ES2350144A1 - Suela de planchado a vapor y dispositivo de planchado a vapor. - Google Patents
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Abstract
Suela de planchado a vapor (2) y dispositivo de planchado a vapor, que comprende(n): aberturas de salida de vapor (4); una cámara de evaporación principal (6), la cual está asignada a un sistema de generación de vapor y está en conexión con las aberturas de salida de vapor (4) por medio de un canal de distribución de vapor (8); una cámara de evaporación secundaria (10), la cual está asignada a un sistema de impulsión de vapor y está en conexión con al menos una abertura de salida de impulsión de vapor de vapor (12); y un dispositivo de calentamiento (14); en donde la cámara de evaporación secundaria (10), a través de aberturas de desembocadura (M1, M2) con diferente resistencia de salida del vapor, está en conexión abierta al vapor por lo menos con la cámara de evaporación principal (6) y la al menos una abertura de salida de impulsión de vapor de vapor (12), sin embargo con preferencia considerablemente hermética a los líquidos.
Description
Suela de planchado a vapor y dispositivo de
planchado a vapor.
La presente invención se refiere a una suela de
planchado a vapor según el concepto general de la reivindicación 1,
así como a un dispositivo de planchado a vapor, en especial una
plancha a vapor o una estación de planchado a vapor, con una suela
de planchado a vapor.
Suelas de planchado a vapor conocidas
comprenden: aberturas de salida de vapor; una cámara de evaporación
principal, la cual está asignada a un sistema de generación de vapor
y que está en conexión con las aberturas de salida de vapor; una
cámara de evaporación secundaria, la cual está asignada a un sistema
de chorro de vapor y está en conexión con al menos una abertura de
salida de impulsión de vapor; y un dispositivo de calentamiento.
En el caso de suelas de planchado, en especial,
cuando estas presentan una cámara de evaporación principal para el
generado de vapor para un funcionamiento normal de planchado a vapor
y una cámara de evaporación secundaria para el generado de vapor
para un funcionamiento a chorro de vapor, es por lo general difícil
y constructivamente también relativamente complicado, lograr una
corriente de vapor apropiada y efectiva y una distribución de vapor
hacia las aberturas de salida de vapor y el cual al menos alcanza
una abertura de salida de impulsión de vapor. No es además sencillo,
influenciar o bien predeterminar constructivamente el comportamiento
de la corriente, la distribución y la intensidad del vapor generado
en la cámara de evaporación secundaria, para un chorro de vapor.
Esto es en particular entonces difícil, cuando la cámara de
evaporación secundaria está en conexión de vapor abierta con la
cámara de evaporación principal.
Por lo tanto, la presente invención se basa en
la tarea, o sea, en el problema técnico, de poner a disposición una
suela de planchado a vapor, así como un dispositivo de planchado a
vapor, en especial una plancha a vapor o una estación de planchado a
vapor, con una suela de planchado a vapor, la cual permite de lograr
de manera comparativa sencilla, una corriente de vapor efectiva y
una distribución de vapor hacia las aberturas de salida de vapor en
el funcionamiento normal de planchado a vapor y también una
corriente de vapor efectiva y una distribución de vapor hacia la al
menos una abertura de salida de impulsión de vapor, así como una
potencia del impulsión de vapor alta.
Esta tarea se resuelve mediante una suela de
planchado a vapor según la invención con las características de la
reivindicación 1, así como un dispositivo de planchado a vapor según
la invención, con las características de la reivindicación 9.
La suela de planchado a vapor según la
invención, comprende: aberturas de salida de vapor; una cámara de
evaporación principal, la cual está asignada a un sistema de
generación de vapor, y que está en conexión (de vapor) con las
aberturas de salida de vapor por medio de un canal de distribución
de vapor; una cámara de evaporación secundaria, la cual está
asignada a un sistema de chorro de vapor, y está en conexión con al
menos una abertura de salida de impulsión de vapor; y un dispositivo
de calentamiento; en donde la cámara de evaporación secundaria está
por lo menos en conexión con la cámara de evaporación principal, con
diferente resistencia de salida del vapor, a través de aberturas de
desembocadura, y en conexión con la al menos una abertura de salida
de vapor abierta al vapor (sin embargo con preferencia
considerablemente hermética a los líquidos).
