ES2641235T3 - Antorcha de plasma - Google Patents
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Abstract
Antorcha de plasma (1) con: - un cuerpo de antorcha (2), - un electrodo (3) dispuesto en el cuerpo de antorcha (2), - una boquilla (4) que presenta una abertura central de boquilla (4a) y está dispuesta de tal manera que cubre el electrodo (3) separadamente por medio de un canal de gas de plasma (6a) que está formado entre estos, - una tapa protectora de boquilla (7) que presenta una abertura de descarga (7a) dispuesta en su extremo delantero de manera opuesta a la abertura de boquilla (4a) y un canal de gas secundario (9) con forma anular dentro de la tapa protectora de boquilla (7) que está conectado con la abertura de descarga (7a), estando dispuesta la tapa protectora de boquilla (7) respecto al electrodo (3) y a la boquilla (4) de manera eléctricamente aislada, - una tapa de boquilla (5), que cubre la boquilla (4) con excepción al menos de la abertura de boquilla (4a) y está dispuesta dentro de la tapa protectora de boquilla (7) y separada de esta en su extremo delantero por el canal de gas secundario (9), - una pieza de conducción de gas secundario (8) que presenta al menos un paso (8a) en forma de perforaciones, estando dispuesta la pieza de conducción de gas secundario (8) en el canal de gas secundario (9) entre una entrada de gas secundario (8b) y el extremo delantero del canal de gas secundario (9) y estando configurado el canal de gas secundario (9) entre la pieza de conducción de gas secundario (8) y su extremo delantero de tal manera que guía el gas secundario SG tras pasar la pieza de conducción de gas secundario (8) y una parte de canal de gas secundario (9a) en lo esencial paralela al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1) oblicuamente al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1) en dirección del extremo delantero de la antorcha de plasma (1) y después, en un ángulo en lo esencial recto respecto al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1), lo alimenta a un haz de plasma, y la tapa de boquilla (5), que cubre la boquilla (4) con excepción al menos de la abertura de boquilla (4a) y está dispuesta dentro de la tapa protectora de boquilla (7) y separada de esta en su lado extremo delantero por el canal de gas secundario (9), presenta en la zona de la pieza de conducción de gas secundario (8) una primera superficie de envoltura que está inclinada en un ángulo en el intervalo de 0 ± 15° respecto al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1) y se une en dirección del extremo delantero de la antorcha de plasma (1) a una segunda superficie de envoltura de la tapa de boquilla (5) en lo esencial con forma cónica que se reduce en dirección del extremo delantero de la antorcha de plasma (1).
Description
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DESCRIPCION
Antorcha de plasma
La presente invencion se refiere a una antorcha de plasma que sirve tanto para el corte en seco como para el corte bajo agua de diferentes piezas de trabajo metalicas y a una disposicion de una tapa de boquilla y una pieza de conduccion de gas secundario para una antorcha de plasma.
En el corte por plasma, se enciende en primer lugar un arco electrico (arco piloto) en un catodo (electrodo) y un anodo (boquilla) y despues se transfiere directamente a una pieza de trabajo para producir con ello un corte.
Este arco electrico genera un plasma que es un gas termicamente muy calentado, electricamente conductor, que se compone de iones positivos y negativos, electrodos, asf como atomos ionizados y neutros y moleculas.
Como gases de plasma se utilizan gases como argon, hidrogeno, nitrogeno, oxfgeno o aire. Estos gases son ionizados y disociados por la energfa del arco electrico. El haz de plasma resultante de ello se emplea para cortar la pieza de trabajo.
Una antorcha de plasma moderna se compone de elementos basicos como cuerpo de antorcha, electrodo (catodo), boquilla, una o varias tapas de proteccion que rodean la boquilla, asf como conexiones que sirven para el abastecimiento de la antorcha con corriente, gases y/o lfquidos.
La boquilla puede estar compuesta de una o varias piezas. En antorchas directamente refrigeradas con agua, la boquilla es sujetada por una tapa de boquilla. Entre la boquilla y la tapa de boquilla fluye agua refrigerante. El gas secundario fluye entre la boquilla y la tapa de proteccion.
