ES2313155T3 - Sistema para influir sobre la polarizacion de una radiacion laserica. - Google Patents
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Abstract
Sistema (1; 1''; 1'''') para influir sobre la polarización de una radiación lasérica con ayuda de un espejo desfasador (5; 5''; 5'''') y un elemento (7; 7''; 7'''') que desvía la radiación lasérica, estando instalados el espejo desfasador (5; 5''; 5'''') en un lado exterior (4) de un primer cuerpo parcial (2; 2''; 2'''') y el elemento de desviación (7; 7''; 7'''') en un lado exterior (6) de un segundo cuerpo parcial (3; 3''; 3''''), y pudiendo girarse el primer cuerpo parcial (2; 2''; 2'''') y el segundo cuerpo parcial (3; 3''; 3'''') mediante un conjunto de giro alrededor de un eje común de giro (14) en un ángulo (alfa) que se puede predeterminar, caracterizado porque otros dos lados exteriores (8, 9; 8''''; 9'''') de los dos cuerpos parciales (2, 3; 2'', 3''; 2'''', 3'''') están dispuestos de modo desplazable uno enfrente del otro.
Description
Sistema para influir sobre la polarización de
una radiación lasérica.
La presente invención se refiere a un sistema
para influir sobre la polarización de una radiación lasérica con
ayuda de un espejo desfasador y un elemento de desviación de la
radiación lasérica, estando montados el espejo desfasador en el
lado exterior de un primer cuerpo parcial y el elemento de
desviación en un lado exterior de un segundo cuerpo parcial y
pudiendo girar el primer y segundo cuerpo parcial por medio de una
unidad de giro alrededor de un eje de giro común un ángulo de giro
que se puede predefinir.
Un sistema de este tipo se conoce por la
US-B1-6 342 981. Según la misma, una
radiación incidente es reflejada por un reflector que tiene una
capa de desfase aplicada sobre un sustrato, sobre un prisma también
aplicado sobre el sustrato, prisma que sirve para desviar la
radiación reflejada. La disposición de reflector y prisma puede
girarse con ayuda de una unidad de giro alrededor de un eje de giro
común.
Para un mecanizado de piezas independiente de la
dirección, durante el corte por láser es necesario un alto grado de
polarización circular de la radiación lasérica en el cabezal de
corte de equipos de corte por láser. Sin embargo, la radiación
lasérica que emerge de un resonador sin la utilización de elementos
ópticos adicionales, normalmente está polarizada linealmente.
Por la DE 31 49 004 A1 se conoce el método de
transformar una radicación lasérica de polarización lineal en una
radiación lasérica de polarización circular. Para este fin se ha de
utilizar una placa \lambda/4. La misma función también puede
realizarla un espejo desfasador. Un espejo desfasador ideal genera
con un ángulo de incidencia adecuado un desfasaje de 90º entre un
componente de polarización (polarización s) orientado
perpendicularmente a un plano de incidencia y un componente de
polarización (polarización p) orientado paralelamente al plano de
incidencia. Como plano de incidencia se entiende un plano formado
por la normal a la superficie del espejo desfasador y un rayo láser
incidente. Por el desfasaje de 90º se puede generar desde una
polarización lineal una polarización circular (y viceversa).
La radiación lasérica de polarización circular
generada con ayuda del elemento desfasador se refleja en un
elemento que desvía la radiación lasérica, por ejemplo un espejo de
desviación, antes de que la misma abandone el sistema para influir
sobre la polarización. El espejo de desviación sirve, normalmente,
para la orientación de la radiación lasérica emitida desde el
sistema.
Entre la fuente láser y el cabezal de mecanizado
se ha interpuesto un número cualquiera de elementos de desviación
del rayo (espejos) en el recorrido del rayo, pudiendo posicionarse
este sistema en este recorrido del rayo en un punto cualquiera. Los
espejos tienen frecuentemente un recubrimiento dieléctrico que ha de
impedir que se produzca en los mismos un desfasaje durante la
reflexión. Sin embargo, no se puede evitar por completo que se
presente un desfasaje de manera que la radiación lasérica recibida
por el cabezal de corte ya no está polarizada circularmente en su
totalidad.
