ES2282708T3 - Componente electronico organico con capa funcional semiconductora estructurada y metodo para producir el mismo. - Google Patents

Componente electronico organico con capa funcional semiconductora estructurada y metodo para producir el mismo. Download PDF

Info

Publication number
ES2282708T3
ES2282708T3 ES03785505T ES03785505T ES2282708T3 ES 2282708 T3 ES2282708 T3 ES 2282708T3 ES 03785505 T ES03785505 T ES 03785505T ES 03785505 T ES03785505 T ES 03785505T ES 2282708 T3 ES2282708 T3 ES 2282708T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
functional layer
treatment
organic
layer
structured
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
ES03785505T
Other languages
English (en)
Inventor
Wolfgang Clemens
Walter Fix
Andreas Ullmann
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
PolyIC GmbH and Co KG
Original Assignee
PolyIC GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by PolyIC GmbH and Co KG filed Critical PolyIC GmbH and Co KG
Application granted granted Critical
Publication of ES2282708T3 publication Critical patent/ES2282708T3/es
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/468Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the gate dielectrics
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K19/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic element specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, covered by group H10K10/00
    • H10K19/10Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic element specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, covered by group H10K10/00 comprising field-effect transistors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/12Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/464Lateral top-gate IGFETs comprising only a single gate

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
  • Bipolar Transistors (AREA)

Abstract

Un circuito orgánico con varios componentes electrónicos orgánicos dispuestos contiguos, en el que los componentes comprenden una capa funcional orgánica semiconductora estructurada impresa común con un grosor menor de 100 nm, donde la estructuración de la capa funcional común se forma porque una capa funcional inferior dispuesta debajo de y limitando con la capa funcional común, solamente está recubierta parcialmente con un material funcional usado para la formación de la capa funcional común, y donde la capa funcional común, en las zonas no recubiertas de la capa funcional inferior, es discontinua, donde la discontinuidad se dispone de tal manera entre los componentes, que se evita una corriente de fuga entre los componentes contiguos.