En antorchas refrigeradas con gas y antorchas de plasma indirectamente refrigeradas con agua se puede prescindir de la tapa de boquilla. Asf, el gas secundario fluye entre la boquilla y la tapa de proteccion.
El electrodo y la boquilla estan dispuestos en una determinada relacion espacial entre sf y delimitan un espacio -la camara de plasma- en el que se genera este haz de plasma. El haz de plasma puede variar mucho en sus parametros como, por ejemplo, diametro, temperatura, densidad energetica y velocidad de circulacion del gas de plasma por influencia de la configuracion de la boquilla y el electrodo.
Para los diferentes gases de plasma se fabrican los electrodos y las boquillas de diferentes materiales y con diferentes formas.
Las boquillas se fabrican por regla general de cobre y se refrigeran con agua directa o indirectamente. En funcion del objetivo de corte y la potencia electrica de la antorcha de plasma se emplean boquillas que presentan diferentes contornos internos y aberturas con diferentes diametros y, con ellos, ofrecen los resultados de corte optimos.
Para proteger una boquilla durante el proceso de corte del calor y el metal fundido que salpica de la pieza de trabajo, se envuelven boquillas con tapas protectoras. A traves del espacio intermedio entre boquilla y tapa de proteccion fluye un gas secundario. Este sirve para crear una atmosfera definida, para la constriccion del haz de plasma y la proteccion contra salpicaduras al perforar.
En la solicitud de patente DE 38 32 630 A1, se protege el haz de plasma durante el corte bajo agua por medio de un remolino de gas que rota a gran velocidad alrededor del haz de plasma. Sobre la tapa de boquilla se disponen simetricamente entre cinco y veinte conductos de gas en forma de varilla. El gas secundario, que fluye a traves de los canales de conduccion de gas formados por la disposicion tangencial con forma conica de los conductos de conduccion de gas y la tapa de antorcha, fluye tangencialmente alrededor del haz de plasma y forma un remolino hiperbolico, lo que impide el acceso del agua al haz de plasma. Esta antorcha, sin embargo, tambien se puede utilizar para el corte en seco, protegiendo fundamentalmente el gas secundario en remolino la punta de la antorcha del metal fundido de la pieza de trabajo, particularmente durante la perforacion.
La seleccion del gas secundario desempena un papel importante para impedir la oxidacion de las superficies de corte por una reaccion con el oxfgeno que se encuentra en el aire ambiente. En la anterior solicitud de patente DE 101 44 516 A1 de la presente solicitante, se emplea nitrogeno como gas secundario. El haz de plasma es rodeado por el flujo del gas secundario que es guiado entre la tapa de boquilla y la tapa de proteccion a traves del paso resultante de ello y que sale de la abertura con forma anular en direccion de la pieza de trabajo. De esta manera se garantiza una atmosfera en lo esencial no oxidante en la pieza de trabajo. Este efecto se puede intensificar aun mas mediante el mezclado de pequenas proporciones de hidrogeno (por ejemplo, del 1 al 20 %).
En la antorcha de plasma de acuerdo con la patente EP 0 573 653 B1, se orienta el gas secundario que sale a traves de un canal de gas secundario con forma anular por medio de un aislante entre la tapa de boquilla y la tapa de proteccion. El aislante tiene pequenas perforaciones que estan formadas de tal modo que el gas secundario sale
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a lo largo de la direccion axial del cuerpo de antorcha y rodea el arco de plasma en suficiente cantidad y con suficiente velocidad. En otro aislante, se genera el flujo secundario como flujo circular porque el canal directriz formado en el aislante esta configurado con forma de espiral en relacion a la zona central de la antorcha.
En la patente EP 0 801 882 B1, una tapa de proteccion dirige a lo largo de una superficie con forma de cono de una tapa de boquilla un flujo de gas secundario hacia el arco electrico. Durante el corte, se reduce la velocidad de este flujo de tal modo que el arco electrico no se desestabiliza. Esta tapa de proteccion contiene algunos orificios de ventilacion que desvfan el gas sobrante. La tapa de proteccion y el flujo de gas secundario protegen la boquilla del metal fundido que salpica desde la pieza de trabajo hacia la boquilla y que puede provocar un dano o una formacion de arco electrico paralelo.