Objeto de las reivindicaciones dependientes son
características de configuración preferidas y ventajosas de la suela
de planchado a vapor según la invención, las cuales encuentran su
sustento en la siguiente descripción y los dibujos.
El dispositivo de suela de planchado a vapor
según la invención, en especial de una plancha a vapor o de una
estación de planchado a vapor, está provista con una suela de
planchado a vapor según la invención de tal tipo.
Por el motivo, de que según la invención, la
cámara de evaporación secundaria está en conexión con la cámara de
evaporación principal, con diferente resistencia de salida del
vapor, por medio de aberturas de desembocadura y la al menos una
abertura de salida de impulsión de vapor abierta al paso de vapor,
es posible de manera sencilla, una corriente de vapor efectiva y una
distribución de vapor efectiva hacia las aberturas de salida de
vapor en el funcionamiento de plancha a vapor normal y de lograr
también una efectiva corriente de vapor y distribución de vapor
efectiva hacia la al menos una abertura de salida de impulsión de
vapor, así como una potencia de chorro de vapor alta - y esto
también aún, cuando la cámara de evaporación secundaria está en
conexión con la cámara de evaporación principal abierta al paso de
vapor.
A continuación, se describen haciéndose
referencia a los dibujos adjuntos y se explican más detalladamente
ejemplos de formas de realización preferidas de los dispositivos
según la invención con más ventajas y detalles.
Se muestra:
Fig. 1 una vista superior sobre una de suela de
planchado a vapor abierta de una plancha a vapor según la invención
según una primera forma de realización; y
Fig. 2 una vista superior esquemática sobre una
suela de planchado a vapor abierta de una plancha a vapor según la
invención según una segunda forma de realización.
Fig. 3 una vista esquemática, agrandada
detallada de una zona esencial de una suela de planchado a vapor
abierta de una plancha a vapor según la invención según una tercera
forma de realización; y
Fig. 4 una vista superior esquemática sobre una
suela de planchado a vapor abierta de una plancha a vapor según la
invención según una cuarta forma de realización.
La suela de planchado a vapor 2 según la
invención mostrada en la Fig. 1, posee una pluralidad de aberturas
de salida de vapor 4. La plancha a vapor está equipada con un
sistema de generación de vapor, el cual está asignado a una cámara
de evaporación 6 central, en la que es introducible líquido de
evaporación (aquí: agua) en un primer lugar S1 predeterminado. La
cámara de evaporación principal 6 está en conexión o bien en
conexión de vapor a través de canales de distribución de vapor 8 con
las aberturas de salida de vapor 4. La plancha está además provista
con un sistema de chorro de vapor, el cual está asignado a una
cámara de evaporación secundaria 10, la cual está conectada abierta
al vapor, con una abertura de salida de impulsión de vapor 12 en una
sección delantera, (y) media de la suela de planchado 2 o bien está
dispuesta en conexión en un área de su punta. En el presente ejemplo
está prevista sólo una única abertura de salida de impulsión de
vapor 12. Básicamente pueden sin embargo estar previstas también
varias aberturas de salida de impulsión de vapor 12. De acuerdo a la
representación según la Fig. 1 se encuentra la cámara de evaporación
secundaria 10 en este ejemplo en un área lateral izquierda de la
suela de planchado 2 junto a la cámara de evaporación principal 6.
