ES2555487T3

ES2555487T3 - Implante de estructura reticular de celosía

Info

Publication number: ES2555487T3
Application number: ES09796208.8T
Authority: ES
Inventors: Jessee Hunt
Original assignee: 4Web Inc
Current assignee: 4Web Inc
Priority date: 2008-12-18
Filing date: 2009-12-17
Publication date: 2016-01-04
Anticipated expiration: 2029-12-17
Also published as: US20150282933A1; US11510787B2; CA2746505C; EP2358309A1; US20230201002A1; AU2009335771A1; WO2010080511A1; EP2358309B1; US9545317B2; US20170216035A1; US9421108B2; US20100161061A1; US20110196495A1; US20200155326A1; US11278421B2; US8430930B2; AU2009335771B2; US20150282946A1; US20180085230A1; US20150282945A1

Abstract

Un implante (100, 1800) para estar en interconexión con una estructura ósea, caracterizado por que el implante comprende: una estructura de almas (101) que comprende una estructura reticular de celosía espacial que comprende dos o más unidades de estructura reticular de celosía plana (106) que tienen una pluralidad de riostras unidas en unos nodos, en el que la estructura de almas se extiende al interior de una porción central del implante, en el que la estructura de almas está configurada para estar en interconexión con la estructura ósea.

Description

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DESCRIPCION

Implante de estructura reticular de celosla Antecedentes

1. Campo de la invencion: La presente invention se refiere en general a dispositivos medicos y, mas en concreto, a implantes.

2. Description de la tecnica relacionada: Los implantes se pueden usar en seres humanos y / o animales para soportar y / o afianzar uno o mas huesos. Por ejemplo, los implantes se pueden usar en la espina dorsal para soportar y / o sustituir tejido danado entre las vertebras en la espina dorsal. Una vez que se ha implantado entre dos vertebras, el implante puede proporcionar soporte entre las dos vertebras y un crecimiento oseo puede tener lugar en torno a y a traves del implante para fusionar al menos parcialmente las dos vertebras para un soporte a largo plazo. Los implantes pueden incluir unos rebordes relativamente grandes con un material solido que pueden cubrir, por ejemplo, un 50 % del area que interactua con la placa terminal. El reborde puede proporcionar un area de contacto entre el implante y las placas terminales vertebrales. Los rebordes grandes pueden tener varios inconvenientes. Por ejemplo, los rebordes grandes pueden obstaculizar el crecimiento oseo y reducir el tamano de la columna osea que fusiona los cuerpos vertebrales superior e inferior.

Los implantes espinales pueden incluir unos canales abiertos a traves del centro de los rebordes de soporte en una direction superior / inferior. El diseno de canal abierto puede requerir que los miembros del implante que separan los rebordes que interactuan con las placas terminales vertebrales absorban las fuerzas de compresion entre las placas terminales vertebrales. Esto puede aumentar la presion sobre areas mas pequenas de las placas terminales vertebrales y puede conducir en potencia a puntos de concentration de tensiones en las placas terminales vertebrales. Ademas, a pesar de que el material de injerto oseo se usa a menudo junto con implantes para estimular el crecimiento oseo, el diseno de columna abierta de los implantes puede reducir la probabilidad de que el material de injerto oseo se afiance por si solo al implante lo que podrla dar como resultado una cooperation biomecanica que no es propicia para promover una buena fusion.

El material de injerto oseo se puede compactar en el implante en un estado de alta presion para evitar que el material de injerto oseo salga del implante mientras que se esta colocando entre las placas terminales vertebrales. El estado de alta presion tambien puede reducir el potencial de que el material de injerto oseo se afloje debido al movimiento entre el implante y las placas terminales vertebrales o las fuerzas de compresion que se experimentan durante el asentamiento del implante. Ademas, un entorno de alta presion puede permitir que el material de injerto oseo se remodele y se fusione con una mayor resistencia. No obstante, puede ser diflcil crear y mantener estados de alta presion para el material de injerto oseo en un implante.

La solicitud internacional WO01/28460A1 proporciona una estructura porosa tridimensional para su uso como dispositivo de aumento de fusion o reemplazo de masa osea.

Sumario

Diversos sistemas de implante y aparatos relacionados, y metodos de accionamiento de los mismos se describen en el presente documento. Un implante para estar en interconexion con una estructura osea incluye una estructura de almas, que incluye una estructura reticular de celosla espacial, que esta configurada para estar en interconexion con tejido oseo humano. La estructura reticular de celosla espacial incluye dos o mas unidades de estructura reticular de celosla plana que tienen una pluralidad de riostras unidas en unos nodos.

En determinadas realizaciones, el implante incluye una estructura reticular de celosla espacial y una estructura reticular de celosla externa. La estructura reticular de celosla externa incluye una o mas estructuras reticulares de celosla planas que tienen dos o mas unidades de estructura reticular de celosla plana adyacentes que se encuentran en sustancialmente el mismo plano.

En algunas realizaciones, las unidades de estructura reticular de celosla plana incluyen una unidad de estructura reticular de celosla triangular plana que tiene tres riostras sustancialmente rectas y tres nodos en una configuration triangular. La estructura reticular de celosla espacial puede incluir una pluralidad de unidades de estructura reticular de celosla plana que estan acopladas entre si, en la que cada una de las unidades de estructura reticular de celosla se encuentra en un plano que no es sustancialmente paralelo con respecto a un plano de una unidad de estructura reticular de celosla adyacente que comparte al menos una riostra.

En algunas realizaciones, al menos una riostra pasa a traves de la portion central del implante. Por lo menos una riostra puede conectar dos o mas vertices opuestos de la unidad de estructura reticular de celosla comun de forma cuadrada. Por lo menos una riostra puede conectar dos vertices opuestos del octaedro.

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En algunas realizaciones, el implante incluye una estructura de estructura reticular de celosla externa. La estructura de estructura reticular de celosla externa incluye una o mas estructuras reticulares de celosla planas que comprenden dos o mas unidades de estructura reticular de celosla plana dispuestas en las proximidades de una parte exterior de la estructura reticular de celosla espacial. La estructura de estructura reticular de celosla externa incluye al menos una de una parte de arriba, una parte de debajo, o una porcion lateral de la estructura de almas.

El implante puede incluir unas caras de arriba y de debajo en las que al menos una porcion de las caras de arriba y de debajo presentan un angulo una en relacion con otra para proporcionar lordosis. La lordosis se puede configurar para ser mas de aproximadamente cuatro grados. El implante incluye adicionalmente una porcion de estructura de estructura reticular de celosla externa de arriba y una porcion de estructura de estructura reticular de celosla externa de debajo en angulo una en relacion con otra de tal modo que un espesor de una region anterior o una posterior del implante es mayor que un espesor de la otra de la region anterior o la posterior del implante.

La estructura de almas esta configurada para proporcionar soporte a lo largo de al menos cuatro planos del implante para resistir frente a la fuerzas de traccion, de compresion y cortantes que actuan sobre el implante.

En algunas realizaciones, la estructura reticular de celosla espacial comprende unas unidades de estructura reticular de celosla que forman una pluralidad de tetraedros. Por lo menos dos de la pluralidad de tetraedros se acoplan entre si por medio de una o mas riostras que conectan dos vertices respectivos sobre cada uno de los dos tetraedros. La estructura reticular de celosla espacial puede incluir una pluralidad de tetraedros, y en la que al menos dos de los tetraedros comparten una unidad de estructura reticular de celosla comun para formar un hexaedro. La estructura reticular de celosla espacial puede incluir al menos cinco unidades de estructura reticular de celosla que forman una piramide. Por lo menos dos de las piramides se disponen una opuesta a la otra de tal modo que estas comparten una unidad de estructura reticular de celosla comun de forma cuadrada en su base para formar un octaedro.

El implante se puede configurar para su uso como un implante espinal, un dispositivo de corpectomla, en un reemplazo de cadera, en un reemplazo de rodilla, en un armazon de reconstruccion de huesos largos, un implante de pie y de tobillo, un implante de hombro, un reemplazo de articulacion o en un implante craneo-maxilofacial.

En algunas realizaciones, la pluralidad de riostras de la estructura de almas tienen un diametro de menos de aproximadamente cinco millmetros. En algunas realizaciones, las riostras que crean la estructura reticular de celosla espacial comprenden una sustancia biologica, un factor de crecimiento o un agente antimicrobiano acoplado con las mismas.

El implante puede incluir un cuerpo de implante que comprende una o mas caras de contacto que estan configuradas para disponerse en o cerca de una estructura osea durante el uso, en el que la estructura de almas se dispone sobre la superficie de contacto, y en el que la estructura de almas incluye dos o mas riostras que se extienden a partir de la superficie de contacto, y en el que dos o mas de las riostras definen una abertura que esta configurada para posibilitar el crecimiento a traves del hueso a traves de la abertura.

Un metodo incluye acceder a un espacio intersomatico e insertar un implante en el espacio intersomatico. El implante incluye una estructura de almas que incluye una estructura reticular de celosla espacial para estar en interconexion con tejido oseo humano. La estructura reticular de celosla espacial incluye dos o mas unidades de estructura reticular de celosla plana que tienen una pluralidad de riostras unidas en unos nodos.

Un metodo de realization de un implante incluye almacenar un modelo tridimensional del implante en un medio de almacenamiento, aplicar una capa de material a un soporte, mover un haz de electrones en relacion con el soporte para fundir una porcion del material, en el que el haz de electrones se mueve en un patron que se determina a partir del modelo tridimensional de al menos una porcion del implante, y retirar el implante del soporte. El implante incluye una estructura de almas que incluye una estructura reticular de celosla espacial para estar en interconexion con tejido oseo humano. La estructura reticular de celosla espacial incluye dos o mas unidades de estructura reticular de celosla plana que tienen una pluralidad de riostras unidas en unos nodos.

En algunas realizaciones, se proporciona un implante que incluye un cuerpo de implante que tiene una o mas caras de contacto que van a disponerse en o cerca de una estructura osea, y una estructura de estructura reticular de celosla que esta acoplada con la cara de contacto. La estructura de estructura reticular de celosla va a disponerse adyacente a la estructura osea durante el uso, e incluye dos o mas riostras que se extienden a partir de la superficie de contacto, en la que dos o mas de las riostras definen una abertura para posibilitar el crecimiento a traves del hueso a traves de la abertura.

Un metodo incluye acanalar al menos una porcion de una estructura osea para formar una o mas rendijas que se extienden a partir de una cara de la estructura osea a la estructura osea, e insertar al menos una porcion de una estructura de estructura reticular de celosla de un implante en al menos una de las rendijas. El implante incluye un cuerpo de implante que tiene una o mas caras de contacto que van a disponerse en o cerca de la estructura osea y la estructura de estructura reticular de celosla que esta acoplada con la cara de contacto. La estructura de estructura reticular de celosla va a disponerse adyacente a la estructura osea durante el uso, y la estructura de estructura

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reticular de celosla incluye dos o mas riostras que se extienden a partir de la superficie de contacto, en la que dos o mas de las riostras definen una abertura para posibilitar el crecimiento a traves del hueso a traves de la abertura.

Breve descripcion de los dibujos

Se puede obtener una mejor comprension de la presente invencion cuando la siguiente descripcion detallada se considera junto con los siguientes dibujos, en los que:

Las figuras 1A - 1B ilustran unas vistas de un implante con lordosis, de acuerdo con una realizacion.

Las figuras 2A - 2D ilustran unas vistas de un implante sin lordosis, de acuerdo con una realizacion.

Las figuras 3A - 3B ilustran una estructura de almas que esta formada con unos bloques basicos de forma triangular, de acuerdo con una realizacion.

Las figuras 4A - 4B ilustran una estructura de arriba de una estructura de almas interna del implante, de acuerdo con una realizacion.

Las figuras 5A - 5C ilustran unas vistas en seccion progresivas del implante que muestran la estructura interna del implante, de acuerdo con una realizacion.

La figura 5D ilustra una vista isometrica del implante, de acuerdo con una realizacion.

Las figuras 6A - 6D ilustran otra configuracion de la estructura de almas, de acuerdo con una realizacion.

La figura 7A ilustra una estructura de almas que esta formada con dos piramides, de acuerdo con una realizacion.

La figura 7B ilustra una estructura de almas que esta formada con dos heptaedros, de acuerdo con una realizacion.

La figura 7C ilustra una estructura de almas que esta formada con dos dodecaedros, de acuerdo con una realizacion.

Las figuras 8A - 8D ilustran diferentes bloques basicos de estructura de almas, de acuerdo con diversas realizaciones.

La figura 9 ilustra una estructura de almas aleatoria, de acuerdo con una realizacion.

La figura 10 ilustra un diagrama de flujo de un metodo para realizar un implante, de acuerdo con una realizacion. Las figuras 11A - 11D ilustran diversas vistas de un manipulador de implantes, de acuerdo con una realizacion.