En los ejemplos mencionados anteriormente, se presenta la desventaja de que el haz de plasma se vuelve inestable por el flujo directo del gas secundario, particularmente con un caudal de gas secundario que sea mayor que el caudal de gas de plasma. La inestabilidad se hace notar sobre todo al pasar por encima de ranuras de corte condicionadas tecnologicamente y con cambios de direccion y velocidad como, por ejemplo, en esquinas y al comienzo del corte. Al pasar por encima de una ranura de corte, el arco electrico de corte solo se estabiliza lentamente. Se produce una oscilacion del arco electrico de corte. Esta oscilacion se refleja en el borde del corte resultante y provoca asf una merma de calidad.
En el documento US 6 207 923 B1, un gas secundario fluye en un espacio intermedio entre una boquilla con una boca prolongada de boquilla y una tapa de proteccion. La abertura de descarga de la tapa de proteccion esta formada de tal modo que la boca de la boquilla se encuentra parcialmente entre la entrada y la salida de la abertura de descarga. Tal disposicion genera un flujo de gas secundario en lo esencial con forma de columna alrededor del haz de plasma sin perturbar en lo esencial el haz de plasma y debe proteger la boquilla del metal que salpica hacia arriba desde la pieza de trabajo.
Desventajoso en este procedimiento es que la boca de la boquilla solo esta protegida insuficientemente del metal que salpica, particularmente durante la perforacion del haz de plasma en la pieza de trabajo. Ademas, el gas secundario no puede ser dirigido de manera selectiva en el haz de plasma para obtener una buena calidad de corte.
Con determinadas combinaciones de gas, se desea la participacion activa del gas secundario en el proceso de plasma. Este es el caso, por ejemplo, para el corte de aceros inoxidables con una mezcla de ArH2 como gas de plasma y nitrogeno como gas secundario. En este caso, el gas secundario nitrogeno no solo actua como gas protector para proteger las superficies de corte del oxfgeno oxidante del aire ambiente, sino que tambien participa activamente en el proceso de plasma. Reduce la tension superficial del fundido, este se vuelve mas fluido y sale mejor de las ranuras de corte. Se produce un corte sin escoria. Con la disposicion descrita en el documento US 6 207 923 B1 esto no es posible. Con el uso de oxfgeno como gas de plasma para el corte de aceros de construccion tambien se pueden obtener diferentes efectos respecto a la calidad de corte a traves de la diferente composicion del gas secundario, por ejemplo, con diferentes proporciones de nitrogeno y oxfgeno.
El documento US 5 695 662 A desvela una antorcha de plasma con un cuerpo de antorcha, un electrodo dispuesto en el cuerpo de antorcha, una boquilla que presenta una abertura central de boquilla y esta dispuesta de tal modo que cubre separadamente el electrodo por medio de un canal de plasma que esta formado entre estos, una tapa protectora de boquilla que presenta una abertura de descarga dispuesta en su extremo delantero, opuesta a la abertura de boquilla y un canal de gas secundario con forma anular dentro de la tapa protectora de boquilla que esta conectado con la abertura de descarga, estando dispuesta la tapa protectora de boquilla de manera electricamente aislada respecto al electrodo y la boquilla, una tapa de boquilla que cubre la boquilla con excepcion de la abertura de boquilla y esta dispuesta dentro de la tapa protectora de boquilla y separada de esta en su extremo delantero por el canal de gas secundario, y una pieza de conduccion de gas secundario que presenta al menos un paso en forma de perforaciones, estando dispuesta la pieza de conduccion de gas secundario en el canal de gas secundario entre una entrada de gas secundario y el extremo delantero del canal de gas secundario, y estando configurado el canal de gas secundario entre la pieza de conduccion de gas secundario y su extremo delantero de tal modo que conduce el gas secundario, tras pasar la pieza de conduccion de gas secundario y una parte del canal de gas secundario, de manera oblicua al eje longitudinal de la antorcha de plasma en direccion del extremo delantero de la antorcha de plasma y despues, en un angulo recto en el esencial respecto al eje longitudinal de la antorcha de plasma, lo alimenta a un haz de plasma.
