ES2926255T3 - Métodos de fabricación de niraparib - Google Patents
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- 229950011068 niraparib Drugs 0.000 title claims abstract description 74
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 50
- PCHKPVIQAHNQLW-CQSZACIVSA-N niraparib Chemical compound N1=C2C(C(=O)N)=CC=CC2=CN1C(C=C1)=CC=C1[C@@H]1CCCNC1 PCHKPVIQAHNQLW-CQSZACIVSA-N 0.000 title abstract description 23
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 198
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 60
- -1 9-fluorenylmethyloxycarbonyl Chemical group 0.000 claims description 269
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 156
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 115
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical group CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 110
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 93
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 92
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 92
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 59
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 claims description 58
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 50
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 50
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 47
- 125000006242 amine protecting group Chemical group 0.000 claims description 46
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 37
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 34
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 33
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 30
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 29
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 28
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfoxide Natural products CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 24
- LJCZNYWLQZZIOS-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trichlorethoxycarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)OCC(Cl)(Cl)Cl LJCZNYWLQZZIOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 20
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 claims description 13
- 125000005931 tert-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(OC(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 12
- 125000003088 (fluoren-9-ylmethoxy)carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims description 11
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 claims description 11
- LUZDYPLAQQGJEA-UHFFFAOYSA-N 2-Methoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(OC)=CC=C21 LUZDYPLAQQGJEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000002774 3,4-dimethoxybenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C1OC([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 claims description 10
- GPKUICFDWYEPTK-UHFFFAOYSA-N methoxycyclohexatriene Chemical compound COC1=CC=C=C[CH]1 GPKUICFDWYEPTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- SBTSVTLGWRLWOD-UHFFFAOYSA-L copper(ii) triflate Chemical group [Cu+2].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F SBTSVTLGWRLWOD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 9
- 229940006487 lithium cation Drugs 0.000 claims description 9
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims description 8
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 6
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 6
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 6
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 claims description 5
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 36
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 abstract description 33
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 abstract description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 126
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 73
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 70
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 63
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 46
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 41
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 41
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 38
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 35
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 30
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 29
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 27
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 21
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 20
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000000047 product Substances 0.000 description 19
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 18
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 17
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- 239000002585 base Substances 0.000 description 16
- 125000004452 carbocyclyl group Chemical group 0.000 description 15
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 15
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 15
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 14
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 14
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 14
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 14
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 13
- 125000004415 heterocyclylalkyl group Chemical group 0.000 description 13
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical compound [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 12
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000004446 heteroarylalkyl group Chemical group 0.000 description 12
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 10
- YSVZGWAJIHWNQK-UHFFFAOYSA-N [3-(hydroxymethyl)-2-bicyclo[2.2.1]heptanyl]methanol Chemical compound C1CC2C(CO)C(CO)C1C2 YSVZGWAJIHWNQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 10
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 10
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 9
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 9
- 125000001584 benzyloxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 9
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 9
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 244000201986 Cassia tora Species 0.000 description 8
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N N-phenyl amine Natural products NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PXIPVTKHYLBLMZ-UHFFFAOYSA-N Sodium azide Chemical compound [Na+].[N-]=[N+]=[N-] PXIPVTKHYLBLMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 8
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 8
- 125000005884 carbocyclylalkyl group Chemical group 0.000 description 8
- PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N carbonyldiimidazole Chemical group C1=CN=CN1C(=O)N1C=CN=C1 PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NCAIGTHBQTXTLR-UHFFFAOYSA-N phentermine hydrochloride Chemical compound [Cl-].CC(C)([NH3+])CC1=CC=CC=C1 NCAIGTHBQTXTLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M rubidium hydroxide Chemical compound [OH-].[Rb+] CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 8
- XOAAWQZATWQOTB-UHFFFAOYSA-N taurine Chemical compound NCCS(O)(=O)=O XOAAWQZATWQOTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 7
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 7
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 7
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 7
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 7
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 7
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 6
- HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M caesium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Cs+] HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 239000012458 free base Substances 0.000 description 6
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 6
- KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N oxidanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound O.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 6
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 6
- UGOMMVLRQDMAQQ-UHFFFAOYSA-N xphos Chemical compound CC(C)C1=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C1C1=CC=CC=C1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 UGOMMVLRQDMAQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 5
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 5
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 5
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 5
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 5
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 5
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 5
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 5
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 5
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 5
- JQWHASGSAFIOCM-UHFFFAOYSA-M sodium periodate Chemical compound [Na+].[O-]I(=O)(=O)=O JQWHASGSAFIOCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- NHDIQVFFNDKAQU-UHFFFAOYSA-N tripropan-2-yl borate Chemical compound CC(C)OB(OC(C)C)OC(C)C NHDIQVFFNDKAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CXNIUSPIQKWYAI-UHFFFAOYSA-N xantphos Chemical compound C=12OC3=C(P(C=4C=CC=CC=4)C=4C=CC=CC=4)C=CC=C3C(C)(C)C2=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 CXNIUSPIQKWYAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 4
- MGRVRXRGTBOSHW-UHFFFAOYSA-N (aminomethyl)phosphonic acid Chemical compound NCP(O)(O)=O MGRVRXRGTBOSHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L Copper hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Cu+2] JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- LEHOTFFKMJEONL-UHFFFAOYSA-N Uric Acid Chemical compound N1C(=O)NC(=O)C2=C1NC(=O)N2 LEHOTFFKMJEONL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TVWHNULVHGKJHS-UHFFFAOYSA-N Uric acid Natural products N1C(=O)NC(=O)C2NC(=O)NC21 TVWHNULVHGKJHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 4
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 4
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 4
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001767 cationic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 4
- 125000001316 cycloalkyl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 4
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 4
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 4
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 4
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 4
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000012453 solvate Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 4
- 229960003080 taurine Drugs 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 4
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 229940116269 uric acid Drugs 0.000 description 4
- 229940005605 valeric acid Drugs 0.000 description 4
- PDVFSPNIEOYOQL-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)sulfonyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 PDVFSPNIEOYOQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 3
- ZEMZPXWZVTUONV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-dicyclohexylphosphanylphenyl)-n,n-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 ZEMZPXWZVTUONV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 8-[3-(1-cyclopropylpyrazol-4-yl)-1H-pyrazolo[4,3-d]pyrimidin-5-yl]-3-methyl-3,8-diazabicyclo[3.2.1]octan-2-one Chemical class C1(CC1)N1N=CC(=C1)C1=NNC2=C1N=C(N=C2)N1C2C(N(CC1CC2)C)=O HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241001530392 Aphos Species 0.000 description 3
- 102000036365 BRCA1 Human genes 0.000 description 3
- 108700020463 BRCA1 Proteins 0.000 description 3
- 101150072950 BRCA1 gene Proteins 0.000 description 3
- 102000052609 BRCA2 Human genes 0.000 description 3
- 108700020462 BRCA2 Proteins 0.000 description 3
- 101150008921 Brca2 gene Proteins 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 3
- 239000012661 PARP inhibitor Substances 0.000 description 3
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940121906 Poly ADP ribose polymerase inhibitor Drugs 0.000 description 3
- 101710179684 Poly [ADP-ribose] polymerase Proteins 0.000 description 3
- 102100023712 Poly [ADP-ribose] polymerase 1 Human genes 0.000 description 3
- 229920000776 Poly(Adenosine diphosphate-ribose) polymerase Polymers 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 description 3
- 150000005840 aryl radicals Chemical group 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021475 bohrium Inorganic materials 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 3
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 3
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910021479 dubnium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 3
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021473 hassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 229940071870 hydroiodic acid Drugs 0.000 description 3
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 3
- PQNFLJBBNBOBRQ-UHFFFAOYSA-N indane Chemical group C1=CC=C2CCCC2=C1 PQNFLJBBNBOBRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 3
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- RAVWHRINPHQUMU-UHFFFAOYSA-N n-(4-bromophenyl)benzamide Chemical compound C1=CC(Br)=CC=C1NC(=O)C1=CC=CC=C1 RAVWHRINPHQUMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 3
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 3
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 3
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910021481 rutherfordium Inorganic materials 0.000 description 3
- YGPLJIIQQIDVFJ-UHFFFAOYSA-N rutherfordium atom Chemical compound [Rf] YGPLJIIQQIDVFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229910021477 seaborgium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 3
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- VNFWTIYUKDMAOP-UHFFFAOYSA-N sphos Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C1=CC=CC=C1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 VNFWTIYUKDMAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052713 technetium Inorganic materials 0.000 description 3
- GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N technetium atom Chemical compound [Tc] GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical group C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000464 thioxo group Chemical group S=* 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 3
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 3
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- FWZVIUZIYYIKRK-UHFFFAOYSA-N (4-benzamidophenyl)boronic acid Chemical compound C1=CC(B(O)O)=CC=C1NC(=O)C1=CC=CC=C1 FWZVIUZIYYIKRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPIRBHDGWMWJEP-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxy-7-azabenzotriazole Chemical compound C1=CN=C2N(O)N=NC2=C1 FPIRBHDGWMWJEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical group C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCSBTDBGTNZOAB-UHFFFAOYSA-N 2,3-dinitrobenzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1[N+]([O-])=O HCSBTDBGTNZOAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-(2-fluorophenyl)ethanol Chemical compound NCC(O)C1=CC=CC=C1F MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1Cl IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- 108020004414 DNA Proteins 0.000 description 2
- 102000053602 DNA Human genes 0.000 description 2
- 230000033616 DNA repair Effects 0.000 description 2
- OKKJLVBELUTLKV-MZCSYVLQSA-N Deuterated methanol Chemical compound [2H]OC([2H])([2H])[2H] OKKJLVBELUTLKV-MZCSYVLQSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007836 KH2PO4 Substances 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSXGLVDWWRXATF-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylformamide dimethyl acetal Chemical compound COC(OC)N(C)C ZSXGLVDWWRXATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MBBZMMPHUWSWHV-BDVNFPICSA-N N-methylglucamine Chemical compound CNC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO MBBZMMPHUWSWHV-BDVNFPICSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical group C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010033128 Ovarian cancer Diseases 0.000 description 2
- 206010061535 Ovarian neoplasm Diseases 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCTONWCANYUPML-UHFFFAOYSA-N Pyruvic acid Chemical compound CC(=O)C(O)=O LCTONWCANYUPML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical class OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N TEMPO Chemical group CC1(C)CCCC(C)(C)N1[O] QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N Tritium Chemical compound [3H] YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 2
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- GCPXMJHSNVMWNM-UHFFFAOYSA-N arsenous acid Chemical compound O[As](O)O GCPXMJHSNVMWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M bisulphate group Chemical group S([O-])(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- NCMHKCKGHRPLCM-UHFFFAOYSA-N caesium(1+) Chemical compound [Cs+] NCMHKCKGHRPLCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYYVLZVUVIJVGH-UHFFFAOYSA-N caffeine Chemical compound CN1C(=O)N(C)C(=O)C2=C1N=CN2C RYYVLZVUVIJVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 229940006165 cesium cation Drugs 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000001860 citric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 2
- AEJIMXVJZFYIHN-UHFFFAOYSA-N copper;dihydrate Chemical compound O.O.[Cu] AEJIMXVJZFYIHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N dichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)Cl JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCSNDSFWVKMJCT-UHFFFAOYSA-N dicyclohexyl-(2-phenylphenyl)phosphane Chemical compound C1CCCCC1P(C=1C(=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1CCCCC1 LCSNDSFWVKMJCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AJDPNPAGZMZOMN-UHFFFAOYSA-N diethyl (4-oxo-1,2,3-benzotriazin-3-yl) phosphate Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(OP(=O)(OCC)OCC)N=NC2=C1 AJDPNPAGZMZOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 2
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000396 dipotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019797 dipotassium phosphate Nutrition 0.000 description 2
- CNXMDTWQWLGCPE-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl-(2-phenylphenyl)phosphane Chemical compound CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 CNXMDTWQWLGCPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N fluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)CF QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCABHVDKBUNYTK-UHFFFAOYSA-N francium(1+) Chemical compound [Fr+] OCABHVDKBUNYTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-L fumarate(2-) Chemical class [O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-L 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 210000004602 germ cell Anatomy 0.000 description 2
- 229910021505 gold(III) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical group 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 2
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical class CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000155 isotopic effect Effects 0.000 description 2
- 150000003893 lactate salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910021514 lead(II) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000012254 magnesium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000002690 malonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- IPJKJLXEVHOKSE-UHFFFAOYSA-L manganese dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mn+2] IPJKJLXEVHOKSE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910021507 mercury(II) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005341 metaphosphate group Chemical group 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-M methanesulfonate group Chemical class CS(=O)(=O)[O-] AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- NSLOBVGASZUPDO-UHFFFAOYSA-N methyl 3-formyl-2-nitrobenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC(C=O)=C1[N+]([O-])=O NSLOBVGASZUPDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical class COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methyl-cyclopentane Natural products CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910000402 monopotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019796 monopotassium phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 230000035772 mutation Effects 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 2
- 150000007523 nucleic acids Chemical class 0.000 description 2
- 108020004707 nucleic acids Proteins 0.000 description 2
- 102000039446 nucleic acids Human genes 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-M octanoate Chemical class CCCCCCCC([O-])=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 2
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Chemical group 0.000 description 2
- LXNAVEXFUKBNMK-UHFFFAOYSA-N palladium(II) acetate Substances [Pd].CC(O)=O.CC(O)=O LXNAVEXFUKBNMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N phenylacetic acid Chemical class OC(=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical group [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Chemical group 0.000 description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000005498 phthalate group Chemical class 0.000 description 2
- IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N pinacol Chemical compound CC(C)(O)C(C)(C)O IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 2
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000015320 potassium carbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- GNSKLFRGEWLPPA-UHFFFAOYSA-M potassium dihydrogen phosphate Chemical compound [K+].OP(O)([O-])=O GNSKLFRGEWLPPA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 229920002477 rna polymer Polymers 0.000 description 2
- NCCSSGKUIKYAJD-UHFFFAOYSA-N rubidium(1+) Chemical compound [Rb+] NCCSSGKUIKYAJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical class OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 2
- 239000012258 stirred mixture Substances 0.000 description 2
- UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L strontium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Sr+2] UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001866 strontium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Chemical group 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 2
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 2
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000003892 tartrate salts Chemical class 0.000 description 2
- STWZKMWVLCYCRB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 5-(4-methylphenyl)sulfonyloxy-3,4-dihydro-2H-pyridine-1-carboxylate Chemical compound Cc1ccc(cc1)S(=O)(=O)OC1=CN(CCC1)C(=O)OC(C)(C)C STWZKMWVLCYCRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YAPQBXQYLJRXSA-UHFFFAOYSA-N theobromine Chemical compound CN1C(=O)NC(=O)C2=C1N=CN2C YAPQBXQYLJRXSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004568 thiomorpholinyl group Chemical group 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical group [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052722 tritium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000005289 uranyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229910021511 zinc hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N (2R)-2-hydroxy-2-phenylacetic acid Chemical compound O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1.O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1 QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N 0.000 description 1
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- IWYDHOAUDWTVEP-SSDOTTSWSA-N (R)-mandelic acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)C1=CC=CC=C1 IWYDHOAUDWTVEP-SSDOTTSWSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- 125000005988 1,1-dioxo-thiomorpholinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005871 1,3-benzodioxolyl group Chemical group 0.000 description 1
- BDNKZNFMNDZQMI-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisopropylcarbodiimide Chemical compound CC(C)N=C=NC(C)C BDNKZNFMNDZQMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical group CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASOKPJOREAFHNY-UHFFFAOYSA-N 1-Hydroxybenzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N(O)N=NC2=C1 ASOKPJOREAFHNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 1-ethynyl-2,4-dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C#C)C(OC)=C1 IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005987 1-oxo-thiomorpholinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- VUZNLSBZRVZGIK-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-Tetramethyl-1-piperidinol Chemical group CC1(C)CCCC(C)(C)N1O VUZNLSBZRVZGIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(trifluoromethoxy)phenyl]ethanol Chemical compound OCCC1=CC=C(OC(F)(F)F)C=C1 RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSWZFWKMSRAUBD-IVMDWMLBSA-N 2-amino-2-deoxy-D-glucopyranose Chemical compound N[C@H]1C(O)O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@@H]1O MSWZFWKMSRAUBD-IVMDWMLBSA-N 0.000 description 1
- BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 2-diethylaminoethanol Chemical compound CCN(CC)CCO BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940013085 2-diethylaminoethanol Drugs 0.000 description 1
- 125000006088 2-oxoazepinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004638 2-oxopiperazinyl group Chemical group O=C1N(CCNC1)* 0.000 description 1
- 125000004637 2-oxopiperidinyl group Chemical group O=C1N(CCCC1)* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- MTJGVAJYTOXFJH-UHFFFAOYSA-N 3-aminonaphthalene-1,5-disulfonic acid Chemical compound C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C2=CC(N)=CC(S(O)(=O)=O)=C21 MTJGVAJYTOXFJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZPWAYBEOJRFAX-UHFFFAOYSA-N 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2$l^{2}-dioxaborolane Chemical compound CC1(C)O[B]OC1(C)C LZPWAYBEOJRFAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDFQBORIUYODSI-UHFFFAOYSA-N 4-bromoaniline Chemical compound NC1=CC=C(Br)C=C1 WDFQBORIUYODSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCYIWFITYHZCIW-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybut-1-yne Chemical compound COCCC#C RCYIWFITYHZCIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005986 4-piperidonyl group Chemical group 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical group CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000004475 Arginine Substances 0.000 description 1
- 229910015444 B(OH)3 Inorganic materials 0.000 description 1
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N Betaine Natural products C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-NJFSPNSNSA-N Carbon-14 Chemical compound [14C] OKTJSMMVPCPJKN-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 229910021503 Cobalt(II) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OCUCCJIRFHNWBP-IYEMJOQQSA-L Copper gluconate Chemical class [Cu+2].OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O.OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O OCUCCJIRFHNWBP-IYEMJOQQSA-L 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005778 DNA damage Effects 0.000 description 1
- 231100000277 DNA damage Toxicity 0.000 description 1
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexylamine Chemical compound C1CCCCC1NC1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001125671 Eretmochelys imbricata Species 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910004039 HBF4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004713 HPF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- LPHGQDQBBGAPDZ-UHFFFAOYSA-N Isocaffeine Natural products CN1C(=O)N(C)C(=O)C2=C1N(C)C=N2 LPHGQDQBBGAPDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODKSFYDXXFIFQN-BYPYZUCNSA-P L-argininium(2+) Chemical compound NC(=[NH2+])NCCC[C@H]([NH3+])C(O)=O ODKSFYDXXFIFQN-BYPYZUCNSA-P 0.000 description 1
- HNDVDQJCIGZPNO-YFKPBYRVSA-N L-histidine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CN=CN1 HNDVDQJCIGZPNO-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-YFKPBYRVSA-N L-lysine Chemical compound NCCCC[C@H](N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N Lysine Natural products NCCCCC(N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000168 Microcrystalline cellulose Polymers 0.000 description 1
- ZDEASMXHWNLSQD-PYNCTGKJSA-N N(=[N+]=[N-])C1=C(\C=N\C2=CC=C(C=C2)[C@H]2CN(CCC2)C(=O)OC(C)(C)C)C=CC=C1C(=O)OC Chemical compound N(=[N+]=[N-])C1=C(\C=N\C2=CC=C(C=C2)[C@H]2CN(CCC2)C(=O)OC(C)(C)C)C=CC=C1C(=O)OC ZDEASMXHWNLSQD-PYNCTGKJSA-N 0.000 description 1
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O N,N,N-trimethylglycinium Chemical compound C[N+](C)(C)CC(O)=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTLZVHNRZJPSMI-UHFFFAOYSA-N N-ethylpiperidine Chemical compound CCN1CCCCC1 HTLZVHNRZJPSMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019648 Nb(OH)3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018661 Ni(OH) Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILUJQPXNXACGAN-UHFFFAOYSA-N O-methylsalicylic acid Chemical class COC1=CC=CC=C1C(O)=O ILUJQPXNXACGAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXRIRQGCELJRSN-UHFFFAOYSA-N O.O.O.[Al] Chemical compound O.O.O.[Al] MXRIRQGCELJRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020282 Pb(OH) Inorganic materials 0.000 description 1
- IGVPBCZDHMIOJH-UHFFFAOYSA-N Phenyl butyrate Chemical class CCCC(=O)OC1=CC=CC=C1 IGVPBCZDHMIOJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000012338 Poly(ADP-ribose) Polymerases Human genes 0.000 description 1
- 108010061844 Poly(ADP-ribose) Polymerases Proteins 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N R-2-phenyl-2-hydroxyacetic acid Natural products OC(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019079 Ra(OH)2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910011011 Ti(OH)4 Inorganic materials 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-XXSWNUTMSA-N [125I][125I] Chemical compound [125I][125I] PNDPGZBMCMUPRI-XXSWNUTMSA-N 0.000 description 1
- MTAGIWZLHXMRFR-UHFFFAOYSA-M [Hg]O Chemical compound [Hg]O MTAGIWZLHXMRFR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OSOVKCSKTAIGGF-UHFFFAOYSA-N [Ni].OOO Chemical compound [Ni].OOO OSOVKCSKTAIGGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTHTZFKPEWFFJQ-UHFFFAOYSA-I [OH-].[Cr+5].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-] Chemical compound [OH-].[Cr+5].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-] FTHTZFKPEWFFJQ-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- XPHWZABCPRKTIK-UHFFFAOYSA-M [OH-].[In+] Chemical compound [OH-].[In+] XPHWZABCPRKTIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KYVKDXLYFWMRNL-UHFFFAOYSA-L [OH-].[OH-].[In++] Chemical compound [OH-].[OH-].[In++] KYVKDXLYFWMRNL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RJEYBEFNKVLVMQ-UHFFFAOYSA-J [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Mn+4] Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Mn+4] RJEYBEFNKVLVMQ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- QKDGGEBMABOMMW-UHFFFAOYSA-I [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[V+5] Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[V+5] QKDGGEBMABOMMW-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- ARVNHJBMBBFPCP-UHFFFAOYSA-L [OH-].[OH-].[Ra+2] Chemical compound [OH-].[OH-].[Ra+2] ARVNHJBMBBFPCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FVNVPZWLJJBDNX-UHFFFAOYSA-L [OH-].[OH-].[Tc++] Chemical compound [OH-].[OH-].[Tc++] FVNVPZWLJJBDNX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CLZISMQKJZCZDN-UHFFFAOYSA-N [benzotriazol-1-yloxy(dimethylamino)methylidene]-dimethylazanium Chemical compound C1=CC=C2N(OC(N(C)C)=[N+](C)C)N=NC2=C1 CLZISMQKJZCZDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- OQXNIFCDVQIYRG-UHFFFAOYSA-N aniline;ethanesulfonic acid Chemical compound CCS(O)(=O)=O.NC1=CC=CC=C1 OQXNIFCDVQIYRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001448 anilines Chemical class 0.000 description 1
- MMCPOSDMTGQNKG-UHFFFAOYSA-N anilinium chloride Chemical compound Cl.NC1=CC=CC=C1 MMCPOSDMTGQNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002246 antineoplastic agent Substances 0.000 description 1
- ODKSFYDXXFIFQN-UHFFFAOYSA-N arginine Natural products OC(=O)C(N)CCCNC(N)=N ODKSFYDXXFIFQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003121 arginine Drugs 0.000 description 1