La figura 12 ilustra un manipulador de implantes que agarra un implante, de acuerdo con una realizacion.

La figura 13 ilustra un diagrama de flujo de un metodo para implantar un implante espinal, de acuerdo con una realizacion.

La figura 14 ilustra un implante de reemplazo de rodilla que incluye la estructura de almas, de acuerdo con una realizacion.

La figura 15 ilustra un implante de reemplazo de cadera que incluye la estructura de almas, de acuerdo con una realizacion.

La figura 16 ilustra un implante de reconstruccion de huesos largos que incluye la estructura de almas, de acuerdo con una realizacion.

La figura 17 ilustra un implante craneo-maxilofacial que incluye la estructura de almas, de acuerdo con una realizacion.

La figura 18 ilustra una estructura de estructura reticular de celosla dispuesta sobre un implante, de acuerdo con una realizacion.

La figura 19 ilustra un corte realizado en una estructura osea, de acuerdo con una realizacion.

La figura 20 ilustra un miembro de corte, de acuerdo con una realizacion.

Las figuras 21 - 22 ilustran una pluralidad de estructuras de estructura reticular de celosla dispuestas sobre un implante, de acuerdo con una realizacion.

La figura 23 ilustra diversos tipos de estructuras de estructura reticular de celosla dispuestas sobre un implante, de acuerdo con una realizacion.

La figura 24 es un diagrama de flujo que ilustra un metodo de implantacion de un implante, de acuerdo con una realizacion.

Aunque la invencion es susceptible de diversas modificaciones y formas alternativas, se muestran realizaciones especlficas de la misma a modo de ejemplo en los dibujos y se describiran en el presente documento con detalle. Se deberla entender, no obstante, que los dibujos y la descripcion detallada de la misma no tienen por objeto limitar la invencion a la forma particular que se divulga, sino que por el contrario, la intencion es cubrir todas las modificaciones, equivalentes y alternativas que caigan dentro del alcance de la presente invencion tal como se define por las reivindicaciones adjuntas. Observese que, los encabezamientos son solo para fines organizativos y no se pretende que se usen para limitar o interpretar la descripcion o las reivindicaciones.

Descripcion detallada de las realizaciones

Las figuras 1A - 1B ilustran unas vistas del implante 100, de acuerdo con una realizacion. El implante 100 se puede usar, por ejemplo, en una fusion intersomatica lumbar anterior (ALIF, anterior lumbar inter-body fusion) o una fusion intersomatica lumbar posterior (PLIF, posterior lumbar inter-body fusion). En algunas realizaciones, el implante 100 puede incluir una estructura de almas 101 con una o mas estructuras reticulares de celosla 102 (por ejemplo, estructuras reticulares de celosla planas y espaciales). El implante 100 y su estructura de almas 101 se pueden usar

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en diversos tipos de implantes para seres humanos o animales tales como implantes espinales (por ejemplo, veanse las figuras 1A - 2D y 5A - 6D)), dispositivos de corpectomia (por ejemplo, veanse las figuras 2C - 2D), reemplazos de rodilla (por ejemplo, vease la figura 14), reemplazos de cadera (por ejemplo, vease la figura 15), uso de armazones de reconstruction de huesos largos (por ejemplo, vease la figura 16), e implantes craneo-maxilofaciales (por ejemplo, vease la figura 17). Tambien se contemplan otros usos de implante.

Tal como se usa en el presente documento, una “estructura reticular de celosia” es una estructura que tiene una o mas riostras alargadas que estan conectadas en articulaciones a las que se hace referencia como nodos. Las estructuras reticulares de celosia pueden incluir variantes de una estructura reticular de celosia de tipo Pratt, una estructura reticular de celosia de pendolon, una estructura reticular de celosia trapecial, una estructura reticular de celosia de rejilla de Town, una estructura reticular de celosia plana, una estructura reticular de celosia espacial, y / o una estructura reticular de celosia de tipo Vierendeel (tambien se pueden usar otras estructuras reticulares de celosia). Se puede hacer referencia a cada unidad (por ejemplo, una region que tiene un perimetro que esta definido por las riostras alargadas) como “unidad de estructura reticular de celosia”.

Tal como se usa en el presente documento, una “estructura reticular de celosia plana” es una estructura de estructura reticular de celosia en la que la totalidad de las riostras y los nodos se encuentran sustancialmente dentro de un unico plano bidimensional. Una estructura reticular de celosia plana, por ejemplo, puede incluir una o mas “unidades de estructura reticular de celosia” en las que cada una de las riostras es un miembro sustancialmente recto de tal modo que la totalidad de las riostras y los nodos de las una o mas unidades de estructura reticular de celosia se encuentran en sustancialmente el mismo plano. Se hace referencia a una unidad de estructura reticular de celosia en la que cada una de las riostras es un miembro sustancialmente recto de tal modo que la totalidad de las riostras y los nodos de las unidades de estructura reticular de celosia se encuentran en sustancialmente el mismo plano como “unidad de estructura reticular de celosia plana”.

Tal como se usa en el presente documento, una “estructura reticular de celosia espacial” es una estructura reticular de celosia que tiene unas riostras y unos nodos que no estan sustancialmente confinados en un unico plano bidimensional. Una estructura reticular de celosia espacial puede incluir dos o mas estructuras reticulares de celosia planas (por ejemplo, unas unidades de estructura reticular de celosia plana) en las que al menos una de las dos o mas estructuras reticulares de celosia planas se encuentra en un plano que no es sustancialmente paralelo con respecto a un plano de al menos una o mas de las otras dos o mas estructuras reticulares de celosia planas. Una estructura reticular de celosia espacial, por ejemplo, puede incluir dos unidades de estructura reticular de celosia plana adyacentes entre si (por ejemplo, compartiendo una riostra comun) en las que cada una de las unidades de estructura reticular de celosia plana se encuentran en unos planos separados que presentan un angulo uno con respecto a otro (por ejemplo, no paralelos entre si).

Tal como se usa en el presente documento, una “estructura reticular de celosia triangular” es una estructura que tiene una o mas unidades triangulares que se forman mediante tres riostras rectas que estan conectadas en articulaciones a las que se hace referencia como nodos. Por ejemplo, una estructura reticular de celosia triangular puede incluir tres miembros de riostra alargados rectos que se acoplan entre si en tres nodos para formar una estructura reticular de celosia de forma triangular. Tal como se usa en el presente documento, una “estructura reticular de celosia triangular plana” es una estructura de estructura reticular de celosia triangular en la que la totalidad de las riostras y los nodos se encuentran sustancialmente dentro de un unico plano bidimensional. Se puede hacer referencia a cada unidad triangular como “unidad de estructura reticular de celosia triangular”. Se hace referencia a una unidad de estructura reticular de celosia triangular en la que cada una de las riostras es un miembro sustancialmente recto de tal modo que la totalidad de las riostras y los nodos de las unidades de estructura reticular de celosia triangular se encuentran en sustancialmente el mismo plano como “unidad de estructura reticular de celosia triangular plana”. Tal como se usa en el presente documento, una “estructura reticular de celosia espacial triangular” es una estructura reticular de celosia espacial que incluye una o mas unidades de estructura reticular de celosia triangular.

En diversas realizaciones, las estructuras reticulares de celosia 102 de la estructura de almas 101 pueden incluir una o mas unidades de estructura reticular de celosia plana (por ejemplo, unas unidades de estructura reticular de celosia triangular plana) que se construyen con unos miembros rectos o curvados / arqueados (por ejemplo, unas riostras) que estan conectados en diversos nodos. En algunas realizaciones, las estructuras reticulares de celosia 102 pueden ser microestructuras reticulares de celosia. Una “microestructura reticular de celosia” puede incluir una estructura reticular de celosia que tiene unas dimensiones lo bastante pequenas de tal modo que una pluralidad de microestructuras reticulares de celosia se pueden ensamblar o acoplar de otro modo entre si para formar una estructura de almas que tiene una dimension global lo bastante pequena (por ejemplo, altura, longitud y anchura) de tal modo que sustancialmente la totalidad de la estructura de almas se puede insertar en una ubicacion de implante (por ejemplo, entre dos vertebras). Una estructura de almas de este tipo y sus microestructuras reticulares de celosia por lo tanto se pueden emplear para recibir y distribuir por la totalidad de la estructura de almas las fuerzas de carga del tejido circundante (por ejemplo, vertebra, hueso, o similares). En una realization, los diametros de las riostras que forman la microestructura reticular de celosia se pueden encontrar en un diametro de entre aproximadamente 0,25 milimetros (mm) y 5 mm (por ejemplo, un diametro de aproximadamente 0,25 mm, 0,5 mm, 0,6 mm, 0,7 mm, 0,8 mm, 0,9 mm, 1 mm, 2 mm, 3 mm, 4 mm, o 5 mm). En una realizacion, una microestructura

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reticular de celosla puede tener una longitud o anchura global de menos de aproximadamente 1 pulgada (2,54 cm) (por ejemplo, una longitud de menos de aproximadamente 0,9 pulgadas (2,29 cm), 0,8 pulgadas (2,03 cm), 0,7 pulgadas (1,78 cm), 0,6 pulgadas (1,52 cm), 0,5 pulgadas (1,27 cm), 0,4 pulgadas (1,01 cm), 0,3 pulgadas (0,76 cm), 0,2 pulgadas (0,51 cm), 0,1 pulgadas (0,25 cm)).

Tal como se representa, por ejemplo, en las figuras 1A - 1B, la estructura de almas 101 se puede extender por la totalidad del implante 100 (incluyendo la porcion central del implante 100) para proporcionar soporte por la totalidad del implante 100. Las estructuras reticulares de celosla 102 del implante 100 por lo tanto pueden soportar el implante 100 contra fuerzas de traccion, de compresion y cortantes. La estructura de almas de las estructuras reticulares de celosla 102 tambien puede reforzar el implante 100 a lo largo de multiples planos. La estructura de estructura reticular de celosla externa puede, por ejemplo, proporcionar soporte contra fuerzas de traccion y de compresion que actuan en vertical a traves del implante, y la estructura de almas interna puede proporcionar soporte contra fuerzas de traccion, de compresion y cortantes a lo largo de los diversos planos que contienen las estructuras reticulares de celosla respectivas. En algunas realizaciones, la estructura de almas incluye unas estructuras reticulares de celosla 102 que forman una estructura de almas triangulada con multiples riostras (por ejemplo, las riostras 103a - f) (en general, se hace referencia a las riostras en el presente documento como “riostras 103”).

En una realizacion, la estructura de almas 101 del implante 100 puede incluir una estructura de almas interna que esta encerrada al menos parcialmente por una estructura de estructura reticular de celosla externa. Por ejemplo, en una realizacion, la estructura de almas 101 puede incluir una estructura de almas interna que incluye una estructura reticular de celosla espacial que tiene al menos una porcion de la estructura reticular de celosla espacial rodeada por una estructura de estructura reticular de celosla externa que incluye una o mas estructuras reticulares de celosla planas formadas con una pluralidad de unidades de estructura reticular de celosla plana que se encuentran sustancialmente en un unico plano. La figura 1A representa una realizacion del implante 100 y la estructura de almas 101 que incluye la estructura de almas interna 104 y una estructura de estructura reticular de celosla externa 105. En la realizacion que se ilustra, la estructura de almas interna 104 incluye una estructura reticular de celosla espacial que esta definida por una pluralidad de unidades de estructura reticular de celosla plana 106 que estan acopladas con un angulo una con respecto a otra de tal modo que cada unidad de estructura reticular de celosla adyacente es no coplanaria con cada una de las unidades de estructura reticular de celosla adyacentes. Las unidades de estructura reticular de celosla adyacentes pueden incluir dos unidades de estructura reticular de celosla que comparten una riostra y los dos nodos respectivos en los extremos de la riostra compartida.

En una realizacion, la estructura de estructura reticular de celosla externa 105 incluye una pluralidad de estructuras reticulares de celosla planas que se acoplan alrededor de una porcion exterior, interior u otra porcion del implante. Por ejemplo, en la realizacion que se ilustra, la estructura de estructura reticular de celosla externa 105 incluye una serie de estructuras reticulares de celosla planas 107a, b que se acoplan entre si. Cada estructura reticular de celosla plana 107a, b incluye una pluralidad de unidades de estructura reticular de celosla plana 108 que se acoplan entre si y se encuentran sustancialmente en el mismo plano. Tal como se representa, la estructura reticular de celosla plana 107a incluye cuatro unidades de estructura reticular de celosla plana triangular 108 que tienen un vertice comun 110 y que estan dispuestas para formar una estructura generalmente rectangular que se encuentra en un unico plano comun 109. Dicho de otra forma, las cuatro unidades de estructura reticular de celosla estan dispuestas para formar una estructura sustancialmente rectangular que tiene unas riostras con forma de “X” se extienden desde una esquina de la estructura rectangular hasta la esquina opuesta de la estructura rectangular. Tal como se representa, la estructura sustancialmente rectangular puede incluir una forma trapezoidal. Tal como se describe con mas detalle en lo sucesivo, la forma trapezoidal puede ser propicia para proporcionar un implante que incluye lordosis. La lordosis puede incluir una orientacion en angulo de las superficies (por ejemplo, la parte de arriba y la parte de debajo) de un implante que preve diferencias de espesor en las regiones anterior y posterior del implante de tal modo que el implante es propicio para soportar la curvatura de una columna vertebral.