Description

Componente electrónico orgánico con capa funcional semiconductora estructurada y método para producir el mismo.
La invención se refiere a un componente electrónico orgánico, como un transistor de efecto de campo, y a un método para producir el mismo, en el que la capa semiconductora del componente está estructurada.
En los componentes electrónicos orgánicos, las capas funcionales semiconductoras orgánicas se aplican habitualmente sobre gran parte de la superficie mediante recubrimiento por centrifugado, pulverización, racleado o similares sobre gran parte de la superficie como capas funcionales homogéneas, sin embargo, muy delgadas.
Esto puede provocar problemas en un circuito integrado, ya que cuando las capas funcionales semiconductoras de los componentes entran en contacto entre sí, se generan corrientes de fuga desde un componente o desde un electrodo al siguiente. Estas corrientes de fuga afectan en parte al rendimiento del circuito de manera considerable. Por este motivo se realizan ensayos para estructurar las capas funcionales semiconductoras y/o reducirlas a las superficies activas, es decir, a las zonas en las que se forman canales de corriente. Se puede conseguir esta estructuración en componentes producidos fotolitográficamente mediante las correspondientes máscaras de iluminación. Sin embargo, para una utilización más amplia, los componentes producidos fotolitográficamente son demasiado caros. Por este motivo, el desarrollo de los elementos se centra en métodos de producción por impresión económicos.
Sin embargo, la capa funcional semiconductora no se puede aplicar de forma estructurada por métodos de impresión convencionales, ya que esta capa tiene que ser muy delgada (típicamente menor de 100 nm) para que funcione. Los grosores de capas requeridos, por ejemplo, para la capa funcional semiconductora, se pueden conseguir de manera convencional solamente mediante aplicación de un barniz, como por recubrimiento, pulverización, etc.
Es un objetivo de la presente invención hacer posible una estructuración de una capa delgada, particularmente de la capa funcional semiconductora, en componentes electrónicos orgánicos producidos por impresión, sin que aumente por ello el grosor de la capa funcional afectada respecto a una capa funcional, por ejemplo, semiconductora, producida normalmente por aplicación de un barniz (recubrimiento, pulverización, racleado).
Es objeto de la invención un componente electrónico orgánico con una capa funcional semiconductora estructurada con un grosor menor de 100 nm, donde la estructuración se produce porque una capa funcional inferior se recubre sólo parcialmente con el material funcional orgánico de la siguiente capa funcional. Además, es objeto de la invención un método para la producción de un componente electrónico orgánico, en el que se produce, por un tratamiento adecuado de una capa funcional inferior, una capa funcional superior estructurada, a pesar de la aplicación sobre gran parte de la superficie.
Se genera una capa semiconductora estructurada se acuerdo con una realización del método.
De acuerdo con un ejemplo de realización, la capa funcional inferior se cubre parcialmente con un barniz, que se puede aplicar por impresión con un grosor de capa muy reducido.
Como capas funcionales estructuradas superiores se pueden producir mediante el método capas funcionales orgánicas semiconductoras, aislantes y/o conductoras, sin embargo, evidentemente también capas funcionales inorgánicas, como por ejemplo delgadas capas metálicas estructuradas.
La capa funcional inferior, según la construcción del componente electrónico orgánico y la capa superior del sustrato, es una capa funcional conductora, etc.
Se denomina "tratamiento adecuado" el recubrimiento parcial y/o la modificación local de la capa funcional inferior, que provoca que, en zonas determinadas de la capa funcional inferior, durante la aplicación de barniz se produzca o se evite el recubrimiento (es decir, se produzca "recubrimiento parcial"), se puede producir mediante un método de impresión, por tratamiento con láser, tratamiento con calor, otros tratamientos físicos, eléctricos o químicos, sin embargo, siempre parcialmente y con una resolución en el intervalo de \mum. Se menciona, a modo de ejemplo, el contacto parcial con un ácido/una base o con otras sustancias químicas reactivas, efectos físicos como luz, calor, frío, y finalmente, el tratamiento mecánico como la fricción. En cualquier caso, la consecuencia del tratamiento es que la siguiente capa funcional, en las zonas tratadas, no se recubre o solamente se recubre en las mismas.
Las expresiones "material orgánico" y/o "polímero funcional" comprenden, en este documento, todos los tipos de plásticos orgánicos, metalorgánicos y/o inorgánicos, que en inglés se denominan, por ejemplo, "plastics". Se trata de todos los tipos de sustancias con excepción de los semiconductores, que forman los diodos clásicos (germanio, silicio), y los conductores metálicos típicos. Por tanto, no se prevé una limitación en sentido dogmático de material orgánico como el material que contiene carbono, más bien también se considera el uso amplio de, por ejemplo, siliconas. Además, la expresión no se tiene que someter a ninguna limitación respecto al tamaño molecular, particularmente de materiales poliméricos y/u oligoméricos, sino que es posible el empleo de "moléculas pequeñas".
A continuación se describe la invención mediante dos figuras que muestran una vista en planta y un corte transversal por un ejemplo de realización de un componente electrónico orgánico de acuerdo con la invención:
La Figura 1 muestra una vista en planta sobre un circuito con una capa funcional semiconductora estructurada. Se observa un circuito orgánico que se construye sobre un sustrato (oculto). Varios elementos activos, como transistores de efecto de campo orgánicos, dispuestos contiguos, y se observan respectivamente los electrodos Fuente/Drenador 2. La zona sombreada muestra la capa semiconductora orgánica 1, que está estructurada y tiene zonas parciales 3 que están desprovistas de material funcional semiconductor. Por la zona desprovista 3 ("desprovista" significa, en este documento, no recubierta de material conductor ni semiconductor) se evita una corriente de fuga desde la zona izquierda del circuito a la derecha.
La Figura 2 muestra un OFET con el sustrato 4 y los electrodos Fuente/Drenador 2. Sobre la capa funcional conductora, los electrodos Fuente/Drenador 2, se sitúa la capa funcional semiconductora estructurada 1, que no se extiende sobre toda la superficie de la capa funcional conductora 2, sino que recubre de manera discontinua, es decir, de forma estructurada, solamente las superficies activas, es decir, las superficies por encima de los electrodos Fuente/Drenador, debido al barniz 6, que protege el sustrato 4 parcialmente frente al recubrimiento con la capa funcional semiconductora 1. A su vez, la capa funcional semiconductora está recubierta con la capa funcional aislante 5, sobre la que se sitúan los electrodos
Puerta 7.
La invención se refiere a un componente electrónico orgánico como un transistor de efecto de campo orgánico, y a un método para producir el mismo, en el que una capa delgada, como la capa semiconductora del componente, está estructurada, a pesar de que el componente se puede producir mediante un método de impresión económico. Para conseguirlo se prepara la capa funcional inferior mediante un tratamiento, de manera que tenga zonas parciales sobre las que, en la siguiente etapa del proceso, se produce recubrimiento, y zonas parciales en las que no se produce recubrimiento.

