FI117784B

FI117784B - Förfarande för automatisk bestämning av exponeringstiden för en radiografisk film samt system för dess genomförande

Info

Publication number: FI117784B
Application number: FI913242A
Authority: FI
Inventors: Robert Heidsieck
Original assignee: Gen Electric Cgr
Priority date: 1990-07-06
Filing date: 1991-07-04
Publication date: 2007-02-15
Also published as: US5218625A; EP0465360B1; EP0465360A1; FI913242A0; FI913242A; DE69106953T2; DE69106953D1; JP3371372B2; JPH04229994A

Claims

1. Förfarande för automatisk bestämning av exponeringstiden för en radiografisk film i ett radiologiskt system, vilket är avsett för undersökning av ett objekt (13), 5 och vilket innehäller ett röntgenrör (11), vars matningsspänning V kan anta olika värden Vm med kontinuerlig eller diskret variation, varvid nämnda röntgenrör emitte-rar röntgensträlning (14) i form av pulser, vilkas längd S kan variera, mot objektet (13) som skall undersökas, en mottagare (17) för röntgensträlningen som har pas-serat objektet för att bilda en bild av nämnda objekt, varvid nämnda mottagare be-10 stär av minst en förstärkande skärm och en film som är känslig för ljus emitterat av denna skärm, en cell (12) för detektering av röntgensträlningen som passerat objektet som skall undersökas, vilken cell är anordnad bakom bildmottagaren och vil-ken möjliggör konvertering av en fysisk variabel som karaktäriserar röntgensträlningen tili en mätningssignal L, en integratorkrets (16) som integrerar mätningssig-15 nalen L över exponeringstiden S och avger en signal M, samt en anordning för att kalkylera utfallet D genom att använda förhällandet av signalen M till produkten (I x S) av anodströmmen I i röret och exponeringstiden S, kännetecknat av att förfa-randet innehäller följande ätgärder: 20 (a) en första kalibrering av det radiologiska systemet med hjälp av objekt med en ... . tjocklek Ep genom användning av en mottagare utan förstärkande skärm eller skär- • · · ’ mar för att bestämma utfallet Dse med funktionen: Dse = f (Vm, Ep) (IV) • * · samt bestämning av tjockleken Ep med den inversa funktionen:

25 Ep = g· (Vm, Dse) (V) * · * · · • * · * * · (b) en andra kalibrering av det radiologiska systemet med hjälp av objekt med en . tjocklek Ep genom att använda en mottagare (17) med förstärkande skärm för att • t · .···. bestämma utfallet Dc med funktionen:

30 Dc = f"(Vm, Ep) (VI) • * · * · [ bestämning av tjockleken Ep med den inversa funktionen: Ep = g"(Vm, Dr) (VII) ···’' V : och för att kalkylera utfallet Df pä filmen med funktionen: V i Df ~ f(Vm, Ep) - f'(Vm, Ep) (VIII) 117784 varvid f och f" är funktioner som beskriver förändringen i utfallet D som funktion av parametrarna Vm och Ep i specifika konfigurationer av systemet, och g' och g" är funktioner som beskriver förändringen i tjockleken Ep som funktion av parametrarna Vm och D i specifika konfigurationer av systemet 5 (c) en tredje kaiibrering för att bestämma referensexponeringsmängden Lref som filmen skall motta under fixerade referensförhällanden för att fä den svärtning (elier optiska täthet) som valts tili referensvärde; och sedan följande steg (elier ätgärder för): 10 (el) inställning av objektet som radiografiskt skall undersökas; (e2) utlösning av exponeringens start; (e3) mätning av utfallet Dci vid en bestämd tid f efter start av exponeringen (e4) mätning av den ekvivalenta tjockleken E, med hjälp av ekvationen (VII); (e5) kalkylering av utfallet Dfl pä filmens nivä för tjockleken Ei med hjälp av ekva-15 tionen (VIII); (e6) kalkylering av den av filmen mottagna exponeringsmängden Lf enligt ekvationen Lf - Lam + Dn x omAs (IX) i vilken ekvation Lam är exponeringsmängden, vilken filmen har mottagit före ätgär-20 den (e3), och amAs är vid tidpunkten t' mottagen mAs-mängd och den bestäms . genom produkten av rörets Ström I gänger integreringstiden t'; */ (e7) kalkylering av exponeringsmängden Lra, som ännu skall erhlllas för att fä den ["*. svärtning (elier optiska täthet) som bestäms av ekvationen: Lra = Lref-Lf (X) • · 25 (e8) kalkylering av den estimerade mA.s-mängden mAsr, som äterstär att levereras, * · med ekvationen: mAs, = Lra/Dll (XI) . ,·. (e9) mätning av mAs-mängden rnAsmes som levererats efter start av ätgärden (e3); * · · .···. (elO) - avslutning av exponeringen dä mAs-mängden rnAsmes som uppmätts (i ste- • , 30 get e9) är lika stor som elier större än mAsr, ] - elier ätervändning tili steget (e3) dä mAs-mängden som uppmätts (i steget e9) är mindre än mAsr. ·· • * · • · · · . ψ · • · · • · · : 43 1 1 7784