En una realizacion, las estructuras reticulares de celosla planas que forman la estructura reticular de celosla externa se acoplan entre si, y se alinean a lo largo de al menos un eje. Por ejemplo, en la figura 1A, la seccion de estructura reticular de celosla plana 107a esta acoplada con una estructura reticular de celosla plana 107b adyacente. Las secciones de estructura reticular de celosla plana 107a, b no son paralelas en todas las direcciones. Las secciones de estructura reticular de celosla plana 107a, b, no obstante, se disponen en paralelo entre si en al menos una direccion (por ejemplo, la direccion vertical entre las caras de arriba y de debajo del implante 100). Por ejemplo, las estructuras reticulares de celosla planas 107a, b y las estructuras reticulares de celosla planas adicionales se disponen en serie con un angulo una en relacion con otra para formar un recinto de forma generalmente circular o poligonal que tiene unas paredes sustancialmente verticales que estan definidas por las estructuras reticulares de celosla planas y las unidades de estructura reticular de celosla plana que se disponen en la direccion vertical.

En una realizacion, la porcion de estructura reticular de celosla externa puede abarcar los lados, la parte de arriba y / o la parte de debajo del implante. Por ejemplo, en una realizacion, la porcion de estructura reticular de celosla externa puede incluir una region de arriba, unas regiones laterales, y / o una region de debajo. La figura 1A representa una realizacion del implante 100 en la que la porcion de estructura reticular de celosla externa 105 incluye una parte de arriba 111, una parte de debajo 112 y una region lateral 113. Tal como se ha descrito en lo que antecede, la region lateral 113 incluye una serie de estructuras reticulares de celosla planas que se disponen en

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vertical para formar una estructura de tipo anillo circular / poligonal que rodea completa o al menos parcialmente el perlmetro de la estructura reticular de celosla espacial dispuesta en la porcion central del implante 100. En la realizacion que se representa, la porcion de arriba 111 de la estructura de estructura reticular de celosla externa 105 incluye una pluralidad de unidades de estructura reticular de celosla que estan acopladas entre si para formar una estructura reticular de celosla plana que cubren sustancialmente la totalidad de la region de arriba de la estructura de almas interna 104. En la realizacion que se ilustra, la porcion de arriba 111 abarca en su totalidad la region entre los bordes de arriba de la porcion lateral 113 de la estructura de estructura reticular de celosla externa 105. En la realizacion que se ilustra, la porcion de arriba 111 se forma a partir de una unica estructura reticular de celosla plana que incluye una pluralidad de unidades de estructura reticular de celosla que se encuentran en sustancialmente el mismo plano. Dicho de otra forma, la estructura reticular de celosla plana de la porcion de arriba 111 define una superficie generalmente llana. A pesar de que es diflcil de ver en la figura 1, la superficie inferior del implante 100 puede incluir la porcion de debajo 112 que tiene una configuracion similar a la de la porcion de arriba 111. En otras realizaciones, la estructura de estructura reticular de celosla externa 105 puede incluir unas porciones de estructura reticular de celosla externa lateral, de arriba y / o de debajo parciales. O puede no incluir una o mas de las porciones de estructura reticular de celosla externa lateral, de arriba y de debajo. Por ejemplo, tal como se describe con mas detalle en lo sucesivo, la figura 2C representa una realizacion del implante 100 que incluye una estructura de almas interna 104 que incluye una estructura reticular de celosla espacial, y no tiene una estructura de estructura reticular de celosla externa.

En algunas realizaciones, el implante 100 puede incluir un material biocompatible tal como una aleacion de titanio (por ejemplo, Y-aluminuros de titanio), cobalto, cromo, acero inoxidable, polieteretercetona (PEEK), ceramica, etc. Tambien se contemplan otros materiales. En algunas realizaciones, el implante 100 se puede realizar a traves de un proceso de desarrollo rapido de prototipos (por ejemplo, un proceso de fusion por haces de electrones (EBM, electron beam melting)) tal como se describe adicionalmente en lo sucesivo. Tambien son posibles otros procesos (por ejemplo, moldeo por inyeccion, colada, sinterizacion, sinterizacion selectiva por laser (SLS, selective laser sintering), sinterizacion directa de metal por laser (DMLS, Direct Metal Laser Sintering), etc.). La SLS puede incluir sinterizacion por laser de pollmeros de alto rendimiento tales como los proporcionados por EOS of North America, Inc., con sede en Novi, Michigan, EE. UU. Los pollmeros de alto rendimiento pueden incluir diversas formas de PEEK (por ejemplo, HP3 que tiene una resistencia a esfuerzos de traccion de hasta aproximadamente 95 megapascales (MPa) y un modulo de Young de hasta aproximadamente 4400 MPa y una temperatura de funcionamiento continuo de entre aproximadamente 180 °C (356 °F) y 260 °C (500 °F)). Otros materiales pueden incluir PA 12 y PA 11 proporcionados por EOS of North America, Inc.

Tal como se ha descrito en lo que antecede, en algunas realizaciones las estructuras reticulares de celosla pueden formar una estructura de almas triangulada con multiples riostras 103. La estructura de almas puede incluir un patron de bloques basicos geometricos. En algunas realizaciones, los bloques basicos geometricos pueden incluir triangulos. En algunas realizaciones, los bloques basicos geometricos pueden incluir unos poliedros tales como tetraedros (por ejemplo, veanse los tetraedros 300a, b en la figura 3), pentaedros, hexaedros, heptaedros (por ejemplo, vease el heptaedro 801 en la figura 8A) y piramides (por ejemplo, veanse las piramides 705a, b en la figura 7A), los heptaedros 705a, b en la figura 7B), octaedros (por ejemplo, vease el octaedro 803 en la figura 8B), dodecaedros (por ejemplo, veanse los dodecaedros 700a, b en la figura 7C), e icosaedros (por ejemplo, vease el icosaedro 805 en la figura 8C). Tambien se contemplan otros bloques basicos geometricos (por ejemplo, los fullerenos esfericos 807 en la figura 8D). En algunas realizaciones, tales como las que se han descrito en lo que antecede, la estructura reticular de celosla espacial de la estructura de almas puede conectar multiples puntos medios de bloques basicos con forma de tetraedro e incluir un patron regular de bloques con forma de tetraedro que se disponen adyacentes entre si. En algunas realizaciones, la estructura de almas puede no incluir un patron de bloques basicos geometricos. Por ejemplo, la figura 9 ilustra un patron irregular de riostras 103 que se puede usar en el implante 100. Tambien se contemplan otras estructuras de almas.

Las figuras 3A - 3B ilustran una estructura de almas que esta formada con unos bloques basicos de forma triangular, de acuerdo con una realizacion. Los bloques basicos de forma triangular pueden formar los tetraedros 300a, b que tambien se pueden usar como bloques basicos (tambien se contemplan otros patrones a partir de los triangulos). Tambien se contemplan otros bloques basicos (por ejemplo, unos bloques basicos de forma cuadrada). En algunas realizaciones, una estructura de almas puede incluir un unico tetraedro, tal como el tetraedro 300a o 300b sola o en combinacion con otras una o mas estructuras de almas. En algunas realizaciones, la estructura de almas 313 puede incluir dos o mas tetraedros 300a, b. El tetraedro 300a puede incluir cuatro caras triangulares en las que tres de los cuatro triangulos se encuentran en cada vertice. En algunas realizaciones, dos tetraedros 300a y 300b se pueden colocar juntos en dos caras adyacentes para formar la estructura de almas 313 con un bastidor con forma de hexaedro (incluyendo seis caras). La estructura de almas con forma de hexaedro 313 puede incluir un primer vertice 301, un segundo vertice 309, un tercer vertice 303, un cuarto vertice 305 y un quinto vertice 307. El plano comun 311 puede ser compartido por dos tetraedros (por ejemplo, el plano comun 311 puede incluir el tercer vertice 303, el cuarto vertice 305 y el quinto vertice 307) para formar un hexaedro con el primer vertice 301 y el segundo vertice 309 alejados del plano comun 311. Tal como se representa, la porcion central de los bloques basicos de forma triangular puede tener una region hueca en su centro que no incluye miembro adicional alguno (por ejemplo, sin miembros que no sean las riostras que forman los bloques basicos de forma triangular) que se extienda a traves de la misma.

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Tal como se observa en la figura 3B, en algunas realizaciones, multiples estructuras de almas con forma de hexaedro 313 se pueden disponer de forma que esten unas junto a otras. Dos estructuras de almas 313 del implante 100 se pueden conectar por medio de sus primeros vertices 301a, b a traves de la riostra 103r y se pueden conectar por medio de sus segundos vertices 309a, b a traves de la riostra 103t. De forma similar, dos estructuras de almas 313 se pueden conectar por medio de sus primeros vertices 301c, d a traves de la riostra 103p y se pueden conectar por medio de sus segundos vertices 309c, d a traves de la riostra 103s. Tambien son posibles otras conexiones. Por ejemplo, las estructuras de almas 313 se pueden conectar directamente a traves de los vertices laterales (por ejemplo, directamente a traves de los vertices correspondientes (tal como los vertices 303a, b) y / o comparten una riostra comun (tal como la riostra 103u)) y / o a traves de una cara lateral (por ejemplo, las caras laterales 111a, b). Tambien se muestran otras riostras (por ejemplo, las riostras 103v, 103w).

La figura 4A ilustra unas riostras 103 adicionales (por ejemplo, las riostras 103p y 103r) que conectan los primeros vertices (que se representan, respectivamente, por 301a, 301b, 301c, y 301d) de cuatro estructuras de almas con forma de hexaedro 313 en el implante 100. La figura 4B ilustra unas riostras 103 adicionales (por ejemplo, las riostras 103s y 103t) que conectan los segundos vertices 309 (que se representan, respectivamente, por 309a, 309b, 309c, y 309d) de cuatro estructuras de almas con forma de hexaedro 313 en el implante 100. En algunas realizaciones, unas riostras 103 adicionales tambien se pueden usar internamente entre uno o mas vertices de las estructuras de almas para formar unas estructuras reticulares de celosla adicionales (por ejemplo, veanse las estructuras de almas en las figuras 1A - 2B) (tambien son posibles otras estructuras).

En algunas realizaciones, la superficie de arriba 115a y la superficie de debajo 115b del implante 100 pueden incluir triangulos, cuadrados, clrculos u otras formas (por ejemplo, un diseno aleatorio o personalizado). Las superficies de arriba y de debajo 115a, b se pueden usar para conectar los vertices de arriba y de debajo de diversos bloques basicos geometricos que se usan en la estructura de almas del implante 100. Por ejemplo, cada vertice se puede conectar a traves de riostras con los vertices colindantes de otros bloques basicos geometricos. La superficie de arriba 115a puede incluir otras redes y / o conexiones de riostras. En algunas realizaciones, la superficie de debajo 115b puede ser el reflejo especular de la superficie de arriba (y / o tener otros disenos). En algunas realizaciones, la superficie de arriba 115a y la superficie de debajo 115b se pueden enganchar con unas superficies respectivas de dos vertebras adyacentes cuando se implanta el implante 100.