La invención no está limitada sin embargo a una disposición de tal
tipo. Básicamente podría la cámara de evaporación secundaria 10 por
ej. estar dispuesta también en un área derecha de la suela de
planchado 2 o en cada otro sitio apropiado. En la cámara de
evaporación secundaria 10, el agua es intraducibie en un segundo
lugar S2 predeterminado, el cual es distinto del primer lugar
S1.
La plancha a vapor o bien su suela de planchado
2, presentan en más un dispositivo de calentamiento 14 integrado en
la suela de planchado 2 y, como se puede reconocer en el dibujo, un
dispositivo de calentamiento eléctrico 14 para el calentado de la
suela de planchado 2, que se extiende aproximadamente en forma de
herradura, de la cámara de evaporación principal 6 y de la cámara de
evaporación secundaria 10. El dispositivo de calentamiento 14 forma
una parte esencial del sistema de generación de vapor y/o del
sistema de chorro de vapor. La cámara de evaporación secundaria 10
se encuentra por encima de un área parcial 14a del dispositivo de
calentamiento eléctrico 14. Es introducida agua en la cámara de
evaporación secundaria 10, con el propósito de generar un vapor, el
agua es por tal motivo entonces evaporada de manera especialmente
rápida.
Tal y como se reconoce además de la Fig. 1, la
cámara de evaporación secundaria 10 está en conexión con un canal de
distribución de impulsión de vapor 16, el cual se extiende en este
caso en un área anterior de la suela de planchado 2 en forma de arco
alrededor de un área anterior de la cámara de evaporación principal
6. El canal de distribución de impulsión de vapor 16, presenta una
primera y segunda abertura de desembocadura M1, M2. La primer
abertura de desembocadura M1, se encuentra en la representación
según Fig. 1 en un área terminal lateral derecha del canal de
distribución de impulsión de vapor 16 y desemboca en la cámara de
evaporación principal 6. Por tal motivo, la cámara de evaporación
secundaria 10 está siguiendo por el canal de distribución de
impulsión de vapor 16 y la primera abertura de desembocadura M1, en
conexión abierta al paso de vapor con la cámara de evaporación
principal 6.
La segunda abertura de desembocadura M2 se
encuentra en la representación según la Fig. 1 en un área superior
media del canal de distribución de impulsión de vapor 16 y desemboca
en una precámara 18 pequeña en la cual está dispuesta la abertura de
salida de impulsión de vapor 12. Por tal motivo, la cámara de
evaporación secundaria 10 está siguiendo por el canal de
distribución de impulsión de vapor 16 y la segunda abertura de
desembocadura M2, en conexión abierta al paso de vapor con la
abertura de salida de impulsión de vapor 12.
El recorrido de la corriente para el vapor de la
cámara de evaporación secundaria 10 hacia la abertura de salida de
impulsión de vapor 12 es corto o bien considerablemente más corto
que el recorrido de la corriente W para el vapor de la cámara de
evaporación principal 6 siguiendo por los canales de distribución de
vapor 8 hacia las aberturas de salida de vapor 4.
La abertura de salida de impulsión de vapor 12 o
bien su precámara 18, está, en el área antes mencionada de la suela
de planchado 2, enfrente de las aberturas de salida de vapor 4
normales separado herméticamente al vapor. Siguiendo por el largo
recorrido indirecto del canal de distribución de impulsión de vapor
16, su primer abertura de desembocadura M1 de la cámara de
evaporación principal 6 y de los canales de distribución de vapor 8,
que se conectan allí, existe sin embargo una conexión indirecta
abierta al paso de vapor, entre la abertura de salida de impulsión
de vapor 12 y las aberturas de salida de vapor 4.