- 159000000032 aromatic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 125000002785 azepinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000033590 base-excision repair Effects 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000005870 benzindolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005875 benzo[b][1,4]dioxepinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005873 benzo[d]thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002047 benzodioxolyl group Chemical group O1OC(C2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000000499 benzofuranyl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000005872 benzooxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005874 benzothiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 125000004541 benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WPJWIROQQFWMMK-UHFFFAOYSA-L beryllium dihydroxide Chemical compound [Be+2].[OH-].[OH-] WPJWIROQQFWMMK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MSWZFWKMSRAUBD-UHFFFAOYSA-N beta-D-galactosamine Natural products NC1C(O)OC(CO)C(O)C1O MSWZFWKMSRAUBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 1
- BVCRERJDOOBZOH-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]heptanyl Chemical group C1C[C+]2CC[C-]1C2 BVCRERJDOOBZOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006269 biphenyl-2-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C1=C(*)C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- IAQAJTTVJUUIQJ-UHFFFAOYSA-N bismuth;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Bi] IAQAJTTVJUUIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010338 boric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- ILAJWURWJKXJPW-UHFFFAOYSA-N butanedioic acid;octanedioic acid Chemical class OC(=O)CCC(O)=O.OC(=O)CCCCCCC(O)=O ILAJWURWJKXJPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PLLZRTNVEXYBNA-UHFFFAOYSA-L cadmium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Cd+2] PLLZRTNVEXYBNA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229960001948 caffeine Drugs 0.000 description 1
- VJEONQKOZGKCAK-UHFFFAOYSA-N caffeine Natural products CN1C(=O)N(C)C(=O)C2=C1C=CN2C VJEONQKOZGKCAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- UNJPQTDTZAKTFK-UHFFFAOYSA-K cerium(iii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Ce+3] UNJPQTDTZAKTFK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N chloric acid Chemical compound OCl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005991 chloric acid Drugs 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- VDANGULDQQJODZ-UHFFFAOYSA-N chloroprocaine Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C1=CC=C(N)C=C1Cl VDANGULDQQJODZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002023 chloroprocaine Drugs 0.000 description 1
- QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N chlorous acid Chemical compound OCl=O QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940077239 chlorous acid Drugs 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Chemical compound O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JSIVCHPFSUMIIU-UHFFFAOYSA-L chromium(2+);dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Cr+2] JSIVCHPFSUMIIU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RXCXTWLPFKKEMF-UHFFFAOYSA-H chromium(6+);hexahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Cr+6] RXCXTWLPFKKEMF-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- VQWFNAGFNGABOH-UHFFFAOYSA-K chromium(iii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Cr+3] VQWFNAGFNGABOH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- PKSIZOUDEUREFF-UHFFFAOYSA-N cobalt;dihydrate Chemical compound O.O.[Co] PKSIZOUDEUREFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002648 combination therapy Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001162 cycloheptenyl group Chemical group C1(=CCCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000522 cyclooctenyl group Chemical group C1(=CCCCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005507 decahydroisoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004855 decalinyl group Chemical group C1(CCCC2CCCCC12)* 0.000 description 1
- 125000005534 decanoate group Chemical class 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005509 dibenzothiophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229960005215 dichloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005879 dioxolanyl group Chemical group 0.000 description 1
- SACNIGZYDTUHKB-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl-[2-[2,4,6-tri(propan-2-yl)phenyl]phenyl]phosphane Chemical compound CC(C)C1=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C1C1=CC=CC=C1P(C(C)(C)C)C(C)(C)C SACNIGZYDTUHKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002081 enamines Chemical class 0.000 description 1
- 230000037149 energy metabolism Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- NKBXHKCTSZBQNE-BTQNPOSSSA-N ethanesulfonate [4-[(3S)-1-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonyl]piperidin-3-yl]phenyl]azanium Chemical compound CCS([O-])(=O)=O.CC(C)(C)OC(=O)N1CCC[C@H](C1)c1ccc([NH3+])cc1 NKBXHKCTSZBQNE-BTQNPOSSSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- PQVSTLUFSYVLTO-UHFFFAOYSA-N ethyl n-ethoxycarbonylcarbamate Chemical compound CCOC(=O)NC(=O)OCC PQVSTLUFSYVLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940012017 ethylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- MSNWSDPPULHLDL-UHFFFAOYSA-K ferric hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Fe+3] MSNWSDPPULHLDL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical group C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical group [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N fluorosulfonic acid Chemical compound OS(F)(=O)=O UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000011087 fumaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 125000003844 furanonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021513 gallium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002442 glucosamine Drugs 0.000 description 1
- WDZVNNYQBQRJRX-UHFFFAOYSA-K gold(iii) hydroxide Chemical compound O[Au](O)O WDZVNNYQBQRJRX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- MPOKJOWFCMDRKP-UHFFFAOYSA-N gold;hydrate Chemical compound O.[Au] MPOKJOWFCMDRKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000000262 haloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000232 haloalkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N heptanoic acid Chemical class CCCCCCC(O)=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBAKFIZHTUAVJN-UHFFFAOYSA-I hexafluoroantimony(1-);hydron Chemical compound F.F[Sb](F)(F)(F)F MBAKFIZHTUAVJN-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 125000005980 hexynyl group Chemical group 0.000 description 1
- HNDVDQJCIGZPNO-UHFFFAOYSA-N histidine Natural products OC(=O)C(N)CC1=CN=CN1 HNDVDQJCIGZPNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002885 histidine Drugs 0.000 description 1
- XGIHQYAWBCFNPY-AZOCGYLKSA-N hydrabamine Chemical compound C([C@@H]12)CC3=CC(C(C)C)=CC=C3[C@@]2(C)CCC[C@@]1(C)CNCCNC[C@@]1(C)[C@@H]2CCC3=CC(C(C)C)=CC=C3[C@@]2(C)CCC1 XGIHQYAWBCFNPY-AZOCGYLKSA-N 0.000 description 1
- 125000002632 imidazolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002636 imidazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003453 indazolyl group Chemical group N1N=C(C2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- IGUXCTSQIGAGSV-UHFFFAOYSA-K indium(iii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[In+3] IGUXCTSQIGAGSV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ZMFWDTJZHRDHNW-UHFFFAOYSA-N indium;trihydrate Chemical compound O.O.O.[In] ZMFWDTJZHRDHNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003387 indolinyl group Chemical group N1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000003406 indolizinyl group Chemical group C=1(C=CN2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 229910001411 inorganic cation Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006713 insertion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000010189 intracellular transport Effects 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229940044173 iodine-125 Drugs 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- IUJMNDNTFMJNEL-UHFFFAOYSA-K iridium(3+);trihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Ir+3] IUJMNDNTFMJNEL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910021506 iron(II) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L iron(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Fe+2] NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FLTRNWIFKITPIO-UHFFFAOYSA-N iron;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Fe] FLTRNWIFKITPIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004594 isoindolinyl group Chemical group C1(NCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000000904 isoindolyl group Chemical group C=1(NC=C2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004628 isothiazolidinyl group Chemical group S1N(CCC1)* 0.000 description 1
- 125000001786 isothiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003965 isoxazolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- YXEUGTSPQFTXTR-UHFFFAOYSA-K lanthanum(3+);trihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[La+3] YXEUGTSPQFTXTR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VNZYIVBHUDKWEO-UHFFFAOYSA-L lead(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Pb+2] VNZYIVBHUDKWEO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- JSNLGRZEIWJZTP-UNTBIKODSA-M lithium 2-[4-[(3S)-1-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonyl]piperidin-3-yl]phenyl]indazole-7-carboxylate Chemical compound C(C)(C)(C)OC(=O)N1C[C@@H](CCC1)C1=CC=C(C=C1)N1N=C2C(=CC=CC2=C1)C(=O)[O-].[Li+] JSNLGRZEIWJZTP-UNTBIKODSA-M 0.000 description 1
- 229940040692 lithium hydroxide monohydrate Drugs 0.000 description 1
- GLXDVVHUTZTUQK-UHFFFAOYSA-M lithium hydroxide monohydrate Substances [Li+].O.[OH-] GLXDVVHUTZTUQK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960003646 lysine Drugs 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000004701 malic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229960002510 mandelic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- ACNRYARPIFBOEZ-UHFFFAOYSA-K manganese(3+);trihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Mn+3] ACNRYARPIFBOEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VLKKXDVIWIBHHS-UHFFFAOYSA-L mercury(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Hg+2] VLKKXDVIWIBHHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- FJJWGNGAAZZGKW-UHFFFAOYSA-N methyl 2-azido-3-formylbenzoate Chemical compound COC(=O)c1cccc(C=O)c1N=[N+]=[N-] FJJWGNGAAZZGKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPCHVJGFXSDKDO-UHFFFAOYSA-N methyl 3-[2-(dimethylamino)ethenyl]-2-nitrobenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC(C=CN(C)C)=C1[N+]([O-])=O PPCHVJGFXSDKDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJHDBIXFFZVJGZ-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methyl-2-nitrobenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC(C)=C1[N+]([O-])=O NJHDBIXFFZVJGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019813 microcrystalline cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008108 microcrystalline cellulose Substances 0.000 description 1
- 229940016286 microcrystalline cellulose Drugs 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- GDXTWKJNMJAERW-UHFFFAOYSA-J molybdenum(4+);tetrahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Mo+4] GDXTWKJNMJAERW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 125000002757 morpholinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003541 multi-stage reaction Methods 0.000 description 1
- ACTNHJDHMQSOGL-UHFFFAOYSA-N n',n'-dibenzylethane-1,2-diamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(CCN)CC1=CC=CC=C1 ACTNHJDHMQSOGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOUUUQMKVOUUNR-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenylethane-1,2-diamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NCCNC1=CC=CC=C1 NOUUUQMKVOUUNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRERQYZGASSZJR-UHFFFAOYSA-N n-[4-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)phenyl]benzamide Chemical compound O1C(C)(C)C(C)(C)OB1C(C=C1)=CC=C1NC(=O)C1=CC=CC=C1 BRERQYZGASSZJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILCQYORZHHFLNL-UHFFFAOYSA-N n-bromoaniline Chemical compound BrNC1=CC=CC=C1 ILCQYORZHHFLNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVBGVZZKJNLNJU-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2-sulfonic acid Chemical class C1=CC=CC2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C21 KVBGVZZKJNLNJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004593 naphthyridinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CN=C12)* 0.000 description 1
- 229910021508 nickel(II) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ni+2] BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UMTMDKJVZSXFNJ-UHFFFAOYSA-N nickel;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Ni] UMTMDKJVZSXFNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPCMRGJTLPITMF-UHFFFAOYSA-I niobium(5+);pentahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Nb+5] WPCMRGJTLPITMF-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 238000007339 nucleophilic aromatic substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010534 nucleophilic substitution reaction Methods 0.000 description 1
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Chemical group C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005060 octahydroindolyl group Chemical group N1(CCC2CCCCC12)* 0.000 description 1
- 125000005061 octahydroisoindolyl group Chemical group C1(NCC2CCCCC12)* 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- CDCFKVCOZYCTBR-UHFFFAOYSA-J osmium(4+);tetrahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Os+4] CDCFKVCOZYCTBR-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 125000001715 oxadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000160 oxazolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005476 oxopyrrolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- NXJCBFBQEVOTOW-UHFFFAOYSA-L palladium(2+);dihydroxide Chemical compound O[Pd]O NXJCBFBQEVOTOW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 1
- 125000005981 pentynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001791 phenazinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C12)* 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M phenolate Chemical compound [O-]C1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- DYUMLJSJISTVPV-UHFFFAOYSA-N phenyl propanoate Chemical class CCC(=O)OC1=CC=CC=C1 DYUMLJSJISTVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N phenylmethyl ester of formic acid Natural products O=COCC1=CC=CC=C1 UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- NFOHLBHARAZXFQ-UHFFFAOYSA-L platinum(2+);dihydroxide Chemical compound O[Pt]O NFOHLBHARAZXFQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JTAFSELAEYLDJR-UHFFFAOYSA-J platinum(4+);tetrahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Pt+4] JTAFSELAEYLDJR-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002338 polyhydroxyethylmethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000003389 potentiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- MFDFERRIHVXMIY-UHFFFAOYSA-N procaine Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MFDFERRIHVXMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004919 procaine Drugs 0.000 description 1
- KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N propane-1-sulfonic acid Chemical class CCCS(O)(=O)=O KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N propynoic acid Chemical class OC(=O)C#C UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 125000001042 pteridinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=NC=CN=C12)* 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- 150000003212 purines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000561 purinyl group Chemical group N1=C(N=C2N=CNC2=C1)* 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003072 pyrazolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000719 pyrrolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940107700 pyruvic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000004621 quinuclidinyl group Chemical group N12C(CC(CC1)CC2)* 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000006578 reductive coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000022983 regulation of cell cycle Effects 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- RQPOMTUDFBZCHG-UHFFFAOYSA-N ruthenium;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Ru] RQPOMTUDFBZCHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKHWJBVVWVYFEY-UHFFFAOYSA-M silver;hydroxide Chemical compound [OH-].[Ag+] UKHWJBVVWVYFEY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000009097 single-agent therapy Methods 0.000 description 1
- 230000005783 single-strand break Effects 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical class OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003890 succinate salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- ZIRLXLUNCURZTP-UHFFFAOYSA-I tantalum(5+);pentahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Ta+5] ZIRLXLUNCURZTP-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 238000003419 tautomerization reaction Methods 0.000 description 1
- RUNXZBCDKGKTNK-LJQANCHMSA-N tert-butyl (3S)-3-(4-benzamidophenyl)piperidine-1-carboxylate Chemical compound C1=C(C=CC=C1)C(=O)NC1=CC=C([C@H]2CN(CCC2)C(=O)OC(C)(C)C)C=C1 RUNXZBCDKGKTNK-LJQANCHMSA-N 0.000 description 1
- SWUANUQBXJNXGP-CYBMUJFWSA-N tert-butyl (3s)-3-(4-aminophenyl)piperidine-1-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCC[C@H]1C1=CC=C(N)C=C1 SWUANUQBXJNXGP-CYBMUJFWSA-N 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIJXHKXIOCDSEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-hydroxypiperidine-1-carboxylate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)N1CCCC(O)C1 UIJXHKXIOCDSEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001412 tetrahydropyranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000147 tetrahydroquinolinyl group Chemical group N1(CCCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021516 thallium(I) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021517 thallium(III) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QGYXCSSUHCHXHB-UHFFFAOYSA-M thallium(i) hydroxide Chemical compound [OH-].[Tl+] QGYXCSSUHCHXHB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GEPJDKDOADVEKE-UHFFFAOYSA-K thallium(iii) hydroxide Chemical compound O[Tl](O)O GEPJDKDOADVEKE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229960004559 theobromine Drugs 0.000 description 1
- 238000002560 therapeutic procedure Methods 0.000 description 1
- 125000001113 thiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001984 thiazolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005985 thienyl[1,3]dithianyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- SFKTYEXKZXBQRQ-UHFFFAOYSA-J thorium(4+);tetrahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Th+4] SFKTYEXKZXBQRQ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- FBGKGORFGWHADY-UHFFFAOYSA-L tin(2+);dihydroxide Chemical compound O[Sn]O FBGKGORFGWHADY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CVNKFOIOZXAFBO-UHFFFAOYSA-J tin(4+);tetrahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Sn+4] CVNKFOIOZXAFBO-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910021509 tin(II) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- MDENFZQQDNYWMM-UHFFFAOYSA-N titanium trihydrate Chemical compound O.O.O.[Ti] MDENFZQQDNYWMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCFVAODLMSHDAW-UHFFFAOYSA-L titanium(2+);dihydroxide Chemical compound O[Ti]O RCFVAODLMSHDAW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZGYRTJADPPDDMY-UHFFFAOYSA-N titanium;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.[Ti] ZGYRTJADPPDDMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M toluenesulfonate group Chemical group C=1(C(=CC=CC1)S(=O)(=O)[O-])C LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004319 trichloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000004044 trifluoroacetyl group Chemical group FC(C(=O)*)(F)F 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPDGFQQVHZEUOP-UHFFFAOYSA-L tungsten(2+);dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[W+2] SPDGFQQVHZEUOP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007039 two-step reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003828 vacuum filtration Methods 0.000 description 1
- UVEFAEMXFFXFKB-UHFFFAOYSA-L vanadium(2+);dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[V+2] UVEFAEMXFFXFKB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UYDMXQQVXGMPKK-UHFFFAOYSA-N vanadium;trihydrate Chemical compound O.O.O.[V] UYDMXQQVXGMPKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- GDJZZWYLFXAGFH-UHFFFAOYSA-M xylenesulfonate group Chemical group C1(C(C=CC=C1)C)(C)S(=O)(=O)[O-] GDJZZWYLFXAGFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SJHMKWQYVBZNLZ-UHFFFAOYSA-K ytterbium(3+);trihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Yb+3] SJHMKWQYVBZNLZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- GFDKELMFCRQUSG-UHFFFAOYSA-N yttrium;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Y] GFDKELMFCRQUSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L zinc hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Zn+2] UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940007718 zinc hydroxide Drugs 0.000 description 1
- 229910021512 zirconium (IV) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
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Abstract
En el presente documento se describen métodos y procesos para preparar niraparib y sus sales farmacéuticamente aceptables, e intermedios y sus sales útiles para la síntesis de niraparib. (Traducción automática con Google Translate, sin valor legal)
Description
DESCRIPCIÓN
Métodos de fabricación de niraparib
Referencia cruzada
Esta solicitud reclama el beneficio de la Solicitud Provisional de los EE. UU. n.° 62/489.387, presentada el 24 de abril de 2017 y la Solicitud Provisional de EE. UU. n.° 62/489.415, presentada el 24 de abril de 2017.
Sumario de la invención
El niraparib es un potente inhibidor de poli(ADP-ribosa)polimerasa o PARP, activo por vía oral. Niraparib y las sales farmacéuticamente aceptables del mismo se desvelan en la Publicación Internacional n.° WO2007/113596 y la Patente Europea n.° EP2007733B1; la Publicación Internacional n.° WO2008/084261 y la Patente de EE. UU. n.° 8.071.623; y la Publicación Internacional n.° WO2009/087381 y la Patente de EE. UU. n.° 8.436.185. Los métodos para producir niraparib y las sales farmacéuticamente aceptables del mismo se desvelan en las Publicaciones Internacionales n.° WO2014/088983 y WO2014/088984. Los métodos para tratar el cáncer con niraparib y las sales farmacéuticamente aceptables del mismo se desvelan en la Solicitud de Patente Provisional de EE. UU. n.° 62/356.461, 62/402.427 y 62/470.141. Los compuestos que están relacionados con intermediarios útiles en la producción de derivados de niraparib se desvelan en Chung et al., 2014, Organic Process Research & Development, 18(1), 215-227 y Wallace et al., 2011, Organic Process Research & Development, 15(4), 831-840.
PARP es una familia de proteínas involucradas en muchas funciones en una célula, incluida la reparación del ADN, la expresión génica, el control del ciclo celular, el tráfico intracelular y el metabolismo energético. Las proteínas PARP juegan un papel clave en la reparación de roturas de una sola hebra a través de la vía de reparación por escisión de base. Los inhibidores de PARP han mostrado actividad como monoterapia contra tumores con defectos de reparación del ADN existentes, como BRCA1 y BRCA2, y como terapia combinada cuando se administran junto con agentes anticancerígenos que inducen daño en el ADN.
A pesar de varios avances en el tratamiento del cáncer de ovario, la mayoría de los pacientes finalmente recaen y las respuestas posteriores al tratamiento adicional a menudo tienen una duración limitada. Las mujeres con mutaciones de línea germinal BRCA1 o BRCA2 tienen un mayor riesgo de desarrollar cáncer de ovario seroso de alto grado (HGSOC) y sus tumores parecen ser particularmente sensibles al tratamiento con un inhibidor de PARP. Además, la bibliografía científica publicada indica que los pacientes con HGSOC sensible al platino que no tienen mutaciones de la línea germinal BRCA1 o BRCA2 también pueden experimentar un beneficio clínico con el tratamiento con un inhibidor de PARP.
En el presente documento se desvelan métodos y procesos para preparar niraparib y las sales farmacéuticamente aceptables del mismo, e intermedios y sus sales útiles para la síntesis de niraparib.
La presente invención proporciona un proceso para preparar una sal de Fórmula (7), que comprende:
(a) preparar un compuesto de Fórmula (1) o una sal del mismo, que comprende:
poner en contacto un compuesto de Fórmula (2) o una sal del mismo, con un compuesto de Fórmula (3), o una sal del mismo,
(b) preparar un compuesto de Fórmula (5) o una sal del mismo, que comprende:
poner en contacto el compuesto de Fórmula (1) o una sal del mismo, con un catalizador,
(c) poner en contacto el compuesto de Fórmula (5) o una sal del mismo, con un hidróxid de metal,
en donde:
R1 es H o un grupo protector de amina;
R2 es H, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo;
cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo y A es un catión. En un aspecto, en el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (1),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (2),
o una sal del mismo, con un compuesto de Fórmula (3),
o una sal del mismo, en donde: Ri es H o un grupo protector de amina; R2 es H, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; y cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo. En algunas realizaciones, la puesta en contacto da como resultado la formación de una molécula de agua.
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de un ácido. En algunas realizaciones, el ácido es ácido fórmico, ácido acético, ácido propiónico, ácido butírico, ácido valérico, ácido caproico, ácido oxálico, ácido láctico, ácido málico, ácido cítrico, ácido benzoico, ácido carbónico, ácido úrico, taurina, ácido p-toluenosulfónico, ácido trifluorometanosulfónico, ácido aminometilfosfónico, ácido trifluoroacético (TFA), ácido fosfónico, ácido sulfúrico, ácido nítrico, ácido fosfórico, ácido clorhídrico, ácido etanosulfónico (ESA) o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, el ácido es TFA.
En algunas realizaciones, R1 es un grupo protector de amina. En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es ferc-butiloxicarbonilo (Boc), 9-fluorenilmetiloxicarbonilo (Fmoc), grupo carboxibencilo (Cbz), pmetoxibencilcarbonilo (Moz), acetilo (Ac), benzoílo (Bz), p-metoxibencilo (PMB), 3,4-dimetoxibencilo (DMPM), pmetoxifenilo (PMP), 2-naftilmetil éter (Nap), tosilo (Ts) o cloroformiato de tricloroetilo (Troc). En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es un grupo ferc-butiloxicarbonilo (Boc).
En algunas realizaciones, R2 es alquilo C1-10. En algunas realizaciones, R2 es metilo. En algunas realizaciones, cada R3 es H.
En algunas realizaciones, el compuesto de Fórmula (1) o una sal del mismo tiene una estructura de Fórmula (4):
En algunas realizaciones, el compuesto de Fórmula (1) tiene una estructura de Fórmula (4).
En otro aspecto, en el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (5),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (1),
o una sal del mismo, con un catalizador, en donde: R1 es H o un grupo protector de amina; R2 es H, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; y cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo.
En algunas realizaciones, el catalizador comprende un ácido de Lewis o un solvato del mismo. En algunas realizaciones, el ácido de Lewis tiene una fórmula de MXn, en donde M es Cu, Zn, B, Ti, Fe, Ni, Co, Al o Ag, en donde X es haluro, triflato, fosfato, fluorofosfato o acetato y en donde n es 1, 2, 3 o 4. En algunas realizaciones, la M es Cu.
En algunas realizaciones, el ácido de Lewis es una sal de cobre. En algunas realizaciones, la sal de cobre es trifluorometanosulfonato de cobre (II) (Cu(OTf)2).
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de disolvente. En algunas realizaciones, el disolvente comprende N,N-dimetilformida (DMF), f-butanol, dimetoxietano (DME), acetonitrilo, diclorometano (DCM), tetrahidrofurano (THF), 2-metiltetrahidrofurano (ME-THF), alcohol isopropílico, metanol, etanol o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, el disolvente comprende THF.
En algunas realizaciones, R1 es un grupo protector de amina. En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es ferc-butiloxicarbonilo (Boc), 9-fluorenilmetiloxicarbonilo (Fmoc), grupo carboxibencilo (Cbz), pmetoxibencilcarbonilo (Moz), acetilo (Ac), benzoílo (Bz), p-metoxibencilo (PMB), 3,4-dimetoxibencilo (DMPM), pmetoxifenilo (PMP), 2-naftilmetil éter (Nap), tosilo (Ts) o cloroformiato de tricloroetilo (Troc). En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es un grupo ferc-butiloxicarbonilo (Boc).
En algunas realizaciones, R2 es alquilo C1-10. En algunas realizaciones, R2 es metilo. En algunas realizaciones, cada R3 es H.
En algunas realizaciones, el compuesto de Fórmula (5) o una sal del mismo tiene una estructura de Fórmula (6):
En algunas realizaciones, el compuesto de Fórmula (5) tiene una estructura de Fórmula (6).
En otro aspecto, se desvela en el presente documento un proceso para preparar una sal de Fórmula (7),
que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (5),
o una sal del mismo, con un hidróxid de metal, en donde: R1 es H o un grupo protector de amina; R2 es H, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; y A es un catión.
En algunas realizaciones, el catión es un catión inorgánico u orgánico. En algunas realizaciones, el catión es un catión metálico. En algunas realizaciones, el catión metálico es un catión de metal alcalino. En algunas realizaciones, el catión de metal alcalino es catión de litio, catión de sodio, catión de potasio, catión de rubidio, catión de cesio o catión de francio. En algunas realizaciones, el catión de metal alcalino es catión de litio.
En algunas realizaciones, R1 es un grupo protector de amina. En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es ferc-butiloxicarbonilo (Boc), 9-fluorenilmetiloxicarbonilo (Fmoc), grupo carboxibencilo (Cbz), pmetoxibencilcarbonilo (Moz), acetilo (Ac), benzoílo (Bz), p-metoxibencilo (PMB), 3,4-dimetoxibencilo (DMPM), pmetoxifenilo (PMP), 2-naftilmetil éter (Nap), tosilo (Ts) o cloroformiato de tricloroetilo (Troc). En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es un grupo ferc-butiloxicarbonilo (Boc).
En algunas realizaciones, R2 es alquilo C1-10. En algunas realizaciones, R2 es metilo. En algunas realizaciones, cada
R3 es H.
En algunas realizaciones, la sal de Fórmula (7) tiene una estructura de Fórmula (8):
En otro aspecto, en el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (9),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (7),
o una sal del mismo, con un reactivo de acoplamiento e hidróxido de amonio, en donde: R1 es H o un grupo protector de amina; R2 es H, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; y A es un catión.
En algunas realizaciones, el catión es un catión inorgánico u orgánico. En algunas realizaciones, el catión es un catión metálico. En algunas realizaciones, el catión metálico es un catión de metal alcalino. En algunas realizaciones, el catión de metal alcalino es catión de litio, catión de sodio, catión de potasio, catión de rubidio, catión de cesio o catión de francio. En algunas realizaciones, el catión de metal alcalino es catión de litio.
En algunas realizaciones, el reactivo de acoplamiento es carbonildiimidazol (CDI), N,N'-diciclohexilcarbodiimida (DCC), 3-(dietoxifosforiloxi)-1,2,3-benzotriazin-4(3H)-ona (DEPBT), N,N'-diisopropilcarbodiimida, hexafluorofosfato de 3-óxido de 1-[bis(dimetilamino)metileno]-1H-1,2,3-triazolo[4,5-b]piridinio (Ha Tu ), hexafluorofosfato de 2-(1H-benzotriazol-1-il)-1,1,3,3-tetrametiluronio (HBTU), 1-hidroxi-7-azabenzotriazol (HOAt), hidroxibenzotriazol (HOBt), hexafluorofosfato de 7-azabenzotriazol-1-iloxi)tripirrolidinofosfonio (PyAOP) o hexafluorofosfato de benzotriazol-1-iloxitripirrolidinofosfonio (PyBOP). En algunas realizaciones, el reactivo de acoplamiento es CDI.