Claims (4)

1. Un circuito orgánico con varios componentes electrónicos orgánicos dispuestos contiguos, en el que los componentes comprenden una capa funcional orgánica semiconductora estructurada impresa común con un grosor menor de 100 nm, donde la estructuración de la capa funcional común se forma porque una capa funcional inferior dispuesta debajo de y limitando con la capa funcional común, solamente está recubierta parcialmente con un material funcional usado para la formación de la capa funcional común, y donde la capa funcional común, en las zonas no recubiertas de la capa funcional inferior, es discontinua, donde la discontinuidad se dispone de tal manera entre los componentes, que se evita una corriente de fuga entre los componentes contiguos.
2. Un método para la producción de un circuito orgánico de acuerdo con la reivindicación 1, caracterizado porque se realiza un tratamiento adecuado de la capa funcional inferior para la producción de los componentes electrónicos orgánicos, de manera que la capa funcional inferior solamente se puede recubrir parcialmente con el material funcional orgánico usado para la formación de la capa funcional común, porque el material funcional orgánico, para la formación de una capa funcional superior, se aplica sobre gran parte de la superficie de la capa funcional inferior, por lo que se forma una capa funcional superior, que, a pesar de la aplicación sobre gran parte de la superficie, se produce estructurada, y que forma la capa funcional orgánica estructurada.
3. El método de acuerdo con la reivindicación 2, caracterizado porque el tratamiento adecuado de la capa funcional inferior se realiza por una aplicación parcial de barniz mediante impresión sobre la capa funcional inferior.
4. El método de acuerdo con una de las reivindicaciones 2 ó 3, caracterizado porque el tratamiento adecuado de la capa funcional inferior se realiza por un tratamiento parcial físico, eléctrico o químico, particularmente por un tratamiento con láser, tratamiento con calor, tratamiento con frío, tratamiento con ácido/base, tratamiento con luz o tratamiento por
fricción.
ES03785505T 2002-11-19 2003-11-13 Componente electronico organico con capa funcional semiconductora estructurada y metodo para producir el mismo. Expired - Lifetime ES2282708T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10253953 2002-11-19
DE10253953 2002-11-19

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2282708T3 true ES2282708T3 (es) 2007-10-16

