ES2639818T3 - Sistemas de agentes de reticulación conjunta para películas de encapsulación que comprenden compuestos de di(met)acrilato de etilenglicol - Google Patents

Sistemas de agentes de reticulación conjunta para películas de encapsulación que comprenden compuestos de di(met)acrilato de etilenglicol Download PDF

Info

Publication number
ES2639818T3
ES2639818T3 ES14199266.9T ES14199266T ES2639818T3 ES 2639818 T3 ES2639818 T3 ES 2639818T3 ES 14199266 T ES14199266 T ES 14199266T ES 2639818 T3 ES2639818 T3 ES 2639818T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
composition
compounds
compound
weight
chemical structure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
ES14199266.9T
Other languages
English (en)
Inventor
Dr. Daniel Ulbricht
Marcel Hein
Frank Kleff
Dr. Stephanie Schauhoff
Jürgen Ohlemacher
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Evonik Operations GmbH
Original Assignee
Evonik Degussa GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Evonik Degussa GmbH filed Critical Evonik Degussa GmbH
Application granted granted Critical
Publication of ES2639818T3 publication Critical patent/ES2639818T3/es
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F255/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of hydrocarbons as defined in group C08F10/00
    • C08F255/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of hydrocarbons as defined in group C08F10/00 on to polymers of olefins having two or three carbon atoms
    • C08F255/026—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of hydrocarbons as defined in group C08F10/00 on to polymers of olefins having two or three carbon atoms on to ethylene-vinylester copolymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D139/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D139/04—Homopolymers or copolymers of monomers containing heterocyclic rings having nitrogen as ring member
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F226/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • C08F226/06—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L51/00—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L51/06—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to homopolymers or copolymers of aliphatic hydrocarbons containing only one carbon-to-carbon double bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D123/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D123/02—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C09D123/04—Homopolymers or copolymers of ethene
    • C09D123/08—Copolymers of ethene
    • C09D123/0846—Copolymers of ethene with unsaturated hydrocarbons containing other atoms than carbon or hydrogen atoms
    • C09D123/0853—Vinylacetate
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02—Details
    • H01L31/0203—Containers; Encapsulations, e.g. encapsulation of photodiodes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048—Encapsulation of modules
    • H01L31/0481—Encapsulation of modules characterised by the composition of the encapsulation material
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

Composición (A) que comprende (i) al menos un compuesto (I) seleccionado del grupo que consiste en isocianurato de trialilo y cianurato de trialilo; y (ii) al menos un compuesto de estructura química (II) siendo **(Ver fórmula)** en la que R1, R2 son independientemente entre sí en cada caso H o metilo, y en el que el porcentaje de todos los compuestos de estructura química (II) en la composición (A), con respecto a todos los compuestos (I) en la composición (A), se encuentran en el intervalo del 0,01% en moles al 13,5% en moles.