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de disolvente. En algunas realizaciones, el disolvente comprende N,N-dimetilformida (DMF), f-butanol, dimetoxietano (DME), acetonitrilo, diclorometano (DCM), tetrahidrofurano (THF), 2-metiltetrahidrofurano (ME-THF), alcohol isopropílico, metanol, etanol o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, el disolvente comprende DMF.
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de un ácido. En algunas realizaciones, el ácido es ácido fórmico, ácido acético, ácido propiónico, ácido butírico, ácido valérico, ácido caproico, ácido oxálico, ácido láctico, ácido málico, ácido cítrico, ácido benzoico, ácido carbónico, ácido úrico, taurina, ácido p-toluenosulfónico, ácido trifluorometanosulfónico, ácido aminometilfosfónico, ácido trifluoroacético (TFA), ácido fosfónico, ácido sulfúrico, ácido nítrico, ácido fosfórico, ácido clorhídrico, ácido etanosulfónico (ESA) o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, el ácido es ácido trifluoroacético (TFA).
En algunas realizaciones, R1 es un grupo protector de amina. En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es ferc-butiloxicarbonilo (Boc), 9-fluorenilmetiloxicarbonilo (Fmoc), grupo carboxibencilo (Cbz), pmetoxibencilcarbonilo (Moz), acetilo (Ac), benzoílo (Bz), p-metoxibencilo (PMB), 3,4-dimetoxibencilo (DMPM), pmetoxifenilo (PMP), 2-naftilmetil éter (Nap), tosilo (Ts) o cloroformiato de tricloroetilo (Troc). En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es un grupo ferc-butiloxicarbonilo (Boc).
En algunas realizaciones, R2 es alquilo C1-10. En algunas realizaciones, R2 es metilo. En algunas realizaciones, cada R3 es H.
En algunas realizaciones, el compuesto de Fórmula (9) o una sal del mismo tiene una estructura de Fórmula (10):
En algunas realizaciones, el compuesto de Fórmula (9) tiene una estructura de Fórmula (10).
En otro aspecto, se desvela en el presente documento un proceso para preparar una sal de Fórmula (11)
o una sal del mismo, con monohidrato de ácido para-toluenosulfónico (pTSAH2O), en donde: R1 es H o un grupo protector de amina; R2 es H, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; y cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo.
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de un ácido. En algunas realizaciones, el ácido es ácido fórmico, ácido acético, ácido propiónico, ácido butírico, ácido valérico, ácido caproico, ácido oxálico, ácido láctico, ácido málico, ácido cítrico, ácido benzoico, ácido carbónico, ácido úrico, taurina, ácido p-toluenosulfónico, ácido trifluorometanosulfónico, ácido aminometilfosfónico, ácido trifluoroacético (TFA), ácido fosfónico, ácido sulfúrico, ácido nítrico, ácido fosfórico, ácido clorhídrico, ácido etanosulfónico (ESA) o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, el ácido es ácido trifluoroacético (TFA).
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de disolvente. En algunas realizaciones, el disolvente comprende N,N-dimetilformida (DMF), f-butanol, dimetoxietano (DME), acetonitrilo, diclorometano (DCM), tetrahidrofurano (THF), 2-metiltetrahidrofurano (ME-THF), alcohol isopropílico, metanol, etanol o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, el disolvente comprende THF.
En algunas realizaciones, R1 es un grupo protector de amina. En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es ferc-butiloxicarbonilo (Boc), 9-fluorenilmetiloxicarbonilo (Fmoc), grupo carboxibencilo (Cbz), pmetoxibencilcarbonilo (Moz), acetilo (Ac), benzoílo (Bz), p-metoxibencilo (PMB), 3,4-dimetoxibencilo (DMPM), pmetoxifenilo (PMP), 2-naftilmetil éter (Nap), tosilo (Ts) o cloroformiato de tricloroetilo (Troc). En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es un grupo ferc-butiloxicarbonilo (Boc).
En algunas realizaciones, R2 es alquilo C1-10. En algunas realizaciones, R2 es metilo. En algunas realizaciones, cada R3 es H.
En algunas realizaciones, la sal de Fórmula (11) tiene una estructura de Fórmula (12):
En otro aspecto, en el presente documento se desvela un proceso para preparar un monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido de Fórmula (12),
que comprende: poner en contacto una mezcla que comprende monohidrato de (R)-tosilato de niraparib y monohidrato de (S)-tosilato de niraparib con agua y un primer disolvente orgánico; separar el monohidrato de tosilato de (S)-niraparib de la mezcla mediante filtración para formar un monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido; y poner en contacto el monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido con un segundo disolvente orgánico, agua, o cualquier combinación de los mismos para formar una forma cristalina del monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido.
En algunas realizaciones, el proceso que comprende además moler en húmedo la forma cristalina del monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido. En algunas realizaciones, el proceso comprende además el recocido del monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enriquecido enantioméricamente mediante uno o más ciclos de temperatura.
En algunas realizaciones, el primer disolvente orgánico comprende acetonitrilo. En algunas realizaciones, en la puesta en contacto se usa una proporción de agua a primer disolvente orgánico (v/v) de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:200. En algunas realizaciones, la proporción de agua a primer disolvente orgánico (v/v) es de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:200, por ejemplo, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 100:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 10:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 5:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 10:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 5:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 5:1, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:5 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 1:5 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:5 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:10 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:10 a aproximadamente 1:200 o de aproximadamente 1:100 a aproximadamente 1:200. En algunas realizaciones, la proporción de agua a primer disolvente orgánico (v/v) es de aproximadamente 5:1 a aproximadamente
1:5.
En algunas realizaciones, la proporción de agua a primer disolvente orgánico (v/v) es aproximadamente 1:0,005, aproximadamente 1:0,01, aproximadamente 1:0,02, aproximadamente 1:0,03, aproximadamente 1:0,04, aproximadamente 1:0,05, aproximadamente 1:0,1, aproximadamente 1:0,2, aproximadamente 1:0,3, aproximadamente 1:0,4, aproximadamente 1:0,5, aproximadamente 1:0,6, aproximadamente 1:0,7, aproximadamente 1:0,8, aproximadamente 1:0,9, aproximadamente 1:1, aproximadamente 1:1,5, aproximadamente 1:2, aproximadamente 1:2,5, aproximadamente 1:3, aproximadamente 1:3,5, aproximadamente 1:4, aproximadamente 1:4,5, aproximadamente 1:5, aproximadamente 1:5,5, aproximadamente 1:6, aproximadamente 1:6,5, aproximadamente 1:7, aproximadamente 1:7,5, aproximadamente 1:8, aproximadamente 1:8,5, aproximadamente 1:9, aproximadamente 1:9,5, aproximadamente 1:10, aproximadamente 1:20, aproximadamente 1:30, aproximadamente 1:40, aproximadamente 1:50, aproximadamente 1:60, aproximadamente 1:70, aproximadamente 1:80, aproximadamente 1:90, aproximadamente 1:100, aproximadamente 1:150, o aproximadamente 1:200.
En algunas realizaciones, el monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido está en una porción de filtrado (por ejemplo, pasa a través de un filtro) después de la filtración. En algunas realizaciones, al menos aproximadamente el 1 % del monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido está en una porción de filtrado después de la filtración. Por ejemplo, al menos aproximadamente el 1 %, al menos aproximadamente el 2 %, al menos aproximadamente el 3 %, al menos aproximadamente el 4 %, al menos aproximadamente el 5 %, al menos aproximadamente el 6 %, al menos aproximadamente el 7 %, al menos aproximadamente el 8%, al menos aproximadamente el 9% , al menos aproximadamente el 10%, al menos aproximadamente el 15%, al menos aproximadamente el 20%, al menos aproximadamente el 25%, al menos aproximadamente el 30 %, al menos aproximadamente el 35 %, al menos aproximadamente el 40 %, al menos aproximadamente el 45 %, al menos aproximadamente el 50 %, al menos aproximadamente el 55 %, al menos aproximadamente el 60 %, al menos aproximadamente el 65 %, al menos aproximadamente el 70 %, al menos aproximadamente el 75 %, al menos aproximadamente el 80 %, al menos aproximadamente el 85 %, al menos aproximadamente el 90 %, al menos aproximadamente el 91 %, al menos aproximadamente el 92 %, al menos aproximadamente el 93 %, al menos aproximadamente el 94 %, al menos aproximadamente el 95 %, al menos aproximadamente el 96 %, al menos aproximadamente el 97 %, al menos aproximadamente el 98 % o al menos aproximadamente el 99 % del monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido está en una porción de filtrado después de la filtración.
En algunas realizaciones, el segundo disolvente orgánico comprende DMSO. En algunas realizaciones, el proceso comprende poner en contacto el monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido con dimetilsulfóxido (DMSO) y agua. En algunas realizaciones, en la puesta en contacto se usa una proporción de agua a segundo disolvente orgánico (v/v) de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:200. En algunas realizaciones, la proporción de agua a segundo disolvente orgánico (v/v) es de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:200, por ejemplo, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 100:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 10:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 5:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 10:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 5:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 5:1, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 5:1a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:5 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 1:5 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:5 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:10 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:10 a aproximadamente 1:200 o de aproximadamente 1:100 a aproximadamente 1:200. En algunas realizaciones, la proporción de agua a segundo disolvente orgánico (v/v) es de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:5.
En algunas realizaciones, la proporción de agua a segundo disolvente orgánico (v/v) es aproximadamente 1:0,005, aproximadamente 1:0,01, aproximadamente 1:0,02, aproximadamente 1:0,03, aproximadamente 1:0,04, aproximadamente 1:0,05, aproximadamente 1:0,1, aproximadamente 1:0,2, aproximadamente 1:0,3, aproximadamente 1:0,4, aproximadamente 1:0,5, aproximadamente 1:0,6, aproximadamente 1:0,7, aproximadamente 1:0,8, aproximadamente 1:0,9, aproximadamente 1:1, aproximadamente 1:1,5, aproximadamente 1:2, aproximadamente 1:2,5, aproximadamente 1:3, aproximadamente 1:3,5, aproximadamente 1:4, aproximadamente 1:4,5, aproximadamente 1:5, aproximadamente 1:5,5, aproximadamente 1:6, aproximadamente 1:6,5, aproximadamente 1:7, aproximadamente 1:7,5, aproximadamente 1:8, aproximadamente 1:8,5, aproximadamente 1:9, aproximadamente 1:9,5, aproximadamente 1:10, aproximadamente 1:20, aproximadamente 1:30, aproximadamente 1:40, aproximadamente 1:50, aproximadamente 1:60, aproximadamente 1:70, aproximadamente 1:80, aproximadamente 1:90, aproximadamente 1:100, aproximadamente 1:150, o aproximadamente 1:200.
En algunas realizaciones, el monohidratado de tosilato de (S)-niraparib y monohidrato de tosilato de (R)-niraparib, tiene un exceso enantiomérico de al menos el 50 %, al menos el 60%, al menos el 70 %, al menos el 80 %, al menos el 85 %, al menos el 90 %, al menos el 91 %, al menos el 92 %, al menos el 93 %, al menos el 94 %, al menos el 95 %, al menos el 96 %, al menos el 97 %, al menos el 98 %, al menos el 99 %, al menos el 99,1 %, al menos el 99,2 %, al menos el 99,3 %, al menos el 99,4 %, al menos el 99,5 %, al menos el 99,6 %, al menos el 99,7 %, al menos el 99,8 % o al menos el 99,9 %.
En otro aspecto, en el presente documento se desvela un proceso para preparar un monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido de Fórmula (12),
(12), que comprende: poner en contacto una sal de Fórmula (13),
con hidróxido sódico y tolueno, para formar un compuesto de Fórmula (14),
poner en contacto un compuesto de Fórmula (15),
con azida sódica, acetato de etilo y DMSO, para formar un compuesto de Fórmula (16),
poner en contacto el compuesto de Fórmula (14) con el compuesto de Fórmula (16) y TFA, para formar un compuesto de Fórmula (4),
poner en contacto el compuesto de Fórmula (4) con trifluorometanosulfonato de cobre (II) (Cu(OTf)2), THF y tolueno, para formar un compuesto de Fórmula (6),
poner en contacto el compuesto de Fórmula (6) con hidróxido de litio y etanol, para formar una sal de Fórmula (8),
poner en contacto la sal de Fórmula (8) con CDI, TFA, N,N-dimetilformida (DMF) e hidróxido de amonio, para formar un compuesto de Fórmula (10),
poner en contacto el compuesto de Fórmula (10) con monohidrato de ácido p-toluenosulfónico (pTsOHH2O) y THF, para formar monohidrato de tosilato de (S)-niraparib de Fórmula (12),
poner en contacto el monohidratado de tosilato de (S)-niraparib de Fórmula (12) con acetonitrilo y agua, para formar una mezcla; separar monohidrato de tosilato de (S)-niraparib de la mezcla por filtración, para formar un monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido; y poner en contacto el monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido con DMSO y agua, para formar una forma cristalina del monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido. En algunas realizaciones, el proceso comprende además moler en húmedo la forma cristalina del monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido. En algunas realizaciones, el proceso comprende además recocer el monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido usando uno o más ciclos de temperatura.
En otro aspecto, se desvela en el presente documento una sal de Fórmula (7),
(7), en donde: Ri es H o un grupo protector de amina; cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; y A es un catión. En algunas realizaciones, el catión es un catión inorgánico u orgánico. En algunas realizaciones, el catión es un catión metálico. En algunas realizaciones, el catión metálico es un catión de metal alcalino. En algunas realizaciones, el catión de metal alcalino es catión de litio. En algunas realizaciones, R1 es un grupo protector de amina. En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es terc-butiloxicarbonilo (Boc), 9-fluorenilmetiloxicarbonilo (Fmoc), grupo carboxibencilo (Cbz), p-metoxibencilcarbonilo (Moz), acetilo (Ac), benzoílo (Bz), p-metoxibencilo (PMB), 3,4-dimetoxibencilo (DMPM), p-metoxifenilo (PMP), 2-naftilmetil éter (Nap), tosilo (Ts) o cloroformiato de tricloroetilo (Troc). En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es un grupo tercbutiloxicarbonilo (Boc). En algunas realizaciones, cada R3 es H. En algunas realizaciones, la sal de Fórmula (7) tiene una estructura de Fórmula (8):
En otro aspecto, en el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (17),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (18),
o una sal del mismo, con n-butillitio y borato de triisopropilo (B(Oi-Pr)3), en donde R4 es un grupo saliente. En algunas realizaciones, el proceso comprende además una reacción de hidrólisis. En algunas realizaciones, el proceso comprende poner en contacto un compuesto de Fórmula (19),
o una sal del mismo, con cloruro de benzoílo y un compuesto orgánico, para formar el compuesto de Fórmula (18) o una sal del mismo, en donde R4 es un grupo saliente. En algunas realizaciones, el compuesto orgánico es trimetilamina (TEA) o trimetilamina (TMA). En algunas realizaciones, el grupo saliente es, por ejemplo, dinitrógeno, dialquiléter, perfluoroalquilsulfonato (por ejemplo, triflato), tosilato, mesilato, yoduro, bromuro, agua, alcohol, cloruro, nitrato, fosfato, éster, tioéter, amina, amoníaco, fluoruro, carboxilato, fenóxido, hidróxido, alcóxido o amida. En algunas realizaciones, R4 es Br. En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de disolvente. En algunas realizaciones, el disolvente comprende N,N-dimetilformida (DMF), t-butanol, dimetoxietano (DME), acetonitrilo, diclorometano (DCM), tetrahidrofurano (THF), 2-metiltetrahidrofurano (ME-THF), alcohol isopropílico, metanol, etanol o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, el disolvente comprende THF.
En otro aspecto, en el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (20),
o una sal del mismo, con una sal de Fórmula (21),
en presencia de un catalizador. En algunas realizaciones, poner en contacto el compuesto de Fórmula (17) o la sal del mismo comprende además poner en contacto una sal de Fórmula (22),
(22). También se desvela en el presente documento un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (26),
o una sal del mismo, con una sal de Fórmula (22),
en presencia de un catalizador.
En algunas realizaciones, la sal de Fórmula (21) y la sal de Fórmula (22) tiene una proporción (p/p) de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:200, por ejemplo, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 100:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 10:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 5:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:5, de
aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 10:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 5:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 5:1, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:5 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 1:5 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:5 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:10 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:10 a aproximadamente 1:200 o de aproximadamente 1:100 a aproximadamente 1:200. En algunas realizaciones, la de Fórmula (21) y la sal de Fórmula (22) tiene una proporción (p/p) de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:1.
En algunas realizaciones, la sal de Fórmula (21) y la sal de Fórmula (22) tiene una proporción (p/p) de aproximadamente 1:0,005, aproximadamente 1:0,01, aproximadamente 1:0,02, aproximadamente 1:0,03, aproximadamente 1:0,04, aproximadamente 1:0,05, aproximadamente 1:0,1, aproximadamente 1:0,2, aproximadamente 1:0,3, aproximadamente 1:0,4, aproximadamente 1:0,5, aproximadamente 1:0,6, aproximadamente 1:0,7, aproximadamente 1:0,8, aproximadamente 1:0,9, aproximadamente 1:1, aproximadamente 1:1,5, aproximadamente 1:2, aproximadamente 1:2,5, aproximadamente 1:3, aproximadamente 1:3,5, aproximadamente 1:4, aproximadamente 1:4,5, aproximadamente 1:5, aproximadamente 1:5,5, aproximadamente 1:6, aproximadamente 1:6,5, aproximadamente 1:7, aproximadamente 1:7,5, aproximadamente 1:8, aproximadamente 1:8,5, aproximadamente 1:9, aproximadamente 1:9,5, aproximadamente 1:10, aproximadamente 1:20, aproximadamente 1:30, aproximadamente 1:40, aproximadamente 1:50, aproximadamente 1:60, aproximadamente 1:70, aproximadamente 1:80, aproximadamente 1:90, aproximadamente 1:100, aproximadamente 1:150, o aproximadamente 1:200. En algunas realizaciones, la sal de Fórmula (21) y la sal de Fórmula (22) tiene una proporción (p/p) de aproximadamente 7:1. En algunas realizaciones, la sal de Fórmula (21) y la sal de Fórmula (22) tiene una proporción (p/p) de aproximadamente 9:1.
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de un ligando. En algunas realizaciones, el ligando comprende un ligando de fosfina. En algunas realizaciones, el ligando de fosfina comprende DavePhos, XantPhos, JohnPhos, SPhos, XPhos, tBuXPhos, APhos, CyJohnPhos o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, el ligando de fosfina comprende XPhos. En algunas realizaciones, el ligando de fosfina puede estar ópticamente enriquecido. En algunas realizaciones, el ligando de fosfina puede estar ópticamente enriquecido antes de usarse en los procesos y métodos descritos en el presente documento. En algunas realizaciones, el ligando de fosfina (por ejemplo, ligando de fosfina ópticamente enriquecido) tiene un exceso enantiomérico de al menos el 50 %, al menos el 60%, al menos el 70 %, al menos el 80 %, al menos el 85 %, al menos el 90 %, al menos el 91 %, al menos el 92 %, al menos el 93 %, al menos el 94 %, al menos el 95 %, al menos el 96 %, al menos el 97 %, al menos el 98 %, al menos el 99 %, al menos el 99,1 %, al menos el 99,2 %, al menos el 99,3 %, al menos el 99,4 %, al menos el 99,5 %, al menos el 99,6 %, al menos el 99,7 %, al menos el 99,8 % o al menos el 99,9 %.
DavePhos 2-Diciclohexilfosfino-2'- Xantphos 4,5-bis(difenilfosfino)-9,9- JohnPhos (2-Bifenil)di-ferc-(N,N-dimetilamino)bifenilo dimetilxanteno butilfosfina
SPhos Diciclohexil(2',6'- XPhos diciclohexil(2', 4', 6- fBuXPhos di-terc-butil(2',4',6'-dimetoxi-[1,1'-bifenil]-2- triiso propil-[1,1'-bifenil]-2- triisopropil-[1,1 bifenil]-2-il)fosfina il)fosfina il)fosfina
APhos 4-(di-ferc- CyJohnPhos [1,1'-butilfosfino)-W,W- bifenil]-2-dimetilanilina ildiciclohexilfosfina
En algunas realizaciones, el catalizador comprende un catalizador metálico. En algunas realizaciones, el catalizador metálico comprende un catalizador de metal de transición. En algunas realizaciones, el catalizador metálico comprende escandio, titanio, vanadio, cromo, manganeso, hierro, cobalto, níquel, cobre, cinc, itrio, circonio, niobio, molibdeno, tecnecio, rutenio, rodio, paladio, plata, cadmio, hafnio, tántalo, wolframio, renio, osmio, iridio, platino, oro, mercurio, rutherfordio, dubnio, seaborgio, bohrio, hassio, meitnerio, ununnilio, unununio o ununbio. En algunas realizaciones, el catalizador metálico, comprende paladio. En algunas realizaciones, el catalizador metálico comprende acetato de paladio (II).
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de una base. En algunas realizaciones, la base comprende una sal alcalina. En algunas realizaciones, la sal alcalina comprende Cs2CO3, CsHCO3K3PO4, K2HPO4, KH2PO4, K2CO3, KHCO3, NaHCO3, Na2CO3 o cualquier combinación de los mismos.
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de disolvente. En algunas realizaciones, el disolvente comprende N,N-dimetilformida (DMF), f-butanol, dimetoxietano (DME), acetonitrilo, diclorometano (DCM), tetrahidrofurano (THF), 2-metiltetrahidrofurano (ME-THF), alcohol isopropílico, metanol, etanol o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, el disolvente comprende THF. En algunas realizaciones, el proceso comprende además poner en contacto el compuesto de Fórmula (20) o una sal del mismo, con acetonitrilo.
En otro aspecto, en el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (23),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (17),
o una sal del mismo, con
r5 r5
Rs^ -----^ R s
HO OH ,
en donde cada R5 es independientemente H o alquilo C1-3. En algunas realizaciones, cada R5 es independientemente alquilo C1-3. En algunas realizaciones, cada R5 es metilo. En algunas realizaciones, el compuesto de Fórmula (23) o una sal del mismos tiene una estructura de Fórmula (24),
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de disolvente. En algunas realizaciones, el disolvente comprende N,N-dimetilformida (DMF), f-butanol, dimetoxietano (DME), acetonitrilo, diclorometano (DCM), tetrahidrofurano (THF), 2-metiltetrahidrofurano (ME-THF), alcohol isopropílico, metanol, etanol o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, el disolvente comprende THF.
En otro aspecto, en el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (20),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto el compuesto de Fórmula (23),
o la sal del mismo, con una sal de Fórmula (21)
o la sal del mismo, con una sal de Fórmula (22),
Boc
i
En algunas realizaciones, la sal de Fórmula (21) y la sal de Fórmula (22) tiene una proporción (p/p) de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:200, por ejemplo, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 100:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 10:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 5:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 200:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 10:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 5:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 5:1, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 2:1, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 5:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:1, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 2:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:2, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:1 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:5, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:2 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:5 a aproximadamente 1:10, de aproximadamente 1:5 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:5 a aproximadamente 1:200, de aproximadamente 1:10 a aproximadamente 1:100, de aproximadamente 1:10 a aproximadamente 1:200 o de aproximadamente 1:100 a aproximadamente 1:200. En algunas realizaciones, la de Fórmula (21) y la sal de Fórmula (22) tiene una proporción (p/p) de aproximadamente 10:1 a aproximadamente 1:1.
En algunas realizaciones, la sal de Fórmula (21) y la sal de Fórmula (22) tiene una proporción (p/p) de aproximadamente 1:0,005, aproximadamente 1:0,01, aproximadamente 1:0,02, aproximadamente 1:0,03, aproximadamente 1:0,04, aproximadamente 1:0,05, aproximadamente 1:0,1, aproximadamente 1:0,2, aproximadamente 1:0,3, aproximadamente 1:0,4, aproximadamente 1:0,5, aproximadamente 1:0,6, aproximadamente 1:0,7, aproximadamente 1:0,8, aproximadamente 1:0,9, aproximadamente 1:1, aproximadamente 1:1,5, aproximadamente 1:2, aproximadamente 1:2,5, aproximadamente 1:3, aproximadamente 1:3,5, aproximadamente 1:4, aproximadamente 1:4,5, aproximadamente 1:5, aproximadamente 1:5,5, aproximadamente 1:6, aproximadamente 1:6,5, aproximadamente 1:7, aproximadamente 1:7,5, aproximadamente 1:8, aproximadamente 1:8,5, aproximadamente 1:9, aproximadamente 1:9,5, aproximadamente 1:10, aproximadamente 1:20, aproximadamente 1:30, aproximadamente 1:40, aproximadamente 1:50, aproximadamente 1:60, aproximadamente 1:70, aproximadamente 1:80, aproximadamente 1:90, aproximadamente 1:100, aproximadamente 1:150, o aproximadamente 1:200. En algunas realizaciones, la sal de Fórmula (21) y la sal de Fórmula (22) tiene una proporción (p/p) de aproximadamente 7:1. En algunas realizaciones, la sal de Fórmula (21) y la sal de Fórmula (22) tiene una proporción (p/p) de aproximadamente 9:1.
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de un ligando. En algunas realizaciones, el ligando comprende un ligando de fosfina. En algunas realizaciones, el ligando de fosfina comprende DavePhos, XantPhos, JohnPhos, SPhos, XPhos, fBuXPhos, APhos, CyJohnPhos o cualquier combinación de los mismos. En
algunas realizaciones, el ligando de fosfina comprende XPhos.