La primer abertura de desembocadura M1, la cual
conduce hacia la cámara de evaporación principal 6, posee una
resistencia de salida del vapor más alta o bien bastante más alta
que la segunda abertura de desembocadura M2, la cual conduce hacia
la abertura de salida de impulsión de vapor 12 separada. La
proporción R2/R1 de la resistencia de salida del vapor R1 de M1 y de
la resistencia de salida del vapor R2 de M2 es de preferentemente al
menos 1: 2, en especia! se encuentra en un área de 1:2 hasta 1:10,
en especial 1:2 bis 1:20, en especial 1:2 hasta 1:50, en especial
1:2 hasta 1:100, en especial 1:2 hasta 1:1000, 1:2 hasta 1:2500, 1:2
hasta 1:5000. La invención no está limitada sin embargo a estas
áreas preferidas de las proporciones de R2 a R1.
En un funcionamiento de planchado a vapor
normal, el agua es introducida en el primer lugar S1, en la cámara
de evaporación principal 8, y es evaporada. El vapor de agua corre
siguiendo el recorrido de corriente de vapor largo W esquemático,
aclarado desde la cámara de evaporación principal 6 siguiendo los
canales de distribución de vapor 8, en las aberturas de salida de
vapor 4 normales y sale allí de la suela de planchado 2. Ya que,
siguiendo por la primer abertura de desembocadura M1, existe una
conexión abierta al paso de vapor entre el canal de distribución de
impulsión de vapor 16 y la cámara de evaporación principal 6,
alcanzaría en este caso sin embargo también una mínima cantidad de
vapor en la abertura de salida de impulsión de vapor 12 separada, la
cual funciona ahora por consiguiente como abertura de salida de
vapor "normal". En comparación con una variante, en la cual la
cámara de evaporación secundaria 10 y la abertura de salida de
impulsión de vapor 12, están separada completamente hermética al
vapor de la cámara de evaporación principal 6, puede, en el caso de
la variante según la Fig. 1 de acuerdo con la invención, por
consiguiente, en un funcionamiento regular Dampfbügelbetríeb, ser
alimentada con vapor una superficie de la suela de planchado a vapor
2 más grande, ya que también la abertura de salida de impulsión de
vapor 12 separada, puede por lo menos en parte funcionar como
abertura de salida de vapor "normal".
En un funcionamiento de impulsión de vapor por
el contrario, el agua es introducida en el segundo lugar S2 en la
cámara de evaporación secundaria 10 y es evaporada. El vapor de agua
es introducida siguiendo el canal de distribución de impulsión de
vapor 16, por el recorrido más corto, hacia la abertura de salida de
impulsión de vapor 12 separada y sale allí de la suela de planchado
2, con relativa alta intensidad. Puesto que, como ya se ha dicho, la
primer abertura de desembocadura M1 hacia la cámara de evaporación
principal 6, posee una resistencia de salida del vapor más alta o
bien esencialmente más alta que la segunda abertura de desembocadura
M2, es impulsada la cantidad de vapor más grande del vapor generado
en la cámara de evaporación secundaria 10 con la intensidad más
alta, a través de la abertura de salida de impulsión de vapor 12
separada. Por motivo de la resistencia de salida del vapor más alta
de la primer abertura de desembocadura M1 gelangt lediglich una
cantidad muy baja del vapor en la cámara de evaporación principal 6
y a partir de allí siguiendo los canales de distribución de vapor 8
hacia las aberturas de salida de vapor 4 normales. A pesar de la
conexión abierto al paso de vapor de la cámara de evaporación
secundaria 10 y del canal de distribución de impulsión de vapor 16
hacia la cámara de evaporación principal 6, pueden entonces ser
puestos a disposición impulsiones de vapor con bastante alta
intensidad.
La Fig. 2 muestra una vista superior esquemática
sobre una suela de planchado a vapor 2 de acuerdo con la invención,
de una plancha a vapor de acuerdo con la invención, según una
segunda forma de realización. Los componentes de esta variante
corresponden ampliamente a aquellos de acuerdo a la Fig. 1. Por tal
motivo, se evita una repetida descripción de los mismos componentes
o componentes del mismo tipo.