Por la DE 4434504 se conoce un equipo de corte
por láser en el que un primer espejo de desviación es un espejo
desfasador de polarización circular y en el que un segundo hasta
quinto espejo de desviación están dispuestos en el recorrido del
rayo de manera que se pueden compensar desfasajes específicos para
el espejo de desviación. Para compensar los desfasajes son
necesarios aquí cuatro espejos de desviación.
Frente a esto, el objetivo de la presente
invención consiste en desarrollar un sistema del tipo arriba
mencionado en el sentido de que se puede conseguir una compensación
de desfasajes con utilización de la menor cantidad posible de
elementos ópticos.
Este objetivo se alcanza según la invención con
un sistema del tipo arriba mencionado en el que otros dos lados
exteriores de los dos cuerpos parciales están dispuestos enfrentados
entre sí de modo desplazable. Los cuerpos parciales pueden ser
cuerpos enteros, por ejemplo de aluminio, con aberturas y canales de
conducción del rayo o cuerpos transparentes.
Con el sistema según la invención se puede
optimizar esencialmente el grado de polarización circular sin que
sean necesarios elementos ópticos adicionales. Especialmente es
posible corregir los desfases de los espejos de desviación pre- y
posconectados (en su suma).
Según el ángulo de incidencia de la radiación
lasérica que impacta sobre el espejo desfasador, el mismo provoca
un desplazamiento de fases según el tipo del recubrimiento de
desfasaje de manera que con una radiación lasérica incidente de
polarización lineal se puede obtener una radiación lasérica
emergente de polarización circular. La compensación de la
desviación de fases de los distintos espejos de desviación que
conduce a que el cabezal de corte no recibe una radiación lasérica
de polarización circular total, se realiza a través del ajuste del
ángulo de giro de todo el sistema según la invención.
Con el tipo constructivo del sistema se asegura
que con el giro siguen constantes las direcciones de la radiación
lasérica incidente y emergente. Para compensar una desalineación del
rayo se produce un desplazamiento del primer cuerpo parcial con
relación al segundo cuerpo parcial. Así se garantiza que la
radiación lasérica emergente mantiene tanto su dirección como
también su posición si la optimización de la polarización se realiza
mediante el giro. Los canales conductores del rayo existentes en
los cuerpos parciales para la radiación lasérica pueden tener aquí
un recorrido paralelo para la radiación lasérica incidente y
emergente y estar desplazados en una magnitud predeterminable, o
pueden estar dispuestos mutuamente con un ángulo de 90º para la
radiación lasérica incidente y emergente.
La invención también se realiza en una
instalación de mecanizado por láser con una conducción para el rayo
láser en la que se ha dispuesto un sistema según se describe más
arriba.
En un tipo de ejecución ventajoso, el eje de
giro está orientado perpendicularmente a un plano de incidencia de
la luz del espejo de desfasaje. El plano de incidencia de la luz
queda determinado por la dirección de la radiación lasérica
incidente y la dirección de la normal al espejo de desfasaje.
Mediante esta disposición del ángulo de giro se asegura que la
radiación lasérica sigue en el plano de incidencia del espejo de
desfasaje incluso después de la reflexión también con un giro
alrededor del eje de giro.
En un tipo de ejecución ventajoso, el espejo de
desviación y el espejo desfasador están dispuestos de manera que la
radiación lasérica incidente y emergente se producen paralelamente y
con un desplazamiento mutuo en una magnitud predeterminable.
En un desarrollo preferido de este tipo de
ejecución, el espejo de desviación y el espejo desfasador están
dispuestos de modo que la radiación lasérica incidente y emergente
se producen paralelamente pero en dirección opuesta.
En un tipo de ejecución alternativo, el espejo
de desviación y el espejo desfasador están dispuestos de forma que
se produce una desviación de la radiación lasérica emergente de 90º
si se compara con la radiación lasérica incidente.
Con ayuda de los dibujos esquemáticos, se
explican tres ejemplos de ejecución preferidos de la invención. Los
dibujos muestran:
Las figuras 1a y 1b, un primer tipo de ejecución
de un sistema para la optimización de la polarización con un espejo
de desviación dispuesto paralelamente a un espejo desfasador, visto
desde el frente y visto desde el lado.
La figura 2, un segundo tipo de ejecución de un
sistema para la optimización de la polarización con un espejo de
desviación dispuesto perpendicularmente a un espejo desfasador.