En algunas realizaciones, el catalizador comprende un catalizador metálico. En algunas realizaciones, el catalizador metálico comprende un catalizador de metal de transición. En algunas realizaciones, el catalizador metálico comprende escandio, titanio, vanadio, cromo, manganeso, hierro, cobalto, níquel, cobre, cinc, itrio, circonio, niobio, molibdeno, tecnecio, rutenio, rodio, paladio, plata, cadmio, hafnio, tántalo, wolframio, renio, osmio, iridio, platino, oro, mercurio, rutherfordio, dubnio, seaborgio, bohrio, hassio, meitnerio, ununnilio, unununio o ununbio. En algunas realizaciones, el catalizador metálico, comprende paladio. En algunas realizaciones, el catalizador metálico comprende acetato de paladio (II).
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de una base. En algunas realizaciones, la base comprende una sal alcalina. En algunas realizaciones, la sal alcalina comprende Cs2CO3, CsHCO3K3PO4, K2HPO4, KH2PO4, K2CO3, KHCO3, NaHCO3, Na2CO3 o cualquier combinación de los mismos.
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de disolvente. En algunas realizaciones, el disolvente comprende N,N-dimetilformida (DMF), f-butanol, dimetoxietano (DME), acetonitrilo, diclorometano (DCM), tetrahidrofurano (THF), 2-metiltetrahidrofurano (ME-THF), alcohol isopropílico, metanol, etanol o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, el disolvente comprende THF. En algunas realizaciones, el proceso comprende además poner en contacto el compuesto de Fórmula (20) o una sal del mismo, con acetonitrilo.
En otro aspecto, en el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (25),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (20),
o una sal del mismo, con un ligando. En algunas realizaciones, el proceso comprende además poner en contacto un compuesto de Fórmula (26),
o una sal del mismo, con el ligando.
En algunas realizaciones, el ligando comprende un ligando quiral. En algunas realizaciones, el ligando quiral comprende un ligando Josiphos. En algunas realizaciones, el ligando Josiphos comprende Josiphos SL-J505-2, Josiphos SL-J013, Josiphos SL-J212, Josiphos SL-J011, Josiphos SL-N012 o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de una sal metálica. En algunas realizaciones, la sal metlica comprende rodio. En algunas realizaciones, la sal metálica comprende rodio (I). En algunas realizaciones, la sal metálica comprende tetrafluoroborato de bis(norbornadieno)rodio (I) (Rh(nbd)2BF4). En algunas realizaciones, el ligando puede estar ópticamente enriquecido. En algunas realizaciones, el ligando puede estar ópticamente enriquecido antes de usarse en los procesos y métodos descritos en el presente documento. En algunas realizaciones, el ligando (por ejemplo, ligando ópticamente enriquecido) tiene un exceso enantiomérico de al menos un 50 %, al menos el 60%, al menos el 70 %, al menos el 80 %, al menos el 85 %, al menos el 90 %, al menos el 91 %, al menos el 92 %, al menos el 93 %, al menos el 94 %, al menos el 95 %, al menos el 96 %, al menos el 97 %, al menos el 98 %, al menos el 99 %, al menos el 99,1 %, al menos el 99,2 %, al menos el 99,3 %, al menos el 99,4 %, al menos el 99,5 %, al menos el 99,6 %, al menos el 99,7 %, al menos el 99,8 % o al menos el 99,9 %.
Josiphos-SL-J011 Josiphos-SL-N012
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de disolvente. En algunas realizaciones, el disolvente comprende N,N-dimetilformida (DMF), f-butanol, dimetoxietano (DME), acetonitrilo, diclorometano (DCM), tetrahidrofurano (THF), 2-metiltetrahidrofurano (ME-THF), alcohol isopropílico, metanol, etanol o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, el disolvente comprende DCM.
En otro aspecto, en el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (14),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (25),
o una sal del mismo, con una base. En algunas realizaciones, la base comprende un hidróxido alcalino. En algunas realizaciones, el hidróxido alcalino es hidróxido de litio (LiOH), hidróxido sódico (NaOH), hidróxido potásico (KOH), hidróxido de rubidio (RbOH) o hidróxido de cesio (CsOH). En algunas realizaciones, el hidróxido alcalino comprende hidróxido sódico.
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de disolvente. En algunas realizaciones, el disolvente comprende N,N-dimetilformida (DMF), f-butanol, dimetoxietano (DME), acetonitrilo, diclorometano (DCM), tetrahidrofurano (THF), 2-metiltetrahidrofurano (ME-THF), alcohol isopropílico, metanol, etanol o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, el disolvente comprende etanol.
En otro aspecto, se desvela en el presente documento un proceso para preparar una sal de Fórmula (13),
que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (14),
/ Boc
0 una sal del mismo, con un ácido, En algunas realizaciones, el ácido es ácido fórmico, ácido acético, ácido propiónico, ácido butírico, ácido valérico, ácido caproico, ácido oxálico, ácido láctico, ácido málico, ácido cítrico, ácido benzoico, ácido carbónico, ácido úrico, taurina, ácido p-toluenosulfónico, ácido trifluorometanosulfónico, ácido aminometilfosfónico, ácido trifluoroacético (TFA), ácido fosfónico, ácido sulfúrico, ácido nítrico, ácido fosfórico, ácido clorhídrico, ácido etanosulfónico (ESA) o cualquier combinación de los mismos, En algunas realizaciones, el ácido es ESA.
En algunas realizaciones, la puesta en contacto se realiza en presencia de disolvente, En algunas realizaciones, el disolvente comprende N,N-dimetilformida (DMF), f-butanol, dimetoxietano (DME), acetonitrilo, diclorometano (DCM), tetrahidrofurano (THF), 2-metiltetrahidrofurano (ME-THF), alcohol isopropílico, metanol, etanol o cualquier combinación de los mismos, En algunas realizaciones, el disolvente comprende acetonitrilo, metanol, DCM o cualquier combinación de los mismos, En algunas realizaciones, el disolvente comprende acetonitrilo y metanol.
En algunas realizaciones, el disolvente tiene una proporción de metanol a acetonitrilo de aproximadamente el 0,1 % al 99% (v/v), Por ejemplo, la proporción de metanol a acetonitrilo (v/v) es de aproximadamente el 0,1 %-1 %, aproximadamente 0,1 %-5 %, aproximadamente 0,1-10%, aproximadamente 0,1 %-20 %, aproximadamente 0,5 %-1 %, aproximadamente 0,5 %-5 %, aproximadamente 0,5 %-10 %, aproximadamente 0,5 %-20 %, aproximadamente 1 %-5 %, aproximadamente 1 %-10 %, aproximadamente 1 %-20 %, aproximadamente 5 %-10 %, aproximadamente 5 %-20 %, aproximadamente 10 %-20 %, aproximadamente 10 %-30 %, aproximadamente 20 %-30 %, aproximadamente 20 %-40 %, aproximadamente 30 %-40 %, aproximadamente 30 %-50 %, aproximadamente 40 %-50 %, aproximadamente 40 %-60 %, aproximadamente 50 %-60 %, aproximadamente 50 %-70 %, aproximadamente 60 %-70 %, aproximadamente 60 %-80 %, aproximadamente 70%-80 %, aproximadamente 70 %-90 %, aproximadamente 80 %-90 %, aproximadamente 80 %-95 %, aproximadamente 90 %-95 %, aproximadamente 90 %-99% o aproximadamente 95 %-99 %, En algunas realizaciones, la proporción de metanol a acetonitrilo (v/v) es de aproximadamente el 1 %-50 %.
En algunas realizaciones, el disolvente comprende acetonitrilo y DCM, Por ejemplo, la proporción de DCM a acetonitrilo (v/v) es de aproximadamente el 0,1 %-1 %, aproximadamente 0,1 %-5 %, aproximadamente 0,1-10%, aproximadamente 0,1 %-20 %, aproximadamente 0,5 %-1 %, aproximadamente 0,5 %-5 %, aproximadamente 0,5 %-10%, aproximadamente 0,5 %-20 %, aproximadamente 1 %-5 %, aproximadamente 1% -10% , aproximadamente 1 %-20 %, aproximadamente 5% -10% , aproximadamente 5 %-20 %, aproximadamente 10%-20%, aproximadamente 10 %-30 %, aproximadamente 20 %-30 %, aproximadamente 20 %-40 %, aproximadamente 30 %-40 %, aproximadamente 30 %-50 %, aproximadamente 40 %-50 %, aproximadamente 40 %-60 %, aproximadamente 50 %-60 %, aproximadamente 50 %-70 %, aproximadamente 60 %-70 %, aproximadamente 60 %-80 %, aproximadamente 70 %-80 %, aproximadamente 70 %-90 %, aproximadamente 80 %-90 %, aproximadamente 80 %-95 %, aproximadamente 90 %-95 %, aproximadamente 90 %-99% o aproximadamente 95 %-99 %, En algunas realizaciones, la proporción de DCM a acetonitrilo (v/v) es de aproximadamente el 1 %-50 %.
En algunas realizaciones, el compuesto de Fórmula (14),
/ Boc
o una sal del mismos y un compuesto de Fórmula (27),
o sal del mismo, tiene un exceso enantiomérico de al menos el 50 %, al menos el 60%, al menos el 70 %, al menos el 80 %, al menos el 85 %, al menos el 90 %, al menos el 91 %, al menos el 92 %, al menos el 93 %, al menos el 94 %, al menos el 95 %, al menos el 96 %, al menos el 97 %, al menos el 98 %, al menos el 99 %, al menos el 99,1 %, al menos el 99,2 %, al menos el 99,3 %, al menos el 99,4 %, al menos el 99,5 %, al menos el 99,6 %, al menos el 99,7 %, al menos el 99,8 % o al menos el 99,9 %.
En otro aspecto, en el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (21),
o una sal del mismo, que comprende: oxidar un compuesto de Fórmula (28),
(28) o una sal del mismo, para formar un compuesto de Fórmula (29),
o una sal del mismo; y poner en contacto el compuesto de Fórmula (29) o una sal del mismo, con p-toluenosulfónico anhídrido. En algunas realizaciones, la oxidación se realiza en presencia de un agente oxidante. En algunas realizaciones, la oxidación se realiza en presencia de 2,2,6,6-tetrametilpiperidin-1-oxilo (TEMPO).
En algunas realizaciones, la oxidación o la puesta en contacto se realiza en presencia de un disolvente. En algunas realizaciones, el disolvente comprende N,N-dimetilformida (DMF), f-butanol, dimetoxietano (DME), acetonitrilo, diclorometano (DCM), tetrahidrofurano (THF), 2-metiltetrahidrofurano (ME-THF), alcohol isopropílico, metanol, etanol o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, el disolvente comprende DCM.
En algunas realizaciones, la oxidación del compuesto de Fórmula (28),
o sal del mismo, se realiza en presencia de bicarbonato sódico, bromuro de potasio, sulfito sódico o cualquier combinación de los mismos. En algunas realizaciones, la puesta en contacto del compuesto de Fórmula (29) o una sal del mismo se realiza en presencia de trimetilamina (TEA), agua, alcohol isopropílico, azida sódica cualquier combinación de las mismas.
En algunas realizaciones, la puesta en contacto el compuesto de Fórmula (29) o sal del mismo da como resultado la formación de una mezcla del compuesto de Fórmula (21),
y el compuesto de Fórmula (22),
En otro aspecto, se desvela en el presente documento una composición de Fórmula (30),
o una sal del mismo, en donde: cada R1 es independientemente H o un grupo protector de amina; y cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo.
En algunas realizaciones, cada R1 es independientemente un grupo protector de amina. En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es ferc-butiloxicarbonilo (Boc), 9-fluorenilmetiloxicarbonilo (Fmoc), grupo carboxibencilo (Cbz), p-metoxibencilcarbonilo (Moz), acetilo (Ac), benzoílo (Bz), p-metoxibencilo (PMB), 3,4-dimetoxibencilo (DMPM), p-metoxifenilo (PMP), 2-naftilmetil éter (Nap), tosilo (Ts) o cloroformiato de tricloroetilo (Troc). En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es un grupo ferc-butiloxicarbonilo (Boc) o benzoílo (Bz). En algunas realizaciones, cada R3 es H.
En otro aspecto, se desvela en el presente documento una composición de Fórmula (31) o (32),
o una sal del mismo, en donde: cada R1 es independientemente H o un grupo protector de amina; y cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo.
En algunas realizaciones, cada R1 es independientemente un grupo protector de amina. En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es ferc-butiloxicarbonilo (Boc), 9-fluorenilmetiloxicarbonilo (Fmoc), grupo carboxibencilo (Cbz), p-metoxibencilcarbonilo (Moz), acetilo (Ac), benzoílo (Bz), p-metoxibencilo (PMB), 3,4-dimetoxibencilo (DMPM), p-metoxifenilo (PMP), 2-naftilmetil éter (Nap), tosilo (Ts) o cloroformiato de tricloroetilo (Troc). En algunas realizaciones, el grupo protector de amina es un grupo ferc-butiloxicarbonilo (Boc) o benzoílo (Bz). En algunas realizaciones, cada R3 es H.
En algunas realizaciones, el compuesto o sal del mismo tiene una estructura de Fórmula (20):
o Fórmula (26):
En algunas realizaciones, el compuesto o sal del mismo tiene una estructura de Fórmula (20). En algunas realizaciones, el compuesto o sal del mismo tiene una estructura de Fórmula (20).
Breve descripción de los dibujos
Las nuevas características de la invención se exponen con particularidad en las reivindicaciones adjuntas. Se obtendrá una mejor comprensión de las características y ventajas de la presente invención haciendo referencia a la siguiente descripción detallada que expone realizaciones ilustrativas, en la que se utilizan los principios de la invención y los dibujos adjuntos de los cuales:
La FIG. 1 muestra la síntesis del compuesto 3-formil-2-nitrobenzoato de metilo (Aldehído A).
La FIG. 2 muestra la síntesis del compuesto etanosulfonato de (S)-4-(1-(terc-butoxicarbonil)piperidin-3-il)bencenaminio (sal de anilin ESA).
La FIG. 3 muestra la síntesis del compuesto monohidrato de tosilato de niraparib.
Descripción detallada de la invención
Como se usa en el presente documento y en las reivindicaciones adjuntas, las formas singulares "un", "una" y "el" o "la" incluyen las referencias en plural, a menos que el contexto dicte claramente lo contrario. Por tanto, por ejemplo, la referencia a "un compuesto" incluye una pluralidad de dichos agentes, y la referencia a "la sal" incluye la referencia a una o más sales (o a una pluralidad de sales) y sus equivalentes conocidos por los expertos en la materia, y así sucesivamente. Cuando se usan intervalos en el presente documento para propiedades físicas, como el peso molecular, o propiedades químicas, como fórmulas químicas, se pretende que se incluyan todas las combinaciones y subcombinaciones de intervalos y realizaciones específicas. El término "aproximadamente" cuando hace referencia a un número o un intervalo numérico, significa que el número o intervalo numérico al que hace referencia es una aproximación dentro de la variabilidad experimental (o dentro de un error experimental estadístico) y, por lo tanto, el número o intervalo numérico puede variar entre el 1 % y el 15% del número o intervalo numérico indicado. La expresión "que comprende" (y expresiones relacionadas tales como "comprender" o "comprende" o "que tiene" o "que incluye") no pretende excluir que, en otras ciertas realizaciones, por ejemplo, una realización de cualquier composición de materia, composición, método o proceso, o similares, descritas en el presente documento, pueda "consistir en" o "consistir esencialmente en" las características descritas.
Como se usa en la memoria descriptiva y en las reivindicaciones adjuntas, a menos que se especifique lo contrario, los siguientes términos tienen el significado indicado más adelante.
Los compuestos desvelados en el presente documento pueden contener uno o más centros asimétricos y por lo tanto pueden dar lugar a enantiómeros, diastereómeros y otras formas estereoisoméricas que pueden definirse, en términos de estereoquímica absoluta, como (R)- o (S)-. Salvo que se indique lo contrario, se pretende que todas las formas estereoisoméricas de los compuestos descritos en el presente documento estén contempladas en esta divulgación. Cuando los compuestos descritos en el presente documento contienen dobles enlaces alquénicos y a menos que se especifique otra cosa, se pretende que esta divulgación incluya isómeros geométricos tanto E como Z (por ejemplo, cis o trans). De forma análoga, todos los isómeros posibles, así como sus formas racémicas y ópticamente puras, y todas las formas tautoméricas también pretenden quedar incluidas. La expresión "isómero geométrico" se refiere a isómeros geométricos E o Z (por ejemplo, cis o trans) de un doble enlace alqueno. La expresión "isómero posicional" se refiere a los isómeros estructurales alrededor de un anillo central, tales como isómeros orto, meta y para alrededor de un anillo de benceno.
El "exceso enantiomérico (ee)" se refiere al grado en que una muestra contiene un enantiómero en cantidades mayores que el otro. Por ejemplo, una mezcla racémica tiene un ee del 0 %, mientras que un solo enantiómero completamente puro tiene un ee del 100 %. En otro ejemplo, una muestra con un 70 % de un enantiómero y un 30 % del otro tiene un ee del 40 % (70 %-30 %). Por ejemplo, si hay dos enantiómeros y sus porcentajes molares o en peso son R y S, entonces ee se puede calcular como: ee = [(R-S)/(R+S)] * 100 %. Por ejemplo, una mezcla racémica (R = S = 50 %) tiene un ee de 0 %, mientras que un único enantiómero completamente puro tiene un ee del 100 %. En otro ejemplo, una muestra con un 70 % de un enantiómero y un 30 % del otro tiene un ee del 40 % (70 % - 30 %). En algunas realizaciones, los enantiómeros desvelados en el presente documento tienen un exceso enantiomérico de al menos
el 50 %, al menos el 60%, al menos el 70 %, al menos el 80 %, al menos el 85 %, al menos el 90 %, al menos el 91 %, al menos el 92 %, al menos el 93 %, al menos el 94 %, al menos el 95 %, al menos el 96 %, al menos el 97 %, al menos el 98 %, al menos el 99 %, al menos el 99,1 %, al menos el 99,2 %, al menos el 99,3 %, al menos el 99,4 %, al menos el 99,5 %, al menos el 99,6 %, al menos el 99,7 %, al menos el 99,8 % o al menos el 99,9 %.
"Amino" se refiere al radical -NH2.
"Alquilo" se refiere a un radical hidrocarburo de cadena de lineal o ramificada que consiste únicamente en átomos de carbono e hidrógeno, que no contiene insaturación, y que tiene de uno a quince átomos de carbono (por ejemplo, alquilo C-I-C15). En ciertas realizaciones, un alquilo comprende de uno a trece átomos de carbono (por ejemplo, alquilo C1-13). En ciertas realizaciones, un alquilo comprende de uno a diez átomos de carbono (por ejemplo, alquilo C1-10). En ciertas realizaciones, un alquilo comprende de uno a ocho átomos de carbono (por ejemplo, alquilo C1-8). En otras realizaciones, un alquilo comprende de uno a cinco átomos de carbono (por ejemplo, alquilo C1-5). En otras realizaciones, un alquilo comprende de uno a cuatro átomos de carbono (por ejemplo, alquilo C1-4). En otras realizaciones, un alquilo comprende de uno a tres átomos de carbono (por ejemplo, alquilo C1-3). En otras realizaciones, un alquilo comprende de uno a dos átomos de carbono (por ejemplo, alquilo C1-2). En otras realizaciones, un alquilo comprende de un átomo de carbono (por ejemplo, alquilo C1). En otras realizaciones, un alquilo comprende de cinco a quince átomos de carbono (por ejemplo, alquilo C5-15). En otras realizaciones, un alquilo comprende de cinco a diez átomos de carbono (por ejemplo, alquilo C5-10). En otras realizaciones, un alquilo comprende de cinco a diez átomos de carbono (por ejemplo, alquilo C5-8). En otras realizaciones, un alquilo comprende de dos a cinco átomos de carbono (por ejemplo, alquilo C2-5). En otras realizaciones, un alquilo comprende de tres a cinco átomos de carbono (por ejemplo, alquilo C3-5). En otras realizaciones, el grupo alquilo se selecciona entre metilo, etilo, 1 -propilo (n-propilo), 1-metiletilo (/so-propilo), 1 -butilo (n-butilo), 1 -metilpropilo (sec-butilo), 2-metilpropilo (/so-butilo), 1,1-dimetiletilo (terebutilo), 1 -pentilo (n-pentilo). El alquilo está unido al resto de la molécula mediante un enlace sencillo. A menos que se indique específicamente otra cosa en la memoria descriptiva, un grupo alquilo está opcionalmente sustituido con uno o más de los siguientes sustituyentes: halo, ciano, nitro, oxo, tioxo, imino, oximo, trimetilsilanilo, -ORa, -SRa, -OC(O)-Ra, -N(Ra)2, -C(O)Ra, -C(O)ORa, -C(O)N(Ra)2, -N(Ra)C(O)ORa, -OC(O)-N(Ra)2, -N(Ra)C(O)Ra, -N(Ra)S(O)tRa (en donde t es 1 o 2), -S(O)tORa (en donde t es 1 o 2), -S(O)tRa (en donde t es 1 o 2) y -S(O)tN(Ra)2 (en donde t es 1 o 2), en donde cada Ra es independientemente hidrógeno, alquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), fluoroalquilo, carbociclilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), carbociclilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), arilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), aralquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heteroarilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi, o trifluorometilo) o heteroarilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo).
"Arilo" se refiere a un radical obtenido a partir de un sistema aromático de anillos, monocíclico o multicíclico, mediante la retirada de un átomo de hidrógeno de un átomo de carbono del anillo. El sistema aromático de anillos, monocíclico o multicíclico, contiene únicamente hidrógeno y carbono, de cinco a dieciocho átomos de carbono, en donde al menos uno de los anillos en el sistema de anillos está totalmente insaturado, es decir, contiene un sistema de electrones n cíclico, deslocalizado (4n+2) de acuerdo con la teoría de Hückel. El sistema de anillo del que se obtienen a partir de los grupos arilo incluye, pero no se limitan a, grupos, tales como benceno, fluoreno, indano, indeno, tetralina y naftaleno. A menos que se indique específicamente otra cosa en la memoria descriptiva, el término "arilo" o el prefijo "ar-" (tal como en "aralquilo") pretende incluir radicales arilo opcionalmente sustituidos con uno o más sustituyentes seleccionados independientemente entre alquilo, alquenilo, alquinilo, halo, fluoroalquilo, ciano, nitro, arilo opcionalmente sustituido, aralquilo opcionalmente sustituido, aralquenilo opcionalmente sustituido, aralquinilo opcionalmente sustituido, carbociclilo opcionalmente sustituido, carbociclilalquilo opcionalmente sustituido, heterociclilo opcionalmente sustituido, heterociclilalquilo opcionalmente sustituido, heteroarilo opcionalmente sustituido, heteroarilalquilo opcionalmente sustituido, -Rb-ORa, -Rb-OC(O)-Ra, -Rb-OC(O)-ORa, -Rb-OC(O)-N(Ra)2, -Rb-N(Ra)2, -Rb-C(O)Ra, -Rb-C(O)ORa, -Rb-C(O)N(Ra)2, -Rb-O-Rc-C(O)N(Ra)2, -Rb-N(Ra)C(O)ORa, -Rb-N(Ra)C(O)Ra, -R b-N(Ra)s(O)tRa (en donde t es 1 o 2), -Rb-s(o)tRa (en donde t es 1 o 2), -Rb-S(O)tORa (en donde t es 1 o 2) y -Rb-S(O)tN(Ra)2 (en donde t es 1 o 2), en donde cada Ra es independientemente hidrógeno, alquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), fluoroalquilo, cicloalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), cicloalquilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), arilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), aralquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heteroarilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi, o trifluorometilo) o heteroarilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), cada Rb es independientemente un enlace directo o una cadena de alquileno o alquenileno lineal o ramificada, y Rc es una cadena de alquileno o alquenileno lineal o ramificada, y en donde cada uno de los sustituyentes anteriores está sin sustituir a menos que se indique otra cosa.
"Alquenilo" se refiere a un grupo radical hidrocarburo de cadena de lineal o ramificada que consiste únicamente en átomos de carbono y átomos de hidrógeno, que contiene al menos un doble enlace carbono-carbono y que tiene de dos a doce átomos de carbono. En ciertas realizaciones, un alquenilo comprende de dos a ocho átomos de carbono.
En otras realizaciones, un alquenilo comprende de dos a cuatro átomos de carbono. El alquenilo está unido al resto de la molécula mediante un enlace sencillo, por ejemplo, etenilo (es decir, vinilo), prop-1-enilo (es decir, alilo), but-1-enilo, pent-1-enilo, penta-1,4-dienilo, y similares. A menos que se indique específicamente otra cosa en la memoria descriptiva, un grupo alquenilo está opcionalmente sustituido con uno o más de los siguientes sustituyentes: halo, ciano, nitro, oxo, tioxo, imino, oximo, trimetilsilanilo, -ORa, -SRa, -OC(O)-Ra, -N(Ra)2, -C(O)Ra, -C(O)ORa, -C(O)N(Ra)2, -N(Ra)C(O)ORa, -OC(O)-N(Ra)2, -N(Ra)C(O)Ra, -N(Ra)S(O)tRa (en donde t es 1 o 2), -S(O)tORa (en donde t es 1 o 2), -S(O)tRa (en donde t es 1 o 2) y -S(O)tN(Ra)2 (en donde t es 1 o 2), en donde cada Ra es independientemente hidrógeno, alquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), fluoroalquilo, carbociclilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), carbociclilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), arilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), aralquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heteroarilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi, o trifluorometilo) o heteroarilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo).