Family

ID=32318542

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES03785505T Expired - Lifetime ES2282708T3 (es) 2002-11-19 2003-11-13 Componente electronico organico con capa funcional semiconductora estructurada y metodo para producir el mismo.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7442954B2 (es)
EP (1) EP1563553B1 (es)
AT (1) ATE354182T1 (es)
DE (1) DE50306538D1 (es)
ES (1) ES2282708T3 (es)
WO (1) WO2004047144A2 (es)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002015264A2 (de) 2000-08-18 2002-02-21 Siemens Aktiengesellschaft Verkapseltes organisch-elektronisches bauteil, verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung
DE10226370B4 (de) 2002-06-13 2008-12-11 Polyic Gmbh & Co. Kg Substrat für ein elektronisches Bauteil, Verwendung des Substrates, Verfahren zur Erhöhung der Ladungsträgermobilität und Organischer Feld-Effekt Transistor (OFET)
EP1525630A2 (de) 2002-07-29 2005-04-27 Siemens Aktiengesellschaft Elektronisches bauteil mit vorwiegend organischen funktionsmaterialien und herstellungsverfahren dazu
DE10340643B4 (de) 2003-09-03 2009-04-16 Polyic Gmbh & Co. Kg Druckverfahren zur Herstellung einer Doppelschicht für Polymerelektronik-Schaltungen, sowie dadurch hergestelltes elektronisches Bauelement mit Doppelschicht
US7244626B2 (en) 2004-06-30 2007-07-17 Motorola, Inc. Semiconductor devices shared element(s) apparatus and method
DE102004040831A1 (de) 2004-08-23 2006-03-09 Polyic Gmbh & Co. Kg Funketikettfähige Umverpackung
DE102004059465A1 (de) 2004-12-10 2006-06-14 Polyic Gmbh & Co. Kg Erkennungssystem
DE102004059464A1 (de) 2004-12-10 2006-06-29 Polyic Gmbh & Co. Kg Elektronikbauteil mit Modulator
GB0427563D0 (en) 2004-12-16 2005-01-19 Plastic Logic Ltd A method of semiconductor patterning
DE102004063435A1 (de) 2004-12-23 2006-07-27 Polyic Gmbh & Co. Kg Organischer Gleichrichter
DE102005009819A1 (de) 2005-03-01 2006-09-07 Polyic Gmbh & Co. Kg Elektronikbaugruppe
GB0506896D0 (en) * 2005-04-05 2005-05-11 Plastic Logic Ltd Stack ablation
DE102005017655B4 (de) 2005-04-15 2008-12-11 Polyic Gmbh & Co. Kg Mehrschichtiger Verbundkörper mit elektronischer Funktion
DE102005031448A1 (de) 2005-07-04 2007-01-11 Polyic Gmbh & Co. Kg Aktivierbare optische Schicht
DE102005035589A1 (de) 2005-07-29 2007-02-01 Polyic Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements
DE102005044306A1 (de) * 2005-09-16 2007-03-22 Polyic Gmbh & Co. Kg Elektronische Schaltung und Verfahren zur Herstellung einer solchen
DE102006047388A1 (de) 2006-10-06 2008-04-17 Polyic Gmbh & Co. Kg Feldeffekttransistor sowie elektrische Schaltung
US7723153B2 (en) * 2007-12-26 2010-05-25 Organicid, Inc. Printed organic logic circuits using an organic semiconductor as a resistive load device
US7704786B2 (en) * 2007-12-26 2010-04-27 Organicid Inc. Printed organic logic circuits using a floating gate transistor as a load device
DE102009009442A1 (de) 2009-02-18 2010-09-09 Polylc Gmbh & Co. Kg Organische Elektronikschaltung