En el caso de la forma de realización según la
Fig. 2, la cámara de evaporación secundaria está conectada con al
menos una tercera abertura de desembocadura M3 abierta al paso de
vapor, con al menos una de las aberturas de salida de vapor 4
normales. Dicho más precisamente, en este ejemplo están previstas
dos terceras aberturas de desembocadura M3, M3. Estas se encuentran
respectivamente en un área lateral de pared izquierda y derecha del
canal de distribución de impulsión de vapor 16, la cual está
dirigida hacia el borde lateral externo de la suela de planchado 2.
Con referencia a la cámara de evaporación principal 6 y uno de estos
recorridos de corriente de vapor W salientes, para el vapor
generable en la cámara de evaporación principal 6 siguiendo por los
canales de distribución de vapor 8 hasta las aberturas de salida de
vapor 4, desembocan las terceras aberturas de desembocadura M3, M3
respectivamente en un distante, de la cámara de evaporación
principal 6 bien alejada área del respectivo canal de distribución
de vapor 8, donde se encuentran respectivamente al menos una
adyacente abertura de salida de vapor 4a de las aberturas de salida
de vapor 4 normales. Todas las terceras aberturas de desembocadura
M3, M3 juntas (y por consiguiente también cada única tercera
abertura de desembocadura M3) posee una resistencia de salida del
vapor más baja o una resistencia de salida del vapor mucho más baja
que la primer abertura de desembocadura M1, la cual desemboca en la
cámara de evaporación principal. Además poseen todas las terceras
aberturas de desembocadura M3, M3 juntas, por ejemplo la misma o una
resistencia de salida del vapor algo más alta que la segunda
abertura de desembocadura M2, la cual conduce hacia la abertura de
salida de impulsión de vapor 12 separada.
En un funcionamiento de impulsión de vapor de la
plancha, el vapor generado en la cámara de evaporación secundaria 10
por motivo de la comparación con la primer abertura de desembocadura
M1 va a correr con una resistencia de salida del vapor más baja o
una resistencia de salida del vapor weitaus más baja de las
mencionadas terceras aberturas de desembocadura M3, M3 primeramente
en estas terceras aberturas de desembocadura M3, M3, las cuales
conducen respectivamente hacia al menos una abertura de salida de
vapor 4a adyacente normal. De ese modo puede ser utilizada entonces
una abertura de salida de vapor 4a adyacente normal de tal tipo dann
en el caso de una impulsión de vapor, como abertura de salida de
impulsión de vapor agregado y con ello ejercitar una doble función
ventajosa. Ya que las resistencias de salida del vapor de la segunda
y la tercer abertura de desembocadura M2, M3, M3 no se diferencian o
sólo se diferencian sin esenciales, impulsará la abertura de salida
de impulsión de vapor 12 igualmente vapor, como ya se ha descrito en
relación con la Fig. 1. De ese modo se puede impulsar por medio de
las aberturas 12 y 4a un impulsión de vapor con una potencia
relativamente alta. Y para diferentes funcionamientos, las aberturas
de salida 4a, 12 previstas, pueden de manera sencilla y efectiva,
ser en especial también utilizadas como aberturas de salida de
impulsión de vapor.
La función de planchado a vapor normal, funciona
en lo esencial análogamente a la variante según la Fig. 1, en donde
por motivo del enfrentamiento de la segunda y tercera abertura de
desembocadura M2, M3, M3 la resistencia de salida del vapor más alta
o esencialmente más alta de la primer abertura de desembocadura M1
sólo corre una muy baja cantidad de vapor, de la cámara de
evaporación principal 6 en el canal de distribución de impulsión de
vapor 16, mientras que la mayor cantidad de vapor toma el recorrido
de corriente regular desde la cámara de evaporación principal 6,
siguiendo por los canales de distribución de vapor 8 hacia las
aberturas de salida de vapor normales 4,4a.