El documento US 2001/007320 A1 desvela una boquilla con una tapa protectora de boquilla y una pieza de conduccion de gas secundario. La pieza de conduccion de gas secundario esta configurada como un anillo.
Por el documento US 5 317 126 A se conoce una antorcha de plasma con una tapa de boquilla y una pieza de conduccion de gas secundario.
La invencion se basa, por tanto, en el objetivo de eliminar las desventajas descritas del estado de la tecnica. A este respecto, las funciones del gas secundario como proteccion de metal que salpica hacia arriba, creacion de una atmosfera definida alrededor del haz de plasma y la participacion activa del gas secundario en el proceso de plasma
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deben estar garantizadas sin influir en la estabilidad del haz de plasma.
De acuerdo con la invencion, este objetivo se resuelve mediante una antorcha de plasma de acuerdo con la reivindicacion 1 y una disposicion de acuerdo con la reivindicacion 10.
Las respectivas_reivindicaciones dependientes se refieren a respectivos perfeccionamientos ventajosos.
Por medio de la invencion se genera un flujo de gas secundario homogeneo. Este flujo de gas secundario homogeneo provoca una estabilizacion del haz de plasma. De esta manera, se impide la oscilacion del arco electrico de corte en situaciones de corte difmiles de controlar condicionadas tecnologicamente como, por ejemplo, el paso por encima de la ranura de corte y de la esquina, asf como comienzo del corte. De este modo se genera una mejora esencial de la calidad del corte, asf como una mayor velocidad de corte.
Hay investigaciones que han arrojado en concreto como resultado que las desventajas descritas pueden eliminarse a traves de una nueva forma de alimentacion de gas secundario. De esta manera, se aprovechan mas las ventajas del gas secundario como, por ejemplo, constriccion del haz de plasma, proteccion de la boquilla del metal que salpica hacia arriba al ser perforado, creacion de una atmosfera definida alrededor haz de plasma y la participacion activa del gas secundario en el proceso de plasma y, simultaneamente, se asegura la estabilidad del haz de plasma.
De acuerdo con la invencion, el gas secundario es alimentado por medio de una pieza de conduccion de gas secundario al canal de gas secundario de tal manera que el flujo de gas secundario choca en primer lugar con una primera superficie de envoltura casi cilmdrica de la tapa de boquilla que esta orientada paralelamente al eje longitudinal de la antorcha de plasma. Despues, el gas secundario es guiado a traves de la parte de canal de gas secundario que esta limitada por las superficies de envoltura con forma aproximadamente conica o superficies interiores de la boquilla o de la tapa de boquilla y la tapa protectora de boquilla hacia el extremo delantero de la antorcha de plasma y, a continuacion, es alimentado a un haz de plasma en un angulo de aproximadamente 90° respecto al eje longitudinal de la antorcha de plasma. Se supone que la homogeneidad particularmente buena del gas secundario, es decir, la distribucion particularmente buena alrededor de un haz de plasma se obtiene porque el flujo de gas secundario en primer lugar choca, en un plano que se extiende en un angulo en lo esencial recto respecto al eje longitudinal de la antorcha de plasma, con la superficie de envoltura de la tapa de boquilla y porque esta mas retirado del extremo delantero de la antorcha de plasma y, por tanto, el gas secundario tiene adicionalmente mas tiempo para distribuirse.
Ventajoso es tambien hacer rotar el gas secundario por medio de una realizacion apropiada de la pieza de conduccion de gas secundario, por ejemplo, mediante desplazamiento de los pasos. De este modo, la alimentacion del gas secundario al haz de plasma no se efectua radialmente, sino tangencialmente. Con esta disposicion, el haz de plasma no se desestabiliza por la gran homogeneidad del flujo de gas secundario, sino que mantiene su estabilidad tambien en fases de transicion.