Family Cites Families (96)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3512052A (en) * 1968-01-11 1970-05-12 Gen Motors Corp Metal-insulator-semiconductor voltage variable capacitor with controlled resistivity dielectric
US3769096A (en) * 1971-03-12 1973-10-30 Bell Telephone Labor Inc Pyroelectric devices
JPS543594B2 (es) * 1973-10-12 1979-02-24
JPS54101176A (en) * 1978-01-26 1979-08-09 Shinetsu Polymer Co Contact member for push switch
US4442019A (en) * 1978-05-26 1984-04-10 Marks Alvin M Electroordered dipole suspension
DE3321071A1 (de) 1983-06-10 1984-12-13 Basf Ag Druckschalter
DE3338597A1 (de) 1983-10-24 1985-05-02 GAO Gesellschaft für Automation und Organisation mbH, 8000 München Datentraeger mit integriertem schaltkreis und verfahren zur herstellung desselben
EP0239808B1 (en) * 1986-03-03 1991-02-27 Kabushiki Kaisha Toshiba Radiation detecting device
EP0268370B1 (en) 1986-10-13 1995-06-28 Canon Kabushiki Kaisha Switching device
GB2215307B (en) * 1988-03-04 1991-10-09 Unisys Corp Electronic component transportation container
DE68912426T2 (de) 1988-06-21 1994-05-11 Gec Avery Ltd Herstellung von tragbaren elektronischen Karten.
US5892244A (en) * 1989-01-10 1999-04-06 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Field effect transistor including πconjugate polymer and liquid crystal display including the field effect transistor
US6331356B1 (en) * 1989-05-26 2001-12-18 International Business Machines Corporation Patterns of electrically conducting polymers and their application as electrodes or electrical contacts
US5206525A (en) 1989-12-27 1993-04-27 Nippon Petrochemicals Co., Ltd. Electric element capable of controlling the electric conductivity of π-conjugated macromolecular materials
FI91573C (sv) 1990-01-04 1994-07-11 Neste Oy Sätt att framställa elektroniska och elektro-optiska komponenter och kretsar
FR2664430B1 (fr) * 1990-07-04 1992-09-18 Centre Nat Rech Scient Transistor a effet de champ en couche mince de structure mis, dont l'isolant et le semiconducteur sont realises en materiaux organiques.
FR2673041A1 (fr) * 1991-02-19 1992-08-21 Gemplus Card Int Procede de fabrication de micromodules de circuit integre et micromodule correspondant.
EP0501456A3 (en) 1991-02-26 1992-09-09 Sony Corporation Video game computer provided with an optical disc drive
US5408109A (en) * 1991-02-27 1995-04-18 The Regents Of The University Of California Visible light emitting diodes fabricated from soluble semiconducting polymers
JPH0580530A (ja) * 1991-09-24 1993-04-02 Hitachi Ltd 薄膜パターン製造方法
US5173835A (en) * 1991-10-15 1992-12-22 Motorola, Inc. Voltage variable capacitor
DE59105477D1 (de) * 1991-10-30 1995-06-14 Fraunhofer Ges Forschung Belichtungsvorrichtung.
JP2709223B2 (ja) * 1992-01-30 1998-02-04 三菱電機株式会社 非接触形携帯記憶装置
DE4243832A1 (de) 1992-12-23 1994-06-30 Daimler Benz Ag Tastsensoranordnung
JP3457348B2 (ja) * 1993-01-15 2003-10-14 株式会社東芝 半導体装置の製造方法
FR2701117B1 (fr) * 1993-02-04 1995-03-10 Asulab Sa Système de mesures électrochimiques à capteur multizones, et son application au dosage du glucose.
US5567550A (en) * 1993-03-25 1996-10-22 Texas Instruments Incorporated Method of making a mask for making integrated circuits
AU7563294A (en) * 1993-08-24 1995-03-21 Metrika Laboratories, Inc. Novel disposable electronic assay device
JP3460863B2 (ja) * 1993-09-17 2003-10-27 三菱電機株式会社 半導体装置の製造方法
FR2710413B1 (fr) * 1993-09-21 1995-11-03 Asulab Sa Dispositif de mesure pour capteurs amovibles.
US5556706A (en) * 1993-10-06 1996-09-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Conductive layered product and method of manufacturing the same
IL111151A (en) 1994-10-03 1998-09-24 News Datacom Ltd Secure access systems
WO1995031833A2 (en) * 1994-05-16 1995-11-23 Philips Electronics N.V. Semiconductor device provided with an organic semiconductor material
JP3246189B2 (ja) * 1994-06-28 2002-01-15 株式会社日立製作所 半導体表示装置