Fig. 3 muestra una vista esquemática agrandada
detallada de un área esencial de una suela de planchado a vapor 2
abierta, de una plancha a vapor de acuerdo a la invención, según una
tercera forma de realización. Los componentes de esta variante
corresponden ampliamente a aquellos de la según la Fig. 2. A una
descripción repetida de componentes similares o del mismo tipo se
desiste.
También en el caso de las formas de realización
según la Fig. 3 está dispuesta la al menos una abertura de salida de
impulsión de vapor 12 en una precámara 18, la cual se encuentra con
la cámara de evaporación secundaria 10 sobre la cual está en
conexión, al menos una segunda abertura de desembocadura M2 y el
canal de distribución de impulsión de vapor 16. La precámara 18
posee sin embargo dos cuartas aberturas de desembocadura M4, M4,
referida a la cámara de evaporación principal 6 y partiendo de este
recorrido de corriente de vapor para aquel en la cámara de
evaporación principal 6 vapor generable siguiendo por el canal de
distribución de vapor 8 hasta las aberturas de salida de vapor 4,
4a, desemboca en un área distante del canal de distribución de vapor
8, donde se encuentran aberturas de salida de vapor 4a adyacentes.
La resistencia de salida del vapor de ambas cuartas aberturas de
desembocadura M4, M4 juntas corresponde casi a la resistencia de
salida del vapor de la segunda abertura de desembocadura M2 o bien
es algo más alta. Las cuartas aberturas de desembocadura M4, M4
pueden por ej. ejercer la misma función como ha sido anteriormente
en relación con la Fig. 2 descritas terceras aberturas de
desembocadura M3, M3, o, mientras este existente, también pueden ser
utilizadas en conexión con estas.
La cuarta forma de realización de acuerdo a la
invención según Fig. 4 corresponde ampliamente aquél según Fig. 1.
Sin embargo el canal de distribución de vapor está configurado como
un canal de conducción de impulsión de vapor 20, el cual se extiende
desde la cámara de evaporación secundaria 10 primeramente en
dirección hacia el lado posterior de la suela de planchado 2 hacia
una sección de fijación de sensor de temperatura 22 y se extiende a
lo largo de este. Desde allí se extiende el canal 20 pasando sobre
una vuelta 24 otra vez en dirección de la punta de la suela de
planchado a vapor 2. Como se puede reconocer en el dibujo, posee el
canal 20 en un área entre la cámara de evaporación secundaria 10 y
la vuelta 24 dos secciones de canal 20a, 20b que van corriendo una
al lado de la otra. Un solcher canal de conducción de impulsión de
vapor 20 de tal tipo puede al mismo tiempo ser utilizado para
lograr, un comportamiento en especial de reacción rápida de un
sensor de temperatura, montado en la sección de fijación de sensor
de temperatura 22 o termostato, cuando se enfría el dispositivo de
calentamiento 14 en un área 14a de la cámara de evaporación
secundaria 10, lo que sucede en especial en el funcionamiento de
impulsión de vapor durante la introducción o repetición, breves
introducciones seguidas una a la otra del líquido de evaporación en
la cámara de evaporación secundaria 10.
Las respectivas resistencias de salida del vapor
de las respectivas aberturas de desembocadura M1, M2, M3, M4 en las
formas de realización antes descritas pueden por ej. ser logradas
por medio de diferentes tamaños y formas de las aberturas de
desembocadura. Las aberturas de desembocadura presentan con
preferencia barreras de líquidos, por ej. en forma de elevación,
traversanio, nervio o semejante, las/los que impedirán en lo posible
en su mayoría un paso de líquido. También es posible, de cerrar las
aberturas como tales con un material semipermeable, abierto al paso
de vapor pero con preferencia material hermético al líquido, el cual
determina la referente resistencia de salida del vapor.