Description

5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
DESCRIPCION
Sistemas de agentes de reticulacion conjunta para pelfculas de encapsulacion que comprenden compuestos de di(met)acrilato de etilenglicol
La presente invencion se refiere a una primera composicion (A) que comprende (i) al menos un compuesto (I) seleccionado del grupo que consiste en isocianurato de trialilo, cianurato de trialilo, siendo el compuesto (l) preferiblemente isocianurato de trialilo; y (ii) al menos un compuesto de di(met)acrilato de etilenglicol. Ademas, la presente invencion tambien se refiere a una segunda composicion (B) que comprende la primera composicion (A) y al menos un copolfmero de poliolefina. Finalmente, la presente invencion se refiere al uso de la composicion (B) para la produccion de una pelfcula para encapsular un dispositivo electronico, en particular una celula solar.
Antecedentes de la invencion
Los modulos fotovoltaicos (fotovoltaico = “FV”) consisten habitualmente en una capa de celulas de silicio dispuestas de manera simetrica, que se sueldan en dos capas de una pelfcula protectora. Esta propia pelfcula protectora esta a su vez estabilizada mediante una lamina trasera (“backsheet") en su lado posterior y una lamina delantera (“frontsheet") en su lado anterior. La lamina trasera y la lamina delantera pueden tanto ser pelfculas de plastico adecuadas como estar compuestas de vidrio. La funcion del material de encapsulacion consiste esencialmente en proteger el modulo FV frente a las inclemencias del tiempo y a la carga mecanica, por lo que la estabilidad mecanica del respectivo material de encapsulacion representa una propiedad importante. Ademas, los materiales de encapsulacion buenos presentan una velocidad de endurecimiento rapida, un alto contenido en gel, una alta transmision, una tendencia reducida a la alteracion de la coloracion inducida por la temperatura y por el calor asf como una alta adhesion (es decir, una tendencia reducida a la delaminacion inducida por UV).
Los materiales de encapsulacion descritos con este fin en el estado de la tecnica (por ejemplo el documento WO 2008/036708 A2) se basan normalmente en materiales tales como resinas de silicona, resina de polivinilbutiral, ionomeros, pelfculas de poliolefina o copolfmeros de etileno-acetato de vinilo (“EVA”).
El experto en la tecnica esta familiarizado con los procedimientos para la produccion de tales pelfculas de encapsulacion (documento EP 1 164 167 A1). En estos procedimientos, los agentes de reticulacion se mezclan de manera homogenea junto con un copolfmero de poliolefina (y eventualmente aditivos adicionales) por ejemplo en una extrusora y entonces se extruyen para dar una pelfcula. El procedimiento descrito en el documento EP 1 164 167 A1 se refiere a EVA, pero tambien puede emplearse en pelfculas de otros materiales, por ejemplo los mencionados anteriormente.
El documento US 2012/0024376 da a conocer un procedimiento para la produccion de una composicion de resina para la encapsulacion de celulas solares, que comprende la produccion de un copolfmero de etileno-acetato de vinilo con un contenido en acetato de vinilo del 25 - 35% en peso y un agente de reticulacion, con el que se impregna el copolfmero de etileno-acetato de vinilo.
La encapsulacion de las celulas de silicio tiene lugar normalmente en un horno de laminacion a vado (documento EP 2 457 728 A1). Para ello, se prepara la estructura de capas del modulo FV y en primer lugar se calienta lentamente en un horno de laminacion (compuesto por dos camaras separadas por una membrana). De este modo se reblandece el copolfmero de poliolefina (por ejemplo EVA). Al mismo tiempo se evacua el horno, para eliminar el aire entre las capas. Esta etapa es la mas cntica y dura entre 4 y 6 minutos. A continuacion se rompe el vado a traves de la segunda camara y aplicando una presion se sueldan entre sf las capas del modulo. Al mismo tiempo se sigue calentando hasta la temperatura de reticulacion, teniendo entonces lugar la reticulacion de la pelfcula en esta ultima etapa.
Precisamente el EVA se utiliza convencionalmente en la produccion de pelfculas de encapsulacion para modulos solares. Sin embargo, tambien presenta una menor resistencia electrica espedfica al paso p que, por ejemplo, las pelfculas de poliolefina. Esto hace que la utilizacion de pelfculas de EVA como material de encapsulacion no sea atractiva, dado que precisamente se desean materiales de encapsulacion con una alta resistencia electrica espedfica al paso p.
En los modulos FV, concretamente el denominado efecto “PID” (PID = “potential induced degradation"/degradacion inducida por potencial,) representa actualmente un gran problema de calidad. Por el termino PID se entiende una degradacion de potencia condicionada por la tension, provocada por denominadas “corrientes de fuga” dentro del modulo FV.
El motivo de las corrientes de fuga daninas es, ademas de la estructura de la celula solar, la situacion de tension de los modulos FV individuales con respecto al potencial de tierra (en la mayona de los sistemas FV no puestos a tierra los modulos FV estan expuestos a una tension positiva o negativa). La PID se produce la mayona de las veces en el caso de una tension negativa con respecto al potencial de tierra y se acelera mediante tensiones de sistema altas, temperaturas altas y una humedad del aire elevada. Como consecuencia, iones sodio migran del cristal protector del
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
modulo FV a la superficie Ifmite de la celula solar y provocan alU danos (“shunt7derivacion), que pueden conducir a perdidas de rendimiento e incluso a la perdida total del modulo FV.
El riesgo de que se produzca un efecto de PID puede reducirse claramente mediante el aumento de la resistencia electrica espedfica al paso p de las pelfculas de encapsulacion.
La resistencia electrica espedfica al paso p o tambien resistividad (“volume res/st/v/ty7resistividad de volumen, abreviada a continuacion tambien como “VR”) es una constante del material que depende de la temperatura. Se utiliza para calcular la resistencia electrica de un conductor electrico homogeneo. La resistencia electrica espedfica al paso se determina segun la invencion por medio de la norma ASTM-D257.
Cuanto mayor es la resistencia electrica espedfica al paso p de un material, menor es la vulnerabilidad de los modulos fotovoltaicos con respecto al efecto de PID. Por tanto, un efecto esencial positivo en el caso del aumento de la resistencia electrica espedfica al paso p de pelfculas de encapsulacion es el aumento de la vida util y la eficiencia de los modulos FV.
En el estado de la tecnica se discute el problema del efecto de PID en relacion con pelfculas de encapsulacion para modulos FV en el documento CN 103525321 A. Este documento describe una lamina a base de EVA para la encapsulacion de celulas solares, que como agentes de reticulacion conjunta contiene isocianurato de trialilo (“TAIC”) y trimetracrilato de trimetilolpropano (“TMPTMA”) asf como, como aditivos adicionales, preferiblemente un ionomero de poliolefina y un polisiloxano para la hidrofobizacion. Esta pelfcula presenta un efecto de PID reducido. Sin embargo, en este resulta desventajoso que los ionomeros de poliolefina son relativamente costosos. Ademas, los polisiloxanos tienen un efecto negativo sobre las propiedades de adhesion. Ademas, en los ejemplos no se hacen indicaciones espedficas sobre con que concentraciones pueden alcanzarse que mejoras.
El documento JP 2007-281135 A describe tambien una combinacion de agentes de reticulacion de TAIC y TMPTMA. A este respecto, el TMPTMA provoca una aceleracion de la reaccion de reticulacion y conduce con ello a una productividad aumentada.
El documento JP 2012-067174 A y el documento JP 2012-087260 A describen una pelfcula de encapsulacion a base de EVA o una poliolefina para celulas solares, que ademas de TAIC presenta, por ejemplo, dimetacrilato de etilenglicol, dimetacrilato de neopentilglicol, dimetacrilato de 1,6-hexanodiol como agentes de reticulacion. Estos agentes de reticulacion conjunta ralentizan un poco la reaccion de reticulacion al principio y aumentan de este modo el intervalo de tiempo de procesamiento. No se entra en detalle en la problematica de la resistencia espedfica. El documento JP 2009-135200 A describe igualmente agentes de reticulacion que comprenden TAIC y diferentes derivados de (met)acrilato de alcoholes polifuncionales, describiendose en este caso una resistencia al calor mejorada unida a una menor tendencia a la delaminacion de la encapsulacion a base de EVA.
El documento JP 2007-281135 A y el documento JP 2007-305634 A describen combinaciones de agentes de reticulacion de TAIC y triacrilato de trimetilolpropano (“TMPTA”) para su uso en la produccion de pelfculas de encapsulacion de EVA coextruidas de multiples capas para celulas solares.
Los documentos JP 2013-138094 A, JPH11-20094, JPH11-20095, JPH11-20096, JPH11-20097, JPH11-20098, JPH11-21541, CN 102391568 A, CN 102504715 A, CN 102863918 A, CN 102911612 A, CN 103045105 A, CN 103755876 A, CN 103804774 A, US 2011/0160383 A1 y WO 2014/129573 A1, por ejemplo, describen combinaciones similares de agentes de reticulacion para laminas de encapsulacion de celulas solares.
Por tanto, existe la necesidad de nuevos sistemas de agentes de reticulacion conjunta, en particular para la produccion de pelfculas de encapsulacion para celulas solares, que en comparacion con pelfculas, que estan reticuladas segun el estado de la tecnica, conducen a una resistencia electrica al paso claramente aumentada, para conducir asf en el caso de su utilizacion en modulos fotovoltaicos a una reduccion del riesgo de PID.