"Alquinilo" se refiere a un grupo radical de cadena de hidrocarburo lineal o ramificada que consiste únicamente en átomos de carbono e hidrógeno, que contiene al menos un triple enlace carbono-carbono, que tiene de dos a doce átomos de carbono. En ciertas realizaciones, un alquinilo comprende de dos a ocho átomos de carbono. En otras realizaciones, un alquinilo tiene de dos a cuatro átomos de carbono. El alquinilo está unido al resto de la molécula mediante un enlace sencillo, por ejemplo, etinilo, propinilo, butinilo, pentinilo, hexinilo y similares. A menos que se indique específicamente otra cosa en la memoria descriptiva, un grupo alquinilo está opcionalmente sustituido con uno o más de los siguientes sustituyentes: halo, ciano, nitro, oxo, tioxo, imino, oximo, trimetilsilanilo, -ORa, -SRa, -OC(O)-Ra, -N(Ra)2, -C(O)Ra, -C(O)ORa, -C(O)N(Ra)2, -N(Ra)C(O)ORa, -OC(O)-N(Ra)2, -N(Ra)C(O)Ra, -N(Ra)S(O)tRa (en donde t es 1 o 2), -S(O)tORa (en donde t es 1 o 2), -S(O)tRa (en donde t es 1 o 2) y -S(O)tN(Ra)2 (en donde t es 1 o 2), en donde cada Ra es independientemente hidrógeno, alquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), fluoroalquilo, carbociclilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), carbociclilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), arilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), aralquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heteroarilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi, o trifluorometilo) o heteroarilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo).
"Alquileno" o "cadena de alquileno" se refiere a una cadena de hidrocarburo divalente, lineal o ramificada, que une el resto de la molécula a un grupo radical, que consiste únicamente en carbono e hidrógeno, que no contiene insaturación y tiene de uno a doce átomos de carbono, por ejemplo, metileno, etileno, propileno, n-butileno y similares. La cadena de alquileno está unida al resto de la molécula a través de un enlace sencillo y al grupo radical a través de un enlace sencillo. Los puntos de unión de la cadena de alquileno al resto de la molécula y al grupo radical pueden ser a través de un carbono en la cadena de alquileno o a través de dos carbonos cualesquiera dentro de la cadena. En ciertas realizaciones, un alquileno comprende de uno a ocho átomos de carbono (por ejemplo, alquileno C1-8). En otras realizaciones, un alquileno comprende de uno a cinco átomos de carbono (por ejemplo, alquileno C1-5). En otras realizaciones, un alquileno comprende de uno a cuatro átomos de carbono (por ejemplo, alquileno C1-4). En otras realizaciones, un alquileno comprende de uno a tres átomos de carbono (por ejemplo, alquileno C1-3). En otras realizaciones, un alquileno comprende de uno a dos átomos de carbono (por ejemplo, alquileno C1-2). En otras realizaciones, un alquileno comprende un átomo de carbono (por ejemplo, alquileno C1). En otras realizaciones, un alquileno comprende de cinco a ocho átomos de carbono (por ejemplo, alquileno C5-8). En otras realizaciones, un alquileno comprende de dos a cinco átomos de carbono (por ejemplo, alquileno C2-5). En otras realizaciones, un alquileno comprende de tres a cinco átomos de carbono (por ejemplo, alquileno C3-5). A menos que se indique específicamente otra cosa en la memoria descriptiva, una cadena de alquileno está opcionalmente sustituida con uno o más de los siguientes sustituyentes: halo, ciano, nitro, oxo, tioxo, imino, oximo, trimetilsilanilo, -ORa, -SRa, -OC(O)-Ra, -N(Ra)2, -C(O)Ra, -C(O)ORa, -C(O)N(Ra)2, -N(Ra)C(O)ORa, -OC(O)-N(Ra)2, -N(Ra)C(O)Ra, -N(Ra)S(O)tRa (en donde t es 1 o 2), -S(O)tORa (en donde t es 1 o 2), -S(O)tRa (en donde t es 1 o 2) y -S(O)tN(Ra)2 (en donde t es 1 o 2), en donde cada Ra es independientemente hidrógeno, alquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), fluoroalquilo, carbociclilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), carbociclilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), arilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), aralquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heteroarilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi, o trifluorometilo) o heteroarilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo).
"Aralquilo" se refiere a un radical de fórmula -Rc-arilo en donde Rc es una cadena de alquileno como se ha definido anteriormente, por ejemplo, metileno, etileno y similares. La parte de la cadena de alquileno del radical aralquilo está opcionalmente sustituida como se ha descrito anteriormente para una cadena de alquileno. La parte de arilo del radical aralquilo está opcionalmente sustituida como se ha descrito anteriormente para un grupo arilo.
"Aralquenilo" se refiere a un radical de fórmula -Rd-arilo en donde Rd es una cadena de alquenileno como se ha definido anteriormente. La parte arilo del radical aralquenilo está opcionalmente sustituida como se ha descrito anteriormente para un grupo arilo. La parte de la cadena de alquenileno del radical aralquenilo está opcionalmente sustituida como se ha definido anteriormente para un grupo alquenileno.
"Aralquinilo" se refiere a un radical de fórmula -Re-arilo, en donde Re es una cadena de alquinileno como se ha definido anteriormente. La parte de arilo del radical aralquinilo está opcionalmente sustituida como se ha descrito anteriormente para un grupo arilo. La parte de la cadena de alquinileno del radical aralquinilo está opcionalmente sustituida como se ha definido anteriormente para una cadena de alquinileno.
"Carbociclilo" se refiere a un radical de hidrocarburo no aromático estable, monocíclico o policíclico, que consiste únicamente en átomos de carbono e hidrógeno, que incluye sistemas de anillo condensados o puenteados, que tienen de tres a quince átomos de carbono. En ciertas realizaciones, un carbociclilo comprende de tres a diez átomos de carbono. En otras realizaciones, un carbociclilo comprende de cinco a siete átomos de carbono. El carbociclilo está unido al resto de la molécula mediante un enlace sencillo. El carbociclilo puede ser saturado, (es decir, que contienen enlaces C-C únicos solamente) o insaturados (es decir, que contiene uno o más dobles o triples enlaces). Un radical carbociclilo completamente saturado también se denomina "cicloalquilo". Los ejemplos de cicloalquilos monocíclicos incluyen ciclopropilo, por ejemplo, ciclopropilo, ciclobutilo, ciclopentilo, ciclohexilo, cicloheptilo y ciclooctilo. Un carbociclilo insaturado también se denomina "cicloalquenilo". Los ejemplos de cicloalquenilos monocíclicos incluyen, por ejemplo, ciclopentenilo, ciclohexenilo, cicloheptenilo y ciclooctenilo. Los radicales de carbociclilo policíclicos incluyen, por ejemplo, adamantilo, norbornilo (es decir, biciclo[2.2.1]heptanilo), norbornenilo, decalinilo, 7,7-dimetilbiciclo[2.2.1]heptanilo y similares. A menos que se indique otra cosa específicamente en la memoria descriptiva, el término "carbociclilo" pretende incluir radicales carbociclilo que están opcionalmente sustituidos con uno o más sustituyentes seleccionados independientemente de alquilo, alquenilo, alquinilo, halo, fluoroalquilo, oxo, tioxo, ciano, nitro, arilo opcionalmente sustituido, aralquilo opcionalmente sustituido, aralquenilo opcionalmente sustituido, aralquinilo opcionalmente sustituido, carbociclilo opcionalmente sustituido, carbociclilalquilo opcionalmente sustituido, heterociclilo opcionalmente sustituido, heterociclilalquilo opcionalmente sustituido, heteroarilo opcionalmente sustituido, heteroarilalquilo opcionalmente sustituido, -Rb-ORa, -Rb-OC(O)-Ra, -Rb-OC(O)-ORa, -Rb-OC(O)-N(Ra)2, -Rb-N(Ra)2, -Rb-C(O)Ra, -Rb-C(O)ORa, -Rb-C(O)N(Ra)2, -Rb-O-Rc-C(O)N(Ra)2, -Rb-N(Ra)C(O)ORa, -Rb-N(Ra)C(O)Ra, -Rb-N(Ra)S(O)tRa (en donde t es 1 o 2), -Rb-S(O)tRa (en donde t es 1 o 2), -Rb-S(O)tORa (en donde t es 1 o 2) y -Rb-S(O)tN(Ra)2 (en donde t es 1 o 2), en donde cada Ra es independientemente hidrógeno, alquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), fluoroalquilo, cicloalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), cicloalquilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), arilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), aralquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heteroarilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi, o trifluorometilo) o heteroarilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), cada Rb es independientemente un enlace directo o una cadena de alquileno o alquenileno lineal o ramificada, y Rc es una cadena de alquileno o alquenileno lineal o ramificada, y en donde cada uno de los sustituyentes anteriores está sin sustituir a menos que se indique otra cosa.
"Fluoroalquilo" se refiere a un radical alquilo, como se ha definido anteriormente, que está sustituido con uno o más radicales de flúor, como se ha definido anteriormente, por ejemplo, trifluorometilo, difluorometilo, fluorometilo, 2,2,2-trifluoroetilo, 1-fluorometil-2-fluoroetilo, y similares. La parte de alquilo del radical fluoroalquilo puede estar opcionalmente sustituida como se ha definido anteriormente para un grupo alquilo.
"Halo" o "halógeno" se refiere a sustituyentes de bromo, cloro, flúor o yodo.
"Heterociclilo" se refiere a un radical de anillo no aromático estable de 3 a 18 miembros que comprende de dos a doce átomos de carbono y de uno a seis heteroátomos seleccionados entre nitrógeno, oxígeno y azufre. A menos que se indique específicamente otra cosa en la memoria descriptiva, el radical heterociclilo es un monocíclico, bicíclico, tricíclico o tetracíclico, que puede incluir sistemas de anillos condensados o unidos por puente. Los heteroátomos en el radical heterociclilo pueden estar opcionalmente oxidados. Uno o más átomos de nitrógeno, si están presentes, se cuaternizan opcionalmente. El radical heterociclilo está parcial o totalmente saturado. El heterociclilo puede estar unido al resto de la molécula a través de cualquier átomo del anillo o anillos. Los ejemplos de tales radicales heterociclilo incluyen, pero no se limitan a, dioxolanilo, tienil[1,3]ditianilo, decahidroisoquinolilo, imidazolinilo, imidazolidinilo, isotiazolidinilo, isoxazolidinilo, morfolinilo, octahidroindolilo, octahidroisoindolilo, 2-oxopiperazinilo, 2-oxopiperidinilo, 2-oxopirrolidinilo, oxazolidinilo, piperidinilo, piperazinilo, 4-piperidonilo, pirrolidinilo, pirazolidinilo, quinuclidinilo, tiazolidinilo, tetrahidrofurilo, tritianilo, tetrahidropiranilo, tiomorfolinilo, tiamorfolinilo, 1-oxo-tiomorfolinilo y 1,1-dioxotiomorfolinilo. A menos que se indique específicamente otra cosa en la memoria descriptiva, el término "heterociclilo" pretende incluir radicales heterociclilo como se han definido anteriormente que están opcionalmente sustituidos con uno o más sustituyentes seleccionados entre alquilo, alquenilo, alquinilo, halo, fluoroalquilo, oxo, tioxo, ciano, nitro, arilo opcionalmente sustituido, aralquilo opcionalmente sustituido, aralquenilo opcionalmente sustituido, aralquinilo opcionalmente sustituido, carbociclilo opcionalmente sustituido, carbociclilalquilo opcionalmente sustituido, heterociclilo opcionalmente sustituido, heterociclilalquilo opcionalmente sustituido, heteroarilo opcionalmente sustituido, heteroarilalquilo opcionalmente sustituido, -Rb-ORa, -Rb-OC(O)-Ra, -Rb-OC(O)-ORa, -Rb-OC(O)-N(Ra)2, -Rb
N(Ra)2, -Rb-C(O)Ra, -Rb-C(O)ORa, -Rb-C(O)N(Ra)2, -Rb-O-Rc-C(O)N(Ra)2, -Rb-N(Ra)C(O)ORa, -Rb-N(Ra)C(O)Ra, -R b-N(Ra)s(O)tRa (en donde t es 1 o 2), -Rb-s(o)tRa (en donde t es 1 o 2), -Rb-S(O)tORa (en donde t es 1 o 2) y -Rb-S(O)tN(Ra)2 (en donde t es 1 o 2), en donde cada Ra es independientemente hidrógeno, alquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), fluoroalquilo, cicloalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), cicloalquilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), arilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), aralquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heteroarilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi, o trifluorometilo) o heteroarilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), cada Rb es independientemente un enlace directo o una cadena de alquileno o alquenileno lineal o ramificada, y Rc es una cadena de alquileno o alquenileno lineal o ramificada, y en donde cada uno de los sustituyentes anteriores está sin sustituir a menos que se indique otra cosa.
"Heterociclilalquilo" se refiere a un radical de fórmula -Rc-heterociclilo en donde Rc es una cadena de alquileno como se ha definido anteriormente. Si el heterociclilo es un heterociclilo que contiene nitrógeno, el heterociclilo está opcionalmente unido al radical alquilo en el átomo de nitrógeno. La cadena de alquileno del radical heterociclilalquilo está opcionalmente sustituida como se ha definido anteriormente para una cadena de alquileno. La parte de heterociclilo del radical heterociclilalquilo está opcionalmente sustituida como se ha definido anteriormente para un grupo heterociclilo.
"Heteroarilo" se refiere a un radical derivado de un radical de anillo aromático de 3 a 18 miembros que comprende de dos a diecisiete átomos de carbono y de uno a seis heteroátomos seleccionados de nitrógeno, oxígeno y azufre. Como se usa en el presente documento, el radical heteroarilo puede ser un sistema de anillo monocíclico, bicíclico, tricíclico o tetracíclico, en donde al menos uno de los anillos en el sistema de anillos está totalmente insaturado, es decir, contiene un sistema cíclico de electrones n deslocalizado (4n+2) de acuerdo con la teoría de Hückel. Heteroarilo incluye sistemas de anillos condensados o puenteados. El heteroátomo o heteroátomos en el radical heteroarilo están opcionalmente oxidados. Uno o más átomos de nitrógeno, si están presentes, se cuaternizan opcionalmente. El heteroarilo está unido al resto de la molécula a través de cualquier átomo del anillo o anillos. Los ejemplos de heteroarilos incluyen, pero no se limitan a, azepinilo, acridinilo, bencimidazolilo, benzindolilo, 1,3-benzodioxolilo, benzofuranilo, benzooxazolilo, benzo[d]tiazolilo, benzotiadiazolilo, benzo[b][1,4]dioxepinilo, benzo[b][1,4]oxazinilo, 1,4-benzodioxanilo, benzonaftofuranilo, benzoxazolilo, benzodioxolilo, benzodioxinilo, benzopiranilo, benzopiranonilo, benzofuranilo, benzofuranonilo, benzotienilo (benzotiofenilo), benzotieno[3,2-d]pirimidinilo, benzotriazolilo, benzo[4,6]imidazo[1,2-a]piridinilo, carbazolilo, cinolinilo, ciclopenta[d]pirimidinilo, 6,7-dihidro-5H-ciclopenta[4,5]tieno[2,3-d]pirimidinilo, 5,6-dihidrobenzo[h]quinazolinilo, 5,6-dihidrobenzo[h]cinolinilo, 6,7-dihidro-5H-benzo[6,7]ciclohepta[1,2-c]piridazinilo, dibenzofuranilo, dibenzotiofenilo, furanilo, furanonilo, furo[3,2-c]piridinilo, 5,6,7,8,9,10-hexahidrocicloocta[d]pirimidinilo, 5,6,7,8,9,10-hexahidrocicloocta[d]piridazinilo, 5,6,7,8,9,10-hexahidrocicloocta[d]piridinilo, isotiazolilo, imidazolilo, indazolilo, indolilo, indazolilo, isoindolilo, indolinilo, isoindolinilo, isoquinolilo, indolizinilo, isoxazolilo, 5,8-metano-5,6,7,8-tetrahidroquinazolinilo, naftiridinilo, 1,6-naftiridinonilo, oxadiazolilo, 2-oxoazepinilo, oxazolilo, oxiranilo, 5,6,6a,7,8,9,10,10a-octahidrobenzo[h]quinazolinilo, 1-fenil-1H-pirrolilo, fenazinilo, fenotiazinilo, fenoxazinilo, ftalazinilo, pteridinilo, purinilo, pirrolilo, pirazolilo, pirazolo[3,4-d]pirimidinilo, piridinilo, pirido[3,2-d]pirimidinilo, pirido[3,4-d]pirimidinilo, pirazinilo, pirimidinilo, piridazinilo, pirrolilo, quinazolinilo, quinoxalinilo, quinolinilo, isoquinolinilo, tetrahidroquinolinilo, 5,6,7,8-tetrahidroquinazolinilo, 5,6,7,8-tetrahidrobenzo[4,5]tieno[2,3-d]pirimidinilo, 6,7,8,9-tetrahidro-5H-ciclohepta[4,5]tieno[2,3-d]pirimidinilo, 5,6,7,8-tetrahidropirido[4,5-c]piridazinilo, tiazolilo, tiadiazolilo, triazolilo, tetrazolilo, triazinilo, tieno[2,3-d]pirimidinilo, tieno[3,2-d]pirimidinilo, tieno[2,3-c]pridinilo y tiofenilo (es decir, tienilo). A menos que se indique específicamente otra cosa en la memoria descriptiva, el término "heteroarilo" pretende incluir radicales heteroarilo como se han definido anteriormente que están opcionalmente sustituidos con uno o más sustituyentes seleccionados entre alquilo, alquenilo, alquinilo, halo, fluoroalquilo, haloalquenilo, haloalquinilo, oxo, tioxo, ciano, nitro, arilo opcionalmente sustituido, aralquilo opcionalmente sustituido, aralquenilo opcionalmente sustituido, aralquinilo opcionalmente sustituido, carbociclilo opcionalmente sustituido, carbociclilalquilo opcionalmente sustituido, heterociclilo opcionalmente sustituido, heterociclilalquilo opcionalmente sustituido, heteroarilo opcionalmente sustituido, heteroarilalquilo opcionalmente sustituido, -Rb-ORa, -Rb-OC(O)-Ra, -Rb-OC(O)-ORa, -Rb-OC(O)-N(Ra)2, -Rb-N(Ra)2, -Rb-C(O)Ra, -Rb-C(O)ORa, -Rb-C(O)N(Ra)2, -Rb-O-Rc-C(O)N(Ra)2, -Rb-N(Ra)C(O)ORa, -Rb-N(Ra)C(O)Ra, -R b-N(Ra)S(O)tRa (en donde t es 1 o 2), -Rb-S(O)tRa (en donde t es 1 o 2), -Rb-S(O)tORa (en donde t es 1 o 2) y -Rb-S(O)tN(Ra)2 (en donde t es 1 o 2), en donde cada Ra es independientemente hidrógeno, alquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), fluoroalquilo, cicloalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), cicloalquilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), arilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), aralquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heterociclilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), heteroarilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi, o trifluorometilo) o heteroarilalquilo (opcionalmente sustituido con halógeno, hidroxi, metoxi o trifluorometilo), cada Rb es independientemente un enlace directo o una cadena de alquileno o alquenileno lineal o ramificada, y Rc es una cadena de alquileno o alquenileno lineal o ramificada, y en donde cada uno de los sustituyentes anteriores está sin sustituir a menos que se indique otra cosa.
Un "tautómero" se refiere a una molécula en donde es posible un desplazamiento de protón de un átomo de una
molécula a otro átomo de la misma molécula. Los compuestos presentados en el presente documento pueden, en ciertas realizaciones, existir como tautómeros. En circunstancias en las que es posible la tautomerización, existirá un equilibrio químico de los tautómeros. La relación exacta de los tautómeros depende de varios factores, incluyendo el estado físico, temperatura, el disolvente y el pH. Algunos ejemplos de equilibrio tautomérico incluyen:
"Opcional" u "opcionalmente" significa que un suceso o circunstancia descrito a continuación puede suceder o no y que la descripción incluye casos en los que el suceso o circunstancia ocurre y casos en los que no. Por ejemplo, "arilo opcionalmente sustituido " significa que el radical arilo puede estar sustituido o no y que la descripción incluye tanto radicales arilo sustituidos como radicales arilo que no tienen sustitución.
"Sal farmacéuticamente aceptable" incluye sales de adición de ácidos y de bases. Se pretende que una sal farmacéuticamente aceptable de cualquiera de los compuestos derivados heterocíclicos sustituidos descritos en el presente documento abarque todas y cada una de las formas de sal farmacéuticamente adecuadas. Son sales farmacéuticamente aceptables preferidas de los compuestos descritos en el presente documento, sales de adición de ácidos farmacéuticamente aceptables y sales de adición de bases farmacéuticamente aceptables.
"Sal de adición de ácidos farmacéuticamente aceptable" se refiere a aquellas sales que conservan la eficacia biológica y propiedades de las bases libres, que no son biológicamente o de otra manera indeseables, y que se forman con ácidos inorgánicos tales como ácido clorhídrico, ácido bromhídrico, ácido sulfúrico, ácido nítrico, ácido fosfórico, ácido yodhídrico, ácido fluorhídrico, ácido fosforoso, y similares. También se incluyen las sales que se forman con ácidos orgánicos, tales como ácidos alifáticos mono y dicarboxílicos, ácidos alcanoicos sustituidos con fenilo, ácidos hidroxialcanoicos, ácidos alcanodioicos, ácidos aromáticos, ácidos sulfónicos alifáticos y aromáticos, etc., e incluyen, por ejemplo, ácido acético, ácido trifluoroacético, ácido propiónico, ácido glicólico, ácido pirúvico, ácido oxálico, ácido maleico, ácido malónico, ácido succínico, ácido fumárico, ácido tartárico, ácido cítrico, ácido benzoico, ácido cinámico, ácido mandélico, ácido metanosulfónico, ácido etanosulfónico, ácido p-toluenosulfónico, ácido salicílico y similares. Por lo tanto, las sales de ejemplo incluyen sulfatos, pirosulfatos, bisulfatos, sulfitos, bisulfitos, nitratos, fosfatos, monohidrogenofosfatos, dihidrogenofosfatos, metafosfatos, pirofosfatos, cloruros, bromuros, yoduros, acetatos, trifluoroacetatos, propionatos, caprilatos, isobutiratos, oxalatos, malonatos, suberatos de succinato, sebacatos, fumaratos, maleatos, mandelatos, benzoatos, clorobenzoatos, metilbenzoatos, dinitrobenzoatos, ftalatos, bencenosulfonatos, toluenosulfonatos, fenilacetatos, citratos, lactatos, malatos, tartratos, metanosulfonatos y similares. También se contemplan sales de aminoácidos, tales como arginatos, gluconatos y galacturonatos (véase, por ejemplo, Berge S.M. et al., "Pharmaceutical Salts", Journal of Pharmaceutical Science, 66:1-19 (1997)). Pueden prepararse sales de adición de ácidos de compuestos básicos poniendo en contacto las formas de base libre con una cantidad suficiente del ácido deseado para producir la sal de acuerdo con procedimientos y técnicas con las que está familiarizado un técnico experto.
"Sal de adición de bases farmacéuticamente aceptable" se refiere a aquellas sales que conservan la eficacia biológica y propiedades de los ácidos libres, que no son biológicamente o de otro modo indeseables. Estas sales se preparan
a partir de la adición de una base inorgánica o de una base orgánica al ácido libre. Pueden formarse sales de adición de bases farmacéuticamente aceptables con metales o aminas, tales como metales alcalinos o alcalinotérreos o aminas orgánicas. Las sales obtenidas a partir de bases inorgánicas incluyen, pero no se limitan a, sodio, potasio, litio, amonio, calcio, magnesio, hierro, cinc, cobre, manganeso, aluminio y similares. Las sales obtenidas a partir de bases orgánicas incluyen, pero no se limitan a, sales de aminas primarias, secundarias y terciarias, aminas sustituidas, incluyendo aminas sustituidas de origen natural, aminas cíclicas y resinas de intercambio iónico básicas, por ejemplo, isopropilamina, trimetilamina, dietilamina, trietilamina, tripropilamina, etanolamina, dietanolamina, 2-dimetilaminoetanol, 2-dietilaminoetanol, diciclohexilamina, lisina, arginina, histidina, cafeína, procaína, N,N-dibenciletilendiamina, cloroprocaína, hidrabamina, colina, betaína, etilendiamina, etilendianilina, N-metilglucamina, glucosamina, metilglucamina, teobromina, purinas, piperazina, piperidina, N-etilpiperidina, resinas de poliamina y similares. Véase Berge et al., citado anteriormente.
A menos que se indique otra cosa, las estructuras representadas en el presente documento pretenden incluir compuestos que difieren solo en la presencia de uno o más átomos enriquecidos isotópicamente. Por ejemplo, los compuestos que tienen las presentes estructuras excepto por la sustitución de un hidrógeno por un deuterio o tritio, o la sustitución de un carbono por carbono enriquecido con 13C o 14C están dentro del alcance de la presente divulgación.
Los compuestos de la presente divulgación contienen opcionalmente proporciones no naturales de isótopos atómicos en uno o más átomos que constituyen tales compuestos. Por ejemplo, los compuestos pueden estar marcados con isótopos, tal como, por ejemplo, deuterio (2H), tritio (3H), yodo-125 (125l) o carbono-14 (14C). La sustitución isotópica con 2H, 11C, 13C, 14C, 15C, 12N, 13N, 15N, 16N, 16O, 17O, 14F, 15F, 16F, 17F, 18F, 33S, 34S, 35S, 36S, 35Cl, 37Cl, 79Br, 81Br, 125I están todas contempladas. Todas las variaciones isotópicas de los compuestos de la presente invención, ya sean radioactivas o no, se incluyen dentro del alcance de la presente invención.
En ciertas realizaciones, los compuestos desvelados en el presente documento tienen algunos o todos los átomos de 1H reemplazados por átomos de 2H. Los métodos de síntesis para compuestos derivados heterocíclicos sustituidos que contienen deuterio son conocidos en la técnica e incluyen, a modo de ejemplo no limitado únicamente, los siguientes métodos sintéticos.