2. Förfarande enligt patentkrav 1, kännetecknat av att den andra kalibreringen (b) kompletteras med bestämning av den ekvivalenta tjockleken (sup. filter), som beror pä tilläggsfiltreringen mellan den förstärkande skärmen och detektorcellen, vilken tilläggsfiltrering subtraheras frän Ep i ekvationen (VIII) som storheten 5 (Ep - sup.filter).

3. Förfarande enligt patentkrav 1 eller 2, kännetecknat av att steget för att stoppa exponeringen innehäller ett understeg för kalkylering av den äterstäende expone-ringstiden b sä, att 10 tr - mAsr/I för att avsluta exponeringen i en öppen slinga, sä att exponeringen avslutas dä ti- ./ den b har gätt.

4. Förfarande enligt patentkrav 1 eller 2, kännetecknat av att steget (e8) vidare 15 innehäller ett steg för kalkylering av mAs-mängden (mAsc) som levererats under tiden b i stegen (e4) - (e8) och som definieras av ekvationen: mASc = I x b (XIII) för att bestämma det verkliga värdet av mAs-mängden (mAsra) som ännu ska erhäl-las, sä att: 20 mAsra = mAsr - mAsc (XII) • * • * · . < I II * / 5. Förfarande enligt patentkrav 3, kännetecknat av att steget (elO) vidare inne- • . . häller ett steg för att kalkylera den äterstäende exponeringstiden trc, sä att: trc = mASra/I (XIV) * · * 25 för att avsluta exponeringen dä trc är mindre än ett värde b, som motsvarar tidsin- * · tervailet mellan tvä successiva steg (e3). • · · ♦ t 6. Förfarande för automatisk bestämning av exponeringstiden för en radiografisk • · · film i ett radiologiskt system, vilket är avsett för undersökning av ett objekt (13), • · ‘Γ 30 och vilket innehäller ett röntgenrör (11), vars matningsspänning V kan anta olika ' * värden Vm med kontinuerlig eller diskret variation, varvid nämnda röntgenrör emitte- ···«*.' * * rar röntgenstrllning (14) i form av pulser, vars längd S kan variera, mot objektet :T: (13) som skall undersökas, en mottagare (17) för röntgensträlningen som har pas- serat objektet för att bilda en bild av nämnda objekt, varvid nämnda mottagare be- 117784 stär av minst en förstärkande skärm och en film, som är känslig för ljus emitterat av denna skärm, en cell (12) för detektering av röntgensträlningen som passerat ob-jektet som ska undersökas, vilken cell är placerad bakom bildmottagaren och vilken möjliggör konvertering av en fysisk variabel som karaktäriserar röntgensträlningen 5 tili en mätningssignal L, en integratorkrets (16) som integrerar mätningssignalen L över exponeringstiden S och avger en signal M, samt en anordning för att kalkylera utfallet D genom användning av förhällandet av signalen M tili produkten (IxS) av anodströmmen I i röret och exponeringstiden S, kännetecknat av att nämnda för-farande innehäller följande Stgärder: 10 a) en första kalibrering av det radiologiska systemet med hjälp av objekt som har tjockleken Ep genom att använda en mottagare utan förstärkande skärm eller skär-mar för att bestämma utfallet Dse med funktionen: Dse * f(Vm, Ep) (IV) 15 samt tjockleken Ep med den inversa funktionen: Ep = g’(Vm, Dse) (V) b) en andra kalibrering av det radiologiska systemet med hjälp av objekt som har tjockleken Ep genom att använda en mottagare (17) med förstärkande skärm för att bestämma utfallet Dse med funktionen:

20 Dc = f"(Vm/ Ep) (VI) . , för att bestämma tjockleken Ep med den inversa funktionen: Ep = g"(vm, Dc) (VII) • · · r * T\ och för att kalkylera funktionen för utfallet Df pä filmen Df = f(Vm, Ep) - f(Vm/ Ep) (VIII) • · j \ 25 varvid f och f" är funktioner som beskriver förändringen i utfallet D som funktion av • · ... parametrarna Vm och Ep i specifika konfigurationer av systemet, och g'och g" är • · · funktioner som beskriver förändringen i tjockleken Ep som funktion av parametrarna Vm och D i specifika konfigurationer av systemet, • · · (c) en tredje kalibrering för att bestämma referensexponeringsmängden Lref som • ♦ ***4 30 filmen skall mottaga under fixerade referensförhällanden för att fä den svärtning ] (eller optiska täthet) som valts tili referensvärde; • · · · * och sedan följande steg (eller ätgärder för): ν’ : (el) inställning av objektet som radiografiskt skall undersökas; • · :.*·· (e2) utlösning av start av exponeringen; 45 1 1 7784 (e3) estimering (TE) av mAs-mängden sorti ännu äterstär att levereras och konver-tering av mAs-mängden till en signal i cellens enheter, sä att: CEmäi — rnAsra x Dc (XVI) (e4) avbrytning (TC) av exponeringen som innefattar att minska mälvärdet 5 CEmäi med signalerna som mottages av cellen och avslutning av exponeringen dä det minskade värdet blir mindre eller lika stort som värdet Val0.

7. Förfarande enligt patentkrav 6, kännetecknat av att estimeringsuppgiften (TE) upprepas periodiskt under exponeringen vid tidpunkterna ti, t2...tn/ med en mellan- 10 liggande tidsperiod som är minst lika stor som kalkyleringstiden tc-

8. Förfarande enligt nägot av ovanstäende patentkrav, kännetecknat av att stegen (e6) och (e8) ändras för att beakta icke-reciprocitetseffekten sä att: Lf = Um + Dfi x omAs/CNRD (d) (IX1) 15 och mAsra = [Lra/D.,) x CNRD (d) (ΧΓ) i vilka ekvationer CNRD (d) används som en icke-reciprocitetskoefficient, som är indexerad som funktion av mottagarens filmdosrat d sä, att d = Dfi x I (XVII) 20 * 9. Förfarande enligt patentkrav 8, kännetecknat av att koefficienten CNRD (d) fäs • ll genom att utföra följande steg (eller ätgärder för): - mätning av icke-reciprocitetskoefficienterna CNRT (t,) för filmens exponeringsti- • · · 1. der (t,) vid olika strälningsintensiteter (IR,) för filmens optiska tätheter (DOref) * · 25. mätning av filmdosraten d, för varje exponeringstid (tj) enligt formeln dj = [Lref x CNRT (XXII) • · · - bestämning av icke-reciprocitetskoefficienterna CNRD(dj) definierad enligt dosraten # d, genom att använda formeln CNRD(di)-CNRT(ti), och • · *' 30 - bestämning av koefficienternas CNRD (d,) modelleringsfunktion sä, att ***"; CNRD (d) = A'o + A*! log 1/d + A'2[log 1/d]2 (XX) där A'o, A\ och A'2 är parametrar, vilka beräknas frän mätpunkterrla med metoden :.· · för estimering av minsta medelkvadratrotsfelet, med vilket kan bestämmas koeffici- • · :.*·· enten som motsvarar filmens givna dosrat. - 1 46 1 1 7784

10. FÖrfarande.enligtpatentkrav9,kännetecknatavatticke-reciprocitetskoeffi-cienterna CNRT (t) som funktion av exponeringstiden ft) erhälls genom att utföra följande steg (eller ätgärder för): 5 (ai) ändring av rörets glödström sä att olika värden för nämnda Ström fäs, (a2) läsning av värden M(t,) som integratorkretsen producerat för olika exponerings-tider för att erhälla filmens optiska täthet DOi, (a3) beräkning av förhällandet Mft)/M(W (XXIX) 10 som ger koefficienten CNRT (t,) dä M (tref) är M (ti)'s värde vid ögonblicket t, = tref.