Las figuras 3a y 3b, un tercer tipo de ejecución
de un sistema para la optimización de la polarización con un espejo
de desviación dispuesto en ángulo frente al espejo desfasador, visto
desde el frente y visto desde el lado.
La figura 4, un equipo de corte por láser.
La figura 1a muestra una vista frontal en el
plano (X,Y) y la figura 1b una vista lateral en el plano (Y, Z) del
sistema 1 para influir sobre la polarización de una radiación
lasérica como se puede utilizar en un equipo de corte por láser
representado gráficamente en la figura 4. El sistema 1 tiene un
primer cuerpo parcial 2 y un segundo cuerpo parcial 3 con canales
conductores de rayos. El primer cuerpo parcial 2 tiene en su lado
exterior 4 un espejo desfasador 5. El segundo cuerpo parcial 3 tiene
en su lado exterior 6 un espejo de desviación 7. Un lado exterior 8
del primer cuerpo parcial 2 y un lado exterior 9 del segundo cuerpo
parcial 3 están dispuestos de modo desplazable a lo largo de un
plano común.
Un rayo láser 10 incide perpendicularmente a una
superficie de incidencia de rayo 11 del primer cuerpo parcial 2 y
es desviado 90º en dirección hacia el espejo de desviación 7 por el
espejo desfasador 5 dispuesto con un ángulo de 45º con relación a
la superficie de incidencia del rayo. En el espejo de desviación se
desvía de nuevo el rayo láser 10 90º en el plano (X,Y) y emerge en
un ángulo recto por una superficie de emergencia de rayo 12 del
segundo cuerpo parcial 3, paralela a la superficie de incidencia de
rayo 11 del primer cuerpo parcial 2, superficie de emergencia del
rayo 12 que está dispuesta con un ángulo de 45º con relación al
espejo de desviación 7. El rayo láser 10 mantiene su orientación al
pasar a través del sistema 1 siendo desplazado en dirección Y en
una magnitud predeterminada por el tipo constructivo del sistema 1.
La disposición del espejo de desviación 7 y del espejo desfasador 5
puede también ser inversa con relación a la dirección del rayo.
En el sistema mostrado en la figura 1 el rayo
láser 10 tiene (en gran medida) polarización lineal antes de la
reflexión en el espejo desfasador 5, es decir con una dirección de
polarización 13 orientada con un ángulo de 45º con relación al
plano (X, Y). Para obtener después de la reflexión en el espejo
desfasador 5 una polarización circular, la magnitud de la
intensidad del campo de la fuente de luz eléctrica del rayo
incidente perpendicular al plano de incidencia (polarización s) ha
de ser la misma que la magnitud paralelamente al eje de incidencia
(polarización p) lo que se puede garantizar por la orientación de la
dirección de polarización 13 con un ángulo de 45º frente al plano
de incidencia.
El espejo desfasador 5 está dispuesto con un
ángulo de 45º con relación al rayo láser 10 incidente y tiene una
característica de desfasaje en función del ángulo de incidencia que
causa una desviación de fase de 90º con un ángulo de incidencia de
45º. El sistema 1, como se muestra en la figura 1, sirve, por lo
tanto, para la transformación de un rayo láser incidente 10 de
polarización lineal en un rayo láser emergente de polarización
circular por la reflexión en el espejo de desfasaje 5.
La finalidad del sistema 1 consiste ahora en
ajustar las desviaciones de la polarización circular del rayo láser
10 que abandona el sistema 1, de manera que junto con las
desviaciones de los demás espejos de desviación de la conducción
del rayo se recibe una calidad óptimamente posible de la
polarización circular en el cabezal de mecanizado por láser
(cabezal de corte por láser). Estas desviaciones pueden producirse,
por ejemplo, por el desplazamiento de fases en los espejos de
desviación. La desviación de la polarización circular puede
detectarse por medio de un sensor óptico adecuado en un cabezal de
corte de la instalación de corte por láser representado
gráficamente en la figura 4.