"Grupo saliente" se define como un término que sería entendido por un experto en la materia; es decir, un grupo en un carbono donde, tras la reacción, se va a formar un nuevo enlace y el carbono pierde el grupo tras la formación del nuevo enlace. Un ejemplo típico que emplea un grupo saliente adecuado es una reacción de sustitución nucleófila, por ejemplo, en un carbono con hibridación sp3 (Sn2 o Sni), por ejemplo, en donde el grupo saliente es un haluro, como un bromuro, y el reactivo puede ser bromuro de bencilo. Otro ejemplo típico de tal reacción es una reacción de sustitución aromática nucleófila (SNAr). Otro ejemplo es una reacción de inserción (por ejemplo, por un metal de transición) en el enlace entre un compañero de reacción aromático que lleva un grupo saliente seguido de un acoplamiento reductor. "Grupo saliente" no se limita a tales restricciones mecánicas. Ejemplos de grupos salientes adecuados incluyen halógenos (flúor, cloro, bromo o yodo), aril o alquilsulfonatos opcionalmente sustituidos, fosfonatos, azidas y -S(O)o-2R en donde R es, por ejemplo, alquilo opcionalmente sustituido, arilo opcionalmente sustituido o heteroarilo opcionalmente sustituido. Los expertos en la técnica de la síntesis orgánica identificarán fácilmente los grupos salientes adecuados para realizar una reacción deseada en diferentes condiciones de reacción. Características y ejemplos no limitantes de grupos salientes se pueden hallar, por ejemplo, en Organic Chemistry, 2a ed., Francis Carey (1992), páginas 328-331; Introduction to Organic Chemistry, 2a ed., Andrew Streitwieser y Clayton Heathcock (1981), páginas 169-171; y Organic Chemistry, 5a Ed., John McMurry, Brooks/Cole Publishing (2000), páginas 398 y 408.
"Grupo protector" se refiere a un grupo de átomos que enmascaran, reducen o evitan la reactividad del grupo funcional cuando se une a un grupo funcional reactivo en una molécula. Normalmente, un grupo protector puede retirarse selectivamente según se desee durante el curso de una síntesis. Ejemplos de grupos protectores pueden encontrarse en Wuts y Greene, "Greene's Protective Groups in Organic Synthesis", 4a Ed., Wiley Interscience (2006), y Harrison et al., Compendium of Synthetic Organic Methods, vol. 1-8, 1971-1996, John Wiley & Sons, NY. Los grupos funcionales que pueden tener un grupo protector incluyen, entre otros, grupos hidroxi, amino y carboxi. Los grupos protectores de amina representativos incluyen, pero no se limitan a, formilo, acetilo (Ac), trifluoroacetilo, bencilo (Bn), benzoílo (Bz), carbamato, benciloxicarbonilo ("CBZ"), p-metoxibencilcarbonilo (Moz o MeOZ), terc-butoxicarbonilo ("Boc"), trimetilsililo ("TMS"), 2-trimetilsilil-etanosulfonilo ("SES"), grupos tritilo y tritilo sustituido, aliloxicarbonilo, 9-fiuorenilmetiloxicarbonilo ("FMOC"), nitro-veratriloxicarbonilo ("n Vo C"), p-metoxibencilo (PMB), tosilo (Ts) y similares.
"Solvato" puede incluir, pero no se limita a, un solvato que retiene una o más de las actividades y/o propiedades del compuesto y que no es indeseable. Ejemplos de solvatos incluyen, pero no se limitan a, un compuesto en combinación con agua, isopropanol, etanol, metanol, DMSO, acetato de etilo, ácido acético, etanolamina o combinaciones de los mismos.
"Sal" puede incluir, pero no se limita a, sales que retienen una o más de las actividades y propiedades de los ácidos y bases libres y que no son indeseables. Ejemplos ilustrativos de sales incluyen, pero no se limitan a, sulfatos, pirosulfatos, bisulfatos, sulfitos, bisulfitos, fosfatos, monohidrogenofosfatos, dihidrogenofosfatos, metafosfatos, pirofosfatos, cloruros, bromuros, yoduros, acetatos, propionatos, decanoatos, caprilatos, acrilatos, formiatos,
isobutiratos, caproatos, heptanoatos, propiolatos, oxalatos, malonatos, succinatos, suberatos, sebacatos, fumaratos, maleatos, butina-1,4-dioatos, hexina-1,6-dioatos, benzoatos, clorobenzoatos, metilbenzoatos, dinitrobenzoatos, hidroxibenzoatos, metoxibenzoatos, ftalatos, sulfonatos, xilenosulfonatos, fenilacetatos, fenilpropionatos, fenilbutiratos, citratos, lactatos, y-hidroxibutiratos, glicolatos, tartratos, metanosulfonatos, propanosulfonatos, naftaleno-1-sulfonatos, naftaleno-2-sulfonatos y mandelatos.
"Disolvente" puede incluir, pero no se limita a, disolventes no polares, apróticos polares y próticos polares. Ejemplos ilustrativos de disolventes no polares incluyen, pero no se limitan a, pentano, ciclopentano, hexano, ciclohexano, benceno, tolueno, 1,4-dioxano, cloroformo, éter dietílico y diclorometano (DCM). Ejemplos ilustrativos de disolventes apróticos polares incluyen, pero no se limitan a, tetrahidrofurano (THF), acetato de etilo, acetona, dimetilformamida (DMF), acetonitrilo (MeCN), dimetilsulfóxido (DMSO), nitrometano y carbonato de propileno. Ejemplos ilustrativos de disolventes próticos polares incluyen, pero no se limitan a, ácido fórmico, n-butanol, isopropanol (IPA), n-propanol, etanol, metanol, ácido acético y agua.
"Metal de transición" puede incluir, pero no se limita a, escandio, titanio, vanadio, cromo, manganeso, hierro, cobalto, níquel, cobre, cinc, itrio, circonio, niobio, molibdeno, tecnecio, rutenio, rodio, paladio, plata, cadmio, hafnio, tántalo, wolframio, renio, osmio, iridio, platino, oro, mercurio, rutherfordio, dubnio, seaborgio, bohrio, hassio, meitnerio, ununnilio, unununio y ununbio.
"Ácido" se refiere a moléculas o iones capaces de donar un hidrón (protón o ion hidrógeno H+), o, como alternativa, capaz de formar un enlace covalente con un par de electrones (por ejemplo, un ácido de Lewis). Los ácidos pueden incluir, pero no se limita a, ácidos minerales, ácidos sulfónicos, ácidos carboxílicos, ácidos carboxílicos halogenados, ácidos carboxílicos vinílogos y ácidos nucleicos. Los ejemplos ilustrativos de ácidos minerales incluyen, pero no se limitan a, haluros de hidrógeno y sus soluciones: ácido fluorhídrico (HF), ácido clorhídrico (HCl), ácido bromhídrico (HBr), ácido yodhídrico (HI); oxoácidos halógenos: ácido hipocloroso (HClO), ácido cloroso (HCO2), ácido clórico (HCO3), ácido perclórico (HCO4) y análogos correspondientes para bromo y yodo, y ácido hipofluoroso (HFO); ácido sulfúrico (H2SO4); ácido fluorosulfúrico (HSO3F); ácido nítrico (HNO3); ácido fosfórico (H3PO4); ácido fluoroantimónico (HSbF6); ácido fluorobórico (HBF4); ácido hexafluorofosfórico (HPF6); ácido crómico (H2CrO4); y ácido bórico (H3BO3). Los ejemplos ilustrativos de ácido sulfónicos incluyen, pero no se limitan a, ácido metanosulfónico (o ácido mesílico, CH3SO3H), ácido etanosulfónico (o ácido esílico, CH3CH2SO3H), ácido bencenosulfónico (o ácido besílico, C6H5SO3H), ácido p-toluenosulfónico (o ácido tosílico, CH3C6H4SO3H), ácido trifluorometanosulfónico (o ácido tríflico, CF3SO3H) y ácido poliestirenosulfónico (poliestireno sulfonado, [CH2CH(C6H4)SO3H]n). Los ejemplos ilustrativos de ácidos carboxílicos incluyen, pero no se limitan a, ácido acético (CH3COOH), ácido cítrico (C6H8O7), ácido fórmico (HCOOH), ácido glucónico (HOCH2-(CHOH)4-COOH), ácido láctico (CH3-CHOH-COOH), ácido oxálico (HOOC-COOH) y ácido tartárico (HOOC-CHOH-CHOH-COOH). Los ejemplos ilustrativos de ácidos carboxílicos halogenados incluyen, pero no se limitan a, ácido fluoroacético, ácido trifluoroacético, ácido cloroacético, ácido dicloroacético y ácido tricloroacético. Los ejemplos ilustrativos de ácidos carboxílicos vinílogos incluyen, pero no se limitan a, ácido ascórbico. Los ejemplos ilustrativos de ácidos nucleicos incluyen, pero no se limitan a, ácido desoxirribonucleico (ADN) y ácido ribonucleico (ARN).
"Base" se refiere a moléculas o iones capaces de aceptar protones de un donante de protones y/o producir iones de hidróxido (OH'). Los ejemplos ilustrativos de bases incluyen, pero no se limitan a, hidróxido de aluminio (Al(OH)3), hidróxido de amonio (NH4OH), hidróxido de arsénico (As(OH)3), hidróxido de bario (Ba(OH)2), hidróxido de berilio (Be(OH)2), hidróxido de bismuto (III) (Bi(OH)3), hidróxido de boro (B(OH)3), hidróxido de cadmio (Cd(OH)2), hidróxido de calcio (Ca(OH)2), hidróxido de cerio (III) (Ce(OH)3), hidróxido de cesio (CsOH), hidróxido de cromio (II) (Cr(OH)2), hidróxido de cromio (III) (Cr(OH)3), hidróxido de cromio (V) (Cr(OH)5), hidróxido de cromio (VI) (Cr(OH)6), hidróxido de coblato (II) (Co(OH)2), hidróxido de cobalto (III) (Co(OH)3), hidróxido de cobre (I) (CuOH), hidróxido de cobre (II) (Cu(OH)2), hidróxido de galio (II) (Ga(OH)2), hidróxido de galio (II) (Ga(OH)3), hidróxido de oro (l) (AuOH), hidróxido de oro (III) (Au(OH)3), hidróxido de indio (i) (InOH), hidróxido de indio (II) (In(OH)2), hidróxido de indio (III) (In(OH)3), hidróxido de iridio (III) (Ir(OH)3), hidróxido de hierro (II) (Fe(OH)2), hidróxido de hierro (III) (Fe(OH)3), hidróxido de lantano (La(OH), hidróxido de plomo (II) (Pb(OH)2), hidróxido de plomo (IV) (Pb(OH)4), hidróxido de litio (LiOH), hidróxido de magnesio (Mg(OH)2), hidróxido de manganeso (II) (Mn(OH)2), hidróxido de manganeso (III) (Mn(OH)3), hidróxido de manganeso (IV) (Mn(OH)4), hidróxido de manganeso (VII) (Mn(OH)7), hidróxido de mercurio (I) (Hg2(OH)2), hidróxido de mercurio (II) (Hg(OH)2), hidróxido de molibdeno (Mo(OH)3), hidróxido de neodimio (Nd(OH)3), oxo-hidróxido de níquel (NiOOH), hidróxido de níquel (II) (Ni(OH)2), hidróxido de níquel (III) (Ni(OH)3), hidróxido de niobio (Nb(OH)3), hidróxido de osmio (IV) (Os(OH)4), hidróxido de paladio (II) (Pd(OH)2), hidróxido de paladio (IV) (Pd(OH)4), hidróxido de platino (II) (Pt(OH)2), hidróxido de platino (IV) (Pt(OH)4), hidróxido de plutonio (IV) (Pu(OH)4), hidróxido potásico (KOH), hidróxido de radio (Ra(OH)2), hidróxido de rubidio (RbOH), hidróxido de rutenio (III) (Ru(OH)3), hidróxido de escandio (Sc(OH)3), hidróxido de silicio (Si(OH)4), hidróxido de plata (AgOH), hidróxido sódico (NaOH), hidróxido de estrontio (Sr(OH)2), hidróxido de tántalo (V) (Ta(OH)5), hidróxido de tecnecio (II) (Tc(OH)2), hidróxido de tetrametilamonio (C4H12NOH), hidróxido de talio (I) (TIOH), hidróxido de talio (III) (TI(OH)3), hidróxido de torio (Th(OH)4), hidróxido de estaño (II) (Sn(OH )2), hidróxido de estaño (IV) (Sn(OH)4), hidróxido de titanio (II) (Ti(oH)2), hidróxido de titanio (III) (Tí(Oh )3), hidróxido de titanio (IV) (Ti(OH)4), hidróxido de tungsteno (II) (W(OH)2), hidróxido de uranilo ((UO2)2(oH)4), hidróxido de vanadio (II) (V(o H)2), hidróxido de vanadio (III) (V(OH)3), hidróxido de vanadio (V) (V(OH)5), hidróxido de iterbio (Yb(OH)3), hidróxido de itrio (Y(OH)3), hidróxido de cinc (Zn(OH)2) e hidróxido de circonio (Zr(OH)4).
En ciertas realizaciones, los procesos descritos en el presente documento pueden tener lugar simultáneamente, en un orden secuencial como se describe en el presente documento o en cualquier orden posible del mismo.
En ciertas realizaciones del proceso, la temperatura de las reacciones desveladas se puede elegir para maximizar la velocidad de reacción a temperaturas más altas mientras se mantiene la actividad de la reacción para una síntesis eficiente. En ciertas realizaciones, se realiza una reacción a una temperatura de aproximadamente 5-150 °C, por ejemplo, aproximadamente el 5-150 °C, aproximadamente el 5-130 °C, aproximadamente el 5-110 °C, aproximadamente el 5-90 °C, aproximadamente el 5-70 °C, aproximadamente el 5-50 °C, aproximadamente el 5 30 °C, aproximadamente el 5-10 °C, aproximadamente el 10-150 °C, aproximadamente el 10-130 °C, aproximadamente el 10-110 °C, aproximadamente el 10-90 °C, aproximadamente el 10-70 °C, aproximadamente el 10-50 °C, aproximadamente el 10-30 °C, aproximadamente el 30-150 °C, aproximadamente el 30-130 °C, aproximadamente el 30-110 °C, aproximadamente el 30-90 °C, aproximadamente el 30-70 °C, aproximadamente el 30-50 °C, aproximadamente el 50-150 °C, aproximadamente el 50-130 °C, aproximadamente el 50-110 °C, aproximadamente el 50-90 °C, aproximadamente el 50-70 °C, aproximadamente el 70-150 °C, aproximadamente el 70-130 °C, aproximadamente el 70-110 °C, aproximadamente el 70-90 °C, aproximadamente el 90-150 °C, aproximadamente el 90-130 °C, aproximadamente el 90-110 °C, aproximadamente el 110-150 °C, aproximadamente 110-130 °C o aproximadamente 130-150 °C.
Proceso de preparación de compuestos de Fórmula (1) y (4)
En el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (1),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (2),
o una sal del mismo,
en donde:
R1 es H o un grupo protector de amina;
R2 es H, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; y
cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo.
En algunas realizaciones, el compuesto de Fórmula (1) o una sal del mismo tiene una estructura de Fórmula (4):
Proceso de preparación de compuestos de Fórmula (5) y (6)
En el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (5),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (1),
o una sal del mismo, con un catalizador,
en donde:
R1 es H o un grupo protector de amina;
R2 es H, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; y
cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo.
En algunas realizaciones, el compuesto de Fórmula (5) o una sal del mismo tiene una estructura de Fórmula (6):
Proceso de preparación de compuestos de Fórmula (7) y (8)
Se desvela en el presente documento un proceso para preparar una sal de Fórmula (7),
que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (5),
o una sal del mismo, con un hidróxid de metal,
en donde:
Ri es H o un grupo protector de amina;
R2 es H, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo;
cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; y A es un catión.
En algunas realizaciones, el catión es un catión inorgánico o catión orgánico. En algunas realizaciones, el catión es un catión metálico. En algunas realizaciones, el catión metálico es un catión de metal alcalino. En algunas realizaciones, el catión de metal alcalino es catión de litio.
En algunas realizaciones, la sal de Fórmula (7) tiene una estructura de Fórmula (8):
Proceso de preparación de compuestos de Fórmula (9) y (10)
En el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (9),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (7),
o una sal del mismo, con un reactivo de acoplamiento e hidróxido de amonio,
en donde:
R1 es H o un grupo protector de amina;
R2 es H, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; y
A es un catión.
En algunas realizaciones, el catión es un catión metálico. En algunas realizaciones, el catión metálico es un catión de metal alcalino. En algunas realizaciones, el catión de metal alcalino es catión de litio. En algunas realizaciones, el reactivo de acoplamiento es CDI.
En algunas realizaciones, el compuesto de Fórmula (9) o una sal del mismo tiene una estructura de Fórmula (10):
Proceso de preparación de compuestos de Fórmula (11) y (12)
Se desvela en el presente documento un proceso para preparar una sal de Fórmula (11),
que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (9),
o una sal del mismo, con monohidrato de ácido para-toluenosulfónico (pTSA-H2O),
en donde:
R1 es H o un grupo protector de amina;
R2 es H, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; y
cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo.
En algunas realizaciones, la sal de Fórmula (11) tiene una estructura de Fórmula (12):
Proceso de preparación de monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido
En el presente documento se desvela un proceso para preparar un monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido de Fórmula (12),
que comprende:
a) poner en contacto una mezcla que comprende monohidrato de tosilato de (R)-niraparib y monohidrato de tosilato de (S)-niraparib con agua y un primer disolvente orgánico;
b) separar el monohidrato de tosilato de (S)-niraparib de la mezcla mediante filtración para formar un monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido; y
c) poner en contacto el monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido con un segundo disolvente orgánico, agua, o cualquier combinación de los mismos para formar una forma cristalina del monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido.
En algunas realizaciones, el proceso comprende además moler en húmedo la forma cristalina del monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido. En algunas realizaciones, el proceso comprende además el recocido del monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enriquecido enantioméricamente mediante uno o más ciclos de temperatura.
En el presente documento también se desvela un proceso para preparar un monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido de Fórmula (12),
que comprende:
a) poner en contacto una sal de Fórmula (13),
con hidróxido sódico y tolueno, para formar un compuesto de Fórmula (14),
b) poner en contacto un compuesto de Fórmula (15),
con azida sódica, acetato de etilo y DMSO, para formar un compuesto de Fórmula (16),
c) poner en contacto el compuesto de Fórmula (14) con el compuesto de Fórmula (16) y TFA, para formar un compuesto de Fórmula (4),
d) poner en contacto el compuesto de Fórmula (4) con trifluorometanosulfonato de cobre (II) (Cu(OTf)2), THF y tolueno, para formar un compuesto de Fórmula (6),
e) poner en contacto el compuesto de Fórmula (6) con hidróxido de litio y etanol, para formar una sal de Fórmula (8),
f) poner en contacto la sal de Fórmula (8) con CDI, TFA, N,N-dimetilformida (DMF) e hidróxido de amonio, para formar un compuesto de Fórmula (10),
g) poner en contacto el compuesto de Fórmula (10) con monohidrato de ácido p-toluenosulfónico (PTSAH2O) y THF, para formar monohidrato de tosilato de (S)-niraparib de Fórmula (12),
h) poner en contacto el monohidrato de tosilato de (S)-niraparib de Fórmula (12) con acetonitrilo y agua, para formar una mezcla;
i) separar el monohidrato de tosilato de (S)-niraparib de la mezcla por filtración, para formar un monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido; y
j) poner en contacto el monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido con DMSO y agua, para formar una forma cristalina del monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido.
En algunas realizaciones, el proceso comprende además moler en húmedo la forma cristalina del monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido. En algunas realizaciones, el proceso comprende además recocer el monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido usando uno o más ciclos de temperatura.
Sales de Fórmula (7) y (8)
Se desvela en el presente documento una sal de Fórmula (7),
en donde:
R1 es H o un grupo protector de amina;
cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; y A es un catión.
En algunas realizaciones, el catión es un catión metálico. En algunas realizaciones, el catión metálico es un catión de metal alcalino. En algunas realizaciones, el catión de metal alcalino es catión de litio.
En algunas realizaciones, la sal de Fórmula (7) tiene una estructura de Fórmula (8):
Proceso de preparación de un compuesto de Fórmula (17)
En el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (17),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (18),
o una sal del mismo, con n-butillitio y borato de triisopropilo (B(Oi-Pr)3), en donde R4 es un grupo saliente. En algunas realizaciones, el proceso comprende además una reacción de hidrólisis.
En algunas realizaciones, el proceso comprende poner en contacto un compuesto de Fórmula (19),
o una sal del mismo, con cloruro de benzoílo y un compuesto orgánico, para formar el compuesto de Fórmula (18) o una sal del mismo, en donde R4 es un grupo saliente.
Proceso de preparación de compuestos de Fórmula (20) y (26)
En el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (20),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (17),
o una sal del mismo, con una sal de Fórmula (21),
en presencia de un catalizador.
En algunas realizaciones, poner en contacto el compuesto de Fórmula (17) o la sal del mismo comprende además poner en contacto una sal de Fórmula (22),
En el presente documento también se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (26),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (17),
o una sal del mismo, con una sal de Fórmula (22),
en presencia de un catalizador.
Proceso de preparación de compuestos de Fórmula (23) y (24)
En el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (23),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (17),
o una sal del mismo, con
R5 r5
R 5^ ---- ^ ^ 5
HO OH ,
en donde cada R5 es independientemente H o alquilo C1-3.
En algunas realizaciones, el compuesto de Fórmula (23) o una sal del mismos tiene una estructura de Fórmula (24),
Proceso de preparación de compuestos de Fórmula (20) y (26)
En el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (20),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto el compuesto de Fórmula (23),
o la sal del mismo, con una sal de Fórmula (21),
en presencia de un catalizador.
En algunas realizaciones, poner en contacto el compuesto de Fórmula (23) o una sal del mismo comprende además poner en contacto una sal de Fórmula (22),
En el presente documento también se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (26),
o la sal del mismo, con una sal de Fórmula (22),
en presencia de un catalizador.
Proceso de preparación de un compuesto de Fórmula (25)
En el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (25),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (20),
o una sal del mismo, con un ligando.
En algunas realizaciones, el proceso comprende además poner en contacto un compuesto de Fórmula (26),
o una sal del mismo, con el ligando.
Proceso de preparación de un compuesto de Fórmula (14)
En el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (14),
o una sal del mismo, que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (25),
o una sal del mismo, con una base.
Proceso de preparación de una sal de Fórmula (13)
Se desvela en el presente documento un proceso para preparar una sal de Fórmula (13),
que comprende: poner en contacto un compuesto de Fórmula (14),
o una sal del mismo, con un ácido.
Proceso de preparación de compuestos de Fórmula (21) y (22)
En el presente documento se desvela un proceso para preparar un compuesto de Fórmula (21),
o una sal del mismo, que comprende: oxidar un compuesto de Fórmula (28),
o una sal del mismo, con un agente oxidante, para formar un compuesto de Fórmula (29),
o una sal del mismo; y
poner en contacto el compuesto de Fórmula (29) o una sal del mismo, con p-toluenosulfónico anhídrido. En algunas realizaciones, el agente oxidante es 2,2,6,6-tetrametilpiperidin-1-oxilo (TEMpO).
En algunas realizaciones, la puesta en contacto del compuesto de Fórmula (29) o la sal del mismo da como resultado la formación de una mezcla del compuesto de Fórmula (21) y el compuesto de Fórmula (22),
Se desvela en el presente documento una composición de Fórmula (30),
o una sal del mismo,
en donde:
cada Ri es independientemente H o un grupo protector de amina; y
cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo.
En algunas realizaciones, el compuesto o sal del mismo tiene una estructura de Fórmula (25):
Ejemplos
Los siguientes ejemplos ilustran algunas realizaciones y aspectos de la invención. Será evidente para los expertos en la materia pertinente que se pueden realizar diversas modificaciones, adiciones, sustituciones y similares sin alterar el espíritu o el alcance de la invención, y tales modificaciones y variaciones están abarcadas por la invención tal como se define en las reivindicaciones que siguen a continuación. La invención desvelada en el presente documento también se ilustra adicionalmente mediante los siguientes ejemplos que de ninguna manera deben interpretarse como limitativos.
Ejemplo 1 - Síntesis de 3-formil-2-nitrobenzoato de metilo (Aldehido A)
El Ejemplo 1 describe la síntesis del compuesto 3-formil-2-nitrobenzoato de metilo (Aldehído A) (véase también la FIG.
1):
Se realizó una reacción en dos etapas para la síntesis del compuesto 3-formil-2-nitrobenzoato de metilo.
Reacción 1.1: Síntesis de metil-3-(2-(dimetilamino)vinil)-2-nitrobenzoato
eso mo ecu ar: ,
metil-3-metil-2-nitrobenzoato metil-3-(2-(dimetilamino)vinil)-2-nitrobenzoato
Se cargó un reactor limpio con dimetil formamida (DMF, 530 gramos) y metil-3-metil-2-nitrobenzoato (100,0 g, 1,0 equiv.). La mezcla se agitó y se calentó a 130 °C en protección con nitrógeno. Se añadió gota a gota N,N-dimetilformamida-dimetil acetal (DMF-DMA, 130 g, equiv.) mientras se mantenía la temperatura a 130 °. La mezcla se agitó a 130 °C durante 16 horas y se tomaron muestras para completar la reacción. Cuando se completó, la mezcla se enfrió a 5 °C y se agitó durante 2 horas. El producto se aisló por filtración y se lavó con agua (5 x 130 ml). La torta húmeda (83,3 g, 65 %) se usó directamente para la siguiente etapa. RMN 1H (400 MHz, CDCl3) 7,58 (m, 2H), 7,31 (m, 1H), 6,88 (d, J = 13,4 Hz, 1H), 4,94 (d, J = 13,4 Hz, 1H) 3,891 (s, 3H), 2,875 (s, 6H).