11. Förfarande enligt patentkrav 9, kännetecknat av att koefficientema CNRT (ti) erhälls genom att utföra följande steg (eller ätgärder för): (gl) bildande, med en variabeltidssensitograf, av ett första sensitogram Sref0, dä 15 exponeringstiden är utsatt tili referenstid treft,; (g2) bildande, med en variabeltidssensitograf, av q sensitogram Si - Sq q för olik exponeringstid t,; (g3) vai av optisk referenstäthet DOraf0; (g4) mätning av, med varje sensitogram, exponeringssteg Echref0, Echi... Ech,...

20 Echq, som motsvarar den optiska tätheten DOre(b; .«, · (g5) beräkning av koefficienten CNRT(t|) med ekvationen: CNRT (ti) = exp [loglO{(Echrefo * Echi)/K>] (XXVIII) där K = 2/log10(2). • *« • · ·· * • » · • · !,.!· 25 12. Förfarande enligt patentkravet 10 eller 11, kännetecknat av, att det dessutom • · innefattar en ätgärd för att modellera koefficientema CNRT (t,) i form av en analy- *·* · tisk modell med funktionen: . CNRT (t) = Ao + Ai log t + A2[log t]2 (XVIII) ···_· ,···. där A0/ Ai och A2 är parametrar, vitka beräknas av mätpunkter med förfarandet för • t 30 estimering av minsta medelkvadratrotsfelet. * ♦ #

13. Förfarande enligt nägot av ovanstäende patentkrav, kännetecknat av, att ät- ··· : gärden (c) för kalibrering av referensexponeringsmängden innehäller följande steg, där: 47 1 1 7784 - det tas en bild, under bestämda radiologiska betingelser, för en referenstäthet DOrefö, tjockleksstandard E0/ matarspänning V0, och produkten av rörets anodström I0 x exponeringstidens värde to; - mätning av utfallet D0 med hjälp av anordningen (18); 5. beräkning av den ekvivalenta tjockleken Epo med formeln EPo - g"(V0/ D0) (VII) - beräkning av utfallet Dt0 pä filmen med formeln: Dfo = f (V0, E0) - f' (V0/E0) (VIII) - beräkning av exponeringsmängden Lfiim pä filmen med formeln

10 Lnim = [Df0xl0xto] (XXIII) - beräkning av det exponeringssteg Echref, som motsvarar den optiska referenstät-heten DOrefo med hjälp av den sensitometriska kurvan; - mätning av den erhällna bildens optiska täthet DOm och beräkning av expone-15 ringssteget Echm med hjälp av den sensitometriska kurvan; - beräkning av referensexponeringsmängden Lref med formeln: Lref = Lnim x exp[log10{(Echref - Echm)/K>] ' (XXV) där K = 2/logi0(2). 20 14. Förfarande enligt patentkrav 13, kännetecknat av, att för beräkning av utfallet , Dfo pä filmen med ekvationen (VIII) subtraheras frän ekvivalenttjockleken Epo den • ** ekvivalenttjocklek (sup.filter) som förorsakas av tilläggsfiltreringen som beror pä "]*. dämpningen mellan förstärkarskärmen och detektionscellen. • ·· • · * · · * · 25 15. Förfarande enligt patentkrav 13 eller 14, kännetecknat av, att exponerings- • · φ.:·β mängden Lfjim pä filmen beräknas med formeln: • * · Lfiim = [Dfo x I0 x toJ/CNRT(to) (XXIII') 9 • · · ··· .···. 16. Förfarande enligt nägot av föregäende patentkrav, kännetecknat av, att refe- · • , 30 rensexponeringsmängden Lref ersätts med en korrigerad exponeringsmängd Uvn för ‘ att erhälla en annorlunda svärtning (dvs. optisk täthet), sä att: **···' Lcvn ~ Lref x exp[CVN/r x P x log(10)] (XXVII) V’: där • · • · * * · , 48 1 1 7784 - CVN är en med avsikt gjord svärtningskorrigering, vilken utrycks t.ex. med ett hel-tal; - P är den optiska täthetens initialsteg; - Γ är lutningen pä den sensitometriska kurvans linjära del. 5

