裝置之用途 |
US10707531B1 (en) | 2016-09-27 | 2020-07-07 | New Dominion Enterprises Inc. | All-inorganic solvents for electrolytes |
US20210124266A1 (en) * | 2018-04-13 | 2021-04-29 | Nissan Chemical Corporation | Primer for semiconductor substrate and method for forming a pattern |
CN115850699B (zh) * | 2022-09-05 | 2024-04-26 | 江西有泽新材料科技有限公司 | 一种低介电共混聚酰亚胺及制备方法和应用 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19733882C2 (de) * | 1997-08-05 | 2002-11-14 | Fraunhofer Ges Forschung | Thianthren-Polymere für den Einsatz in optischen Vorrichtungen, insbesondere Elektrolumineszenzbauelementen |
KR101193179B1 (ko) * | 2005-08-26 | 2012-10-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 오가노실록산 화합물 및 이를 구비한 유기 발광 소자 |
JP5412760B2 (ja) * | 2008-08-07 | 2014-02-12 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 新規な含金属化合物 |
-
2011
- 2011-06-14 FI FI20115592A patent/FI123292B/fi active IP Right Grant
-
2012
- 2012-06-14 US US14/126,447 patent/US9190616B2/en active Active
- 2012-06-14 WO PCT/FI2012/050602 patent/WO2012172177A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2012172177A1 (en) | 2012-12-20 |
FI20115592L (fi) | 2012-12-15 |
US9190616B2 (en) | 2015-11-17 |
FI20115592A0 (fi) | 2011-06-14 |
US20140288260A1 (en) | 2014-09-25 |
FI20115592A (fi) | 2012-12-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI123292B (fi) | Silaanimonomeerit ja niistä saatavat korkean taitekertoimen omaavat polymeerit | |
US10815339B2 (en) | Method for preparing organopolysiloxane resins | |
US7915369B2 (en) | Ultraviolet transmissive polyhedral silsesquioxane polymers | |
TWI383024B (zh) | 密封光學裝置的樹脂組成物、其硬化產物和密封半導體元件的方法 | |
Devapal et al. | Synthesis, characterization and ceramic conversion studies of borosiloxane oligomers from phenyltrialkoxysilanes | |
JP2010535915A (ja) | エポキシ官能性有機シランの制御された加水分解及び縮合並びに該エポキシ官能性有機シランと他の有機官能性アルコキシシランとの共縮合のための方法 | |
JP6751100B2 (ja) | 高屈折率シロキサンモノマー、それらの重合及び用途 | |
JP2011190413A (ja) | シロキサンポリマー架橋硬化物 | |
US8859708B2 (en) | Silicone resins, silicone composition, and coated substrates | |
CN111886280B (zh) | 聚金属氧烷、组合物、固化膜、构件、电子部件、纤维、陶瓷成型用粘合剂、固化膜的制造方法和纤维的制造方法 | |
CN1709928A (zh) | 含硅氧烷的芳炔树脂 | |
US8604126B2 (en) | Silicone resin composition and optical material | |
TWI434878B (zh) | An organopolysiloxane containing an organofunctional group and a plurality of alkoxy groups having different carbon numbers | |
JP2023532443A (ja) | ポリシロキサンを製造するための前駆体、ポリシロキサン、ポリシロキサン樹脂、ポリシロキサンの製造方法、ポリシロキサン樹脂の製造方法およびオプトエレクトロニクス部品 | |
KR102115976B1 (ko) | 자가-치유가 가능한 폴리실세스퀴옥산 및 이를 이용한 하이브리드 필름 | |
KR101601887B1 (ko) | 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지로 이루어진 led 봉지재 및 그 수지의 제조방법 | |
JP4061132B2 (ja) | フッ素含有ポリシラン化合物 | |
JP2758116B2 (ja) | メチル基含有ポリシランの製造方法 | |
JP4564998B2 (ja) | フッ素含有ポリシラン化合物の製造方法 | |
US7393560B2 (en) | Organo-metal compounds | |
JP2718617B2 (ja) | ポリオルガノシランの製造方法 | |
JPH0798866B2 (ja) | セラミックスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FG | Patent granted |
Ref document number: 123292 Country of ref document: FI Kind code of ref document: B |