Reacción 1.2: Síntesis de 3-formil-2-nitrobenzoato de metilo
Se cargó un reactor seco, limpio con DMF (525 g) y el intermedio en bruto (83,3 g, 330 mmol, 1,0 equiv.) obtenido en la etapa anterior. La mezcla se agitó a 33 °C hasta que se disolvieron todos los sólidos. La solución transparente se retiró y se embotelló. Se cargó agua desionizada (640 g) en el reactor y la temperatura se ajustó a 30 °C. Se añadió peryodato sódico sólido (NaIO4, 149,9 g, 2,1 equiv.) y se ajustó la temperatura a 45 °C. La solución del intermedio de enamina en DMF se cargó en un embudo de goteo superior y se añadió lentamente al peryodato sódico acuoso agitado. Una vez completada la adición, la mezcla de reacción se agitó a 45 °C durante 4 horas. Se añadió acetato de etilo (933 g) y la mezcla se agitó durante 1 hora a 35 °C. La mezcla trifásica se filtró. El filtrado se transfirió a un reactor limpio. Los sólidos filtrados se suspendieron con acetato de etilo, la mezcla se filtró y el filtrado de acetato de etilo se combinó con el filtrado inicial. Los filtrados combinados se agitaron durante 30 minutos a 35 °C. La agitación se detuvo y la mezcla se dejó reposar durante 30 minutos. Las capas se separaron y la fase acuosa se mezcló con acetato de etilo (225 g), se enfrió a 5 °C y se agitó durante 30 minutos. Los sólidos que se formaron se retiraron por filtración. Las capas se separaron y el proceso se repitió. La solución orgánica resultante se lavó dos veces con una solución acuosa de cloruro sódico (350 kg, NaCl al 1,5 %). La solución orgánica final dio negativo al papel de yoduro de almidón. La solución orgánica se mezcló con carbón activado (20 g) y se agitó durante 6 horas a 75 °C. La mezcla se enfrió a 45 °C y se filtró a través de tierra de diatomeas. El filtrado de acetato de etilo se concentró a presión reducida (< 40 °C) hasta un volumen final entre 125 y 167 ml). La mezcla se enfrió a 0 °C y se agitó durante 6 horas. El producto se aisló por filtración y se secó al vacío a 25 °C proporcionado el Aldehído A en forma de un sólido de color amarillo claro transparente (56,6 g, 80 %). RMN 1H (400 MHz, CDCl3) 9,95 (s, 1H), 8,27 (d, J = 8,0 Hz, 1H), 8,16 (d, J = 8,0 Hz, 1H), 7,77 (t, J = 8,0 Hz, 1H), 3,93 (s, 3H).
Ejemplo 2 - Síntesis de etanosulfonato de (S)-4-(1-(terc-butoxicarboml)piperidm-3-M)benzenammio (sal de anilin ESA)
El Ejemplo 2 describe la síntesis del etanosulfonato de compuesto (S)-4-(1-(terc-butoxicarbonil)piperidin-3-il)benzenaminio (sal de anilin ESA) (véase también la FIG. 2):
Se realizó una reacción de múltiples etapas para la síntesis del compuesto etanosulfonato de (S)-4-(1-(íercbutoxicarbonil)piperidin-3-il)benzenaminio (sal de anilin ESA).
Reacción S-1: Síntesis de N-(4-bromofenil)benzamida
4-Bromoanilina N-(4-bromofenil)benzamida
Se cargó 4-bromoanilina (100 g, 581 mmol, 1,0 equiv.) a un reactor limpio. Se añadió tetrahidrofurano (THF, 410 ml) y la mezcla se agitó hasta que se formó una solución transparente. Se añadió trietilamina (TEA, 60 g, 593 mmol, 1,02 equiv.) y la mezcla se enfrió a aproximadamente -5 °C. Se añadió gota a gota cloruro de benzoílo (80 g, 569 mmol, 0,98 equiv.) mientras se mantenía la temperatura a aproximadamente 0 °C. Después, la mezcla se agitó durante 2 horas a temperatura ambiente. Se añadió lentamente, gota a gota agua (1000 g) a gota a temperatura ambiente. Después de agitar durante 4 horas a temperatura ambiente, el producto sólido en bruto se aisló por filtración y la torta de filtro se lavó con agua (2 x 200 ml). La torta húmeda se aisló y se secó al vacío a NMT 50 °C durante 40 horas para proporcionar 156 g (97 %) de N-(4-bromofenil)benzamida. RMN 1H (400 MHz, DMSO-d6) 10,383 (s, 1H), 7,97 (d, J = 8,5, 2H), 7,79 (d, J = 8,5, 2H), 7,61-7,52 (m, 5H)); RMN 13C (DMSO-d6, 100,61 MHz); 166,136, 139,063, 135,191, 132,173, 131,896, 128,884, 128,155, 122,687, 115,797; HRMS m/z: [M H]+ Calc. para C13H11BrNO 276,0019; Encontrado 276,0025.
Reacción S-2: Síntesis de ácido (4-benzamidofenil)borónico
Se cargó un reactor con N-(4-bromofenil)benzamida (100 g, 362 mmol, 1,0 equiv.) y THF (2090 ml). La mezcla se agitó a aproximadamente 25 °C hasta que los sólidos se disolvieron y después se enfriaron a aproximadamente -85 - -70 °C. Se cargó un reactor separado con 2,5 n-butillitio en hexano (104 g, 375 mmol, 1,0 equiv.) que se añadió lentamente a la solución de bromoanilina en THF mientras se mantenía la temperatura interna entre -85 y -70 °C. La mezcla resultante se agitó a -85 °C y -70 °C durante 30 minutos adicionales. Una segunda porción de 2,5n-n-butillitio en hexano (149 g, 538 mmol, 1,5 equiv.) manteniendo la temperatura interna entre -85 y -70 °C. después de completarse la adición, la mezcla se agitó a aproximadamente -85- -70 °C durante aproximadamente 30 minutos y se añadió lentamente borato de triisopropilo (270 g, 1,4 mol, 4,0 equiv.) mientras se mantenía la temperatura a -85 - -70 °C. Después, la mezcla se agitó a -85 --70 °C hasta que la reacción se completó. Se añadió ácido acético (200 g, 3,3 mol, 9,1 equiv.) mientras se mantenía la temperatura entre -10 y 10 °C. La mezcla se agitó a 0 °C durante 4 horas (pH aprox. 5) y se concentró a (550 ml, 5,5 V) a presión reducida (a aproximadamente 45 °C). La temperatura de la mezcla se ajustó a 20 °C y se añadió agua (1050 ml). La mezcla se agitó durante 4 horas a 20 °C y el producto sólido en bruto resultante se aisló por filtración. El producto en bruto (ca 146 g) se cargó a un reactor junto con agua (650 g) y metil t-Butil éter (MTBE, 450 g). La suspensión se agitó a 20 °C durante aproximadamente 4 horas. La mezcla se filtró y el sólido resultante se lavó sucesivamente con agua y MTBE. La torta de filtro se secó al vacío durante 48 h a aproximadamente 55 °C para proporcionar 80 g (92%) del ácido borónico deseado. RMN 1H (400 MHz, DMSO-d6) 10,251 (s 1H), 7,94 (d, J = 7,2, 4H), 7,74 (d, J = 3,2, 4H), 7,58 - 7,54 (m, 1H); RMN 13C (DMSO-da, 100,61 MHz); 166,085, 141,309, 135,461, 135,184, 132,042, 128,855, 128,141, 119,508; HRMS m/z: [M H]+Calc. para C13H13BNO3 241,1019; Encontrado 241,1015.
Reacción S-3 (etapa opcional): Síntesis de N-(4-(4,4,5,5-tetrametil-1,3,2-dioxaborolan-2-il)fenil)benzamida
Ácido (4-benzamidofenil)borónico N-(4-(4,4,5,5-tetrametil-1,3,2-dioxaborolan-2- il)fenil)benzamida
Un reactor se cargó con THF (720 g) seguido del intermedio de ácido borónico (ácido (4-benzamidofenil)borónico) (100 g, 1,0 equiv.) y pinacol (60 g, 1,2 equiv.). La mezcla se agitó y se calentó a 65 °C durante 4 horas. La mezcla se calentó a 75 °C y se concentró a 4,0 volúmenes (V) a presión atmosférica. La mezcla se enfrió a 50 °C y se concentró a 2,0 V a presión reducida a aproximadamente 50 °C. Se añadió lentamente n-heptano (1030 ml) manteniendo la temperatura a 50 °C. La mezcla se agitó durante 3 horas a 50 °C, se enfrió a 5 °C durante 2 horas y se agitó a 5 °C durante 6 horas. El producto se aisló por filtración y se lavó con n-heptano. La torta de filtro se secó al vacío a 45 °C proporcionando el producto deseado en forma de un sólido de color blanquecino (139 g, 100 %). RMN 1H (400 MHz, CDCh) 7,89 (d, J = 7 Hz, 3H), 7,85 (d, J = 8 Hz, 2H), 7,70 (d, J = 8 Hz, 2H), 7,57 (d, J = 7 Hz, 2H), 7,28 (dd, J = 7 Hz, J = 8 Hz, 2H), 1,374 (s, 12H); RMN 13C (DMSO-d6, 100,61 MHz); 166,201, 142,541, 135,607, 135,301, 132,144, 128,863, 128,192, 119,741, 83,948, 25,173; HRMS m/z: [M H]+ Calc. para C19H22BNO3323,1802; Encontrado 323,1798.
Reacción S-9: Síntesis de 5-(tosiloxi)-3,4-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de terc-butilo y 5-(tosiloxi)-3,6-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de terc-butilo
1-Boc-3-hidroxipiperidina 3-oxopiperidin-1-carboxilato de 5-(tosiloxi)-3,4-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de terc-butilo terc-butilo y 5-(tosiloxi)-3,6-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de terc-butilo
Un reactor limpio se cargó con DCM (800 g) y la 1-Boc-3-hidroxipiperidina (100 g, 1,0 equiv.). La mezcla se agitó y se enfrió a 0 °C. Se añadió una solución acuosa de bicarbonato sódico (500 g) y la mezcla se agitó a 0 °C. Se añadió bromuro potásico sólido (2 g, 0,03 equiv.) mientras se mantenía la temperatura a aproximadamente 5 °C. Se añadió 2,2,6,6-tetrametilpiperidin-1-oxilo (TEMPO, 100 mg, 0,001 equiv.) y la mezcla se dejó reposar durante 30 minutos a
0 °C. Se añadió lentamente hipoclorito sódico acuoso (10 %, 450 g, 1,2 equiv.) durante 5 horas a 0 °C. Después de que la adición se completase, la mezcla se agitó a 0 °C durante 30 minutos. Se añadió sulfito sódico acuoso (20 % 490 g, 1,6 equiv.) durante 1 hora a 0 °C, y la mezcla se agitó durante 40 minutos a 0 °C y se reposó y las capas se separaron. La fase acuosa se extrajo dos veces con DCM (500 g) a 0 °C y las fases orgánicas combinadas se lavaron con agua (500 g) a 0 °C. Las capas se separaron y la fase orgánica se concentró a 450 ml por destilación al vacío a aproximadamente 25 °C seguido de la adición de DCM (670 ml). Esta solución se enfrió y se usó directamente para la siguiente etapa.
La mezcla preparada anteriormente se enfrió y se añadió DCM (670 g). Se añadió lentamente p-tolueno sulfónico anhídrido (180 g, 1,1 equiv.) a 0 °C seguido de trimetilamina (TEA 95 g, 1,9 equiv.), también a 0 °C. La mezcla se agitó a 0 °C durante 1 hora. Después de calentarse a 25 °C, la mezcla se agitó durante 14 horas. Después, la mezcla se enfrió a 5 °C y se añadió agua (530 g) durante 1 hora a 5 °C y la mezcla se agitó durante 1 hora a 5 °C. Las capas se separaron y la fase orgánica se lavó dos veces con agua (300 g). La fase orgánica se trató con carbón activado (10 g) en DCM (40 g). Después de agitar durante 4 horas a temperatura ambiente, la mezcla se filtró a través de una capa de gel de sílice (5 g). El filtrado se lavó dos veces con agua (310 g) y se concentró a 250 ml por destilación al vacío a aproximadamente 50 °C. Se añadió alcohol isopropílico (430 g) y la mezcla se concentró a 250 ml al vacío a aproximadamente 50 °C. La temperatura se ajustó a 50 °C y la mezcla se agitó hasta que se formó una solución transparente. Se añadió lentamente agua (290 g) durante 3 horas a 50 °C, la mezcla se agitó a 50 °C durante 90 minutos y después se enfrió a 15 °C durante 6 horas y se mantuvo así durante 6 horas adicionales. El producto en bruto se aisló por filtración y la torta de filtro se lavó con IPA/Agua (1:2 p/p, 10 g). La torta húmeda se devolvió al reactor y se suspendió con 220 ml de una mezcla de IPA/Agua (1:2 p/p) durante 30 minutos a 15 °C. El producto se aisló por filtración al vacío, se lavó con IPA/Agua (1:2 p/p, 10 g) y se secó al vacío a 45 °C para proporcionar el producto deseado (134,8 g, 77%). RMN 1H (400 MHz, CDCls) 7,82 (d, 2H), 7,35 (d, 2H), 6,75 (s, 0,3H), 6,48 (s, 0,7H), 3,42 (t, J = 5,6, 2H), 2,46 (s, 3H),2,30 (m, 2H), 1,81 (t, J = 5,6, 2H), 1,40 (s, 9H); RMN 13C (CDCl3, 100,61 MHz);151,560, 145,086,133,004, 132,362, 129,847, 129,723, 128,534, 128,359, 121,199, 120,654, 81,243, 41,761,40,580, 28,352, 28,134, 25,290, 21,710, 21,134, 20,828; HRMS m/z: [M NH4]+ Calc. para C17H27N2O5S 371,1635; Encontrado 371,1632.
Reacción S-4: Síntesis de 5-(4-benzamidofenil)-3,6-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de terc-butilo y 5-(4-benzamidofenil)-3,4-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de terc-butilo
Boc Boc
- - - , - - -intermedio de tosilato de terc-butilo
Un reactor se cargó con el intermedio de tosilato (5-(tosiloxi)-3,4-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de ferc-butilo y 5-(tosiloxi)-3,6-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de ferc-butilo, 112 g, 317 mmol, 1,00 equiv.) y THF (884 ml). La temperatura de la mezcla se ajustó a 20 °C y se añadió el derivado de ácido borónico (80,0 g, 332 mmol, 1,05 equiv.), seguido de una solución acuosa de fosfato potásico (30 %, 571 g). Se añadió XPhos (680 mg, 0,005 equiv.) y la mezcla de reacción se desoxigenó mediante cinco ciclos de vacío/purga con nitrógeno. Se añadió acetato de paladio (224 mg, 0,004 equiv.) seguido de ciclos adicionales de vacío/purga con nitrógeno. La mezcla se agitó y se mantuvo a 65 °C durante 10 horas. Después de ajustarse la temperatura a 25 °C, las fases se dividieron y la fase orgánica se concentró a aproximadamente 250 ml al vacío seguido de la adición de DCM (1050 ml). La mezcla resultante se agitó a temperatura ambiente durante aproximadamente 2 horas y después se filtró a través de la ayuda del filtro, tierra de diatomeas. El filtrado se lavó dos veces con agua. La fase orgánica se trató con carbón activado (18 g). La mezcla se agitó a 25 °C durante 2 horas y se filtró a través de tierra de diatomeas para proporcionar una solución transparente. La solución se concentró a aproximadamente 300 ml a presión reducida (temperatura interna < 50 °C). Se añadió 2-Me THF (440 ml) y la mezcla se concentró a presión reducida ((temperatura interna < 50 °C). Se añadió n-heptano (1450 ml) y la mezcla se agitó durante aproximadamente 2 horas a 45 °C y después a aproximadamente 15 °C. El producto se aisló por filtración y la torta de filtro se lavó con una mezcla de 2-MeTHF/n-Heptano (1:3 v/v) seguido de n-Heptano. El producto húmedo se secó al vacío de 40 a 60 °C para proporcionar 92 g (86,2 %). RMN 1H (400 MHz, CDCls) 8,20 (s a, 1H), 7,87 (d, 2H), 7,64-7,33 (mm, 8H), 6,19 (s a, 0.13H), 4,23 (s a, 0.27H), 3,58 (m, 2H), 2,44 (s a, 2H), 1,97 (s a, 2H), 1,55 (s, 9H); RMN 13C (CDCh, 100,61 MHz); 165,822, 165,742, 155,024, 152,960, 152,443, 136,081, 135,046, 131,735, 128,717, 127,076, 125,560, 124,867, 124,0634, 122,847, 122,505, 120,383, 120,281, 115,818, 81,054,80,893, 42,293, 41,265, 28,527, 28,367, 24,174, 23,788, 21,710; HRMS m/z: [M H]+ Calc. para C23H27N2O3379,2016; Encontrado 379,2016.
Además, se probaron algunas bases, disolventes y ligandos diferentes (por ejemplo, ligandos de fosfina) y el resultado se muestra a continuación:
Reacción S-4a: Síntesis de 5-(4-benzamidofenil)-3,6-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de terc-butilo y 5-(4-benzamidofenil)-3,4-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de terc-butilo
Un reactor se cargó con THF (639 ml) y el intermedio de tosilato (5-(tosiloxi)-3,4-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de terc-butilo y 5-(tosiloxi)-3,6-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de terc-butilo) (100 g, 284 mmol, 1,00 equiv.) y el intermedio de pinacol borano (96 g, 297 mmol, 1,05 equiv.). La mezcla se agitó y la temperatura se ajustó a 20 °C. Se preparó recientemente una solución de fosfato potásico (192 g) en agua (360 ml) y se añadió gota a gota. Se añadió XPhos (640 mg, 0,005 equiv.) y la mezcla de reacción se desoxigenó mediante ciclos de vacío/purga con nitrógeno. Se añadió acetato de paladio (250 mg, 0,004 equiv.) seguido de la realización de más ciclos de vacío/purga con nitrógeno. La mezcla se calentó a 65 °C y se mantuvo a esta temperatura durante 10 horas. La temperatura se ajustó a 25 °C y las fases se dividieron. La fase orgánica se concentró a aproximadamente 300 ml al vacío seguido de la adición de DCM (1011 ml). La mezcla resultante se agitó a temperatura ambiente durante aproximadamente 2 horas y después se filtró a través de la ayuda de filtro (tierra de diatomeas). El filtrado se lavó dos veces con agua. La fase orgánica se trató con carbón activado (15 g) a 25 °C durante 2 horas y se cargó tierra de diatomeas como ayuda de filtro. La mezcla se filtró y la torta de filtro se lavó con DCM. La solución se concentró a presión reducida a aproximadamente 50 °C. Se añadió 2-Me-THF (550 ml) y la mezcla se concentró a 350 ml a presión reducida a aproximadamente 50 °C. Se añadió n-heptano (850 ml) a 45 °C. La mezcla se agitó durante 2 horas a 45 °C y se enfrió a 15 °C durante 4-6 horas. El producto se aisló por filtración y la torta de filtro se lavó con una mezcla de 2-MeTHF/n-heptano (1:3 v/v, 200 g) seguido
de n-heptano (300 g). El producto húmedo se secó al vacío de 40 a 60 °C para proporcionar 98,8 g (91 %) de producto. Véase los datos anteriores para la caracterización.
Reacción S-5 (opcional): Purificación de 5-(4-benzamidofenil)-3,6-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de tercbutilo y 5-(4-benzamidofenil)-3,4-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de terc-butilo
El derivado de anilina insaturado en bruto (5-(4-benzamidofenil)-3,6-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de ferc-butilo y 5-(4-benzamidofenil)-3,4-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de ferc-butilo, 100 g) se cargó a un reactor seguido de acetonitrilo (ACN, 316 g). La mezcla se agitó durante una hora a 75 °C seguido de la adición de acetonitrilo (143 ml). Se añadió lentamente agua (291 g) a 75 °C. La mezcla se agitó durante 2 horas a 75 °C y después se enfrió lentamente a 4 °C durante 6 horas y se mantuvo a 4 °C durante un adicional de 5 horas. El producto se aisló por filtración y la torta de filtro se lavó con acetonitrilo:agua (2:1, 75 g) seguido de agua (100 g). La torta húmeda se secó al vacío durante 48 horas a 45 °C para proporcionar el producto purificado (96,0 g, 96%).
Reacción S-6 y S-7: Síntesis de (S)-3-(4-benzamidofenil)piperidin-1-carboxilato de terc-butilo
piperidin-1 -carboxilato de carboxilato de terc-butilo terc-butilo
Un reactor de hidrogenación se cargó con la anilina insaturada (5-(4-benzamidofenil)-3,6-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de ferc-butilo y 5-(4-benzamidofenil)-3,4-dihidropiridin-1(2H)-carboxilato de ferc-butilo, 100 g), Josiphos-SL-J505-2 (770 mg), catalizador de Rh(nbd)2BF4 (500 mg) y DCM (320 g). La mezcla se desgasificó mediante sucesivos ciclos de vacío/relleno de nitrógeno. La mezcla se saturó con gas hidrógeno mediante sucesivos ciclos de vacío/presurizaciones de hidrógeno a 1,55 MPa (224 psi). La temperatura de la mezcla se calentó a 40 °C y la mezcla se agitó durante 19 horas a 1,55 MPa (224 psi) de presión de hidrógeno. La mezcla se enfrió a 20 °C, se desgasificó mediante cinco ciclos sucesivos de vacío/relleno de nitrógeno. Si la reacción estaba incompleta, se realizaba otro ciclo de hidrogenación. Una vez finalizada la reacción, se añadió DCM (231 g) y la mezcla se filtró para retirar el catalizador. La torta de filtro se aclaró con DCM (58 g) y el filtrado se concentró al vacío a 210 ml a aproximadamente 55 °C. Se añadió etanol (350 ml) y la mezcla se concentró al vacío a 420 ml a aproximadamente 55 °C y se repitió dos veces más. Se añadió etanol (115 ml) junto con hidróxido sódico acuoso (30 %, 347 g). La mezcla se calentó a 80 °C hasta que se completó la reacción. La mezcla se enfrió a 15 °C y se añadió agua (996 g). La mezcla se agitó a 15 °C durante 1,5 horas y el producto se aisló por filtración. La torta de filtro se lavó con agua y la torta húmeda se secó al vacío a 50 °C para proporcionar el producto (71 g, 96 %). RMN de 1H (400 MHz, CDCls), 7,02 (d, J = 8 Hz, 2H), 6,62 (d, J = 8 Hz, 2H), 4,135 (s a, 2H), 3,601 (s, 2H), 2,69-2,557 (m, 3H), 1,74, (m, 1H), 1,611 (m, 1H), 1,57 (m, 2H), 1,529 (s, 9H); RMN 13C (CDCls, 100,61 MHz); 154,892, 144,947, 133,667, 127,893, 115,206, 51,017, 44,243, 43,861,41,703, 31,947, 28,710, 28,520, 25,611; HRMS m/z: [M H]+ Calc. para C12H17N2O2221,1285; Encontrado 221,1282.
Además, se probaron algunos ligandos y disolventes quirales más y el resultado se muestra a continuación:
Reacción S-8: Síntesis de etanosulfonato de (S)-4-(1-(terc-butoxicarbonil)piperidin-3-il)benzenaminio
(S)-3-(4-ammof ,em ..l.)p .iperi .d..m-1.-carb . o .xi .lat .o . de . tere- etanosulfonato de (S)-4-(1-(terc-butoxicarbonil)pip reridm-1 / 1 b t'l 3-il)bemzemammio
Un reactor se cargó con (S)-3-(4-aminofenil)piperidin-1-carboxilato de tere-butilo (100 g, 362 mmol, 1,0 equiv.) y acetonitrilo (959 g). La temperatura se ajustó a 25 °C y se añadió celulosa microcristalina (10 g). La mezcla se agitó durante 1,5 horas y se filtró. La torta de filtro se aclaró con acetonitrilo (489 g). El filtrado se enfrió a 0 °C y se añadió metanol (126 g). Se preparó una solución de etano ácido sulfónico (42,6 g, 1,07 equiv.) en acetonitrilo (87 g). Se añadió una porción de esta solución (20 %) a la mezcla de reacción a 0 °C. Se añadieron semillas de etanosulfonato de anilina (260 mg). La mezcla resultante se agitó a aproximadamente 20 °C durante 2 horas, seguido de la adición lenta del resto de la solución de etanosulfonato (106,08 g) durante 13 horas a 0 °C. La mezcla se agitó durante 8 horas a 0 °C y el producto cristalino se aisló por filtración. La torta de filtro se lavó con una mezcla de metanol y acetonitrilo (4 %) y posteriormente acetonitrilo. La torta húmeda se secó al vacío durante 20 horas a 20 °C para proporcionar el producto en forma de un sólido de color blanquecino (108,5 g, 77,6 %). RMN 1H (400 MHz, CDCh); 9,90 (s a, 3H), 7,49 (d, J = 8 Hz, 2H), 7,25 (d, J = 8 Hz, 2H), 4,12 (s a, 2H), 1,98 (m, 1H), 1,74 (m, 1H), 1,61-1,56 (m, 2H), 1,45 (s, 9H), 1,106 (t, J = 7 Hz, 3H): RMN 13C (DMSO-d6, 100,61 MHz); 154,324, 143,759, 131,021, 128,826, 123,452, 79,172, 45,654, 41,936, 31,670, 28,556, 25,450, 25,363, 10,299; HRMS m/z: [M H]+ Calc. para C12H17N2O2221,1285; Encontrado 221,1282.