17. Förfarande för automatisk bestämning av exponeringstiden för en radiografisk film i ett radiologiskt system, vilket är avsett för undersökning av ett objekt (13), och vilket innehäller ett röntgenrör (11), vars matningsspänning V kan anta olika värden Vm med kontinuerlig eller diskret variation, varvid nämnda röntgenrör emitte-10 rar röntgensträlning i form av pulser, vars längd S kan variera, mot objektet (13) som skall undersökas, en mottagare (17) för rontgensträlningen som har passerat objektet för att bilda en bild av nämnda objekt, varvid nämnda mottagare bestär av minst en förstärkande skärm och en film som är känslig för ljus emitterat av denna skärm, en cell (12) för detektering av rontgensträlningen som passerat objektet som 15 ska undersökas, vilken cell är anordnad bakom bildmottagaren och vilken möjliggör konvertering av en fysisk variabel som karaktäriserar rontgensträlningen tili en mät-ningssignal L, en integratorkrets (16) som integrerar mätningssignalen L över exponeringstiden S för att avge en signal M, samt en anordning för att kalkylera utfallet D, genom att använda förhällandet av signalen M till produkten (I x S) av anod-20 strömmen I i röret och exponeringstiden S, kännetecknat av, att förfarande inne-* fattar följande ätgärder: • * · · 4 *./ (a') kalibrering av det radiologiska systemet för bestämning av en analytisk modell: ^ I*!*: D’f = f"(Vm, Ep) (XXX) • *« ·!,·! där f" är en funktion, som beskriver utfallets D variation som funktion av paramet- • · 25 rarna Vm och Ep, dä filmen fungerar som mottagare av bilden; (b) en andra kalibrering för bestämning av den referensexponeringsmängd Uef, som • · · filmen ska motta, under fixerade förhällanden, för att erhälla den tili referensvärde . .·. valda svärtningen (dvs. optiska tätheten); ,··*. och sedan följande steg: * · •t 30 (el) inställning av objektet, som ska undersökas radiografiskt; Mill (e2) utlösning av exponeringens start; • · · · · (e3) mätning av utfallet D'n vid ett bestämt ögonblick f efter starten av exponering- ··· • · ·.· · en; • · V·· (e4) beräkning av den av filmen mottagna exponeringsmängden L'f med ekvationen 117784 L'f = Um + D'fi x omAs/CNRD (d) (9") (e5) beräkning av exponeringsmängden L'ra, som ännu kan erhällas, med ekvatio-nen LVa = Uf-LV (X") 5 för att ästadkomma vald svärtning (dvs. optisk täthet); och (e6) beräkning av den estimerade mAs-mängden mAs'ra som ännu ska levereras med ekvationen mAsVa = LVa/D'fi x CNRD (d) (XI") för att ästadkomma vald svärtning (dvs. optisk täthet). 10

18. Förfarande enligt krav 17, kännetecknat av att frän tjockleken Ep subtraheras ekvivalenttjockleken (sup.filter) som förorsakas av tilläggsfiltreringen som beror pä dämpningen mellan förstärkarskärmen och detektorcellen. 15 19. Förfarande för automatisk bestämning av exponeringstiden för en radiografisk film i ett radiologiskt system, vilket är avsett för undersökning av ett objekt (13), och vilket innehäller ett röntgenrör (11), vars matningsspänning V kan anta olika värden Vm med kontinuerlig eller diskret variation, varvid nämnda röntgenrör (11) emitterar röntgensträlning (14) i form av pulser, vars längd S kan variera, mot ob- 20 jektet som skall undersökas, en mottagare (17) för röntgensträlningen (14) som har j passerat objektet (13) för att bilda en bild av nämnda objekt (13), varvid nämnda * * * mottagare (17) bestär av minst en förstärkande skärm och en film som är känslig ]"*. för ljus emitterat av denna skärm, och en cell (12) för detektering av ljus emitterat • aa av denna skärm möjliggörande konvertering av en fysisk variabel som karaktäriserar • · 25 röntgensträlningen (14) tili en mätningssignal L, en integratorkrets (16) som inte- aa grerar mätningssignalen L over exponeringstiden S och avger en signal M, samt en anordning för att kalkylera utfallet D genom att använda förhällandet av M tili pro- . .·. dukten (I x S) av anodströmmen I i nämnda rör och exponeringstiden S kanne- * · · ,*··. tecknat av att förfarande innefattar följande ätgärder (eller ätgärder för): • · *·* • g 30 (a) kalibrering för att bestämma referensexponeringsmängden Lref som filmen under *··· [ fixerade referensförhällanden skall mottaga för att fä den svärtning (eller optiska täthet) som valts som referensvärde; och sedan följande steg (eller ätgärder för): Φ · a : (bl) installing av objektet som radiografiskt skall undersökas; • a (b2) utlösning av start av exponeringen; so : 1 1 7784 (b3) mätning av utfallet Dfi vid en bestämd tid t' efter start av exponeringen (b4) kalkylering av den av filmen mottagna exponeringsmängden Lf enligt ekvatio-nen: Lf = Um + Οβ x omAs (IX) 5 där Um är exponeringsmängden som filmen mottagit före steg (e3), och omAs är mängden mAs mottagen vid tiden t' och den bestäms genom produkten av rörets Ström I gänger integreringstiden t'; (b5) kalkylering av exponeringsmängden Lra, som ännu skall erhällas för att fä den svärtning (eller optiska täthet) som bestäms av ekvationen:

10 Lra = Lref - Lf (X) (b6) kalkylering av den estimerade mAs-mängden mAsr som äterstär att levereras för att fä den svärtning (eller optiska täthet) som bestäms av ekvationen: mAsr = Lra/Dfl (XI) (b7) mätning av mAs-mängden rnAsmes som levererats efter start av ätgärden (b3); 15 (b8) avslutning av exponeringen dä mAs-mängden mAsmes som uppmätts (i steget b7) är större an eller lika stor som mAsr, - eller Itervändning till steget (b3) dä mAs-mängden som uppmätts (i steget b7) är mindre än mAsr. 20 20. Förfarande enligt patentkrav 19, kännetecknat av att steget (b8) ersätts av 4. ett steg (b'8) som innehäller steget att kalkylera den äterstäende exponeringstiden * t, sä, att it· tr = mAsr/I • · · • II / för att avsluta exponeringen i en öppen slinga sä att exponeringen avslutas dä tiden 25 tr har gätt. a a a a * 3 a a ·#* • · a • * *

21. Förfarande enligt patentkrav 19, kännetecknat av att steget (b6) vidare innehäller ett steg för att kalkylera mAs-mängden (mAsc) som levererats under tiden tc i • · · f!l*# stegen (b4) - (b8) och som definieras av ekvationen: *'* 30 mAsc = Ixtc (XIII) « * * för att bestämma det verkliga värdet av mAs-mängden som M··· ännu ska erhällas, sä att: * ' III * :,·* : mASra = mAsr - mAsc (XII) • · · · ... * · f a 31 117784

22. Förfarande enligt patentkrav 20, kännetecknat av att steget (b8) vidare inne-häller ett steg för att kalkylera den äterstäende exponeringstiden tr, sä att: ^ = mAsra/I (XIV) för att avsluta exponeringen dä är mindre än ett värde to, som motsvarar tidsin-5 tervailet mellan tvä successive steg (b3).

23. Förfarande för automatisk bestämning av exponeringstiden för en radiografisk film i ett radiologiskt system, som är avsett för undersökning av ett objekt (13), och som innehäller ett röntgenrör (11), vars matningsspänning V kan anta olika värden

10 Vm med kontinuerlig eller diskret variation, varvid nämnda röntgenrör (11) emitterar röntgensträlning (14) i form av pulser, vars längd S kan variera, mot objektet (13) som skall undersökas, en mottagare för röntgensträlningen (14) som har passerat objektet för att bilda en bild av nämnda objekt (13), varvid nämnda mottagare (17) bestär av minst en förstärkande skärm och en film som är känslig för ljus emitterat 15 av denna skärm, och en cell för detektering av det av nämnda skärm sända ljuset möjliggörande konvertering av en fysisk variabel som karaktäriserar röntgensträlningen tili en mätningssignal L, en integratorkrets (16) som integrerar mätningssig-nalen L över exponeringstiden S och avger en signal M, samt en anordning för att kalkylera utfailet D som bestäms av förhällandet mellan M och produkten I x S av 20 anodströmmen I i röret och exponeringstiden S, kännetecknat av att nämnda för- « farande innehäller följande steg (eller ätgärder för): • · · (a) kalibrering för att bestämma referensexponeringsmängden Uef som filmen under φ "]1. fixerade referensförhällanden skall mottaga för att fä den svärtning (eller optiska • «« / täthet) som valts tili referensvärde; • · 25 (bl) inställning av objektet som radiografiskt skall undersökas; • · t...# (b2) utlösning av start av exponeringen; « · · - bestämning av estimeringen (TE) av mAs-mängden som äterstär att levereras, och 4 konvertering av mAs-mängden tili en signal i cellens enheter, sä att: • · 1 .1··, CEmj|e(; = mASra X (XVI) • · *" 30 - avbrytning (TC) av exponeringen som innefattar minskning av mälvärdet CEmatet ] med signalerna som mottages av cellen och avslutning av exponeringen dä det minskade värdet blir mindre eller lika stort som referensvärdet Val0. ··· • 1 · • · ♦ · • · · • ♦· • ♦ 117784