Tal como se representa en la figura 1B, el implante 100 puede incluir lordosis (por ejemplo, un angulo en las superficies de arriba y / o de debajo 115a, b aproximadamente en un rango de 4 a 15 grados (tal como 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, o 15 grados)) para soportar adicionalmente las vertebras adyacentes cuando se implanta. Tal como se ha descrito en lo que antecede, la lordosis puede incluir una orientacion en angulo de las superficies (por ejemplo, la parte de arriba y la parte de debajo) que preven diferencias de espesor en las porciones anterior y posterior del implante de tal modo que el implante es propicio para soportar la curvatura de una columna vertebral. En la realization que se ilustra, el espesor del implante 100 es mayor en o cerca de la portion anterior 118 y menor en o cerca de la porcion posterior 120 del implante. En la realizacion que se ilustra, las porciones laterales de la estructura de estructura reticular de celosla externa 105 se disponen sustancialmente en vertical, y la lordosis se forma mediante los angulos de la porcion de arriba 111 y la porcion de debajo 112 de la estructura de estructura reticular de celosla externa 105. Por ejemplo, en la realizacion que se ilustra, la porcion de arriba 111 y la porcion de debajo 112 de la estructura de estructura reticular de celosla externa 105 no son perpendiculares con respecto al plano vertical que esta definido por la porcion lateral 113. Mas bien, la porcion de arriba 111 y la porcion de debajo 112 se disponen con un angulo agudo en relation con el plano vertical de la porcion lateral 113 en o cerca de la region anterior 118 del implante 100 y con un angulo obtuso en relacion con el plano vertical de la porcion lateral 113 en o cerca de la region 120 del implante 100. Tal como se representa, las riostras verticales 103 que forman la estructura reticular de celosla plana de la porcion lateral 113 de la estructura de estructura reticular de celosla externa 105 en las proximidades de la region posterior 120 del implante 100 son mas cortas que las riostras 103 que forman la porcion lateral 113 de la estructura de estructura reticular de celosla externa 105 en las proximidades de la region anterior 118 del implante 100. En la realizacion que se ilustra, en la que las estructuras reticulares de celosla verticales 103 estan separadas sustancialmente de manera uniforme, las riostras 103 que forman los miembros en cruz “X” de las estructuras reticulares de celosla planas laterales en las proximidades de la region posterior 120 del implante 100 son mas cortas que las riostras que forman los miembros en cruz “X” de las estructuras reticulares de celosla planas laterales en las proximidades de la region anterior 118 del implante 100. Otras realizaciones pueden incluir variaciones en la disposition de las estructuras reticulares de celosla para proporcionar diversas configuraciones del implante. Por ejemplo, en algunas realizaciones solo una o ninguna de las porciones de estructura reticular de celosla externa de arriba y de debajo puede ser no perpendicular con respecto a las porciones laterales de la estructura reticular de celosla externa en las proximidades de las porciones anterior y posterior del implante. Ademas, las porciones laterales, de arriba y / o de debajo pueden incluir multiples estructuras reticulares de celosla planas en angulo una en relacion con otra en cualquier orientacion. Por ejemplo, las porciones de arriba y de debajo pueden incluir cuatro estructuras reticulares de celosla planas, formada cada una por multiples unidades de estructura reticular de celosla, de tal modo que la porcion o porciones incluye una forma de tipo piramidal.

En algunas realizaciones, el implante puede no incluir lordosis. Por ejemplo, las figuras 2A - 2B ilustran dos vistas de una realizacion de un implante 200 sin lordosis. En algunas realizaciones, la superficie de arriba y la superficie de debajo pueden no incluir unas riostras de conexion. Por ejemplo, las figuras 2C - 2D ilustran dos vistas del implante

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250 sin riostras exteriores (por ejemplo, sin porciones de estructura reticular de celosla externa formadas por estructuras reticulares de celosla planas). En la realizacion que se ilustra, el implante 250 incluye la estructura de almas interna 104 (por ejemplo, una estructura reticular de celosla espacial) y no incluye una estructura de estructura reticular de celosla externa. Por ejemplo, en la realizacion que se ilustra, las caras exteriores del implante 250 estan definidas por una pluralidad de unidades de estructura reticular de celosla que presentan un angulo en relacion con cada una de sus unidades de estructura reticular de celosla adyacentes. La alineacion relativa de las unidades de estructura reticular de celosla da como resultado un exterior no plano que incluye una pluralidad de uniones en punta. Las uniones en punta (por ejemplo, la union en punta 201) pueden funcionar para profundizar en el hueso circundante para retener el implante en su lugar (por ejemplo, si el implante se esta usando en un dispositivo de corpectomla).

Las figuras 5A - 5C ilustran unas vistas en seccion progresivas del implante 100 que muestran la estructura interna del implante 100, de acuerdo con una realizacion. La figura 5A ilustra una vista en seccion de una porcion inferior del implante 100. La superficie de debajo 115b se muestra con diversas riostras (por ejemplo, las riostras 103) que se extienden hacia arriba a partir de la superficie de debajo 115b. La figura 5B ilustra una vista en seccion aproximadamente a medio camino a traves del implante 100. Se muestran unas riostras, tal como las riostras 103e - f, compartidas por diversos tetraedros apilados en la estructura de almas. Algunas riostras se extienden a traves de la porcion central 501a y / o 501b del implante 100. La figura 5B tambien muestra las porciones centrales 501a, b del implante 100. En algunas realizaciones, la porcion central 501 a puede incluir una region rectangular que tiene una anchura de aproximadamente un 50 % de la anchura del implante, una altura de aproximadamente un 50 % de la altura del implante, y una longitud de aproximadamente un 50 % de la longitud del implante y que esta ubicada en el centro del implante 100. En algunas realizaciones, la porcion central 501b puede abarcar una region (por ejemplo, una region esferica, una region cuadrada, etc.) de aproximadamente un radio de aproximadamente 1 / 8 a 1 / 4 de la anchura del implante 100 en torno a una posicion que esta situada aproximadamente a la mitad de la anchura, aproximadamente la mitad de la longitud, y aproximadamente la mitad de la altura del implante 100 (es decir, el centro del implante 100). Tambien se contemplan otras porciones centrales. Por ejemplo, la porcion central puede incluir una region cuadrada con una longitud de uno de los lados de la region cuadrada de aproximadamente % a ^ de la anchura del implante 100 en torno a una posicion aproximadamente a la mitad de la anchura, aproximadamente la mitad de la longitud, y aproximadamente la mitad de la altura del implante. Una altura 502a, una anchura 502b y una longitud 502c a modo de ejemplo, se muestra en la figura 5D. En algunas realizaciones, la altura puede ser de hasta aproximadamente 75 mm o mas. En algunas realizaciones, tales como las que se usan para la reconstruction de huesos largos, la anchura y / o la longitud podrlan ser de aproximadamente 7 pulgadas (17,78 cm) o mas grandes. En algunas realizaciones, la anchura, la longitud, y / o la altura pueden variar a lo largo del implante 100 (por ejemplo, la altura puede variar si el implante incluye lordosis). La altura se puede tomar en uno de los lados opuestos, la parte intermedia, y / o puede ser un promedio de una o mas alturas a lo largo de la longitud del implante 100. La estructura de almas se puede extender a traves de la porcion central 501 a, b del implante (por ejemplo, al menos una riostra de la estructura de almas puede pasar al menos parcialmente a traves de la porcion central 501 a, b). La figura 5C ilustra otra vista en seccion que muestra unas vistas en seccion de tetraedros de arriba en la estructura de almas. La figura 5D muestra una vista completa del implante 100 que incluye la superficie de arriba 115a con los vertices 301a - d.

Las figuras 6A - 6D ilustran unas realizaciones alternativas del implante 100. En algunas realizaciones, se pueden usar diferentes secciones del diseno geometrico con forma de hexaedro. Por ejemplo, tal como se observa en la figura 6A, se puede usar la mitad de debajo del diseno geometrico con forma de hexaedro (incluyendo principalmente las estructuras de tetraedro inferior). Si se usa la mitad de debajo del diseno, el diseno 600 se puede expandir de forma proporcionada para tener unas dimensiones globales similares a las del diseno geometrico con forma de hexaedro (por ejemplo, los tetraedros se pueden expandir hasta aproximadamente dos veces la altura de los tetraedros en el diseno geometrico con forma de hexaedro para dar al diseno 600 una altura que es aproximadamente la misma que la del diseno geometrico con forma de hexaedro). En algunas realizaciones, el diseno 600 tambien puede presentar un angulo (por ejemplo, sobre la superficie de arriba 601a y / o la superficie de debajo 601b) para proveer al diseno 600 con lordosis para, en algunas realizaciones, tener un mejor ajuste entre las placas terminales vertebrales. La superficie de arriba 601a y / o la superficie de debajo 601b tambien pueden incluir unas riostras para conectar nodos del diseno 600 (por ejemplo, vease la red de riostras sobre la superficie de arriba en la figura 6a). Tambien se pueden usar otros patrones de riostras para la superficie de arriba 601a y / o la superficie de debajo 601b. En algunas realizaciones, el diseno 600 puede no incluir angulos negativos entre las riostras y por lo tanto puede ser mas facil de crear a traves de un proceso de colada o de moldeo.

Las figuras 6C - 6D ilustran otra realizacion alternativa del implante 100. En algunas realizaciones, se puede usar aproximadamente el 40 a 60 por ciento intermedio del diseno geometrico con forma de hexaedro. Por ejemplo, si una altura global del diseno geometrico con forma de hexaedro es de aproximadamente 37 mm, aproximadamente los 10 mm superiores y aproximadamente los 10 mm inferiores del diseno se pueden eliminar y se pueden usar aproximadamente los 17 mm intermedios del diseno para el implante. Entonces, el diseno de porcion intermedia 650 se puede expandir de forma proporcionada de tal modo que la altura aproximada del diseno expandido puede ser de aproximadamente 37 mm (o una altura diferente segun sea necesario). La superficie de arriba 651 a y la superficie de debajo 651b pueden incluir una red de riostras (por ejemplo, veanse las riostras sobre la superficie de arriba 651a de la figura 6C) (tambien se contemplan otras redes de riostras). Tambien se contemplan otras porciones del diseno

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para el implante (por ejemplo, la mitad de arriba del diseno que se muestra en la figura 1A, la mitad de debajo del diseno que se muestra en la figura 1A, etc.). Unas porciones del diseno se pueden expandir de forma proporcionada para cumplir con unas dimensiones especificadas (por ejemplo, una altura, una anchura y una longitud especificadas). En algunas realizaciones, la cantidad de riostras se puede reducir o el material en el implante se puede volver a distribuir de tal modo que algunas riostras pueden tener un diametro mas grande y algunas pueden tener un diametro mas pequeno (por ejemplo, los diferentes diametros pueden reforzar contra diferentes fuerzas direccionales). En algunas realizaciones, se puede usar una jaula de diseno parcial (por ejemplo, con la mitad de la estructura de almas de tal modo que la estructura incluye un tetraedro. Ademas, en algunas realizaciones, el implante puede incluir unas superficies en angulo (por ejemplo, una superficie de arriba en angulo 651a y / o una superficie de debajo en angulo 651b) para proporcionar lordosis para implantes que van a implantarse entre las placas terminales vertebrales.

En algunas realizaciones, la estructura de almas del implante 100 puede distribuir fuerzas por la totalidad del implante 100 cuando se implanta. Por ejemplo, las riostras de conexion de la estructura de almas se pueden extender por la totalidad del nucleo del implante 100, y la interconectividad de las riostras 103 puede dispersar la tension de las fuerzas de compresion por la totalidad del implante 100 para reducir el potencial de puntos de concentracion de tensiones (la distribution de fuerzas por la totalidad del implante 100 puede evitar la concentration de tension sobre una o mas porciones de las vertebras que de lo contrario puede dar como resultado dano a las vertebras).

En algunas realizaciones, la estructura de almas del implante 100 (por ejemplo, las riostras externas e internas del implante 100) tambien puede proporcionar un area superficial para la fusion de injerto oseo. Por ejemplo, la estructura de almas que se extiende por la totalidad del implante 100 puede anadir unas areas superficiales adicionales (por ejemplo, sobre la superficie de las riostras que constituyen el implante 100) para fusionarse con el material de injerto oseo y evitar que el material de injerto oseo se afloje o se desplace con respecto al implante 100. En algunas realizaciones, la estructura de almas tambien puede soportar la increscencia osea. Por ejemplo, cuando se implanta, el hueso adyacente (por ejemplo, las vertebras si el implante se usa como un implante espinal) puede crecer por encima de al menos una portion de las riostras 103 del implante 100. El crecimiento oseo y el enganche entre el crecimiento oseo y el implante 100 pueden estabilizar adicionalmente el implante 100. En algunas realizaciones, las superficies del implante 100 se pueden formar con una superficie rugosa para ayudar a la adhesion de increscencias oseas.