Para corregir los campos de fases es necesario
modificar el ángulo de incidencia con el que impacta el rayo láser
10 sobre el espejo desfasador 5. Esto pretende realizarse por un
giro alrededor de un eje de giro 14 orientado perpendicularmente al
plano de incidencia (plano (X, Y)) del rayo láser 10 sobre el espejo
desfasador 5 (es decir en dirección Z). El eje de giro 14 discurre
en la figura 1 por debajo del centro del espejo desfasador en forma
de disco, sin embargo también puede desplazarse a cualquier otro
punto a lo largo de la dirección Y. El eje de giro no ha de pasar
forzosamente a través del centro.
Mediante el giro alrededor del eje de giro 14 se
gira todo el sistema 1 en un ángulo de giro \alpha. Por el giro
se modifica el ángulo de incidencia del rayo láser 10 y, por lo
tanto, el desplazamiento de fase provocado por el espejo desfasador
5, desplazamiento que depende del tipo de recubrimiento. De una
estimación resulta que los ángulos de giro necesarios \alpha se
mueven en un rango inferior a 2º.
Por la orientación paralela del espejo
desfasador 5 y del espejo de desviación 7, la dirección del rayo
láser 10 en la salida del sistema 1 es idéntica a la dirección en
la entrada. Un desplazamiento del rayo, como el que existe en el
sistema sin giro 1, que sobrepasa el desplazamiento en dirección Y,
es provocado por el giro alrededor del ángulo de giro \alpha.
Este desplazamiento del rayo puede compensarse por un desplazamiento
del primer cuerpo parcial 2 relativo al segundo cuerpo parcial 3 a
lo largo de un plano en dirección (X, Z) formado por los dos lados
exteriores 8, 9 adyacentes del sistema 1. Así se garantiza que se
produce una optimización de la polarización sin que se modifique la
posición y la orientación del rayo láser 10 emergente.
Queremos señalar, además, que, naturalmente, se
pueden intercambiar las direcciones de incidencia y emergencia del
rayo, y que también es posible una configuración especular del
sistema 1.
La figura 2 muestra un sistema 1' que
corresponde en su diseño y modo funcional al sistema 1. Un primer
cuerpo parcial 2' tiene un espejo desfasador 5', un segundo cuerpo
parcial 3' un espejo de desviación 7'. Una superficie de impacto
del rayo 11' del primer cuerpo parcial 2' y una superficie de
emisión del rayo 12' del segundo cuerpo parcial 3' están situadas
en un plano común. La dirección de salida de un rayo láser 10' del
sistema es aquí opuesta a la dirección de entrada del rayo.
La figura 3a muestra una vista frontal en el
plano (X, Z) y la figura 3b una vista lateral en el plano (Y, Z) de
un sistema 1'' para la optimización de la polarización en el que la
dirección de incidencia de un rayo láser 10'' está dispuesta
perpendicularmente a una dirección de entrada del rayo. La entrada
del rayo láser 10'' en un primer cuerpo parcial 2'' del sistema 1''
se produce en dirección X perpendicularmente a la superficie de
entrada del rayo 11'' del primer cuerpo parcial. El rayo láser 10''
tiene una polarización linear antes de la reflexión en un espejo de
desfasaje 5'', es decir con una orientación de polarización 13'' en
dirección Z. Como alternativa, el rayo láser 10'' también podría
estar polarizado en dirección Y (según se indica por la flecha
doble entre paréntesis). La normal a la superficie del espejo
desfasador 5'' está girada un ángulo de 45º con relación al plano
(Y, Z). El rayo láser 10'' que impacta sobre el espejo desfasador
5'' en dirección X es reflejado por el mismo al plano (Y, Z) e
impacta sobre un espejo de desviación 7'' instalado en un lado
exterior de un segundo cuerpo parcial 3''. El rayo láser 10'' es
desviado por el espejo de desviación 7'', cuya normal de superficie
también queda situada en el plano (Y, Z), en dirección Z y sale del
sistema 1'' por una superficie de salida del rayo 12'' del segundo
cuerpo parcial 3''.
El giro alrededor del ángulo \alpha se produce
de modo análogo al de las figuras 1 y 2 alrededor de un eje de giro
14'' orientado perpendicularmente al plano de incidencia del espejo
desfasador 5'', no estando prefijada la posición del eje de giro.