Este efecto se intensifica aun mas si, tras pasar la pieza de conduccion de gas secundario, el gas secundario en primer lugar no solo choca con la primera superficie de envoltura aproximadamente cilmdrica de la tapa de boquilla, sino que simultaneamente fluye en una ampliacion espacial de descompresion que permite una gran descompresion del gas secundario antes de que el gas secundario sea alimentado a continuacion al haz de plasma radial o tangencialmente a traves de las superficies de envoltura con forma conica o superficies interiores. En este caso, esta zona de la tapa de boquilla con ampliacion espacial de descompresion dispone de un diametro menor que el comienzo de la siguiente seccion con forma conica.
Si se utiliza una antorcha de plasma refrigerada con gas o refrigerada indirectamente con agua, en la mayona de los casos se prescinde de la tapa de boquilla. En ese caso, la boquilla cumple la funcion de la tapa de boquilla en cuanto a delimitacion espacial. La boquilla en este caso esta configurada geometricamente al igual que la tapa de boquilla. De esta manera, se garantizan las ventajas de la invencion tambien en esta variante de antorcha de plasma.
Otras caractensticas y ventajas de la invencion se extraen de las reivindicaciones y de la siguiente descripcion, en la que se explican en detalle ejemplos de realizacion con ayuda de los dibujos esquematicos. A este respecto, muestran:
la Figura 1 una representacion de corte parcial de la zona delantera de una antorcha de plasma de
acuerdo con una forma de realizacion particular de la invencion;
las Figuras 1.1 a 1.12 fragmentos de la figura 1 con variantes de la configuracion del canal de gas secundario;
la Figura 2.1 una forma de realizacion de una pieza de conduccion de gas secundario en vista superior
desde arriba parcialmente en el corte; y
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la Figura 2.2 otra forma de realizacion de una pieza de conduccion de gas secundario en vista superior
desde arriba parcialmente en el corte.
La figura 1 muestra una antorcha de plasma 1 de acuerdo con una forma de realizacion particular de la invencion. La antorcha de plasma 1 tiene un cuerpo de antorcha 2 con un electrodo 3 y una boquilla 4 que define un eje longitudinal L de la antorcha de plasma 1. El electrodo 3 y la boquilla 4 estan dispuestos coaxialmente en el cuerpo de antorcha 2, se encuentran en una determinada relacion espacial y forman una camara de plasma 6 a traves de la que fluye un gas de plasma PG que es alimentado por medio de un canal de plasma 6a. Una tapa de boquilla 5 esta dispuesta coaxialmente al eje longitudinal L de la antorcha de plasma 1 y sujeta la boquilla 4. Entre la boquilla 4 y la tapa de boquilla 5 se encuentra un espacio 11 a traves del cual fluye el agua refrigerante. El agua refrigerante es alimentada a traves de una entrada de agua WV y se retira a traves de una salida de agua WR.
Una pieza de conduccion de gas secundario 8 con forma anular con una variedad de pasos en forma de perforaciones, de las cuales solo una esta referenciada con la referencia 8a, esta dispuesta en un canal de gas secundario 9 formado entre la tapa de boquilla 5 y una tapa protectora de boquilla 7 entre una entrada de gas secundario 8b y el extremo delantero del canal de gas secundario 9, de tal modo que el gas secundario SG que fluye a traves del paso 8a choca contra una primera superficie de envoltura aproximadamente cilmdrica de la tapa de boquilla 5 que proporciona una primera seccion cilmdrica 5a de la tapa de boquilla 5. El gas secundario SG es guiado despues a traves del canal de gas secundario 9, que esta delimitado por una segunda superficie de envoltura con forma aproximadamente conica de la tapa de boquilla 5 en una seccion inferior 5b y una correspondiente superficie interior 7b con forma conica de la tapa protectora de boquilla 7, hacia el extremo delantero de la antorcha de plasma 1, luego es alimentado en un angulo de aproximadamente 90° respecto al eje longitudinal L de la antorcha de plasma 1 a un haz de plasma (no mostrado) y sale a traves de una abertura de descarga 7a de la tapa protectora de boquilla 7. El gas secundario SG que rota fluye alrededor del haz de plasma tras su salida de una abertura de boquilla 4a y crea adicionalmente una atmosfera definida en torno al haz de plasma.