Por tanto, el objetivo de la presente invencion era poner a disposicion nuevas composiciones, que puedan usarse para la produccion de pelfculas con una resistencia electrica espedfica al paso p lo mas alta posible y por consiguiente sean adecuadas especialmente para la encapsulacion de dispositivos electronicos, tales como, por ejemplo, celulas solares. Estas composiciones deben poder utilizarse ademas en los procesos establecidos y no aumentar esencialmente los costes de las pelfculas. En particular no deben presentar las desventajas que se observan en los sistemas de agentes de reticulacion conjunta del estado de la tecnica, y en este caso en particular en aquellas composiciones mencionadas en el documento CN 103525321 A.
Se ha encontrado ahora sorprendentemente que con ayuda de determinadas composiciones puede obtenerse una pelfcula de encapsulacion para celulas solares, que cumpla estos requisitos. Las composiciones encontradas en este caso aumentan considerablemente la resistividad con cantidades utilizadas comparativamente pequenas, sin influir negativamente en otras propiedades de la pelfcula. Las pelfculas tienen una procesabilidad excelente, una alta transparencia y propiedades de envejecimiento por calor y UV excelentes.
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
Descripcion detallada de la invencion
Los sistemas de agentes de reticulacion conjunta segun la presente invencion pueden usarse sorprendentemente para la produccion de peKculas para la encapsulacion de dispositivos electronicos, tales como, por ejemplo, celulas solares con una alta resistencia espedfica al paso.
Por tanto, el sistema de agentes de reticulacion conjunta segun la invencion es una composicion (A) que comprende
(i) al menos un compuesto (I) seleccionado del grupo que consiste en isocianurato de trialilo, cianurato de trialilo; y
(ii) al menos un compuesto de estructura qmmica (II) siendo
O R2
<* :
R1 O
en la que R1, R2 son independientemente entre sf en cada caso H o metilo,
y en el que el porcentaje de todos los compuestos de estructura qmmica (II) en la composicion (A), con respecto a todos los compuestos (I) en la composicion (A), se encuentran en el intervalo del 0,0l% en moles al 13,5% en moles.
Un compuesto de estructura qmmica (II) se denomina en el sentido de la invencion tambien “compuesto de di(met)acrilato de etilenglicol”.
En una forma de realizacion preferida, el compuesto (I) en la composicion (A) es isocianurato de trialilo.
En una forma de realizacion preferida adicional, R1 y R2 son iguales, aun mas preferiblemente R1 = R2 = metilo.
La razon de la cantidad de compuestos de estructura qmmica (II) en la composicion (A) segun la invencion con respecto a los compuestos (I) en la composicion (A) segun la invencion se encuentra en el intervalo del 0,01% en moles al 13,5% en moles, en particular en el intervalo del 0,05% en moles al 12,0% en moles, preferiblemente en el intervalo del 0,1% en moles al 8,5% en moles, aun mas preferiblemente del 1,0% en moles al 8,1% en moles, o mas preferiblemente del 2,5% en moles al 5,2% en moles.
Concretamente se establecio sorprendentemente que se obtienen composiciones (A), en las que se mantiene esta razon de compuestos de estructura qmmica (II) en la composicion (A) segun la invencion con respecto a los compuestos (I) en la composicion (A) segun la invencion, para la produccion de pelfculas con una resistencia espedfica especialmente alta.
Esto fue particularmente sorprendente a la luz del estado de la tecnica, por ejemplo del documento JP 2012-067174 A y del documento JP 2012-087260 A, que describe unicamente composiciones generales con un porcentaje mayor de un compuesto de dimetacrilato y no se discute en absoluto la problematica del efecto PID.
Por el contrario, en el curso de la presente invencion se establecio que un aumento de la resistencia espedfica puede establecerse en particular ya en el caso de la adicion de cantidades pequenas de los compuestos de estructura qmmica (II), cuando concretamente en la composicion (A) el porcentaje de todos los compuestos de estructura qmmica (II) con respecto a todos los compuestos (I) se encuentra al 0,01 en moles. En cuanto a la utilizacion economica de los compuestos de estructura qmmica (II), por otro lado, un porcentaje de todos los compuestos de estructura qmmica (II) en la composicion (A) con respecto a todos los compuestos (I) en la composicion (A) del 13,5% en moles representa un lfmite superior preferido. Aun mas preferiblemente, en la composicion (A) el porcentaje de todos los compuestos de estructura qmmica (II) con respecto a todos los compuestos (I) esta a del 0,1% en moles al 10% en moles, incluso aun mas preferiblemente a del 2,5% en moles al 8,5% en moles, lo mas preferiblemente a del 5,2% en moles al 8,1% en moles.
En una forma de realizacion especialmente preferida de la composicion (A) segun la invencion se alcanzan valores especialmente altos de la resistencia espedfica. Este es el caso, cuando se utiliza como compuesto (I) isocianurato de trialilo (= “TAIC”) y como compuesto de estructura qmmica (II) dimetacrilato de etilenglicol (= “EGDMA”) (es un compuesto de estructura qmmica (II), en la que R1 = R2 = metilo), encontrandose entonces en particular la razon molar de EGDMA con respecto a TAIC en la composicion (A) en el intervalo del 2,5% en moles al 8,1% en moles, mas preferiblemente al 5,2% en moles.
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
Los presentes sistemas de agentes de reticulacion conjunta se usan preferiblemente para la produccion de pelfculas para la encapsulacion de dispositivos electronicos, por ejemplo celulas solares en modulos FV.
A este respecto, los sistemas de agentes de reticulacion conjunta se utilizan normalmente junto con copolfmeros de poliolefina.
Por tanto, la presente invencion se refiere tambien a una composicion (B) que comprende al menos un copolfmero de poliolefina y la composicion (A) segun la invencion.
El experto en la tecnica conoce los copolfmeros de poliolefina que pueden utilizarse segun la invencion y se describen, por ejemplo, en el documento WO 2008/036708 A2 y el documento JP 2012-087260.
En particular, como copolfmeros de poliolefina se utilizan segun la invencion interpolfmeros de etileno/a-olefina, significando el termino “interpolfmero” que el copolfmero de poliolefina en cuestion se produjo a partir de al menos dos monomeros diferentes. Por consiguiente, el termino “interpolfmero” incluye en particular copolfmeros de poliolefina de exactamente dos unidades monomericas, pero tambien terpolfmeros (por ejemplo etileno/propileno/1- octeno, etileno/propileno/buteno, etileno/buteno/1-octeno, etileno/buteno/estireno) y tetrapolfmeros.
Como copolfmeros de poliolefina se tienen en cuenta segun la invencion en particular copolfmeros de etileno/a- olefina, que preferiblemente ademas de etileno y la a-olefina no presentan ninguna unidad monomerica adicional, seleccionandose en el sentido de la invencion la “a-olefina” preferiblemente del grupo que consiste en propeno, 1- buteno, 4-metil-1-penteno, 1-hexeno, 1-octeno, 1-deceno, 1-dodeceno, 1-tetradeceno, 1-hexadeceno, 1-octadeceno, 3-ciclohexil-1-propeno, vinilciclohexano, acido acnlico, acido metacnlico, norborneno, estireno, metilestireno, acetato de vinilo.
Aun mas preferiblemente, el copoUmero de poliolefina segun la invencion en la composicion (B) es un copolfmero de etileno-acetato de vinilo.
Si como copolfmeros de poliolefina se utilizan interpolfmeros de etileno/a-olefina, entonces estos presentan en particular un contenido en a-olefina en el intervalo del 15 al 50% en peso, con respecto al peso total del interpolfmero de etileno/a-olefina. Preferiblemente, el contenido en a-olefina se encuentra en el intervalo del 20 al 45% en peso, mas preferiblemente en el intervalo del 25 al 40% en peso, aun mas preferiblemente del 26 al 34% en peso, lo mas preferiblemente del 28 al 33% en peso, en cada caso con respecto al peso total del interpolfmero de etileno/a-olefina.
En la forma de realizacion preferida, en la que en el caso del copolfmero de poliolefina se trata de un copolfmero de etileno-acetato de vinilo, el copolfmero de etileno-acetato de vinilo presenta en particular un contenido en acetato de vinilo en el intervalo del 15 al 50% en peso, con respecto al peso total del copolfmero de etileno-acetato de vinilo. Preferiblemente, el contenido en acetato de vinilo se encuentra entonces en el intervalo del 20 al 45% en peso, mas preferiblemente en el intervalo del 25 al 40% en peso, aun mas preferiblemente del 26 al 34% en peso, lo mas preferiblemente del 28 al 33% en peso en cada caso con respecto al peso total del copolfmero de etileno-acetato de vinilo.
El contenido en a-olefina, en particular en el caso del copolfmero de etileno/acetato de vinilo el contenido en acetato de vinilo, se determina a este respecto con el procedimiento descrito en la norma ASTM D 5594:1998 [“Determinacion del contenido en acetato de vinilo de copotfmeros de etileno-acetato de vinilo (EVA) con ayuda de la espectroscop^a infrarroja con transformada de Fourier"].
A este respecto, el porcentaje de la composicion (A) comprendida por la composicion (B) no esta limitado especialmente. El porcentaje de la composicion (A) en la composicion (B) se encuentra en particular en el intervalo de desde el 0,05 hasta el 10% en peso, preferiblemente en el intervalo de desde el 0,1 hasta el 5% en peso, mas preferiblemente en el intervalo de desde el 0,2 hasta el 3% en peso, aun mas preferiblemente a del 0,3 al 1% en peso, de manera especialmente preferible al 0,5% en peso, en cada caso con respecto a la masa de todos los copolfmeros de poliolefina comprendidos por la composicion (B).
La composicion (B) es adecuada segun la invencion para la produccion de una pelfcula de encapsulacion para dispositivos electronicos, por ejemplo celulas solares. Para ello, durante la laminacion de modulo solar se somete a una reaccion de reticulacion.
Para comenzar la reaccion de reticulacion es habitual utilizar iniciadores, es decir, formadores de radicales que pueden activarse mediante calor, luz, humedad o haces de electrones.
Por tanto, en una forma de realizacion preferida de la presente invencion la composicion (B) comprende tambien un iniciador seleccionado del grupo que consiste en compuestos peroxfdicos, compuestos azoicos y fotoiniciadores. Mas preferiblemente, el iniciador se selecciona del grupo que consiste en compuestos peroxfdicos, compuestos