24. Förfarande enligt patentkrav 23, kännetecknat av att estimeringsuppgiften (TE) upprepas periodiskt under exponeringen vid tidpunkterna ti, t2 ...tn, med ett tidsmellanrum som är minst lika stor som kalkyleringstiden 5 25. Förfarande enligt patentkrav 19, kännetecknat av att stegen (t>4) och (t>6) modifieras för att beakta icke-reciprocitetseffekten, sä att: Lf = Um + Dfi x amAs/CNRD (d) (1X0 och mASra = rU/D(1) x CNRD (d) (ΧΓ) 10. vilka formler CNRD (d) är icke-reciprocitetskoefficienten indexerad som en funktion av mottagarens filmdosrat d, sä att: d = Dfi x I (XVII)

26. Förfarande enligt patentkrav 25, kännetecknat av att koefficienten CNRD (d) 15 erhälles genom att utföra följande steg (eller ätgärder för): - mätning av icke-reciprocitetskoefficienterna CNRT (t,) för filmens exponeringstider (t) vid olika strälningsintensiteter (IR) för filmens optiska tätheter (DCW), - mätning av filmdosraten d, för varje exponeringstid (tj) enligt formeln di = [Lref x CNRT (XXII) 20 bestämning av icke-reciprocitetskoefficienterna CNRD(d,) definierade enligt dosra-. ten d, genom att använda formeln ‘.Il CNRD(di) = CNRT(t), och - bestämning av modelleringsfunktionen för koefficienterna CNRD (di), sä att: :·,·.* CNRD (d) = A'o + A'j log l/d + A'2 [log l/d]2 (XX) • · ].,[· 25 varvid A'o, A'i och A'2 är parametrar som beräknas med metoden för estimering av • · det minsta medelkvadratrotsfelet, vilket gör det möjligt att bestämma koefficienten • * a som motsvarar en given filmdosrat. e • · · • · · . .···, 27. Förfarande enligt patentkrav 19, kännetecknat av att ätgärden (a) för kalibre- • · ·*· •t 30 ring av referensexponeringsmängden innehäller följande steg för: - tagning av bild under bestämda radiologiska förhällanden för en referenstäthet DOrefo, tjockleksstandard E0, matningsspänning V0, exponeringstid t och ett värde för ··· : produkten I0x to; • · - mätning av utfallet Df0; 53 1 1 7784 - kalkylering av ljusmängden Lfiim pä filmen med formeln Ui. IDfoXloXto] (XXIII) - kalkylering av exponeringssteget Echref med hjälp av den sensitometriska kurvan, vilket exponeringssteg motsvarar den optiska referenstätheten DOref0; 5. mätning av bildens optiska täthet DOm och beräkning av exponeringssteget Echm med hjälp av den sensitometriska kurvan; - kalkylering av referensexponeringsmängden Lref med formeln: Lref = Lfiimxexp[logio{(Echrer Echm)/K>] (XXV) där K = 2/logio(2). ' 10

28. Förfarande enligt patentkrav 27, kännetecknat av att exponeringsmängden Lfiim pl filmen beräknas med formeln: Urn = [Df0 x I0 x to]/CNRT(to) (ΧΧΠΓ) där CNRT(to) är CNRTs värde vid tiden to. 15

29. Förfarande enligt patentkrav 27 eller 28, kännetecknat av att referensexponeringsmängden Lref ersätts med den korrigerade exponeringsmängden L^n för att erhälla en olik svärtning (eller optisk täthet), sä att: l_cvn = Lref x exp[CVN/r x P x log(10)] (XXVII) 20 där ... · - CVN är en avsiktlig korrigering av svärtningen uttryckt t.ex. med ett heltal, • tl - P är initialsteget i optisk täthet, ["1. - Γ är lutningen pä den sensitometriska kurvans lineära del. • · · • · · • 1 1 • · 25 ·1·1· • 1 : f ··# ···' • · · * * · · ··1 • · • · ··· • 1 · 1 · • 1 ···· • · · • · 1 « * · · • 1 · • ·