US5574291A (en) * 1994-12-09 1996-11-12 Lucent Technologies Inc. Article comprising a thin film transistor with low conductivity organic layer
US5630986A (en) * 1995-01-13 1997-05-20 Bayer Corporation Dispensing instrument for fluid monitoring sensors
JP3068430B2 (ja) * 1995-04-25 2000-07-24 富山日本電気株式会社 固体電解コンデンサ及びその製造方法
US5652645A (en) * 1995-07-24 1997-07-29 Anvik Corporation High-throughput, high-resolution, projection patterning system for large, flexible, roll-fed, electronic-module substrates
GB2310493B (en) * 1996-02-26 2000-08-02 Unilever Plc Determination of the characteristics of fluid
DE19629656A1 (de) * 1996-07-23 1998-01-29 Boehringer Mannheim Gmbh Diagnostischer Testträger mit mehrschichtigem Testfeld und Verfahren zur Bestimmung von Analyt mit dessen Hilfe
US6344662B1 (en) * 1997-03-25 2002-02-05 International Business Machines Corporation Thin-film field-effect transistor with organic-inorganic hybrid semiconductor requiring low operating voltages
US5946551A (en) * 1997-03-25 1999-08-31 Dimitrakopoulos; Christos Dimitrios Fabrication of thin film effect transistor comprising an organic semiconductor and chemical solution deposited metal oxide gate dielectric
KR100248392B1 (ko) * 1997-05-15 2000-09-01 정선종 유기물전계효과트랜지스터와결합된유기물능동구동전기발광소자및그소자의제작방법
WO1999010939A2 (en) * 1997-08-22 1999-03-04 Koninklijke Philips Electronics N.V. A method of manufacturing a field-effect transistor substantially consisting of organic materials
BR9811636A (pt) * 1997-09-11 2000-08-08 Precision Dynamics Corp Etiqueta de identificação de rádio freqâência em substrato flexìvel
US6251513B1 (en) * 1997-11-08 2001-06-26 Littlefuse, Inc. Polymer composites for overvoltage protection
JPH11142810A (ja) 1997-11-12 1999-05-28 Nintendo Co Ltd 携帯型情報処理装置
US5997817A (en) * 1997-12-05 1999-12-07 Roche Diagnostics Corporation Electrochemical biosensor test strip
EP0958663A1 (en) * 1997-12-05 1999-11-24 Koninklijke Philips Electronics N.V. Identification transponder
US6083104A (en) * 1998-01-16 2000-07-04 Silverlit Toys (U.S.A.), Inc. Programmable toy with an independent game cartridge
JP2002515641A (ja) * 1998-01-28 2002-05-28 シン フイルム エレクトロニクス エイエスエイ 三次元の導電性または半導電性構造体を生成する方法およびこの構造体を消去する方法
US6087196A (en) * 1998-01-30 2000-07-11 The Trustees Of Princeton University Fabrication of organic semiconductor devices using ink jet printing
US6045977A (en) * 1998-02-19 2000-04-04 Lucent Technologies Inc. Process for patterning conductive polyaniline films
DE19816860A1 (de) 1998-03-06 1999-11-18 Deutsche Telekom Ag Chipkarte, insbesondere Guthabenkarte
US6033202A (en) * 1998-03-27 2000-03-07 Lucent Technologies Inc. Mold for non - photolithographic fabrication of microstructures
GB9808061D0 (en) * 1998-04-16 1998-06-17 Cambridge Display Tech Ltd Polymer devices
GB9808806D0 (en) * 1998-04-24 1998-06-24 Cambridge Display Tech Ltd Selective deposition of polymer films
US5967048A (en) * 1998-06-12 1999-10-19 Howard A. Fromson Method and apparatus for the multiple imaging of a continuous web
US6215130B1 (en) * 1998-08-20 2001-04-10 Lucent Technologies Inc. Thin film transistors
US6506438B2 (en) * 1998-12-15 2003-01-14 E Ink Corporation Method for printing of transistor arrays on plastic substrates
US6321571B1 (en) * 1998-12-21 2001-11-27 Corning Incorporated Method of making glass structures for flat panel displays
US6517955B1 (en) * 1999-02-22 2003-02-11 Nippon Steel Corporation High strength galvanized steel plate excellent in adhesion of plated metal and formability in press working and high strength alloy galvanized steel plate and method for production thereof
WO2000052457A1 (en) * 1999-03-02 2000-09-08 Helix Biopharma Corporation Card-based biosensor device
US6180956B1 (en) 1999-03-03 2001-01-30 International Business Machine Corp. Thin film transistors with organic-inorganic hybrid materials as semiconducting channels
US6207472B1 (en) * 1999-03-09 2001-03-27 International Business Machines Corporation Low temperature thin film transistor fabrication