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
azoicos. Ejemplos de los mismos se describen en la “Encyclopedia of Chemical Technology 1992, 3a edicion, vol. 17, paginas 27-90”.
Los compuestos percwdicos son en particular peroxidos organicos, que a su vez se seleccionan del grupo que consiste en peroxidos de dialquilo, diperoxicetales, esteres de acidos peroxicarbox^licos, peroxicarbonatos.
Los peroxidos de dialquilo se seleccionan en particular del grupo que consiste en peroxido de dicumilo, peroxido de di-ferc-butilo, peroxido de di-ferc-hexilo, peroxido de ferc-butilcumilo, peroxido de /so-propilcumil-ferc-butilo, peroxido de ferc-hexilcumilo, 2,5-dimetil-2,5-di(ferc-butilperoxi)-hexano, 2,5-dimetil-2,5-di(ferc-amilperoxi)-hexano, 2,5-dimetil- 2,5-di(ferc-butilperoxi)-hex-3-ino, 2,5-dimetil-2,5-di(ferc-amilperoxi)-hex-3-ino, a,a-di[(ferc-butilperoxi)-/so-propil]-
benceno, peroxido de di-ferc-amilo, 1,3,5-tri-[(ferc-butilperoxi)-isopropil]-benceno, 1,3-dimetil-3-(ferc-butilperoxi)- butanol, 1,3-dimetil-3-(ferc-amilperoxi)-butanol, hidroperoxido de /so-propilcumilo.
Los diperoxicetales se seleccionan en particular del grupo que consiste en 1,1-di(ferc-butilperoxi)-3,3,5- trimetilciclohexano, 1,1 -di(ferc-amilperoxi)-ciclohexano, 1,1-di(ferc-butilperoxi)-ciclohexano, 4,4-di(ferc-amilperoxi)- valerato de n-butilo, 3,3-di(ferc-butilperoxi)-butirato de etilo, 2,2-di(ferc-butilperoxi)butano, 3,6,6,9,9-pentametil-3- etoxicarbonilmetil-1,2,4,5-tetraoxaciclononano, 2,2-di(ferc-amilperoxi)-propano, 4,4-bis(ferc-butilperoxi)-valerato de n- butilo.
Los esteres de acidos peroxicarboxflicos se seleccionan en particular del grupo que consiste en peroxiacetato de ferc-amilo, peroxi-3,5,5-trimetilhexanoato de ferc-butilo, peroxibenzoato de ferc-amilo, peroxiacetato de ferc-butilo, peroxibenzoato de ferc-butilo, monoperoxisuccinato de OO-ferc-butilo, monoperoxisuccinato de OO-ferc-amilo.
Los peroxicarbonatos se seleccionan en particular del grupo que consiste en peroxi-2-etilhexilcarbonato de ferc- butilo, peroxi-/so-propilcarbonato de ferc-butilo, peroxi-2-etilhexilcarbonato de ferc-amilo, peroxibenzoato de ferc- amilo. Un peroxicarbonato preferido es peroxi-2-etilhexilcarbonato de ferc-butilo (“TBPEHC”).
El compuesto azoico se selecciona preferiblemente del grupo que consiste en 2,2'-azobis-(2-acetoxipropano), 1,1'- azodi(hexahidrobenzonitrilo).
El iniciador se selecciona de manera especialmente preferible del grupo que consiste en 2,5-dimetil-2,5-di(ferc- butilperoxi)-hexano, peroxi-2-etilhexilcarbonato de ferc-butilo, peroxi-3,5,5-trimetilhexanoato de ferc-butilo, 1,1- di(ferc-butilperoxi)-3,5,5-trimetilciclohexano, peroxi-2-etilhexilcarbonato de ferc-amilo; lo mas preferiblemente, el iniciador es peroxi-2-etilhexilcarbonato de ferc-butilo (“TBPEHC”).
La masa del compuesto peroxfdico o del compuesto azoico, preferiblemente del compuesto peroxfdico, que se utiliza con respecto a la masa del copolfmero de poliolefina, no esta limitada especialmente. El compuesto peroxfdico o el compuesto azoico, preferiblemente el compuesto peroxfdico, se utiliza en particular en una cantidad de desde el 0,05 hasta el 10% en peso, preferiblemente del 0,1 al 5% en peso, mas preferiblemente del 0,5 al 2% en peso, en cada caso con respecto a la masa de todos los copolfmeros de poliolefina comprendidos por la composicion (B).
Los fotoiniciadores se seleccionan en particular del grupo que consiste en benzofenona, benzantrona, benzoma, alquil eter de benzoma, 2,2-dietoxiacetofenona, 2,2-dimetoxi-2-fenilacetofenona, p-fenoxidicloroacetofenona, 2- hidroxiciclohexilfenona, 2-hidroxiisopropilfenona, 1-fenilpropanodion-2-(etoxicarbonil)-oxima.
El fotoiniciador se utiliza en particular en una cantidad de desde el 0,05 hasta el 10% en peso, preferiblemente del 0,1 al 5% en peso, mas preferiblemente del 0,2 al 3% en peso, aun mas preferiblemente del 0,25 al 1% en peso, en cada caso con respecto a la masa de todos los copolfmeros de poliolefina comprendidos por la composicion (B).
En una forma de realizacion preferida adicional de la presente invencion, la composicion (B) comprende tambien al menos un compuesto adicional seleccionado del grupo que consiste en agentes de reticulacion, agentes de acoplamiento de silano, antioxidantes, agentes protectores frente al envejecimiento, oxidos metalicos, hidroxidos metalicos, pigmentos blancos; utilizandose como compuesto adicional de manera especialmente preferible agentes de acoplamiento de silano.
A este respecto, el termino “compuesto adicional” implica en el sentido de la invencion, que en el caso de este compuesto no se trata de isocianurato de trialilo, cianurato de trialilo o un compuesto de estructura qrnmica (II).
A este respecto, los agentes de reticulacion se seleccionan preferiblemente del grupo que consiste en triacrilato de trimetilolpropano, trimetracrilato de trimetilolpropano, divinilbenceno, acrilatos y metacrilatos de alcoholes polihidroxilados. Los acrilatos y metacrilatos de alcoholes polihidroxilados se seleccionan en particular del grupo que consiste en di(met)acrilato de dietilenglicol, di(met)acrilato de polietilenglicol, di(met)acrilato de neopentilglicol, di(met)acrilato de 1,6-hexanodiol, di(met)acrilato de 1,9-nonanodiol, di(met)acrilato de 1,10-decanodiol.
A este respecto, el porcentaje de los agentes de reticulacion comprendidos por la composicion (B) no esta limitado especialmente. El porcentaje de los agentes de reticulacion en la composicion (B) se encuentra en particular a del
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
0,005 al 5% en peso, preferiblemente del 0,01 al 3% en peso, mas preferiblemente del 0,05 al 3% en peso, aun mas preferiblemente del 0,1 al 1,5% en peso, en cada caso con respecto a la masa de todos los copoKmeros de poliolefina comprendidos por la composicion (B).
Como agentes de acoplamiento de silano que pueden utilizarse en la composicion (B) segun la invencion se tienen en cuenta todos los silanos que presentan un resto de hidrocarburo insaturado y un resto hidrolizable (descrito por ejemplo en los documentos EP 2 436 701 B1 y US 5.266.627).
Los restos de hidrocarburo insaturado se seleccionan en particular del grupo que consiste en vinilo, alilo, isopropenilo, butenilo, ciclohexenilo, Y-(met)acriloxialilo.
Los restos hidrolizables se seleccionan en particular del grupo que consiste en hidrocarbiloxilo, hidrocarboniloxilo, hidrocarbilamino. Preferiblemente, el resto hidrolizable se selecciona del grupo que consiste en metoxilo, etoxilo, formiloxilo, acetoxilo, propioniloxilo, alquilamino y arilamino.
Preferiblemente, el agente de acoplamiento de silano se selecciona del grupo que consiste en: viniltrietoxisilano, viniltris-(p-metoxietoxi)silano, viniltriacetoxisilano, Y-acriloxipropiltrimetoxisilano, Y-metacriloxipropiltrimetoxisilano, N- (p-aminoetil)-Y-aminopropiltrimetoxisilano, N-(p-aminoetil)-Y-aminopropilmetildimetoxisilano, y-
aminopropiltrietoxisilano, Y-glicidoxipropiltrimetoxisilano, Y-mercaptopropiltrietoxisilano, Y-cloropropiltrimetoxisilano, p- (3,4-etoxiciclohexil)-etiltrimetoxisilano, Y-mercaptopropiltrimetoxisilano. De manera especialmente preferible, como agente de acoplamiento de silano se utiliza Y-metacriloxipropiltrimetoxisilano (abreviado como “KBM”).
A este respecto, el porcentaje del agente de acoplamiento de silano comprendido por la composicion (B) no esta limitado especialmente. El porcentaje de todos los agentes de acoplamiento de silano comprendidos por la composicion (B) se encuentra en particular a del 0,05 al 5% en peso, preferiblemente del 0,1 al 2% en peso, en cada caso con respecto a la masa de todos los copolfmeros de poliolefina comprendidos por la composicion (B).
Los antioxidantes se seleccionan en el sentido de la invencion preferiblemente del grupo que consiste en antioxidantes fenolicos y antioxidantes que contienen fosforo.
Los antioxidantes fenolicos se seleccionan en particular del grupo que consiste en 4-metoxifenol, 2,6-di-terc-butil-4- metilfenol, terc-butilhidroquinona, p-(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil)-propionato de estearilo, tetrakis-[3-(3,5-di-terc- butil-4-hidroxifenil)-propionato] de pentaeritritol, ester hexadedlico del acido 3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzoico.
Los antioxidantes que contienen fosforo se seleccionan en particular del grupo que consiste en fosfito de trifenilo, fosfito de tris-(nonilfenilo), difosfito de diestearilpentaeritritol, difosfato de tetra-(tridecil)-1,1,3-tris-(2-metil-5-terc-butil- 4-hidroxifenil)-butano, difosfonito de tetrakis-(2,4-di-terc-butilfenil)-4,4-bifenilo.
A este respecto, el porcentaje de los antioxidantes comprendidos por la composicion (B) no esta limitado especialmente. El porcentaje de todos los antioxidantes comprendidos por la composicion (B) se encuentra en particular a del 0,01 al 0,5% en peso, preferiblemente del 0,05 al 0,3% en peso, en cada caso con respecto a la masa de todos los copolfmeros de poliolefina comprendidos por la composicion (B).
Los agentes protectores frente al envejecimiento se seleccionan en el sentido de la invencion en particular del grupo de los estabilizadores HALS (=“hindered amine light stabilizers", estabilizadores de la luz a base de aminas impedidas) y de los absorbedores de UV.
Los estabilizadores HALS son en el sentido de la invencion en particular compuestos, que presentan al menos un resto 2,2,6,6-tetrametil-4-piperidilo, portando el atomo de nitrogeno en la posicion 1 del resto piperidilo un H, un grupo alquilo o un grupo alcoxilo.