Es por lo demás de aclarar, que las aberturas de
desembocadura M1, M2, M3, M4 descritas en el respectivo
funcionamiento de planchado a vapor (es decir planchado a vapor
normal o función de impulsión de vapor), también como un tipo de
válvula o válvula de paso o (según la presión del vapor y/o de la
velocidad con la cual se configura una presión determinada) que
funcionan así como válvula de bloqueo de retorno con parcial o en lo
esencial bloqueo completo de retorno, sin que sean necesarios para
ello partes móviles.
La invención no está limitada a los ejemplos de
realización arriba. En el marco de la protección de la suela de
planchado a vapor de acuerdo con la invención y el dispositivo de
planchado a vapor de acuerdo con la invención, pueden aún más tomar
también otras formas de realización, a las como arriba concretamente
descritas. En especial pueden ser combinadas entre ellas
características de cada una de las formas de realización singulares.
El canal de distribución de impulsión de vapor puede también
presentar varias diferentes secciones de canal, las cuales por ej.
pueden conducir a diferentes aberturas de desembocadura. En las
formas de realización según Fig. 2 y 3, las aberturas de salida de
vapor 4a adyacentes, pueden ... de las otras aberturas de salida de
vapor 4 normales, las cuales de las respectivas aberturas de
desembocadura M3 o bien M4 que están más distanciadas, pueden estar
limitadas también por medio de lugares abiertos al paso de vapor
angostos, barreras, o semejante. Así puede ser lograda en el caso de
una impulsión de vapor, una presión de vapor más alta y/o una más
alta concentración de vapor en estas aberturas de salida de vapor
4a.
Los símbolos de referencia en las
reivindicaciones, la descripción y los dibujos sirven únicamente
para la mejor comprensión de la invención, y no han de restringir el
ámbito de protección.
- 2
- Suela de planchado a vapor
- 4
- Aberturas de salida de vapor
- 4a
- Abertura(s) de salida de vapor adyacente(s) a M3 o bien a M4
- 6
- Cámara de evaporación principal
- 8
- Canales de distribución de vapor
- 10
- Cámara de evaporación secundaria
- 12
- Abertura de salida de impulsión de vapor
- 14
- Dispositivo de calentamiento eléctrico
- 14a
- Área parcial de 14
- 16
- Canal de distribución de impulsión de vapor
- 18
- Precámara
- 20
- Canal de conducción de impulsión de vapor
- 20a
- Primera sección de canal de 20
- 20b
- Segunda sección de canal de 20
- 22
- Sección de fijación de sensor de temperatura
- 24
- Bucle/Vuelta de 22
- M1
- Primera abertura de desembocadura
- M2
- Segunda abertura de desembocadura
- M3
- Tercera(s) abertura(s) de desembocadura
- M4
- Cuarta(s) abertura(s) de desembocadura
- S1
- Primer lugar
- S2
- Segundo lugar
- W
- Recorrido de corriente de vapor largo
Claims (9)
1. Suela de planchado a vapor (2), que
comprende:
- -
- aberturas de salida de vapor (4, 4a);
- -
- una cámara de evaporación principal (6), la cual está asignada a un sistema de generación de vapor y que está en conexión con las aberturas de salida de vapor (4, 4a) por medio de un canal de distribución de vapor (8);
- -
- una cámara de evaporación secundaria (10), la cual está asignada a un sistema de impulsión de vapor y está en conexión con al menos una abertura de salida de impulsión de vapor de vapor (12); y
- -
- un dispositivo de calentamiento (14);
caracterizado porque,
la cámara de evaporación secundaria (10), a
través de aberturas de desembocadura (M1, M2) con diferente
resistencia de salida del vapor, está en conexión abierta al vapor
por lo menos con la cámara de evaporación principal (6) y la al
menos una abertura de salida de impulsión de vapor de vapor
(12).
2. Suela de planchado a vapor (2) según la
reivindicación 1, caracterizada porque,
la al menos una abertura de salida de impulsión
de vapor de vapor (12), es una abertura de salida de impulsión de
vapor de vapor (12) separada, apartada herméticamente al vapor de
las aberturas de salida de vapor (4).