DE19921024C2 (de) 1999-05-06 2001-03-08 Wolfgang Eichelmann Videospielanlage
US6383664B2 (en) * 1999-05-11 2002-05-07 The Dow Chemical Company Electroluminescent or photocell device having protective packaging
DE19933757A1 (de) 1999-07-19 2001-01-25 Giesecke & Devrient Gmbh Chipkarte mit integrierter Batterie
DE19935527A1 (de) 1999-07-28 2001-02-08 Giesecke & Devrient Gmbh Aktive Folie für Chipkarten mit Display
DE19937262A1 (de) 1999-08-06 2001-03-01 Siemens Ag Anordnung mit Transistor-Funktion
US6517995B1 (en) * 1999-09-14 2003-02-11 Massachusetts Institute Of Technology Fabrication of finely featured devices by liquid embossing
US6340822B1 (en) * 1999-10-05 2002-01-22 Agere Systems Guardian Corp. Article comprising vertically nano-interconnected circuit devices and method for making the same
US6335539B1 (en) * 1999-11-05 2002-01-01 International Business Machines Corporation Method for improving performance of organic semiconductors in bottom electrode structure
US6284562B1 (en) * 1999-11-17 2001-09-04 Agere Systems Guardian Corp. Thin film transistors
AU2015901A (en) * 1999-12-21 2001-07-03 Plastic Logic Limited Inkjet-fabricated integrated circuits
US6706159B2 (en) * 2000-03-02 2004-03-16 Diabetes Diagnostics Combined lancet and electrochemical analyte-testing apparatus
DE10012204A1 (de) 2000-03-13 2001-09-20 Siemens Ag Einrichtung zum Kennzeichnen von Stückgut
DE10033112C2 (de) * 2000-07-07 2002-11-14 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung und Strukturierung organischer Feldeffekt-Transistoren (OFET), hiernach gefertigter OFET und seine Verwendung
WO2002015264A2 (de) * 2000-08-18 2002-02-21 Siemens Aktiengesellschaft Verkapseltes organisch-elektronisches bauteil, verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung
DE10120687A1 (de) 2001-04-27 2002-10-31 Siemens Ag Verkapseltes organisch-elektronisches Bauteil, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung
DE10043204A1 (de) 2000-09-01 2002-04-04 Siemens Ag Organischer Feld-Effekt-Transistor, Verfahren zur Strukturierung eines OFETs und integrierte Schaltung
DE10045192A1 (de) 2000-09-13 2002-04-04 Siemens Ag Organischer Datenspeicher, RFID-Tag mit organischem Datenspeicher, Verwendung eines organischen Datenspeichers
DE10047171A1 (de) 2000-09-22 2002-04-18 Siemens Ag Elektrode und/oder Leiterbahn für organische Bauelemente und Herstellungverfahren dazu
KR20020036916A (ko) * 2000-11-11 2002-05-17 주승기 실리콘 박막의 결정화 방법 및 이에 의해 제조된 반도체소자
DE10058559A1 (de) 2000-11-24 2002-05-29 Interactiva Biotechnologie Gmb System zur Abwicklung eines Warentransfers und Warenvorrats-Behälter
KR100390522B1 (ko) * 2000-12-01 2003-07-07 피티플러스(주) 결정질 실리콘 활성층을 포함하는 박막트랜지스터 제조 방법
DE10061297C2 (de) 2000-12-08 2003-05-28 Siemens Ag Verfahren zur Sturkturierung eines OFETs
DE10117663B4 (de) 2001-04-09 2004-09-02 Samsung SDI Co., Ltd., Suwon Verfahren zur Herstellung von Matrixanordnungen auf Basis verschiedenartiger organischer leitfähiger Materialien
US20020170897A1 (en) * 2001-05-21 2002-11-21 Hall Frank L. Methods for preparing ball grid array substrates via use of a laser
JP4841751B2 (ja) * 2001-06-01 2011-12-21 株式会社半導体エネルギー研究所 有機半導体装置及びその作製方法
US6870180B2 (en) * 2001-06-08 2005-03-22 Lucent Technologies Inc. Organic polarizable gate transistor apparatus and method
JP2003089259A (ja) * 2001-09-18 2003-03-25 Hitachi Ltd パターン形成方法およびパターン形成装置
US7351660B2 (en) * 2001-09-28 2008-04-01 Hrl Laboratories, Llc Process for producing high performance interconnects
DE10219905B4 (de) 2002-05-03 2011-06-22 OSRAM Opto Semiconductors GmbH, 93055 Optoelektronisches Bauelement mit organischen funktionellen Schichten und zwei Trägern sowie Verfahren zur Herstellung eines solchen optoelektronischen Bauelements
US6812509B2 (en) * 2002-06-28 2004-11-02 Palo Alto Research Center Inc. Organic ferroelectric memory cells
US6870183B2 (en) * 2002-11-04 2005-03-22 Advanced Micro Devices, Inc. Stacked organic memory devices and methods of operating and fabricating