Preferiblemente, los estabilizadores HALS se seleccionan del grupo que consiste en sebacato de bis(2,2,6,6- tetrametil-4-piperidilo), sebacato de 1,2,2,6,6-pentametil-4-piperidilo, sebacato de bis(1,2,2,6,6-pentametil-4- piperidilo), sebacato de bis-(1-octiloxi-2,2,6,6-tetrametil-4-piperidilo), poli-{(6-morfolino-S-triazin-2,4-diil)-[2,2,6,6- tetrametil-4-piperidil)-imino]-hexametilen-[(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)-imino]} con el numero CAS 82451-48-7, polfmeros de numero CAS 193098-40-7, copolfmero de succinato de dimetilo y 1-(2-hidroxietil)-2,2,6,6-tetramentil-4- piperidinol, N,N’,N”,N”’-tetrakis-{4,6-bis-[butil-(N-metil-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-il)-amino]-triazin-2-il}-4,7-
diazadecan-1,10-diamina con el numero CAS 106990-43-6.
A este respecto, el porcentaje de los estabilizadores HALS comprendidos por la composicion (B) no esta limitado especialmente. El porcentaje de todos los estabilizadores HALS comprendidos por la composicion (B) se encuentra en particular a del 0,01 al 0,5% en peso, preferiblemente del 0,05 al 0,3% en peso, en cada caso con respecto a la masa de todos los copolfmeros de poliolefina comprendidos por la composicion (B).
Los absorbedores de UV se seleccionan en particular del grupo que consiste en 2-hidroxi-4-N-octoxibenzofenona, 4- hidroxibenzoato de 2,4-di-terc-butilfenil-3,5-di-terc-butilo, 2-hidroxi-4-metoxibenzofenona, 2,2-d i hidroxi-4-
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
metoxibenzofenona, 2-hidroxi-4-metoxi-4-carboxibenzofenona, 2-(2-hidroxi-3,5-di-terc-butilfenil)-benzotriazol, 2-(2- hidroxi-5-metilfenil)-benzotriazol, salicilato de p-octil-fenilo, 2-(4,6-difenil-1,3,5-triazin-2-il)-5-[(hexil)-oxi]-fenol, acrilato de etil-2-ciano-3,3-difenilo.
A este respecto, el porcentaje de los absorbedores de UV comprendidos por la composicion (B) no esta limitado especialmente. El porcentaje de todos los absorbedores de UV comprendidos por la composicion (B) se encuentra en particular a del 0,01 al 0,5% en peso, preferiblemente del 0,05 al 0,3% en peso, en cada caso con respecto a la masa de todos los copolfmeros de poliolefina comprendidos por la composicion (B).
Los oxidos de metal se seleccionan segun la invencion en particular del grupo que consiste en oxidos de metales alcalinos, oxidos de metales alcalinoterreos, oxido de cinc, preferiblemente se seleccionan del grupo que consiste en oxido de magnesio, oxido de cinc.
A este respecto, el porcentaje de los oxidos metalicos comprendidos por la composicion (B) no esta limitado especialmente. El porcentaje de todos los oxidos metalicos comprendidos por la composicion (B) se encuentra en particular a del 0,01 al 10% en peso, preferiblemente del 0,05 al 3% en peso, en cada caso con respecto a la masa de todos los copolfmeros de poliolefina comprendidos por la composicion (B).
Los hidroxidos metalicos se seleccionan segun la invencion en particular del grupo que consiste en hidroxidos de metales alcalinos, hidroxidos de metales alcalinoterreos, preferiblemente se seleccionan del grupo que consiste en hidroxido de magnesio, hidroxido de calcio.
A este respecto, el porcentaje de los hidroxidos metalicos comprendidos por la composicion (B) no esta limitado especialmente. El porcentaje de todos los hidroxidos metalicos comprendidos por la composicion (B) se encuentra en particular a del 0,01 al 10% en peso, preferiblemente del 0,05 al 3% en peso, en cada caso con respecto a la masa de todos los copolfmeros de poliolefina comprendidos por la composicion (B).
Los pigmentos blancos se seleccionan en el sentido de la invencion en particular del grupo de dioxido de titanio, oxido de cinc, sulfuro de cinc, sulfato de bario, litopon.
A este respecto, el porcentaje de los pigmentos blancos comprendidos por la composicion (B) no esta limitado especialmente. El porcentaje de todos los pigmentos blancos comprendidos por la composicion (B) se encuentra en particular a del 5 al 25% en peso, preferiblemente del 10 al 20% en peso, aun mas preferiblemente al 15% en peso, en cada caso con respecto a la masa de todos los copolfmeros de poliolefina comprendidos por la composicion (B).
La composicion (B) polimerica se usa en un aspecto adicional de la presente invencion para la produccion de una pelfcula para encapsular un dispositivo electronico, en particular una celula solar.
A este respecto, la composicion (B) se produce en primer lugar mezclando la composicion (A) asf como los respectivos aditivos y el copolfmero de poliolefina. Esto tiene lugar en particular mediante la adicion de los aditivos en forma lfquida, es decir en forma pura o como disolucion en un disolvente, a la composicion (B) en una mezcladora. Despues se agita o se mantiene la mezcla en movimiento hasta que el granulado polimerico ha absorbido completamente el lfquido. Los disolventes usados eventualmente se eliminan entonces de nuevo mediante la aplicacion de vacfo.
En una segunda etapa se extruye la formulacion polimerica a traves de una extrusora para dar una pelfcula. A este respecto, la composicion (B) se dosifica de manera continua a traves de un tornillo sin fin de dosificacion a una extrusora en la que se funde el polfmero y mediante el amasado de la mezcla los aditivos se distribuyen de manera homogenea en la matriz polimerica. Al final de la extrusora se introduce a presion la masa fundida a traves de una boquilla de ranura ancha. Despues de la boquilla se retira la pelfcula mediante una laminadora, se enfna posteriormente y se enrolla.
Alternativamente, los aditivos o la mezcla de aditivos tambien pueden dosificarse directamente a traves de la tubuladura de llenado o a traves de una dosificacion lateral a la extrusora de pelfcula.
Los siguientes ejemplos pretenden explicar adicionalmente la presente invencion, sin pretender que se limite a estos ejemplos.
Ejemplos
Abreviaturas usadas
di(met)acrilato de etilenglicol = EGDMA Y-metacriloxipropiltrimetoxisilano = KBM;
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
isocianurato de trialilo = TAIC. peroxi-2-etilhexilcarbonato de terc-butilo = TBPEHC Productos quimicos usados
El EGDMA (CAS: 97-90-5) se obtuvo de Sigma Aldrich.
En el caso del isocianurato de trialilo usado a continuacion se trato de “TAICROS ®” de Evonik Industries AG.
En el caso del Y-metacriloxipropiltrimetoxisilano usado a continuacion se trato de “Dynasylan Memo ®” de Evonik Industries AG.
En el caso del EVA usado a continuacion se trato de “EVATANE 28-40” ® de Arkema con un contenido en acetato de vinilo del 28,3% en peso.
El peroxi-2-etilhexilcarbonato de ferc-butilo usado a continuacion (=“TBPEHC”) se obtuvo de la empresa United Initiators.
1. Produccion del granulado de EVA
Ejemplo comparativo V1
Se mezclaron de manera homogenea 2,5 g (10,0 mmol) de TAIC, 0,5 g de KBM y 4,0 g de TBPEHC. Esta mezcla se distribuyo uniformemente sobre 493 g de EVA. A continuacion se mezclo completamente la mezcla de EVA-aditivos durante de 2 a 4 h en una mezcladora basculante.
Ejemplos segun la invencion 1 a 3
Ejemplo 1
Una mezcla de 0,05 g (0,25 mmol) de EGDMA, 2,45 g (9,83 mmol) de TAIC, 0,5 g de KBM y 4,0 g se distribuyo uniformemente sobre 493 g de EVA. A continuacion se mezclo completamente la mezcla de EVA-aditivos durante de 2 a 4 h en una mezcladora basculante.
Ejemplo 2
Una mezcla de 0,1 g (0,5 mmol) de EGDMA, 2,4 g (9,63 mmol) de TAIC, 0,5 g de KBM y 4,0 g de TBPEHC se distribuyo uniformemente sobre 493 g de EVA. A continuacion se mezclo completamente la mezcla de EVA-aditivos durante de 2 a 4 h en una mezcladora basculante.
Ejemplo 3
Una mezcla de 0,15 g (0,76 mmol) de EGDMA, 2,35 g (9,43 mmol) de TAIC, 0,5 g de KBM y 4,0 g de TBPEHC se distribuyo uniformemente sobre 493 g de EVA. A continuacion se mezclo completamente la mezcla de EVA-aditivos durante de 2 a 4 h en una mezcladora basculante.
2. Extrusion de peliculas
Para la produccion de las pelfculas de EVA se dosifico el granulado de EVA acondicionado, que se habfa producido en los ejemplos V1, 1 - 3, volumetricamente en una extrusora de laboratorio de doble husillo (Collin). Se extruyo la masa fundida de EVA a traves de una boquilla de ranura ancha (10 cm) con un grosor de intersticio ajustable, la pelfcula se enfno posteriormente de manera continua sobre una laminadora hasta 20°C con agua y a continuacion se enrollo. A continuacion se exponen los ajustes de la extrusora:
Parametros de extrusion la produccion de pelfculas de EVA
Temperatura de las zonas de calentamiento [°C1
T1
70
T2
77
T3
77
T4
75
T5
80
Boquilla
80
5
10
15
20
25
3. Laminacion de peliculas
La laminacion de la pelfcula de EVA se realizo a 150°C (ajuste de maquina) entre pelfculas de separacion de teflon, manteniendose constante la temperatura correspondiente a lo largo de todo el proceso de laminacion. La duracion de la etapa de desgasificacion en una fase ascendio a 100 s. A continuacion comprimio la muestra con una presion de compresion de 0,7 kg/cm2. El tiempo de permanencia en el laminador ascendio a 20 minutos.
4. Determinacion de la resistencia espedfica p
Para la determinacion de la resistencia de pelfculas de EVA reticuladas, de 400 a 500 |im de grosor, se almacenaron en primer lugar muestras con unas dimensiones de aproximadamente 8 x 8 cm a temperatura ambiente (22,5°C) y una humedad relativa del aire del 50% durante 7 dfas, para garantizar un nivel de humedad constante dentro de la pelfcula de EVA.
La medicion de la resistencia se realizo con un ohirnmetro de la empresa Keithley (6517B) y una celula de medicion correspondiente, igualmente de Keithley (“resistivity test fixture 8009"). Segun la norma ASTM D-257, se aplico una tension de 500 V a la muestra durante 60 s y tras este tiempo se midio la corriente. Entonces puede calcularse la resistencia p (VR) a partir de las magnitudes conocidas.
La siguiente tabla 1 resume los resultados observados.
Tabla 1
Ejemplo n.°
TAIC [mmol] EGDMA [mmol] Porcentaje de agente de reticulacion conjunta con respecto a TAIC [% en moles] VR * 10lb [ohmios*cm]
V1
10,0 3,77
1
9,83 0,25 2,5 4,82
2
9,63 0,50 5,2 8,08
3
9,43 0,76 8,1 8,56
Los resultados expuestos en la tabla 1 demuestran que la combinacion de TAIC y EGDMA da como resultado un aumento claro de la resistencia espedfica. La resistencia espedfica asf obtenida es incluso mayor que la alcanzada con agentes de reticulacion conjunta convencionales.