En algunas realizaciones, las riostras 103 pueden tener un diametro aproximadamente en un rango de aproximadamente 0,025 a 5 millmetros (mm) (por ejemplo, 1,0 mm, 1,5 mm, 3 mm, etc.). Tambien se contemplan otros diametros (por ejemplo, mas de 5 mm). En algunas realizaciones, las riostras pueden tener una longitud aproximadamente en un rango de 0,5 a 20 mm (por ejemplo, dependiendo del tamano de implante necesario para, por ejemplo, caber en una separation entre las placas terminales vertebrales). Como otro ejemplo, las riostras pueden tener una longitud aproximadamente en un rango de 30 - 40 mm para un implante de cadera. En algunas realizaciones, el tamano de riostra reducido de la estructura de almas puede permitir que las celulas abiertas en el implante 100 faciliten el crecimiento oseo (por ejemplo, el hueso puede crecer a traves de las celulas abiertas una vez que el implante 100 se ha implantado en el cuerpo). La subsidencia promedio para implantes puede ser de aproximadamente 1,5 mm dentro de las primeras 3 semanas tras la operation (tambien es posible otra subsidencia (por ejemplo, aproximadamente entre 0,5 y 2,5 mm)). Un tamano de riostra que aproximadamente coincide con la subsidencia (por ejemplo, un tamano de riostra de aproximadamente 1,5 mm de diametro y una subsidencia de aproximadamente 1,5 mm) puede dar como resultado una impedancia neta 0 (por ejemplo, el crecimiento oseo que crece en torno a las riostras) despues de que el implante 100 se haya asentado en la position de implantation. La impedancia neta 0 por la plena totalidad del area superficial de la superficie de interconexion de implante / placa terminal vertebral puede dar como resultado una columna de fusion de hueso mas grande que puede dar como resultado una fusion mas estable. Tambien se contemplan otros tamanos de columna de fusion. La configuration del implante 100 puede volver a distribuir el metal por la totalidad del implante 100. En algunas realizaciones, un reborde puede no estar incluido sobre el implante 100 (en algunas realizaciones, se puede incluir un reborde). El crecimiento oseo resultante (por ejemplo, la columna espinal) puede crecer a traves del implante 100.

En algunas realizaciones, mas de un 50 % del volumen interior del implante 100 puede ser abierto. En algunas realizaciones, mas de un 60 %, mas de un 70 %, y / o mas de un 80 % del implante 100 puede ser abierto (por ejemplo, un 95 %). En algunas realizaciones, el volumen abierto se puede cargar con un material de crecimiento oseo. Por ejemplo, el hueso esponjoso se puede compactar en una region abierta / interna del implante 100.

En algunas realizaciones, al menos una porcion de las superficies del implante 100 se puede revestir / tratar con un material con el objeto de promover el crecimiento oseo y / o la adhesion osea y / o un agente antimicrobiano para evitar infecciones. Por ejemplo, en algunas realizaciones, la superficie de las riostras (por ejemplo, las riostras 103 que forman la estructura de almas) se puede revestir con una sustancia biologica y / o un factor de crecimiento oseo. En algunas realizaciones, una sustancia biologica puede incluir un revestimiento, tal como hidroxiapatita, protelna morfogenetica osea (BMP, bone morphaginic protein), factores de crecimiento de tipo insulina I y II, factor de crecimiento transformante beta, factor de crecimiento para fibroblastos acido y basico, factor de crecimiento derivado de plaquetas, y / o un estimulante del crecimiento oseo similar que facilite una buena fijacion biologica entre el

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crecimiento oseo y una superficie del implante. En algunas realizaciones, un factor de crecimiento oseo puede incluir una sustancia de origen natural capaz de estimular el crecimiento celular, la proliferacion y la diferenciacion celular (por ejemplo, una protelna u hormona esteroidea).

En algunas realizaciones, una sustancia biologica y / o un factor de crecimiento se pueden afianzar a una region central del implante 100. Por ejemplo, en algunas realizaciones, se puede proporcionar una sustancia biologica o un factor de crecimiento sobre al menos una porcion de una riostra que se extiende a traves de la porcion central 501a y / o 501b del implante 100. Una realizacion de este tipo puede posibilitar la entrega de una sustancia biologica y o un factor de crecimiento a una porcion central de un implante. Por ejemplo, la sustancia biologica o el factor de crecimiento se puede afianzar flsicamente a una riostra en una porcion central del implante 100 en contraposicion a compactarse en un volumen abierto que no incluye una riostra provista en el mismo para la union flsica de la sustancia biologica y / o el factor de crecimiento.

A medida que el implante 100 se asienta en el sitio de implante, la subsidencia puede imponer una presion adicional sobre el material de injerto oseo (que ya se puede encontrar bajo fuerzas de compresion en el implante 100) y actuar para empujar el material de injerto oseo hacia los lados del implante 100 (de acuerdo con la teorla de Boussinesq del material adyacente, cuando se aplica una fuerza a un miembro que es adyacente a otros materiales (tal como arena, tierra o material de injerto oseo) la fuerza contra el miembro crea una zona de presion aumentada (por ejemplo, 60 grados) en el material adyacente). Las riostras 103 de la estructura de almas pueden resistir que sobresalga material de injerto oseo de los lados de la estructura de almas y pueden aumentar la presion del material de injerto oseo. Puede ser necesario que el material de injerto oseo se implante en un entorno de mas alta presion para crear un entorno propicio para un fuerte crecimiento oseo (por ejemplo, de acuerdo con la ley de Wolf de que el hueso en una persona o animal sano se adaptara a las cargas a las que se somete este). La estructura de almas por lo tanto puede aumentar la probabilidad de una fusion mas fuerte.

La figura 7A ilustra una estructura de almas que esta formada con dos piramides, de acuerdo con una realizacion. Los bloques basicos geometricos para el implante 100 incluyen piramides. Por ejemplo, la piramide de arriba / superior 705a y la piramide de debajo / inferior 705b se pueden unir para formar un bloque basico con forma de octaedro 703. Los bloques basicos con forma de octaedro 703 se pueden unir, por ejemplo, en una cara (por ejemplo, una base 706 de las piramides de arriba y de debajo 705a y 705b) al compartir una superficie, etc. En una realizacion una o ambas de la piramide de arriba y de debajo 705a, b pueden incluir una piramide cuadrada. El octaedro resultante por lo tanto incluye unas estructuras de estructura reticular de celosla con forma de dos piramides opuestas que comparten una unidad de estructura reticular de celosla de forma cuadrada comun en su base (por ejemplo, en donde se encuentran las dos bases de las piramides).

Se hace notar adicionalmente que el bloque basico geometrico puede incluir una o mas riostras adicionales que se extienden a traves de una region interior que esta definida por las caras de los bloques basicos. Por ejemplo, en la realizacion que se ilustra, el bloque basico con forma de octaedro que se forma a partir de las piramides de arriba e inferior 705a, b incluye dos riostras 103a que se extienden en sentido diagonal entre vertices opuestos de la cara (por ejemplo, la unidad de estructura reticular de celosla de forma cuadrada) compartida por las piramides de arriba e inferior 705a, b, y que tienen una interseccion 710. Por consiguiente, los vertices opuestos estan conectados directamente por una o mas riostras que se disponen en una llnea sustancialmente recta entre cada par de los vertices opuestos. En una realizacion, las riostras 103a se pueden formar a partir de cuatro secciones de riostra separadas que se extienden desde cada vertice respectivo hasta la interseccion 710. La realizacion que se ilustra tambien incluye una riostra central 103b adicional que se extiende entre los vertices 701, 709 de las piramides de arriba y de debajo 705a, b, y que intersecta las riostras 103a en o cerca de la interseccion 710. En una realizacion, la riostra 103b se puede formar a partir de una o dos secciones de riostra separadas que se extienden desde cada vertice 701, 709 respectivo de las piramides de arriba y de debajo 705a, b hasta la interseccion 710. Por consiguiente, los vertices opuestos del octaedro que no se encuentran en la cara comun (por ejemplo, base) de las dos piramides 705a, b que forman el octaedro estan conectados directamente por una o mas riostras que se disponen en una llnea sustancialmente recta entre los vertices opuestos. Otras realizaciones pueden incluir cualquier combinacion de riostras 103a, b. Por ejemplo, una realizacion puede incluir solo una o dos de las riostras 103a que se extienden entre vertices opuestos de la unidad de estructura reticular de celosla comun de forma cuadrada y sin la riostra 103b. Por ejemplo, una realizacion puede incluir solo dos vertices opuestos de la unidad de estructura reticular de celosla comun de forma cuadrada que estan conectados entre si por medio de una riostra. Una realizacion puede incluir solo la riostra 103b que se extiende entre los vertices opuestos del octaedro sin las riostras 103a.

La figura 7B ilustra una estructura de almas que esta formada con dos heptaedros, de acuerdo con una realizacion. Los bloques basicos geometricos para el implante 100 incluyen heptaedros. Por ejemplo, el heptaedro de arriba / superior 705a y el heptaedro de debajo / inferior 705b se pueden unir para formar un bloque basico con forma de dodecaedro 703. Los bloques basicos con forma de dodecaedro 703 se pueden unir, por ejemplo, en una cara (por ejemplo, sus bases) al compartir una superficie lateral, etc. Unas realizaciones pueden incluir unos miembros adicionales, tal como las riostras 103a, b que se extienden entre los vertices del heptaedro 705a, b de una forma similar a la que se describe con respecto a la figura 7A.

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La figura 7C ilustra una estructura de almas que esta formada con dos dodecaedros, de acuerdo con una realizacion. Por ejemplo, el dodecaedro de arriba / superior 705a y el dodecaedro de debajo / inferior 705b se pueden unir para formar un bloque basico con forma de poliedro de 22 lados 703. Los bloques basicos con forma de poliedro de 22 lados 703 se pueden unir, por ejemplo, en una cara al compartir una superficie lateral, etc. Unas realizaciones pueden incluir unos miembros adicionales, tal como las riostras 103a, b que se extienden entre los vertices de los dodecaedros 705a, b de una forma similar a la que se describe con respecto a la figura 7A.

Tambien se contemplan unas estructuras de almas que se forman a partir de otras configuraciones de estructura reticular de celosla. Por ejemplo, las estructuras reticulares de celosla pueden incluir una serie de triangulos de compactacion, una estructura reticular de celosla de dos almas, una estructura reticular de celosla de tres almas, etc. Ademas, la estructura de almas para el implante 100 puede incluir una o mas estructuras reticulares de celosla tal como se describe en la patente de EE. UU. con n.° 6.931.812 titulada “Web Structure and Method For Making the Same", la cual fue expedida el 23 de agosto de 2005.

La figura 10 ilustra un diagrama de flujo de un metodo para realizar el implante 100. En algunas realizaciones, el implante 100 se puede realizar a traves de un desarrollo rapido de prototipos (por ejemplo, fusion por haces de electrones, sinterizacion por laser, etc.). Deberla hacerse notar que en diversas realizaciones de los metodos que se describen en lo sucesivo, uno o mas de los elementos que se describen se pueden realizar de forma simultanea, en un orden diferente del que se muestra, o se pueden omitir en su totalidad. Otros elementos adicionales tambien se pueden realizar segun se desee. En algunas realizaciones, una porcion o la totalidad del metodo se puede realizar de forma automatica por un sistema informatico.

En 1001, un modelo tridimensional del implante 100 se puede generar y almacenar en un medio de almacenamiento accesible por un controlador que puede accionarse para controlar el proceso de produccion de implantes. En 1003, una capa de material (por ejemplo, un polvo, llquido, etc.) se puede aplicar a un soporte. En algunas realizaciones, el polvo puede incluir Y-TiAl (Y-aluminuros de titanio) que puede ser un material de alta resistencia / bajo peso. Tambien se pueden usar otros materiales. El polvo se puede formar usando un proceso de atomizacion de gases y puede incluir unos granulos con unos diametros aproximadamente en un rango de 20 a 200 micrometros (pm) (por ejemplo, aproximadamente 80 pm). El polvo se puede entregar el soporte a traves de un distribuidor (por ejemplo, entregarse a partir de un recipiente de almacenamiento). El distribuidor y / o el soporte se pueden mover durante la distribucion para aplicar una capa (por ejemplo, de polvo) al soporte. En algunas realizaciones, la capa puede ser de un espesor aproximadamente uniforme (por ejemplo, con un espesor promedio de 20 a 200 micrometros (pm)). En algunas realizaciones, el distribuidor y el soporte pueden no moverse (por ejemplo, el material se puede pulverizar sobre el soporte). En 1005, el controlador puede mover un haz de electrones en relacion con la capa de material. En algunas realizaciones, se puede mover el generador de haces de electrones, y en algunas realizaciones se puede mover el soporte. Si el material es Y-TiAl, se puede obtener una temperatura de fusion aproximadamente en un rango de 1200 a 1800 grados Celsius (por ejemplo, 1500 grados Celsius) entre el haz de electrones y el material. En 1007, entre cada pasada del haz de electrones, un material adicional puede ser aplicado por el distribuidor. En 1009, el material sin fundir se puede retirar y el implante 100 se puede enfriar (por ejemplo, usando un gas inerte frlo). En algunas realizaciones, los bordes del implante se pueden alisar para eliminar los bordes rugosos (por ejemplo, usando una pulidora de diamante). En algunas realizaciones, el implante puede incluir unos bordes rugosos para aumentar el rozamiento entre el implante y el hueso circundante para aumentar la adhesion del implante con el hueso.