Además, la preparación de la sal ESA a partir de 4 sistemas de disolventes diferentes pudo mejorar el ee a un intervalo del 85 al 98 % de ee. El resultado se mostró a continuación:
2: Disolvente = MeCN (ee al 85 %, rendimiento del 89 %)
3: Disolvente = MeOH al 7,5 %/MeCN (ee del 95 %, rendimiento del 70 %)
4: Disolvente = MeOH al 10 %/MeCN (ee del 95 %, rendimiento del 56 %)
5: Disolvente = DCM al 40 %/MeCN (ee del 98 %, rendimiento del 51 %)
Tabla 1 Formación de sal ESA con actualización del ee a tem eratura ambiente
Ejemplo 3 - Síntesis de monohidrato de tosilato de niraparib
El Ejemplo 3 describe la síntesis de monohidrato de tosilato de niraparib (véase también la FIG. 3):
Monohidrato de tosilato de niraparib enriquecido ópticamente Monohidrato de tosilato de niraparib Síntesis de (S)-3-(4-aminofenil)piperidin-1-carboxilato de terc-butilo base libre de anilina)
Sal de anilin ESA Base libre de anilina
Se añadió lentamente hidróxido sódico acuoso (1 N, 649 ml, 675 g, 1,2 equiv., 3,13X) a una suspensión enfriada (15 °C) de la sal de anilin ESA (210 g, 541 mmol) en tolueno (2730 g). La mezcla se agitó durante 1 hora y las capas se dejaron reposar. Las fases se separaron y la fase orgánica se calentó a 23 °C y se lavó con agua (730 ml, normalmente 3 veces) hasta que el pH de la fase acuosa estuvo entre 7 y 8. Se obtuvo una solución de color amarillo claro (aprox. 2830 g) que proporcionó un rendimiento casi cuantitativo de la base libre de anilina.
Síntesis de 2-azido-3-formilbenzoato de metilo (azida aromática)
La mezcla de azida sódica (32,6 g, 1,05 equiv.) en DMSO (440 g) se agitó a aproximadamente 25 °C durante 20 minutos seguido de la adición de acetato de etilo (450 g) y 3-formil-2-nitrobenzoato de metilo (Aldehído A, 100 g, 1,0 equiv.). La mezcla se calentó a 40 °C y se agitó durante aproximadamente 3 horas en purga con nitrógeno. Después, se añadieron acetato de etilo (450 g) y agua (500 g) a la mezcla agitada a 35 °C. Las fases se separaron y la inferior (fase acuosa) se extrajo con acetato de etilo (450 g) a 35 °C. Las fases orgánicas combinadas se lavaron con agua a 20 °C para proporcionar el producto en forma de una solución en acetato de etilo.
Síntesis de (S,E)-3-(4-((2-azido-3-(metoxicarbonil)bencilideno)amino)fenil)piperidin-1-carboxilato de tercbutilo (Imina)
Base libre de anilina Azida aromática Solución de imina
A la solución de azida aromática en acetato de etilo preparada anteriormente se le añadió el 98 % de la solución de tolueno de base libre de anilina (97 % de la solución en peso) preparada en la etapa anterior. La mezcla se concentró a aproximadamente 2 l al vacío a 45 °C. La mezcla se enfrió a temperatura ambiente y se añadió ácido trifluoroacético (55 mg, 0,001 equiv.). La mezcla se agitó a temperatura ambiente durante aproximadamente una hora antes de concentrar a aproximadamente 1 l al vacío a aproximadamente 50 °C. Después de enfriar a temperatura ambiente, la solución se usó directamente en la siguiente etapa.
Síntesis de (S)-2-(4-(1-(terc-butoxicarbonil)piperídin-3-H)fenil)-2H-indazol-7-carboxilato de metilo (éster heterocíciico)
Solución de imina Solución de ester heterocíciico A una suspensión agitada de triflato de cobre (II) (900 mg, 0,005 equiv.) en THF (1,78 l) a 60 °C, se le añadió gota a gota la solución de la imina preparada anteriormente durante 4 horas. Después de completarse la adición, la mezcla se agitó durante aproximadamente 3 horas a 60 °C y después se enfrió a temperatura ambiente. El disolvente se cambió por etanol mediante la adición de etanol (1 l) y concentración a aproximadamente 0,8 l al vacío a 50 °C. Esto se repitió tres veces para proporcionar una solución etanólica de la solución de éster heterocíclico. Esta solución se usó directamente para la etapa siguiente.
Síntesis de (S)-2-(4-(1-(terc-butoxicarbonil)piperidin-3-il)fenil)-2H-indazol-7-carboxilato de litio (sal de litio)
Solución de ester heterocíclico Sal de litio
Una suspensión agitada de monohidrato de hidróxido de litio (22,4 g, 1,2 equiv.) en etanol (560 ml) se calentó a 60 °C. La solución del éster heterocíclico en etanol (aprox. 0,8 l, preparada anteriormente) se añadió gota a gota durante 4 horas mientras se mantenía la temperatura a 60 °C. La mezcla se agitó a 60 °C durante aproximadamente 2 horas hasta que se completó la reacción. La mezcla se enfrió a aproximadamente 10 °C y se concentró mediante destilación al vacío a aproximadamente 50 °C a 1,2 l. La temperatura se ajustó a 65 °C y se añadió lentamente n-heptano (820 ml) a la mezcla agitada durante 8 horas a 65 °C. La mezcla se enfrió a 23 °C y después se agitó durante
aproximadamente 8 horas a temperatura ambiente. El sólido resultante se aisló por filtración y se lavó con una mezcla de etanol/n-heptano (1:1 V:V) seguido de n-heptano. El producto húmedo se secó al vacío a aproximadamente 50 °C para proporcionar 176 g de sal de litio (86 %). RMN 1H (400 MHz, DMSO-da); 9,01 (s, 1H), 7,96 (d, J = 7,2 Hz, 3H), 7,79 (d, J = 8,0, 1 H), 7,34 (d, J = 7,6 Hz, 2 H), 7,15 (dd, J = 8,0, 7,2 Hz, 1 H), 3,97 (d a, J = 12, 1 H), 2,78 (s a, 2H), 2,64 (m, 1H), 1,85 (m, 1H), 1,68-1,61 (m, 2H), 1,42 (s, 9H); RMN 13C (DMSO-d6, 100,61 MHz);167,85, 154,35, 148,51, 144,13, 138,48, 130,43, 128,45, 124,05, 122,77, 122,51, 122,32, 79,19, 41,98, 31,68, 28,59, 25,49; HRMS m/z: [M H]+ Calc. para C24H28N3O4422,2074; Encontrado 422,2068.
Síntesis de monohidrato de 4-metilbencenosulfonato de (S)-3-(4-(7-carbamoil-2H-indazol-2-il)fenil)piperidin-1-io (Monohidrato de tosilato de niraparib)
A una suspensión de sal de litio (100 g, 1,0 equiv.) en DMF seca (420 ml), se le añadió lentamente ácido trifluoroacético (28,4 g, 1,06 equiv.) a 0-10 °C. La mezcla se agitó durante 30 minutos y se cargó en porciones carbonildiimidazol (CDI, 52,8 g, 1,39 equiv.) a 0-10 °C. La mezcla se calentó a aproximadamente 17-27 °C y se dejó en agitación durante aproximadamente 3-4 horas. Una vez completada la reacción, el lote se enfrió a 5-10 °C y se añadió lentamente una solución acuosa de hidróxido de amonio (27,2 g, aprox. 29 % en peso y 2,0 equiv.) mientras se mantenía una temperatura interna entre 5-20 °C. La mezcla se calentó a 15-23 °C y se agitó durante aproximadamente 30 minutos. Se añadió agua (995 g) seguido de acetato de etilo (1332 g). La mezcla se agitó durante al menos 30 minutos a 15 25 °C y se dejó reposar. Las capas se separaron y la fase orgánica se lavó con una solución acuosa de hidróxido de amonio (140 ml, ~6%) según se requería para retirar cualquier ácido heterocíclico Boc residual de la solución de acetato de etilo. La capa orgánica se lavó con salmuera al 5 % (3 x 340 ml). La fase orgánica se concentró a aproximadamente 640 ml mediante destilación al vacío. Se añadió THF (845 g) y se repitió la destilación al vacío hasta 640 ml. La temperatura de la solución se enfrió a 15-25 °C y se añadió monohidrato de ácido para-toluenosulfónico (pTsOH.H2O) (99,5 g, 2,23 equiv.). La mezcla se agitó a temperatura ambiente durante aproximadamente 30 minutos y se sometió a reflujo durante aproximadamente 14 horas. Una vez completada la reacción de Boc, la mezcla se enfrió a 17-27 °C y se añadió agua (89 g). La mezcla se agitó durante 3-4 horas a aproximadamente 17-27 °C y el producto en bruto se aisló por filtración. La torta del filtro se lavó con THF y se secó al vacío a < 35 °C para proporcionar monohidrato de tosilato de niraparib en bruto (108 g, 91 %).
Enriquecimiento óptico
1 CH3 Monohidrato de tosilato de Niraparib en Niraparib en bruto bruto ópticamente enriquecido
A una mezcla de acetonitrilo (1580 g) y agua (2000 g) se le añadió monohidrato de tosilato de niraparib en bruto (100
g de enantiómero activo). La mezcla se agitó durante unas 3 horas a 18-26 °C. La mezcla se filtró a través de un cartucho que contenía carbón activado. El filtrado se concentró por destilación al vacío a aproximadamente 45 °C hasta 1,340 ml. La mezcla se enfrió a 15-25 °C y se mantuvo durante 1 hora. El producto se aisló por filtración y la torta del filtro se lavó con agua. El producto se secó al vacío a aproximadamente 45 °C por hora para proporcionar 90 g (87 %) de monohidrato de tosilato de niraparib ópticamente enriquecido.
Ajuste de forma física/tamaño de partículas
Se cargó agua (8,0 l) a un reactor y la temperatura se ajustó a 20-30 °C. Se cargó monohidrato de tosilato de niraparib ópticamente enriquecido (1,00 kg) en un segundo reactor seguido de DMSO (4,39 kg). La mezcla se agitó y se calentó a 28-38 °C y se agitó hasta que todos los sólidos se habían disuelto. Después, esta solución se filtró en el agua en el primer reactor, mientras se mantenía la temperatura del reactor cristalizador a 20-30 °C. La mezcla se agitó durante 1-2 horas. Opcionalmente, la mezcla resultante se puede transferir a otro reactor a través de un molino húmedo si se requiere para reducir el tamaño de partícula. La mezcla se agitó y se calentó y después se enfrió lentamente. Si es necesario, este ciclo de temperatura (recocido) puede repetirse. El producto final se aisló por filtración y la torta del filtro se lavó con agua. La torta húmeda se secó al vacío a aproximadamente 45 °C para proporcionar 0,9 kg (90 %) de monohidrato de tosilato de niraparib. RMN 1H (400 MHz, CD3OD) 8,97 (s, 1H), 8,15 (dd, J = 0,9, 7,1, 2H), 8,04 (d, J = 8,6, 2H), 8,01 (dd, J = 0,9, 8,4, 2H), 7,72 (d, J = 8,1, 2H), 7,51 (d, J =7,9,2H), 7,27 (dd, J = 7,1, 8,4, 2H), 7,22 (d, J = 7,7, 4H), 3,49-3,44 (om, 2H), 3,19-3,06 (om, 2H), 3,11 (om, 2H), 2,34 (s, 3H), 2,10-2,09 (om, 2H), 1,94-1,87 (om, 2H); RMN 13C (100,6 MHz,CDsOD), 169,6, 148,0, 143,6, 143,0, 141,8, 140,4, 131,7, 129,9, 129,7, 127,2, 127,0, 125,3, 124,1, 123,1, 122,3, 121,9, 50,1, 45,1, 41,0, 30,8, 23,9, 21,3; HRMS observada m/z = 321,1717 (calculado m/z 321,1710).
Claims (26)
1. Un proceso para preparar una sal de Fórmula (7), que comprende:
(a) preparar un compuesto de Fórmula (1) o una sal del mismo, que comprende:
poner en contacto un compuesto de Fórmula (2) o una sal del mismo, con un compuesto de Fórmula (3), o una sal del mismo,
(b) preparar un compuesto de Fórmula (5) o una sal del mismo, que comprende:
poner en contacto el compuesto de Fórmula (1) o una sal del mismo, con un catalizador,
y
(c) poner en contacto el compuesto de Fórmula (5) o una sal del mismo, con un hidróxid de metal,
en donde:
Ri es H o un grupo protector de amina;
R2 es H, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo;
cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; y A es un catión.
2. El proceso de la reivindicación 1, en donde la puesta en contacto en la etapa (a) es en presencia de ácido trifluoroacético (TFA).
3. El proceso de las reivindicaciones 1 o 2, en donde R1 es ferc-butiloxicarbonilo (Boc), 9-fluorenilmetiloxicarbonilo (Fmoc), grupo carboxibencilo (Cbz), p-metoxibencilcarbonilo (Moz), acetilo (Ac), benzoílo (Bz), p-metoxibencilo (PMB), 3,4-dimetoxibencilo (DMPM), p-metoxifenilo (PMP), 2-naftilmetil éter (Nap), tosilo (Ts) o cloroformiato de tricloroetilo (Troc).
4. El proceso de una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, en donde R1 es un grupo ferc-butiloxicarbonilo (Boc).
6. El proceso de la reivindicación 1, en donde en la etapa (b) el catalizador es trifluorometanosulfonato de cobre (II) (Cu(OTf)2).
7. El proceso de la reivindicación 1, en donde en la etapa (b) la puesta en contacto es en presencia de tetrahidrofurano (THF).
9. El proceso de la reivindicación 1, en donde en la etapa (c) el catión es un catión metálico.
10. El proceso de la reivindicación 9, en donde el catión metálico es un catión de metal alcalino.
11. El proceso de la reivindicación 10, en donde el catión de metal alcalino es un catión de litio.
12. El proceso de una cualquiera de las reivindicaciones 9 a 11, en donde R1 es un grupo protector de amina.
13. El proceso de la reivindicación 12, en donde el grupo protector de amina es ferc-butiloxicarbonilo (Boc), 9-fluorenilmetiloxicarbonilo (Fmoc), grupo carboxibencilo (Cbz), p-metoxibencilcarbonilo (Moz), acetilo (Ac), benzoílo (Bz), p-metoxibencilo (PMB), 3,4-dimetoxibencilo (DMPM), p-metoxifenilo (PMP), 2-naftilmetil éter (Nap), tosilo (Ts) o cloroformiato de tricloroetilo (Troc).
14. El proceso de la reivindicación 13, en donde el grupo protector de amina es un grupo terc-butiloxicarbonilo (Boc).
15. El proceso de una cualquiera de las realizaciones 1 o 9 a 14, en donde R2 es alquilo C1-10.
16. El proceso de la reivindicación 15, en donde R2 es metilo.
17. El proceso de una cualquiera de las realizaciones 1 o 9 a 16, en donde cada R3 es H.
19. El proceso de la reivindicación 1, que comprende además preparar una sal de hidrato que tiene la siguiente estructura,
que comprende:
(a) preparar un compuesto de Fórmula (9) o una sal del mismo, que comprende
poner en contacto la sal de Fórmula (7) con un reactivo de acoplamiento e hidróxido de amonio en presencia de un ácido,
y
(b) poner en contacto el compuesto de Fórmula (9) o una sal del mismo,
con monohidrato de ácido para-toluenosulfónico (PTSAH2O), en donde:
R1 es H o un grupo protector de amina;
cada R3 es independientemente H, halógeno, alquilo C1-10, haloalquilo C1-10 o arilo; y A es un catión.
21. El proceso de una cualquiera de las reivindicaciones 19 a 20, en donde cada R3 es H.
23. El proceso de la reivindicación 22, que comprende además preparar un monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido de Fórmula (12), que comprende:
(a) poner en contacto una mezcla que comprende monohidrato de (R)-tosilato de niraparib y monohidrato de (S)-tosilato de niraparib con agua y un primer disolvente orgánico;
(b) separar el monohidrato de tosilato de (S)-niraparib de la mezcla mediante filtración para formar un monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido; y
(c) poner en contacto el monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido con un segundo disolvente orgánico, agua, o cualquier combinación de los mismos para formar una forma cristalina del monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido.
24. El proceso de la reivindicación 23, que comprende además moler en húmedo la forma cristalina del monohidrato de tosilato de (S)-niraparib enantioméricamente enriquecido.
25. El proceso de la reivindicación 23 o la reivindicación 24, en donde el primer disolvente orgánico es acetonitrilo, opcionalmente en donde se usa una proporción de agua a primer disolvente orgánico (v/v) de 200:1 a 1:200 en la puesta en contacto, alternativamente de 5:1 a 1:5.
26. El proceso de una cualquiera de las reivindicaciones 23 a 25, en donde el segundo disolvente orgánico es dimetilsulfóxido (DMSO), opcionalmente en donde se usa una proporción de agua a primer disolvente orgánico (v/v) de 200:1 a 1:200 en la puesta en contacto, alternativamente de 5:1 a 1:5.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201762489387P | 2017-04-24 | 2017-04-24 | |
US201762489415P | 2017-04-24 | 2017-04-24 | |
PCT/US2018/029131 WO2018200517A1 (en) | 2017-04-24 | 2018-04-24 | Methods of manufacturing of niraparib |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ES2926255T3 true ES2926255T3 (es) | 2022-10-24 |
Family
ID=63919973
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES18790167T Active ES2926255T3 (es) | 2017-04-24 | 2018-04-24 | Métodos de fabricación de niraparib |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11161834B2 (es) |
EP (1) | EP3615513B1 (es) |
JP (1) | JP7179014B2 (es) |
KR (1) | KR102582624B1 (es) |
CN (2) | CN110753684A (es) |
AU (2) | AU2018258274C1 (es) |
BR (1) | BR112019022320A2 (es) |
CA (1) | CA3060715A1 (es) |
ES (1) | ES2926255T3 (es) |
IL (1) | IL270068B (es) |
MA (1) | MA48475A (es) |
SG (1) | SG11201909807TA (es) |
TW (1) | TWI783993B (es) |
WO (1) | WO2018200517A1 (es) |
ZA (1) | ZA201906944B (es) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
MX2019011496A (es) | 2017-03-27 | 2020-01-23 | Tesaro Inc | Composiciones de niraparib. |
EP3615513B1 (en) | 2017-04-24 | 2022-07-20 | Tesaro, Inc. | Methods of manufacturing of niraparib |
CN110913911A (zh) | 2017-05-18 | 2020-03-24 | 特沙诺有限公司 | 用于治疗癌症的组合疗法 |
AU2018341479B2 (en) | 2017-09-26 | 2022-02-17 | Tesaro, Inc. | Niraparib formulations |
EP3697442A4 (en) | 2017-09-30 | 2021-07-07 | Tesaro, Inc. | COMBINATION THERAPIES FOR TREATMENT OF CANCER |
CA3076859A1 (en) | 2017-10-06 | 2019-04-11 | Tesaro, Inc. | Combination therapies and uses thereof |
CN112300074B (zh) * | 2019-08-02 | 2023-12-29 | 北京盈科瑞创新药物研究有限公司 | 一种吲唑甲酰胺类化合物及其制备方法和应用 |
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WO2024142096A1 (en) * | 2022-12-29 | 2024-07-04 | Dr. Reddy’S Laboratories Limited | Process for preparation of niraparib tosylate and its intermediates |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5837458A (en) | 1994-02-17 | 1998-11-17 | Maxygen, Inc. | Methods and compositions for cellular and metabolic engineering |
US5605793A (en) | 1994-02-17 | 1997-02-25 | Affymax Technologies N.V. | Methods for in vitro recombination |
US6335160B1 (en) | 1995-02-17 | 2002-01-01 | Maxygen, Inc. | Methods and compositions for polypeptide engineering |
FI104465B (fi) | 1995-06-14 | 2000-02-15 | Valio Oy | Proteiinihydrolysaatteja allergioiden hoitamiseksi tai estämiseksi, niiden valmistus ja käyttö |
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EP1036198B1 (en) | 1997-12-08 | 2012-09-26 | California Institute Of Technology | Method for creating polynucleotide and polypeptide sequences |
JP4221100B2 (ja) | 1999-01-13 | 2009-02-12 | エルピーダメモリ株式会社 | 半導体装置 |
GB0004297D0 (en) | 2000-02-23 | 2000-04-12 | Ucb Sa | 2-oxo-1 pyrrolidine derivatives process for preparing them and their uses |
WO2001075767A2 (en) | 2000-03-30 | 2001-10-11 | Maxygen, Inc. | In silico cross-over site selection |
DK2272813T3 (en) | 2001-04-24 | 2017-02-27 | Massachusetts Inst Of Tech (Mit) | COPPER CATALYST CREATION OF CARBON OXYGEN COMPOUNDS |
US7199147B2 (en) | 2001-06-12 | 2007-04-03 | Dainippon Sumitomo Pharma Co., Ltd. | Rho kinase inhibitors |
BRPI0515851A (pt) | 2004-09-29 | 2008-08-12 | Mitsubishi Pharma Corp | composto de pirimidona |
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PL2109608T3 (pl) * | 2007-01-10 | 2011-08-31 | Msd Italia Srl | Indazole podstawione grupą amidową jako inhibitory polimerazy poli(ADP-rybozy)-(PARP) |
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EP2401366B1 (en) | 2009-02-26 | 2013-12-18 | Codexis, Inc. | Transaminase biocatalysts |
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WO2012024104A2 (en) | 2010-08-16 | 2012-02-23 | Codexis, Inc. | Biocatalysts and methods for the synthesis of (1r,2r)-2-(3,4-dimethoxyphenethoxy)cyclohexanamine |
SG190925A1 (en) | 2010-11-30 | 2013-07-31 | Takeda Pharmaceutical | Bicyclic compound |
DK2673260T3 (en) | 2011-02-08 | 2016-10-10 | Pfizer | Glucagonreceptormodulator |
US8802673B2 (en) | 2011-03-24 | 2014-08-12 | Hoffmann-La Roche Inc | Heterocyclic amine derivatives |
US9073911B2 (en) | 2011-06-09 | 2015-07-07 | Hoffmann-La Roche Inc. | Pyrazole derivatives |
WO2014088983A1 (en) | 2012-12-07 | 2014-06-12 | Merck Sharp & Dohme Corp. | Regioselective n-2 arylation of indazoles |
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KR102510996B1 (ko) | 2016-06-29 | 2023-03-16 | 테사로, 인코포레이티드 | 난소암의 치료 방법 |
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WO2019152989A1 (en) | 2018-02-05 | 2019-08-08 | Tesaro, Inc | Pediatric niraparib formulations and pediatric treatment methods |
-
2018
- 2018-04-24 EP EP18790167.3A patent/EP3615513B1/en active Active
- 2018-04-24 US US16/608,059 patent/US11161834B2/en active Active
- 2018-04-24 MA MA048475A patent/MA48475A/fr unknown
- 2018-04-24 SG SG11201909807T patent/SG11201909807TA/en unknown
- 2018-04-24 CN CN201880040321.0A patent/CN110753684A/zh active Pending
- 2018-04-24 KR KR1020197034673A patent/KR102582624B1/ko active IP Right Grant
- 2018-04-24 BR BR112019022320-7A patent/BR112019022320A2/pt unknown
- 2018-04-24 AU AU2018258274A patent/AU2018258274C1/en active Active
- 2018-04-24 WO PCT/US2018/029131 patent/WO2018200517A1/en unknown
- 2018-04-24 IL IL270068A patent/IL270068B/en unknown
- 2018-04-24 ES ES18790167T patent/ES2926255T3/es active Active
- 2018-04-24 CN CN202410234039.3A patent/CN118271233A/zh active Pending
- 2018-04-24 TW TW107113922A patent/TWI783993B/zh active
- 2018-04-24 CA CA3060715A patent/CA3060715A1/en active Pending
- 2018-04-24 JP JP2019557567A patent/JP7179014B2/ja active Active
-
2019
- 2019-10-22 ZA ZA2019/06944A patent/ZA201906944B/en unknown
-
2021
- 2021-08-09 AU AU2021215116A patent/AU2021215116B2/en active Active
- 2021-10-29 US US17/452,928 patent/US11629137B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200055837A1 (en) | 2020-02-20 |
US11629137B2 (en) | 2023-04-18 |
AU2018258274A1 (en) | 2019-11-14 |
AU2021215116A1 (en) | 2021-08-26 |
EP3615513B1 (en) | 2022-07-20 |
AU2018258274B2 (en) | 2021-05-13 |
JP7179014B2 (ja) | 2022-11-28 |
EP3615513A4 (en) | 2020-12-09 |
AU2018258274C1 (en) | 2021-12-02 |
AU2021215116B2 (en) | 2022-12-01 |
KR20200021456A (ko) | 2020-02-28 |
CN110753684A (zh) | 2020-02-04 |
NZ758948A (en) | 2024-04-26 |
US11161834B2 (en) | 2021-11-02 |
US20220041575A1 (en) | 2022-02-10 |
SG11201909807TA (en) | 2019-11-28 |
WO2018200517A1 (en) | 2018-11-01 |
ZA201906944B (en) | 2023-03-29 |
TWI783993B (zh) | 2022-11-21 |
CA3060715A1 (en) | 2018-11-01 |
JP2020517668A (ja) | 2020-06-18 |
IL270068B (en) | 2022-06-01 |
MA48475A (fr) | 2020-03-04 |
CN118271233A (zh) | 2024-07-02 |
BR112019022320A2 (pt) | 2020-05-26 |
TW201841889A (zh) | 2018-12-01 |
KR102582624B1 (ko) | 2023-09-22 |
EP3615513A1 (en) | 2020-03-04 |
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