Claims (15)

  1. 5
    10
    15
    20
    25
    30
    35
    40
    45
    50
    55
    REIVINDICACIONES
    1. - Composicion (A) que comprende
    (i) al menos un compuesto (I) seleccionado del grupo que consiste en isocianurato de trialilo y cianurato de trialilo; y
    (ii) al menos un compuesto de estructura qmmica (II) siendo
    O R2
    (It): V'O^0^ '
    R1 O
    en la que R1, R2 son independientemente entre s^ en cada caso H o metilo,
    y en el que el porcentaje de todos los compuestos de estructura qmmica (II) en la composicion (A), con respecto a todos los compuestos (I) en la composicion (A), se encuentran en el intervalo del 0,01% en moles al 13,5% en moles.
  2. 2. - Composicion (A) segun la reivindicacion 1, en la que el compuesto (I) es isocianurato de trialilo.
  3. 3. - Composicion (A) segun la reivindicacion 1 o 2, en la que R1 y R2 son iguales.
  4. 4. - Composicion (A) segun la reivindicacion 3, en la que R1 = R2 = metilo.
  5. 5. - Composicion (A) segun una de las reivindicaciones 1 a 4, en la que el porcentaje de todos los compuestos de estructura qmmica (II) con respecto a todos los compuestos de estructura qmmica (I) se encuentra en el intervalo del 0,05% en moles al 12,0% en moles.
  6. 6. - Composicion (A) segun la reivindicacion 5, en la que el porcentaje de todos los compuestos de estructura qmmica (II) con respecto a todos los compuestos de estructura qmmica (I) se encuentra en el intervalo del 2,5% en moles al 5,2% en moles.
  7. 7. - Composicion (B) que comprende al menos un copolfmero de poliolefina y una composicion (A) segun una de las reivindicaciones 1 a 6.
  8. 8. - Composicion (B) segun la reivindicacion 7, en la que el copolfmero de poliolefina es un copolfmero de etileno- acetato de vinilo.
  9. 9. - Composicion (B) segun la reivindicacion 8, en la que el copolfmero de etileno-acetato de vinilo presenta un contenido en acetato de vinilo de desde el 15 hasta el 50% en peso, con respecto al peso total del copolfmero de etileno-acetato de vinilo, determinado segun la norma ASTM D 5594:1998.
  10. 10. - Composicion (B) segun una de las reivindicaciones 7 a 9, en la que el porcentaje de composicion (A) se encuentra a del 0,05 a 10% en peso, con respecto a la masa de todos los copolfmeros de poliolefina comprendidos por la composicion (B).
  11. 11. - Composicion (B) segun una de las reivindicaciones 7 a 10, que comprende ademas al menos un iniciador seleccionado del grupo que consiste en compuestos peroxfdicos, compuestos azoicos y fotoiniciadores.
  12. 12. -Composicion (B) segun la reivindicacion 11, en la que el iniciador es un compuesto peroxfdico.
  13. 13. - Composicion (B) segun una de las reivindicaciones 7 a 12, que comprende ademas al menos un compuesto adicional seleccionado del grupo que consiste en agentes de reticulacion, agentes de acoplamiento de silano, antioxidantes, agentes protectores frente al envejecimiento, oxidos metalicos, hidroxidos metalicos y pigmentos blancos.
  14. 14. - Composicion (B) segun la reivindicacion 13, en la que el compuesto adicional es un agente de acoplamiento de silano.
  15. 15. - Uso de una composicion (B) segun una de las reivindicaciones 7 a 14 para la produccion de una pelfcula para encapsular un dispositivo electronico.
ES14199266.9T 2014-12-19 2014-12-19 Sistemas de agentes de reticulación conjunta para películas de encapsulación que comprenden compuestos de di(met)acrilato de etilenglicol Active ES2639818T3 (es)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP14199266.9A EP3034567B1 (de) 2014-12-19 2014-12-19 Covernetzersysteme für Verkapselungsfolien umfassend Ethylenglykoldi(meth)acrylatverbindungen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2639818T3 true ES2639818T3 (es) 2017-10-30