Tambien se contemplan otros metodos de realizacion del implante 100. Por ejemplo, el implante 100 se puede colar o moldear por inyeccion. En algunas realizaciones, multiples partes se pueden colar o moldear por inyeccion y unirse entre si (por ejemplo, a traves de soldeo, fusion, etc.). En algunas realizaciones, las riostras 103 individuales que forman el implante 100 se pueden generar por separado (por ejemplo, mediante colada, moldeo por inyeccion, etc.) y soldarse entre si para formar el implante 100. En algunas realizaciones, multiples implantes de diferentes tamanos se pueden construir y entregar en un kit. Un profesional medico sanitario puede elegir un implante (por ejemplo, de acuerdo con un tamano necesario) durante la cirugla. En algunas realizaciones, se pueden usar multiples implantes en el sitio de implante.

Las figuras 11A - 11D y 12 ilustran diversas vistas del manipulador de implantes 1100, de acuerdo con una realizacion. En algunas realizaciones, el manipulador 1100 puede incluir unas mandlbulas 1107, un accionador 1109, una leva 1115, un asa 1117, unas ranuras 1119 en las mandlbulas 1107. La figura 12 ilustra el manipulador 1100 que agarra el implante 100 y que tiene un bloque 1201.

La figura 13 ilustra un diagrama de flujo de un metodo para implantar un implante espinal, de acuerdo con una realizacion. Deberla hacerse notar que en diversas realizaciones de los metodos que se describen en lo sucesivo, uno o mas de los elementos que se describen se pueden realizar de forma simultanea, en un orden diferente del que se muestra, o se pueden omitir en su totalidad. Otros elementos adicionales tambien se pueden realizar segun se desee. En algunas realizaciones, una porcion o la totalidad del metodo se puede realizar de forma automatica por un sistema informatico.

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En la etapa 1301, se puede acceder a un espacio intersomatico. Por ejemplo, una abertura anterior se puede realizar en el cuerpo de un paciente para un enfoque de fusion intersomatica lumbar anterior (ALIF) o una abertura posterior se puede realizar para un enfoque de fusion intersomatica lumbar posterior (PLIF). En 1303, al menos una porcion del espacio intersomatico se puede escindir para formar una cavidad en el espacio intersomatico. En 1305, el implante se puede insertar en la cavidad en el espacio intersomatico. En algunas realizaciones, el manipulador 1100 se puede usar para agarrar el implante 100. En algunas realizaciones, se puede aplicar una fuerza al implante (por ejemplo, a traves de un martillo) para insertar el implante en la cavidad. Despues de la colocacion del implante 100, se puede liberar el accionador 1109 en el manipulador 1100 para liberar el implante 100. En 1307, antes y / o despues de la insertion del implante, se puede compactar un material de injerto oseo en el implante y / o el espacio en la cavidad. En 1309, el punto de acceso al espacio intersomatico se puede cerrar (por ejemplo, usando suturas).

La figura 14 ilustra el implante de reemplazo de rodilla 1400 que incluye una estructura de almas, de acuerdo con una realization. En algunas realizaciones, unas porciones del implante de reemplazo de rodilla 1400 pueden incluir una estructura de almas para, por ejemplo, aumentar la fusion de injerto oseo con el hueso circundante (por ejemplo, a lo largo de unas porciones del implante 1400 que estan ancladas en el hueso). La porcion 1401a y 1401b puede incluir la estructura de almas para la increscencia osea para soportar y afianzar adicionalmente el implante de rodilla. Otras porciones del implante de rodilla 1400 tambien pueden incluir una estructura de almas.

La figura 15 ilustra un implante de reemplazo de cadera 1500 que incluye una estructura de almas, de acuerdo con una realizacion. Unas porciones del vastago 1501 del implante de cadera 1500 pueden incluir una estructura de almas para la increscencia osea a lo largo del vastago para soportar y afianzar el implante de cadera 1500. En algunas realizaciones, el implante 1500 puede usar una estructura de almas en lugar de (o ademas de) una textura a lo largo del vastago 1501 para afianzar el implante 1500.

La figura 16 ilustra el implante de reconstruction de huesos largos 1600 que incluye una estructura de almas, de acuerdo con una realizacion. En algunas realizaciones, se puede usar una estructura de almas en el implante 1600 para afianzar un hueso largo (por ejemplo, el femur o la tibia). Por ejemplo, si el hueso largo tiene una fractura compuesta, el implante se puede sujetar al hueso a lo largo del hueso (por ejemplo, usando unos tornillos para huesos 1601) para mantener los segmentos de hueso en su lugar durante la curacion. El hueso tambien puede crecer a la estructura de almas del implante para afianzar adicionalmente el implante al hueso largo. Tambien se contemplan otros huesos (por ejemplo, clavlcula, falanges, metatarsianos, etc.). El implante se puede revestir y / o infundir con un material biologico para estimular el crecimiento oseo o un agente antimicrobiano para reducir la probabilidad de infection.

La figura 17 ilustra un implante craneo-maxilofacial 1700 que incluye una estructura de almas, de acuerdo con una realizacion. En algunas realizaciones, el implante 1700 se puede usar para reconstruir una porcion de la mandlbula. Las superficies de arriba y de debajo del implante 1700 pueden incluir unas riostras adicionales (por ejemplo, tal como se observa en la figura 1A) o pueden incluir unas uniones de punta (por ejemplo, tal como se observa en la figura 2D). El implante 1700 se puede afianzar al sitio de implante (por ejemplo, a traves de unos tornillos para huesos 1701) o se puede afianzar por si solo (por ejemplo, entre dos o mas huesos).

En algunas realizaciones, el implante se puede personalizar. Por ejemplo, las mediciones y / o forma tridimensionales del implante se pueden usar para construir un implante que distribuye la estructura de almas por la totalidad de un diseno de forma tridimensional. Tal como se hace notar en la figura 10, el diseno de forma tridimensional del implante se puede introducir en un sistema informatico / controlador que puede controlar un proceso de fusion por haces de electrones.

En algunas realizaciones, una estructura de alma / estructura reticular de celosla se puede disponer sobre al menos una porcion de un implante para facilitar el acoplamiento del implante con una estructura adyacente. Por ejemplo, en donde un implante se implanta adyacente a una estructura osea, una o mas estructuras de estructura reticular de celosla se pueden disponer sobre y / o extenderse a partir de una superficie (por ejemplo, una placa de interconexion) del implante que tiene por objeto entrar en contacto con, y adherirse al menos parcialmente a, la estructura osea durante el uso. En algunas realizaciones, tales como las que incluyen un implante intervertebral dispuesto entre las placas terminales de dos vertebras adyacentes durante, una o mas estructuras de estructura reticular de celosla se pueden disponer sobre una superficie de contacto del implante intervertebral para facilitar el crecimiento oseo que potencia el acoplamiento del implante intervertebral con la estructura osea. Por ejemplo, una estructura de estructura reticular de celosla puede incluir una o mas riostras que se extienden a partir de la superficie de contacto para definir un espacio abierto para el crecimiento oseo a traves del mismo, posibilitando de ese modo que el crecimiento a traves del hueso se entrelace con la estructura osea y la estructura de estructura reticular de celosla una con otra para acoplar el implante con la estructura osea en o cerca de la cara de contacto. Tal crecimiento a traves del hueso de entrelazamiento puede inhibir el movimiento entre el implante y la estructura osea que de lo contrario podrla conducir a aflojamiento, desplazamiento, subsidencia, o desalojar del implante de la position prevista. Se pueden emplear tecnicas similares con diversos tipos de implantes, incluyendo los que tienen por objeto estar en interconexion con estructuras de tejido y / u oseas. Por ejemplo, una estructura de estructura reticular de celosla se puede emplear sobre una superficie de contacto de implantes de rodilla, en un dispositivo de corpectomla, en un reemplazo de cadera, en un reemplazo de rodilla, en un armazon de reconstruccion de huesos

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largos, o en un implante craneo-maxilofacial, implantes de cadera, un implante de mandlbuia, un implante para la reconstruccion de huesos largos, implantes de pie y de tobillo, implantes de hombro u otros implantes de reemplazo de articulacion o similares para potenciar la adherencia del implante a la estructura osea o de tejido adyacente.

La figura 18 representa una realization de un implante 1800 de acuerdo con una o mas realizaciones de la presente tecnica. En algunas realizaciones, el implante 1802 puede incluir un implante espinal, un implante de rodilla, un implante de cadera, un implante de mandlbula, un implante para la reconstruccion de huesos largos, o similares. En una realizacion de este tipo, el implante 1800 puede incluir un implante intervertebral que se va a implantarse entre las placas terminales de dos vertebras adyacentes durante un procedimiento de implante espinal. Por ejemplo, el implante 1800 puede incluir un implante de fusion (por ejemplo, una jaula de fusion) que tiene por objeto fijar de forma rlgida las posiciones relativas de las dos vertebras adyacentes, o y un dispositivo intervertebral dinamico que tiene por objeto acoplarse con cada una de las dos vertebras adyacentes y facilitar el movimiento (por ejemplo, flexion, extension y / o flexion lateral) entre las dos vertebras adyacentes.

En la realizacion que se ilustra, el implante 1800 incluye un cuerpo 1802 que tiene dos caras de contacto 1804a, b. Tal como se usa en el presente documento, la expresion “cara de contacto” se refiere a una portion de un implante que tiene por objeto estar en contacto o casi en contacto con una estructura adyacente (por ejemplo, una estructura osea) para adherirse / acoplarse con la estructura adyacente cuando se implanta. Una superficie de contacto puede incluir una placa de interconexion de un implante, por ejemplo. Un implante puede incluir cualquier numero de caras de contacto. Por ejemplo, un implante puede incluir una o mas caras de contacto que tienen por objeto acoplarse con una o mas estructuras oseas adyacentes. Tal como se representa, en algunas realizaciones, la cara de contacto 1804a puede incluir una cara de contacto superior que tiene por objeto entrar en contacto con y afianzarse a una primera estructura osea adyacente, y 1804b puede incluir una cara de contacto inferior que tiene por objeto entrar en contacto con y afianzarse a una segunda estructura osea adyacente. Por ejemplo, en donde el implante 1800 tiene por objeto quedar intercalado entre dos estructuras oseas adyacentes (por ejemplo, las placas terminales de dos vertebras adyacentes), la cara de contacto 1804a se puede acoplar con una porcion de la primera estructura osea dispuesta por encima del implante 1800 y la cara de contacto 1804b se puede acoplar con la segunda estructura osea dispuesta por debajo del implante 1800. Se apreciara que el numero y la orientation de las superficies de contacto pueden variar sobre la base de la aplicacion prevista y, por lo tanto, expresiones relativas tal como superior e inferior tienen por objeto ser a modo de ejemplo y no tienen por objeto ser limitantes. Por ejemplo, una o ambas de las caras de contacto superior e inferior 1804a, b se pueden orientar de tal modo que los se disponen en sentido lateral (por ejemplo, como lados derecho, izquierdo, posterior y / o frontal del cuerpo de implante 1802. Ademas, la forma cubica del cuerpo 1802 tiene por objeto ser a modo de ejemplo y no tiene por objeto ser limitante. Por ejemplo, el cuerpo 1802 puede incluir cualquier construction de implante deseable tal como jaulas de fusion con diferentes formas o una construccion mecanica que preve la conservation del movimiento. La superficie o superficies de contacto pueden adoptar cualquier forma adecuada, por ejemplo, una superficie plana sustancialmente llana, una superficie curvada / con contorno, crestas, o similares.

En algunas realizaciones, una unica, una pluralidad o la totalidad de las caras de contacto de un implante pueden incluir una o mas estructuras de estructura reticular de celosla. Por ejemplo, en la realizacion que se ilustra, la cara de contacto superior 1804a incluye una estructura de estructura reticular de celosla 1806 dispuesta sobre la misma. Una realizacion de este tipo puede ser de un uso particular cuando el implante 1800 tiene por objeto crear una fijacion para una base para la tibia y un componente femoral para un implante de reemplazo de rodilla o cualquier otro implante de reemplazo de articulacion. Se apreciara que, a pesar de que la estructura de estructura reticular de celosla 1806 se ilustra sobre una unica superficie de contacto, otras realizaciones pueden incluir cualquier numero de estructuras de estructura reticular de celosla dispuestas sobre cualquier numero de caras de contacto. Por ejemplo, en algunas realizaciones, el implante 1800 puede incluir una o mas estructuras de estructura reticular de celosla 1806 dispuestas sobre una o ambas de las superficies de contacto superior e inferior 1804a, b. Una realizacion de este tipo puede ser de un uso particular cuando el implante 1800 tiene por objeto abarcar la distancia entre dos estructuras oseas adyacentes (por ejemplo, las placas terminales de dos vertebras adyacentes).