Also Published As

Publication number Publication date
DE50306538D1 (de) 2007-03-29
WO2004047144A2 (de) 2004-06-03
EP1563553A2 (de) 2005-08-17
ATE354182T1 (de) 2007-03-15
EP1563553B1 (de) 2007-02-14
WO2004047144A3 (de) 2004-09-02
US7442954B2 (en) 2008-10-28
US20060118779A1 (en) 2006-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2282708T3 (es) Componente electronico organico con capa funcional semiconductora estructurada y metodo para producir el mismo.
US7384814B2 (en) Field effect transistor including an organic semiconductor and a dielectric layer having a substantially same pattern
Kymissis et al. Patterning pentacene organic thin film transistors
TW573329B (en) Planar polymer transistor
WO2003016599A1 (fr) Element a semi-conducteur organique
KR100781829B1 (ko) 유기 박막 트랜지스터 및 그 제조방법
KR100816498B1 (ko) 표면 처리된 층을 포함하는 유기 인버터 및 그 제조 방법
US7241652B2 (en) Method for fabricating organic thin film transistor
KR20080040119A (ko) 디클로로포스포릴기를 함유하는 자기조립단분자막 형성화합물을 이용한 유기박막 트랜지스터의 제조방법
KR101332955B1 (ko) 유기 전계 효과 트랜지스터의 제조 방법
CN1282259C (zh) 含有保护层的有机半导体场效应晶体管及制作方法
KR100603393B1 (ko) 유기박막 트랜지스터 및 그의 제조방법과 유기 박막트랜지스터를 구비한 유기전계 발광표시장치
KR100647704B1 (ko) 유기 박막 트랜지스터, 이를 구비한 평판 디스플레이 장치,유기 박막 트랜지스터의 제조방법 및 평판 디스플레이장치의 제조방법
US20050110008A1 (en) Organic thin film transistor comprising buffer layer
JP2006135299A (ja) 薄膜トランジスタを備えた基板の製造方法、及びそれにより製造された薄膜トランジスタを備えた基板と、平板表示装置の製造方法、及びそれにより製造された平板表示装置
JP2003229616A (ja) 有機半導体デバイス及びその製造方法
KR100787439B1 (ko) 유기 박막 트랜지스터 및 이를 구비한 유기 발광디스플레이 장치
US20090189147A1 (en) Organic transistor comprising a self-aligning gate electrode, and method for the production thereof
KR100719546B1 (ko) 유기 박막 트랜지스터, 이를 구비한 평판 디스플레이 장치및 유기 박막 트랜지스터의 제조방법
KR950034851A (ko) 전자소자 및 그 제조방법
US20210181562A1 (en) Air species barriers in liquid crystal display devices
KR100670355B1 (ko) 트랜지스터, 이의 제조방법 및 이를 구비한 평판디스플레이 장치
JP2004061825A5 (es)
Seki et al. Nonpolymer new organic film for local insulation in laser‐direct‐writing circuit restructuring for large‐scale integrated circuits
JP2012129396A (ja) 電界効果型トランジスタ及びその製造方法