3. Suela de planchado a vapor (2) según una o
varias de las reivindicaciones previamente mencionadas,
caracterizada porque,
la cámara de evaporación secundaria (10) está en
conexión con la cámara de evaporación principal (6), a través de por
lo menos una primera abertura de desembocadura (M1), y con la al
menos una separada abertura de salida de impulsión de vapor de vapor
(12), a través de por lo menos una segunda abertura de desembocadura
(M2); y
la al menos una primera abertura de
desembocadura (M1) posee una resistencia al paso de vapor más alta
que la al menos una segunda abertura de desembocadura (M2).
4. Suela de planchado a vapor (2) según una o
varias de las reivindicaciones previamente mencionadas,
caracterizada porque,
la cámara de evaporación secundaria (10) está en
conexión con por lo menos una de las aberturas de salida de vapor
(4a), a través de por lo menos una tercera abertura de desembocadura
(M3); y
la por lo menos una tercera abertura de
desembocadura (M3) posee una resistencia al paso de vapor más baja
que la primera abertura de desembocadura (M1), la cual desemboca en
la cámara de evaporación principal (6).
5. Suela de planchado a vapor (2) según
reivindicación 1, caracterizada porque,
la cámara de evaporación secundaria (10) está en
conexión con un canal de distribución de impulsión de vapor (16;
20), el cual presenta por lo menos una, en particular varias (M1,
M2; M1, M2, M3), de las tres aberturas de desembocadura (M1, M2, M3)
enunciadas anteriormente.
6. Suela de planchado a vapor (2) según una o
varias de las reivindicaciones previamente mencionadas,
caracterizada porque,
la al menos una tercera abertura de
desembocadura (M3), relacionada con la cámara de evaporación
principal (6) y un recorrido de corriente de vapor (W) que parte de
ésta, siguiendo por el canal de distribución de vapor (8) hasta las
aberturas de salida de vapor (4, 4a), para el vapor generable en la
cámara de evaporación principal (6), desemboca en un área distante
del canal de distribución de vapor (8), donde se encuentra por lo
menos una de las aberturas de salida de vapor (4a).
7. Suela de planchado a vapor (2) según una o
varias de las reivindicaciones previamente mencionadas,
caracterizada porque,
de las al menos tres aberturas de desembocadura
(M1, M2, M3)
- a)
- la segunda abertura de desembocadura (M2) posee la resistencia al paso de vapor más baja,
- b)
- la tercer abertura de desembocadura (M3) posee la misma o una resistencia al paso de vapor más alta que la segunda abertura de desembocadura (M2), o viceversa, y
- c)
- la primera abertura de desembocadura (M1) posee la resistencia al paso de vapor más elevada.
8. Suela de planchado a vapor (2) según una o
varias de las reivindicaciones previamente mencionadas,
caracterizada porque,
la al menos una abertura de salida de impulsión
de vapor (12) está prevista en una precámara (18), la cual está en
conexión con la cámara de evaporación secundaria (10) a través de la
por lo menos una segunda abertura de desembocadura (M2), y
la precámara (18) posee por lo menos una cuarta
abertura de desembocadura (M4, M4), la cual, referida a la cámara de
evaporación principal (6) y un recorrido de corriente de vapor (W)
que
parte de ésta, siguiendo por el canal de
distribución de vapor (8) hasta las aberturas de salida de vapor (4,
4a), para el vapor generable en la cámara de evaporación principal
(6), desemboca en un área distante del canal de distribución de
vapor (8).
9. Dispositivo de planchado a vapor, en
particular plancha a vapor o estación de planchado, con una suela de
planchado a vapor (2) según una de las reivindicaciones 1 a la
8.
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Ref document number: 2350144 Country of ref document: ES Kind code of ref document: B1 Effective date: 20111116 |
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