Los pasos 8a de la pieza de conduccion de gas secundario 8 estan dispuestos de tal modo que se genera un flujo rotatorio del gas secundario SG. Por ejemplo, los pasos en la pieza de conduccion de gas secundario 8a pueden estar dispuestos de manera equidistante por el penmetro circular de la pieza de conduccion de gas secundario 8 y extendiendose radialmente (figura 2.1) o con un desplazamiento respecto a la radial (figura 2.2), es decir, orientados hacia un punto desplazado en cada caso respecto al punto real central del cfrculo.
La inclinacion de la primera superficie de envoltura aproximadamente cilmdrica de la tapa de boquilla 5 puede ascender hasta ±15° (figuras 1.1, 1.2, y 1.3) respecto al eje longitudinal L de la antorcha de plasma 1. Con una inclinacion de W3= -15° (figura 1.3) se obtiene el efecto de la homogeneidad de manera similar a con el aumento espacial mediante superficies cilmdricas y se obtiene una homogeneidad particularmente buena.
Los pasos entre la primera y la segunda superficie de envoltura de la tapa de boquilla 5 y las correspondientes superficies interiores primera y segunda de la tapa protectora de boquilla 7 pueden estar provistas de aristas (figuras 1.1 - 1.3), de biseles (figuras 1.4 - 1.6) o radios (figuras 1.7 - 1.9). A este respecto, tambien se da la posibilidad de combinaciones de radios y biseles.
Las figuras 1.10 -1.12 muestran formas de realizacion con una ampliacion espacial de descompresion 10 en la que fluye el gas secundario SG desde los pasos 8a de la pieza de conduccion de gas secundario 8 para mejorar aun mas la estabilidad del haz de plasma. Esta ampliacion espacial de descompresion 10 puede tener, por ejemplo, una forma redonda (figura 1.10), rectangular (figura 1.11) o de varios biseles (figura 1.12).
Las caractensticas desveladas en la descripcion precedente, en los dibujos, de la revelacion pueden ser esenciales tanto individualmente como en cualesquiera combinaciones para la realizacion de la revelacion en sus diferentes formas de realizacion. Las siguientes reivindicaciones definen y delimitan la presente invencion.
Claims (13)
- 5101520253035404550556065REIVINDICACIONES1. Antorcha de plasma (1) con:- un cuerpo de antorcha (2),- un electrodo (3) dispuesto en el cuerpo de antorcha (2),- una boquilla (4) que presenta una abertura central de boquilla (4a) y esta dispuesta de tal manera que cubre el electrodo (3) separadamente por medio de un canal de gas de plasma (6a) que esta formado entre estos,- una tapa protectora de boquilla (7) que presenta una abertura de descarga (7a) dispuesta en su extremo delantero de manera opuesta a la abertura de boquilla (4a) y un canal de gas secundario (9) con forma anular dentro de la tapa protectora de boquilla (7) que esta conectado con la abertura de descarga (7a), estando dispuesta la tapa protectora de boquilla (7) respecto al electrodo (3) y a la boquilla (4) de manera electricamente aislada,- una tapa de boquilla (5), que cubre la boquilla (4) con excepcion al menos de la abertura de boquilla (4a) y esta dispuesta dentro de la tapa protectora de boquilla (7) y separada de esta en su extremo delantero por el canal de gas secundario (9),- una pieza de conduccion de gas secundario (8) que presenta al menos un paso (8a) en forma de perforaciones, estando dispuesta la pieza de conduccion de gas secundario (8) en el canal de gas secundario (9) entre una entrada de gas secundario (8b) y el extremo delantero del canal de gas secundario (9) y estando configurado el canal de gas secundario (9) entre la pieza de conduccion de gas secundario (8) y su extremo delantero de tal manera que grna el gas secundario SG tras pasar la pieza de conduccion de gas secundario (8) y una parte de canal de gas secundario (9a) en lo esencial paralela al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1) oblicuamente al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1) en direccion del extremo delantero de la antorcha de plasma (1) y despues, en un angulo en lo esencial recto respecto al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1), lo alimenta a un haz de plasma, y la tapa de boquilla (5), que cubre la boquilla (4) con excepcion al menos de la abertura de boquilla (4a) y esta dispuesta dentro de la tapa protectora de boquilla (7) y separada de esta en su lado extremo delantero por el canal de gas secundario (9), presenta en la zona de la pieza de conduccion de gas secundario (8) una primera superficie de envoltura que esta inclinada en un angulo en el intervalo de 0 ± 15° respecto al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1) y se une en direccion del extremo delantero de la antorcha de plasma (1) a una segunda superficie de envoltura de la tapa de boquilla (5) en lo esencial con forma conica que se reduce en direccion del extremo delantero de la antorcha de plasma (1).