En algunas realizaciones, una estructura de estructura reticular de celosla incluye una o mas riostras que se extienden a partir de una superficie de contacto respectiva y define una abertura que posibilita el crecimiento a traves del hueso para facilitar el acoplamiento de la estructura de estructura reticular de celosla y el implante con la estructura osea. Por ejemplo, en la realizacion que se ilustra, la estructura de estructura reticular de celosla 1806 incluye una estructura reticular de celosla espacial formada por tres riostras 1807a, b, c que incluyen, cada una, unos miembros alargados que tienen, cada uno, un primer extremo que esta acoplado con la superficie de contacto 1804a y un segundo extremo que esta acoplado con cada una de las otras riostras en un vertice 1810. Cada cara de la estructura de estructura reticular de celosla con forma triangular incluye una estructura de estructura reticular de celosla plana que tiene una abertura triangular con un perlmetro que esta definido por dos de las riostras 1807a, b, c y la porcion adyacente de la cara de contacto 1804a. Tal como se representa, la estructura de estructura reticular de celosla 1806 incluye una estructura reticular de celosla espacial de forma generalmente triangular que define un volumen sustancialmente abierto de cuatro lados 1812.

En algunas realizaciones, el volumen abierto 1812 puede facilitar el crecimiento oseo a traves de la estructura de estructura reticular de celosla 1806, potenciando de ese modo el acoplamiento del implante 1800 con la estructura

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osea adyacente. Por ejemplo, en algunas realizaciones, al menos una porcion de la estructura de estructura reticular de celosla 1806 se encuentra en contacto o casi en contacto con la estructura osea adyacente, posibilitando de ese modo que el crecimiento oseo se extienda a y / o a traves de al menos una porcion del volumen abierto 1812 de la estructura de estructura reticular de celosla 1806 de tal modo que el crecimiento oseo se entrelaza con una o mas riostras 1808a, b, c de la estructura de estructura reticular de celosla 1806. El entrelazamiento del crecimiento oseo y las riostras pueden fijar de forma rlgida el implante 1800 en una ubicacion fija en relacion con la estructura osea.

En algunas realizaciones, el implante 1800 se puede presionar hasta su contacto con la estructura osea adyacente de tal modo que al menos una porcion de la estructura de estructura reticular de celosla 1806 se dispone en el interior de la estructura osea adyacente con la implantacion. Por ejemplo, en algunas realizaciones, el implante 1800 se puede presionar hasta su contacto con la estructura osea adyacente de tal modo que el vertice 1810 penetra por perforacion en la estructura osea y se hace avanzar de tal modo que al menos una porcion de las riostras 1808a, b, c y el volumen abierto 1812 se extienden al interior de la estructura osea. Una tecnica de este tipo puede estimular que el hueso crezca a y / o a traves del volumen abierto 1812. En algunas realizaciones, el implante 1800 se puede hacer avanzar al interior de / meter a presion en la estructura osea adyacente hasta que la superficie de contacto respectiva (por ejemplo, la superficie de contacto superior 1804a) se encuentra en contacto o casi en contacto con la estructura osea adyacente. En algunas realizaciones, al menos una porcion de la estructura de estructura reticular de celosla y / o la superficie de contacto se puede revestir / tratar con un material con el objeto de promover el crecimiento oseo y / o la adherencia osea y un agente antimicrobiano para evitar la infeccion de la estructura de estructura reticular de celosla y / o la superficie de contacto. Por ejemplo, en algunas realizaciones, la superficie de las riostras y / o la superficie de contacto se puede revestir con una sustancia biologica y / o un factor de crecimiento oseo, tal como los que se describen en el presente documento.

En algunas realizaciones, al menos una porcion de la estructura osea adyacente en la que se va a implantarse la estructura de estructura reticular de celosla se puede perforar / cortar / acanalar antes de que la estructura de estructura reticular de celosla 1806 se haga avanzar al interior de / se meta a presion en la estructura osea adyacente. En algunas realizaciones, una herramienta / borde de corte se puede usar para cortar en la estructura osea adyacente de tal modo que los cortes resultantes dan cabida a una o mas riostras de la estructura de estructura reticular de celosla 1806. Por ejemplo, en donde la estructura de estructura reticular de celosla 1806 incluye una forma triangular, tal como la que se representa en la figura 18, uno o mas cortes complementarios se pueden realizar en la estructura osea adyacente en un patron complementario. La figura 19 ilustra un corte 1820 que se puede realizar en la estructura osea 1822 adyacente antes o como resultado de que la estructura de estructura reticular de celosla 1806 se haga avanzar al interior de / se meta a presion en la estructura osea 1822 adyacente. La figura 19 puede ser representativa de una vista de extremo de una vertebra (por ejemplo, mirando hacia arriba / hacia abajo hacia la placa terminal de las vertebras). En algunas realizaciones, el corte 1820 puede incluir uno o mas segmentos que tienen por objeto dar cabida a una o mas riostras de la estructura de estructura reticular de celosla 1806. Por ejemplo, en la realization que se ilustra, el corte 1820 incluye tres rendijas 1820a, b, c formadas en la estructura osea 1822. Las rendijas 1820a, b, c se pueden extender a partir de la cara de la estructura osea a la estructura osea en una direccion sustancialmente perpendicular con respecto a una cara de la estructura osea y / o sustancialmente en paralelo con respecto a la direction prevista de avance de la estructura de estructura reticular de celosla 1806 y / o el implante 1800 al interior de la estructura osea.

En algunas realizaciones, las rendijas 1820a, b, c incluyen unos cortes en el hueso que no requieren que se retire material oseo alguno. Por ejemplo, un borde de corte afilado se puede hacer avanzar al interior del hueso para crear la rendija, sin que se retire cantidad sustancial alguna de hueso. Durante la implantacion del implante 1800 en la estructura osea 1822, las riostras 1808a, b, c se pueden deslizar en las rendijas 1820a, b, c, respectivamente. A pesar de que la realizacion que se ilustra incluye tres rendijas con una orientation de aproximadamente ciento veinte grados una en relacion con otra alrededor de un vertice 1824, otras realizaciones pueden incluir cualquier numero de rendijas en cualquier diversidad de orientaciones para dar cabida a una o mas riostras de una estructura de estructura reticular de celosla que se extienden a partir de una cara de contacto de un implante. El corte 1820 puede ser complementario con respecto a la forma / la orientacion de las riostras 1808 de la estructura de estructura reticular de celosla 1806. Por ejemplo, en donde la estructura de estructura reticular de celosla es de una forma sustancialmente piramidal (por ejemplo, vease la estructura de estructura reticular de celosla 1806b que se describe en lo sucesivo con respecto a la figura 23), el corte 1820 puede incluir cuatro rendijas con una orientacion de aproximadamente noventa grados una en relacion con otra.

En algunas realizaciones, el corte 1820 se puede formar por uno o mas miembros de corte complementarios (por ejemplo, hojas / cuchillas) que se meten en, se deslizan o se hacen avanzar de otro modo al interior de la estructura osea 1822. En una realizacion, un miembro de corte incluye uno o mas bordes de corte que se disponen complementarios con respecto al perfil de las riostras de la estructura de estructura reticular de celosla de tal modo que el avance del borde de corte corta una, una pluralidad, o la totalidad de las rendijas para dar cabida a la estructura de estructura reticular de celosla que se esta haciendo avanzar al interior de / se esta metiendo a presion en la estructura osea.

La figura 20 ilustra un miembro de corte 1830 de acuerdo con una o mas realizaciones de la presente tecnica. El miembro de corte 1830 incluye tres cuchillas de corte 1830a, b, c con una orientacion de aproximadamente ciento

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veinte grados una en relacion con otra alrededor de un vertice 1834. En algunas realizaciones, los miembros de corte 1830a, b, c, se disponen complementarios con respecto a las rendijas 1820a, b, c del corte 1820 y / o las riostras 1808a, b, c de la estructura de estructura reticular de celosla 1806. A pesar de que la realizacion que se ilustra incluye tres cuchillas de corte con una orientacion de aproximadamente ciento veinte grados una en relacion con otra alrededor de un vertice 1834, otras realizaciones pueden incluir cualquier numero de cuchillas de corte en cualquier diversidad de orientaciones para dar cabida a una o mas riostras de una estructura de estructura reticular de celosla que se extienden a partir de una cara de contacto de un implante. Por ejemplo, en donde la estructura de estructura reticular de celosla es de una forma sustancialmente piramidal (por ejemplo, vease la estructura de estructura reticular de celosla 1806b que se describe en lo sucesivo con respecto a la figura 23), el miembro de corte 1830 puede incluir cuatro cuchillas de corte con una orientacion de aproximadamente noventa grados una en relacion con otra.

En algunas realizaciones, las cuchillas de corte se pueden hacer avanzar al interior de la estructura osea 1822 a una profundidad que es aproximadamente la misma o mas profunda que la altura de la estructura de estructura reticular de celosla 1806. En algunas realizaciones, las cuchillas de corte se pueden hacer avanzar al interior de la estructura osea 1822 a una profundidad que es aproximadamente la misma o menos profunda que la altura de la estructura de estructura reticular de celosla 1806. En algunas realizaciones, un borde delantero de las cuchillas de corte se puede conformar para que sea complementario con respecto a la forma de las riostras. Por ejemplo, el borde delantero de una, una pluralidad, o la totalidad de las cuchillas de corte 1830a, b, c, puede presentar un angulo de una forma similar al angulo de las riostras 1808a, b, c que se extienden a partir de la superficie de contacto 1804a, tal como se ilustra mediante una llnea de trazo discontinuo 1846.

En algunas realizaciones, el miembro de corte 1830 se puede proporcionar como un instrumento que se hace avanzar al interior de la estructura osea. En algunas realizaciones, el miembro de corte 1830 se puede integrar con otros uno o mas dispositivos que se usan durante el procedimiento de implantacion. Por ejemplo, durante un procedimiento de implante espinal, el miembro de corte 1830 se puede acoplar con un separador situado por lo general entre las vertebras y expandirse para establecer las posiciones relativas de las vertebras. La fuerza de separacion puede actuar para hacer avanzar el miembro de corte al interior de la estructura osea.

La figura 20 ilustra un miembro de corte 1830 que se dispone sobre una superficie de arriba 1844a de un cuerpo 1842 de un separador 1840, de acuerdo con una o mas realizaciones de la presente tecnica. En algunas realizaciones, uno o mas miembros de corte se pueden disponer sobre otras porciones de separador, tal como una superficie de debajo 1844b. Durante el uso, el separador 1840 se puede disponer entre las estructuras oseas adyacentes y expandirse de tal modo que las superficies de arriba y de debajo 1844a, b se alejan entre si, metiendo a presion de ese modo uno o mas de los miembros de corte 1830 en la estructura osea adyacente (por ejemplo, 1822) para formar uno o mas cortes (por ejemplo, 1820) en la estructura osea, en donde los cortes tienen por objeto dar cabida a riostras (por ejemplo, 1808a, b, c) de la estructura de estructura reticular de celosla (por ejemplo, por ejemplo, 1806) de un implante (por ejemplo, 1800) que se van a enganchar con la estructura osea. En algunas realizaciones, el separador se puede usar para aumentar una distancia de separacion entre dos estructuras oseas adyacentes (por ejemplo, entre las placas terminales de las vertebras adyacentes). En algunas realizaciones, a continuacion de la realizacion de los cortes, el separador se pasa a un estado no expandido y / o se retira, y el implante (por ejemplo, 1800) se dispone entre las estructuras oseas (por ejemplo, en sustancialmente la misma posicion que el separador) de tal modo que una o mas estructuras de estructura reticular de celosla se alinean / se enganchan con uno o mas de los cortes.

A pesar de que varias de las realizaciones anteriores se han descrito en lo que respecta a una unica estructura de estructura reticular de celosla, otras realizaciones pueden incluir cualquier numero de estructuras de estructura reticular de celosla. Por ejemplo, tal como se representa en la figura 21, una pluralidad de estructuras de estructura reticular de celosla se pueden proporcionar sobre una o mas superficies de contacto del implante 1800. En la realizacion que se ilustra, cuatro estructuras de estructura reticular de celosla 1806a, b, c, d se disponen sustancialmente adyacentes entre si sobre la superficie de contacto 1804a, b del implante 1800 de tal modo que uno, una pluralidad, o la totalidad de las riostras de las estructuras de estructura reticular de celosla 1806a, b, c, d comparten unos vertices comunes en la superficie de contacto 1804a. En algunas realizaciones, una, una pluralidad o la totalidad de las estructuras de estructura reticular de celosla pueden estar separadas unas de otras. Por ejemplo, una, una pluralidad, o la totalidad de las estructuras de estructura reticular de celosla 1806a, b, c, d pueden no compartir un vertice en o cerca de la superficie de contacto 1804a. En algunas realizaciones, cualquier numero de estructuras de estructura reticular de celosla se puede proporcionar sobre cualquier porcion del implante 1800. En algunas realizaciones, la forma y la orientacion de las estructuras de estructura reticular de celosla se pueden variar para imitar diversas formas deseadas. Por ejemplo, en algunas realizaciones, se puede variar la altura de las estructuras de estructura reticular de celosla para proporcionar un perfil curvado similar al de una bola y / o una cavidad de una articulacion.