En un plano formado por un lado exterior 8'' del primer cuerpo
parcial 2'' y un lado exterior 9'' adyacente del segundo cuerpo
parcial 3'' es posible desplazar el primer cuerpo parcial 2'' con
relación al segundo cuerpo parcial 3'' para corregir un
desplazamiento del rayo producido por el giro alrededor del ángulo
\alpha.
Naturalmente, también es posible realizar
sistemas que ajustan un grado de polarización diferente al circular
en el cabezal de corte, operando el espejo desfasador bajo otro
ángulo de incidencia. Mediante los equipos de medición óptica
adecuados en la posición del cabezal de corte acabado es posible
ajustar por primera vez al iniciar el servicio de la instalación de
corte por láser el desplazamiento de fases provocado por espejos de
desviación. Como alternativa, también es posible utilizar el
resultado de medición para el ajuste del desplazamiento de fases en
un circuito de regulación de manera que se pueden compensar los
desplazamientos de fase que se originan durante la operación de la
instalación de corte por láser, por ejemplo por cambios de
temperatura. El giro del sistema alrededor del eje de giro y el
desplazamiento mutuo de los cuerpos parciales se realizan mediante
adecuadas unidades de giro y unidades de desplazamiento
respectivamente, como las conocidas por el especialista en el campo
de la óptica.
En la figura 4 se puede ver la configuración de
una instalación de mecanizado por láser 21 para el corte con rayo
láser de CO_{2} 22, un cabezal de mecanizado por láser 24 y un
apoyo de pieza a mecanizar 25. Un rayo láser 26 generado es
conducido con ayuda de espejos de desviación hasta el cabezal de
mecanizado por láser 24 y dirigido hacia una pieza a mecanizar 28
con ayuda de espejos. El sistema según la invención puede
instalarse en cualquier punto dentro de la conducción del rayo láser
26.
Antes de que se produzca una línea de corte
continua es necesario que el rayo láser 26 penetre a través de la
pieza a mecanizar 28. La chapa ha de fundirse u oxidarse en un punto
y es necesario limpiar la masa fundida mediante soplado.
Al punzonar lentamente con una rampa es posible
aumentar y reducir poco a poco y mantener constante durante un
determinado período la potencia del láser hasta haber realizado el
agujero de punzonado. Tanto el punzonado como también el corte por
láser son apoyados por el aporte de un gas. Como gases para el corte
29 pueden utilizarse oxígeno, nitrógeno, aire comprimido y/o gases
específicos para la finalidad. El gas que se utiliza finalmente
depende de los materiales que se han de cortar y de las exigencias
de calidad de la pieza a mecanizar.
En el punto en el que impacta el rayo láser 26
sobre la chapa se funde el material y se oxida en su mayor parte.
La masa fundida producida es eliminada por soplado junto con los
óxidos de hierro. Las partículas y gases que se producen pueden
aspirarse con ayuda de un dispositivo de aspiración 30 desde una
cámara de aspiración.
Claims (8)
1. Sistema (1; 1'; 1'') para influir sobre la
polarización de una radiación lasérica con ayuda de un espejo
desfasador (5; 5'; 5'') y un elemento (7; 7'; 7'') que desvía la
radiación lasérica, estando instalados el espejo desfasador (5; 5';
5'') en un lado exterior (4) de un primer cuerpo parcial (2; 2';
2'') y el elemento de desviación (7; 7'; 7'') en un lado exterior
(6) de un segundo cuerpo parcial (3; 3'; 3''), y pudiendo girarse el
primer cuerpo parcial (2; 2'; 2'') y el segundo cuerpo parcial (3;
3'; 3'') mediante un conjunto de giro alrededor de un eje común de
giro (14) en un ángulo (\alpha) que se puede predeterminar,
caracterizado porque otros dos lados exteriores (8, 9; 8'';
9'') de los dos cuerpos parciales (2, 3; 2', 3'; 2'', 3'') están
dispuestos de modo desplazable uno enfrente del otro.
2. Sistema según la reivindicación 1,
caracterizado porque existen canales de conducción del rayo
en los cuerpos parciales (2, 3; 2', 3') para la radiación lasérica
de impacto y emergente (10, 10') que tienen un recorrido paralelo y
desplazado entre sí una magnitud que se puede especificar.