- 2. Antorcha de plasma (1) de acuerdo con la reivindicacion 1, caracterizada por que la transicion entre la primera y la segunda superficie de envoltura es redondeada, biselada o con aristas.
- 3. Antorcha de plasma (1) de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizada por que la primera superficie de envoltura es una superficie de envoltura en lo esencial cilmdrica con una escotadura contra la que choca el gas secundario tras pasar la pieza de conduccion de gas secundario (8).
- 4. Antorcha de plasma (1) de acuerdo con la reivindicacion 3, caracterizada por que la escotadura es redonda o poligonal.
- 5. Antorcha de plasma (1) de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizada por que la pieza de conduccion de gas secundario (8) es un anillo en el que estan dispuestos por su penmetro circular al menos dos pasos (8a) de manera equidistante.
- 6. Antorcha de plasma (1) de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizada por que los pasos (8a) se extienden radialmente.
- 7. Antorcha de plasma (1) de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 a 5, caracterizada por que los pasos (8a) presentan un desplazamiento respecto a la radial.
- 8. Antorcha de plasma (1) de acuerdo con la reivindicacion 7, caracterizada por que el desplazamiento se situa en el intervalo de 0,5 a 4 milfmetros.
- 9. Antorcha de plasma (1) de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizada por que los pasos (8a) presentan un diametro en el intervalo de 0,2 a 1,0 milfmetros.
- 10. Disposicion de una tapa de boquilla (5) y una pieza de conduccion de gas secundario (8) para una antorcha de plasma (1), presentando la tapa de boquilla (5) una superficie de envoltura que, partiendo de un extremo delantero de la tapa de boquilla (5), de manera sucesiva, presenta:- una segunda seccion (5b) en lo esencial con forma conica que se reduce hacia el extremo delantero de la tapa de boquilla (5)- una primera seccion (5a) en lo esencial cilmdrica con una inclinacion en el intervalo de 0 ± 15° respecto al eje longitudinal de la tapa de boquilla (5) y- un inciso radial respecto a un eje longitudinal de la tapa de boquilla (5), estando dispuesta la pieza de conduccion de gas secundario (8) sobre el inciso, estando realizado con forma anular y presentando una variedad de pasos (8a) en forma de perforaciones que se extienden radialmente respecto al eje longitudinal de la tapa de boquilla (5) o presentan un desplazamiento respecto a la radial.5
- 11. Disposicion de acuerdo con la reivindicacion 10, caracterizada por que la transicion entre las secciones primeray segunda de las superficies de envoltura es redondeada, biselada o con aristas.
- 12. Disposicion de acuerdo con la reivindicacion 10 u 11, caracterizada por que la primera seccion de la superficie 10 de envoltura es una superficie de envoltura en lo esencial cilmdrica con una escotadura contra la que choca el gassecundario tras pasar la pieza de conduccion de gas secundario (8).
- 13. Disposicion de acuerdo con la reivindicacion 12, caracterizada por que la escotadura es redonda o poligonal.
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