En algunas realizaciones, el implante 1800 puede incluir una pluralidad de estructuras de estructura reticular de celosla que se apilan unas sobre otras para formar una estructura de tipo alma dispuesta sobre una o mas caras del implante 1800. La figura 22 ilustra una estructura de estructura reticular de celosla de multiples capas (por ejemplo, una estructura de almas) dispuesta sobre una superficie de contacto del implante 1800 de acuerdo con una o mas

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realizaciones de la presente tecnica. En la realizacion que se ilustra, una estructura de estructura reticular de celosla triangular 1806e se apila encima de los vertices de las estructuras de estructura reticular de celosla 1806b, c, d. En algunas realizaciones, una estructura de estructura reticular de celosla que se proporciona en una superficie de contacto de un implante puede incluir una estructura de almas, tal como las que se describen con respecto a los implantes 100, 200 250, 600 y 650 que se describen en el presente documento. En algunas realizaciones, la forma y la orientacion de las estructuras de almas se pueden variar para imitar diversas formas deseadas. Por ejemplo, en algunas realizaciones, se puede variar la altura de la estructura de almas para proporcionar un perfil curvado similar al de una bola y / o una cavidad de una articulacion.

En algunas realizaciones, una o mas riostras adicionales se pueden proporcionar entre uno, una pluralidad, o la totalidad de los vertices de las estructuras de estructura reticular de celosla. Por ejemplo, en la realizacion que se ilustra, las riostras 1808d, e, f, g, h se extienden entre los vertices de las estructuras de estructura reticular de celosla 1806a, b, c, d. En algunas realizaciones, una o mas riostras se pueden extender entre una pluralidad o la totalidad de las riostras en o cerca del punto en el que estas se acoplan con la cara de contacto. Por ejemplo, una o mas riostras se pueden extender en lugar de una o mas de las llneas de trazo discontinuo que se ilustran en las figuras 18, 21, 22 y 23.

Algunas de las realizaciones anteriores se han descrito con respecto a una estructura de estructura reticular de celosla con forma particular (por ejemplo, una estructura espacial de forma triangular de estructura reticular de celosla 1806) a pesar de que se contemplan diversas formas de las estructuras de estructura reticular de celosla. Se apreciara que tal descripcion tiene por objeto ser a modo de ejemplo y no tiene por objeto ser limitante. La figura 23 ilustra una pluralidad de estructuras de estructura reticular de celosla a modo de ejemplo que se pueden acoplar con una cara de contacto de un implante de acuerdo con una o mas realizaciones de la presente tecnica.

En algunas realizaciones, una estructura de estructura reticular de celosla 1806 puede incluir una estructura reticular de celosla plana de forma triangular. Por ejemplo, la estructura de estructura reticular de celosla 1806a incluye dos miembros de estructura reticular de celosla sustancialmente conformados que se extienden a partir de la superficie de contacto 1804a y que estan acoplados entre si en un vertice para definir una region abierta 1812a a traves de la cual puede tener lugar un crecimiento oseo. Otras realizaciones pueden incluir cualquier diversidad de formas de estructura de estructura reticular de celosla geometricas, tal como las estructuras de estructura reticular de celosla de cuatro lados (por ejemplo, piramidales), de cinco lados, de seis lados, de siete lados (que no se representa) y / o de ocho lados 1806b, c, d, e, respectivamente. Adicionalmente, se pueden usar unas estructuras con forma de bloque cubico, rectangular o pentagonal. Ademas, unas realizaciones pueden incluir cualquiera de las estructuras de estructura reticular de celosla que se divulgan en el presente documento, tales como las que se divulgan con respecto a las figuras 1A - 9. En algunas realizaciones, cualquier tipo, tamano, numero, o combinacion de numero, tipos y tamanos de las estructuras de estructura reticular de celosla se pueden proporcionar sobre una, una pluralidad, o la totalidad de las caras de contacto de un implante.

La figura 24 es un diagrama de flujo que ilustra un metodo 1900 de implantacion de un implante de acuerdo con una o mas realizaciones de la presente tecnica. En la realizacion que se ilustra, el metodo 1900 incluye preparar una estructura osea, tal como se representa en el bloque 1902, e insertar un implante (por ejemplo, 1800), tal como se representa en el bloque 1904. En algunas realizaciones, preparar una estructura osea incluye situar la estructura osea. Por ejemplo, se puede usar un separador (por ejemplo, 1840) para separar estructuras oseas adyacentes de tal modo que el implante se puede intercalar entre las dos estructuras oseas adyacentes. En algunas realizaciones, preparar una estructura osea incluye cortar / acanalar la estructura osea para dar cabida a una o mas riostras de una estructura de estructura reticular de celosla de un implante que se va a acoplar con la estructura osea. Por ejemplo, un miembro de corte (por ejemplo, 1830) se puede hacer avanzar al interior de la estructura osea para crear un corte (por ejemplo, 1820) que incluye una o mas rendijas (por ejemplo, 1820a, b, c). En algunas realizaciones, la separacion y el corte se pueden proporcionar de forma simultanea por medio del uso de un separador que incluye uno o mas miembros de corte que estan acoplados con una o mas de sus caras de contacto (por ejemplo, el separador 1830 que tiene los miembros de corte 1830 acoplados con el mismo).

En algunas realizaciones, insertar el implante incluye situar el implante (por ejemplo, 1800) adyacente a la estructura osea (por ejemplo, 1822), alinear la estructura de estructura reticular de celosla (por ejemplo, 1806) con una porcion complementaria de la estructura osea (por ejemplo, 1820) y / o hacer avanzar una superficie de contacto (por ejemplo, 1804a, b) hacia la estructura osea de tal modo que al menos la estructura de estructura reticular de celosla se encuentra en contacto o casi en contacto con la estructura osea. En algunas realizaciones, el implante se puede hacer avanzar hasta que la superficie de contacto se encuentra en contacto o casi en contacto con la estructura osea, de tal modo que al menos una porcion o sustancialmente la totalidad de la estructura de estructura reticular de celosla se dispone en la estructura osea. Por ejemplo, sustancialmente la totalidad de las riostras de la estructura de estructura reticular de celosla se pueden disponer en las rendijas que se proporcionan en la estructura osea.

Tal como se apreciara, el metodo 1900 es a modo de ejemplo y no tiene por objeto ser limitante. Uno o mas de los elementos que se describen se pueden realizar de forma simultanea, en un orden diferente del que se muestra, o se pueden omitir en su totalidad. El metodo 1900 puede incluir cualquier numero de variaciones. Por ejemplo, en algunas realizaciones, las riostras 1806 pueden incluir un perfil afilado / delgado de tal modo que es necesaria una

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preparacion minima de la estructura osea (por ejemplo, no es necesario que se proporcionen cortes en la estructura osea) debido a que las riostras de la estructura de estructura reticular de celosia pueden perforar la estructura osea a medida que el implante se hace avanzar hasta su contacto con la superficie osea. Por consiguiente, en algunas realizaciones, las etapas 1902 y 1904 del metodo 1900 se pueden combinar en una unica etapa.

Modificaciones y realizaciones alternativas adicionales de diversos aspectos de la invencion pueden ser evidentes para los expertos en la materia en vista de la presente descripcion. Por ejemplo, a pesar de que en determinadas realizaciones, las riostras se han descrito y se representan como unos miembros alargados sustancialmente rectos, las riostras tambien pueden incluir unos miembros alargados curvados / arqueados a lo largo de al menos una porcion de su longitud. Por consiguiente, la presente descripcion se ha de interpretar como unicamente ilustrativa y es para el fin de ensenar a los expertos en la materia la forma general de llevar a cabo la invencion. Ha de entenderse que las formas de la invencion que se muestran y se describen en el presente documento han de tomarse como realizaciones. Se pueden sustituir elementos y materiales por los que se ilustran y se describen en el presente documento, pueden invertirse partes y procesos, y determinadas caracteristicas de la invencion se pueden utilizar de forma independiente, todo ello tal como seria evidente para un experto en la materia despues de tener el beneficio de la presente descripcion de la invencion. Se pueden hacer cambios en los elementos que se describen en el presente documento sin apartarse del alcance de la invencion tal como se describe en las siguientes reivindicaciones. Ademas, se hace notar que la palabra “poder” se usa por la totalidad de la presente solicitud en un sentido permisivo (es decir, tener el potencial de, ser capaz de), no en un sentido obligatorio (es decir, deber). La expresion “incluir”, y derivaciones de la misma, significan “incluyendo, pero sin limitarse a”. Tal como se usa en la presente memoria descriptiva y las reivindicaciones, las formas singulares “un”, “una” y “el / la” incluyen referentes plurales a menos que el contenido indique con claridad lo contrario. Por lo tanto, por ejemplo, una referencia a “una riostra” incluye una combinacion de dos o mas riostras. La expresion “acoplado” significa “conectado directa o indirectamente”.

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REIVINDICACIONES

1. Un implante (100, 1800) para estar en interconexion con una estructura osea, caracterizado por que el implante comprende:

una estructura de almas (101) que comprende una estructura reticular de celosla espacial que comprende dos o mas unidades de estructura reticular de celosla plana (106) que tienen una pluralidad de riostras unidas en unos nodos,

en el que la estructura de almas se extiende al interior de una porcion central del implante,

en el que la estructura de almas esta configurada para estar en interconexion con la estructura osea.
2. El implante de la reivindicacion 1, en donde el implante es un implante de fusion intersomatica espinal.
3. El implante de las reivindicaciones 1 o 2, en el que la estructura reticular de celosla espacial comprende una pluralidad de unidades de estructura reticular de celosla plana (106) que estan acopladas entre si, en donde cada una de las unidades de estructura reticular de celosla se encuentra en un plano que no es sustancialmente paralelo con respecto a un plano de una unidad de estructura reticular de celosla adyacente que comparte al menos una riostra.
4. El implante de una cualquiera de las reivindicaciones 1 - 3, en el que la estructura de almas comprende:

una estructura de estructura reticular de celosla interna que comprende la estructura reticular de celosla espacial que comprende dos o mas unidades de estructura reticular de celosla plana que tienen una pluralidad de riostras unidas en unos nodos,

en el que dos o mas de las unidades de estructura reticular de celosla plana adyacentes entre si se encuentran en unos planos separados que presentan un angulo uno en relacion con otro; y

una estructura de estructura reticular de celosla externa (105) que comprende una o mas estructuras reticulares de celosla planas que comprenden dos o mas unidades de estructura reticular de celosla plana adyacentes que se encuentran sustancialmente en el mismo plano.
5. El implante de la reivindicacion 4, en el que la estructura de estructura reticular de celosla externa comprende dos o mas estructuras reticulares de celosla planas (107a) adyacentes entre si, en el que cada una de las dos o mas estructuras de estructura reticular de celosla plana adyacentes comprenden dos o mas unidades de estructura reticular de celosla plana (108) adyacentes que se encuentran sustancialmente en el mismo plano.
6. El implante de las reivindicaciones 4 o 5, en el que al menos una de las una o mas estructuras reticulares de celosla planas comprende una pluralidad de unidades de estructura reticular de celosla triangular que tienen un vertice comun (110).
7. El implante de una cualquiera de las reivindicaciones 1 - 6, que comprende unas caras de arriba y de debajo en el que al menos una porcion de las caras de arriba y de debajo presentan un angulo una en relacion con otra para proporcionar lordosis.
8. El implante de una cualquiera de las reivindicaciones 1 - 7, en el que al menos una de las riostras de la estructura de almas comprende una sustancia biologica, un factor de crecimiento o un agente antimicrobiano acoplado con la misma.
9. El implante de una cualquiera de las reivindicaciones 1 - 8, en donde el implante comprende un cuerpo de implante que comprende una o mas caras de contacto que estan configuradas para disponerse en o cerca de una estructura osea durante el uso, en el que la estructura de almas se dispone sobre la cara de contacto, en el que la estructura de almas comprende dos o mas riostras (103) que se extienden a partir de la cara de contacto y en el que dos o mas de las riostras definen una abertura que esta configurada para posibilitar el crecimiento a traves del hueso a traves de la abertura.
10. El implante de la reivindicacion 9, en el que el cuerpo de implante comprende al menos dos caras de contacto opuestas (1804a, b) y en el que dos o mas de las caras de contacto opuestas comprenden una estructura de estructura reticular de celosla (1806) dispuesta sobre las mismas.