3. Sistema según la reivindicación 1,
caracterizado porque se han dispuesto canales de conducción
del rayo en los cuerpos parciales (2''; 3'') para radiación
lasérica (10'') impactante y emergente formando un ángulo de 90º
entre sí.
4. Instalación de mecanizado por láser (21) con
una conducción para un rayo láser (26), en la que se ha dispuesto
un sistema según una de las reivindicaciones 1 a 3.
5. Instalación de mecanizado por láser según la
reivindicación 4, caracterizada porque el eje de giro (14;
14'') está orientado perpendicularmente a un plano de impacto de la
luz del espejo desfasador (5; 5'; 5'').
6. Instalación de mecanizado por láser según la
reivindicación 4 ó 5, caracterizada porque el elemento de
desviación (7) y el espejo desfasador (5) están dispuestos de manera
que la radiación lasérica (10, 10') incidente y emergente tienen un
recorrido paralelo y desplazado entre sí una magnitud que se puede
predeterminar.
7. Instalación de mecanizado por láser según una
de las reivindicaciones 4 a 6, caracterizada porque el
elemento de desviación (7') y el espejo desfasador (5') están
dispuestos de manera que la radiación lasérica incidente y
emergente (10') tiene un recorrido paralelo mutuo y en dirección
opuesta.
8. Instalación de mecanizado por láser según la
reivindicación 4 ó 5, caracterizada porque el elemento de
desviación (7'') y el espejo desfasador (5'') están dispuestos de
manera que se consigue una desviación de la radiación lasérica
emergente en 90º si se compara con la radiación lasérica
incidente.
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CN103192179B (zh) * | 2013-04-26 | 2015-06-17 | 云南玉溪水松纸厂 | 激光打孔设备的偏振装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3192824A (en) * | 1960-12-20 | 1965-07-06 | Kollsman Instr Corp | Scanning system for light tracking device |
CA1189576A (en) * | 1980-12-15 | 1985-06-25 | William G. Fredrick, Jr. | Laser cutting apparatus and method |
DE3149004A1 (de) | 1981-12-10 | 1983-06-16 | Grünzweig + Hartmann und Glasfaser AG, 6700 Ludwigshafen | Durch pressen verdichteter waermedaemmkoerper aus einem hochdispersen daemmaterial |
US4643576A (en) * | 1984-04-19 | 1987-02-17 | Ricoh Company Ltd. | Fringe scanning shearing interferometer |
DE3829708A1 (de) * | 1988-09-01 | 1990-03-15 | Zeiss Carl Fa | Umschaltbarer winkelspiegel fuer periskope |
US5483342A (en) * | 1993-06-25 | 1996-01-09 | Hughes Aircraft Company | Polarization rotator with frequency shifting phase conjugate mirror and simplified interferometric output coupler |
TW245669B (es) | 1993-09-27 | 1995-04-21 | Mitsubishi Electric Machine | |
DE69424193T2 (de) * | 1993-10-18 | 2000-09-28 | Denyo Co Ltd | Durch einen Motor angetriebener Schweisseinrichtungsgenerator |
JPH07211972A (ja) * | 1994-01-20 | 1995-08-11 | Fanuc Ltd | レーザ発振器 |
US5878067A (en) * | 1994-08-10 | 1999-03-02 | Fanuc Ltd. | Laser oscillator |
US5469236A (en) * | 1995-01-19 | 1995-11-21 | Roessel/Cpt, Inc. | Snorkel lens system |
WO1996029765A1 (en) * | 1995-03-23 | 1996-09-26 | Coherent, Inc. | Prism folded laser cavity with controlled intracavity beam polarization |
JP3224718B2 (ja) * | 1995-08-15 | 2001-11-05 | レーザーテック株式会社 | 干渉計 |
JP2871623B2 (ja) * | 1996-07-11 | 1999-03-17 | 日本電気株式会社 | 半導体レーザ装置 |
US6020992A (en) * | 1997-06-16 | 2000-02-01 | Laser Power Corporation | Low absorption coatings for infrared laser optical elements |
TW524966B (en) * | 1998-02-05 | 2003-03-21 | Nat Science Council | Image capturing type optical wavefront measurement device |
US6342981B1 (en) * | 1999-09-21 | 2002-01-29 | Rose Research, Llc | Zero-displacement phase retarder device and method |
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