Family

ID=52338882

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES14199266.9T Active ES2639818T3 (es) 2014-12-19 2014-12-19 Sistemas de agentes de reticulación conjunta para películas de encapsulación que comprenden compuestos de di(met)acrilato de etilenglicol

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20160177124A1 (es)
EP (1) EP3034567B1 (es)
JP (1) JP6639218B2 (es)
KR (1) KR102467173B1 (es)
CN (1) CN105713145B (es)
ES (1) ES2639818T3 (es)
PH (1) PH12016000011A1 (es)
TW (1) TW201638176A (es)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3034528B1 (de) 2014-12-19 2017-06-21 Evonik Degussa GmbH Covernetzersysteme für Verkapselungsfolien umfassend Harnstoffverbindungen
EP3034527B1 (de) 2014-12-19 2017-05-31 Evonik Degussa GmbH Covernetzersysteme für Verkapselungsfolien umfassend Bis-(alkenylamid)-Verbindungen
CN111018745B (zh) * 2019-12-12 2022-03-15 吉林奥来德光电材料股份有限公司 一种封装薄膜用化合物、有机薄膜封装材料及封装膜
CN114644894A (zh) * 2020-12-17 2022-06-21 杭州福斯特应用材料股份有限公司 封装组合物、封装胶膜及电子元器件
US20240059933A1 (en) * 2020-12-17 2024-02-22 Hangzhou First Applied Material Co., Ltd. An Encapsulating composition, a composition, an encapsulating glue film, an electronic component and a solar cell assembly

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0753782B2 (ja) * 1985-12-23 1995-06-07 株式会社ブリヂストン 透明膜および該膜を有する積層物
US5266627A (en) 1991-02-25 1993-11-30 Quantum Chemical Corporation Hydrolyzable silane copolymer compositions resistant to premature crosslinking and process
JPH1121541A (ja) 1997-07-07 1999-01-26 Bridgestone Corp 電子デバイス用封止フィルム
JPH1120098A (ja) 1997-07-07 1999-01-26 Bridgestone Corp 電子デバイス用封止フィルム
JPH1120095A (ja) 1997-07-07 1999-01-26 Bridgestone Corp 電子デバイス用封止フィルム
JPH1120097A (ja) 1997-07-07 1999-01-26 Bridgestone Corp 電子デバイス用封止フィルム
JPH1120096A (ja) 1997-07-07 1999-01-26 Bridgestone Corp 電子デバイス用封止フィルム
JPH1120094A (ja) 1997-07-07 1999-01-26 Bridgestone Corp 電子デバイス用封止フィルム
AU7960200A (en) 1999-11-01 2001-05-14 Bridgestone Corporation Sealing composition and sealing method
WO2004029155A2 (en) * 2002-09-30 2004-04-08 E.I. Du Pont De Nemours And Company Curable thermoplastic elastomeric blend, method of manufacture, and use thereof
CN101010366B (zh) * 2004-08-26 2011-01-12 路博润高级材料公司 具有改善的稳定性的涂料组合物
EP1945687A2 (en) * 2005-11-04 2008-07-23 The Dow Global Technologies Inc. Coagent-mediated, grafted copolymers and preparation methods
JP4560001B2 (ja) 2006-04-05 2010-10-13 株式会社ブリヂストン 太陽電池用封止膜及びこの封止膜を用いた太陽電池
JP4605527B2 (ja) 2006-05-09 2011-01-05 積水フイルム株式会社 太陽電池用接着シート
JP4751792B2 (ja) 2006-08-23 2011-08-17 株式会社ブリヂストン 太陽電池封止膜用組成物、太陽電池封止膜及びこれを用いた太陽電池
US8581094B2 (en) 2006-09-20 2013-11-12 Dow Global Technologies, Llc Electronic device module comprising polyolefin copolymer
JP2009135200A (ja) 2007-11-29 2009-06-18 Bridgestone Corp 太陽電池用封止膜及びこれを用いた太陽電池
JP5793831B2 (ja) 2009-05-25 2015-10-14 日本化成株式会社 トリアリルイソシアヌレートの貯蔵方法
JP5351630B2 (ja) * 2009-06-26 2013-11-27 株式会社ブリヂストン 太陽電池用封止膜、及びこれを用いた太陽電池
AU2010279959B8 (en) * 2009-08-07 2013-09-26 Toyo Ink Sc Holdings Co., Ltd. Method for producing resin composition for solar cell sealing material, resin composition for solar cell sealing material, solar cell sealing material, and solar cell module
US8288494B2 (en) 2009-12-31 2012-10-16 Cheil Industries Inc. Transparent thermoplastic resin composition with improved impact strength and melt flow index
JP5615645B2 (ja) 2010-09-22 2014-10-29 三井化学東セロ株式会社 押し出し成形フィルムの製造方法
JP5568436B2 (ja) 2010-10-22 2014-08-06 三井化学東セロ株式会社 架橋性樹脂組成物、およびそれを含む封止剤
DE102010052780A1 (de) 2010-11-30 2012-05-31 Robert Bürkle GmbH Verfahren zum Laminieren von im wesentlichen plattenförmigen Werkstücken
CN102391568A (zh) 2011-09-29 2012-03-28 东方电气集团东方汽轮机有限公司 乙烯-醋酸乙烯酯共聚物封装薄膜
US20140249272A1 (en) * 2011-10-07 2014-09-04 Dai-ich Kpgyo Seiyaku Co., Ltd. Emulsion polymerization method using reactive emulsifier, aqueous polymer dispersion obtained by the same, and polymer film
CN102504715B (zh) 2011-12-01 2014-02-05 宁波华丰包装有限公司 一种太阳能电池eva胶膜
JP5776541B2 (ja) 2011-12-28 2015-09-09 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 太陽電池用保護シート、ならびに太陽電池モジュール
CN102863918B (zh) 2012-10-19 2014-07-30 杭州索康博能源科技有限公司 一种高效率太阳能封装胶膜
CN102911612B (zh) 2012-11-12 2014-01-08 阿特斯(中国)投资有限公司 一种荧光eva胶膜
CN103045105B (zh) 2012-12-11 2014-03-26 江苏鹿山光伏科技有限公司 一种低温超快速固化eva胶膜
KR102092570B1 (ko) 2013-02-21 2020-03-24 미쯔비시 케미컬 주식회사 가교조제 및 그의 응용
CN103525321B (zh) 2013-10-30 2015-03-11 阿特斯(中国)投资有限公司 一种抗pid的光伏eva膜
CN103755876B (zh) 2013-12-31 2016-01-20 广州鹿山新材料股份有限公司 一种极性单体接枝改性的无定型聚α-烯烃及其制备方法
CN110256977B (zh) 2014-02-24 2021-01-05 上海海优威新材料股份有限公司 单层有色eva膜、其制备方法与应用、及太阳能电池组件

Also Published As

Publication number Publication date
CN105713145A (zh) 2016-06-29
TW201638176A (zh) 2016-11-01
PH12016000011A1 (en) 2017-08-30
KR102467173B1 (ko) 2022-11-15
US20160177124A1 (en) 2016-06-23
EP3034567A1 (de) 2016-06-22
CN105713145B (zh) 2020-10-09
JP6639218B2 (ja) 2020-02-05
EP3034567B1 (de) 2017-06-14
KR20160075336A (ko) 2016-06-29
JP2016117891A (ja) 2016-06-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2633243T3 (es) Sistemas de agentes de reticulación conjunta para películas de encapsulación que comprenden compuestos de (met)acrilamida
ES2639818T3 (es) Sistemas de agentes de reticulación conjunta para películas de encapsulación que comprenden compuestos de di(met)acrilato de etilenglicol
EP2808906B1 (en) Sealing film for solar cells, and solar cell using same
JP6671168B2 (ja) 尿素化合物を含む封止膜用共架橋剤系
WO2013058354A1 (ja) 太陽電池用封止膜及びこれを用いた太陽電池
JP6608693B2 (ja) ビス−（アルケニルアミド）化合物を含む封止膜用共架橋剤系
JP2016117896A (ja) 封止膜の製造に使用し易い分散体
ES2635139T3 (es) Sistemas de agentes de reticulación conjunta para películas de encapsulación
JP2013115212A (ja) 太陽電池モジュール用封止材シートの製造方法及びそれを用いた太陽電池モジュールの製造方法
KR101678984B1 (ko) 태양전지용 봉지재 시트 및 이를 포함하는 태양전지 모듈
JP6542782B2 (ja) 太陽電池用封止材及び太陽電池モジュール
KR20170090225A (ko) 태양전지 봉지재 조성물, 이를 포함하는 태양전지 모듈 및 그 제조방법